JP5101343B2 - 微細構造物の製造方法 - Google Patents
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Description
で表されるビシクロ環を有するエポキシ化合物、及び下記一般式(2)
で表されるカーボネート系化合物からなる群より選択された少なくとも1種のカチオン重合性化合物を含み、前記カチオン重合性化合物の含有量が、カチオン重合性化合物の総量100重量部に対して、1〜80重量部である光硬化性樹脂組成物である微細構造物の製造方法である。
(1)カチオン重合性化合物及び/又はラジカル重合性化合物を含む硬化性化合物を含有するナノインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる被膜が支持体上に形成され、かつナノスタンパを用いた5〜100MPaの圧力のプレスによりパターンが被膜に転写される工程、及び
(2)パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程
を含む。
硬化性化合物としては、光カチオン硬化タイプ、光ラジカル硬化タイプ、又はこれらの併用タイプを用いることができる。また、硬化膨張性を有するカチオン重合性化合物と感放射性カチオン重合開始剤である化合物、又は不飽和基と酸基とを有する化合物を用いることができる。
カチオン硬化性システムに使用できるカチオン硬化性モノマー(カチオン重合性化合物)としては、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物、カーボネート化合物、ジチオカーボネート化合物等が挙げられる。
なお、本発明における光硬化性樹脂組成物は、硬化膨張性化合物を一成分とする事により、硬化収縮をコントロールでき、優れたパターン形状を作製する事が可能となる。前記硬化膨張性を有するカチオン重合性化合物には、例えば、環状エーテル化合物及びカーボネート系化合物等が含まれる。
で表されるビシクロ環を有するエポキシ化合物である。
で表されるカーボネート系化合物である。
ラジカル硬化システム(ラジカル重合システム)に使用できるラジカル硬化性モノマー(ラジカル重合性化合物)としては、(メタ)アクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物、アクリル系シラン化合物、多官能モノマーなどが挙げられる。
本発明におけるラジカル重合性化合物として、ラジカル重合性の不飽和基を含有し且つ少なくとも1個以上酸基を有する化合物を用いることができる。具体的には、(メタ)アクリル酸;ビニルフェノール;不飽和基とカルボン酸の間に鎖延長された変成不飽和モノカルボン酸、例えば、β−カルボキシエチル(メタ)アクリレート、2−アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ラクトン変成等エステル結合を有する不飽和モノカルボン酸、エーテル結合を有する変成不飽和モノカルボン酸;または、マレイン酸等のカルボン酸基を分子中に2個以上含む物などが挙げられる。これらは単独で用いても混合して用いても良い。中でも、特に好ましくは、不飽和基とカルボン酸の間にラクトンで鎖延長された変成不飽和モノカルボン酸が挙げられる。
(式中、R31は、水素原子又はメチル基を表す。R32及びR33は、各々水素原子、メチル基またはエチル基を表す。qは4〜8の整数、sは1〜10の整数を表す。)
で表される、(メタ)アクリル酸をラクトン変成した化合物である。
(式中、R31、R32及びR33は、上記と同じ。R34は炭素数1〜10の2価の脂肪族飽和又は不飽和炭化水素基、炭素数1〜6の2価の脂環式飽和又は不飽和炭化水素基、p-キシレン、フェニレン基等を表す。q、sは上記と同じ。)
で表される末端水酸基を酸無水物により酸変性させたラクトン変成物である。具体的には、ダイセルサイテック社製のβ-CEA、東亞合成社製のアロニックスM5300、ダイセル化学工業社製のプラクセルFAシリーズ等がこれにあたる。
(i)本発明の微細構造物の製造方法で用いるナノインプリント用光硬化性樹脂組成物は、好ましくは、カチオン重合性化合物として、硬化膨張性を有するカチオン重合性化合物(例えば、式(1),(2)で表される化合物)を少なくとも含む。該化合物の含有量は、カチオン重合性化合物の総量100重量部に対して、例えば、1〜80重量部、好ましくは5〜70重量部、さらに好ましくは10〜60重量部、特に好ましくは25〜50重量部である。これにより、硬化収縮を抑制することができ、優れたパターン形状を得ることができる。
い。
本発明における光硬化性樹脂組成物に使用できるバインダー樹脂としては、ポリメタアクリル酸エステルまたはその部分加水分解物、ポリ酢酸ビニル、またはその加水分解物、ポリビニルアルコール、またはその部分アセタール化物、トリアセチルセルロース、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、シリコーンゴム、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリクロロプレン、ポリ塩化ビニル、ポリアリレート、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、またはその誘導体、ポリ−N−ビニルピロリドン、またはその誘導体、ポリアリレート、スチレンと無水マレイン酸との共重合体、またはその半エステル、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリルニトリル、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル等の共重合可能なモノマー群の少なくとも1つを重合成分とする共重合体等、またはそれらの混合物が用いられる。
本発明における光硬化性樹脂組成物は、さらに、感放射性カチオン重合開始剤を含んでもよい。感放射線性カチオン重合開始剤としては、公知の活性エネルギー線を照射して酸を発生するものであれば特に制限なく利用できるが、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩あるいはピリジニウム塩等を挙げることができる。
(式中のそれぞれのX1〜X4は0から5の整数を表し、全ての合計が1以上である。)
で表されるボレート類(化合物5)であると、反応性が高くなり好ましい。前記ボレート類のより好ましい例としては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが挙げられる。
本発明における光硬化性樹脂組成物は、さらに、感放射性ラジカル重合開始剤を含んでいてもよい。感放射線性ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン・ベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オンなどのアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリーブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−イソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類;ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;キサントン類;1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタンなどの公知慣用の光重合開始剤を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明における光硬化性樹脂組成物は、増感剤を含んでいても良い。使用できる増感剤としては、アントラセン、フェノチアゼン、ぺリレン、チオキサントン、ベンゾフェノンチオキサントン等が挙げられる。更に、増感色素としては、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、キノリン系色素、スチリルキノリン系色素、ケトクマリン系色素、チオキサンテン系色素、キサンテン系色素、オキソノール系色素、シアニン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム塩系色素等が例示される。
本発明における光硬化性樹脂組成物には、必要に応じてナノスケール粒子を添加する事ができる。たとえば、下記式(6)
SiU4 (6)
(式中、基Uは同一、または異なり、加水分解性基またはヒドロキシル基である)で表される化合物(化合物6)、および/または、下記式(7)
R41 aR42 bSiU(4-a-b) (7)
(式中、R41は非加水分解性基であり、R42は官能基を有する基であり、Uは上記の意味を有し、aおよびbは値0、1、2または3を有し、合計(a+b)は値1、2または3を有する)
で表される化合物(化合物7)などの重合性シラン、および/またはそれらから誘導された縮合物を添加する事ができる。
R43(U1)3Si (8)
(式中、R43は部分的にフッ素化またはペルフルオロ化されたC2〜C20−アルキルであり、U1はC1〜C3−アルコキシ、メチル、エチル基または塩素である)
で表されるフルオロシラン(化合物8)を含む。
好ましい基R43は、CF3CH2CH2、C2F5CH2CH2、C4F9CH2CH2、n-C6F13CH2CH2、n-C8F17CH2CH2、n-C10F21CH2CH2およびi-C3F7O-(CH2)3である。
工程(1)において、樹脂組成物を塗布する支持体としては、たとえばガラス、シリカガラス、フィルム、プラスチックまたはシリコンウエハ等を用いることができる。これらの支持体は、表面に接着促進被膜が形成されていてもよい。前記接着促進被膜は、支持体に対して樹脂組成物の十分なぬれを確保する有機重合体で形成することができる。このような接着促進被膜を形成する有機重合体としては、例えばノボラック類、スチレン類、(ポリ)ヒドロキシスチレン類および/または(メタ)アクリレート類を含有する芳香族化合物含有重合体または共重合体等が挙げられる。接着促進被膜は、上記有機重合体を含むよう液をスピンコーティングなどの公知の方法で支持体上に塗布することにより形成できる。
ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物はそれ自体で、あるいは有機溶媒の溶液として付着させることができる。本発明において組成物に用いる有機溶媒は、組成物を希釈することによりペースト化し、容易に塗布工程を可能とし、次いで乾燥させて造膜し、接触露光を可能とするために用いられる。具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの酢酸エステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤が挙げられ、これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
工程(1)に用いるナノスタンパは、表面に凹凸からなる転写パターンが形成されたナノインプリント用転写スタンプであって、透明テフロン(登録商標)樹脂、シリコーンゴム、シクロオレフィンポリマー樹脂類、ガラス、石英、シリカガラス、Ni―P等を素材とすることができる。なかでも、シリコーンゴムスタンパによれば、前記式(8)のフルオロシランを添加しない樹脂組成物を用いた場合にも、パターン転写後の樹脂離れが良好である点で有利である。また、本発明におけるナノスタンパとして、微細パターンが形成された金型を用いることも可能である。
工程(2)の硬化処理は、加熱、UV照射等により行うことができる。UV照射を行う場合には、必要に応じて熱を併用することも可能である。たとえば、約80〜150℃に約1〜10分間の加熱後、約0.1秒〜2分間のUV照射を行い、被膜材料を硬化させることができる。被膜を硬化させた後、ナノスタンパ(転写インプリントスタンプ)を取り除いて、インプリントされた微細構造物を得ることができる。
したがって、本発明の微細構造物の製造方法は、好ましくは、(3)硬化皮膜にエッチングを施す工程を含むことができる。上記微細構成物は、酸素プラズマ又はCHF3/O2ガス混合物によりエッチングすることができる。
ナノスケール粒子分散液(E-1)
236.1g(1モル)のアクロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(GPTS)を、26g(1.5モル)の水と共に24時間還流した。形成されたメタノールを回転蒸発器により70℃で取り除き、GPTS縮合物を得た。
345gの酸化ジルコニウム(ZrO2 平均粒径20nm、濃度約5重量%メチルエチルケトン分散液 北村化学産業社製)を攪拌しながら、上記GPTS縮合物に加え、ナノスケール粒子分散液(E-1)を得た。
1)塗膜調製法
<Si基材>
Si基材として、ヘキサメチルジシラザンで前処理した25×25mm角のシリコンウェハを用いた。
<ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物>
ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物は、表1に示す、カチオン硬化性モノマー(A)、ラジカル硬化性モノマー(B)、開始剤(C)、増感剤(D)、ナノスケール粒子(E)、バインダー樹脂(造膜助剤:F)、及び溶剤(G)を使用して、公知の方法により、スピンコータ中で調製した。表1中の各成分の具体的な化合物を以下に示す。
カチオン硬化性モノマー
A-1:3,4-シクロヘキシルメチル-3,4-シクロヘキサンカルボキシレート/ダイセル化学社製 CEL2021P
A-2:1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン n=1
/東亞合成社製OXT-121
A-3:トリエチレングリコールジビニルエーテル/丸善石油化学社製
A-4:3,3−ビス(ビニロキシメチル)オキセタン/ダイセル化学社開発品
A-5:ビシクロヘキシルジエポキサイド/ダイセル化学社製 CEL8000
ラジカル硬化性モノマー
B-1:アクリル酸ラクトン付加物/東亞合成社製 M5300
B-2:トリメチロールプロパントリアクリレート/ダイセルサイテック社製
B-3:テトラエチレングリコールジアクリレート/共栄社製
開始剤
C-1:4-メチルフェニル[4-(1-メチルエチル)フェニルヨウドニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート/ローデア製 PI2074
C-2:2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン/チバジャパン社製 Irgacure651
増感剤
D-1:ジブトキシアントラセン/川崎化成 DBA
ナノスケール粒子
E-1:合成例1にて調整したナノ粒子分散液
造膜助剤(バインダー樹脂)
F-1:3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート(ダイセル化学社製A400)と1−エチル−3−オキセタニルメチルメタクリレート(東亞合成社製)の共重合体
F-2:側鎖にラジカル重合性ビニル基を有するポリアクリル酸エステル/ダイセル化学社製 サイクロマーP(ACA300)
溶剤
G-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/ダイセル化学社製 MMPGAC
上記のシリコンウエハに、スピンコーティング(3000回転、30秒)により、上記のナノインプリント用組成物の塗膜を、それぞれ形成した。溶剤を使用したものについては、溶媒を除去するために、約95℃で5分間乾燥させた。乾燥後のdry塗膜の層厚は約500nmであった。
微細構造の標的基板上への転写およびインプリンティングは、インプリンティング装置(明昌機工社製NM−0403モデル)を用いて行った。このインプリンティング装置は、コンピュータで制御された試験器であり、装荷、緩和速度、加熱温度等をプログラムすることにより、規定された圧力を特定の時間維持することが可能である。また、付帯する高圧水銀燈により、UV放射線により光化学的に硬化が開始される。
具体的には、ステージの上に上記方法で調整したナノインプリント用組成物をスピンコートしたシリコンウエハを載せ、ついで微細パターンを有する石英製のモールドを載せた後、30秒かけて所定の圧力まで転写圧を高め、転写圧を維持したまま石英モールド側からUV照射を行い、組成物を硬化させた。実施例1〜16、比較例1〜3で用いた転写圧(プレス圧)を表1に示す。
実施例1〜16、比較例1〜3の微細構造パターンの形状と精度について、以下に示す方法で評価を行った。その結果を表1に示した。
ドライエッチング後のシリコンウエハ上の微細構造パターンの形状を、走査顕微鏡を用いて観察し、パターンエッジの矩形の形状を下記の基準により評価した。
○:パターンエッジの矩形を保っていた。
△:パターンエッジの矩形がやや崩れていた。
×:パターンエッジの矩形が崩れていた。
インプリント後、ナノスタンパを剥離して、シリコンウエハ上に形成されたパターンのうち1μm角のパターンを、以下の基準で評価した。
◎:シリコンウエハ上のパターン変形及びパターン抜けが1箇所以下であった。
○:シリコンウエハ上のパターン変形及びパターン抜けが1から10箇所以下であった。
×:シリコンウエハ上のパターン変形及びパターン抜けが10箇所より多かった。
<回折型集光フィルムの製造>
表2に記載されている種類及び量のカチオン硬化性モノマー(A)、ラジカル硬化性モノマー(B)、開始剤(C)、増感剤(D)、ナノスケール粒子(E)、バインダー樹脂(造膜助剤:F)、及び溶剤(G)を混合して、ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物を調製した。表2中、各成分は表1に記載のものと、以下を除き、同様である。
ラジカル硬化性モノマー
B-4:メタクリル酸メチル
造膜助剤
F-11:3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート(ダイセル化学社製A400)と1−エチル−3−オキセタニルメチルメタクリレート(東亞合成社製)の共重合体
F-12:エポキシ化ポリブタジエン/ダイセル化学社製 EPL PB3600
F-13:側鎖にラジカル重合性ビニル基を有するポリアクリル酸エステル/ダイセル化学社製 サイクロマーP(ACA300)
(パターン形状)
パターン形状の転写性は、金属顕微鏡にて各回折型集光フィルムの山形形状の頂角を確認することで評価した。評価基準は以下のとおりである。
○・・・良好(頂角45度)
△・・・転写不十分(頂角40〜44度)
×・・・転写不可
硬化終了後、金型から塗膜/支持体フィルム積層物を剥離し、支持体フィルム上に形成されたパターンのうち1μm角のパターンを以下の基準で評価した。
◎:支持体フィルム上のパターン変形及びパターン抜けが1箇所以下であった。
○:支持体フィルム上のパターン変形及びパターン抜けが1から10箇所以下であった。
×:支持体フィルム上のパターン変形及びパターン抜けが10箇所より多かった。
実施例17〜30および比較例4〜6の光硬化性樹脂組成物について、UV硬化物を作成し、アッペの屈折率計を用いて各硬化物の屈折率を測定した。
Claims (2)
- (1)カチオン重合性化合物を含む硬化性化合物を含有するナノインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる被膜が支持体上に形成され、かつナノスタンパを用いた5〜100MPaの圧力のプレスによりパターンが被膜に転写される工程、及び
(2)パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程
を含む、該光硬化性樹脂組成物にナノインプリント加工を施して微細構造物を得る微細構造物の製造方法であり、前記ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物が、
(i)下記一般式(1)
で表されるビシクロ環を有するエポキシ化合物、及び下記一般式(2)
で表されるカーボネート系化合物からなる群より選択された少なくとも1種のカチオン重合性化合物を含み、前記カチオン重合性化合物の含有量が、カチオン重合性化合物の総量100重量部に対して、1〜80重量部である光硬化性樹脂組成物である微細構造物の製造方法。 - 前記微細構造物が、0.01μm以上であり10μmよりも小さい膜厚の微細構造物である請求項1に記載の微細構造物の製造方法。
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