DE2518652A1 - Haertbare zusammensetzungen - Google Patents
Haertbare zusammensetzungenInfo
- Publication number
- DE2518652A1 DE2518652A1 DE19752518652 DE2518652A DE2518652A1 DE 2518652 A1 DE2518652 A1 DE 2518652A1 DE 19752518652 DE19752518652 DE 19752518652 DE 2518652 A DE2518652 A DE 2518652A DE 2518652 A1 DE2518652 A1 DE 2518652A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- composition according
- mixture
- salt
- onium salt
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 73
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 33
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 28
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 27
- -1 sulfonium tetrafluoroborate Chemical group 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 7
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 claims 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 150000003497 tellurium Chemical class 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-phenylpropan-1-one Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(=O)C1=CC=CC=C1 VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3-(2-methyloxiran-2-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2(C)OC2CC1C1(C)CO1 RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000607479 Yersinia pestis Species 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYQVAVNKQCPAOF-UHFFFAOYSA-M triphenylselanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[Se+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VYQVAVNKQCPAOF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- ZWAJLVLEBYIOTI-OLQVQODUSA-N (1s,6r)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCC[C@@H]2O[C@@H]21 ZWAJLVLEBYIOTI-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRWYHCYGVIJOEC-UHFFFAOYSA-N 2-(octoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCCCOCC1CO1 HRWYHCYGVIJOEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoxymethyl)oxirane Chemical compound C=CCOCC1CO1 LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUQRLZZWFINMDP-BGNLRFAXSA-N 2-[(3r,4s,5s,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl]oxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O KUQRLZZWFINMDP-BGNLRFAXSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101710178035 Chorismate synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- 101710152694 Cysteine synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- 229920003332 Epotuf® Polymers 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052781 Neptunium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010035148 Plague Diseases 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M chlorogallium Chemical compound [Ga]Cl XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- BQQUFAMSJAKLNB-UHFFFAOYSA-N dicyclopentadiene diepoxide Chemical compound C12C(C3OC33)CC3C2CC2C1O2 BQQUFAMSJAKLNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009837 dry grinding Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 210000004905 finger nail Anatomy 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012761 high-performance material Substances 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000005414 inactive ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVZWVEKIQMJYIK-UHFFFAOYSA-N nitryl chloride Chemical compound [O-][N+](Cl)=O HVZWVEKIQMJYIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ORQWTLCYLDRDHK-UHFFFAOYSA-N phenylselanylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Se]C1=CC=CC=C1 ORQWTLCYLDRDHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- SSTZGACKDAVIGZ-UHFFFAOYSA-N sulfanium;bromide Chemical compound [SH3+].[Br-] SSTZGACKDAVIGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
- C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
- C08G65/08—Saturated oxiranes
- C08G65/10—Saturated oxiranes characterised by the catalysts used
- C08G65/105—Onium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/66—Arsenic compounds
- C07F9/68—Arsenic compounds without As—C bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/90—Antimony compounds
- C07F9/902—Compounds without antimony-carbon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F236/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
- C08F236/14—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated containing elements other than carbon and hydrogen
- C08F236/16—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated containing elements other than carbon and hydrogen containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
Härtbare Zusammensetzungen
Die vorliegende. Erfindung bezieht sich auf Epoxyharz-Zusammensetzungen,
die mit Strahlungsenergie gehärtet werden können.
Epoxyharze sind in einer Anzahl unterschiedlicher Anwendungen eingesetzt worden, die hochleistungsfähige Materialien erfordern.
Die Härtung eines Epoxyharzes kann im allgemeinen mittels eines Zweikomponentensystems erzielt werden, das auf der Einarbeitung
von aktives Amin enthaltenden Verbindungen oder Carbonsäureanhydriden
in das Harz beruht. Diese Systeme erfordern ein gründliches Vermischen der Komponenten und außerdem kann die Härtungszeit
einige Stunden dauern.
5093A5/0931
Ein anderer Katalysator, der zum Härten von Epoxyharzen als "Einkomponenten"-Systeme verwendet werden kann, beruht auf der
Verwendung eines Lewissäure-Katalysators in Form eines Aminkomplexes,
wie Bortrifluorid/Monoäthylamin. Die Lewissäure wird
beim Erhitzen freigesetzt und die Härtung findet innerhalb von 1 bis 8 Stunden statt und kann eine Temperatur von l60 0C oder
mehr erfordern. Diese "Einkomponenten"-Epoxyzusammensetzungen
können nicht zum Beschichten hitzeempfindlicher Geräte eingesetzt werden, wie empfindlicher elektronischer Komponenten. Auch können
wegen der durch Verdampfung während des Härtens bedingten Verluste keine Epoxymonomeren mit niedrigen Siedepunkten verwendet
werden.
Wie in der US-PS 3 703 296 beschrieben, können gewisse photosensitive
aromatische Diazoniumsalze zum Härten von Epoxyharzen eingesetzt werden. Durch Photolyse setzen diese aromatischen
Diazoniumsalze in situ einen Lewissäure-Katalysator frei, der
die rasche Polymerisation des Epoxyharzes einleiten kann. Obwohl diese Einkomponenten-Epoxyharzmischungen rasch härtende Zusammensetzungen
ergeben können, muß jedoch ein Stabilisator benutzt werden, um während des Lagerns dieser Mischungen im Dunkeln das
Härten weitestgehend zu vermeiden. Trotz dieser Maßnahmen kann eine Gelierung der Mischung selbst bei Abwesenheit von Licht
eintreten. Außerdem wird während der UV-Härtung Stickstoff freigesetzt, der zu Fehlern im Film führen kann. Diazoniumsalze sind
im allgemeinen thermisch instabil und machen wegen der Möglichkeit der unkontrollierten Zersetzung den Gebrauch solcher Materialien
gefährlich.
Die vorliegende Erfindung beruht auf der Feststellung, daß strahlungsempfindliche
aromatische Oniumsalze von Elementen der Gruppe VIa des periodischen Systems wie
0
-C-CH.
-C-CH.
CH
BF1
509845/0 931
in Epoxyharze eingearbeitet werden können, wobei man durch Strahlung
härtbare Zusammensetzungen erhält, die nur aus einer Komponente
bestehen und keinen Stabilisator benötigen, um während der Lagerung die Härtung bei Umgebungstemperaturen auf einen Minimalwert zu bringen, und die alle oben erwähnten Nachteile der aromatischen
Diazoniumsalz-Zusammensetzungen nicht aufweisen.
Zu den aromatischen Oniumsalzen'von Elementen der Gruppe VIa, die
zum Herstellen härtbarer Zusammensetzungen nach der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden können, gehören Verbindungen der folgenden
Formel:
I2 ' τ ' -<e-f>
(R)a(R )b(R )c X
■]
.CD
worin R ein einwertiger aromatischer organischer Rest ist, R ein einwertiger organischer aliphatischer Rest ist, ausgewählt Alkyl,
Cycloalkyl und substituiertem Alkyl, R ein mehrwertiger organischer
Rest ist, der eine heterocyclische oder kondensierte Ringstruktur bildet, ausgewählt aus aliphatischen Resten und aromatischen
Resten, X ein Element der Gruppe VIa des periodischen Systems ist, ausgewählt aus Schwefel, Selen und Tellur, M ein
Metall oder Nichtmetall ist, Q ein Halogenrest ist, a eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 3 ist, b eine ganze Zahl von 0 bis
einschließlich 2 ist, c 0 oder 1 ist und die Summe von a + b + c
einen Wert von 3 hat oder gleich der Wertigkeit von X ist, d = e-f ist, wobei f gleich der Wertigkeit von M und damit eine
ganze Zahl von 2 bis einschließlich 7 ist und e größer als f ist und damit eine ganze Zahl mit einem Wert von bis zu 8.
Beispiele von Resten für R sind C(g_-|3) aromatische Kohlenwasserstoff
reste; wie Phenyl, ToIy1, Naphthyl, Anthryl usw. sowie solche
mit bis zu 1 bis 4 einwertigen Resten substituierte aromatische Kohlenwasserstoffreste, wobei die Substituenten solche sein können
wie Cz1-Qx Alkoxy, Cz-j.q) Alkyl, Nitro, Chlor, Hydroxy usw.,
weiter können für R Arylacylreste wie Benzyl, Phenylacyl stehen,
aromatische heterocyclische Reste wie Pyridyl, Furfuryl usw. Die Reste R schließen ein Cz1-Qv Alkyl,wie Methyl, Äthyl usw., sub-
509845/0931
stituiertes Alkyl wie -C2H11OCH3, -CH2COOC2H5, -CH2COCH usw. Die
Reste R schließen solche Strukturen ein wie
, etc.
-(e-f) Beispiele für komplexe Anionen der Formel MQ ' in der Formel
I sind die folgenden:
BF4", PF6", AsF6", SbF6", FeCl4", SnCIg", SbCIg", BiCl5=, AlFg"3,
GaCl4 , InF4 , TiFg", ZrFg ,etc., worin M ein Übergangsmetall ist,
wie Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ga, In, Ti, Zr, Sc, V, Cr, Mn, Cs, Seltene
Erden,wie Lanthaniden, z. B. Ce, Pr, Nd usw., Actiniden,wie
Th, Pa, U, Np usw. sowie Nichtmetalle wie B, P, As usw.
Oniumsalze von Elementen der Gruppe VIa, die in den Rahmen der obigen Formel I fallen, sind z. B. die folgenden:
O VC-CH2-
BF,
PF,
ASF,
SbF,
509845/0931
OKO)-V
FeCl,
SnCl4 SbCl4
BiCl,
BF,
PF,
etc
Durch die vorliegende Erfindung werden härtbare Epoxyzusammensetzungen
geschaffen, die folgende Bestandteile umfassen:
(A) Ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes
polymerisierbar ist, ausgewählt aus Ep oxy monomer, Epoxyvorpolymer, oxiranhaltigem organischen Polymer und Mischungen
davon, sowie
(B) eine wirksame Menge eines strahlungsempfindlichen aromatischen
Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa des Perio-
509845/0931
densystems, das die Härtung von (A) durch Freisetzen eines
Lewissäure-Katalysators bewirken kann, wenn es Strahlungsenergie ausgesetzt wird.
Die Oniurasalze der Formel I sind bekannt und können hergestellt
werden nach Verfahren, die in folgenden Druckschriften beschrieben sind: Artikel von J. W. Knapczyk und W. E. McEwen in Journal
American Chemical Society, 9_1,> 145 (1969); Artikel von A. L. Maycock
und G. A. Berchtold in Journal Organic Chemistry, ^55_, Nr. 8,
2532 (1970); US-PS 2 807 648; Artikel von E. Goethals und P. De Radzetzky in BuI. Soc. Chim. BeIg., £3, 546 (1964); Artikel von
H. M. Leicester und F. W. Bergstrom, Journal American Chemical Society, 51, 3587 (1929), usw.
Die Bezeichnung "Epoxyharz", wie sie zur Beschreibung der härtbaren
Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung benutzt wird, schließt jedes monomere, dimere oder polymere Epoxymaterial ein,
das eine oder eine Vielzahl von funktioneilen Epoxygruppen enthält. So z. B. jene Harze, die man durch Umsetzung von Bisphenol-A,
auch 4,4!-Isopropylidendiphenol genannt, und Epichlorhydrin
oder durch Umsetzung von Phenol/Formaldehyd-Harzen geringen Molekulargewichtes,
auch Novolak-Harze genannt, mit Epichlorhydrin erhält, wobei man diese Reaktionsprodukte entweder allein oder
in Kombination mit einer anderen epoxyhaltigen Verbindung als reaktives Verdünnungsmittel verwenden kann. Solche Verdünnungsmittel,
wie Phenylglycidylather, 4-Vinylcyclohexendioxyd, Limonendioxyd,
1,2-Cyclohexenoxyd, GIycidylacrylat, GIycidylmethacrylat,
Styroloxyd, Allylglycidylather usw., können als Viskositätsveränderer
hinzugegeben werden.
Der Bereich dieser Verbindungen kann auch dahingehend ausgedehnt werden, daß sie polymere Materialien einschließen, die endständige
oder hängende bzw. in Seitenketten angeordnete (im Englischen "pendant" genannt) Epoxygruppen enthalten. Beispiele dieser
Verbindungen 3ind Vinylcopolymere, die GIycidylacrylat oder Meth-
acrylat als einen der Comonomeren enthalten. Andere Klassen epoxyhaltiger Polymerer, die mit den obigen Katalysatoren härt-
509845/0931
bar sind, sind Epoxy-Siloxanharze, Epoxy-Polyurethane und Epoxy-Polyester.
Solche Polymeren haben üblicherweise funktioneile Epoxygruppen an den Enden ihrer Ketten. Epoxy-Siloxanharze und
ein Verfahren zu deren Herstellung ist in dem Artikel von E. P. Plueddemann und G. Fänger, Journal American Ohemical Society, 8l,
632-5 (1959), beschrieben. Wie in der Literatur beschrieben, können Epoxyharze auch in einer Reihe von Standardwegen modifiziert
werden, z. B. durch Umsetzen mit Aminen, Carbonsäuren, Thiolen, Phenolen, Alkoholen usw., wie in den US-PS 2 935 488, 3 235 620,
3 369 055, 3 379 653, 3 398 211, 3 403 199, 3 563 850, 3 567 797,
3 677 995 usw. beschrieben. Weitere Beispiele von Epoxyharzen, die im Rahmen der vorliegenden Erfindung gehärtet werden können,
sind in der'Encyclopedia of Polymer Science and Technology",
Band 6, I967, "Interscience Publishers", New York, Seiten 209 bis
271, beschrieben.
Die härtbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung können hergestellt werden durch Vermengen des Epoxyharzes, das für ein
Epoxymonomer, Epoxyvorpolymer, Epoxypolymer oder eine Mischung
davon steht, mit einer wirksamen Menge eines Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe* VIa, das im folgenden auch abgekürzt Oniumsalz
genannt wird. Die erhaltene härtbare Zusammensetzung, die in Form eines Lackes vorliegen kann, der eine Viskosität im Bereich
von 1 bis 100.000 Centipoise bei 25 °C hat, oder als frei/fließendes
Pulver, kann auf eine Anzahl unterschiedlicher Substrate auf übliche Weise aufgebracht und innerhalb von 1 Sekunde oder weniger
bis zu 10 Minuten oder mehr zu einem klebrigkeitsfreien Zustand gehärtet werden.
In Abhängigkeit von der Verträglichkeit des Oniumsalzes mit dem
Epoxyharz kann das Oniumsalz in einem organischen Lösungsmittel aufgelöst oder darin dispergiert werden, wie Nitromethan, Acetonitril
usw., bevor man es in das Harz einarbeitet. In den Fällen, in denen das Epoxyharz ein Feststoff ist, kann die Einarbeitung
des Oniumsalzes durch Trockenmahlen oder Schmelzvermischen des
Harzes erfolgen.
509845/0931
Es wurde festgestellt, daß das Oniumsalz auch in situ in Gegenwart
des Epoxyharzes erzeugt werden kann, wenn dies erwünscht ist. So kann z. B. ein Oniumsalz der Formel
(R)a(R1)b(R2)c X+ Q1"
1 2
worin R, R , R , X, a, b und c die vorgenannte Bedeutung haben und Q1 ein Anion ist, wie Cl", Br", i", F", HSO21", NO ~ usw., getrennt oder gleichzeitig mit einem Lewissäure-Salz der Formel
worin R, R , R , X, a, b und c die vorgenannte Bedeutung haben und Q1 ein Anion ist, wie Cl", Br", i", F", HSO21", NO ~ usw., getrennt oder gleichzeitig mit einem Lewissäure-Salz der Formel
M1 [MO.]
in das Epoxyharz eingebracht werden, wobei M' ein Metallkation wie Na+, K+,Ca++, Mg++, Fe++,Ni++, Co++, Zn++ usw. oder ein organisches
Kation ist, wie Ammor^Pyridinium usw. und [mQJ die im
Zusammenhang mit der obigen Formel I gegebene Bedeutung hat.
Die Erfahrung hat gezeigt, daß der Anteil des Oniumsalzes zum Epoxyharz innerhalb weiter Grenzen variieren kann, da das Salz
im wesentlichen inert ist, wenn es nicht aktiviert wird. Wirksame Ergebnisse sind erhalten worden, wenn ein Anteil von 0,1
bis 15 Gew.-i des Oniumsalzes eingesetzt wurde, bezogen auf das Gewicht der härtbaren Zusammensetzung.
Die härtbaren Zusammensetzungen können inaktive Bestandteile enthalten,
wie anorganische Füllstoffe, Farbstoffe, Pigmente, Streckmittel, Mittel zur Viskositätskontrolle, Verarbeitungshilfsmittel,
UV-Abschirmer usw. in Mengen bis zu 100 Teilen Füllstoff pro Teile des Epoxyharzes. Die härtbaren Zusammensetzungen können auf
solche Substrate wie Metall, Gummi, Kunststoff, geformte Teile oder Filme, Papier, Holz, Glasgewebe, Beton, Keramik usw. aufgebracht
werden.
Einige der Anwendungen, für die die härtbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden können, sind z. B.
Schutz-, dekorative und Isolationsbeschxchtungen, Einbettmassen, Drucktinten, Abdichtungsmittel, Klebstoffe, Photoresistlacke,
509845/0931
Drahtisolation, Textilbesehic-htungen, Schichtstoffe, imprägnierte
Bänder, Druckplatten usw.
Die Härtung der härtbaren Zusammensetzung kann durch Aktivieren
des Oniumsalzes erfolgen, um die Freisetzung des Lewissäure-Katalysators
zu bewirken. Die Aktivierung des Oniumsalzes kann durch Erhitzen der Zusammensetzung auf eine Temperatur im Bereich
von 150 bis 250 0C erfolgen. Eine bevorzugte Härtung ist
erzielbar durch Aussetzen der härtbaren Zusammensetzung gegenüber
Strahlungsenergie, wie einem Elektronenstrahl oder UV-Licht. Die Elektronenstrahl-Härtung kann bei einer Beschleunigerspannung
von etwa 100 bis 1000 kV bewirkt werden. Die Härtung der Zusammensetzungen wird bevorzugt durch Gebrauch von UV-Strahlung mit
einer Wellenlänge von 1849 bis 4000 8 und einer Intensität von
ρ mindestens 5OOO bis 80.000 Mikrowatt pro cm ausgeführt. Die zur
Erzeugung solcher Strahlung verwendeten Lampensysteme können aus UV-Lampen wie 1 bis 50 Entladungslampen bestehen, z. B. Xenon,
Metallhalogenid, Metallbogen-.wie Quecksilberdampfentladungslampen
geringen, mittleren oder hohen Druckes usw., die einen Betriebsdruck von einigen Millimetern bis zu etwa 10 Atmosphären
haben. Diese Lampen können Kolben aufweisen, die Licht einer Wellenlänge von etwa 1849 bis 4000 8 und vorzugsweise 2400 bis
4000 8 durchlassen. Der Lampenkolben kann aus Quarz, wie Spectrocil
oder Pyrex, bestehen. Beispiele für Lampen, die zur Schaffung der UV-Strahlung benutzt werden können, sind z.B, Quecksilberbogenlampen,
bei mittlerem Drucktetrieben, wie die GE H3T7 und
die Hanovia 450 Watt Bogenlampe. Die Härtungen können auch mit einer Kombination verschiedener Lampen ausgeführt werden, wobei
einige oder alle in einer inerten Atmosphäre arbeiten können. Benutzt man UV-Lampen, dann kann die Strahlungsdichte auf dem
Substrat mindestens 0,01 Watt pro Zoll betragen, um die Härtung des organischen Harzes innerhalb von 1 bis 20 Sekunden zu bewirken
und die Härtung kontinuierlich zu gestatten, wie z. B. beim Härten eines Epoxy-beschichteten Stahlstreifens mit einer Aufnahmegeschwindigkeit
von 30 bis 180 m pro Minute"(entsprechend 100 bis 600 US-Fuß pro Minute). Der Streifen kann zu einer vorbestimmten
Breite geschnitten werden, um ihn als Transformator-
509845/0931
schichtstoff zu verwenden. Es kann auch eine Kombination von Hitze und Licht zur Härtung reaktiver Zusammensetzungen verwendet
werden. Eine solche Kombination von Hitze und Licht kann zur Verringerung der Gesamthärtungszeit dienen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert.
In diesen Beispielen sind alle angegebenen Teile Gewichtsteile.
Es wurde eine härtbare Zusammensetzung zubereitet durch Herstellen
einer Mischung aus 0,2 Teilen Triphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
gelöst in Acetonitril, und 5 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd.
Es wurde ein etwa 0,05 nun (entsprechend 2 Tausendstel Zoll) dicker Film auf eine Glasplatte gezogen und UV-Bestrahlung von
einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von etwa 15 cm ausgesetzt. Das Harz härtete innerhalb von 30 Sekunden zu einem harten Film.
Der Film war in dipolaren aprotischen Lösungsmitteln unlöslich und konnte mit einem Fingernagel nicht zerkratzt werden.
Ein Teil der obigen härtbaren Zusammensetzung mit einer Viskosität
von etwa 6 Centipoise bei 25 °C ließ man unter durchschnittlichen Tageslichtbedingungen 4 Monate in einem transparenten Behälter
stehen. Die Viskosität blieb dabei im wesentlichen die gleiche.
Ein Teil der härtbaren Zusammensetzung wurde auf einen Stahlstreifen
aufgebracht. Die behandelte Stahloberfläche wurde dann 15 Sek. einer UV-St_rahlung aus einer H3T7-Lampe aus einem Abstand von
etwa 5 cm ausgesetzt. Es bildete sich ein klarer klebrigkeits- freier Film, der keine Anzeichen von Blasen oder anderen Fehlern
aufwies.
Der wie oben behandelte Streifen wurde dann in lOC-Kohlenwasser-
3tofföl für 48 Stunden bei 120 0C eingetaucht, um seine hydroly
tische Stabilität gemäß dem IFT-Test ASTM D971-5O Interfacial
Tension of Oil Against Water, wie er auf Seite 322 des Jahrbuches
509845/0S31
der ASTM Standards von 1970, Teil 17 (November), beschrieben ist. Der ursprüngliche Wert des Öles betrug etwa 39,0 Dyn/cm. Nach dem
Test zeigte das öl eine Oberflächenspannung von 38 Dyn/cm. Zur
Erfüllung des Testes ist ein Wert von mindestens 30 Dyn/cm erforderlich.
Eine 8O:2O-Mischung eines Epoxy-Novolakharzes mit einem Epoxyäquivalentgewicht
von 173 und iJ-Vinylcyclohexendioxyd wurden
durch Zugabe von 3 Gew.-5S Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat serisibilisiert. Diese Lösung wurde zum Imprägnieren von Glasgewebe
benutzt. Zwei 15 χ 15 cm große Quadrate des Gewebes wurden übereinandergestapelt und zur Bildung eines Schichtstoffes durch
Bestrahlen des Gewebes für 1 Minute auf jeder Seite unter Verwendung
einer GE H3T7-Lampe in einem Abstand von 15 cm gehärtet. Der steife Schichtstoff war zu einem Ganzen verbunden und konnte für
Schalttafeln benutzt werden.
Triphenylselenoniumchlorid wurde gemäß dem Verfahren von H. M.
Leicester und P. W. Bergstrom in Journal American Chemical Society» 5,1, 3587 (1929), hergestellt, wobei man von Diphenylselenid
ausging. Durch Zugabe von Natrium-Hexafluoroarsenat-Tetrafluoroborat oder Kaliumhexafluoroantimonat zu einer wässrigen Lösung
von Triphenylselenoniumchlorid wurden die entsprechenden Fluoroborat-, Hexafluoroarsenat- und Hexafluoroantimonat-Salze hergestellt.
Die Produkte waren weiße kristalline Peststoffe, die im Vakuum getrocknet wurden.
Dreiprozentige Lösungen der obigen Salze in 4-Vinylcyclohexendioxyd
wurden in Form von etwa 0,05 mm dicken Filmen mittels einer GE-H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 15 cm gehärtet. Die
folgenden Härtungszeiten wurden beobachtet:
509845/0931
5) Se+BF4" 10 Sek.
5) Se+AsF6" 5 Sek.
n) ,Se+SbF,-" 3 Sek.
Es wurden 3 Teile Phenacyltetramethylensulfoniumhexafluoroarsenat
zu einer 7O:30-Mischung von Bisphenol-A-Diglycidyläther und 4-Vinylcyclohexendioxyd
hinzugegeben. Die katalysierte Mischung der Epoxyde wurde zum Imprägnieren eines 2,5 cm breiten Glasgewebebandes
benutzt. Nach dem Aufwickeln einer Schicht auf einen Zylinder mit den Abmessungen 12,5 x 5 cm wurde das imprägnierte
Band unter Rotieren des bewickelten Zylinders unter einer GE H3T7-Lampe gehärtet. Die Gesamtzeit der Aussetzung gegenüber UV-Licht
betrug 5 Minuten. Danach war das Band vollkommen zur Gestalt eines starren Zylinders gehärtet. Der gewickelte Zylinder konnte
dann als Spule zum Aufwickeln von Draht zur Herstellung von Transformatorspulen benutzt werden.
Eine Mischung wurde hergestellt aus 14,5 g (0,25 Mol) Glycidylallyläther,
10 mg t-Butylcatechin und 3 Tropfen Chlorplatinsäure in Octylalkohol. Die Reaktionsmischung wurde in einem Wasserbad
auf 50 0C erhitzt und dann gab man 13 g eines Polydimethylsiloxanharzes
hinzu, das 0,89 Gew.-Si Si-H-Gruppen enthielt, und zwar
tropfenweise mittels eines Tropftrichters. Es fand eine augenblickliche exotherme Reaktion statt, wobei die Temperatur bis zu
65 °C anstieg. Die Reaktion lief bei dieser Temperatur glatt ab und ergab ein klares flüssiges Harz.
Drei Gewichtsteile von Triphenylsulfoniumfluoroborat, gelöst in
einer geringen Menge Acetonitril, wurde zu 97 Teilen des obigen Siliconepoxyharzes hinzugegeben. Ein etwa 0,05 mm dicker Film
des sensibilisierten Harzes wurde auf eine Glasplatte aufgebracht
509845/0931
und dann UV-Licht aus einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm ausgesetzt. Innerhalb von 15 - 20 Sekunden war der Film
klebrigkeitsfrei. Eine geringe Menge von Siliziumdioxyd wurde
zu dem sensibilisierten Harz hinzugegeben, um eine thixotrope Mischung zu erhalten, und das Harz wurde, wie vorstehend beschriebe^
gehärtet. Man erhielt eine zähe gummiartige Beschichtung. Diese UV-gehärteten Epoxysiloxane sind brauchbar als Verschluß-
und Abdichtungsmittel.
Es wurden 3 Teile S-Phenyldibenzothiopheniumfluoroborat zu 97 Teilen
4-Vinylcyclohexendioxyd hinzugegeben. Die erhaltene Mischung wurde auf eine Glasplatte als ein etwa 0,05 mm dicker Film aufgesprüht
und der Bestrahlung aus einer GE H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 15 cm ausgesetzt. Es war eine einminütige Bestrahlung
erforderlich, um den Film vollständig zu einem harten, kratzbeständigen
Zustand zu härten.
Eine 3 5tige Lösung von Phenacyltetramethylensulfoniumhexafluoroarsenat
in einer 4O:6O-Mischung von 4-Vinyleyclohexendioxyd und
einem Epoxy-Novolak mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 206 wurde mit Hilfe eines Abstreichmessers auf eine Stahlplatte in
einer Dicke von etwa 0,075 mm aufgebracht. Es wurde eine Maske über dem Film angeordnet und das Ganze 1 Minute bestrahlt. Dann
nahm man die Maske weg und wusch den Film mit Isopropanol. Die nicht belichteten Teile des Films wurden ausgewaschen und man
erhielt ein klares, scharfes Negativbild der Maske.
Es wurden 6 Teile einer 50 iigen wässrigen Lösung von Triphenylsulfoniumchlorid
und 2,1 Teile NaAsFg zu 97 Teilen einer 80:20-Mischung von Bisphenol-A-diglycidylather und 4-Vinylcyclohexendioxyd
hinzugegeben. Die Reaktionsmischung wurde für eine halbe
509845/0931
Stunde durch Rühren bewegt und dann ließ man sie sich absetzen. Ein Bruchteil des Harzes wurde abgenommen und mit Hilfe eines
Abstreichmessers mit einer 0,075 mm öffnung auf einer Glasplatte
ausgebreitet. Es bildete sich ein klebrigkeitsfreier Film innerhalb
von 15 Sekunden, nachdem man das Harz einer H3T7-Lampe in einem Ab_stand von 15 cm ausgesetzt hatte. Der Film war hart und
klar.
In das obige Harz wurden Widerstände eingegossen, indem man den Widerstand in das sensibilisierte Harz eintauchte und dann den
Widerstand 30 Sekunden unterhalb der UV-Lampe drehte.
Eine äquimolare Mischung von Diphenyljodoniumfluoroborat und
Thioxanthen wurde für 3 Stunden auf 200 0C erhitzt. Nach der
Rekristallisation aus Methylenchlorid/Diäthylather erhielt man
in 80 ^iger Ausbeute ein Produkt mit einem Schmelzpunkt von 168 bis 169 °C. Nach dem Herstellungsverfahren war das Produkt
S-Phenylthioxanthenfluoroborat. Es wurde eine harte, klare,
kratzbeständige 0,025 mm dicke Beschichtung erhalten, nachdem man eine 3 #ige Lösung des obigen Oniumsalzes in Limonendioxyd
mit einem Abstreichmesser auf eine Polystyrolfolie aufgebracht und der UV-Bestrahlung aus einer ^50 Watt Hanovia-Quecksilberbogenlampe
mittleren Druckes aus einer Entfernung von 7,5 cm ausgesetzt hatte.
Es wurden 2,6 Teile Phenacyltetramethylensulfoniumb-^romid zu
einer Mischung von 95 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd und 2,2 Teilen
NaAsFg hinzugegeben. Die Lösung wurde in einer dunklen Flasche angeordnet und auf einer Kugelmühle 8 Stunden gerollt. Nachdem
die Salze durch Filtrieren entfernt worden waren, wurde die Lösung auf eine 7»5 x 15 cm große Stahlplatte aufgebracht und,wie
in Beispiel 1 beschrieben gehärtet. Eine harte Beschichtung wurde nach einer Belichtung von 15 Sekunden erhalten, wobei die Beschichtung
nicht durch Reiben mit Aceton entfernt werden konnte.
509845/0931
Es wurden 2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat in einer
4O:6O-Mischung aus Dicyclopentadiendioxyd und Glycidylacrylat
gelöst. Nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurde eine
harte, vernetzte, etwa 0,025 mm dicke Beschichtung nach 15 Sekunden
Belichtung mit UV-Licht erhalten.
Es -wurden 4 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat zu 100 Teilen
eines Gemisches aus gleichen Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd
und (3,4-Epoxycyclohexyl)methyl-3,^-epoxycyclohexancarboxylat
hinzugegeben. Ein Bruchteil des erhaltenen sensibilisierten Harzes wurde unter Verwendung eines Abziehmessers in Form eines
0,013 mm dicken Filmes auf eine Polycarbonatfolie aufgebracht.
Der Film wurde, wie in Beispiel 1 beschrieben, 10 Sekunden gehärtet und man erhielt eine klare, harte, beschädigungs- und
lösungsmittelbeständige Beschichtung.
Eine Mischung aus 50 Teilen Bisphenol-A-diglycidylather und 50
Teilen (3,4-Epoxycyclohexyl)methyl-3,4-epoxycyelohexancarboxylat
wurde gerührt, bis sie homogen war. Dann gab man 3 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat
zu der Lösung hinzu. Das Ganze wurde vermischt, bis der Sensibilisator gelöst war. Ein Teil der
so erhaltenen Lösung wurde unter Verwendung eines 0,005 mm Zugstabes
auf eine Stahlplatte aufgebracht. Die beschichtete Platte wurde dann einer GE H3T7~Lampe aus einem Abstand von 15 cm
5 Sekunden lang ausgesetzt. Es bildete sich ein harter haftender Film auf dem Stahl.
Eine Mischung von Epoxyharzen, die aus 50 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd,
40 Teilen eines Novolak-Epoxyharzes mit einem Epoxy-
509845/093 1
äquivalentgewicht von 172 - I78 und 10 Teilen n-Octylglycidyläther
bestand, wurde gründlich miteinander vermischt. Zu einem 100 Teile-Bruchteil wurde ein Teil Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat
hinzugegeben. Die erhaltene Mischung wurde gerührt, bis sich das Oniumsalz gelöst hatte. Dann wurde die obige Mischung
auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte aufgetragen und einer 450 Watt Quecksilberbogenlampe in einer Entfernung von 7,5 cm
ausgesetzt, wobei in 2 Sekunden eine glänzende trockene Beschichtung erhalten wurde. Diese Beschichtung widerstand 4 Stunden lang
dem Angriff von siedendem Wasser. Sie konnte durch Reiben mit Aceton nicht entfernt werden.
Es wurden 10 Teile eines festen multifunktionellen aromatischen Glycidyläthers mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 210 - 240 zu
40 Teilen Limonendioxyd hinzugegeben. Die.Mischung wurde mit
1 Teil Phenacyltetramethylensulfoniumhexafluoroarsenat kombiniert
und eine halbe Stunde bei 50 0C gerührt, um eine homogene
Lösung zu erhalten. Die Lösung wurde unter Verwendung eines 0,013 mm Zugstabes auf Glas aufgebracht und 5 Sekunden aus einem
Abstand von 7,5 cm mit einer GE H3T7-Quecksilberbogenlampe bestrahlt, die eine Intensität von 200 Watt/Zoll hatte, und dabei
erhielt man einen harten Film.
Es wurden 0,2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat in
2 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd zu 10 Teilen eines epoxydierten
Butadienharzes hinzugegeben. Nach dem gründlichen Vermischen der Komponenten wurde die Mischung in einer Dicke von 0,025 mm auf
eine etwa 1,5 mm dicke Glasplatte aufgebracht. Eine andere Glasplatte wurde auf die erste aufgelegt und das Ganze einer GE
H3T7-Lampe ausgesetzt, die eine Intensität von 200 Watt/Zoll2 in einem Abstand von 7,5 cm hatte. Die Gesamtbelichtungszeit
betrug 30 Sekunden. Die Glasplatten waren dauerhaft miteinander verbunden. Auf der Basis der Eigenschaften des Glasverbundstoffes
509845/093 1
kann ein ähnliches Verfahren dazu verwendet werden, eine bruchsichere
Windschutzscheibe für Automobile herzustellen.
Unter Rühren wurden 89 Teile Aluminiumchlorid in geringen Anteilen
zu einer Lösung von 122 Teilen 2,6-Xylenol in 505,12 Teilen
Kohlendisulfid bei 10 0C hinzugegeben. Zu der erhaltenen grünlichen
Lösung gab man 79,5 Teile Thionylchlorid tropfenweise hinzu, wobei man die Temperatur zwischen 10 und 15 0C hielt. Man erhielt
einen schwarzen Niederschlag, der in der Lösung für weitere zwei Stunden gerührt wurde, und dann goß man auf 1000 Teile Eis,die
50 Teile konzentrierte HCl umfaßten. Die Mischung wurde auf einem Dampfbad angeordnet, um das CS2 zu entfernen und den Komplex zu
zersetzen. Man erhielt einen bernsteinfarbenen Peststoff, der filtriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde.
Zu einer Lösung von 21,5 Teilen des obigen Rohproduktes in etwa 117 Teilen heißem absolutem Alkohol gab man 11,4 Teile KAsFg und
10 Teile Wasser hinzu. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und noch mehr Wasser hinzugegeben, um die Ausfällung des Produktes
zu bewirken. Das Produkt wurde filtriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Man erhielt ein Material mit einem Schmelzpunkt
von 245 bis 251 0C. Nach dem Herstellungsverfahren und der Elementaranalyse
für C214H27O3SAsPg, errechnet 49,3 % C, 4,62 % H,
5,48 Ü S und gefunden 49,4 % C, 4,59 % H und 5,55 % S, war das
Produkt Tris^jS-dimethyl^-hydroxyphenylsulfoniumhexafluoroarsenat.
Von dem obigen Oniumsalz wurde eine, 3 £ige Lösung in 4-Vinylcyclohexendioxyd
hergestellt. Die Härtung der Lösung wurde durch Bestrahlen eines 0,05 mm dicken Filmes auf Glas gemäß dem in
Beispiel 3 beschriebenen Verfahren bewirkt. Nach 5 Sekunden Bestrahlung erhielt man eine harte, beschädigungsbeständige Beschichtung.
509845/0931
3 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat wurden zu einem feinen Pulver gemahlen. Das Pulver wurde gründlich mit 97 Teilen
Reichhold Epotuf 3.7-83^ pulverförmigern Beschichtungsharz vermischt,
indem man diese 30 Minuten hin- und herrollte. Das Pulver wurde elektrostatisch mittels einer GEMA Modell I71 Sprühkanone
auf 7,5 x 15 cm große Stahlplatten in>Form einer etwa 0,05 mm
dicken Beschichtung aufgesprüht. Danach erhitzte man die Proben kurz auf 150 0C, um das Pulver zu schmelzen, und dann setzte man
es heiß einer Bestrahlung aus einer GfE H3T7-Lampe aus einer Entfernung
von 7,5 cm aus. Die gehärteten Proben wurden nach 15 Sekunden Bestrahlung erhalten. Die Filme hafteten und waren beschädigungsbeständig.
Triphenacylhexafluoroarsenat wurde zu einer Mischung von 67 Gew.%
eines Novolak-Epoxyharzes mit einem Epoxyaquivalentgewicht von 172 bis 178» 33 % 4-VinyIcyclonexendioxyd und 0,5 % eines oberflächenaktiven
Mittels hinzugegeben. Die erhaltene Mischung enthielt etwa 1 Gew.-? des Oniumsalzes. Ein etwa 0,0025 mm dicker
Film wurde auf etwa 7,5 x 15 cm große Stahlplatten aufgebracht
und 20 Sekunden mit GE H3T7-Lampen aus einer Entfernung von 10 cm gehärtet. Einige der Platten wurden danach 5 Stunden bei Zimmertemperatur
in Methylenchlorid eingetaucht, und andere Platten wurden 4 Stunden in Aceton eingetaucht. In allen Fällen wurde
kein sichtbares Zeichen eines Lösung3mittelangriffes auf die Beschichtungen
beobachtet. Diese wurden dann 1 Stunde auf I60 0C
erhitzt. Weiter wurden getrennte Versuche in siedender 50 £iger KOH-Lösung für 30 Minuten und in siedendem destillierten Wasser
für 4 Stunden ausgeführt. Wieder wurde kein sichtbarer Abbau der
Beschichtungen beobachtet.
509845/093 ]
Mischungen von Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat in 4-Vinylcyclohexendioxyd
mit einer Konzentration von 0 - 10 % Oniumsalz wurden thermisch bei 25 und 55 °C gealtert. Die Viskositäten der
Mischungen wurden über eine Periode von 2 Wochen (336 Stunden) gemessen. Dabei wurden die folgenden Ergebnisse bei 25 C erhalten:
Konzentration in % |
Viskosität in Centipoise zu Beginn |
Viskosität m Centipoise nach 336 Stunden |
0 | - 6,06 | 6,06 |
1 | 6,26 | 6,3^ |
3 | 6,90 | 6,90 |
5 | 7,65 | 7,59 |
10 | 9,80 | 9,71 |
bei 55 °C: | ||
Konzentration in % |
Viskosität in Centipoise zu Beginn |
Viskosität in Centipoise nach 336 Stunden |
0 | 6,06 | 6,06 |
1 | 6,42 | 6,37 |
3 | 6,91 | 6,93 |
5 | 7,65 | 7,67 |
10 | ' 9,75 | 9,71 |
Innerhalb der experimentellen Fehlerbreite zeigen die obigen Ergebnisse,
daß im wesentlichen keine Viskositätsveränderung während der Testzeit bei einer Temperatur im Bereich von 25 bis 55 0C
auftrat.
Die obigen Beispiele geben nur einige von sehr vielen härtbaren Zusammensetzungen und Verwendungsarten davon, die im Rahmen der
vorliegenden Erfindung möglich sind, wieder. So fällt auch der Gebrauch von Oniumpolymeren mit einer Gruppe Vla-Oniumfunktiona-
509845/0931
lität als Teil der Polymerhauptkette oder in einer Seitenstellung
in den Rahmen der vorliegenden Erfindung.
509845/0931
Claims (1)
- Patentansprüche1. Härtbare Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch folgende Bestandteile:(A) Ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist, und(B) eine wirksame Menge eines strahlungsempfindlichen aromatischen Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa des Periodensystems, welches die Härtung von (A) durch Freisetzen eines Lewissäure-Katalysators bewirken kann, wenn es Strahlungsenergie ausgesetzt wird.2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Oniumsalz ein Sulfoniumsalz ist.3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Oniumsalz ein Seleniumsalz ist.4. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Oniumsalz ein Telluriumsalz ist.5. Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß das SuIfoniumsalz ein Dialkylphenacylsulfoniumsalz ist.6. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß sie ein Sulfoniumtetrafluoroborat enthält.7. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Oniumsalz in situ zubereitet wird.509845/09318. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß eine Mischung von Oniumsalzen als Quelle einer Lewissäure verwendet wird.9. Drucktinte, dadurch gekennzeichnet, daß sie die Zusammensetzung nach Anspruch 1 umfaßt.10. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß sie bei Zimmertemperatur eine Flüssigkeit ist.11. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß sie ein frei/fließendes Pulver ist.12. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß sie ein Reaktionsprodukt aus 4,4f-Isopropylidendiphenol und Epichlorhydrin umfaßt,13. Verfahren zur kationischen Polymerisation von Epoxyharz, gekennzeichnet durch folgende Stufen:(1) Herstellen einer Mischung des Epoxyharzes und einer wirksamen Menge eines strahlungsempfindlichen aromatischen Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa des Periodensystems, welches die Härtung einer solchen Mischung durch Freisetzen eines Lewissäure-Katalysators bewirken kann, wenn es Strahlungsenergie ausgesetzt wird, und(2) Bestrahlen der Mischung, um die Härtung des organischen Materials zu bewirken.I1I. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet t daß UV-Licht zum Härten benutzt wird.15· Verfahren nach Anspruch 13> dadurch gekennzeichnet , daß ein Elektronenstrahl zum Härten benutzt wird.5098A5/0S3116. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet , daß die Mischung vor dem Härten auf ein Substrat aufgebracht wird.17. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennr» zeichnet , daß das gehärtete Epoxyharz danach hitzebehandelt wird.18. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet , daß die Mischung unter Verwendung eines organischen Lösungsmittels auf das Substrat aufgebracht wird,19. Verfahren nach Anspruch l6, dadurch gekennzeichnet , daß eine Maske verwendet wird, um ein
Photobild zu erzeugen.20. Gegenstand, gekennzeichnet durch ein
Substrat mit einer Zusammensetzung nach Anspruch 1.21. Verbundstoff, gekennzeichnet durch
die Bestandteile des Anspruches 20.5098A5/0931
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US46637474A | 1974-05-02 | 1974-05-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2518652A1 true DE2518652A1 (de) | 1975-11-06 |
DE2518652C2 DE2518652C2 (de) | 1983-05-11 |
Family
ID=23851510
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752559833 Expired DE2559833C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Aromatische Oniumsalze und deren Verwendung |
DE19752518652 Expired DE2518652C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Härtbare Zusammensetzungen |
DE19752559718 Expired DE2559718C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Verfahren zur kationischen Polymerisation von Epoxyharz |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752559833 Expired DE2559833C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Aromatische Oniumsalze und deren Verwendung |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752559718 Expired DE2559718C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Verfahren zur kationischen Polymerisation von Epoxyharz |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5214278B2 (de) |
BE (1) | BE828670A (de) |
DE (3) | DE2559833C2 (de) |
FR (1) | FR2269551B1 (de) |
GB (2) | GB1516512A (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2730725A1 (de) * | 1976-07-09 | 1978-01-12 | Gen Electric | Haertbare zusammensetzung und ihre verwendung |
DE2731396A1 (de) * | 1976-07-14 | 1978-01-19 | Gen Electric | Haertbare zusammensetzungen |
DE2805633A1 (de) * | 1977-02-14 | 1978-08-17 | Gen Electric | Uv-haertbare ueberzugszusammensetzungen |
DE2833648A1 (de) * | 1977-08-05 | 1979-02-15 | Gen Electric | Photohaertbare zusammensetzungen und haertungsverfahren |
US5146005A (en) * | 1989-10-06 | 1992-09-08 | Th. Goldschmidt Ag | Cationically curable oxalkylene ethers, method for their synthesis and their use as casting compounds, coating compositions or as reactive diluents for epoxide resins |
US5466845A (en) * | 1992-06-12 | 1995-11-14 | Wacker-Chemie Gmbh | Sulfonium salts and process for their preparation |
Families Citing this family (103)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4256828A (en) * | 1975-09-02 | 1981-03-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
US4090936A (en) | 1976-10-28 | 1978-05-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photohardenable compositions |
US4101513A (en) * | 1977-02-02 | 1978-07-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof |
GB1604953A (en) * | 1977-08-05 | 1981-12-16 | Gen Electric | Photocurable compositions and method for curing |
GB1596000A (en) * | 1977-09-14 | 1981-08-19 | Gen Electric | Heterocyclic onium salts their preparation and their use for photopolymerisable organic materials |
US4246298A (en) * | 1979-03-14 | 1981-01-20 | American Can Company | Rapid curing of epoxy resin coating compositions by combination of photoinitiation and controlled heat application |
US4299938A (en) * | 1979-06-19 | 1981-11-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions |
US4319974A (en) * | 1980-04-21 | 1982-03-16 | General Electric Company | UV Curable compositions and substrates treated therewith |
US4387216A (en) | 1981-05-06 | 1983-06-07 | Ciba-Geigy Corporation | Heat-polymerizable compositions comprising epoxide resins, aromatic sulfoxonium salts, and organic oxidants |
DE3135636A1 (de) | 1981-09-09 | 1983-03-17 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Haertbare epoxidharze |
GB2139369B (en) * | 1983-05-06 | 1987-01-21 | Sericol Group Ltd | Photosensitive systems showing visible indication of exposure |
JPS61190524A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-25 | Asahi Denka Kogyo Kk | エネルギ−線硬化性組成物 |
JPS61242615A (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-28 | Nippon Air Filter Kk | 集塵方法及びその装置 |
JPS61261365A (ja) * | 1985-05-14 | 1986-11-19 | Nippon Oil Co Ltd | 光硬化性被覆組成物 |
DE3604580A1 (de) * | 1986-02-14 | 1987-08-20 | Basf Ag | Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren |
US4751138A (en) | 1986-08-11 | 1988-06-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive having radiation curable binder |
US5399596A (en) * | 1988-03-03 | 1995-03-21 | Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. | Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof |
US4882201A (en) * | 1988-03-21 | 1989-11-21 | General Electric Company | Non-toxic aryl onium salts, UV curable coating compositions and food packaging use |
US4871786A (en) * | 1988-10-03 | 1989-10-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Organic fluoride sources |
US5047568A (en) * | 1988-11-18 | 1991-09-10 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salts and use and preparation thereof |
DE3902114A1 (de) * | 1989-01-25 | 1990-08-02 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesaettigte, copolymerisierbare sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung |
JPH0347573A (ja) * | 1989-07-12 | 1991-02-28 | Ishigaki Kiko Kk | 微粉体の分級方法並びにその装置 |
DE69029104T2 (de) | 1989-07-12 | 1997-03-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse |
JP2697937B2 (ja) * | 1989-12-15 | 1998-01-19 | キヤノン株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
KR960000980B1 (ko) * | 1990-03-27 | 1996-01-15 | 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 | 무전해도금용 기재 접착제, 이 접착제를 사용한 프린트 회로판 및 이의 용도 |
US5108859A (en) * | 1990-04-16 | 1992-04-28 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic elements and imaging method |
DE4027438C1 (en) * | 1990-08-30 | 1991-08-29 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | Cationically curable organo-polysiloxane cpd. prodn. - by reacting di:hydro:propane with an organo-polysiloxane in presence of catalyst at elevated temp. |
DE4027437C1 (en) * | 1990-08-30 | 1991-08-29 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | Cationically curable organo-polysiloxane(s) - used as coating materials for laminar supports or modifying additives for cationically curable cpds. |
DE69219649T2 (de) * | 1991-02-16 | 1997-10-23 | Canon Kk | Optisches Aufzeichnungsmedium |
US5166126A (en) * | 1992-02-19 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Color filter array element with protective overcoat layer and method of forming same |
US5166125A (en) * | 1992-02-19 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Method of forming color filter array element with patternable overcoat layer |
GB9309275D0 (en) * | 1993-05-05 | 1993-06-16 | Smith & Nephew | Orthopaedic material |
US5502083A (en) * | 1993-06-18 | 1996-03-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Onium salt, photopolymerization initiator, energy ray-curing composition containing the initiator, and cured product |
JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
DE69731542T2 (de) | 1996-09-19 | 2005-05-19 | Nippon Soda Co. Ltd. | Photokatalytische zusammensetzung |
JPH1087963A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 樹脂組成物および繊維質材料成形型 |
JP3786480B2 (ja) * | 1996-10-14 | 2006-06-14 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3626302B2 (ja) * | 1996-12-10 | 2005-03-09 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3765896B2 (ja) * | 1996-12-13 | 2006-04-12 | Jsr株式会社 | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物 |
JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
FR2794126B1 (fr) * | 1999-05-26 | 2003-07-18 | Gemplus Card Int | Nouvelle composition adhesive et conductrice, procede de connexion, procede de constitution de composants electriques ou electroniques, utilisation de cette composition, element conducteur |
JP2003073481A (ja) | 2001-09-06 | 2003-03-12 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
JP2003105077A (ja) | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
JP4701231B2 (ja) * | 2002-02-13 | 2011-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 電子線、euv又はx線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
CN1854133B (zh) | 2002-03-04 | 2010-11-10 | 和光纯药工业株式会社 | 含杂环碘鎓盐 |
EP1348727A3 (de) | 2002-03-29 | 2003-12-03 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Bildempfangsschichtzusammensetzung und Schutzschichtzusammensetzung für Tintenstrahlaufzeichnungsmedien |
JP4533639B2 (ja) * | 2003-07-22 | 2010-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
EP1701213A3 (de) | 2005-03-08 | 2006-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2006335826A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP2007254454A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | スルホニウム塩、硬化性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版 |
JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
TW200838967A (en) | 2007-02-02 | 2008-10-01 | Jsr Corp | Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite |
EP1955858B1 (de) | 2007-02-06 | 2014-06-18 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Vorrichtung |
EP1955850B1 (de) | 2007-02-07 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf |
JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
JP5208573B2 (ja) * | 2008-05-06 | 2013-06-12 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物及びこの硬化体 |
JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
KR101700980B1 (ko) | 2009-02-20 | 2017-01-31 | 산아프로 가부시키가이샤 | 술포늄염, 광산 발생제 및 감광성 수지 조성물 |
JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
JP2010241948A (ja) | 2009-04-06 | 2010-10-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 放射線硬化性シリコーン組成物 |
JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
TWI498350B (zh) | 2009-10-01 | 2015-09-01 | Hitachi Chemical Co Ltd | 有機電子用材料、有機電子元件、有機電激發光元件、及使用其之顯示元件、照明裝置、顯示裝置 |
KR20140108701A (ko) | 2010-04-22 | 2014-09-12 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치 |
JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
EP2644664B1 (de) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel |
US9416220B2 (en) | 2012-05-18 | 2016-08-16 | Cmet Inc. | Resin composition for optical stereolithography |
WO2014061062A1 (ja) | 2012-10-18 | 2014-04-24 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 |
JP6215229B2 (ja) | 2012-12-07 | 2017-10-18 | Dsp五協フード&ケミカル株式会社 | 新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法及び光酸発生剤 |
JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
CN105027677B (zh) | 2013-03-08 | 2018-05-25 | 日立化成株式会社 | 含有离子性化合物的处理液、有机电子元件和有机电子元件的制造方法 |
EP3018182A4 (de) | 2013-07-05 | 2016-12-07 | San-Apro Ltd | Fotosäuregenerator und harzzusammensetzung für fotolithografie |
JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
KR102290265B1 (ko) | 2013-11-25 | 2021-08-13 | 후지필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤 | 산 및 라디칼 발생제, 그리고 산 및 라디칼 발생 방법 |
TWI623519B (zh) * | 2014-02-19 | 2018-05-11 | 日本化藥股份有限公司 | 新穎化合物、含有該化合物之光酸產生劑及含有該光酸產生劑之感光性樹脂組合物 |
JP6195413B2 (ja) | 2014-03-05 | 2017-09-13 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性シリコーン組成物 |
CN113264856B (zh) | 2014-09-26 | 2022-11-22 | 东京应化工业株式会社 | 锍盐、光产酸剂及感光性组合物 |
WO2016072049A1 (ja) | 2014-11-07 | 2016-05-12 | サンアプロ株式会社 | スルホネート化合物、光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 |
JP6708382B2 (ja) | 2015-09-03 | 2020-06-10 | サンアプロ株式会社 | 硬化性組成物及びそれを用いた硬化体 |
KR102272225B1 (ko) | 2016-06-09 | 2021-07-01 | 산아프로 가부시키가이샤 | 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물 |
CN108884110B (zh) | 2016-06-29 | 2021-09-14 | 三亚普罗股份有限公司 | 锍盐、光酸产生剂、光固化性组合物及其固化体 |
KR102321241B1 (ko) | 2016-07-28 | 2021-11-02 | 산아프로 가부시키가이샤 | 술포늄염, 열 또는 광산 발생제, 열 또는 광 경화성 조성물 및 그 경화체 |
JP6591699B2 (ja) | 2016-12-12 | 2019-10-16 | サンアプロ株式会社 | 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 |
JP7174044B2 (ja) | 2018-05-25 | 2022-11-17 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 |
JP7116669B2 (ja) | 2018-11-22 | 2022-08-10 | サンアプロ株式会社 | 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 |
CN113286781B (zh) * | 2019-01-10 | 2023-08-08 | 三亚普罗股份有限公司 | 锍盐、光产酸剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物 |
KR20220154085A (ko) | 2020-03-17 | 2022-11-21 | 산아프로 가부시키가이샤 | 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3412046A (en) * | 1965-07-01 | 1968-11-19 | Dexter Corp | Catalyzed polyepoxide-anhydride resin systems |
-
1975
- 1975-04-16 GB GB49978A patent/GB1516512A/en not_active Expired
- 1975-04-16 GB GB1570175A patent/GB1516511A/en not_active Expired
- 1975-04-26 DE DE19752559833 patent/DE2559833C2/de not_active Expired
- 1975-04-26 DE DE19752518652 patent/DE2518652C2/de not_active Expired
- 1975-04-26 DE DE19752559718 patent/DE2559718C2/de not_active Expired
- 1975-04-30 FR FR7513519A patent/FR2269551B1/fr not_active Expired
- 1975-05-01 JP JP5211175A patent/JPS5214278B2/ja not_active Expired
- 1975-05-02 BE BE156013A patent/BE828670A/xx not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
NICHTS-ERMITTELT * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2730725A1 (de) * | 1976-07-09 | 1978-01-12 | Gen Electric | Haertbare zusammensetzung und ihre verwendung |
DE2731396A1 (de) * | 1976-07-14 | 1978-01-19 | Gen Electric | Haertbare zusammensetzungen |
DE2805633A1 (de) * | 1977-02-14 | 1978-08-17 | Gen Electric | Uv-haertbare ueberzugszusammensetzungen |
DE2833648A1 (de) * | 1977-08-05 | 1979-02-15 | Gen Electric | Photohaertbare zusammensetzungen und haertungsverfahren |
US5146005A (en) * | 1989-10-06 | 1992-09-08 | Th. Goldschmidt Ag | Cationically curable oxalkylene ethers, method for their synthesis and their use as casting compounds, coating compositions or as reactive diluents for epoxide resins |
US5466845A (en) * | 1992-06-12 | 1995-11-14 | Wacker-Chemie Gmbh | Sulfonium salts and process for their preparation |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1516511A (en) | 1978-07-05 |
JPS50151997A (de) | 1975-12-06 |
DE2518652C2 (de) | 1983-05-11 |
BE828670A (fr) | 1975-09-01 |
DE2559718C2 (de) | 1983-08-04 |
FR2269551B1 (de) | 1978-09-01 |
JPS5214278B2 (de) | 1977-04-20 |
DE2559833C2 (de) | 1983-12-22 |
DE2559718A1 (de) | 1977-08-18 |
FR2269551A1 (de) | 1975-11-28 |
GB1516512A (en) | 1978-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2518652C2 (de) | Härtbare Zusammensetzungen | |
DE2518656C3 (de) | Härtbare Zusammensetzungen | |
DE2518639C3 (de) | Härtbare Zusammensetzungen | |
US4058401A (en) | Photocurable compositions containing group via aromatic onium salts | |
US4138255A (en) | Photo-curing method for epoxy resin using group VIa onium salt | |
EP0022081B1 (de) | Sulphoxoniumsalze enthaltende polymerisierbare Mischungen sowie Verfahren zur Herstellung hochmolekularer Produkte aus diesen Mischungen durch Bestrahlung | |
US4175972A (en) | Curable epoxy compositions containing aromatic onium salts and hydroxy compounds | |
DE2518749C2 (de) | Fotopolymerisierbare Zusammensetzungen, Verfahren zum Fotopolymerisieren dieser Zusammensetzungen und deren Verwendung | |
EP0146501B1 (de) | Polymerisierbare Zusammensetzungen | |
DE2366388C2 (de) | Verfahren zur Erzeugung eines Epoxydpolymers | |
DE2618897C2 (de) | Durch sichtbares Licht härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung | |
DE2602574C2 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzungen | |
EP0233567B1 (de) | Härtbare Mischungen, enthaltend N-Sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame Katalysatoren | |
DE2805633A1 (de) | Uv-haertbare ueberzugszusammensetzungen | |
CH640222A5 (de) | Triarylsulfoniumkomplexsalze, verfahren zu ihrer herstellung und diese salze enthaltende photopolymerisierbare gemische. | |
DE2731396A1 (de) | Haertbare zusammensetzungen | |
EP0035969A1 (de) | Zusammensetzung aus kationisch polymerisierbarem Material und einem Katalysator | |
EP0104143A1 (de) | Diaryljodosylsalze enthaltende photopolymerisierbare Zusammensetzungen | |
EP0119959B1 (de) | Verfahren zur Bilderzeugung | |
DE3418388C2 (de) | Arylketon-haltige Jodoniumsalze, Verfahren zu deren Herstellung und solche Jodoniumsalze enthaltende photopolymerisierbare organische Harzzusammensetzungen | |
EP0115471B1 (de) | Verfahren zur Bilderzeugung | |
DE3115241C2 (de) | ||
DE2833648A1 (de) | Photohaertbare zusammensetzungen und haertungsverfahren | |
DE2557078C3 (de) | Lichtempfindliche Masse | |
DE2730725C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
D2 | Grant after examination | ||
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 2559718 Format of ref document f/p: P |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 2559833 Format of ref document f/p: P |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: SIEB, R., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 6947 LAUDENBACH |