DE2518652C2 - Härtbare Zusammensetzungen - Google Patents

Härtbare Zusammensetzungen

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DE2518652C2 DE19752518652 DE2518652A DE2518652C2 DE 2518652 C2 DE2518652 C2 DE 2518652C2 DE 19752518652 DE19752518652 DE 19752518652 DE 2518652 A DE2518652 A DE 2518652A DE 2518652 C2 DE2518652 C2 DE 2518652C2
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Description

(I)
15
worin R ein einwertiger, aromatischer Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis 13 Kohlenstoffatomen, ein solcher Rest substituiert mit 1 bis 4 einwertigen Resten, ausgewählt aus Alkoxy mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Nitro, Chlor, Hydroxy, oder Arylacyl oder ein aromatischer heterocyclischer Rest ist, R1 ein einwertiger organischer aliphalrscher Rest ist, ausgewählt aus Alkylresten mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- und substituierten Alkylretten, R2 ein polyvalenter organischer Rest ist, der ausgewählt ist aus den folgenden Strukturen
40
X ein Element der Gruppe VIa des Periodensystems ist, ausgewählt aus Schwefel, Selen und Tellur, M ein Metall oder Nichtmetall und Q ein Halogenrest ist, a eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 3, b eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 und cgieich 0 oder 1 ist, wobei die Summe von a+b + c gleich 3 oder der Wertigkeit von X ist, so
d=e-f
f = gleich der Wertigkeit von M und eine ganze Zahl von 2 bis einschließlich 7 und
e>{ und eine ganze Zahl mit einem Wert bis zu 8 ist, oder der Formel
Br
C-CH2-S
Il
cc HJ — s
60
AsFT
f>5
SbFT Z Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Oniumsalz ein Sulfoniumsalz ist,
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Oniumsalz ein Seleniumsalz ist
4. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Oniumsalz ein Telluriumsalz ist-
5. Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Sulfoniumsalz ein Dialkylphenacylsulfoniumsalz ist
6. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Sulfoniumtetrafluoroborat enthält
7. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Oniumsalz in situ zubereitet worden ist
8. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß als Epoxyharz ein Reaktionsprodukt aus 4,4'-lsopropylidendiphenol und Epichlorhydrin eingesetzt wird.
9. Verwendung der härtbaren Zusammensetzungen nach Anspruch 1 -7 in einer Drucktinte.
Epoxyharze sind in einer Anzahl unterschiedlicher Anwendungen eingesetzt worden, die hochleistungsfähige Materialien erfordern. Die Härtung eines Epoxyharzes kann im allgemeinen mittels eines Zweikomponentensystems erzielt werden, das auf der Einarbeitung von aktives Amin enthaltenden Verbindungen oder Carbonsäureanhydriden in das Harz beruht. Diese Systeme erfordern ein gründliches Vermischen der Komponenten und außerdem kann die Härtungszeit einige Stunden dauern.
Ein anderer Katalysator, der zum Härten von Epoxyharzen als »Einkomponenten«-Systeme verwendet werden kann, beruht auf der Verwendung eines Lewissäure-Katalysators in Form eines Aminkomplexes, wie Bortrifluorid/Monoäthylamin. Die Lewissäure wird beim Erhitzen freigesetzt und die Härtung findet innerhalb von I bis 8 Stunden statt und kann eine Temperatur von 1600C oder mehr erfordern. Diese »Einkomponenten«-Epoxyzusammensetzungen können nicht zum Beschichten hitzeempfindlicher Geräte eingesetzt werden, wie empfindi'.oher elektronischer Komponenten. Auch können wegen der durch Verdampfung während des Härtens bedingten Verluste keine Epox/monomeren mit niedrigen Siedepunkten verwendet werden.
Wie in der US-PS 37 08 296 beschrieben, können gewisse photosensitive aromatische Diazoniumsalze zum Härten von Epoxyharzen eingesetzt werden. Durch Photolyse setzen diese aromatischen Diazoniumsalze in situ einen Lewissäure-Katalysator frei, der die rasche Polymerisation des Epoxyharzes einleiten kann. Obwohl diese Einkomponenten-Epoxyharzmischungen rasch härtende Zusammensetzungen ergeben können, muß jedoch ein Stabilisator benutzt werden, um während des Lagerns dieser Mischungen im Dunkeln das Harten weitestgehend zu vermeiden. Trotz dieser Maßnahmen kann eine Gelierung der Mischung selbst bei Abwesen- \ heit von Licht eintreten. Außerdem wird während der j UV-Härtung Stickstoff freigesetzt, der zu Fehlern im
Film führen kann. Diazoniumsalze sind im allgemeinen thermisch instabil und machen wegen der Möglichkeit der unkontrollierten Zersetzung den Gebrauch solcher Materialien gefährlich.
Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, härtbare Zusammensetzungen zu schaffen, die die vorgenannten Nachteile der härtbaren Zusammensetzungen mit Diazoniumsalzen nicht aufweisen.
Diese Aufgabe wird durch die erfindungsgemäßen härtbaren Zusammensetzungen gelöst, die gekennzeichnet sind durch:
oder
-U-I )
(D
worin R ein einwertiger, aromatischer Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis 13 Kohlenstoffatomen, ein solcher Rest substituiert mit t bis 4 einwertigen Resten, ausgewählt aus Alkoxy mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Nitro, Chlor, Hydroxy oder Arylacyl oder ein aromatischer heterocyclischer Rest ist, R1 ein einwertiger organischer aliphatischen Rest ist, ausgewählt aus Alkylresten mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- und substituierten Alkylresten, R2 ein polyvalenter organischer Rest ist, der ausgewählt ist aus den folgenden Strukturen:
X ein Element der Gruppe VIa des Periodensystems ist, ausgewählt aus Schwefel, Selen und Tellur, M ein Metall oder Nichtmetall und Q ein Halogenrest ist, a eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 3, b eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 und cgieich 0 oder 1 ist, wobei die Summe von a + b + cgieich 3 oder der Wertigkeit von X ist,
d=e-f
e>f
C-CH2-S
a) ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist und
b) eine wirksame Menge eines strahlungsempfindlichen, aromatischen Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa des Periodensystems oder einer Mischung solcher Oniumsalze der allgemeinen Formel
SbFT
Beispiele von Resten für R sind Phenyl, Tolyl, Naphthyl, Anthryl, Phenylacyt, Pyridyl und Furfuryl, Beispiele von Resten R' sind Methyl, Äthyl, substituiertes Alkyl, wie -C2H4OCH3, -CH2COOC2H5 und -CH2COCH3.
Beispiele für komplexe Anionen der Formel
[MQ,
PFT in der Formel I sind die folgenden:
BF4-, PF6-, AsF6-, SnCI6--, SbCI6-, BiCI5-, AIF6-3, GaCU-, InF4-, TiF6- und ZrF6-, worin M · ein Ubergangsmetall ist, wie Sb, Fe, Sn, Bi, AI, Ga, In, Ti, Zr, Sc, V, Cr, Mn, Cs, Seltene Erden, wit Lanthaniden, z. B. Ce, Pr und Nd, Actinidcn, wie Th, Pa, U nach Np, sowie Nichtmetalle wie B, P und As.
Oniumsalze von Elementen der Gruppe VIa, die in den Rahmen der obigen Formel I fallen, sind z. B. die folgenden:
BFT
PFT
AsFT
SbFT
FeCI4"
gleich der Wertigkeit von M und eine
ganze Zahl von 2 bis einschließlich 7 ist
und
und eine ganze Zahl mit einem Wert bis
zu 8 ist, oder der Formel
SnCi:
SbCU
Bier
Beispiele für ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist, sind Epoxymonomeres, Epoxyvorpolymeres, oxiranhaltiges organisches Polymeres und Mischungen davon.
Die Oniumsalze der Formel I sind bekannt und können hergestellt werden nach Verfahren, die in folgenden Druckschriften beschrieben sind: Artikel von J. W. Knapczyk und W. E. McEwen in Journal American Chemical Society, 91, 145 (1969); Artikel von A. L Maycock und G. A. Berchtold in Journal Organic Chemistry, 35, Nr. 8. 2532 (1970); US-PS 28 07 648; Artikel von E. Goethals und P. De Radzetzky in BuI. Soc. Chim. BeIg, 73, 546 (1964); Artikel von H. M. Leicester und F. W. Bergstrom, Journal American Chemical Societj, 51,3587(1929).
Die Bezeichnung »Epoxyharz«, wie sie zur Beschreibung der härtbaren Zusammensetzungen der Erfindung benutzt wird, schließt jedes monomere, dimere oder polymere Epoxymaterial ein, das eine oder eine Vielzahl von funktionellen Epoxygruppen enthält So z. B. jene Harze, die man durch Umsetzung von Bisphenol-A, auch 4,4'-lsopropylidendiphenol genannt, und Epichlorhydrin oder durch Umsetzung von Phenol/Formaldehyd-Harzen geringen Molekulargewichtes, auch Novolak-Harze genannt, mit Epichlorhydrin erhält, wobei man diese Reaktionsprodukte entweder allein oder in Kombination mit einer anderen epoxyhaltigen Verbindung als reaktives Verdünnungsmittel verwenden kann. Solche Verdünnungsmittel, wie Phenylglycidyläther, 4-Vinylcyclohexendioxyd. Limonendioxyd, 1,2-Cyclohexenoxyd, Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat, Styroloxyd und Allylglycidyläther, können als Viskositätsveränderer hinzugegeben werden.
Der Bereich dieser Verbindungen kann auch dahingehend ausgedehnt werden, daß sie polymere Materialien einschließen, die endständige oder hängende bzw. in Seitenketten angeordnete Epoxygruppen enthalten. Beispiele dieser Verbindungen sind Vinylcopolymere, die Glycidylacrylat oder Methacrylat als einen der Comonomeren enthalten. Andere Klassen epoxyhaltiger Polymerer, die mit den obigen Katalysatoren härtbar sind, sind i^oxy-Siloxanharze, Epoxy-Polyure
thane und Epoxy-Polyester. Solche Polymeren haben üblicherweise funlctionelle Epoxygruppen an den Enden ihrer Ketten. Epoxy-Siloxanharze und ein Verfahren zu deren Herstellung ist in dem Artikel von E. P. Plueddemann und G, Fsnger, Journal American Chemical Society, 81, 632-5 (1959), beschrieben. Wie in der Literatur beschrieben, können Epoxyharze auch in einer Reihe von Standardwegen modifiziert werden, z.B. durch Umsetzen mit Aminen, Carbonsäuren, Thiolen, Phenolen und Alkoholen, wie in den US-PS 29 35 488, 3235 620, 33 69 055, 33 79 653, 33 98 211, 34 03 199, 35 63 850, 35 67 797 und 36 77 995 beschrieben. Weitere Beispiele von Epoxyharzen, die im Rahmen der Erfindung gehärtet werden können, sind in der »Ecyclopedia of Polymer Science and Technology«, Band 6, 1967, »Interscience Publishers«, New York, Seiten 209 bis 271, beschrieben.
Die härtbaren Zusammensetzungen der Erfindung können hergestellt werden durch Vermengen des Epoxyharzes, das für ein Epoxymonomeres, Epoxyvorpolymeres, Epoxypolymeres ode- eine Mischung davon steht, mit einer wirksamen fvitnge mindestens eines Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa der Formel I, das im folgenden auch abgekürzt Oniumsalz genannt wird. Die erhaltene härtbare Zusammensetzung, die in Form eines Lackes vorliegen kann, der eine Viskosität im Bereich von 1 bis 100 000 Centipoises bei 25°C hat, oder als frei fließendes Pulver, kann auf eine Anzahl unterschiedlicher Substrate auf übliche Weise aufgebracht und innerhalb von t Sekunde oder weniger bis zu 10 Minuten oder mehr zu einem klebrigkeitsfreien Zustand gehärtet werden.
In Abhängigkeit von der Verträglichkeit des Oniumsalzes mit dem Epoxyharz kann das Oniumsalz in einem organischen Lösungsmittel aufgelöst oder darin dispergiert werden, wie Nitiomethan oder Acetonitril, bevor man es in das Harz einarbeitet. In den Fällen, in denen das Epoxyharz ein Feststoff ist, kann die Einarbeitung des Oniumsalzes durch Trockenmahlen oder Schmelzvermischen des Harzes erfolgen.
Es wurde festgestellt, daß das Oniumsalz auch in situ in Gegenwart des Epoxyharzes erzeugt werden kann, wenn dies erwünscht ist. So kann z. B. ein Oniumsalz der Formel
worin R, R1, R2, X, a, bund edie vorgenannte Bedeutung haben und Q' ein Anion ist, wie Cl-, Br-, I-, F-, HSO4- und NO3-, getrennt oder gleichzeitig mit einem Salz der so Formel
M'[MQ]
in das Epoxyharz eingebracht werden, wobei IA' ein Metallkation wie Na + , K+, Ca + +, Mg++, Fe + +, Ni++,
« Co++ und Zn++ oder ein organisches Kation ist, wie Ammonium und Pyridinium und [MO] die im Zusammenhang mit der obigen Formel 1 gegebene Bedeutung hat.
Die Erfahrung hat gezeigt, daß der Anteil des
mi Oniumsalzes .um Epoxyharz innerhalb weiter Grenzen variieren kann, da das Salz im wesentlichen inert ist, wenn es nicht aktiviert wird. Wirksame Ergebnisse sind erhalten worden, wenn ein Anteil vor 0,1 bis 15 Gew.-%
, des Oniumsalzes eingesetzt wurde, bezogen auf das ίϊ Gewicht der härtbaren Zusammensetzung.
Die härtbarcit Zusammensetzungen können inaktive Bestandteile enthalten, wie anorganische Füllstoffe, Farbstoffe. Pigmente, Streckmittel. Mittel zur Viskosi-
tätskontrolle, Verarbeitungshilfsmittel und UV-Abschirmer in Mengen bis zu 100 Teilen Füllstoff pro 100 Teile des Epoxyharzes. Die härtbaren Zusammensetzungen können auf solche Substrate wie Metall, Gummi, Kunststoff, geformte Teile oder Filme, Papier. Holz, Glasgewebe, Beton und Keramik aufgebracht werden.
Einige der Anwendungen, für die die härtbaren Zusammensetzungen der Erfindung eingesetzt werden können, sind z. B. Schutz-, dekorative und Isolationsbeschichtungen, Einbettmassen, Drucktinten, Abdichtungsmittel, Klebstoffe, Photoresistlacke, Drahtisolation, Textilbeschichtungen. Schichtstoffe, imprägnierte Bänderund Druckplatten.
Die Härtung der härtbaren Zusammensetzung kann durch Aktivieren des Oniumsalzes erfolgen. Die Aktivierung des Oniumsalzes kann durch Erhitzen der Zusammensetzung auf eine Temperatur im Bereich von 150 bis 2500C erfolgen. Eine bevorzugte Härtung ist erzielbar durch Aussetzen der härtbaren Zusammensetzung gegenüber Strahlungsenergie, wie einem Elektronenstrahl oder UV-Licht. Die Elektronenstrahl-Härtung kann bei einer Beschleunigerspannung von etwa 100 bis 1000 kV bewirkt werden. Die Härtung der Zusammensetzungen wird bevorzugt durch Gebrauch von UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 1849 bis 4000 Ä und einer Intensität von mindestens 5000 bis 80 000 Mikrowatt pro cm2 ausgeführt. Die zur Erzeugung solcher Strahlung verwendeten Lampensysteme können aus UV-Lampen, wie 1 bis 50 Entladungslampen, bestehen, z. B. Xenon-, Metallhalogenide Metallbogen-, wie Quecksilberdampfentladungslampen geringen, mittleren oder hohen Druckes, die einen Betriebsdruck von einigen Millimetern bis zu etwa 10 Atmosphären haben. Diese Lampen können Kolben aufweisen, die Licht einer Wellenlänge von 1849 bis 4000 Ä und vorzugsweise 2400 bis 4000 A durchlassen. Der Lampenkolben kann aus handelsüblichem synthetischen Quarzglas mit weniger als 0,2 ppm an metallischen Verunreinigungen oder aus handelsüblichem Bor silikatglas bestehen. Beispiele für Lampen, die zur Schaffung der UV-Strahlung benutzt verden können, sind z. B. Quecksilberbogenlampen, bei mittlerem Druck betrieben, wie die GE H3T7 und die Hanovia 450 Watt Bogenlampe. Die Härtungen können auch mit einer Kombination verschiedener Lampen ausgeführt werden, wobei einige oder alle in einer inerten Atmosphäre arbeiten können. Benutzt man UV-Lampen, dann kann die Strahlungsdichte auf dem Substrat mindestens 0,01 Watt/6,45 cm2 betragen, um die Härtung des organischen Harzes innerhalb von 1 bis 20 Sekunden zu bewirken und die Härtung kontinuierlich zu gestatten, wie z. B. beim Härten eines Epoxy-beschichteten Stahlstreifens mit einer Aufnahmegeschwindigkeit von 30 bis 180 m pro Minute. Der Streifen kann zu einer vorbestimmten Breite geschnitten werden, um ihn als Transformatorschichtstoff zu verwenden. Es kann auch eine Kombination von Hitze und Licht rar Härtung reaktiver Zusammensetzungen verwendet werden. Eine solche Kombination von Hitze und Licht kann zur Verringerung der Gesamthärtungszeit dienen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert In diesen Beispielen sind alle angegebenen Teile Gewichtsteile.
Beispiel 1
Es wurde eine härtbare Zusammensetzung zubereitet durch Herstellen einer Mischung aus 0,2 Teilen Triphenylsulfonhimtetrafluoroborat, gelöst in Acetonitril, und 5 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd. Es wurde ein 0,05 mm dicker Film auf eine Glasplatte gezogen und UV-Bestrahlung von einer GE H3T7-Lampe aus einem Ab^nd von 15 cm ausgesetzt. Das Harz härtete
ϊ inn ^Ib von 30 Sekunden zu einem harten Film. Der Film war in dipolaren aprotischen Lösungsmitteln unlöslich und konnte mit einem Fingernagel nicht zerkratzt werden.
Einen Teil der obigen härtbaren Zusammensetzung mit einer Viskosität von 6 Centipoise bei 25°C HeB man unter durchschnittlichen Tageslichtbedingungen 4 Monate in einem transparenten Behälter stehen. Die Viskosität blieb dabei im wesentlichen die gleiche.
Ein Teil der härtbaren Zusammensetzung wurde auf
!"' einen Stahlstreifen aufgebracht. Die behandelte Stahloberfläche wurde dann 15 Sek. einer UV-Strahlung aus einer H3T7-Lampe aus einem Abstand von 5 cm ausgesetzt. Es bildete sich ein klarer klebrigkeitsfreier Film, der keine Anzeichen von Blasen oder anderen
-"' t-ehiern aufwies.
Der wie oben behandelte Streifen wurde dann in lOCKohlenwasserstofföl für 48 Stunden bei 1200C eingetaucht, um seine hydrolytische Stabilität gemäß dem IFT-TestASTM D97I -50 Interfacial Tension of Oil
-> Against Water, wie er auf Seite 322 des Jahrbuches der ASTM Standards von 1970, Teil Ί7 (November), beschrieben ist. Der ursprüngliche Wert des Öles betrug 39,0 Dyn/cm. Nach dem Test zeigte das öl eine Oberflächenspannung von 38 Dyn/cm. Zur Erfüllung des Tests ist ein Wert von mindestens 30 Dyn/cm erforderlich.
B e i s ρ i e I 2
Eine 80 : 20-Mischung eines Epoxy-Novolakharzes mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 173 und 4-Vinylcyclohexendioxyd wurden durch Zugabe von 3 Gew.-% Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat sensi-
bilisiert. Diese Lösung wurde zum Imprägnieren von Glasgewebe benutzt. Zwei 15 χ 15 cm große Quadrate des Gewebes wurden übereinandergestapelt und zur Bildung eines Schichtstoffes durch Bestrahlen des Gewebes für 1 Minute auf jeder Seite unter Verwen-
: dung einer GE H3T7-Lampe in einem Abstand von 15 cm gehärtet. Der steife Schichtstoff war zu einem Ganzen verbunden und konnte für Schalttafeln benutzt werden.
Beispiel 3
Triphenylselenoniumchlorid wurde gemäß dem Verfahren von H.M. Leicester und F.W. Bergstrom in Journal American Chemical Society, 51, 3587 (1929), hergestellt, wobei man von Diphenylselenid ausging. Durch Zugabe von Natrium-Hexafluoroarsenat-Tetrafluoroborat oder Kaliumhexafluoroantimonat zu einer wäßrigen Lösung von Triphenylselenoniumchlorid wurden die entsprechenden Fluoroborat-, Hexafluoroarsenat- und Hexafluoroantimonat-Salze hergestellt Die Produkte waren weiße kristalline Feststoffe, die im Vakuum getrocknet wurden.
Dreiprozentige Lösungen der obigen Salze in ^Vmylcyclohexendioxyd wurden in Form von 0,05 mm dicken Filmen mittels einer GE-H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 15 cm gehärtet Die folgenden Härtungszeiten wurden beobachtet:
llärlungszeit
(C6 H shSe 'BF4 Beispiel 4 IO Sek.
(C6 H 5),Se "AsF6 5 Sek.
(C6 H .0,Se 'SbF6 3 Sek.
Es wurden 3 Teile Phenacyltetramethylensulfoniumhexafluoroarsenat zu einer 70 :30-Misc'iung von Bisphenol-A-Diglycidyläther und 4-Vinylcyclohexendioxyd hinzugegeben. Die katalysierte Mischung der Epoxyde wurde zum Imprägnieren eines 2,5 cm breiten Glasgewebebandes benutzt. Nach dem Aufwickeln einer Schicht auf einen Zylinder mit den Abmessungen 12,5 χ 5 cm wurde das imprägnierte Band unter Rotieren des bewickelten Zylinders unter einer GE
HTT7-I amnp crphär<pt Dip Coiamlypil Her Auccpt7iina
4-Vinylcyclohexendioxyd und einem Epoxy-Novolak mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 206 wurde mit Hilfe eines Abstreichmessers auf eine Stahlplatte in einer Dicke von 0,075 mm aufgebracht. Es wurde eine Maske über dem Film angeordnet und das Ganze I Minute bestrahlt. Dann nahm man die Maske weg und wusch den Film mit Isopropanol. Die nicht belichteten Teile des Films wurden ausgewaschen und man erhielt ein klares, scharfes Negativbild der Maske.
Beispiel 8
Es wurden 6 Teile einer 50%igen wäßrigen Lösung von Triphenylsulfoniumchlorid und 2,1 Teile NaAsF6 zu 97 Teilen einer 80 : 20-Mischung von Bisphenol-A-diglycidyläther und 4-Vinylcyclohexendioxyd hinzugegeben. Die Reaktionsmischung wurde für eine halbe Stunde durch Rühren bewegt und dann ließ man sie sich absetzen. Ein Bruchteil des Harzes wurde abgenommen und mit Hilfe eines Abstreichmessers mit einer mm Affniincr auf pinpr Olacnlattp aiicaphreitpl. F.q
gegenüber UV-Licht betrug 5 Minuten. Danach war das Band vollkommen zur Gestalt eines starren Zylinders gehärtet. Der gewickelte Zylinder konnte dann als Spule zum Aufwickeln von Draht zur Herstellung von Transformatorspulen benutzt werden.
Beispiel 5
Eine Mischung wurde hergestellt aus 14,5 g (0,25 Mol) Glycidylallvläther, 10 mg t-Butylcatechin und 3 Tropfen Chlorplatinsäure in Octylalkohol. Die Reaktionsmischung wurde in einem Wasserbad auf 500C erhitzt und dünn gab man 13 g eines Polydimethylsiloxanharzes hinzu, das 0,89 Gew.-% Si-H-Gruppen enthielt, und zwar tropfenweise mittels eines Tropftrichters. Es fand eine augenblickliche exotherme Reaktion statt, wobei die Temperatur bis zu 65°C anstieg. Die Reaktion lief bei dieser Temperatur glatt ab und ergab ein klares flüssiges Harz.
Drei Gewichtsteile von Triphenylsulfoniumfluoroborat, gelöst in einer geringen Menge Acetonitril, wurde zu 97 Teilen des obigen Siliconepoxyharzes hinzugegeben. Ein 0,05 mm dicker Film des sensibilisierten Harzes wurde auf eine Glasplatte aufgebracht und dann UV-Licht aus einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm ausgesetzt. Innerhalb von 15 — 20 Sekunden war der Film klebrigkeitsfrei. Eine geringe Menge von Siliziumdioxyd wurde zu dem sensibilisierten Harz hinzugegeben, um eine thixotrope Mischung zu erhalten, und das Harz wurde, wie vorstehend beschrieben, gehärtet. Man erhielt eine zähe gummiartige Beschichtung. Diese UV-gehärteten Epoxysiloxane sind brauchbar als Verschluß- und Abdichtungsmittel.
Beispiel 6
Es wurden 3 Teile S-Phenyldibenzothiopheniumfluoroborat zu 97 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd hinzugegeben. Die erhaltene Mischung wurde auf eine Glasplatte als ein 0,05 mm dicker Film aufgesprüht und der Bestrahlung aus einer GE H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 15 cm ausgesetzt Es war eine einminütige Bestrahlung erforderlich, um den Film vollständig zu einem harten, kratzbeständigen Zustand zu härten.
Beispiel 7
Eine 3%ige Lösung von Phenacyitetramethyiensuifonhimhexafluoroarsenat in einer 40:60-Mischung von bildete sich ;in klebrigkeitsfreier Film innerhalb von 15 Sekunden, nachdem man das Harz einer H3Tz-Lampe in einem Abstand von 15 cm ausgesetzt hatte. Der Film war hart und klar.
In das obige Harz wurden Widerstände eingegossen, indem man den Widerstand in das sensibilisierte Harz eintauchte und dann den Widerstand 30 Sekunden unterhalb der Ll V-Lampe drehte.
'" Beispiel 9
F.ine äquimolare Mischung von Diphenyljodoniumfluoroborat und Thioxanthen wurde für 3 Stunden auf 2000C erhitzt. Nach der Rekristallisation aus Methylenchlorid/Diäthyläther erhielt man in 80%iger Ausbeute ein Produkt mit einem Schmelzpunkt von 168 bis i69°C. Nach dem Herstellungsverfahren war das Produkt S-Phenylthioxanthenfluoroborat. Es wurde eine harte, klare, kratzbeständige 0,025 mm dicke
·»» Beschichtung erhalten, nachdem man eine 3%ige Lösung des obigen Oniumsalzes in Limonendioxyd mit einem Abstreichmesser auf eine Polystyrolfolie aufgebracht und der UV-Bestrahlung aus einer 450 Watt Hanovia-Quecksilberbogenlampe mittleren Druckes
•»5 aus einer Entfernung von 7,5 cm ausgesetzt hatte.
Beispiel 10
Es wurden 2,6 Teile Phenacyltetramethylensulfoniumbromid zu einer Mischung von 95 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd und 2,2 Teilen NaAsFi hinzugegeben. Die Lösung wurde in einer dunklen Flasche angeordnet und auf einer Kugelmühle 8 Stunden gerollt. Nachdem die Salze durch Filtrieren entfernt worden waren, wurde die ss Lösung auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte aufgebracht und, wie in Beispiel ! beschrieben, gehärtet Eine harte Beschichtung wurde nach einer Belichtung von 15 Sekunden erhalten, wobei die Beschichtung nicht durch Reiben mit Aceton entfernt werden konnte.
Beispiel 11
Es wurden 2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat in einer 40 :60-Mischung aus Dicyclopentadienes dioxyd und Glycidylacrylat gelöst Nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurde eine harte, vernetzte, 0,025 mm dicke Beschichtung nach 15 Sekunden Belichtung mit UV-Licht erhalten.
Beispiel 12
Es wurden 4 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat zu 100 Teilen eines Gemisches aus gleichen Teilen Winylcyclohexendioxyd und (3,4-Epoxycyclohexyl-) > methyl-S^-epoxycyclohexancarboxylat hinzugegeben. Ein Bruchteil des erhaltenen scnsibilisierten Harzes wurde unter Verwendung eines Abziehmessers in F-'orm eines 0,013 mm dicken Filmes auf eine Polycarbonatfolie aufgebracht. Der Film wurde, wie in Beispiel 1 "' beschrieben, 10 Sekunden gehärtet und man erhielt eine klare, harte, bcschädigungs- und lösungsmittelbeständige Beschichtung.
Beispiel 13
Eine Mischung aus 50 Teilen Bisphenol-A-diglycidyläther und 50 Teilen (3.4-Epoxycyclohexyl)methyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat wurde gerührt, bis sie liüiViugcM war. Dann gab man 3 Tc;!c Trjphcnylsiilforii '" umhexafluoroantimonat zu der Lösung hinzu. Das Ganze wurde vermischt, bis der Sensibilisator gelöst war. Ein Teil der so erhaltenen Lösung wurde unter Verwendung eines 0,005 mm Zugstabes auf eine Stahlplatte aufgebracht. Die beschichtete Platte wurde -^ dann einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm 5 Sekunden lang ausgesetzt. Es bildete sich ein harter haftender Film auf dem Stahl.
Beispiel 14
Eine Mischung von Epoxyharzen, die aus 50 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd, 40 Teilen eines Novolak-Epoxyharzes mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 172-178 und 10 Teilen n-Octylglycidyläther bestand. >"> wurde gründlich miteinander vermischt. Zu einem 100 Teile-Bruchteil wurde ein Teil Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat hinzugegeben. Die erhaltene Mischung wurde gerührt, bis sich das Oniumsalz gelöst hatte. Dann wurde die obige Mischung auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte aufgetragen und einer 450 Watt Quecksilberbogenlampe in einer Entfernung von 7,5 cm ausgesetzt, wobei in 2 Sekunden eine glänzende trockene Beschichtung erhalten wurde. Diese Beschichtung widerstand 4 Stunden lang dem Angriff von siedendem 1^ Wasser. Sie konnte durch Reiben mit Aceton nicht entfernt werden.
Beispiel 15
Es wurden 10 Teile eines festen multifunktionellen ^0 aromatischen Glycidyläthers mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 210-240 zu 40 Teilen Limonendioxyd hinzugegeben. Die Mischung wurde mit 1 Teil
Phenacyltetramethylensulfoniumhexafluoroarsenat kombiniert und eine halbe Stunde bei 50° C gerührt, um eine homogene Lösung zu erhalten. Die Lösung wurde unter Verwendung eines 0,013 mm Zugstabes auf Glas aufgebracht und 5 Sekunden aus einem Abstand von 7,5 cm mit einer GE H3T7-Quecksilberbogenlampe bestrahlt, die eine Intensität von 200 Watt/6,45 cm2 «> hatte, und dabei erhielt man einen harten Film.
Beispiel 16
Es wurden 0,2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat in 2 Teilen 4-Vmylcyclohexendioxyd zu 10 Teilen eines epoxydierten Butadienharzes hip^ugegeben. Nach dem gründlichen Vermischen der Komponenten wurde die Mischung in einer Dicke von 0,025 mm auf eine 1,5 mm dicke Glasplatte aufgebracht. Eine andere Glasplatte wurde auf die erste aufgelegt und das Ganze einer GE H3T7-Lampe ausgesetzt, die eine Intensität von 200 Watt/6,45 cm2 in einem Abstand von 7,5 cm hatte. Die Gesamtbelichtungszeit betrug 30 Sekunden. Die Glasplatten waren dauerhaft miteinander verbunden. Auf der Basis der Eigenschaften des Glasverbundstoffes kann ein ähnliches Verfahren dazu verwendet werden, eine bruchsichere Windschutzscheibe für Automobile herzustellen.
Beispiel 17
Unter Rühren wurden 89 Teile Aluminiumchlorid in geringen Anteilen zu einer Lösung von 122 Teilen 2,6-Xylenol in 505,12 Teilen Kohlendisulfid bei 10°C hinzugegeben 7" der erhaltenen erünlichen Lösung gab man 79,5 Teile Thionylchlorid tropfenweise hinzu, wobei man die Temperatur zwischen 10 und 15°C hielt. Man erhielt einen schwarzen Niederschlag, der in der Lösung für weitere zwei Stunden gerührt wurde, und dann goß man auf 1000 Teile Eis, die 50 Teile konzentrierte HCl umfaßten. Die Mischung wurde auf einem Dampfbad angeordnet, um das CS2 zu entfernen und den Komplex zu zersetzen. Man erhielt einen bernsteinfarbenen Feststoff, der filtriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde.
Zu einer Lösung von 21.5 Teilen des obigen Rohproduktes in 117 Teilen heißem absolutem Alkohol gab man 11.4 Teile KAsF6 und 10 Teile Wasser hinzu. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und noch mehr Wasser hinzugegeben, um die Ausfällung des Produktes zu bewirken. Das Produkt wurde filtriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Man erhielt ein Material mit einem Schmelzpunkt von 245 bis 251°C. Nach dem Herstellungsverfahren und der Elementaranalyse für C21H27OjSAsF6. errechnet 49.3% C, 4,62% H. 5,48% S und gefunden 49.4% C. 4,59% H und 5,55% S, war das Produkt Tris-3,5-dimethyl-4-hydroxyphenylsulfoniurphexafluoroarsenat.
Von dem obigen Oniumsalz wurde eine 3%ige Lösung in 4-Vinylcyclohexendioxyd hergestellt. Die Härtung der Lösung wurde durch Bestrahlen eines 0,05 mm dicken Filmes auf Glas gemäß dem in Beispiel 3 beschriebenen Verfahren bewirkt. Nach 5 Sekunden Bestrahlung erhielt man eine harte, beschädigungsbeständige Beschichtung.
Beispiel 18
3 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat wurden zu einem feinen Pulver gemahlen. Das Pulver wurde gründlich mit 97 Teilen eines handelsüblichen pulverförmigen Beschichtungsharzes vermischt, indem man diese 30 Minuten hin- und herrollte. Das Pulver wurde elektrostatisch mittels einer GEMA Modell 171 Sprühkanone auf 7,5 χ 15 cm große Stahlplatten in Form einer 0,05 mm dicken Beschichtung aufgesprüht Danach erhitzte man die Proben kurz auf 1500C, um das Pulver zu schmelzen, und dann setzte man es heiß einer Bestrahlung aus einer GE H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 7,5 cm aus. Die gehärteten Proben wurden nach 15 Sekunden Bestrahlung erhalten. Die Filme hafteten und waren beschädigungsbeständig.
Beispiel 19
Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat wurde zu einer Mischung von 67 Gew.-% eines Novolak-Epoxyharzes mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 172 bis 178,33% 4-Vinylcyclohexendioxyd und 0,5% eines oberflächenaktiven Mittels hinzugegeben. Die erhaltene Mischung enthielt etwa t Gew.-% des Oniumsalzes. Ein 0,0025 mm dicker Film wurde auf 7,5 χ 15 cm große Stahlplatten aufgebracht und 20 Sekunden mit GE H3T7-Lampen aus einer Entfernung von 10 cm gehärtet. Einige der Platten wurden danach 5 Stunden bei Zimmertemperatur in Methylenchlorid eingetaucht, und andere Platten wurden 4 Stunden in Aceton eingetaucht. In allen Fällen wurde kein sichtbares Zeichen eines Lösungsmittelangriffes aul die Beschichtungen beobachtet. Diese wurden dann I Stunde auf 160°C erhitzt. Weiler wurden getrennte Versuche in siedender 50%iger KOH-Lösung für 30 Minuten und in siedendem destillierten Wasser für *t Stunden ausgeführt. Wieder «"jrdp kpin sichtbarer Abbau der Beschichtungen beobachtet.
Konzentration Viskosität in Viskosität \\i
in % Centipoise zu Centipoise nach
Beginn 336 Stunden
(- 6,06 6,06
I 6,26 0,34
3 6,90 6,90
5 7,65 7,59
10 9,80 9,71
bei 55°C:
Konzentration Viskosität in Viskosität in
in "■< Centipoise zu Centipoise nach
Beginn 336 Stunden
0 6,06 6,06
1 6,42 6,37
/ f\\ c m
j ΙΪ. 7 1
5 7,65 7,67
10 9.75 9,71
Beispiel 20
Mischungen von Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat in 4-Vinylcyclohexendioxyd mit einer Konzentration von 0—10% Oniumsalz wurden thermisch bei 25 und 55°C gealtert. Die Viskositäten der Mischungen wurden über eine Periode von 2 Wochen (336 Stunden) gemessen. Dabei wurden die folgenden Ergebnisse bei 25°C erhalten:
Innerhalb der experimentellen Fehlerbreite zeigen die obigen Ergebnisse, daß im wesentlichen keine Viskositätsveränderung während der Testzeit bei einer Temperatur im Bereich von 25 bis 55°C auftrat.
Die obigen Beispiele geben nur einige von sehr vielen härtbaren Zusammensetzungen und Verwendungsarten davon, die im Rahmen der Erfindung möglich sind, wieder. So fällt auch der Gebrauch von Oniumpolymeren mit einer Gruppe Vla-Oniumfunktionalität als Teil der Polymerhauptkette oder in einer Seitenstellung in den Rahmen der Frfindung.

Claims (1)

Patentansprüche;
1. Härtbare Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch:
a) ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist und
b) eine wirksame Menge eines strahlungsempfindlichen, aromatischen Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa des Periodensystems ι ο oder einer Mischung solcher Oniumsalze der allgemeinen Formel
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4405765A (en) 1981-09-09 1983-09-20 Basf Aktiengesellschaft Curable epoxy resins
DE3933420C1 (de) * 1989-10-06 1991-03-07 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De
DE4027438C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane cpd. prodn. - by reacting di:hydro:propane with an organo-polysiloxane in presence of catalyst at elevated temp.
DE4027437C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane(s) - used as coating materials for laminar supports or modifying additives for cationically curable cpds.

Families Citing this family (107)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4256828A (en) * 1975-09-02 1981-03-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
AU517415B2 (en) * 1976-07-09 1981-07-30 General Electric Company Curable polymer composition
US4108747A (en) * 1976-07-14 1978-08-22 General Electric Company Curable compositions and method for curing such compositions
US4090936A (en) 1976-10-28 1978-05-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photohardenable compositions
US4101513A (en) * 1977-02-02 1978-07-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof
US4102687A (en) * 1977-02-14 1978-07-25 General Electric Company UV Curable composition of a thermosetting condensation resin and Group VIa onium salt
GB1604953A (en) * 1977-08-05 1981-12-16 Gen Electric Photocurable compositions and method for curing
GB1604954A (en) * 1977-08-05 1981-12-16 Gen Electric Photocurable compositions and method for curing
GB1596000A (en) * 1977-09-14 1981-08-19 Gen Electric Heterocyclic onium salts their preparation and their use for photopolymerisable organic materials
US4246298A (en) * 1979-03-14 1981-01-20 American Can Company Rapid curing of epoxy resin coating compositions by combination of photoinitiation and controlled heat application
US4299938A (en) * 1979-06-19 1981-11-10 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions
US4319974A (en) * 1980-04-21 1982-03-16 General Electric Company UV Curable compositions and substrates treated therewith
JPS57125212A (en) 1981-01-27 1982-08-04 Toshiba Corp Photo-polymerizable composition
US4387216A (en) 1981-05-06 1983-06-07 Ciba-Geigy Corporation Heat-polymerizable compositions comprising epoxide resins, aromatic sulfoxonium salts, and organic oxidants
GB2139369B (en) * 1983-05-06 1987-01-21 Sericol Group Ltd Photosensitive systems showing visible indication of exposure
JPS61190524A (ja) * 1985-01-25 1986-08-25 Asahi Denka Kogyo Kk エネルギ−線硬化性組成物
JPS61242615A (ja) * 1985-04-18 1986-10-28 Nippon Air Filter Kk 集塵方法及びその装置
JPS61261365A (ja) * 1985-05-14 1986-11-19 Nippon Oil Co Ltd 光硬化性被覆組成物
DE3604580A1 (de) * 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
US4751138A (en) 1986-08-11 1988-06-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive having radiation curable binder
US5399596A (en) * 1988-03-03 1995-03-21 Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof
US4882201A (en) * 1988-03-21 1989-11-21 General Electric Company Non-toxic aryl onium salts, UV curable coating compositions and food packaging use
US4871786A (en) * 1988-10-03 1989-10-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Organic fluoride sources
US5047568A (en) * 1988-11-18 1991-09-10 International Business Machines Corporation Sulfonium salts and use and preparation thereof
DE3902114A1 (de) * 1989-01-25 1990-08-02 Basf Ag Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesaettigte, copolymerisierbare sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung
EP0410606B1 (de) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
JPH0347573A (ja) * 1989-07-12 1991-02-28 Ishigaki Kiko Kk 微粉体の分級方法並びにその装置
JP2697937B2 (ja) * 1989-12-15 1998-01-19 キヤノン株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
KR960000980B1 (ko) * 1990-03-27 1996-01-15 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 무전해도금용 기재 접착제, 이 접착제를 사용한 프린트 회로판 및 이의 용도
US5108859A (en) * 1990-04-16 1992-04-28 Eastman Kodak Company Photoelectrographic elements and imaging method
EP0503774B1 (de) * 1991-02-16 1997-05-14 Canon Kabushiki Kaisha Optisches Aufzeichnungsmedium
US5166126A (en) * 1992-02-19 1992-11-24 Eastman Kodak Company Color filter array element with protective overcoat layer and method of forming same
US5166125A (en) * 1992-02-19 1992-11-24 Eastman Kodak Company Method of forming color filter array element with patternable overcoat layer
DE4219376A1 (de) * 1992-06-12 1993-12-16 Wacker Chemie Gmbh Sulfoniumsalze und Verfahren zu deren Herstellung
GB9309275D0 (en) * 1993-05-05 1993-06-16 Smith & Nephew Orthopaedic material
US5502083A (en) * 1993-06-18 1996-03-26 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Onium salt, photopolymerization initiator, energy ray-curing composition containing the initiator, and cured product
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE69731542T2 (de) 1996-09-19 2005-05-19 Nippon Soda Co. Ltd. Photokatalytische zusammensetzung
JPH1087963A (ja) * 1996-09-20 1998-04-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 樹脂組成物および繊維質材料成形型
JP3786480B2 (ja) * 1996-10-14 2006-06-14 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3626302B2 (ja) * 1996-12-10 2005-03-09 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3765896B2 (ja) 1996-12-13 2006-04-12 Jsr株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
FR2794126B1 (fr) * 1999-05-26 2003-07-18 Gemplus Card Int Nouvelle composition adhesive et conductrice, procede de connexion, procede de constitution de composants electriques ou electroniques, utilisation de cette composition, element conducteur
JP2003073481A (ja) 2001-09-06 2003-03-12 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP2003105077A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP4701231B2 (ja) * 2002-02-13 2011-06-15 富士フイルム株式会社 電子線、euv又はx線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US7318991B2 (en) 2002-03-04 2008-01-15 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Heterocycle-bearing onium salts
EP1348727A3 (de) 2002-03-29 2003-12-03 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Bildempfangsschichtzusammensetzung und Schutzschichtzusammensetzung für Tintenstrahlaufzeichnungsmedien
JP4533639B2 (ja) * 2003-07-22 2010-09-01 富士フイルム株式会社 感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
EP1701213A3 (de) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP2007254454A (ja) * 2006-02-23 2007-10-04 Fujifilm Corp スルホニウム塩、硬化性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
TW200838967A (en) 2007-02-02 2008-10-01 Jsr Corp Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite
EP1955858B1 (de) 2007-02-06 2014-06-18 FUJIFILM Corporation Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Vorrichtung
DE602008006279D1 (de) 2007-02-07 2011-06-01 Fujifilm Corp Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5208573B2 (ja) * 2008-05-06 2013-06-12 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物及びこの硬化体
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
EP2399905B1 (de) 2009-02-20 2014-01-22 San-Apro Limited Sulfoniumsalz, photosäuregenerator und lichtempfindliche harzzusammensetzung
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP2010241948A (ja) 2009-04-06 2010-10-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 放射線硬化性シリコーン組成物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
EP2485290A4 (de) 2009-10-01 2013-03-06 Hitachi Chemical Co Ltd Material für organische elektronik, organisches elektronisches element, organisches elektrolumineszenzelement, anzeigeelement mit dem organischen elektrolumineszenzelement, beleuchtungsvorrichtung und anzeigevorrichtung
WO2011132702A1 (ja) 2010-04-22 2011-10-27 日立化成工業株式会社 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
EP2644664B1 (de) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel
US9416220B2 (en) 2012-05-18 2016-08-16 Cmet Inc. Resin composition for optical stereolithography
CN104918914A (zh) 2012-10-18 2015-09-16 三亚普罗股份有限公司 锍盐、光产酸剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物
WO2014087998A1 (ja) 2012-12-07 2014-06-12 Dsp五協フード&ケミカル株式会社 新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法及び光酸発生剤
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014136900A1 (ja) 2013-03-08 2014-09-12 日立化成株式会社 イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法
KR20160030210A (ko) 2013-07-05 2016-03-16 산아프로 가부시키가이샤 광산 발생제 및 포토리소그래피용 수지 조성물
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
US10451967B2 (en) 2013-11-25 2019-10-22 Fujifilm Wako Pure Chemical Corporation Acid- and radical-generating agent and method for generating acid and radical
TWI623519B (zh) * 2014-02-19 2018-05-11 日本化藥股份有限公司 新穎化合物、含有該化合物之光酸產生劑及含有該光酸產生劑之感光性樹脂組合物
JP6195413B2 (ja) 2014-03-05 2017-09-13 信越化学工業株式会社 放射線硬化性シリコーン組成物
CN107074759B (zh) 2014-09-26 2021-12-14 东京应化工业株式会社 锍盐、光产酸剂及感光性组合物
KR102354196B1 (ko) 2014-11-07 2022-01-20 산아프로 가부시키가이샤 술포네이트 화합물, 광산 발생제 및 포토리소그래피용 수지 조성물
JP6708382B2 (ja) 2015-09-03 2020-06-10 サンアプロ株式会社 硬化性組成物及びそれを用いた硬化体
WO2017212963A1 (ja) 2016-06-09 2017-12-14 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
JP6924754B2 (ja) 2016-06-29 2021-08-25 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物、及びその硬化体
US11370751B2 (en) 2016-07-28 2022-06-28 San Apro Ltd. Sulfonium salt, heat- or photo-acid generator, heat- or photo-curable composition, and cured product thereof
JP6591699B2 (ja) 2016-12-12 2019-10-16 サンアプロ株式会社 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
US11926581B2 (en) 2018-05-25 2024-03-12 San-Apro Limited Sulfonium salt, photoacid generator, curable composition, and resist composition
JP7116669B2 (ja) 2018-11-22 2022-08-10 サンアプロ株式会社 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
WO2020145043A1 (ja) 2019-01-10 2020-07-16 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
US12461444B2 (en) 2020-03-17 2025-11-04 San-Apro Ltd. Sulfonium salt, photoacid generator, curable composition, and resist composition
JP7594374B2 (ja) 2020-07-08 2024-12-04 サンアプロ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び積層フィルム

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3412046A (en) 1965-07-01 1968-11-19 Dexter Corp Catalyzed polyepoxide-anhydride resin systems

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3412046A (en) 1965-07-01 1968-11-19 Dexter Corp Catalyzed polyepoxide-anhydride resin systems

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Chem.Comm., 1968, 409
J.Amer.Chem.Soc., 86, 1964, 5360/1
J.Chem.Soc.C., 1970, 1764-1784
NICHTS-ERMITTELT

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4405765A (en) 1981-09-09 1983-09-20 Basf Aktiengesellschaft Curable epoxy resins
DE3933420C1 (de) * 1989-10-06 1991-03-07 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De
DE4027438C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane cpd. prodn. - by reacting di:hydro:propane with an organo-polysiloxane in presence of catalyst at elevated temp.
DE4027437C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane(s) - used as coating materials for laminar supports or modifying additives for cationically curable cpds.

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5214278B2 (de) 1977-04-20
DE2518652A1 (de) 1975-11-06
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DE2559718A1 (de) 1977-08-18
GB1516511A (en) 1978-07-05
DE2559833C2 (de) 1983-12-22
JPS50151997A (de) 1975-12-06
FR2269551B1 (de) 1978-09-01
FR2269551A1 (de) 1975-11-28

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