DE2518652C2 - Härtbare Zusammensetzungen - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 62
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 31
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 26
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 24
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- -1 sulfonium tetrafluoroborate Chemical compound 0.000 description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-phenylpropan-1-one Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(=O)C1=CC=CC=C1 VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 3
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000005251 aryl acyl group Chemical group 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- HVZWVEKIQMJYIK-UHFFFAOYSA-N nitryl chloride Chemical compound [O-][N+](Cl)=O HVZWVEKIQMJYIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYQVAVNKQCPAOF-UHFFFAOYSA-M triphenylselanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[Se+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VYQVAVNKQCPAOF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRWYHCYGVIJOEC-UHFFFAOYSA-N 2-(octoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCCCOCC1CO1 HRWYHCYGVIJOEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUQRLZZWFINMDP-BGNLRFAXSA-N 2-[(3r,4s,5s,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl]oxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O KUQRLZZWFINMDP-BGNLRFAXSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJNNTHQPWNKZAE-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1C1(C)CC2OC2CC1 FJNNTHQPWNKZAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3-(2-methyloxiran-2-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2(C)OC2CC1C1(C)CO1 RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- BQQUFAMSJAKLNB-UHFFFAOYSA-N dicyclopentadiene diepoxide Chemical compound C12C(C3OC33)CC3C2CC2C1O2 BQQUFAMSJAKLNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009837 dry grinding Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 210000004905 finger nail Anatomy 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012761 high-performance material Substances 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ORQWTLCYLDRDHK-UHFFFAOYSA-N phenylselanylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Se]C1=CC=CC=C1 ORQWTLCYLDRDHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SSTZGACKDAVIGZ-UHFFFAOYSA-N sulfanium;bromide Chemical compound [SH3+].[Br-] SSTZGACKDAVIGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F236/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
- C08F236/14—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated containing elements other than carbon and hydrogen
- C08F236/16—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated containing elements other than carbon and hydrogen containing halogen
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Description
(I)
15
worin R ein einwertiger, aromatischer Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis 13 Kohlenstoffatomen,
ein solcher Rest substituiert mit 1 bis 4 einwertigen Resten, ausgewählt aus Alkoxy mit
1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Nitro, Chlor, Hydroxy,
oder Arylacyl oder ein aromatischer heterocyclischer Rest ist, R1 ein einwertiger organischer
aliphalrscher Rest ist, ausgewählt aus Alkylresten mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl-
und substituierten Alkylretten, R2 ein polyvalenter organischer Rest ist, der ausgewählt ist aus
den folgenden Strukturen
40
X ein Element der Gruppe VIa des Periodensystems ist, ausgewählt aus Schwefel, Selen und
Tellur, M ein Metall oder Nichtmetall und Q ein Halogenrest ist, a eine ganze Zahl von 0 bis
einschließlich 3, b eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 und cgieich 0 oder 1 ist, wobei
die Summe von a+b + c gleich 3 oder der Wertigkeit von X ist, so
d=e-f
f = gleich der Wertigkeit von M und eine ganze Zahl von 2 bis einschließlich 7
und
e>{ und eine ganze Zahl mit einem Wert bis zu 8 ist, oder der Formel
Br
C-CH2-S
Il
c — c HJ — s
60
AsFT
f>5
SbFT
Z Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das Oniumsalz ein Sulfoniumsalz ist,
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das Oniumsalz ein Seleniumsalz ist
4. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Oniumsalz ein Telluriumsalz ist-
5. Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Sulfoniumsalz ein Dialkylphenacylsulfoniumsalz ist
6. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Sulfoniumtetrafluoroborat enthält
7. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Oniumsalz in situ zubereitet
worden ist
8. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß als Epoxyharz ein Reaktionsprodukt aus 4,4'-lsopropylidendiphenol und Epichlorhydrin eingesetzt wird.
9. Verwendung der härtbaren Zusammensetzungen nach Anspruch 1 -7 in einer Drucktinte.
Epoxyharze sind in einer Anzahl unterschiedlicher Anwendungen eingesetzt worden, die hochleistungsfähige Materialien erfordern. Die Härtung eines Epoxyharzes kann im allgemeinen mittels eines Zweikomponentensystems erzielt werden, das auf der Einarbeitung
von aktives Amin enthaltenden Verbindungen oder Carbonsäureanhydriden in das Harz beruht. Diese
Systeme erfordern ein gründliches Vermischen der Komponenten und außerdem kann die Härtungszeit
einige Stunden dauern.
Ein anderer Katalysator, der zum Härten von Epoxyharzen als »Einkomponenten«-Systeme verwendet werden kann, beruht auf der Verwendung eines
Lewissäure-Katalysators in Form eines Aminkomplexes, wie Bortrifluorid/Monoäthylamin. Die Lewissäure
wird beim Erhitzen freigesetzt und die Härtung findet innerhalb von I bis 8 Stunden statt und kann eine
Temperatur von 1600C oder mehr erfordern. Diese »Einkomponenten«-Epoxyzusammensetzungen können
nicht zum Beschichten hitzeempfindlicher Geräte eingesetzt werden, wie empfindi'.oher elektronischer
Komponenten. Auch können wegen der durch Verdampfung während des Härtens bedingten Verluste
keine Epox/monomeren mit niedrigen Siedepunkten verwendet werden.
Wie in der US-PS 37 08 296 beschrieben, können gewisse photosensitive aromatische Diazoniumsalze
zum Härten von Epoxyharzen eingesetzt werden. Durch Photolyse setzen diese aromatischen Diazoniumsalze in
situ einen Lewissäure-Katalysator frei, der die rasche Polymerisation des Epoxyharzes einleiten kann. Obwohl
diese Einkomponenten-Epoxyharzmischungen rasch härtende Zusammensetzungen ergeben können, muß
jedoch ein Stabilisator benutzt werden, um während des Lagerns dieser Mischungen im Dunkeln das Harten
weitestgehend zu vermeiden. Trotz dieser Maßnahmen kann eine Gelierung der Mischung selbst bei Abwesen- \
heit von Licht eintreten. Außerdem wird während der j UV-Härtung Stickstoff freigesetzt, der zu Fehlern im
Film führen kann. Diazoniumsalze sind im allgemeinen
thermisch instabil und machen wegen der Möglichkeit der unkontrollierten Zersetzung den Gebrauch solcher
Materialien gefährlich.
Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, härtbare Zusammensetzungen zu schaffen, die die vorgenannten
Nachteile der härtbaren Zusammensetzungen mit Diazoniumsalzen nicht aufweisen.
Diese Aufgabe wird durch die erfindungsgemäßen
härtbaren Zusammensetzungen gelöst, die gekennzeichnet sind durch:
oder
-U-I )
(D
worin R ein einwertiger, aromatischer Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis 13 Kohlenstoffatomen, ein
solcher Rest substituiert mit t bis 4 einwertigen Resten, ausgewählt aus Alkoxy mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen, Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Nitro, Chlor, Hydroxy oder Arylacyl oder
ein aromatischer heterocyclischer Rest ist, R1 ein einwertiger organischer aliphatischen Rest ist,
ausgewählt aus Alkylresten mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- und substituierten Alkylresten,
R2 ein polyvalenter organischer Rest ist, der ausgewählt ist aus den folgenden Strukturen:
X ein Element der Gruppe VIa des Periodensystems ist, ausgewählt aus Schwefel, Selen und
Tellur, M ein Metall oder Nichtmetall und Q ein Halogenrest ist, a eine ganze Zahl von 0 bis
einschließlich 3, b eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 und cgieich 0 oder 1 ist, wobei die
Summe von a + b + cgieich 3 oder der Wertigkeit
von X ist,
d=e-f
d=e-f
e>f
C-CH2-S
a) ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist und
b) eine wirksame Menge eines strahlungsempfindlichen, aromatischen Oniumsalzes eines Elementes
der Gruppe VIa des Periodensystems oder einer Mischung solcher Oniumsalze der allgemeinen
Formel
SbFT
Beispiele von Resten für R sind Phenyl, Tolyl,
Naphthyl, Anthryl, Phenylacyt, Pyridyl und Furfuryl,
Beispiele von Resten R' sind Methyl, Äthyl, substituiertes Alkyl, wie -C2H4OCH3, -CH2COOC2H5 und
-CH2COCH3.
Beispiele für komplexe Anionen der Formel
[MQ,
PFT in der Formel I sind die folgenden:
BF4-, PF6-, AsF6-, SnCI6--, SbCI6-, BiCI5-,
AIF6-3, GaCU-, InF4-, TiF6- und ZrF6-, worin M
· ein Ubergangsmetall ist, wie Sb, Fe, Sn, Bi, AI, Ga,
In, Ti, Zr, Sc, V, Cr, Mn, Cs, Seltene Erden, wit Lanthaniden, z. B. Ce, Pr und Nd, Actinidcn, wie Th,
Pa, U nach Np, sowie Nichtmetalle wie B, P und As.
Oniumsalze von Elementen der Gruppe VIa, die in den Rahmen der obigen Formel I fallen, sind z. B. die
folgenden:
BFT
PFT
AsFT
SbFT
FeCI4"
gleich der Wertigkeit von M und eine
ganze Zahl von 2 bis einschließlich 7 ist
und
und eine ganze Zahl mit einem Wert bis
zu 8 ist, oder der Formel
SnCi:
SbCU
Bier
Beispiele für ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist, sind
Epoxymonomeres, Epoxyvorpolymeres, oxiranhaltiges organisches Polymeres und Mischungen davon.
Die Oniumsalze der Formel I sind bekannt und können hergestellt werden nach Verfahren, die in
folgenden Druckschriften beschrieben sind: Artikel von J. W. Knapczyk und W. E. McEwen in Journal American
Chemical Society, 91, 145 (1969); Artikel von A. L Maycock und G. A. Berchtold in Journal Organic
Chemistry, 35, Nr. 8. 2532 (1970); US-PS 28 07 648; Artikel von E. Goethals und P. De Radzetzky in BuI. Soc.
Chim. BeIg, 73, 546 (1964); Artikel von H. M. Leicester
und F. W. Bergstrom, Journal American Chemical Societj, 51,3587(1929).
Die Bezeichnung »Epoxyharz«, wie sie zur Beschreibung der härtbaren Zusammensetzungen der Erfindung
benutzt wird, schließt jedes monomere, dimere oder polymere Epoxymaterial ein, das eine oder eine Vielzahl
von funktionellen Epoxygruppen enthält So z. B. jene Harze, die man durch Umsetzung von Bisphenol-A,
auch 4,4'-lsopropylidendiphenol genannt, und Epichlorhydrin oder durch Umsetzung von Phenol/Formaldehyd-Harzen
geringen Molekulargewichtes, auch Novolak-Harze genannt, mit Epichlorhydrin erhält, wobei
man diese Reaktionsprodukte entweder allein oder in Kombination mit einer anderen epoxyhaltigen Verbindung
als reaktives Verdünnungsmittel verwenden kann. Solche Verdünnungsmittel, wie Phenylglycidyläther,
4-Vinylcyclohexendioxyd. Limonendioxyd, 1,2-Cyclohexenoxyd,
Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat, Styroloxyd und Allylglycidyläther, können als Viskositätsveränderer
hinzugegeben werden.
Der Bereich dieser Verbindungen kann auch dahingehend ausgedehnt werden, daß sie polymere Materialien
einschließen, die endständige oder hängende bzw. in Seitenketten angeordnete Epoxygruppen enthalten.
Beispiele dieser Verbindungen sind Vinylcopolymere, die Glycidylacrylat oder Methacrylat als einen der
Comonomeren enthalten. Andere Klassen epoxyhaltiger Polymerer, die mit den obigen Katalysatoren
härtbar sind, sind i^oxy-Siloxanharze, Epoxy-Polyure
thane und Epoxy-Polyester. Solche Polymeren haben
üblicherweise funlctionelle Epoxygruppen an den Enden
ihrer Ketten. Epoxy-Siloxanharze und ein Verfahren zu
deren Herstellung ist in dem Artikel von E. P. Plueddemann und G, Fsnger, Journal American
Chemical Society, 81, 632-5 (1959), beschrieben. Wie in der Literatur beschrieben, können Epoxyharze auch in
einer Reihe von Standardwegen modifiziert werden, z.B. durch Umsetzen mit Aminen, Carbonsäuren,
Thiolen, Phenolen und Alkoholen, wie in den US-PS 29 35 488, 3235 620, 33 69 055, 33 79 653, 33 98 211,
34 03 199, 35 63 850, 35 67 797 und 36 77 995 beschrieben.
Weitere Beispiele von Epoxyharzen, die im Rahmen der Erfindung gehärtet werden können, sind in
der »Ecyclopedia of Polymer Science and Technology«, Band 6, 1967, »Interscience Publishers«, New York,
Seiten 209 bis 271, beschrieben.
Die härtbaren Zusammensetzungen der Erfindung können hergestellt werden durch Vermengen des
Epoxyharzes, das für ein Epoxymonomeres, Epoxyvorpolymeres, Epoxypolymeres ode- eine Mischung davon
steht, mit einer wirksamen fvitnge mindestens eines
Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa der Formel I, das im folgenden auch abgekürzt Oniumsalz
genannt wird. Die erhaltene härtbare Zusammensetzung, die in Form eines Lackes vorliegen kann, der eine
Viskosität im Bereich von 1 bis 100 000 Centipoises bei
25°C hat, oder als frei fließendes Pulver, kann auf eine Anzahl unterschiedlicher Substrate auf übliche Weise
aufgebracht und innerhalb von t Sekunde oder weniger bis zu 10 Minuten oder mehr zu einem klebrigkeitsfreien
Zustand gehärtet werden.
In Abhängigkeit von der Verträglichkeit des Oniumsalzes mit dem Epoxyharz kann das Oniumsalz in einem
organischen Lösungsmittel aufgelöst oder darin dispergiert werden, wie Nitiomethan oder Acetonitril, bevor
man es in das Harz einarbeitet. In den Fällen, in denen das Epoxyharz ein Feststoff ist, kann die Einarbeitung
des Oniumsalzes durch Trockenmahlen oder Schmelzvermischen des Harzes erfolgen.
Es wurde festgestellt, daß das Oniumsalz auch in situ in Gegenwart des Epoxyharzes erzeugt werden kann,
wenn dies erwünscht ist. So kann z. B. ein Oniumsalz der Formel
worin R, R1, R2, X, a, bund edie vorgenannte Bedeutung
haben und Q' ein Anion ist, wie Cl-, Br-, I-, F-, HSO4-
und NO3-, getrennt oder gleichzeitig mit einem Salz der so Formel
M'[MQ]
in das Epoxyharz eingebracht werden, wobei IA' ein
Metallkation wie Na + , K+, Ca + +, Mg++, Fe + +, Ni++,
« Co++ und Zn++ oder ein organisches Kation ist, wie
Ammonium und Pyridinium und [MO] die im Zusammenhang mit der obigen Formel 1 gegebene Bedeutung
hat.
Die Erfahrung hat gezeigt, daß der Anteil des
Die Erfahrung hat gezeigt, daß der Anteil des
mi Oniumsalzes .um Epoxyharz innerhalb weiter Grenzen
variieren kann, da das Salz im wesentlichen inert ist, wenn es nicht aktiviert wird. Wirksame Ergebnisse sind
erhalten worden, wenn ein Anteil vor 0,1 bis 15 Gew.-%
, des Oniumsalzes eingesetzt wurde, bezogen auf das ίϊ Gewicht der härtbaren Zusammensetzung.
Die härtbarcit Zusammensetzungen können inaktive
Bestandteile enthalten, wie anorganische Füllstoffe, Farbstoffe. Pigmente, Streckmittel. Mittel zur Viskosi-
tätskontrolle, Verarbeitungshilfsmittel und UV-Abschirmer in Mengen bis zu 100 Teilen Füllstoff pro 100 Teile
des Epoxyharzes. Die härtbaren Zusammensetzungen können auf solche Substrate wie Metall, Gummi,
Kunststoff, geformte Teile oder Filme, Papier. Holz, Glasgewebe, Beton und Keramik aufgebracht werden.
Einige der Anwendungen, für die die härtbaren Zusammensetzungen der Erfindung eingesetzt werden
können, sind z. B. Schutz-, dekorative und Isolationsbeschichtungen, Einbettmassen, Drucktinten, Abdichtungsmittel,
Klebstoffe, Photoresistlacke, Drahtisolation, Textilbeschichtungen. Schichtstoffe, imprägnierte
Bänderund Druckplatten.
Die Härtung der härtbaren Zusammensetzung kann durch Aktivieren des Oniumsalzes erfolgen. Die
Aktivierung des Oniumsalzes kann durch Erhitzen der Zusammensetzung auf eine Temperatur im Bereich von
150 bis 2500C erfolgen. Eine bevorzugte Härtung ist
erzielbar durch Aussetzen der härtbaren Zusammensetzung gegenüber Strahlungsenergie, wie einem Elektronenstrahl
oder UV-Licht. Die Elektronenstrahl-Härtung kann bei einer Beschleunigerspannung von etwa 100 bis
1000 kV bewirkt werden. Die Härtung der Zusammensetzungen wird bevorzugt durch Gebrauch von
UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 1849 bis 4000 Ä und einer Intensität von mindestens 5000 bis
80 000 Mikrowatt pro cm2 ausgeführt. Die zur Erzeugung solcher Strahlung verwendeten Lampensysteme
können aus UV-Lampen, wie 1 bis 50 Entladungslampen, bestehen, z. B. Xenon-, Metallhalogenide Metallbogen-,
wie Quecksilberdampfentladungslampen geringen, mittleren oder hohen Druckes, die einen Betriebsdruck
von einigen Millimetern bis zu etwa 10 Atmosphären
haben. Diese Lampen können Kolben aufweisen, die Licht einer Wellenlänge von 1849 bis 4000 Ä und
vorzugsweise 2400 bis 4000 A durchlassen. Der Lampenkolben kann aus handelsüblichem synthetischen
Quarzglas mit weniger als 0,2 ppm an metallischen Verunreinigungen oder aus handelsüblichem Bor silikatglas
bestehen. Beispiele für Lampen, die zur Schaffung der UV-Strahlung benutzt verden können, sind z. B.
Quecksilberbogenlampen, bei mittlerem Druck betrieben, wie die GE H3T7 und die Hanovia 450 Watt
Bogenlampe. Die Härtungen können auch mit einer Kombination verschiedener Lampen ausgeführt werden,
wobei einige oder alle in einer inerten Atmosphäre arbeiten können. Benutzt man UV-Lampen, dann kann
die Strahlungsdichte auf dem Substrat mindestens 0,01 Watt/6,45 cm2 betragen, um die Härtung des organischen
Harzes innerhalb von 1 bis 20 Sekunden zu bewirken und die Härtung kontinuierlich zu gestatten,
wie z. B. beim Härten eines Epoxy-beschichteten Stahlstreifens mit einer Aufnahmegeschwindigkeit von
30 bis 180 m pro Minute. Der Streifen kann zu einer vorbestimmten Breite geschnitten werden, um ihn als
Transformatorschichtstoff zu verwenden. Es kann auch
eine Kombination von Hitze und Licht rar Härtung reaktiver Zusammensetzungen verwendet werden. Eine
solche Kombination von Hitze und Licht kann zur Verringerung der Gesamthärtungszeit dienen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert In diesen Beispielen sind alle
angegebenen Teile Gewichtsteile.
Es wurde eine härtbare Zusammensetzung zubereitet
durch Herstellen einer Mischung aus 0,2 Teilen Triphenylsulfonhimtetrafluoroborat, gelöst in Acetonitril,
und 5 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd. Es wurde ein 0,05 mm dicker Film auf eine Glasplatte gezogen und
UV-Bestrahlung von einer GE H3T7-Lampe aus einem Ab^nd von 15 cm ausgesetzt. Das Harz härtete
ϊ inn ^Ib von 30 Sekunden zu einem harten Film. Der
Film war in dipolaren aprotischen Lösungsmitteln unlöslich und konnte mit einem Fingernagel nicht
zerkratzt werden.
Einen Teil der obigen härtbaren Zusammensetzung mit einer Viskosität von 6 Centipoise bei 25°C HeB man
unter durchschnittlichen Tageslichtbedingungen 4 Monate in einem transparenten Behälter stehen. Die
Viskosität blieb dabei im wesentlichen die gleiche.
Ein Teil der härtbaren Zusammensetzung wurde auf
Ein Teil der härtbaren Zusammensetzung wurde auf
!"' einen Stahlstreifen aufgebracht. Die behandelte Stahloberfläche
wurde dann 15 Sek. einer UV-Strahlung aus einer H3T7-Lampe aus einem Abstand von 5 cm
ausgesetzt. Es bildete sich ein klarer klebrigkeitsfreier Film, der keine Anzeichen von Blasen oder anderen
-"' t-ehiern aufwies.
Der wie oben behandelte Streifen wurde dann in lOCKohlenwasserstofföl für 48 Stunden bei 1200C
eingetaucht, um seine hydrolytische Stabilität gemäß dem IFT-TestASTM D97I -50 Interfacial Tension of Oil
-> Against Water, wie er auf Seite 322 des Jahrbuches der
ASTM Standards von 1970, Teil Ί7 (November), beschrieben ist. Der ursprüngliche Wert des Öles betrug
39,0 Dyn/cm. Nach dem Test zeigte das öl eine
Oberflächenspannung von 38 Dyn/cm. Zur Erfüllung des Tests ist ein Wert von mindestens 30 Dyn/cm
erforderlich.
B e i s ρ i e I 2
Eine 80 : 20-Mischung eines Epoxy-Novolakharzes mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 173 und
4-Vinylcyclohexendioxyd wurden durch Zugabe von 3 Gew.-% Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat sensi-
bilisiert. Diese Lösung wurde zum Imprägnieren von
Glasgewebe benutzt. Zwei 15 χ 15 cm große Quadrate des Gewebes wurden übereinandergestapelt und zur
Bildung eines Schichtstoffes durch Bestrahlen des Gewebes für 1 Minute auf jeder Seite unter Verwen-
: dung einer GE H3T7-Lampe in einem Abstand von
15 cm gehärtet. Der steife Schichtstoff war zu einem Ganzen verbunden und konnte für Schalttafeln benutzt
werden.
Triphenylselenoniumchlorid wurde gemäß dem Verfahren von H.M. Leicester und F.W. Bergstrom in
Journal American Chemical Society, 51, 3587 (1929), hergestellt, wobei man von Diphenylselenid ausging.
Durch Zugabe von Natrium-Hexafluoroarsenat-Tetrafluoroborat oder Kaliumhexafluoroantimonat zu einer
wäßrigen Lösung von Triphenylselenoniumchlorid wurden die entsprechenden Fluoroborat-, Hexafluoroarsenat-
und Hexafluoroantimonat-Salze hergestellt Die Produkte waren weiße kristalline Feststoffe, die im
Vakuum getrocknet wurden.
Dreiprozentige Lösungen der obigen Salze in ^Vmylcyclohexendioxyd wurden in Form von 0,05 mm
dicken Filmen mittels einer GE-H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 15 cm gehärtet Die folgenden Härtungszeiten
wurden beobachtet:
llärlungszeit
| (C6 | H | shSe | 'BF4 | Beispiel | 4 | IO | Sek. |
| (C6 | H | 5),Se | "AsF6 | 5 | Sek. | ||
| (C6 | H | .0,Se | 'SbF6 | 3 | Sek. | ||
Es wurden 3 Teile Phenacyltetramethylensulfoniumhexafluoroarsenat
zu einer 70 :30-Misc'iung von Bisphenol-A-Diglycidyläther
und 4-Vinylcyclohexendioxyd hinzugegeben. Die katalysierte Mischung der Epoxyde
wurde zum Imprägnieren eines 2,5 cm breiten Glasgewebebandes benutzt. Nach dem Aufwickeln einer
Schicht auf einen Zylinder mit den Abmessungen 12,5 χ 5 cm wurde das imprägnierte Band unter
Rotieren des bewickelten Zylinders unter einer GE
4-Vinylcyclohexendioxyd und einem Epoxy-Novolak
mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 206 wurde mit Hilfe eines Abstreichmessers auf eine Stahlplatte in
einer Dicke von 0,075 mm aufgebracht. Es wurde eine Maske über dem Film angeordnet und das Ganze I
Minute bestrahlt. Dann nahm man die Maske weg und wusch den Film mit Isopropanol. Die nicht belichteten
Teile des Films wurden ausgewaschen und man erhielt ein klares, scharfes Negativbild der Maske.
Es wurden 6 Teile einer 50%igen wäßrigen Lösung von Triphenylsulfoniumchlorid und 2,1 Teile NaAsF6 zu
97 Teilen einer 80 : 20-Mischung von Bisphenol-A-diglycidyläther
und 4-Vinylcyclohexendioxyd hinzugegeben. Die Reaktionsmischung wurde für eine halbe Stunde
durch Rühren bewegt und dann ließ man sie sich absetzen. Ein Bruchteil des Harzes wurde abgenommen
und mit Hilfe eines Abstreichmessers mit einer mm Affniincr auf pinpr Olacnlattp aiicaphreitpl. F.q
gegenüber UV-Licht betrug 5 Minuten. Danach war das Band vollkommen zur Gestalt eines starren Zylinders
gehärtet. Der gewickelte Zylinder konnte dann als Spule zum Aufwickeln von Draht zur Herstellung von
Transformatorspulen benutzt werden.
Eine Mischung wurde hergestellt aus 14,5 g (0,25 Mol) Glycidylallvläther, 10 mg t-Butylcatechin und 3 Tropfen
Chlorplatinsäure in Octylalkohol. Die Reaktionsmischung wurde in einem Wasserbad auf 500C erhitzt und
dünn gab man 13 g eines Polydimethylsiloxanharzes
hinzu, das 0,89 Gew.-% Si-H-Gruppen enthielt, und zwar tropfenweise mittels eines Tropftrichters. Es fand
eine augenblickliche exotherme Reaktion statt, wobei die Temperatur bis zu 65°C anstieg. Die Reaktion lief
bei dieser Temperatur glatt ab und ergab ein klares flüssiges Harz.
Drei Gewichtsteile von Triphenylsulfoniumfluoroborat,
gelöst in einer geringen Menge Acetonitril, wurde zu 97 Teilen des obigen Siliconepoxyharzes hinzugegeben.
Ein 0,05 mm dicker Film des sensibilisierten Harzes wurde auf eine Glasplatte aufgebracht und dann
UV-Licht aus einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm ausgesetzt. Innerhalb von 15 — 20
Sekunden war der Film klebrigkeitsfrei. Eine geringe Menge von Siliziumdioxyd wurde zu dem sensibilisierten
Harz hinzugegeben, um eine thixotrope Mischung zu erhalten, und das Harz wurde, wie vorstehend
beschrieben, gehärtet. Man erhielt eine zähe gummiartige Beschichtung. Diese UV-gehärteten Epoxysiloxane
sind brauchbar als Verschluß- und Abdichtungsmittel.
Es wurden 3 Teile S-Phenyldibenzothiopheniumfluoroborat zu 97 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd hinzugegeben. Die erhaltene Mischung wurde auf eine
Glasplatte als ein 0,05 mm dicker Film aufgesprüht und der Bestrahlung aus einer GE H3T7-Lampe aus einer
Entfernung von 15 cm ausgesetzt Es war eine einminütige Bestrahlung erforderlich, um den Film
vollständig zu einem harten, kratzbeständigen Zustand zu härten.
Eine 3%ige Lösung von Phenacyitetramethyiensuifonhimhexafluoroarsenat in einer 40:60-Mischung von
bildete sich ;in klebrigkeitsfreier Film innerhalb von 15
Sekunden, nachdem man das Harz einer H3Tz-Lampe in einem Abstand von 15 cm ausgesetzt hatte. Der Film
war hart und klar.
In das obige Harz wurden Widerstände eingegossen, indem man den Widerstand in das sensibilisierte Harz
eintauchte und dann den Widerstand 30 Sekunden unterhalb der Ll V-Lampe drehte.
'" Beispiel 9
F.ine äquimolare Mischung von Diphenyljodoniumfluoroborat
und Thioxanthen wurde für 3 Stunden auf 2000C erhitzt. Nach der Rekristallisation aus Methylenchlorid/Diäthyläther
erhielt man in 80%iger Ausbeute ein Produkt mit einem Schmelzpunkt von 168 bis i69°C. Nach dem Herstellungsverfahren war das
Produkt S-Phenylthioxanthenfluoroborat. Es wurde eine harte, klare, kratzbeständige 0,025 mm dicke
·»» Beschichtung erhalten, nachdem man eine 3%ige
Lösung des obigen Oniumsalzes in Limonendioxyd mit einem Abstreichmesser auf eine Polystyrolfolie aufgebracht
und der UV-Bestrahlung aus einer 450 Watt Hanovia-Quecksilberbogenlampe mittleren Druckes
•»5 aus einer Entfernung von 7,5 cm ausgesetzt hatte.
Es wurden 2,6 Teile Phenacyltetramethylensulfoniumbromid
zu einer Mischung von 95 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd und 2,2 Teilen NaAsFi hinzugegeben. Die
Lösung wurde in einer dunklen Flasche angeordnet und auf einer Kugelmühle 8 Stunden gerollt. Nachdem die
Salze durch Filtrieren entfernt worden waren, wurde die ss Lösung auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte aufgebracht und, wie in Beispiel ! beschrieben, gehärtet Eine
harte Beschichtung wurde nach einer Belichtung von 15
Sekunden erhalten, wobei die Beschichtung nicht durch Reiben mit Aceton entfernt werden konnte.
Es wurden 2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat in einer 40 :60-Mischung aus Dicyclopentadienes dioxyd und Glycidylacrylat gelöst Nach dem in Beispiel
1 beschriebenen Verfahren wurde eine harte, vernetzte, 0,025 mm dicke Beschichtung nach 15 Sekunden
Belichtung mit UV-Licht erhalten.
Es wurden 4 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat zu 100 Teilen eines Gemisches aus gleichen Teilen
Winylcyclohexendioxyd und (3,4-Epoxycyclohexyl-) >
methyl-S^-epoxycyclohexancarboxylat hinzugegeben.
Ein Bruchteil des erhaltenen scnsibilisierten Harzes wurde unter Verwendung eines Abziehmessers in F-'orm
eines 0,013 mm dicken Filmes auf eine Polycarbonatfolie aufgebracht. Der Film wurde, wie in Beispiel 1 "'
beschrieben, 10 Sekunden gehärtet und man erhielt eine klare, harte, bcschädigungs- und lösungsmittelbeständige
Beschichtung.
Eine Mischung aus 50 Teilen Bisphenol-A-diglycidyläther
und 50 Teilen (3.4-Epoxycyclohexyl)methyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat wurde gerührt, bis sie
liüiViugcM war. Dann gab man 3 Tc;!c Trjphcnylsiilforii '"
umhexafluoroantimonat zu der Lösung hinzu. Das Ganze wurde vermischt, bis der Sensibilisator gelöst
war. Ein Teil der so erhaltenen Lösung wurde unter Verwendung eines 0,005 mm Zugstabes auf eine
Stahlplatte aufgebracht. Die beschichtete Platte wurde -^
dann einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm 5 Sekunden lang ausgesetzt. Es bildete sich ein
harter haftender Film auf dem Stahl.
Eine Mischung von Epoxyharzen, die aus 50 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxyd, 40 Teilen eines Novolak-Epoxyharzes
mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 172-178 und 10 Teilen n-Octylglycidyläther bestand.
>"> wurde gründlich miteinander vermischt. Zu einem 100 Teile-Bruchteil wurde ein Teil Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat
hinzugegeben. Die erhaltene Mischung wurde gerührt, bis sich das Oniumsalz gelöst hatte. Dann
wurde die obige Mischung auf eine 7,5 χ 15 cm große
Stahlplatte aufgetragen und einer 450 Watt Quecksilberbogenlampe in einer Entfernung von 7,5 cm ausgesetzt,
wobei in 2 Sekunden eine glänzende trockene Beschichtung erhalten wurde. Diese Beschichtung
widerstand 4 Stunden lang dem Angriff von siedendem 1^
Wasser. Sie konnte durch Reiben mit Aceton nicht entfernt werden.
Es wurden 10 Teile eines festen multifunktionellen ^0
aromatischen Glycidyläthers mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 210-240 zu 40 Teilen Limonendioxyd
hinzugegeben. Die Mischung wurde mit 1 Teil
Phenacyltetramethylensulfoniumhexafluoroarsenat kombiniert und eine halbe Stunde bei 50° C gerührt, um eine homogene Lösung zu erhalten. Die Lösung wurde unter Verwendung eines 0,013 mm Zugstabes auf Glas
aufgebracht und 5 Sekunden aus einem Abstand von 7,5 cm mit einer GE H3T7-Quecksilberbogenlampe
bestrahlt, die eine Intensität von 200 Watt/6,45 cm2 «>
hatte, und dabei erhielt man einen harten Film.
Es wurden 0,2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat
in 2 Teilen 4-Vmylcyclohexendioxyd zu 10 Teilen eines epoxydierten Butadienharzes hip^ugegeben.
Nach dem gründlichen Vermischen der Komponenten wurde die Mischung in einer Dicke von
0,025 mm auf eine 1,5 mm dicke Glasplatte aufgebracht. Eine andere Glasplatte wurde auf die erste aufgelegt
und das Ganze einer GE H3T7-Lampe ausgesetzt, die eine Intensität von 200 Watt/6,45 cm2 in einem Abstand
von 7,5 cm hatte. Die Gesamtbelichtungszeit betrug 30 Sekunden. Die Glasplatten waren dauerhaft miteinander
verbunden. Auf der Basis der Eigenschaften des Glasverbundstoffes kann ein ähnliches Verfahren dazu
verwendet werden, eine bruchsichere Windschutzscheibe für Automobile herzustellen.
Unter Rühren wurden 89 Teile Aluminiumchlorid in geringen Anteilen zu einer Lösung von 122 Teilen
2,6-Xylenol in 505,12 Teilen Kohlendisulfid bei 10°C
hinzugegeben 7" der erhaltenen erünlichen Lösung gab
man 79,5 Teile Thionylchlorid tropfenweise hinzu, wobei man die Temperatur zwischen 10 und 15°C hielt. Man
erhielt einen schwarzen Niederschlag, der in der Lösung für weitere zwei Stunden gerührt wurde, und dann goß
man auf 1000 Teile Eis, die 50 Teile konzentrierte HCl umfaßten. Die Mischung wurde auf einem Dampfbad
angeordnet, um das CS2 zu entfernen und den Komplex
zu zersetzen. Man erhielt einen bernsteinfarbenen Feststoff, der filtriert, mit Wasser gewaschen und
getrocknet wurde.
Zu einer Lösung von 21.5 Teilen des obigen Rohproduktes in 117 Teilen heißem absolutem Alkohol
gab man 11.4 Teile KAsF6 und 10 Teile Wasser hinzu.
Die Reaktionsmischung wurde gerührt und noch mehr Wasser hinzugegeben, um die Ausfällung des Produktes
zu bewirken. Das Produkt wurde filtriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Man erhielt ein Material mit
einem Schmelzpunkt von 245 bis 251°C. Nach dem Herstellungsverfahren und der Elementaranalyse für
C21H27OjSAsF6. errechnet 49.3% C, 4,62% H. 5,48% S
und gefunden 49.4% C. 4,59% H und 5,55% S, war das Produkt Tris-3,5-dimethyl-4-hydroxyphenylsulfoniurphexafluoroarsenat.
Von dem obigen Oniumsalz wurde eine 3%ige Lösung in 4-Vinylcyclohexendioxyd hergestellt. Die
Härtung der Lösung wurde durch Bestrahlen eines 0,05 mm dicken Filmes auf Glas gemäß dem in Beispiel 3
beschriebenen Verfahren bewirkt. Nach 5 Sekunden Bestrahlung erhielt man eine harte, beschädigungsbeständige Beschichtung.
3 Teile Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat wurden zu einem feinen Pulver gemahlen. Das Pulver wurde
gründlich mit 97 Teilen eines handelsüblichen pulverförmigen Beschichtungsharzes vermischt, indem man diese
30 Minuten hin- und herrollte. Das Pulver wurde elektrostatisch mittels einer GEMA Modell 171
Sprühkanone auf 7,5 χ 15 cm große Stahlplatten in
Form einer 0,05 mm dicken Beschichtung aufgesprüht Danach erhitzte man die Proben kurz auf 1500C, um das
Pulver zu schmelzen, und dann setzte man es heiß einer Bestrahlung aus einer GE H3T7-Lampe aus einer
Entfernung von 7,5 cm aus. Die gehärteten Proben wurden nach 15 Sekunden Bestrahlung erhalten. Die
Filme hafteten und waren beschädigungsbeständig.
Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat wurde zu einer Mischung von 67 Gew.-% eines Novolak-Epoxyharzes
mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 172 bis 178,33%
4-Vinylcyclohexendioxyd und 0,5% eines oberflächenaktiven Mittels hinzugegeben. Die erhaltene Mischung
enthielt etwa t Gew.-% des Oniumsalzes. Ein 0,0025 mm dicker Film wurde auf 7,5 χ 15 cm große Stahlplatten
aufgebracht und 20 Sekunden mit GE H3T7-Lampen aus einer Entfernung von 10 cm gehärtet. Einige der
Platten wurden danach 5 Stunden bei Zimmertemperatur in Methylenchlorid eingetaucht, und andere Platten
wurden 4 Stunden in Aceton eingetaucht. In allen Fällen wurde kein sichtbares Zeichen eines Lösungsmittelangriffes
aul die Beschichtungen beobachtet. Diese wurden dann I Stunde auf 160°C erhitzt. Weiler wurden
getrennte Versuche in siedender 50%iger KOH-Lösung für 30 Minuten und in siedendem destillierten Wasser
für *t Stunden ausgeführt. Wieder «"jrdp kpin sichtbarer
Abbau der Beschichtungen beobachtet.
| Konzentration | Viskosität in | Viskosität \\i |
| in % | Centipoise zu | Centipoise nach |
| Beginn | 336 Stunden | |
| (- | 6,06 | 6,06 |
| I | 6,26 | 0,34 |
| 3 | 6,90 | 6,90 |
| 5 | 7,65 | 7,59 |
| 10 | 9,80 | 9,71 |
| bei 55°C: | ||
| Konzentration | Viskosität in | Viskosität in |
| in "■< | Centipoise zu | Centipoise nach |
| Beginn | 336 Stunden | |
| 0 | 6,06 | 6,06 |
| 1 | 6,42 | 6,37 |
| / f\\ | c m | |
| j | ΙΪ. 7 1 | |
| 5 | 7,65 | 7,67 |
| 10 | 9.75 | 9,71 |
Mischungen von Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat in 4-Vinylcyclohexendioxyd mit einer Konzentration
von 0—10% Oniumsalz wurden thermisch bei 25 und
55°C gealtert. Die Viskositäten der Mischungen wurden über eine Periode von 2 Wochen (336 Stunden)
gemessen. Dabei wurden die folgenden Ergebnisse bei 25°C erhalten:
Innerhalb der experimentellen Fehlerbreite zeigen die obigen Ergebnisse, daß im wesentlichen keine
Viskositätsveränderung während der Testzeit bei einer Temperatur im Bereich von 25 bis 55°C auftrat.
Die obigen Beispiele geben nur einige von sehr vielen härtbaren Zusammensetzungen und Verwendungsarten
davon, die im Rahmen der Erfindung möglich sind, wieder. So fällt auch der Gebrauch von Oniumpolymeren
mit einer Gruppe Vla-Oniumfunktionalität als Teil der Polymerhauptkette oder in einer Seitenstellung in
den Rahmen der Frfindung.
Claims (1)
1. Härtbare Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch:
a) ein Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist und
b) eine wirksame Menge eines strahlungsempfindlichen, aromatischen Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe VIa des Periodensystems ι ο
oder einer Mischung solcher Oniumsalze der allgemeinen Formel
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US46637474A | 1974-05-02 | 1974-05-02 |
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| DE2518652A1 DE2518652A1 (de) | 1975-11-06 |
| DE2518652C2 true DE2518652C2 (de) | 1983-05-11 |
Family
ID=23851510
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| DE19752518652 Expired DE2518652C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Härtbare Zusammensetzungen |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JPS5214278B2 (de) |
| BE (1) | BE828670A (de) |
| DE (3) | DE2518652C2 (de) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OI | Miscellaneous see part 1 | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 2559718 Format of ref document f/p: P |
|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| AH | Division in |
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|
| 8328 | Change in the person/name/address of the agent |
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