DE2518749C2 - Fotopolymerisierbare Zusammensetzungen, Verfahren zum Fotopolymerisieren dieser Zusammensetzungen und deren Verwendung - Google Patents
Fotopolymerisierbare Zusammensetzungen, Verfahren zum Fotopolymerisieren dieser Zusammensetzungen und deren VerwendungInfo
- Publication number
- DE2518749C2 DE2518749C2 DE2518749A DE2518749A DE2518749C2 DE 2518749 C2 DE2518749 C2 DE 2518749C2 DE 2518749 A DE2518749 A DE 2518749A DE 2518749 A DE2518749 A DE 2518749A DE 2518749 C2 DE2518749 C2 DE 2518749C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- organic
- cyclic
- organic material
- radiation
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- -1 cyclic sulfides Chemical class 0.000 claims description 38
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 30
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 18
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 17
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-phenylpropan-1-one Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(=O)C1=CC=CC=C1 VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- NZNQMPZXPUKVSQ-UHFFFAOYSA-N [O].C1CO1 Chemical compound [O].C1CO1 NZNQMPZXPUKVSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 2-methylthiirane Chemical compound CC1CS1 MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- VYQVAVNKQCPAOF-UHFFFAOYSA-M triphenylselanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[Se+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VYQVAVNKQCPAOF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- IOHJRUFWMYLKED-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-trimethylazetidine Chemical compound CN1CC(C)(C)C1 IOHJRUFWMYLKED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQBRSCDCSOKQHR-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopropylethenylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C)C1CC1 VQBRSCDCSOKQHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2,2-bis(ethenoxymethyl)butane Chemical compound C=COCC(CC)(COC=C)COC=C CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMHMYHJGDAHKX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrene Chemical compound C1=C2C(C=C)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 WPMHMYHJGDAHKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethenylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=C)C1=CC=CC=C1 ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUPNETROUIFFFS-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1(C)O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O1 XUPNETROUIFFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCZJVDBARVKKFU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[SiH2]O[SiH2]O1 BCZJVDBARVKKFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QESYYRDPBSQZHZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-9h-fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C=C)C=C3CC2=C1 QESYYRDPBSQZHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(chloromethyl)oxetane Chemical compound ClCC1(CCl)COC1 CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052781 Neptunium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- YTEISYFNYGDBRV-UHFFFAOYSA-N [(dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)(C)O[Si](C)C YTEISYFNYGDBRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTJGTSOTDBPDE-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(methylsilyloxy)silyl]oxy-dimethyl-trimethylsilyloxysilane Chemical group C[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C NRTJGTSOTDBPDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical compound O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M chlorogallium Chemical compound [Ga]Cl XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWFBNMYFYINAD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopropane Chemical compound C=CC1CC1 YIWFBNMYFYINAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000005414 inactive ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- LFNLGNPSGWYGGD-UHFFFAOYSA-N neptunium atom Chemical compound [Np] LFNLGNPSGWYGGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVZWVEKIQMJYIK-UHFFFAOYSA-N nitryl chloride Chemical compound [O-][N+](Cl)=O HVZWVEKIQMJYIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- UHHKSVZZTYJVEG-UHFFFAOYSA-N oxepane Chemical compound C1CCCOCC1 UHHKSVZZTYJVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N p-Vinylbiphenyl Chemical group C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ORQWTLCYLDRDHK-UHFFFAOYSA-N phenylselanylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Se]C1=CC=CC=C1 ORQWTLCYLDRDHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229960000380 propiolactone Drugs 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000002966 serum Anatomy 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910001495 sodium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003413 spiro compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007984 tetrahydrofuranes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
- B32B5/22—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed
- B32B5/24—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being a fibrous or filamentary layer
- B32B5/26—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being a fibrous or filamentary layer another layer next to it also being fibrous or filamentary
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2260/00—Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
- B32B2260/02—Composition of the impregnated, bonded or embedded layer
- B32B2260/021—Fibrous or filamentary layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2260/00—Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
- B32B2260/04—Impregnation, embedding, or binder material
- B32B2260/046—Synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2262/00—Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
- B32B2262/10—Inorganic fibres
- B32B2262/101—Glass fibres
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/08—PCBs, i.e. printed circuit boards
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/115—Cationic or anionic
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft fotopolymerisierbare Zusammensetzungen, bestehend aus einem monomeren oder
vorpolymerisierten kationisch polymerisierbaren organischen Material und einer wirksamen Menge eines
strahlungsempfindlichen Salzes, das die Polymerisation des organischen Materials bewirkt, wenn es Strahlungsenergie
ausgesetzt wird, sowie ggf. üblichen Zusätzen.
In der DE-AS IJ 01 512 sind Zusammensetzungen der
eingangs genannten Art beschrieben, bei der das strahlungsempfindliche Salz in der Zusammensetzung
löslich und ausgewählt ist aus der Gruppe der fluorierten alkansulfonsauren Salze der Formel RSOjM,
worin R ein einwertiges Silber- oder Thalliumkation ist und R eine Pcrfluoralkylgruppe und der Salze einer
Polyborsäure der dort angegebenen Formel. Zusätzlich müssen die Zusammensetzungen nach der DE-AS
13 01 512 ein Halogenidpromotor enthalten, denn ohne Halogenidpromotor sind die genannten Metallsalze
nicht in der Lage, die fotoinitierte Polymerisation in technisch brauchbarer Weise zu bewirken, wie sich aus
der Tabelle in den Spalten 15 und 16 ergibt, wo in Zeile 7
das Polyborat Ag2Bi0CIiO ohne Halogenidpromotor
etwa 17,5 Stunden bis zum Polymerisationsbeginn benötigt und sich der vorletzten Zeile entnehmen läßt,
daß bei dem Salz CF3CHFCf2SO3TI ohne Halogenidpromotor
nach l'/2 Stunden noch keine Polymerisation begonnen hatte.
In den US-Patentschriften 37 08 296 und 37 94 576 sind Verfahren zum Fotopolymerisieren beschrieben,
für die man strahlungsempfindliche Diazoniumsalze verwendet. Diese fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen
sind jedoch insbesondere unter Tageslicht nicht ausreichend lagerfähig. Es muß daher ein Stabilisator
verwendet werden, um die Lagerfähigkeit dieser fotopolymerisierbaren Mischung zu verlängern. Außerdem
wird während des Härtens Stickstoff erzeugt, der das Produkt in verschiedenen Anwendungsfällen ungeeignet
machen kann.
Der Erfindung lag daher die Aufgabe zugrunde, auch ohne Zusatz eines Stabilisators lagerfähige Zusammensetzungen
der eingangs genannten Art zu schaffen, die sehr viel schneller fotopolymerisierbar sind als die
Zusammensetzungen nach der DE-AS 13 01 512.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das polymerisierbare organische Material frei von
Äthylenoxidsauerstoff und ausgewählt ist aus der Gruppe der organischen Vinylmonomeren, organischen
Vinylvorpolymeren, organischen cyclischen Äthern, organischen cyclischen Estern, organischen cyclischen
Sulfiden, cyclischen Aminen und cyclischen Organosiliziumverbindungen und daß das strahlungsempfindliche
Salz ein aromatisches Oniumsalz eines Elements der Gruppe VIa des Periodensystems ist.
Die vorliegende Erfindung beruht auf der Feststellung, daß gewisse strahlungsempfindliche aromatische
Oniumsalze der Elemente der Gruppe VIa des Periodensystems fähig sind, die Polymerisation gewisser
organischer Materialien bewirken, wenn man sie Strahlungsenergie aussetzt. Anders als die fotopolymerisierbaren
Zusammensetzungen, welche die oben genannten Diazoniumsalze enthalten, erfordern die
fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung, die in Form eines Feststoffes oder
einer Flüssigkeit vorliegen können, keinen Stabilisator. so Selbst nach ausgedehnten Lagerungszeiten unter
normalen Tageslichtbedingungen zeigen die fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen nach der vorliegenden
Erfindung keine merkliche Veränderung in den Eigenschaften. Außerdem gibt es kein Problem mit der
Blasenbildung wie bei den Zusammensetzungen, die Diazoniumsalze enthalten.
Die aromatischen Oniumsalze der Elemente der
Gruppe VIa des periodischen Systems, die in den fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen der vorlic-
bo genden Erfindung benutzt werden, sind spezifischer
durch die folgende Formel definiert
(D
b5 worin R ein einwertiger aromatischer Rest, R1 ein
einwertiger organischer aliphatischer Rest, ausgewählt aus Alkyl, Cycloalkyl und substituiertem Alkyl, R2 ein
mehrwertiger organischer Rest, der eine heterocycli-
sehe oder eine kondensierte Ringstruktur bildet, ausgewählt aus aliphatischen und aromatischen Resten,
X ein Element der Gruppe VIa des Periodensystems ist, ausgewählt aus Schwefel, Selen und Tellur, M ein Metall
oder Nichtmetall ist, Q ein Halogenrest ist, a eine ganze
Zahl von 0 bis einschließlich 3, b eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2, cO oder 1 ist, wobei die Summe von
a + b+c einen Wert von 3 hat oder gleich der Wertigkeit von X ist, d=e-fist, wobei /gleich der
Wertigkeit von M und damit eine ganze Zahl von 2 bis einschließlich 7 ist, und e größer als /"ist und damit eine
ganze Zahl mit einem Wert bis zu 8.
Beispiele von Resten für R sind aromatische Kohlenwasserstoffreste mit 6 bis 13 Kohlenstoffatomen,
wie Phenyl, Tolyl, Naphthyl, Anthryl, sowie solche
Reste, die mit ein bis vier einwertigen Resten substituiert sind, wie Alkoxy mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen,
Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Nitro, Chlor, Hydroxy, Arylacyl-Reste, wie Benzoyl, Phenylacyl,
aromatische heterocyclische Reste, wie Pyridyl, Furfuryl. Beispiele von Resten für R1 sind Alkylreste mit 1 bis
8 Kohlenstoffatomen und substituierte Alkylreste, wie
-C2H4OCH3 -CH2COOC2H5
-CH2COCH3.
-CH2COCH3.
Die Reste für R2 schließen solche Sliukturen ein, wie
Komplexe Anionen der Gruppierung [MQJ-'*-''''der
obigen Formel 1 sind z. B. BF4-, AsF6-, SbF6-. FeCI4-,
SnCI6--, SbCl6-, BiCl5-, PF6-, AlF6-", GaCI4-, InF4-,
TiF6--, ZrF6--, worin M ein Übergangsmetall ist, wie
Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ga, In, Ti, Zr, Sc, V, Cr, Mn, Cs, Seltene Erden, wie die Lanthaniden, z. B. Ce, Pr, Nd, die
Aktiniden, wie Thorium, Protaktinium, Uran, Neptunium und Nichtmetalle, wie Bor, Phosphor, Arsen.
Beispiele für Oniumsalze von Elementen der Gruppe VIa gemäß der obigen Formel I sind die folgenden:
Il .,
C-CH2-S
BF7
BF4-
AsFT
SbFT
FeCl4"
SnCl6"
Sb Ci:
BiCl5"
BF4"
PFT
Außer den vorgenannten Salzen können auch Oniumpolymere Verwendung finden, bei denen das die
Oniumgruppierung bildende Element der Gruppe VIa des Periodensystems der Elemente in der Hauptkette
oder in einer Scitenposition angeordnet ist. .
Oniumsalze von Elementen der Gruppe VIa der
l-'ormel I sind bekannt, und sie können hergestellt
werden nach Verfahren, die in folgenden Druckschriften beschrieben sind: Journal American Chemical Society,
91,145 (1969), journal Organic Chemistry 35, No. 8,2532
(1970), US-PS 28 07 648, BuI. Soc. Chim. BeIg, 73, 546
(1964) und Journal American Chemical Society, 51,3587 (1929).
Zu den organischen Vinylmonomeren, die im Rahmen der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden können,
um die fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen herzustellen, die in thermoplastische Poiymere umwandelbar
sind, gehören z. B. Styrol, Vinylacelamid, Λ-Methylstyrol, Isobutylvinyläther, n-Octylvinyläther,
Acrolein, 1,1-DiphenyläthyIen, 0-Pinen, Vinyl-substituierte
aromatische Kohlenwasserstoffe, wie 4-Vinylbiphenyl, 1-Vinylpyren, 2-Vinylfluoren, Acenaphthylen, 1-
und 2-Vinylnaphthylen sowie 9-Vinylcarbazol, Vinylpyrrolidon,
3-Methyl-l-Buten, ferner Vinyl-substituierte
cycloaliphatische Verbindungen, wie Vinylcyclohexan, Vinylcyclopropan, 1-Phenylvinylcyclopropan und Diene
wie Isobutylen, Isopren, Butadien, 1,4-Pentadien.
Einige der organischen Vinylvorpoiymeren, die zur
Herstellung der polymerisierbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden
können, sind z. B.
CH2=CH-O-(CH2-CH2O)n-CH =
worin π eine positive ganze Zahl mit einem Wert bis zu 1000 oder mehr ist, ferner multifunktionelle Vtnyläther,
wie 1,2,3-Propantrivinyläther, Trimethylolpropantrivinyläther
und Vorpolymere der Formel
CH2--
CH = CH2
sowie Polybutadien geringen Molekulargewichts mit einer Viskosität von 200 bis lOOOOCentipoise bei 25°C
usw. Die durch Härten solcher Zusammensetzungen erhaltenen Produkte können z. B. als Harze zum
Einbetten, vernetzte Beschichtungen, Drucktinten verwendet werden.
Eine weitere Kategorie organischer Materialien, die zur Herstellung polymerisierbarer Zusammensetzungen
verwendet werden können, sind in thermoplastische Massen umwandelbare cyclische Äther. Zu solchen
cyclischen Äthern gehören z. B. Oxetane wie 3,3-Bischlormethyloxetan,
Alkoxyoxetane, wie in der US-PS 36 73 216 beschrieben, Oxolane, wie Tetrahydrofuran,
Oxepane, sauerstoffhaltige Spiroverbindungen, Trioxan, Dioxolan.
Zusätzlich zu den cyclischen Äthern können auch cyclische Ester verwendet werden, wie j9-Laktone, z. B.
Propiolakton, weiter cyclische Amine wie 1,3,3-Trimethylazetidin und cyclische Organosiliziumverbindungen,
wie Materialien der folgenden Formel:
R2 1SiO-
worin R" gleiche oder verschiedene einwertige organische ReMe sein können wie Methyl oder Phenyl
und m eine gaiize Zahl von 3 bis einschließlich 8 ist. Ein
Beispiel einer cyclischen Organosiliziumverbindung ist Hexamethyltrisiloxan, ein weiteres Beispiel ist Octamethyltetrasiloxan.
Die gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellten Produkte sind öle oder Kautschuke hohen
Molekulargewichts.
Die fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung können z. B. als Formmassen,
Klebstoffe, Drucktinten, Dichtungsmassen Verwendung finden.
In besonderen Fällen, je nach der Verträglichkeit des Oniumsalzes mit dem organischen Material, kann das
Oniumsalz in einem organischen Lösungsmittel aufgelöst oder dispergiert werden, wie Nitromethan. Methylenchlorid,
Acetonitril, bevor es in das organische Material eingearbeitet wird. Die Erfahrung hat gezeigt,
daß der Anteil des Oniumsalzes zum organischen Material in weitem Rahmen variieren kann, da das Salz
im wesentlichen inert ist, wenn es nicht aktiviert wird. Wirksame Ergebnisse wurden erhalten, wenn man z. B.
einen Anteil von 0,1 bis 15 Gew.-°/o des Oniumsalzes anwendete, bezogen auf das Gewicht der polymerisierbaren
Zusammensetzung. Höhere oder geringere Mengen können verwendet werden, doch hängen sie
von solchen Faktoren ab, wie dem organischen Material, der Intensität der Bestrahlung, der erwünschten
Polymerisationszeit.
Es wurde festgestellt, daß die Oniumsalze der Formel I in situ in Gegenwart des organischen Materials
erzeugt werden können, wenn dies erwünscht ist. So kann z. B. ein Oniumsalz der Formel
(H)
worin R, R1, R2, X, a, buna cdie vorgenannte Bedeutung
haben und Q'ein Anion ist, wie Cl-, Br-, J-, F-, HSO4-
und NO3-, getrennt oder gleichzeitig mit einer Lewissäure der Formel M'(MQ) in das organische
Material eingeführt werden, wobei M und Q die obige Bedeutung haben und M' ein Alkalimetall ist, wie Na, K,
ein Erdalkalimetall, wie Ca, Mg. oder eine organische Base, wie quaternäres Ammonium, Pyridinium.
Die fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen können inaktive Bestandteile enthalten, wie Siliziumdioxyd-Füllstoffe,
Farbstoffe, Streckmittel, Viskositätskontrollmittel, Verarbeitungshilfsmittel in Mengen von
bis zu 100 Teilen Füllstoff pro 100 Teile des organischen
Materials.
Die Polymerisation kann ganz generell durch Aktivieren des Oniumsalzes bewirkt werden. Obwohl
diese Aktivierung des Oniumsalzes auch durch Erhitzen der Zusammensetzung auf eine Temperatur im Bereich
von 150 bis 250°C erfolgen kann, erreicht man sie erfindungsgemäß indem man die härtbare Zusammensetzung
unter üblichen Bedingungen mit UV-Licht bestrahlt.
Die Polymerisation der Zusammensetzung wird bevorzugt erreicht durch Verwendung einer UV-Strahlung
mit einer Wellenlänge von 1849 bis 4000 Ä. Die zur Erzeugung solcher Strahlen benutzten Lampensysteme
können aus UV-Lampen bestehen, wie 1 bis 50 Entladungslampen mit z. B. Xenon, Metallhalogenid und
bo metallischem Bogen, wie Quecksilberdampfentladungslampen
geringen, mittleren oder hohen Druckes, die einen Betriebsdruck von wenigen Millimetern bis zu
etwa 10 Atmosphären haben. Die Lampen können Umhüllungen aufweisen, die Licht einer Wellenlänge,
vorzugsweise von 2400 bis 4000 Ä, durchlassen. Der Lampenkolben kann aus Quarz bestehen. Typische
Lampen, die zur Erzeugung der Ultraviolettstrahlung verwendet werden, sind z. B. Quecksilberbogenlampen
mit mittlerem Druck. Die Härtungen können mit einer Kombination verschiedener Lampen ausgeführt werden,
von denen einige oder alle in einer inerten Atmosphäre arbeiten. Benutzt man UV-Lampen, dann
kann die Bestrahlungsdichte in dem Substrat mindestens 0,01 Watt pro 6,25 cm2 betragen, um die Polymerisation
des organischen Materials innerhalb von I bis 20 Sekunden zu bewirken und eine kontinuierlich ausgeführte
Härtung z. B. eines mit multifunktionellem Vinyläther beschichteten Stahlstreifens oder Papiergewebes
bis zu einer Geschwindigkeit von 30 bis 180 m pro Minute zu gestatten. Der Streifen kann zu einer
vorbestimmten Breite geschnitten werden und als gedrucktes Material verwendet werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläuten. Alle angegebenen Teile sind
Gewichtsteile.
Unter einer Stickstoffatmosphäre wurden 0,2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluorphosphat zu 39 Teilen
Tetrahydrofuran hinzugegeben. Die Mischung wurde dann für 10 Minuten einer UV-Bestrahlung einer
handelsüblichen Quecksilberbogenlampe mittleren Druckes ausgesetzt, und danach ließ man die Polymerisationsmischung
4 Stunden stehen. Man erhielt ein zähes Polymeres mit einer grundmolaren Viskositätszahl von 3,7 dl/g in Benzol bei 25°C. Das Polymere
wurde zu einem außerordentlich zähen elastischen Film mit Hilfe von Hitze und Druck verarbeitet.
Triphenylselenoniumchlorid wurde gemäß dem Verfahren von H. M. Leicester und F. W. Bergström in
Journal American Chemical Society, 51, 3587 (1929), aus Diphenylselenid hergestellt. Die entsprechenden Fluoroborat-,
Hexafluoroarsenat- und Hexafluoroantimonat-Salze wurden durch Hinzugeben von Natriumhexafluoroarsenat,
Natriumtetrafluoroborat und Kaliumhexafluoroantimonat
zu einer wäßrigen Lösung des Triphenylselenoniumchlorids hergestellt. Die Produkte
waren weiße kristalline Feststoffe, die im Vakuum getrocknet wurden.
Dreiprozentige Lösungen der obigen Salze in Äthylenglycol-divinyläther wurden als 0,05 mm dicke
Filme auf Stahlplatten in einem Abstand von 15 cm von einer handelsüblichen Quecksilberbogenlampe mittleren
Druckes gehärtet. Die folgenden Härtungszeiten wurden beobachtet:
Salz
Härtungs-
(C6Hs)3Se+BF4"
(C6Hs)3Se+AsF6-
(C6Hs)3Se+SbF6-
5 Sek. 3 Sek. 2 Sek.
Die auf den Stahlplatten gebildeten Filme erwiesen sich als in Aceton unlöslich.
bei Zimmertemperatur gerührt, dann ließ man sie sich absetzen und entnahm einen Teil der Lösung mit Hilfe
einer Pipette. Die strahlungsempfindlich gemachte Lösung wurde mit Hilfe eines Messers auf eine
Stahlplatte der Größe 7,5 χ 15 cm in einer Dicke von 0,005 mm aufgetragen und dann wie in Beispiel 2
beschrieben gehärtet. Man erhielt eine harte klare Beschichtung innerhalb von 3 Sekunden, die nicht
entfernt werden konnte, wenn man sie mit Aceton rieb. Der beschichtete Stahl konnte als Schichtstoff zur
Herstellung von Transformatoren eingesetzt werden.
BeispieI 4
Ein Bruchteil der in Beispiel 3 hergestellten Lösung wurde auf Glas aufgebracht zur Herstellung eines
0,025 mm dicken Filmes. Über dem Film wurde eine perforierte Maske angeordnet und das Ganze 5
Sekunden bestrahlt. Nach dem Bestrahlen wurde das beschichtete Substrat mit Isopropanol gewaschen. Es
verblieb ein klares Negativbild der Maske als polymerisierter Film.
Gemäß dem vorgenannten Verfahren kann die härtbare Zusammensetzung als negativer Photoresistlack
in besonderen Anwendungen und für die Herstellung von Druckplatten verwendet werden.
Glasgewebe wurd.; mit einer Mischung von 97 Teilen Diäthylenglycoldivinyläther und 3 Teilen Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat
imprägniert. Zwei 15 χ 15 cm große Quadrate des imprägnierten Glasgewebes
wurden zusammengelegt und jede Seite unter Benutzung der in Beispiel 2 angegebenen Lampe 30
Sekunden bestrahlt. Der erhaltene harte und steife Schichtstoff war unter Bildung eines Ganzen miteinander
verbunden. Zu dem Schichtstoff wurde ein weiteres 15xl5cm großes Quadrat imprägnierten Gewebes
hinzugegeben. Es wurde auch durch Bestrahlen mit UV-Licht über eine Zeit von 30 Sekunden gehärtet. Der
erhaltene Schichtstoff, der aus drei Schichten von Glasgewebe zusammengesetzt war, konnte für Schaltbrett-Anwendungen
eingesetzt werden.
4^ Es wurden 0,2 Teile Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat
zu einer Mischung hinzugegeben, die zusammengesetzt war aus 8 Teilen Dimethylcyclotrisiloxan
und 2 Teilen Dimethylcyclotetrasiloxan. Diese Mischung wurde dann mit Stickstoff gespült. Die Polymerisation
wurde eingeleitet, indem man die strahlungsempfindlich gemachte Lösung einer UV-Bestrahlung aus einer
Hanovia 450-Watt-Lampe in einem Abstand von 7,5 cm für 10 Minuten aussetzte. Die Mischung wurde von der
Bestrahlung weggenommen, und man ließ sie einen Tag lang stehen. Es wurde eine hochviskose Polymermischung
erhalten, die durch Eingießen der Lösung in Methanol isoliert wurde. Man erhielt ein viskoses
Silikonöl, das brauchbar war, einer Anzahl verschiedener Substrate verbesserte Oberflächeneigenschaften zu
verleihen.
B e i s ρ i e 1 3 Es wufden °·3 Teile Triphenylsulfoniumtetrafluorobo-
rat zu einer Mischung von 15 Teilen Trimethylolpropan-
Es wurden drei Teile Natriumhexafluoroarsenat und 6 65 trivinyläther und 0,4 Teilen Ruß hinzugegeben. Die
Teile einer 50%igen Lösung von Triphenylsulfonium- "
chlorid zu 97 Teilen Diäthylenglycol-divinyläther
chlorid zu 97 Teilen Diäthylenglycol-divinyläther
hinzugegeben. Die Mischung wurde mehrere Stunden Mischung wurde 3 Stunden auf einer Kugelmühle
gerührt und danach zum Drucken auf weißem Papier benutzt. Das Bestrahlen des bedruckten Papiers mit
230 242/230
20
ultraviolettem Licht in einer Entfernung von 7,5 cm von einer handelsüblichen Quecksilberbogenlampe mittleren
Druckes verursachte ein Trocknen des Aufdruckes innerhalb von 1 bis 2 Sekunden.
Es wurde aus 2% Phenylacetyltetramethylsulfoniumfluoroborat,
97,5% Äthylenglycol-divinyläther und 0,5% eines oberflächenaktiven Mittels eine Mischung zubereitet.
Diese Mischung wurde so lange gerührt, bis sie ;!1
homogen war. Dann trug man sie auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte auf unter Verwendung eines Ziehmessers
mit einer 0,005 mm großen Öffnung. Nachdem man die aufgebrachte Mischung einer UV-Bestrahlung mit
einer Intensität von 200 Watt/6,25 cm2 für eine Sekunde ausgesetzt hatte, war auf der Oberfläche der Stahlplatte
ein harter Film entstanden. Dieser Film konnte nicht entfernt werden, obwohl die Platte wiederholt in Aceton
eingetaucht und mit einem Tuch gerieben wurde.
Eine 30 :70-Mischung von 1,2,3-Propantrivinyläther
und Diäthylenglycol-divinyläther wurde mit 3 Teilen Phenacyltetramethylensulfoniumfluoroborat strahlungsempfindlich
gemacht. Diese Mischung wurde auf eine Folie aus Polycarbonat aufgetragen unter Verwendung
eines Ziehmessers mit einer 0,005-mm-Öffnung. Die Beschichtung wurde für 5 Sekunden, wie in Beispiel
2 beschrieben, gehärtet. Man erhielt eine Polycarbonatfolie mit einer transparenten, kratzbeständigen Be- ^o
Schichtung, die durch Reiben mit Aceton nicht entfernt werden konnte.
Eine Mischung von 0,1 Teil Triphenylsulfoniumfluoroborat
und einer Lösung von 13,3 Teilen rekristallisiertem N-Vinylcarbazol in 39 Teilen Methylenchlorid
wurde unter einer Stickstoffatmosphäre abgedichtet. Die Mischung wurde 10 Minuten aus einer Entfernung
von 7,5 cm mit einer handelsüblichen 450-Watt-Quecksilberbogenlampe
mittleren Druckes bestrahlt, während sie in ein Eisbad eingetaucht war. Dann ließ man die
Mischung stehen. Es lief eine exotherme Polymerisation ab, die zu einer hoch viskosen Lösung führte. Nach 3
Stunden goß man die Polymerlösung in Methanol. Nach dem Filtrieren, Waschen und Trocknen isolierte man 13
Teile Polyvinylcarbazol.
Eine Polymerisationsmischung aus 26,6 Teilen frisch destillierten Styrols, 0,20 Teilen Triphenylsulfoniumhexafluorarsenat
und 6,5 Teilen destilliertem Methylenchlorid wurde iinter Stickstoff 10 bis 15 Minuten mit
einer handelsüblichen 450-Watt-Quecksilberbogenlampe mittleren Druckes bestrahlt. Es fand eine rasche
exotherme Polymerisation statt, und man ließ die Polymerisationsmischung im Dunkeln 5 Stunden lang
stehen. Die viskose Reaktionsmischung wurde in Methanol gegossen und das feste Polymer filtriert und
gewaschen. Ein weißes Polystyrol mit einer grundmolaren Viskositätszahl von 0,16 dl/g in Benzol wurde
erhalten.
Eine Mischung von 11,4 Teilen a-Methylstyrol, 0,11
Teilen Triphenylsulfoniumhexafiuorantimonat und 26 Teilen Methylenchlorid wurde 2,5 Stunden gemäß dem
in Beispiel 11 beschriebenen Verfahren bestrahlt Die
erhaltene hochviskose Polymerlösung wurde abgeschreckt, indem man eine geringe Menge Methanol
dazugab. Es wurde ein Produkt isoliert, indem man die Lösung in eine große Menge Methanol eingoß. Nach
dem Trocknen erhielt man 11,4 Teile polymerisierten m-Methylstyrols. das als Formharz brauchbar war.
Es wurde eine Drucktinte zubereite! durch Vermischen von 2.5 Teilen Glyzcrimrivinylälher, 3 Teilen 3,5-
Dimethyl-4-hydrn\v "henyldimcthylsulfoniumfluoroborat
und 5 r ic π en.es roten Fluoreszenzpigments.
Diese Komponenten wurden als Tinte zum Drucken auf weißem Papier verwendet. Das bedruckte Papier wurde
3 Sekunden einem UV-Licht ausgesetzt, und man erhielt ein klares, trockenes, nicht verschmierbares gedrucktes
RiId
Eine Mischung von 21 Teilen N-Vinylpyrrolidon und
0,63 Teilen Triphenylsulfoniumfluoroborat wurde 13 Minuten mit einer handelsüblichen Quecksilberbogenlampe
mittleren Druckes bestrahlt. Die Lösung wurde sehr viskos, und man ließ sie im Dunklen zwei Tage bei
Raumtemperatur stehen. Es bildete sich ein Polymer mit einer grundmolaren Viskositätszahl von 0,29 dl/g in
Wasser.
Eine Mischung von 9,2 Teilen rekristallisiertem Trioxan, 26 Teilen Methylenchlorid und 0,6 Teilen
Triphenylsulfoniumfluoroborat wurde eine Stunde mit gefiltertem UV-Licht aus einer handelsüblichen Quecksilberbogenlampe
mittleren Druckes bestrahlt. Es bildete sich ein weißer, pulverartiger Niederschlag. Man
ließ die Lösung dann 8 Stunden im Dunkeln stehen. Das ausgefallene Polymer wurde filtriert und getrocknet.
Man erhielt 7 Teile Polyoxymethylen.
Eine Lösung von Diäthylenglycoldivinyläther, die 2 Gew.-% Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat enthielt,
wurde auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte aufgebracht.
Es wurde eine perforierte Maske über der Beschichtung angebracht und das Ganze mit UV-Licht
aus einer handelsüblichen Quecksilberbogenlampe mittleren Druckes aus einer Entfernung von 10 cm
bestrahlt. Nach einem Bestrahlen von 5 Sek. wurde die Maske weggenommen und die Platte mit Isopropanol
gewaschen. Es wurde ein klares, erhabenes negatives Bild der Maske gebildet.
Dieses Beispiel veranschaulicht die Polymerisation eines cyclischen organischen Sulfids, nämlich von
Propylensulfid.
Propylensulfid wurde über Nacht mit Calciumhydrid getrocknet und dann unter trockenem Stickstoff
destilliert. Sein Siedepunkt lag bei 75,5 bis 76° C
Eine Mischung von 0,051 g Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat und 3,7 g Propylensulfid wurde 10
Minuten lang mit einer handelsüblichen 450-Watt-Quecksilberbogenlampe mit mittlerem Druck aus einer
Entfernung von 5 cm bestrahlt. Die Polymerisationsmischung wurde in einem 20 χ 13 cm großen Quarzrohr
mit Hilfe einer Gummi-Serumkappe abgedichtet Die Polymerisation verlief sehr exotherm. Nach Beendigung
der 13minütigen Bestrahlung wurde die Reaktionsmi-
schung unter Verwendung einer Lösung von Animoniumhydroxid
in Methanol abgeschreckt. Man erhielt durch Eingießen der Reaktionsmischung in Methanol
ein hochviskoses Polymer. Nach dem Trocknen im Vakuum erhielt man Polypropylensulfid in 14,8%iger ■>
Ausbeute.
Claims (5)
1. Fotopolymerisierbare Zusammensetzung, bestehend aus einem monomeren oder vorpolymerisierten
kationisch pol merisierbaren organischen Material und einer wirksamen Menge eines strahlungsempfindlichen
Salzes, das die Polymerisation des organischen Materials bewirkt, wenn es Strahlungsenergie ausgesetzt wird, sowie ggf.
üblichen Zusätzen, dadurch gekennzeichnet, daß das polymerisierbare organische Material
frei von Äthylenoxidsauerstoff und ausgewählt ist aus der Gruppe der organischen Vinylmonomeren,
organischen Vinylvorpolymeren. organischen cyclischen Äthern, organischen cyclischen Estern, organischen
cyclischen Sulfiden, cyclischen Aminen und cyclischen Organosiliziumverbindungen und daß das
strahlungsempfindliche Salz ein aromatisches Oniumsalz eines Elements der Gruppe VIa des
Periodensystems ist.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Vinylvorpolymere
ein Polyvinyläther ist.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das aromatische
Oniumsalz Triphenylsuifoniumhexafluorarsenat ist.
4. Verfahren zum Fotopolymerisieren einer Zusammensetzung nach Anspruch 1 —3, bestehend
aus einem monomeren oder vorpolymerisierten kationisch polymerisierbaren organischen Material
und einer wirksamen Menge eines strahlungsempfindlichen Salzes, das die Polymerisation des
organischen Materials bewirkt, wenn es Strahlungsenergie ausgesetzt ist, sowie ggf. üblichen Zusätzen,
dadurch gekennzeichnet, daß man eine Mischung aus einem älhylenoxidsauerstofffreien organischen
Material, das ausgewählt ist aus der Gruppe der organischen Vinylmonomeren, organischen Vinylvorpolymeren,
organischen cyclischen Äthern, organischen cyclischen Estern, organischen cyclischen
Sulfiden, cyclischen Aminen und cyclischen Organosiliziumverbindungen und einem aromatischen
Oniumsalz eines Elements der Gruppe VIa des Periodensystems unter üblichen Bedingungen mit
UV-Licht bestrahlt.
5. Verwendung der Zusammensetzung nach Anspruch 1 bis 3, zum Herstellen eines Überzugs auf
einem üblichen Metallsubstrat.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US46637374A | 1974-05-02 | 1974-05-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2518749A1 DE2518749A1 (de) | 1975-11-06 |
DE2518749C2 true DE2518749C2 (de) | 1982-10-21 |
Family
ID=23851505
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2518749A Expired DE2518749C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Fotopolymerisierbare Zusammensetzungen, Verfahren zum Fotopolymerisieren dieser Zusammensetzungen und deren Verwendung |
DE2559492A Expired DE2559492C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Reliefbildern |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2559492A Expired DE2559492C2 (de) | 1974-05-02 | 1975-04-26 | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Reliefbildern |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4161405A (de) |
JP (3) | JPS5332831B2 (de) |
DE (2) | DE2518749C2 (de) |
FR (1) | FR2269538B1 (de) |
GB (1) | GB1518141A (de) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1518141A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-19 | Gen Electric | Polymerizable compositions |
GB1604954A (en) * | 1977-08-05 | 1981-12-16 | Gen Electric | Photocurable compositions and method for curing |
GB1596000A (en) * | 1977-09-14 | 1981-08-19 | Gen Electric | Heterocyclic onium salts their preparation and their use for photopolymerisable organic materials |
US4291114A (en) * | 1978-10-18 | 1981-09-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Imageable, composite-dry transfer sheet and process of using same |
FR2441634A1 (fr) * | 1978-11-14 | 1980-06-13 | Thomson Csf | Resine a cycle thietane reticulable par irradiation electronique ou photonique et son utilisation pour la fabrication de composants electroniques et de couches de protection |
US4230814A (en) * | 1979-02-12 | 1980-10-28 | General Electric Company | Heat curable compositions |
US4299938A (en) * | 1979-06-19 | 1981-11-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions |
WO1981000627A1 (en) * | 1979-08-17 | 1981-03-05 | Minnesota Mining & Mfg | Imageable,composite dry-transfer sheet |
FR2472768A1 (fr) * | 1979-12-27 | 1981-07-03 | Thomson Csf | Composition photopolymerisable comportant un cycle thiirane, procede de revetement d'une fibre optique utilisant une telle composition, et fibre ainsi revetue |
US4339567A (en) * | 1980-03-07 | 1982-07-13 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulphoxonium salts |
US4319974A (en) * | 1980-04-21 | 1982-03-16 | General Electric Company | UV Curable compositions and substrates treated therewith |
US4367251A (en) * | 1980-04-21 | 1983-01-04 | General Electric Company | UV Curable compositions and substrates treated therewith |
US4383025A (en) * | 1980-07-10 | 1983-05-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulfoxonium salts |
US4398014A (en) * | 1980-11-04 | 1983-08-09 | Ciba-Geigy Corporation | Sulfoxonium salts and their use as polymerization catalysts |
US4572890A (en) * | 1983-05-11 | 1986-02-25 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of images |
JPS6037548A (ja) * | 1983-06-27 | 1985-02-26 | テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド | 照射線反応ネガレジストの形成方法 |
US4657844A (en) * | 1983-06-27 | 1987-04-14 | Texas Instruments Incorporated | Plasma developable negative resist compositions for electron beam, X-ray and optical lithography |
US5399596A (en) * | 1988-03-03 | 1995-03-21 | Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. | Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof |
WO1991005756A1 (en) * | 1989-10-20 | 1991-05-02 | Gaf Chemicals Corporation | Trivinyl ethers of polyols |
US5281261A (en) * | 1990-08-31 | 1994-01-25 | Xerox Corporation | Ink compositions containing modified pigment particles |
KR100320620B1 (ko) * | 1992-06-04 | 2002-01-16 | 도미나가 가즈토 | 수소화능력을 가진 고체촉매를 이용한 에테르화합물의제조방법 |
DE4219376A1 (de) * | 1992-06-12 | 1993-12-16 | Wacker Chemie Gmbh | Sulfoniumsalze und Verfahren zu deren Herstellung |
GB2292087B (en) * | 1993-05-05 | 1997-04-02 | Smith & Nephew | Orthopaedic material |
GB9309275D0 (en) * | 1993-05-05 | 1993-06-16 | Smith & Nephew | Orthopaedic material |
JP3767676B2 (ja) * | 2000-09-12 | 2006-04-19 | 信越化学工業株式会社 | オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 |
DE10120660B8 (de) * | 2001-04-27 | 2006-09-28 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht |
DE10120676B4 (de) * | 2001-04-27 | 2005-06-16 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht |
JP4645075B2 (ja) * | 2004-06-25 | 2011-03-09 | 東洋インキ製造株式会社 | 硬化型粘接着材料 |
WO2011040531A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス用材料、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、及びそれを用いた表示素子、照明装置、表示装置 |
KR20140108701A (ko) | 2010-04-22 | 2014-09-12 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치 |
KR102047349B1 (ko) | 2012-12-07 | 2019-11-21 | 디에스피 고쿄 후도 & 케미카루 가부시키가이샤 | 신규한 술포늄염 화합물, 그 제조 방법 및 광산발생제 |
JP6428600B2 (ja) | 2013-03-08 | 2018-11-28 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
JP2015134904A (ja) * | 2013-11-18 | 2015-07-27 | 東洋合成工業株式会社 | 化学種発生向上化合物 |
JP2022118776A (ja) * | 2021-02-03 | 2022-08-16 | サンアプロ株式会社 | 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3347676A (en) * | 1964-04-30 | 1967-10-17 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and process |
US3373221A (en) * | 1964-11-04 | 1968-03-12 | Shell Oil Co | Reaction products of unsaturated esters of polyepoxides and unsaturated carboxylic acids, and polyisocyanates |
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
ZA6801224B (de) * | 1967-03-08 | |||
US3579339A (en) * | 1967-05-23 | 1971-05-18 | Du Pont | Photopolymerizable dispersions and elements containing nonmigratory photoreducible dyes |
US3567453A (en) * | 1967-12-26 | 1971-03-02 | Eastman Kodak Co | Light sensitive compositions for photoresists and lithography |
US3627656A (en) * | 1969-04-03 | 1971-12-14 | Hughes Aircraft Co | Catalyst systems for photo-chemical polymerization |
US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
US3901705A (en) * | 1973-09-06 | 1975-08-26 | Du Pont | Method of using variable depth photopolymerization imaging systems |
GB1518141A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-19 | Gen Electric | Polymerizable compositions |
-
1975
- 1975-04-16 GB GB15702/75A patent/GB1518141A/en not_active Expired
- 1975-04-26 DE DE2518749A patent/DE2518749C2/de not_active Expired
- 1975-04-26 DE DE2559492A patent/DE2559492C2/de not_active Expired
- 1975-04-30 FR FR7513518A patent/FR2269538B1/fr not_active Expired
- 1975-05-01 JP JP5211375A patent/JPS5332831B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-08-05 US US05/822,150 patent/US4161405A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-02-24 JP JP1994878A patent/JPS53124590A/ja active Pending
- 1978-02-24 JP JP1994978A patent/JPS53124416A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2518749A1 (de) | 1975-11-06 |
FR2269538B1 (de) | 1978-06-30 |
JPS53124416A (en) | 1978-10-30 |
JPS5332831B2 (de) | 1978-09-11 |
GB1518141A (en) | 1978-07-19 |
FR2269538A1 (de) | 1975-11-28 |
JPS53124590A (en) | 1978-10-31 |
JPS50151976A (de) | 1975-12-06 |
DE2559492C2 (de) | 1983-05-11 |
DE2559492A1 (de) | 1977-01-20 |
US4161405A (en) | 1979-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2518749C2 (de) | Fotopolymerisierbare Zusammensetzungen, Verfahren zum Fotopolymerisieren dieser Zusammensetzungen und deren Verwendung | |
DE2518656C3 (de) | Härtbare Zusammensetzungen | |
DE2559718C2 (de) | Verfahren zur kationischen Polymerisation von Epoxyharz | |
DE2518639C3 (de) | Härtbare Zusammensetzungen | |
US4058400A (en) | Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts | |
DE69119764T2 (de) | Energiehärtbare, kationisch oder radikalisch polymerisierbare druckempfindliche zusammensetzungen | |
DE2618897A1 (de) | Haertbare zusammensetzungen | |
DE2602574C2 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzungen | |
DE2035890C3 (de) | Verfahren zur Polymerisation von monomeren Epoxyden | |
US4069056A (en) | Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts | |
EP0177453B1 (de) | Verfahren zur Bilderzeugung | |
DE3854597T2 (de) | Strahlenhärtbare Dual-Zusammensetzung. | |
DE2207209C3 (de) | Neue photopolymerisierbare Gemische für lichtempfindliche, Reliefbilder liefernde Aufzeichnungsschichten | |
DE2904626C2 (de) | ||
DE3546801C2 (de) | ||
DE2805633B2 (de) | UV-härtbare Formaldehyd-Kondensationsharz-Zusammensetzung | |
EP0146501B1 (de) | Polymerisierbare Zusammensetzungen | |
CH649997A5 (de) | Dialkylthioxanthon-verbindungen. | |
DE3022686A1 (de) | Arylsulfoniumsalz/loesungsmittel- gemische | |
EP0104143A1 (de) | Diaryljodosylsalze enthaltende photopolymerisierbare Zusammensetzungen | |
DE2541709C2 (de) | Fotopolymerisierbare Masse und deren Verwendung | |
DE2615373A1 (de) | Verfahren zur verbesserung des topflebens polymerisierbarer epoxidzusammensetzungen | |
DE1908169A1 (de) | Verfahren zum Entwickeln eines latenten Bildes | |
DE3404591A1 (de) | Verfahren zur herstellung von druckplatten | |
DE2730725A1 (de) | Haertbare zusammensetzung und ihre verwendung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
D2 | Grant after examination | ||
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 2559492 Format of ref document f/p: P |
|
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: SIEB, R., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 6947 LAUDENBACH |