CH649997A5 - Dialkylthioxanthon-verbindungen. - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf neue Dialkyl-thioxanthon-Verbindungen der Formel I
0
II
X
in welcher X und Y gleich oder verschieden sind und eine geradkettige oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen bedeuten, wobei die Summe der Kohlenstoffatome der Alkylgruppen X und Y von 3 bis 15 beträgt. Sie bezieht sich ferner auf ein Verfahren zur Herstellung dieser Verbindungen wie in Patentanspruch 5 definiert, auf ein Verfahren zum Härten einer Zusammensetzung wie in Patentanspruch 9 definiert, und auf eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wie in Patentanspruch 13 definiert.
Es ist bekannt, dass Thioxanthon-Verbindungen ausgezeichnete Eigenschaften als Photopolymerisationsinitiatoren oder -sensibilisatoren für photopolymerisierbare Verbindungen mit einer äthylenisch ungesättigten Doppelbindung darstellen. Diese bekannten Photopolymerisationsinitiatoren und -sensibilisatoren weisen jedoch den Nachteil auf, dass sie im allgemeinen eine niedere Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln und photopolymerisierbaren Verbindungen sowie eine schlechte Verträglichkeit mit diesen aufweisen. Diese Nachteile verursachen verschiedene Störungen in der Praxis. Beispielsweise weist unsubstituiertes Thioxanthon eine schlechte Löslichkeit in photopolymerisierbaren Verbindungen auf und ist schlecht damit verträglich, und selbst wenn es fein in einem Harz unter Verwendung eines Lösungsmittels oder dergleichen dispergiert wird, kristallisiert es daher während einer langen Lagerung aus. Dieses Phänomen zerstört wesentliche Funktionen der Photopolymerisationsinitiatoren oder -sensibilisatoren und übt einen schlechten Einfluss auf die physikalischen Eigenschaften eines Überzugsfilms nach dem Härten aus. Wenn sie zur Herstellung einer unter Ultraviolett-Strahlung härtenden Druckfarbe verwendet werden, setzen sich die Kristalle auf den Walzen usw. ab und wachsen allmählich unter Erzeugung verschiedener Störungen im Arbeitsablauf. Nach intensiven Untersuchungen zur Behebung der oben genannten Nachteile und zur Erzeugung von Thioxanthon-Verbindungen mit geringen Kosten in industriellem Massstab gelang die vorliegende Erfindung.
Die vorliegende Erfindung basiert auf den folgenden wichtigen Tatsachen:
(1) Wenn zwei Alkylgruppen in einen Thioxanthon-Kern eingeführt werden, werden dessen Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln oder photopolymerisierbaren Verbindungen und deren Verträglichkeit damit wesentlich verbessert.
(2) Unter Dialkylthioxanthon-Isomeren weisen Verbin-
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düngen der obigen Formel I die höchste Härtungsgeschwindigkeit auf.
(3) Die Dialkylthioxanthone weisen eine bessere Härtungsgeschwindigkeit, Löslichkeit und Lagerfähigkeit im Dunkeln sowie weniger Vergilbung des gehärteten Filmes auf als Monoalkylthioxanthone. (Die Filme werden durch Bestrahlung mit UV-Licht gehärtet. Die Filme werden jedoch in gewissen Fällen durch die Bestrahlung vergilbt, wodurch verunmöglicht wird, die gewünschten durchsichtigen oder weissen Filme zu erhalten, und wodurch auch der Handelswert der Filme herabgesetzt wird. Das Vergilben sollte daher verhütet werden.)
(4) Unter den Dialkylthioxanthon-Isomeren können Verbindungen der obigen Formel I sehr leicht und in den höchsten Ausbeuten erhalten werden.
(5) Bei der Synthese von Monoalkylthioxanthonen wird die Ausbeute stark herabgesetzt, wenn die Alkylkette zwecks Erhöhung der Löslichkeit verlängert wird. Beispielsweise beträgt die Ausbeute an 2-Methylthioxanthon, erhalten durch Kondensation von Dithiosalicylsäure mit Toluol in Schwefelsäure, etwa 80%, während die Ausbeuten an 2-Iso-propylthioxanthon und 2-t-Butylthioxanthon etwa 10% bzw. weniger als 5% betragen. Daher wurden sie nach anderen Herstellungsverfahren hergestellt, z.B. einem komplizierten Verfahren, welches in J. OIlcol. Chem. Assoc. 1978,61,258, beschrieben ist. Andererseits können m-Dialkylthioxan-thone, welche aus m-Dialkylbenzolen anstelle von Monoal-kylbenzolen, die auf industrieller Basis zu hohen Preisen hergestellt werden, in einer hohen Ausbeute im wesentlichen unabhängig von der Länge der Alkylketten erhalten werden.
m-Dialkylthioxanthone der Formel I gemäss der vorliegenden Erfindung sind neue Verbindungen. In der Formel I können X und Y gleich oder verschieden sein, und bedeuten eine geradkettige oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, unter der Bedingung, dass die Summe von Kohlenstoffatomen der Alkylgruppen X und Y im Bereich von 3 bis 15 liegt.
Als Beispiele von Alkylgruppe X und Y können genannt werden:
Methyl, Äthyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl, n-Amyl, Isoamyl, tert.-Amyl, n-Hexyl, 1,1-Dimethyl-butyl, l-Äthyl-2-methylpropyl, 2-Äthylbutyl, 1,3-Dimethyl-butyl, 4-Methylpentyl, n-Heptyl, 1-Methylhexyl, 1-Äthyl-1,2-dimethylpropyl, n-Octyl, 2-Äthylhexyl, 2,2,4-Trimethyl-pentyl, n-Nonyl, 1,3,5-Trimethylhexyl, n-Decyl, n-Hendecyl, n-Dodecyl und 2,2,4,4,6-Pentamethylheptyl. Unter diesen Alkylgruppen werden die Methyl-, Äthyl-, n-Propyl- und Isopropylgruppen bevorzugt.
Verbindungen der allgemeinen Formel I gemäss der vorliegenden Erfindung werden wie folgt hergestellt:
Thiosalicylsäure oder Dithiosalicylsäure wird mit einem Dialkylbenzol der Formel II
X
Y
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s
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in welcher X und Y dieselbe Bedeutung wie oben aufweisen, in Schwefelsäure umgesetzt, um die Kondensation und den Ringschluss zu bewirken.
Die derart erhaltenen Verbindungen werden durch die allgemeinen Formeln I oder III
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II
.c s
X
oder
C
S
[III]
dargestellt, in welcher X und Y dieselbe Bedeutung wie in der obigen Formel II aufweisen.
Als m-Dialkylbenzole der obigen Formel II, welche als Ausgangsmaterial zur Herstellung einer Verbindung der Formel I verwendet werden, können z.B. die folgenden m-Dialkylbenzole erwähnt werden, welche durch Mono-oder Dialkylierung von Äthylbenzol, Toluol und Benzol durch Umsetzung nach Friedel-Crafts erhältlich sind:
m-Diäthylbenzol, m-Äthyltoluol, m-Isopropyltoluol (m-Cymen), m-Propyltoluol, m-tert.-Butyltoluol, m-sec.-Butyltoluol, m-Diisopropylbenzol, m-Dipropylbenzol, m-Isopropyläthylbenzol, m-tert.-Butyläthylbenzol, m-(l,l-Dimethylpropyl)-toluol, m-tert.-Butylisopropylbenzol, m-Di-sec.-butylbenzol, m-Di-tert.-butylbenzol, m-n-Butyl-toluol, m-tert.-Amyläthylbenzol, m-n-Dodecyltoluol, m-2-Äthylbutyltoluol, m-2,2,4,4,6-Pentamethylheptyltoluol, m-1,3,5-T rimethylhexyläthylbenzol, m-1,1 -Dimethylbutyl-toluol und m-n-Hendecyltoluol. Unter diesen m-Dialkylben-zolen werden m-Diisopropylbenzol, m-Diäthylbenzol und m-Isopropyltoluol am meisten bevorzugt. Die verwendeten m-Dialkylbenzole brauchen nicht von höchster Reinheit zu sein. In gewissen Fällen kann ein Gemisch von Isomeren davon mit Alkylseitenketten von verschiedenen Kohlenstoffskeletten, ein Gemisch von Homologen mit verschiedenen Kohlenstoffanzahlen oder ein Gemisch von o-, p- und m-Isomeren verwendet werden. Das Gemisch enthält vorzugsweise mindestens 60% des m-Isomers, da die o- und p-Isomeren eine niedere Reaktionsgeschwindigkeit aufweisen, und diese können in Form von sulfonierten Verbindungen in der Endstufe der Reaktion entfernt werden, und daher, selbst wenn Kristalle des gewünschten m-Dialkylthio-xanthones (2,4-Dialkylthioxanthons) mit Dialkylthioxan-
thonen verunreinigt sind, die abgeleitet sind von o- und p-Dialkylbenzolen, wie 1,4-, 1,2- und 2,3-Dialkylthioxan-thonen, können die Kristalle als Photopolymerisationsinitiator oder -sensibilisator als solche verwendet werden. m-Dialkylthioxanthone der Formel I können nach verschiedenen Verfahren erhalten werden. Beispielsweise können sie nach einem üblichen Verfahren erhalten werden, in welchem Wasser oder Halogenwasserstoff aus einer Verbindung der Formel IV
S
COZ
entfernt wird, in welcher W Alkyl, Alkoxy, Halogen oder Nitro und Z OH oder Halogen bedeuten [J. Chem. Soc. 747 (1951); Collect. Czech. Chem. Commun. 32,2161 (1967)].
Dieses Verfahren ist jedoch kompliziert und teuer und ergibt Schwierigkeiten, wenn es in industriellem Massstab durchgeführt wird.
Nach dem erfindungsgemässen Verfahren können die obigen Verbindungen jedoch in industriellem Massstab auf vorteilhaftem Weg erzeugt werden, da die Kondensation von Thiosalicylsäure oder Dithiosalicylsäure mit einem m-Dial-kylbenzol in Schwefelsäure und der Ringschluss in einer einzigen Stufe durchgeführt werden können.
Die Erfinder haben ferner festgestellt, dass Dialkylthio-xanthone von hoher Reinheit nur in einer hohen Ausbeute erhalten werden können, wenn m-Dialkylbenzole als Dial-kylbenzole verwendet werden. Wenn nämlich o- oder p-Dial-kylbenzole verwendet werden, ist die Ausbeute an resultierenden Dialkylthioxanthonen sehr gering.
Bei der Kondensation-Ringschluss-Reaktion gemäss der vorliegenden Erfindung wird im allgemeinen Thiosalicylsäure oder Dithiosalicylsäure zu Schwefelsäure zugesetzt und dann m-Dialkylbenzol tropfenweise zum Gemisch unter Rühren bei einer niederen Temperatur, vorzugsweise zwischen —5°C und 20°C, zugesetzt. Die Reihenfolge der Zugabe von Thiosalicylsäure oder Dithiosalicylsäure und m-Dialkyl-benzol kann auch umgekehrt werden. Nach Vollendung der Zugabe wird das Gemisch während 2 bis 20 Stunden gerührt und dann allmählich erhitzt, vorzugsweise auf 100 bis 150°C. In dieser Stufe erkennt man die Bildung von Schwefeldioxid. Mit fortschreitender Reaktion wird das Reaktionsgemisch allmählich in eine dunkelrote Lösung umgewandelt.
Nach dem Kühlen des Reaktionsgemisches wird dieses in Eiswasser gegossen. Wenn das Produkt in der Lösung bei Zimmertemperatur fest ist, kann das Reaktionsgemisch direkt filtriert werden, um die Kristalle abzutrennen, welche sodann mit einer wässerigen Alkalilösung behandelt werden, um im allgemeinen weisse oder schwachgelbe Kristalle zu erhalten. Wenn das Produkt bei Zimmertemperatur flüssig ist, wird es aus dem Eiswasser mit einem organischen Lösungsmittel, wie Dichloräthan, Äthylacetat, Benzol,
Toluol oder Chlorbenzol, extrahiert und die Lösungsmittelschicht sodann abgetrennt. Das Lösungsmittel wird aus der Lösungsmittelschicht durch Destillation oder Dampfdestilla-tion entfernt, und falls notwendig kann der Rückstand z.B. durch Säulenchromatographie gereinigt werden, um ein öliges Dialkylthioxanthon zu erhalten.
Wenn ein asymmetrisches m-Dialkylbenzol, wie m-Cymen, verwendet wird, werden zwei Isomere der obigen
4
s
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Formeln I und III erhalten. Obwohl diese Isomere voneinander getrennt werden können, z.B. durch Umkristallisation, werden sie üblicherweise ohne Trennung als solche als Photo-polymerisationsinitiator oder -sensibilisator verwendet.
Die Schwefelsäure wird in einer Menge von vorzugsweise 3 bis 20 Gewichtsteile pro Gewichtsteil Thiosalicylsäure oder Dithiosalicylsäure verwendet. Bezüglich der Konzentration der Schwefelsäure wird im allgemeinen rauchende Schwefelsäure von bis zu 10% oder 50 bis 100%ige Schwefelsäure, vorzugsweise 80 bis 96%ige Schwefelsäure, verwendet. Das molare Verhältnis von m-Dialkylbenzol zu Thiosalicylsäure beträgt im allgemeinen 1 bis 5:1 und von m-Dialkylbenzol zu Dithiosalicylsäure 2 bis 10:1.
Die neuen Dialkylthioxanthone der Formel I gemäss der vorliegenden Erfindung werden als Sensibilisatoren oder Photopolymerisationsinitiatoren oder photopolymerisierbaren Verbindung zugesetzt, welche durch Einfluss aktiver Strahlung vernetzt oder photopolymerisiert werden kann.
Obwohl Dialkylthioxanthone allein verwendet werden können, werden sie bevorzugt zusammen mit anderen Photoaktivatoren eingesetzt, um die Härtung unter Bestrahlung mit aktiver Strahlung zu beschleunigen.
Als bevorzugte m-Dialkylthioxanthone (2,4-Dialkylthioxanthone) der Formel I, welche als Photopolymerisationsinitiatoren oder -sensibilisatoren verwendet werden, können z.B. die folgenden genannt werden:
2,4-Diäthylthioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon, 2,4-Dipropylthioxanthon, 2,4-Diisopropylthioxanthon, 2,4-Di-tert.-butylthioxanthon, 2,4-Di-sec.-butylthioxanthon, 2,4-Äthylmethylthioxanthon, 2,4-Methyläthylthioxanthon, 2,4-Methylisopropylthioxanthon, 2,4-Isopropylmethylthio-xanthon, 2,4-Methyl-tert.-butylthioxanthon, 2,4-tert.-Butyl-methylthioxanthon, 2,4-Äthylisopropylthioxanthon, 2,4-Iso-propyläthylthioxanthon, 2-Methyl-4-isopropylthioxanthon und 2-Isopropyl-4-methylthioxanthon. Unter diesen werden 2,4-Diäthylthioxanthon, 2,4-Diisopropylthioxanthon, 2-Methyl-4-isopropylthioxanthon und 2-Isopropyl-4-methyl-thioxanthon besonders bevorzugt.
Als zusätzlicher Photoaktivator können z.B. aktives Halogen enthaltende Verbindungen genannt werden, wie Chlormethylnaphthalin und 2,6-bis-(Halogenalkyl)-chino-line, sowie organische Amine, wie Äthanolamin, Diäthanol-amin, Methyldiäthanolamin, Triäthanolamin, Dibutylamin, Tributylamin, N-Methyldiäthanolamin, Cyclohexylamin, Morpholin, N-Methylmorpholin, Pyridin, Chinolin, Äthyl-p-(N,N-dimethylamino)-benzoat, Isoamyl-p-(N,N-dimethyl-amino)-benzoat, p-(N,N-Dimethylamino)-benzaldehyd und Michler's-Keton. Unter diesen werden Diäthanolamin, Methyldiäthanolamin, Triäthanolamin und Isoamyl-p-(N,N-dimethylamino)-benzoat besonders bevorzugt. Dialkylthioxanthone der Formel I gemäss der vorliegenden Erfindung werden in einer Menge im Bereich von 0,1 bis 15 Gewichtsteile, vorzugsweise 0,5 bis 10 Gewichtsteile, pro 100 Gewichtsteile der photopolymerisierbaren Verbindung, welche weiter unten näher erläutert wird, verwendet. Die Herstellung der photopolymerisierbaren Zusammensetzung erfolgt vorzugsweise wie folgt: Eine Verbindung der Formel I wird zunächst mit dem Photoaktivator vermischt und anschliessend in einem Monometer oder Vorpolymer der photopolymerisierbaren Verbindung oder in einem geeigneten Lösungsmittel, wie Dimethylphthalat, gelöst oder dis-pergiert, oder aber die Verbindung der Formel I und der Photoaktivator werden getrennt gelöst oder dispergiert, wie oben beschrieben, und vor Gebrauch miteinander vermischt, worauf die erhaltene Mischung zu der photopolymerisierbaren Verbindung zugesetzt wird, welche im folgenden aus649997
führlicher beschrieben wird. Der Photoaktivator, welcher zusammen mit dem Dialkylthioxanthon verwendet werden kann, wird im allgemeinen in einer Menge im Bereich von 0,1 bis 20 Gewichtsteilen, vorzugsweise 0,2 bis 4 Gewichtsteilen, pro Gewichtsteil des Dialkylthioxanthons verwendet.
Ferner können sie zusammen mit anderen, bekannten Photopolymerisationsinitiatoren, wie Benzophenon, Benzylbe-noläther (benzylbenoic ether), Dialkoxyacetophenone und Benzylketal verwendet werden.
Ausserdem können sie zusammen mit kationischen Photopolymerisationsinitiatoren verwendet werden, wie z.B. Aryl-haloniumsalzen, Arylsulfoniumsalzen und Ammoniumsalzen, wie sie in den japanischen Offenlegungsschriften No. 14277/1977, No. 14278/1977 und No. 14 279/1977 offenbart sind.
Die photopolymerisierbaren Verbindungen, welche mit Hilfe der oben erwähnten Dialkylthioxanthone polymerisiert werden können, umfassen z.B. Monomere, Oligomere, Vorpolymere, Harze und Gemische davon, welche eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthalten und welche unter Bestrahlung mit einer aktiven Strahlung vernetzt oder polymerisiert werden können. Falls notwendig, können sie Zusätze enthalten, wie z.B. Inhibitoren, Stabilisatoren, U.V.-Absorptionsmittel, Füller, Pigmente, Farbstoffe und thixo-trope Mittel.
Als Monomere, Oligomere, Vorpolymere und Harze, welche eine aktive äthylenisch-ungesättigte Doppelbindung enthalten, können z.B. genannt werden: Acrylate oder Meth-acrylate von ein- und mehrwertigen Alkoholen, wie Äthyl-(meth)-acrylat, Butyl-(meth)-acrylat, Äthylenglykol-(meth)-acrylat, Trimethylolpropan-tri-(meth)-acrylat, Pentaerythrit-tri-(meth)-acrylat, Dipentaerythrit-tetra-(meth)-acrylat, Poly-äthylenglykol-(meth)-acrylat oder Polyesteracrylate von niederem Molekulargewicht, welche durch Kondensation von mehrwertigen Alkoholen mit monobasischen Säuren oder polybasischen Säuren und Umsetzen der erhaltenen Polyestervorpolymere mit (Meth)-acrylsäure erhalten werden, Polyurethanacrylate, welche durch Umsetzung von Polyolen (Polyester-Typus oder Polyäther-Typus) mit diisocyanat-gruppenhaltigen Verbinden und Umsetzung des Reaktionsproduktes mit (Meth)-acrylsäure, Epoxyacrylate, welche Reaktionsprodukte von epoxidierten Harzen (wie Bisphenol-diglycidyläther, epoxidierte Öle und Fette und epoxidiertes Polybutadien) mit (Meth)-acrylsäure sind, Silicon-(meth)-acrylate und Melamin-(meth)-acrylate, erhalten aus Silicon-oligomeren und Melaminoligomeren auf dieselbe Weise wie oben, sowie Monomere und Vorpolymere mit einer Maleimi-dogruppe, wie Copolymere von N-(Methacryloyloxyäthyl)-dimethylmaleinsäureimid und Acrylsäureester und Copolymere von Glycerintriglycidyläther, a-Phenylmaleimidoessig-säure und Dimethylaminoäthylmethacrylat.
Als Strahlungsquellen, welche für die Bestrahlung mit aktiver Strahlung verwendet werden, können verschiedene Quecksilberlampen (Nieder-, Hoch- und Ultrahochdruckquecksilberlampen), chemische Halogenidlampen, Xenonlampen, Galliumlampen und Thalliumlampen genannt werden.
Die photopolymerisierbare Harzzusammensetzung,
welche ein Dialkylthioxanthon der Formel I, einen Photoaktivator, wie z.B. Isoamyl-p-(N,N-dimethylamino)-benzoat, und ein Färbemittel enthält, kann auf ein Substrat aufgetragen werden, welches z.B. aus einem Metall, einem Mineral, Glas, Holz, Papier, Kunststoff, keramische Massen usw. besteht. Das derart erhaltene, mit einem Überzugsfilm versehene Substrat wird sodann auf ein Förderband verbracht, welches sich bewegt, während es mit einer aktiven Strahlung aus einer der oben genannten Lampen bestrahlt wird. Die Zusammensetzung wird in dieser Stufe im allge5
s
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
649997
meinen an der Luft gehärtet, doch kann sie auch in einem inerten Gas, z.B. in Stickstoff, gehärtet werden.
Wenn ein Dialkylthioxanthon der Formel I gemäss der vorliegenden Erfindung verwendet wird, welches eine verhältnismässig hohe Löslichkeit in und Verträglichkeit mit der photopolymerisierbaren Verbindung aufweist, wird keinerlei Kristallisation oder Trennung während der Lagerung während langer Zeit beobachtet. Es ist ein weiterer Vorteil, dass eine Härtungsgeschwindigkeit und ein Härtungsgrad, welche höher sind als die üblichen Standard, erhalten werden können, wenn das Dialkylthioxanthon einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung einverleibt wird, welches ein anorganisches oder organisches Pigment enthält, wie sie üblicherweise für die Herstellung von Anstrichmitteln und Druckfarben verwendet werden. Besonders gute Resultate werden bei der Herstellung von undurchsichtigen Pigmenten, welche Titanoxid oder Zinkoxid enthalten, erzielt, welche bisher schwer zu härten waren.
Die folgenden Beispiele illustrieren die vorliegende Erfindung.
Beispiel 1
142 g 90%ige Schwefelsäure wurde in einen 300 ml-Vier-
0
II
halskolben eingefüllt. 34 g (0,25 Mol) m-Diäthylbenzol (Siedepunkt: 181 bis 182°C / 760 mm Hg, Reinheit mindestens 98%) wurden tropfenweise unter Rühren bei 0°C zugesetzt, gefolgt von 24 g (0,0784 Mol) Dithiosalicylsäure, welche s tropfenweise zu dem Gemisch zugesetzt wurde. Nach dem Rühren bei einer Temperatur von bis zu 5°C während 3 bis 4 Stunden wurde die Temperatur allmählich im Laufe von 10 Stunden auf 120 bis 130°C erhöht und das Gemisch unter Erhitzen auf diese Temperatur während 1 bis 2 Stunden io gerührt. Die Reaktionsflüssigkeit ging allmählich in eine stark rote Lösung über. Nach dem Abkühlen wurde diese auf etwa 800 g Eiswassergegossen. Die derart ausgefällten Kristalle wurden filtriert und tüchtig mit Wasser gewaschen. Die derart behandelten Kristalle wurden weiter mit einer wässe-15 rigen Natriumhydroxidlösung behandelt, um jegliche alkalilösliche Substanz daraus zu entfernen. Nach dem Filtrieren, gefolgt von Waschen mit Wasser und Trocknen wurde 2,4-Diäthylthioxanthon [Schmelzpunkt: 60°C, Ausbeute: 35,1 g (84% berechnet auf Dithiosalicylsäure; derselbe Bezug 20 wird im folgenden verwendet)] der Formel I als gelbe Kristalle erhalten.
CHc2CHd3
O
o
CHa2CHb3
[I]
(A) Ms.s.: M+ / e = 268*1
(B) I.R. (Oc = o): 1630 cm-1 *2
(C) N.M.R.: (Ha, Hc) 2,5 bis 3,0 ppm *3 4H(5), (Hb, Hd) 1,15 bis 1,45 ppm 6H(4)
(D) Elementaranalysefür S:
Gef.%: 12,1 Ber.%: 11,9
*1 Ms.s. bedeutet Massenspektrum gemessen mit LKB-900 (ein Produkt von Shimadzu Seisaku-sho) (dasselbe gilt auch später) bei einer Ionenquellentemperatur von 310°C und einer Ionisationsspannung von 70 eV.
*21.R. bedeutet Infrarotabsorptionsspektrum (dieselbe
Bedeutung wird auch im folgenden verwendet). 40 *3 N.M.R.: Gemessen mit Hitachi R-20B Kernmagnet-resonanzspektrometer mit hoher Auflösung, unter Verwendung von CDCh als Lösungsmittel und Tetramethylsilan (T.M.S.) als interne Referenz. Die Zahlen in Klammern bedeuten die Anzahl Spitzen (dasselbe gilt auch für die fol-45 genden Beispiele).
Beispiel 2
Die Reaktion wurde auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt, jedoch Dithiosalicylsäure (0,0784 Mol) und so m-Diisopropylbenzol (Siedepunkt: 203°C / 760 mm Hg, Reinheit mindestens 98%) (0,25 Mol) verwendet, um 2,4-Di-isopropylthioxanthon vom Schmelzpunkt 74 bis 76°C, 40,5 g (87% Ausbeute) zu erhalten.
(A) Ms.s.: M+ / e = 296
(B) I.R. (ik = o): 1630 cm-1
(C) N.M.R.: (Ha, Hc) 2,8 bis 3,6 ppm. 2H(8), (Hb, Hd) 1,25 bis 1,4 ppm 12H(4)
(D) Elementaranalyse für S:
Gef.%: 11,1 Ber.%: 10,81
Beispiel 3
Die Reaktion wurde auf dieselbe Weise wie in Beispiel 2 ausgeführt, jedoch Dithiosalicylsäure ersetzt durch 24 g (0,157 Mol) Thiosalicylsäure, um ähnliche Resultate zu erhalten wie in Beispiel 2.
' 649997
Beispiel 4
Die Reaktion wurde auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 ausgeführt, jedoch 0,0784 Mol Dithiosalicylsäure und 0,25 Mol m-Isopropyltoluol (Siedepunkt: 176°C / 760 mm Hg, s Reinheit mindestens 98%) verwendet, um 35,5 g (85% Ausbeute) m-Isopropylmethylthioxanthon als hellbraune Kristalle zu erhalten. Das Produkt war ein Gemisch aus 78% einer Verbindung der folgenden Formel (IV-a') (Schmelzpunkt: 97°C) und 22% einer Verbindung der folgenden io Formel (IV-a") (Schmelzpunkt: 134°C). Die Verbindungen wurden durch Umkristallisation aus Ligroinlösungsmittel voneinander getrennt.
is Die geschätzten Strukturformeln waren die folgenden:
O
Sì
•c.
^CHc (CHt>3) 2
O
CHa3
CIV - af)
0
II
CHa3
O
O
Gef.%: 12,0; Ber.%: 11,9:
12,1 11,9
CHc(CHb3)2
(IV-a")
(A) Ms.s.: M+ / e = 268, M+ / e = 268
(B) I.R. (Uc = o): 1630 cm-1,1630 cm-1
(C) I.M.R.: Ha: 2,5 ppm 3H(1), Ha: 2,48 ppm 3H(1), Hb: 1,3 ppm 6H(2), Hb: 1,36 ppm 6H(2), Hc: 3,0 ppm lH(4-5), Hc: 3,4 ppm lH(4-5)
(D) Elementaranalyse für S:
Beispiel 5
45 Die Reaktion wurde in derselben Weise durchgeführt wie in Beispiel 1, jedoch 0,0784 Mol Dithiosalicylsäure und 0,25 Mol m-tert.-Butyltoluol (Siedepunkt: 189°C / 760 mm Hg, Reinheit mindestens 98%) verwendet, um m-tert.-Butylme-thylthioxanthon als hellbraune Kristalle (Schmelzpunkt: 134 so bis 136°C, 36,2 g, 82% Ausbeute) zu erhalten. Die analytischen Daten gemäss der Gaschromatographie und der Mas-senspektrometrie zeigten, dass nur eine Verbindung, welche ein M+ / e von 282 aufwies, erhalten worden war und kein Isomer gebildet wurde. Die geschätzte Strukturformel war die 55 folgende:
649997
8
(A) Ms.S.: M+/e = 282
(B)I.R. (uc = o): 1630 cm"1
(C) N.M.R.: Ha; 2,5 ppm 3H(1), Hb; 1,38 ppm 9H(1)
(D) Elementaranalyse für S:
Gef.%: 11,20 Ber.%: 11,34
Beispiele 6 bis 13
Die Reaktion wurde auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 nach dem untenstehenden Reaktionsschema durchgeführt, 5 unter Verwendung von 0,08 Mol Thiosalicylsäure und 0,15 Mol eines m-Dialkylbenzols der folgenden Formel, wobei ein 2,4-Dialkylthioxanthon wie in Tabelle I dargestellt erhalten wurde.
COOII
SH oder
COOH
<oV
COOH
in HoSO,
X(Y)
Tabelle I
Beispiel m-Dialkylbenzol
2,4-DialkyIthioxanthon
X
Y
X
Y Ausbeute
M-/e
I.R.(c = 0)
6*
CHa
C2H5
CH3 C2H5
C2H5 CH3
• 85%
254 254
1630 cm-' 1630 cm-'
7*
CHs n-CsHv
CHs n-CsH?
n-C3H7 CH3
• 85%
268 268
1630 cm-' 1630 cm-'
8*
CzHs
ÌSO-C3H7
CiHs ÌSO-C3H7
ÌSO-C3H7 C2H7
• 82%
282 282
1630 cm-' 1630 cm-'
9
n-C3H7
n-C3H7
n-C3H7
n-C3H7
81%
296
1630 cm-1
10
t~C4H9
t-C4H9
t-C4H9
t-C4H9
80%
324
1630 cm-'
11
CHs sec-C4Hs
CH3
sec-C4Hs
81%
282
1630 cm-'
12
CHB
C8H17
ch3
CsHn
60%
338
1630 cm-'
13
CHs
C12H25
ch3
C12H25
52%
394
1630 cm-'
Ausbeute an einem Gemisch von zwei Isomeren
Die obigen Resultate zeigen, dass, wenn eine Thiosalicyl- &> säure oder Dithiosalicylsäure mit einem m-Dialkylbenzol in Schwefelsäurelösungsmittel umgesetzt wird, ein entsprechendes 2,4-Dialkylthioxanthon in einer hohen Ausbeute erhalten wird.
65
Beispiele 14 bis 22 Eine photopolymerisierbare Harzzusammensetzung wurde nach dem folgenden Rezept hergestellt:
Bisphenol-A-diglycidyläther-diacrylat
Trimethylolpropan-triacrylat Triäthanolamin Photopolymerisationsinitiator der Formel I
(Dialkylthioxanthon-Derivat)
55 Gewichtsteile 45 Gewichtsteile 2,5 Gewichtsteile
2,5 Gewichtsteile Die obige photopolymerisierbare Harzzusammensetzung
9
649997
wurde in einer Dicke von 25 ji auf eine Glasplatte aufgetragen und 9 Sekunden unter einer Xenonlampe gelassen. Die Empfindlichkeit wurde durch Messung der Zeit, welche benötigt wird bis die Oberfläche des aufgetragenen Films aufhört klebrig zu sein unter der kontinuierlichen Bestrahlung
(ob der Film klebrig ist oder nicht wird durch Berühren mit dem Finger beurteilt) beurteilt. Die Resultate sind in Tabelle II dargestellt. In Tabelle II ist ebenfalls die Beständigkeit gegen Vergilbung und die Lagerfähigkeit dargestellt.
[I]
Tabelle II
Beispiel Anzahl Verbindungen X Y Härtungszeit Beständigkeit gegen Lagerfähigkeit 2*
in obigen Beispielen Sekunden das Vergilben 1 *
14
1
C2H5
c2h5
15
A
A
15
2
ÌSO-C3H7
ÌSO-C3H7
10
A
A
16
4
CH3
ÌSO-C3H7
15
A
A
(a-a')
17
4
(4-A")
ÌSO-C3H7
ch3
20
A
A
18
5
CH3
t-C4Hs
15
A
A
19
6
CH3
C2H5
20
B
3*
CzHs
CH3
A
20
10
t-G.H9
t-gths
25
A
A
21
12
CH3
CsHn
25
A
A
22
13
ch3
c12h25
25
A
A
Bestrahlungsvorrichtung und -bedingungen:
Xenon - Blitzlicht (Stroboscop-Typ ps-240E; ein Produkt von Eagle Shoji Co.), Entladungsröhrenstrom: 0,445 x 50 J/sec (Spannung 1300 V)
Lampenlänge: 15 cm
* 1 Die Beständigkeit gegen das Vergilben in der obigen Tabelle wurde von Auge aus dem Zustand des Überzugsfilms nach der Bestrahlung abgeschätzt.
A: nur leichte Vergilbung
B: klare Vergilbung
C: bemerkenswerte Vergilbung.
*2 Die Lagerfähigkeit wurde aus dem Zustand der Gelierung der oben genannten photopolymerisierbaren Harzzusammensetzung nach dem Stehenlassen derselben in einer Glasflasche bei 120°C während 12 Stunden abgeschätzt.
A: klare Gelierung wurde nicht beobachtet 40 B: teilweise Gelierung wurde auf der Oberfläche und an den Gefässwänden beobachtet
C: die Zusammensetzung gelierte praktisch vollständig.
*3 Das Isomerengemisch aus dem Beispiel 6 wurde verwendet.
Die obigen Resultate weisen daraufhin, dass 2,4-Dialkyl-thioxanthone der Formel I gemäss der vorliegenden Erfindung ausgezeichnete Empfindlichkeit, Beständigkeit gegen Vergilbung und Lagerfähigkeit aufweisen. Diese Tatsache ist aus der folgenden Tabelle III ersichtlich.
Die Wirkungen von m-Dialkylthioxanthone wird ersichtlich, wenn sie mit denjenigen von o- oder p-Dialkyl-thioxanthonen, Monoalkylthioxanthonen und unsubstitu-ierten Thioxanthonen verglichen werden.
so
Vergleichsversuch
Tabelle III
o- oder p-Dialkylthioxanthon oder Monalkylthioxanthon Härtungszeit (Sek.) Beständigkeit Lagerfähigkeit gegen Vergilbung
Gemische von 1,2-, 2,3- und
3,4-Diäthylthioxanthonen >60 - A
1,4-Diäthylthioxanthon 50 A A
l-Methyl-2-äthylthioxanthon >60 - A
649997
10
Tabelle IH (Fortsetzung)
o- oder p-Dialkylthioxanthon oder Monalkylthioxanthon Härtungszeit (Sek.) Beständigkeit Lagerfähigkeit gegen Vergilbung
1 -Methyl-4-äthylthioxanthon Gemische von 1,2-, 2,3- und 3,4-Diisopropylthioxanthonen 1,4-Diisopropylthioxanthon 1 -Äthyl-2-isopropylthioxanthon 1,4-Dimethylthioxanthon Methylthioxanthon Äthylthioxanthon Isopropylthioxanthon Thioxanthon
50
B
a
>60
_
A
50
A
A
50
A
A
40
B
A
40
C
B
40
C
B
20
B
B
>60
-
A
* Die Beständigkeit gegen Vergübung und die Lagerfähigkeit wurden nach denselben Kriterien wie in Tabelle II abgeschätzt.
Aus Tabelle IV ist ersichtlich, dass die Verbindungen in organischen Lösungsmitteln aufweisen als die bekannten gemäss der vorliegenden Erfindung eine bessere Löslichkeit Thioxanthon-Verbindungen.
Tabelle IV
Verbindung
1,2-Dichloräthan
1,2-Dichlorpropan Toluol
Aceton
Äthanol
Methanol
Äthylacetat
1
1,1
< 0,5
< 0,5
< 0,5
<0,5
<0,5
0,5
2
16,6
7,7
5,5
3,0
<1,0
<1,0
2,9
3
>50,0
>50,0
>50,0
30,0
3,6
3,3
30,0
4
>50,0
>50,0
>500,0
>40,0
9,0
6,0
>50,0
* Verbindung (I): Thioxanthon (bekannt)
Verbindung (2): 2-Methylthioxanthon (bekannt)
Verbindung (3): 2-Isopropylthioxanthon (bekannt)
Verbindung (4): 2,4-Diisopropylthioxanthon (gemäss vorliegender Erfindung).
Die Resultate der Tabellen II, III und IV zeigen, dass 2,4-DialkyIthioxanthone ausgezeichnete Photopolymerisationsinitiatoren darstellen.
Beispiele 23 bis 28 Die folgenden photopolymerisierbaren Harzzusammensetzungen (A) und (B) wurden zubereitet. Jede dieser Zusammensetzungen wurde auf eine Aluminiumplatte in einer Dicke von 25 u. aufgetragen. Die Aluminiumplatte wurde auf ein Förderband gelegt, welches 20 cm unter einer 80 W/cm Hochdruck-Quecksilberlampe mit einer Geschwindigkeit von 18 m/Minute hindurchlief. Das Verhältnis zwischen der Anzahl an Durchgängen und physikalischen Eigenschaften des überzogenen Films wurde untersucht, wobei die Resultate in Tabelle V erhalten wurden.
Photopolymerisierbare Harzzusammensetzungen
(A)
Russhaltige Zusammensetzungen:
Epoxyacrylharz (Shell DRH 303) 59,3
Trimethylolpropantriacrylat 24,4
Hexandioldiacrylat 14,8
Russ 2,5
Methyldiäthanolamin 2,0 Photopolymerisationsinitiator der Formel I
(Dialkylthioxanthon) 1,0
Gewichtsteile Gewichtsteile Gewichtsteile Gewichtsteile Gewichtsteile
Gewichtsteile
(B)
Titanoxidhaltige Zusammensetzung: Urethanacrylatharz («Thiokol Uvithane788») 35,8
Trimethylolpropantriacrylat Butylacrylat Vinylpyrolidon Titanoxid (Rutil-Typus) Methyldiäthanolamin Photopolymerisationsinitiator der Formel I (Dialkylthioxanthon)
9,4 18,8
9.4 24,4
1.5
Gewichtsteile Gewichtsteile Gewichtsteile Gewichtsteile Gewichtsteile Gewichtsteile
0,75 Gewichtsteile
11
Tabelle V
649997
Beispiel Photopolymerisierbare Polymerisationsini- Bleistifthärte nach Anzahl Durchgängen [2* Zusammensetzung tiator der Formel I [1 *]
Beständigkeit gegen Vergilbung [3*]
23
24
25
26
27
28
(a)
(b) (a)
(b)
(a)
(b)
(a)
(a)
(b)
(b)
(c) (c)
F F
3H
HB - F
4H
HB F
3H
HB - F
6H
6H
oder höher
6H
3H
4H 3H
A A
[1 *] Polymerisationsinitiatoren der Formel I waren die folgenden:
(a) 2,4-Diäthylthioxanthon
(b) 2,4-Diisopropylthioxanthon
(c) 2-Isopropyl-4-methylthioxanthon
[2*] Die Bleistifthärte wurde gemäss JIS-K 5400 6,14 bestimmt.
[3*] Die Beständigkeit gegen Vergilbung wurde aufgrund derselben Kriterien wie in Tabelle II bestimmt.
Die obigen Resultate zeigen, dass, wenn die Verbindung der vorliegenden Erfindung in pigmenthaltigen Systemen verwendet werden, Überzugsfilme mit ausgezeichneten Festigkeiten erhalten werden können.
Beispiel 29
16 Teile Diglycerintriglycidyläther, 23 Gewichtsteile a-Phenylmaleimidoessigsäure, 0,2 Gewichtsteile Dimethyl-aminoäthylmethacrylat und 40 Gewichtsteile Butylacetat wurden während 2 Stunden bei 90 bis 100°C miteinander umgesetzt, um ein trifunktionelles photopolymerisierbares Harz zu erhalten, in welchem a-Phenylmaleimidoessigsäure an praktisch alle Glycidylgruppen addiert wurden. 2,5
20 Gewichtsteile 2,4-Diisopropylthioxanthon gemäss der folgenden Erfindung wurden zu 100 Gewichtsteilen des obigen Harzes zugesetzt und das Ganze kräftig geknetet und anschliessend in einer Dicke von 50 Li auf eine Glasplatte aufgebracht. Der Überzugsfilm auf dem Glas wurde mit einem 2s Licht unter Verwendung einer 80 W/cm Hochdruck-Quecksilberlampe auf eine Distanz von 10 cm während 20 Sekunden bestrahlt, um einen Überzugsfilm zu erhalten, der in Dichloräthan oder Aceton unlöslich war. Wenn 2,4-Diisopropylthioxanthon nicht zugesetzt wurde, war der Film selbst 30 nach 60 Minuten nicht gehärtet. Diese Tatsache zeigt, dass 2,4-Diisopropylthioxanthon ein ausgezeichneter Sensibilisator ist.
B
Claims (17)
- 649 997PATENTANSPRÜCHE 1. Dialkylthioxanthon-Verbindungen der allgemeinen Formel I0X [i]in welcher X und Y gleich oder verschieden sind und eine verzweigte oder geradkettige Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen bedeuten, wobei die Summe der Kohlenstoffatome der Alkylgruppen X und Y 3 bis 15 beträgt.
- 2. Dialkylthioxanthon-Verbindungen nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass X und Y in Formel I Isopropyl bedeuten.
- 3. Dialkylthioxanthon-Verbindungen nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass X und Y in Formel I Äthyl bedeuten.
- 4. Dialkylthioxanthon-Verbindungen nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass einer der Reste X und Y in Formel I Methyl und der andere Isopropyl bedeutet.
- 5. Verfahren zur Herstellung von Dialkylthioxanthon-Verbindungen der allgemeinen Formel I0X [I]in welcher X und Y gleich oder verschieden sind und eine geradkettige oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen bedeuten, wobei die Summe der Kohlenstoffatome der Alkylgruppen X und Y 3 bis 15 beträgt, dadurch gekennzeichnet, dass man Thiosalicylsäure oder Dithiosali-cylsäure mit einem Dialkylbenzol der allgemeinen Formel IIin welcher X und Y dieselbe Bedeutung wie oben aufweisen, in Schwefelsäure umsetzt, um die Kondensation und den Ringschluss zu bewirken.
- 6. Verfahren nach Patentanspruch 5 zur Herstellung von Verbindungen der Formel I, in welcher X und Y Isopropyl sind.
- 7. Verfahren nach Patentanspruch 5 zur Herstellung vonVerbindungen der Formel I, in welcher X und Y Äthyl sind.
- 8. Verfahren nach Patentanspruch 5 zur Herstellung von Verbindungen der Formel I, in welcher einer der Reste X und Y Isopropyl und der andere Methyl bedeutet.
- 9. Verfahren zum Härten einer Zusammensetzung, welche mindestens eine photopolymerisierbare Verbindung enthält, die eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweist, die unter Bestrahlung mit einer aktiven Strahlung vernetzbar oder polymerisierbar und vemetzbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass man die Vernetzung bzw. die Polymerisation und Vernetzung in Gegenwart einer Dialkylthioxanthon-Ver-bindung der allgemeinen Formel I0IICSXin welcher X und Y gleich oder verschieden sind und eine geradkettige oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen bedeuten, wobei die Summe der Kohlenstoffatome der Alkylgruppen X und y 3 bis 15 beträgt, als Photopolymerisationsinitiator oder Sensibilisator durchführt.
- 10. Verfahren nach Patentanspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass X und Y in Formel I Isopropyl bedeuten.
- 11. Verfahren nach Patentanspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass X und Y in Formel I Äthyl bedeuten.
- 12. Verfahren nach Patentanspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass einer der Reste X und Y in Formel I Isopropyl und der andere Methyl bedeutet.
- 13. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, enthaltend (a) als Photopolymerisationsinitiator oder Sensibilisator eine Dialkylthioxanthon-Verbindung der allgemeinen Formel IIIcXin welcher X und Y gleich oder verschieden sind und eine geradkettige oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 12 Koh-lenstoffatomen bedeuten, wobei die Summe der Kohlenstoffatome der Alkylgruppen X und Y 3 bis 15 beträgt, und (b) mindestens eine photopolymerisierbare Verbindung in einem Gewichtsverhältnis von (a) : (b) = 0,1 bis 15:100.
- 14. Zusammensetzung nach Patentanspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass X und Y in Formel I Isopropyl bedeuten.
- 15. Zusammensetzung nach Patentanspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass X und Y in Formel I Äthyl bedeuten.
- 16. Zusammensetzung nach Patentanspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass einer der Reste X und Y in Formel I Isopropyl und der andere Methyl bedeutet.
- 17. Zusammensetzung nach einem der Patentansprüche 132s101520253035404550556065bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass sie ausserdem einen Photoaktivator in einem Gewichtsverhältnis des Photoaktivators zur Dialkylthioxanthon-Verbindung von 0,1 bis 20:1 enthält.
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Families Citing this family (127)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4418138A (en) * | 1981-11-03 | 1983-11-29 | Sericol Group Limited | Photopolymerizable materials for use in producing stencils for screen printing |
US4585876A (en) * | 1982-11-25 | 1986-04-29 | Ciba-Geigy Corporation | Novel xanthones and thioxanthones |
DE3606155A1 (de) * | 1986-02-26 | 1987-08-27 | Basf Ag | Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes lichtempfindliches aufzeichnungselement sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckform mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungselements |
US4791045A (en) * | 1988-01-25 | 1988-12-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts |
JP2798261B2 (ja) * | 1988-02-29 | 1998-09-17 | 三菱レイヨン株式会社 | 紫外線硬化型ポリカーボネート樹脂被覆用組成物および表面特性を改質した硬化被膜を有するプラスチック成形品の製造方法 |
JPH01238656A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Nippon Paint Co Ltd | 高感度光重合性組成物 |
DE3824550A1 (de) * | 1988-07-20 | 1990-01-25 | Basf Ag | Lichtempfindliche, negativ arbeitende aufzeichnungsschicht |
GB9123914D0 (en) * | 1991-11-11 | 1992-01-02 | Ici Plc | Polymerisable compositions |
US5712401A (en) * | 1996-04-29 | 1998-01-27 | First Chemical Corporation | Processes for preparing thioxanthone and derivatives thereof |
US6025408A (en) * | 1997-03-27 | 2000-02-15 | First Chemical Corporation | Liquid thioxanthone photoinitiators |
GB0216311D0 (en) * | 2002-07-13 | 2002-08-21 | Great Lakes Uk Ltd | An improved process for the production of substituted thioxanthones |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
JP4967378B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2012-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | インク組成物 |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2006335826A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
US20080132599A1 (en) | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corporation. | Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these |
JP5472670B2 (ja) | 2007-01-29 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法及び記録物 |
EP1955858B1 (de) | 2007-02-06 | 2014-06-18 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Vorrichtung |
DE602008006279D1 (de) | 2007-02-07 | 2011-06-01 | Fujifilm Corp | Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf |
JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
US8894197B2 (en) | 2007-03-01 | 2014-11-25 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
EP2028241A1 (de) * | 2007-08-09 | 2009-02-25 | Seiko Epson Corporation | Lichthärtbare Tintenzusammensetzung, Tintenpatrone, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und aufgezeichnetes Material |
JP4816976B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2011-11-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光硬化型インク組成物 |
JP4766281B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2011-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物 |
JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
JP2009269397A (ja) | 2008-02-29 | 2009-11-19 | Seiko Epson Corp | 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置 |
JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5374403B2 (ja) | 2009-02-13 | 2013-12-25 | 三菱製紙株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
JP2010209183A (ja) | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5692490B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2015-04-01 | セイコーエプソン株式会社 | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP2011152747A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Seiko Epson Corp | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP5554114B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法 |
US8573765B2 (en) | 2010-03-31 | 2013-11-05 | Fujifilm Corporation | Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter |
CN102260238B (zh) * | 2010-05-27 | 2013-04-03 | 邵阳市佳青医药原料有限公司 | 2,4-二乙基噻唑酮精制工艺 |
JP5606817B2 (ja) | 2010-07-27 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法 |
EP2423277A3 (de) | 2010-08-27 | 2012-05-09 | Fujifilm Corporation | Tintenzusammensetzung zur Tintenstrahlaufzeichnung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und gedruckter Tintenstrahlartikel |
EP2682438B1 (de) | 2011-02-28 | 2017-04-05 | FUJIFILM Corporation | Tintenzusammensetzung und bildformungsverfahren |
JP2012201874A (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | インク組成物、及び画像形成方法 |
JP5300904B2 (ja) | 2011-03-31 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
CN102250060A (zh) * | 2011-05-27 | 2011-11-23 | 连云港升南化学有限公司 | 一种2,4-二乙基硫杂蒽酮的制备方法 |
JP5764416B2 (ja) | 2011-07-08 | 2015-08-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
EP2760947B1 (de) | 2011-09-29 | 2015-11-04 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahltintenzusammensetzung und tintenstrahlaufzeichnungsverfahren |
WO2013133123A1 (ja) | 2012-03-09 | 2013-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法 |
JP5606567B2 (ja) | 2012-04-19 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品 |
WO2014041940A1 (ja) | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物および画像形成方法 |
JP6022277B2 (ja) * | 2012-09-20 | 2016-11-09 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物の光硬化方法、インク組成物からなるインクセット、画像形成方法およびインク組成物 |
CN104684634B (zh) | 2012-09-28 | 2017-04-26 | 富士胶片株式会社 | 高分子功能性膜及其制造方法 |
EP2902096A4 (de) | 2012-09-28 | 2016-01-27 | Fujifilm Corp | Funktionelle polymermembran und verfahren zur herstellung davon |
JP6126498B2 (ja) | 2013-02-15 | 2017-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
WO2014136697A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置 |
JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
JP5939640B2 (ja) | 2013-03-08 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 多層構成物、及び、多層構成物の製造方法 |
JP6004971B2 (ja) | 2013-03-12 | 2016-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法 |
JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
JP6066960B2 (ja) | 2014-05-30 | 2017-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法 |
US10414927B2 (en) | 2015-01-27 | 2019-09-17 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Polymeric photo active agents |
BR112017015502A2 (pt) | 2015-01-27 | 2018-05-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | agentes poliméricos fotoativos |
US10619007B2 (en) | 2015-01-27 | 2020-04-14 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Polymeric amine synergists |
US10414862B2 (en) | 2015-07-09 | 2019-09-17 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Polymeric amine synergist |
JP6561126B2 (ja) | 2015-08-27 | 2019-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、画像形成方法、及び膜形成方法 |
CN108602931B (zh) | 2016-02-05 | 2021-03-09 | 富士胶片株式会社 | 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法 |
CN108603024B (zh) | 2016-02-05 | 2021-06-08 | 富士胶片株式会社 | 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法 |
EP3412730A4 (de) | 2016-02-05 | 2019-02-20 | FUJIFILM Corporation | Wässrige dispersion, herstellungsverfahren dafür und bilderzeugungsverfahren |
JP6505875B2 (ja) | 2016-02-10 | 2019-04-24 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
EP3575372B1 (de) | 2017-01-30 | 2022-12-28 | FUJIFILM Corporation | Aktivstrahlungshärtbare tintenzusammensetzung und tintenstrahlaufzeichnungsverfahren |
WO2018155515A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法 |
WO2018155174A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
EP3604458B1 (de) | 2017-03-30 | 2021-05-05 | FUJIFILM Corporation | Lichthärtbare tintenzusammensetzung und bilderzeugungsverfahren |
WO2018186225A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
WO2018186224A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
WO2018198993A1 (ja) | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
WO2018235534A1 (ja) | 2017-06-20 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
JP7048616B2 (ja) | 2017-07-26 | 2022-04-05 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
CN111051440B (zh) | 2017-08-29 | 2022-09-06 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
JP6882499B2 (ja) | 2017-09-27 | 2021-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法 |
WO2019188481A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
EP3778791A4 (de) | 2018-03-27 | 2021-05-19 | FUJIFILM Corporation | Lichthärtbare tintenzusammensetzung und bilderzeugungsverfahren |
GB201815407D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions |
GB201815405D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules |
JP7256592B2 (ja) | 2019-03-06 | 2023-04-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物 |
WO2020202628A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像記録方法 |
GB201904581D0 (en) | 2019-04-02 | 2019-05-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes and processes for their preparation |
CN110845471A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-02-28 | 吉安市东庆精细化工有限公司 | 一锅法合成光引发剂2,4-二乙基硫杂蒽酮的工艺 |
GB201917711D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
GB201917710D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
WO2022014292A1 (ja) | 2020-07-15 | 2022-01-20 | 富士フイルム株式会社 | セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物 |
GB202013838D0 (en) | 2020-09-03 | 2020-10-21 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Composite membrane |
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GB202015440D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compounds, compositions and polymer films |
GB202019478D0 (en) | 2020-12-10 | 2021-01-27 | Fujifilm Corp | Purifying polar liquids |
GB202101153D0 (en) | 2021-01-28 | 2021-03-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer films |
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