DE2618871C3 - Verfahren zum Herstellen von Diphenyljodoniumsalzen - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von DiphenyljodoniumsalzenInfo
- Publication number
- DE2618871C3 DE2618871C3 DE2618871A DE2618871A DE2618871C3 DE 2618871 C3 DE2618871 C3 DE 2618871C3 DE 2618871 A DE2618871 A DE 2618871A DE 2618871 A DE2618871 A DE 2618871A DE 2618871 C3 DE2618871 C3 DE 2618871C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- parts
- formula
- diphenyliodonium
- bisulfate
- salts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 7
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BCQKUSCWNFMCKI-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;hydrogen sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 BCQKUSCWNFMCKI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PWHYOGRKVRMWLT-UHFFFAOYSA-H [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1 Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1 PWHYOGRKVRMWLT-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- -1 silver tetrafluoroborate Chemical compound 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- YCZWJBIXAUQULS-UHFFFAOYSA-M bis(4-methylphenyl)iodanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC(C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 YCZWJBIXAUQULS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- JLKDVMWYMMLWTI-UHFFFAOYSA-M potassium iodate Chemical compound [K+].[O-]I(=O)=O JLKDVMWYMMLWTI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000001230 potassium iodate Substances 0.000 description 4
- 229940093930 potassium iodate Drugs 0.000 description 4
- 235000006666 potassium iodate Nutrition 0.000 description 4
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 3
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 3
- PWGVOCGNHYMDLS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxy)propan-1-amine Chemical compound COCCOCCCN PWGVOCGNHYMDLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000252095 Congridae Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- PCHPORCSPXIHLZ-UHFFFAOYSA-N diphenhydramine hydrochloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1C(OCC[NH+](C)C)C1=CC=CC=C1 PCHPORCSPXIHLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001494 silver tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- PQLLEAYSRJFMFF-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid;hydroiodide Chemical compound I.OS(O)(=O)=O PQLLEAYSRJFMFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/90—Antimony compounds
- C07F9/902—Compounds without antimony-carbon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
■Γ
in Kombination mit härtbaren Epoxyharzen vorgeschlagen. Die Haloniumsalze sind eine Quelle für einen
Lewissäure-Katalysator, der freigesetzt wird, wenn man die Mischung aus Epoxyharz und Haloniumsalz
UV-Strahlung aussetzt, und dies führt zu einer Härtung des Epoxyharzes.
Haloniumsalze, wie das vorstehend genannte, werden in Gegenwart von Silberverbindungen, wie Silberoxyd,
aus einer starken Säure HYF6 oder Silbertetrafluoroborat,
und einem geeigneten Diarylhaloniumsalz hergestellt; vgl. M. C. Casserio et al in Journal American
Chemical Society Bd. 81,1959, 336, oder M. C. Beringer
et al in Journal American Chemical Society, Bd. 81,1959,
342. Obwohl mit diesen Verfahren wirksame Ergebnisse erhalten wurden, machten die hohen Kosten der
Silberverbindungen diese Verfahren jedoch wirtschaftlich uninteressant. Es ist daher erwünscht, Haloniumsalze,
wie das oben angegebene, die als Photoinitiatoren zum Härten von Epoxyharzen eingesetzt werden
können, ohne Verwendung von Silberverbindungen herstellen zu können.
Es wurde gefunden, daß man als Photoinitiatoren für Epoxyharze brauchbare Diphenyljodoniumsalze der
eingangs genannten Art nach einem Verfahren ohne
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Diphenyljodoniumsalzen der Formel
[R2Jl+ [YF6]-
entsprechend dem vorstehenden Patentanspruch.
In der älteren deutschen Patentanmeldung P 25 18 639.4-43 wude die Verwendung von Haloniumsalzen,
wie
Verwendung von Silber herstellen kann, wenn man ein Dipheiiyljodoniumbisulfat der Formel
[R2J]+ [HSO4]- (I)
worin R die im Patentanspruch genannte Bedeutung hat,
mit einer Hexafiuorverbindung der Formel
MYFn
(2)
worin M ein Wasserstoff-, Alkali- oder Erdalka!i-Ion bedeutet, und Y die obige Bedeutung hat, unter
wäßrigen Bedingungen unter Bildung von Diphenyljodoniumsalzen der Formel
(3)
umsetzt und anschließend das Diphen.yljodoniumhexafluorid aus dem Reaktionsgemisch gewinnt.
Die für R stehenden Reste können gleich oder verschieden und mit 1 bis 5 einwertigen Resten,
ausgewählt aus Qi _ej-Alkoxy, Qi_8)-Alkyl sowie Nitro
und Chlor substituiert sein; R ist im besonderen ein Phenyl-, Chlorphenyl-, Nitrophenyl- oder Methoxyphenylrest.
Diphenyljodoniumbisulfate der Formel (1) und Verfahren zu deren Herstellung sind bekannt und z. B. in
den folgenden Druckschriften beschrieben: I. Masson, Nature 139, (1937); I. Masson und E. Raci, J. Chem. Soc,
1718 (1937); I. Masson und W. E. Hanby, J. Chem. Soc, 1699 (1937); D. A. Berry, R. W. Greenlee, W. C. Ellis und
M. M. Baldwin, Twelfth Intl. Congr. Pure and App. Chem., N. Y., N. Y., Sept. 1951, Abstrs. p. 465, und M. C.
Casserio, D. T. Glusker und J. D. Roberts, J. Am. Chem.
Soc. Bd. 81, 1959, 336. Beispiele für die Diphenyljodoniumsalze der Formel(l) sind:
Diphenyljodoniumbisulfat,
4,4'-Dichlordiphenyljodoniumbisulfat,
3,3'-Dinitrodiphenyljodoniumbisulfat,
4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumbisulfat,
3-Nitrodiphenyljodoniumbisulfatund
4,4'-Dimethoxydiphenyljodoniumbisulfat.
Beispiele für die Hexafluoridsalze von Phosphor, Arsen und Antimon der Formel (2) sind die folgenden:
NaPF6, KSbF6, Ca(PF6J2, HPF6, HAsF6, HSbF6 und
Ba(AsF6J2.
Bei der Durchführung des Verfahrens der Erfindung wird ein wäßriges Gemisch im wesentlichen äquimolarer
Mengen des Diphenyljodoniumbisulfats und des Hexafluoridsalzes von Phosphor, Arsen oder Antimon
bei einer Temperatur im Bereich von 0 bis 100°C hergestellt, wobei die Reihenfolge der Zugabe nicht
kritisch ist.
Die gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellten Diphenyljodoniumsalze können als Photoinitiatoren für
Epoxyharze eingesetzt werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert, wobei alle angegebenen Teile
Gewichtsteile sind.
Eine Lösung von etwa 200 Teilen Schwefelsäure in etwa 300 Teilen Essigsäure wurde bei einer Temperatur
zwischen 0 und 30C zu einem Gemisch aus 200 Teilen Kaliumjodat, 300 Teilen Toluol, 900 Teilen Essigsäure
und 400 Teilen Acetanhydrid unter Rühren hinzugegeben. Nach einer Zugabe der gesamten Lösung der
Schwefelsäure in der Essigsäure wurde das erhaltene Gemisch 11 Stunden gerührt Die angefallenen organischen
Salze wurden durch Filtration entfernt und mit einer geringen Menge kalten Eisessigs gewaschen. Die
erhaltene blaßgelbe Lösung wurde mit Wasser auf das Zweifache ihres Volumens verdünnt und dreimal mit
Äther extrahiert Eine kleine Menge (0,3 Teile) Natriumsulfit wurde als Reduktionsmittel hinzugegeben.
Nach dem Herstellungsverfahren erhielt man eine quantitative Ausbeute an 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumbisulfat
Eine leicht warme wäßrige Lösung im wesentlichen äquimolarer Mengen von 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumbisulfat
und Kaliumhexafluoroarsenat ließ man sich abkühlen, wobei eine weiße kristalline
Ausfällung auftrat Dieses Produkt wurde filtriert und mit destilliertem Wasser gewaschen. Einen zweiten
Anteil von Kristallen erhielt man beim weiteren Stehenlassen. Nach dem Trocknen der Kristalle über
Nacht erhielt man 27 Teile eines Produktes mit einem Schmelzpunkt von 148 bis 152°C. Die Rekristallisation
des Produktes aus einer Wasser/Äthanol-Mischung ergab ein Produkt mit einem Schmelzpunkt von 163 bis
166° C. Nach dem Herstellungsverfahren, dem NMR-Spektrum
und der Elementaranalyse für CuHuJAsFb
war das Produkt 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumhexafluorarsenat, wobei die für die vorgenannte Summenformel
errechneten Werte für C = 33,74%, H = 2,81%, As= 15,06% und die gefundenen Werte C = 33,70%,
H = 2,92% und As = 15,28% betrugen.
Eine dreiprozentige Lösung des 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumhexafluoroarsenats
in 4-Vinylcyclohexendioxyd ergab nach fünfsekundigem Bestrahlen mit einer
GE H3T7 Quecksilberbogenlampe mittleren Druckes aus einer Entfernung von etwa 15 cm einen klebrigkeitsfreien
Film.
Eine Lösung von 50 Teilen Schwefelsäure in etwa 75 Teilen Essigsäure gab man unter Rühren zu einer bei
etwa 0° C gehaltenen Lösung aus 50 Teilen Kaliumjodat, 70 t-Butylbenzol und 225 Teilen Essigsäure. Die dabei
erhaltene Mischung ließ man 3 Stunden bei O0C und weitere 8 Stunden bei Umgebungstemperatur stehen.
Die aus dem Gemisch ausgeschiedenen Salze wurden durch Filtration entfernt und die erhaltene Lösung mit
Wasser auf das Dreifache ihres Volumens verdünnt. Danach extrahiert man das Ganze dreimal mit Äther.
Man erhielt eine blaßgelbe Lösung. Die Lösung wurde in zwei Teile geteilt und zu einem davon gab man 11
Teile Kaliumhexafluoroarsenat, wobei sich unmittelbar ein weißer kristalliner Niederschlag bildete. Dieser
wurde abfiltriert und getrocknet. Man erhielt 14 Teile 4,4'-Di-t-butyldiphenyljodoniumhexafluoroarsenat mit
einem Schmelzpunkt von 169 bis 171°C. Die Identität des Produktes wurde durch sein Herstellungsverfahren
und das NMR-Spektrum bestätigt.
Eine dreiprozentige Lösung des obigen Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd wurde auf eine Glasplatte
aufgebracht und mit einer GE H3T7-Lampe aus einem bo Abstand von 15 cm bestrahlt. Nach 3 bis 5 Sekunden
solcher Bestrahlung war ein klebrigkeitsfreier harter Film enstanden.
Zu dem zweiten Teil der obigen beschriebenen Lösung von 4,4'-Di-t-butyldiphenyljodoniumbisulfat gab
man 9,4 Teile Kaliumhexafluorophosphat, wobei unmittelbar ein kristalliner Niederschlag anfiel, der abgetrennt
und getrocknet 6,5 Teile betrug. Er hatte einen Schmelzpunkt von 173 bis 174° C. Nach seinem
Herstellungsverfahren und NMR-Spektrum war es
4,4'-Di-t-butyldiphenyljodoniumhexafluorophosphat Eine dreiprozentige Lösung dieses Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd,
gehärtet unter den oben beschriebenen Bedingungen, ergab in 20 Sekunden einen harten,
klebrigkeitsfreien Film.
Das obige Beispiel 2 wurde wiederholt mit der Ausnahme, daß anstelle des Kaliumhexafluoroarsenates
Kaliumhexafluoroantimonat eingesetzt wurde. Nach der Rekristallisation aus Methylenchlorid/Diäthyläther
erhielt* man das weiße kristalline 4,4'-Di-t-Butyldiphenyljodoniumhexafluoroantimonat
mit einem Schmelzpunkt von 163 bis 165° C. Wurde eine dreiprozentige
Lösung dieses Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd dem UV-Licht aus einer C-E H3T7-Lampe aus einer Entfernung
von 15 cm ausgesetzt, dann wurde ein 0,075 mm dicker Film innerhalb von 3 Sekunden klebrigkeitsfrei.
Unter Rühren wurden 39,36 Teile Nitrobenzol zu einem Gemisch aus 7,7 Teilen Jod, 20 Teilen
Kaliumjodat und 80 Teilen Schwefelsäure bei 10°C hinzugegeben. Nach einstündigem Rühren bei dieser
Temperatur und 24stündigem Rühren bei 250C und schließlich 40 Stunden bei 45 bis 5O0C wurde das
Reaktionsgemisch auf 50C abgekühlt und mit 200 Teilen
kaltem Wasser verdünnt. Durch Vakuumfiltration wurde ein Rohprodukt abgetrennt, dieses mit Wasser,
dann Äther gewaschen und getrocknet. Nach dem Herstellungsverfahren war das Produkt 3,3'-Dinitrodiphenyljodoniumbisulfat.
Es wurde in 250 Teilen Wasser suspendiert und dazu eine Lösung von 17,1 Teilen KAsF6 in 100 Teilen Wasser hinzugegeben. Es wurde ein
blaßgelbes Produkt gebildet, das durch Filtration abgetrennt, gewaschen und dann im Vakuum getrocknet
wurde. Man erhielt 12,1 Teile 3,3'-Dinitrodiphenyljodoniumhexafluoroarsenat
mit einem Schmelzpunkt von 192 bis 195° C.
Die Identität des Produktes wurde durch seine UV- und NMR-Spektren und die Elementaranalyse bestätigt.
Für die Summenformel Ci2H8JN2O4AsF6 wurden errechnet
C=25,9%, H = 1,43%, N = 5,0%, J = 22,6% und gefunden wurden C = 26,00%, H = 1,42%, N = 5,05%
und J =22,80%.
Eine durch Auflösen von 3% des obigen Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd hergestellte Mischung wurde
unter den im vorherigen Beispiel beschriebenen Bedingungen bestrahlt. Die Härtung zum klebrigkeitsfreien
Zustand trat in 3 Sekunden ein.
Eine Lösung von 150 Teilen Essigsäure und 180 Teilen
konzentrierter Schwefelsäure wurde langsam zu 198 Teilen Chlorbenzol, 100 Teilen Kaliumjodat, 450 Teilen
Essigsäure und 216 Teilen Acetanhydrid bei 0 bis 3° C
hinzugegeben. Das erhaltene Gemisch ließ man 16 Stunden stehen und verdünnte es dann mit 500 Teilen
Wasser. Zu der dabei erhaltenen Lösung gab man 33 Teile KAsF6.
Beim Stehenlassen erhielt man eine geringe Menge weißer Kristalle mit einem Schmelzpunkt von 194 bis
5 6
195° C. Nach der Elementaranalyse war das Produkt Eine dreiprozentige Lösung dieses Salzes in dem
4,4'-Dichlordiphenyljodoniumhexafluoroarsenat Für Epoxymonomer 4-V3nylcyclohexenoxyd benötigte nur 5
die Summenformel C^HsCfeAsFe wurden errechnet: Sekunden, um unter den im Beispiel 3 beschriebenen
C 26,76%, H ί,48%, As 13,91%, und gefunden wurden Bedingungen bei der Bestrahlung zu einem klebrigkeits-
C=26,85%, H= 1,59% und As=13,72%. 5 freien Zustand zu härten.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zum Herstellen von Diphenyljodoniumsalzen der Formelin der R den Phenylrest bedeutet, der gegebenenfalls durch Alkyl-, Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, durch die Nitrogruppe oder durch Chlor substituiert sein kann und Y für Phosphor, Arsen oder Antimon steht, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Diphenyljodoniumbisulfat der Formel[R2J]+ [HSO4]-mit einer Hexafiuorverbindung der Formel
MYF6worin M ein Wasserstoff-, Alkali- oder Erdalkali-Ion bedeutet, unter wäßrigen Bedingungen umsetzt und anschließend das Diphenyljodoniumhexafluorid aus dem Reaktionsgemisch gewinnt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/574,007 US3981897A (en) | 1975-05-02 | 1975-05-02 | Method for making certain halonium salt photoinitiators |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2618871A1 DE2618871A1 (de) | 1976-11-11 |
| DE2618871B2 DE2618871B2 (de) | 1980-04-03 |
| DE2618871C3 true DE2618871C3 (de) | 1980-11-27 |
Family
ID=24294304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2618871A Expired DE2618871C3 (de) | 1975-05-02 | 1976-04-29 | Verfahren zum Herstellen von Diphenyljodoniumsalzen |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3981897A (de) |
| JP (1) | JPS51133256A (de) |
| DE (1) | DE2618871C3 (de) |
| FR (1) | FR2309500A1 (de) |
| GB (1) | GB1542068A (de) |
Families Citing this family (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4136102A (en) * | 1974-05-02 | 1979-01-23 | General Electric Company | Photoinitiators |
| US4151175A (en) * | 1976-12-09 | 1979-04-24 | General Electric Company | Method for making diarylhalonium salts |
| US4196138A (en) * | 1977-05-20 | 1980-04-01 | General Electric Company | Dicarbonyl chelate salts |
| US4231951A (en) * | 1978-02-08 | 1980-11-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
| US4310469A (en) * | 1978-12-29 | 1982-01-12 | General Electric Company | Diaryliodonium salts |
| US4197174A (en) * | 1979-03-14 | 1980-04-08 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bis-MX6 |
| US4247473A (en) * | 1979-07-19 | 1981-01-27 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio)pheny] sulfide bis-M.X6 photoinitiator |
| US4247472A (en) * | 1979-07-19 | 1981-01-27 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonic)phenyl]sulfide bis-MF6 photoinitiator |
| US4286047A (en) * | 1979-07-25 | 1981-08-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Pressure-sensitive adhesive susceptible to ultraviolet light-induced detackification |
| US4289595A (en) * | 1979-11-26 | 1981-09-15 | American Can Company | Ambient temperature curing photopolymerizable epoxide compositions utilizing epoxide ethers and methods |
| US4314917A (en) * | 1980-02-12 | 1982-02-09 | General Electric Company | High-solids epoxy prepolymer coating composition |
| US4342673A (en) * | 1980-02-12 | 1982-08-03 | General Electric Company | High-solids coating compositions |
| US4336366A (en) * | 1980-02-29 | 1982-06-22 | Ciba-Geigy Corporation | Thermally polymerizable mixtures and processes for the thermally-initiated polymerization of cationically polymerizable compounds |
| US4367251A (en) * | 1980-04-21 | 1983-01-04 | General Electric Company | UV Curable compositions and substrates treated therewith |
| US4319974A (en) * | 1980-04-21 | 1982-03-16 | General Electric Company | UV Curable compositions and substrates treated therewith |
| US4329300A (en) * | 1980-06-27 | 1982-05-11 | General Electric Company | Method for making diaryliodonium polyhalometalloid salts |
| US4328346A (en) * | 1980-08-01 | 1982-05-04 | General Electric Company | Silane-functionalized ultraviolet screen precursors |
| US4372835A (en) * | 1980-08-01 | 1983-02-08 | General Electric Co. | Silane-functionalized ultraviolet screen precursors |
| US4460677A (en) * | 1981-03-26 | 1984-07-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Visible light sensitive, thermally developable imaging systems |
| US4398013A (en) * | 1981-10-14 | 1983-08-09 | General Electric Company | Accelerator for anhydride-cured epoxy resins |
| US4399071A (en) * | 1982-03-12 | 1983-08-16 | General Electric Company | Method for making diaryliodonium salts |
| US4450360A (en) * | 1982-03-12 | 1984-05-22 | General Electric Company | Alkylaryliodonium salts and method for making |
| US4486504A (en) * | 1982-03-19 | 1984-12-04 | General Electric Company | Solventless, ultraviolet radiation-curable silicone coating compositions |
| US4537725A (en) * | 1982-09-18 | 1985-08-27 | Ciba-Geigy Corporation | Diaryliodosyl salts |
| JPS59163330A (ja) * | 1983-03-09 | 1984-09-14 | Nippon Petrochem Co Ltd | ジアリ−ルヨ−ドニウム塩の製造方法 |
| US4623666A (en) | 1984-11-06 | 1986-11-18 | Kennedy Thomas P | Pharmacological applications of diphenylhalonium ion |
| US4968581A (en) * | 1986-02-24 | 1990-11-06 | Hoechst Celanese Corporation | High resolution photoresist of imide containing polymers |
| US4837124A (en) * | 1986-02-24 | 1989-06-06 | Hoechst Celanese Corporation | High resolution photoresist of imide containing polymers |
| US4912018A (en) * | 1986-02-24 | 1990-03-27 | Hoechst Celanese Corporation | High resolution photoresist based on imide containing polymers |
| US4810613A (en) * | 1987-05-22 | 1989-03-07 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
| US5081001A (en) * | 1987-05-22 | 1992-01-14 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
| US4962171A (en) * | 1987-05-22 | 1990-10-09 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
| US4840977A (en) * | 1987-10-01 | 1989-06-20 | General Electric Company | Polymeric iodonium salts, method for making, and heat curable compositions |
| US4975300A (en) * | 1987-12-31 | 1990-12-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for curing an organic coating using condensation heating and radiation energy |
| US5399596A (en) * | 1988-03-03 | 1995-03-21 | Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. | Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof |
| FR2631958B1 (fr) * | 1988-05-31 | 1990-08-10 | Thomson Csf | Materiau organique a tres faible largeur de raie rpe et sonde de gaussmetre ou de magnetometre utilisant ce materiau |
| US5047568A (en) * | 1988-11-18 | 1991-09-10 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salts and use and preparation thereof |
| US4992571A (en) * | 1989-10-31 | 1991-02-12 | General Electric Company | Method for making octyloxy substituted diphenyl iodonium hexafluoro metalloid salts |
| JP2697937B2 (ja) * | 1989-12-15 | 1998-01-19 | キヤノン株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
| US5108859A (en) * | 1990-04-16 | 1992-04-28 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic elements and imaging method |
| DE4024661C1 (en) * | 1990-08-03 | 1992-04-02 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | Tris:tri:fluoromethane:sulphonated complexes - prepd. by mixing boron tri:fluoro:methanesulphonate with onium salt in organic solvent |
| US5559163A (en) * | 1991-01-28 | 1996-09-24 | The Sherwin-Williams Company | UV curable coatings having improved weatherability |
| US5277767A (en) * | 1991-04-08 | 1994-01-11 | Eastman Kodak Company | Electrochemical synthesis of diaryliodonium salts |
| US5102772A (en) * | 1991-07-10 | 1992-04-07 | Ibm | Photocurable epoxy composition with sulfonium salt photoinitiator |
| US5214085A (en) * | 1992-02-03 | 1993-05-25 | General Electric Company | Abrasion-resistant coating compositions with improved weatherability |
| US5488147A (en) * | 1994-07-21 | 1996-01-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Diaryliodonium fluoroalkyl sulfonate salts and a method of making |
| DE69815073T3 (de) | 1997-03-14 | 2008-07-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Co., St. Paul | Auf-anfrage-härtung von feuchtigkeithärtbaren zusammensetzungen mit reaktiven funktionellen silangruppen |
| US6488993B2 (en) | 1997-07-02 | 2002-12-03 | William V Madigan | Process for applying a coating to sheet metal |
| AU778560B2 (en) | 1999-03-26 | 2004-12-09 | David A. Lapoint | Articles coated with abrasion resistant coating |
| US6514574B1 (en) | 2000-06-29 | 2003-02-04 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for making an abrasion resistant coating onto an organic glass substrate |
| AU2002306752B2 (en) | 2001-03-30 | 2008-10-16 | The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Materials, methods, and uses for photochemical generation of acids and/or radical species |
| US6620305B2 (en) | 2001-04-10 | 2003-09-16 | Cornell Development Corporation Llc | Method and apparatus for electrochemical cells with improved anti-fouling characteristics |
| US20030138731A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-24 | Treliant Fang | Photoresist formulation for high aspect ratio plating |
| EP2428501B1 (de) | 2009-05-08 | 2018-12-12 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Diaryl-iodonium-salzmischung und herstellungsverfahren dafür sowie herstellungsverfahren für eine diaryl-iodonium-verbindung |
| US9465288B2 (en) | 2012-12-07 | 2016-10-11 | Dsp Gokyo Food & Chemical Co., Ltd. | Sulfonium salt compound, method for producing the same, and photoacid generator |
| JP6195413B2 (ja) | 2014-03-05 | 2017-09-13 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性シリコーン組成物 |
| US10059662B2 (en) | 2014-09-26 | 2018-08-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Sulfonium salt, photoacid generator, and photosensitive composition |
| US11028286B2 (en) | 2017-07-31 | 2021-06-08 | Dow Silicones Corporation | Dual curable silicone compositions |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3585227A (en) * | 1969-06-18 | 1971-06-15 | Goodrich Co B F | Trialkyl oxonium salts of the hpf6,hasf6 and hsbf6 acids |
-
1975
- 1975-05-02 US US05/574,007 patent/US3981897A/en not_active Expired - Lifetime
-
1976
- 1976-04-27 JP JP51047321A patent/JPS51133256A/ja active Granted
- 1976-04-29 DE DE2618871A patent/DE2618871C3/de not_active Expired
- 1976-04-30 GB GB7617648A patent/GB1542068A/en not_active Expired
- 1976-04-30 FR FR7612887A patent/FR2309500A1/fr active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1542068A (en) | 1979-03-14 |
| DE2618871A1 (de) | 1976-11-11 |
| DE2618871B2 (de) | 1980-04-03 |
| FR2309500A1 (fr) | 1976-11-26 |
| US3981897A (en) | 1976-09-21 |
| JPS5753767B2 (de) | 1982-11-15 |
| FR2309500B1 (de) | 1978-11-17 |
| JPS51133256A (en) | 1976-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2618871C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von Diphenyljodoniumsalzen | |
| DE3209706C2 (de) | ||
| DE2520489C2 (de) | Photopolymerisierbare Massen | |
| DE2559879C2 (de) | Aromatische Jodoniumsalze | |
| DE2559833C2 (de) | Aromatische Oniumsalze und deren Verwendung | |
| DE2754853C2 (de) | ||
| EP0377191B1 (de) | Strahlungsempfindliches, ethylenisch ungesättigte, copolymerisierbare Verbindungen und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE2518656C3 (de) | Härtbare Zusammensetzungen | |
| DE2618897A1 (de) | Haertbare zusammensetzungen | |
| EP0410263A1 (de) | Verfahren zur photoinitiierten kationischen Polymerisation sowie zur Herstellung von Reliefmustern oder Reliefbildern unter Verwendung von Sulfoniumsalzen | |
| DE2614860B2 (de) | Durch Lichteinfluß härtbare flüssige Massen | |
| DE1963731A1 (de) | Photocyclomerisation von Bismaleimiden | |
| DE2360709A1 (de) | S-triazin-vorpolymerisaten | |
| DE3523680A1 (de) | Verfahren zur herstellung von xanthon- und thioxanthonverbindungen | |
| DE2318001C3 (de) | Dienische Sulfone | |
| DE2947734C2 (de) | ||
| EP0106797B1 (de) | Diaryljodosylsalze und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE19942395A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Polythiopolycarbonsäuren | |
| EP0034837B1 (de) | P-tert.-Butylbenzalbromid und dessen am Kern durch Halogen substituierte Derivate | |
| DD207914A5 (de) | Verfahren zur herstellung von derivaten der vinylphosphon- oder vinylpyrophosphonsaeure | |
| DE2109624B2 (de) | Lichtempfindliches gemisch | |
| EP0010225B1 (de) | Negativ arbeitende mit wässrigen Alkalilösungen entwickelbare lichtvernetzbare Schichten | |
| DE3104744A1 (de) | Verfahren zur herstellung von komplexen triarylsulfoniumsalzen | |
| DE3537401A1 (de) | Verfahren zur herstellung von triarylsulfoniumsalzen | |
| CH666267A5 (en) | Xanthone and thioxanthone cpds. prodn. from benzophenone cpds. - by reaction with metal sulphide, hydrosulphide or sulphur, useful as photoinitiator |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OD | Request for examination | ||
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| 8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
| 8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: SIEB, R., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 6947 LAUDENBACH |