DE2618871A1 - Verfahren zum herstellen von haloniumsalzen - Google Patents

Verfahren zum herstellen von haloniumsalzen

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Description

Dr. rer. nat. Horst Schüler
PATENTANWALT
Kaiserstr. ·Ίΐ
ό Frankfurt/Main 1, 28. April 197t Wiiidmit?<oߥ KK Dr. Sb / Rp; Telefon (06Π) 235555 Telex: 04-16759 mapat d Postscheck-Konto: 282420-602 Frankfurt/M. Bankkonto: 225/0389 Deutsche Bank AG, Frankfurt/M.
3828-RD-7736
GENERAL ELECTRIC COMPANY
1 River Road SCiIENECTADY, N. Y. /U.S. A.
Verfahren zum Herstellen von Haloniumsalzen
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen gewisser Haloniurnsalze , wie Diphenyljodoniumhexafluoroarsenat, die als Photoinitiatoren brauchbar sind.
In der älteren deutschen Patentanmeldung P 25 18 639.4-^3 wurde die Verwendung von Haloniumsalzen, wie
BF,
60984S/1060
261887
in Kombination mit härtbaren Epoxyharzen vorgeschlagen. Die KaIoniumsalze sind eine Quelle für einen Lewissäure-Katalysator, der freigesetzt wird, wenn man die Mischung aus Epoxyharz und Haloniumsalz UV-Strahlung aussetzt, und dies führt zu einer Härtung des Epoxyharzes.
xialoniumsalse, wie das oben genannte, sind unter Verwendung von Silberverbindungen, wie Silberoxyd, gefolgt von einer starken Säure HYFg oder Silbertetrafluoroborat, hergestellt worden, die mit dem geeigneten Diarylhaloniumsalz umgesetzt wurden, wie von M. C. Casserio et al in Journal American Chemical Society 81, 33b (1959)j oder K. G. Beringer et al in Journal American Chemical Society 81, 342 (1959), beschrieben. Obwohl mit diesen Verfahren wirksame Ergebnisse erhalten wurden, machten die hohen Kosten der Silberverbindungen diese Verfahren jedoch wirtschaftlich uninteressant. Es wäre daher erwünscht, Haloniumsalze, wie das oben angegebene, die als Photoinitiatoren zum Härten von Epoxyharzen eingesetzt werden können, ohne Verwendung von Silberverbindungen herstellen zu können.
Es ist in der vorliegenden Erfindung erkannt worden, daß als Photoinitiatoren für Epoxyharze brauchbare Haloniumsalze nach einem Verfahren ohne Verwendung von Silber hergestellt werden können, das auf dem direkten Ionenaustausch zwischen einem Arylhaloniumbisulfatsalz der Formel
(R)
HSO,
und einer riexafluoro-Verbindung der Formel
MYF,
unter Bildung von Arylhaloniumsalzen der Formel
(R
1080
beruht, wobei in den obigen Formeln R ein einwertiger aromatischer organischer Rest, R ein zweiwertiger aromatiscner organischer Rest, X ein Halogenrest, wie J, Br, Cl; M ein Element wie Wasserstoff, Na, K, Mg, Ba usw. ist, Y ausgewählt ist aus den Elementen der fünften ilauptgruppe des Periodensystems, wie P, As und Sb, a Null oder 2 ist, b 0 oder 1 ist und die Summe von a + b-2 oder gleich der Wertigkeit von Z ist.
Die für R stehenden Reste können gleiche oder verschiedene aromatische oder heterocyclische Reste mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen sein, die substituiert sein können mit 1 bis 5 einwertigen Resten, ausgewählt aus Cz1-QVaIkOXy, Cz1-QVaIk1Vl sowie Nitro und Chlor, wobei R im besonderen ein Phenyl, Chlorphenyl, iiitrophenyl, Metoxyphenyl oder Pyridylrest sein kann. Die Reste für R können z. B. solche zweiwertigen Reste sein wie die folgenden:
Durch die vorliegende Erfindung wird ein Verfahren zum Herstellen von Diarylhaloniumsalzen der Formel (3) geschaffen, welches das Umsetzen eines Arylhaloniumbisulfates der Formel (1) mit einer Hexafluorsäure oder einem Salz eines Elementes der fünften Hauptgruppe des Periodensystems der Formel (2) mit nachfolgender Gewinnung eines Diarylhaloniumhexafluorids eines Elementes der Gruppe yA des Periodensystems aus der Reaktionsmischung umfaßt.
Diarylhaloniumbisulfate der Formel (1) und Verfahren zu deren Herstellung sind bekannt und z. B. in den folgenden Druckschriften beschrieben: I. Masson, Nature 139 3 150 (1937); I. Masson und E. Raci, J. Chem. Soc., 1718 (1937); I. Masson und W. E. Hanby, J. Chem. Soc, 1699 (1937); "D. A. Berry, R. W. Greenlee, W. C. Ellis und M. M. Baldwin, Twelfth Intl. Congr. Pure and App. Chem., N. Y., N.Y.a Sept. 1951, Abstrs. p. 465, und M. C. Casserio, D. T. Glusker und J. D. Roberts, J. Am. Chem. Soc, _8l 330 (1959). Beispiele für die Diarylhaloniumsalze der Formel (1)
ORIGINAL INSPECTED
sind: Diphenyljodoniuinbisulfat, 4 , V-Dichlordiphenyljodoniumbisulf at, 4,4'-üibromdiphenyljodoniumbisulfat, 3,3'-Dinitrodiphenyljodoniumbisulfat, 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumbisulfat, 4,4'-Bissuccininiidodiphenyljodoniumbislufat, 3-Nitrodiphenyljodoniumbisulfat, 4,4'-Dimethoxydiphenyljodoniumbisulfat.
Beispiele für die Hexafluoridsalze von Elementen der fünften Kauptgruppe des Periodensystems der Formel (2) sind die folgenden: NaPF0, UaAsF6, KSbPg5 KAsPg, Ca(PFg)2, HPFg, HAsFg1 HSbPg, Ba(AsFg)2, Pb(PFg)2, Zn(AsFg)2 usw.
Bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird eine wäßrige Mischung im wesentlichen äquimolarer Mengen des DiaryI-haloniumbisulfates und des Hexafluoridsalzes des Elementes der fünften riauptgruppe des Periodensystems bei einer Temperatur im Bereich von 0 bis 100 0C hergestellt, wobei die Reihenfolge der Zugabe der Bestandteile nicht kritisch ist.
Die gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellten Haloniumsalze können als Photoinitiatoren für Epoxyharze eingesetzt werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert, in denen alle angegebenen Teile Gewichtsteile sind.
Beispiel 1
Eine Lösung von etwa 200 Teilen Schwefelsäure in etwa 300 Teilen Essigsäure v/urde bei- einer Temperatur zwischen 0 und 3 °C zu einer gerührten Mischung aus 200 Teilen Kaliumjodat, 300 Teilen Toluol, 900 Teilen Essigsäure und 400 Teilen Acetanhydrid hinzugegeben. Nach der Zugabe der gesamten Lösung der Schwefelsäure in der Essigsäure wurde die erhaltene Mischung 11 Stunden gerührt. Die angefallenen organischen Salze wurden durch Filtration entfernt und mit einer geringen Menge kalten Eisessigs gewaschen. Die erhaltene blaßgelbe Lösung wurde mit Wasser auf das Zweifache ihres Volumens verdünnt und dreimal mit Äther extrahiert. Eine kleine Menge (0,3 Teile) Natriumsulfit wurde als Reduktionsmittel hinzugegeben.
609846/1060
Nach dem Herstellungsverfahren erhielt man eine quantitative Ausbeute an 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumbisulfat. Eine leicht warme wäßrige Lösung im wesentlichen äquimolarer Mengen von 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumbisulfat und Kaliumhexafluoroarsenat ließ man sich abkühlen, wobei eine weiße kristalline Ausfällung auftrat. Dieses Produkt wurde filtriert una mit destilliertem Wasser gewaschen. Einen zweiten Anteil von Kristallen erhielt man beim weiteren Stehenlassen. Nach dem Trocknen der Kristalle über Nacht erhielt man 27 Teile eines Produktes mit einem Schmelzpunkt von 148 bis 152 0C. Die Rekristallisation des Produktes aus einer Wasser/Äthanol-Mischung ergab ein Produkt mit einem Schmelzpunkt von 1Ö3 bis I66 0C1. Nach dem Herstellungsverfahren, dem NMR-Spektrum und der Elementaranalyse für C.n H1UJAsBV war das Produkt 4,4'-Dimethyldiphenyljodoniumhexafluoroarsenat, wobei die für die vorgenannte Summenformel errechneten Werte für C = 33,7^j H = 2,81 %3 As = 15,06 % und die gefundenen Werte C = 33,70 %y H = 2,92 % und As = 15,28 % betrugen.
Eine dreiprozentige Lösung des vorgenannten Haloniumhexafluoroarsenats in 4-Vinylcyclohexendioxyd ergab nach fürfsekundigem Bestrahlen mit einer GE H3T7 Quecksilberbogenlampe mittleren Druckes aus einer Entfernung von etwa 15 cm einen klebrigkeitsfreien Film.
üeispiel 2
Eine Lösung von 50 Teilen Schwefelsäure in etwa 75 Teilen Essigsäure gab man zu einer bei etwa 0 0C gehaltenen gerührten Lösung aus 5ü Teilen KaUumjodat, 70 t-Butylbenzol und 225 Teilen Essigsäure. Die dabei erhaltene Mischung ließ man 3 Stunden bei 0 0C und weitere 8 Stunden bei Umgebungstemperatur stehen. Die in der Mischung ausgeschiedenen Salze wurden durch Filtration entfernt und die erhaltene Lösung mit Wasser auf das Dreifache ihres Volumens verdünnt. Danach extrahierte man das Ganze dreimal mit A'ther. Man erhielt eine blaßgelbe Lösung. Die Lösung wurde in zwei Teile geteilt und zu einem davon gab man 11 Teile Kaliumhexafluoroarsenat, wobei sich unmittelbar ein weißer kristalliner Niederschlag bildete. Dieser wurde ab filtriert und getrocknet. Man erhielt
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14 Teile 4,4l-Di-t-butyldiphenyljodoniumhexafluoroarsenat mit einem Schmelzpunkt von I69 bis 171 °C Die Identität des Produktes wurde durch sein Herstellungsverfahren und das NMR-Spektrum bestätigt.
Eine dreiprozentige Lösung des obigen Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd wurde auf eine Glasplatte aufgebracht und mit einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm bestrahlt. Nach 3 bis 5 Sekunden solcher Bestrahlung x^ar ein klebrigkeitsfreier harter Film entstanden.
Zu dem zweiten Teil der oben beschriebenen Lösung von 4,4'-Di-tbutyldiphenyljodoniumbisulfat gab man 9,4 Teile Kaliumhexafluorophosphat, wobei unmittelbar ein kristalliner Niederschlag anfiel, der abgetrennt und getrocknet 6,5 Teile betrug. Er hatte einen Schmelzpunkt von 173 bis 174 0C. Nach seinem Herstellungsverfahren und NMR-Spektrum war es 4,4'-Di-t-butyldiphenyljodoniumhexafluorophosphat. Eine dreiporzentige Lösung dieses Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd,gehärtet unter den oben beschriebenen Bedingungen, ergab in 20 Sekunden einen harten, klebrigkeitsfreien Film.
Beispiel 3·
Das obige Beispiel wurde wiederholt mit der Ausnahme, daß anstelle des Kaliumhexafluoroarsenates Kaliumhexafluoroantimonat eingesetzt wurde. Nach der Rekristallisation aus Methylenchlorid/Diäthylather erhielt man das weiße kristalline 4,4 fV::nr-ButyldiphenyIjodoniumhexaf luoroantimonat mit einem Schmelzpunkt von I63 bis I65 0C. Wurde eine dreiprozentige Lösung dieses Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd dem UV-Licht aus einer GE H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 15 cm ausgesetzt, dann wurde ein 0,075 nun dicker Film innerhalb von 3 Sekunden klebrigkeitsfrei.
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Beispiel 4
Unter Rühren wurden 39,36 Teile Nitrobenzol zu einer Mischung von 7,7 Teilen Jod, 20 Teilen Kaliumjodat und 80 Teilen Schwefelsäure bei 10 0C hinzugegeben. Nach einstündigem Rühren bei dieser Temperatur und 24-stündigem Rühren bei 25 0C und schließlich 1IO Stunden bei 45 bis 50 0C wurde die Reaktionsmischung auf 5 0C abgekühlt und mit 200 Teilen kaltem Wasser verdünnt. Durch Vakuumfiltration wurde ein Rohprodukt abgetrennt, dieses mit Wasser, dann Äther gewaschen und getrocknet. Nach dem Herstellungsverfahren war das Produkt 3,3I-Dinitrodiphenyljodoniumbisulfat. Es wurde in 250 Teilen Wasser suspendiert und dazu eine Lösung von 17,1 Teilen KAsPg in 100 Teilen Wasser hinzugegeben. Es wurde ein blaßgelbes Produkt gebildet, das durch Filtration abgetrennt, gewaschen und dann im Vakuum getrocknet wurde. Man erhielt 12,1 Teile 3,3'-Dinitrodiphenyljodoniumhexafluoroarsenat mit einem Schmelzpunkt von 192 bis 195 °C
Die Identität des Produktes wurde durch seine UV- und NMR-Spektren und die Elementaranalyse bestätigt. Für die Summenformel C12HgJN2O11AsF6 wurden errechnet C = 25,9 St, H = 1,43 Z, N = 5,0 %, J = 22,6 5S,und gefunden wurden C = 26,00 %3 H = 1,42 ?, N = 5,05 % und J = 22,80 %.
Eine durch Auflösen von 3 % des obigen Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxyd hergestellte Mischung wurde unter den im vorherigen Beispiel beschriebenen Bedingungen bestrahlt. Die Härtung zum klebrigkeitsfreien Zustand trat in 3 Sekunden ein.
Beispiel 5
Eine Lösung von 150 Teilen Essigsäure und 180 Teilen konzentrierter Schwefelsäure wurde langsam zu 198 Teilen Chlorbenzol, 100 Teilen Kaliumjodat, 450 Teilen Essigsäure und 216 Teilen Acetanhydrid bei 0 bis 3 0C hinzugegeben. Die dabei erhaltene Mischung ließ man 16 Stunden stehen und verdünnte sie dann mit 500 Teilen Wasser. Zu der dabei erhaltenen Lösung gab man 33 Teile KAsFg.
. 6Q9846/1060
261R871
Beim Stehenlassen erhielt man eine geringe Menge weißer Kristalle mit einem Schmelzpunkt von 194 bis 195 °C. Nach der Elementaranalyse war das Produkt 4,4'-Dichlordiphenyljodoniumhexafluoroarsenat. Für die Summenformel C.pHnClpAsPg wurden errechnet: C 26,76 %t H 1,48 %, As 13,91 %3 und gefunden wurden C = 26,85 %, H = 1,59 % und As = 13S72 %. Eine dreiprozentige Lösung dieses Salzes in dem Epoxymonomer 4-Vinylcyclohexenoxyd benötigte nur 5 Sekunden, um unter den im Beispiel 3 beschriebenen Bedingungen bei der Bestrahlung zu einem klebrigkeitsfreien Zustand zu härten.

Claims (5)

  1. Patentansprüche
    gekennzeichnet durch Umsetzen eines Diarylhaloniumbisulfates der Formel
    <R >b *
    HSO,
    mit einem Alkalihexafluorosalz der Formel
    MYFC
    unter wäßrigen Bedingungen mit anschließender Gewinnung des Diarylhaloniumhexafluorids aus der Reaktionsmischung, wobei in den obigen Formeln R ein einwertiger aromatischer organischer Rest, R ein zweiwertiger aromatischer organischer Rest, X ein Halogenrest, M ausgewählt ist aus Wasserstoff-Alkalimetall-, und Erdalkalimetall-Ionen, Y ausgewählt ist aus Phosphor, Arsen und Antimon 3 a 0 oder 2 ist, b 0 oder 1 ist, die Summe von a + b=2 ist oder gleich der Wertigkeit von X.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß für X Jod steht.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß für Y Phosphor, Arsen oder Antimon steht.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1, -dadurch gekennzeichnet , daß für M Natrium steht.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß für R der Phenylrest steht.
    609846/1060
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Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4136102A (en) * 1974-05-02 1979-01-23 General Electric Company Photoinitiators
US4151175A (en) * 1976-12-09 1979-04-24 General Electric Company Method for making diarylhalonium salts
US4196138A (en) * 1977-05-20 1980-04-01 General Electric Company Dicarbonyl chelate salts
US4231951A (en) * 1978-02-08 1980-11-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4310469A (en) * 1978-12-29 1982-01-12 General Electric Company Diaryliodonium salts
US4197174A (en) * 1979-03-14 1980-04-08 American Can Company Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bis-MX6
US4247473A (en) * 1979-07-19 1981-01-27 American Can Company Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio)pheny] sulfide bis-M.X6 photoinitiator
US4247472A (en) * 1979-07-19 1981-01-27 American Can Company Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonic)phenyl]sulfide bis-MF6 photoinitiator
US4286047A (en) * 1979-07-25 1981-08-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure-sensitive adhesive susceptible to ultraviolet light-induced detackification
US4289595A (en) * 1979-11-26 1981-09-15 American Can Company Ambient temperature curing photopolymerizable epoxide compositions utilizing epoxide ethers and methods
US4342673A (en) * 1980-02-12 1982-08-03 General Electric Company High-solids coating compositions
US4314917A (en) * 1980-02-12 1982-02-09 General Electric Company High-solids epoxy prepolymer coating composition
US4336366A (en) * 1980-02-29 1982-06-22 Ciba-Geigy Corporation Thermally polymerizable mixtures and processes for the thermally-initiated polymerization of cationically polymerizable compounds
US4319974A (en) * 1980-04-21 1982-03-16 General Electric Company UV Curable compositions and substrates treated therewith
US4367251A (en) * 1980-04-21 1983-01-04 General Electric Company UV Curable compositions and substrates treated therewith
US4329300A (en) * 1980-06-27 1982-05-11 General Electric Company Method for making diaryliodonium polyhalometalloid salts
US4372835A (en) * 1980-08-01 1983-02-08 General Electric Co. Silane-functionalized ultraviolet screen precursors
US4328346A (en) * 1980-08-01 1982-05-04 General Electric Company Silane-functionalized ultraviolet screen precursors
US4460677A (en) * 1981-03-26 1984-07-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible light sensitive, thermally developable imaging systems
US4398013A (en) * 1981-10-14 1983-08-09 General Electric Company Accelerator for anhydride-cured epoxy resins
US4450360A (en) * 1982-03-12 1984-05-22 General Electric Company Alkylaryliodonium salts and method for making
US4399071A (en) * 1982-03-12 1983-08-16 General Electric Company Method for making diaryliodonium salts
US4486504A (en) * 1982-03-19 1984-12-04 General Electric Company Solventless, ultraviolet radiation-curable silicone coating compositions
US4537725A (en) * 1982-09-18 1985-08-27 Ciba-Geigy Corporation Diaryliodosyl salts
JPS59163330A (ja) * 1983-03-09 1984-09-14 Nippon Petrochem Co Ltd ジアリ−ルヨ−ドニウム塩の製造方法
US4623666A (en) 1984-11-06 1986-11-18 Kennedy Thomas P Pharmacological applications of diphenylhalonium ion
US4968581A (en) * 1986-02-24 1990-11-06 Hoechst Celanese Corporation High resolution photoresist of imide containing polymers
US4837124A (en) * 1986-02-24 1989-06-06 Hoechst Celanese Corporation High resolution photoresist of imide containing polymers
US4912018A (en) * 1986-02-24 1990-03-27 Hoechst Celanese Corporation High resolution photoresist based on imide containing polymers
US4810613A (en) * 1987-05-22 1989-03-07 Hoechst Celanese Corporation Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
US5081001A (en) * 1987-05-22 1992-01-14 Hoechst Celanese Corporation Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
US4962171A (en) * 1987-05-22 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
US4840977A (en) * 1987-10-01 1989-06-20 General Electric Company Polymeric iodonium salts, method for making, and heat curable compositions
US4975300A (en) * 1987-12-31 1990-12-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for curing an organic coating using condensation heating and radiation energy
US5399596A (en) * 1988-03-03 1995-03-21 Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof
FR2631958B1 (fr) * 1988-05-31 1990-08-10 Thomson Csf Materiau organique a tres faible largeur de raie rpe et sonde de gaussmetre ou de magnetometre utilisant ce materiau
US5047568A (en) * 1988-11-18 1991-09-10 International Business Machines Corporation Sulfonium salts and use and preparation thereof
US4992571A (en) * 1989-10-31 1991-02-12 General Electric Company Method for making octyloxy substituted diphenyl iodonium hexafluoro metalloid salts
JP2697937B2 (ja) * 1989-12-15 1998-01-19 キヤノン株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
US5108859A (en) * 1990-04-16 1992-04-28 Eastman Kodak Company Photoelectrographic elements and imaging method
DE4024661C1 (en) * 1990-08-03 1992-04-02 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Tris:tri:fluoromethane:sulphonated complexes - prepd. by mixing boron tri:fluoro:methanesulphonate with onium salt in organic solvent
US5559163A (en) * 1991-01-28 1996-09-24 The Sherwin-Williams Company UV curable coatings having improved weatherability
US5277767A (en) * 1991-04-08 1994-01-11 Eastman Kodak Company Electrochemical synthesis of diaryliodonium salts
US5102772A (en) * 1991-07-10 1992-04-07 Ibm Photocurable epoxy composition with sulfonium salt photoinitiator
US5214085A (en) * 1992-02-03 1993-05-25 General Electric Company Abrasion-resistant coating compositions with improved weatherability
US5488147A (en) * 1994-07-21 1996-01-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Diaryliodonium fluoroalkyl sulfonate salts and a method of making
EP0966503B2 (de) 1997-03-14 2008-01-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Auf-anfrage-härtung von feuchtigkeithärtbaren zusammensetzungen mit reaktiven funktionellen silangruppen
US6488993B2 (en) 1997-07-02 2002-12-03 William V Madigan Process for applying a coating to sheet metal
WO2000058024A1 (en) 1999-03-26 2000-10-05 Lapoint David A Articles coated with abrasion resistant coating
US6514574B1 (en) 2000-06-29 2003-02-04 Essilor International Compagnie Generale D'optique Process for making an abrasion resistant coating onto an organic glass substrate
EP2236488A1 (de) 2001-03-30 2010-10-06 The Arizona Board of Regents on behalf of the University of Arizona Materialien, Verfahren und Verwendungen zur fotochemischen Erzeugung von Säuren und/oder Radikalenspezies
US6620305B2 (en) 2001-04-10 2003-09-16 Cornell Development Corporation Llc Method and apparatus for electrochemical cells with improved anti-fouling characteristics
US20030138731A1 (en) * 2001-12-21 2003-07-24 Treliant Fang Photoresist formulation for high aspect ratio plating
EP2428501B1 (de) 2009-05-08 2018-12-12 Nippon Shokubai Co., Ltd. Diaryl-iodonium-salzmischung und herstellungsverfahren dafür sowie herstellungsverfahren für eine diaryl-iodonium-verbindung
TWI573782B (zh) 2012-12-07 2017-03-11 Ｄｓｐ五協食品＆化學品股份有限公司 新穎鋶鹽化合物、其製造方法及光酸產生劑
JP6195413B2 (ja) 2014-03-05 2017-09-13 信越化学工業株式会社 放射線硬化性シリコーン組成物
JP6700188B2 (ja) 2014-09-26 2020-05-27 東京応化工業株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、及び感光性組成物
CN110997816B (zh) 2017-07-31 2022-08-23 美国陶氏有机硅公司 双重可固化有机硅组合物

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3585227A (en) * 1969-06-18 1971-06-15 Goodrich Co B F Trialkyl oxonium salts of the hpf6,hasf6 and hsbf6 acids

Also Published As

Publication number Publication date
GB1542068A (en) 1979-03-14
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JPS51133256A (en) 1976-11-18
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DE2618871B2 (de) 1980-04-03

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