JP2001337460A - 平版印刷版用原版 - Google Patents

平版印刷版用原版

Info

Publication number
JP2001337460A
JP2001337460A JP2000337792A JP2000337792A JP2001337460A JP 2001337460 A JP2001337460 A JP 2001337460A JP 2000337792 A JP2000337792 A JP 2000337792A JP 2000337792 A JP2000337792 A JP 2000337792A JP 2001337460 A JP2001337460 A JP 2001337460A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
layer
acid
printing plate
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000337792A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidekazu Ohashi
秀和 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000337792A priority Critical patent/JP2001337460A/ja
Priority to EP01106393A priority patent/EP1136281B1/en
Priority to DE60113730T priority patent/DE60113730T2/de
Priority to EP03021157A priority patent/EP1371500B1/en
Priority to DE60101807T priority patent/DE60101807T2/de
Priority to AT01106393T priority patent/ATE258115T1/de
Priority to US09/812,053 priority patent/US6680161B2/en
Publication of JP2001337460A publication Critical patent/JP2001337460A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
    • B41N1/083—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • B41N1/14—Lithographic printing foils
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1025—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials using materials comprising a polymeric matrix containing a polymeric particulate material, e.g. hydrophobic heat coalescing particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/06—Backcoats; Back layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/10—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/366—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties using materials comprising a polymeric matrix containing a polymeric particulate material, e.g. hydrophobic heat coalescing particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/165—Thermal imaging composition
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/167—X-ray
    • Y10S430/168—X-ray exposure process

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水又は水溶液によって現像可能な、あるいは
画像書き込み後、現像することなしにそのまま印刷機に
装着し印刷することが可能であり、感度が高く、耐刷性
も良く、かつ残色、汚れの生じない印刷物を与えること
ができ、更に、赤外線を放射する固体レーザー又は半導
体レーザー等を用いて記録することにより、ディジタル
データから直接製版可能な平版印刷版用原版を提供す
る。 【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、ラテッ
クスを含有する層（Ａ層）と、熱により水および水溶液
の少なくともいずれかに対する溶解性が変化するインク
受容性層（Ｂ層）とを順に有し、Ａ層とＢ層の少なくと
も１層に光熱変換剤を含有することを特徴とし、Ａ層が
含有するラテックスとして、架橋された有機樹脂粒子を
用いることにより、より良好な画像部強度、即ち耐刷性
を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用原版に
関する。より詳しくは、ディジタル信号に基づいた走査
露光による製版が可能であり、且つ水現像可能な、ある
いは現像することなしにそのまま印刷機に装着し印刷す
ることが可能な平版印刷版用原版に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版用原版と
しては、従来、親水性支持体上に、親油性の感光性樹脂
層（記録層）を設けたＰＳ版が広く用いられ、その製版
方法として、通常は、リスフイルムを介してマスク露光
した後、非画像部を現像液によって溶解除去することに
より所望の印刷版を得ていた。
【０００３】近年、画像情報をコンピュータを用いて電
子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く
普及してきており、この様な、ディジタル化技術に対応
した、新しい画像出力方式が種々実用される様になっき
た。これに伴い、レーザ光の様な指向性の高い活性放射
線をディジタル化された画像情報に応じて走査し、リス
フィルムを介することなく、直接印刷版を製造するコン
ピュータ トゥ プレート技術が切望されており、これ
に適応した印刷版用原版を得ることが重要な技術課題と
なっている。
【０００４】他方、従来のＰＳ版に於ける製版行程は、
露光の後、非画像部を溶解除去する工程が不可欠であ
り、この様な付加的な湿式の処理が不可欠であるという
点は、従来技術に対し、改善の望まれてきたもう一つの
課題である。特に近年は、地球環境への配慮が産業界全
体の大きな関心事となっている。処理の簡素化、乾式
化、無処理化は、この様な環境面と、先述のディジタル
化に伴った工程の合理化の両方の観点から、従来にも増
して、強く望まれる。この様な観点から、印刷版用原版
の非画像部の除去を通常の印刷過程のなかで行えるよう
な感光層を用い、現像工程を行うことなく、露光後、印
刷機上で現像し最終的な印刷版を得る機上現像方式があ
るが、従来のＰＳ版を機上現像方式の印刷版に応用する
場合、原版は露光後も、感光層が定着されないため、例
えば、印刷機に装着するまでの間、版を完全に遮光及び
／もしくは恒温条件にて保存しなければならない。
【０００５】このような課題に対し、半導体レーザ、Ｙ
ＡＧレーザ等の固体レーザで高出力なものを用いた高パ
ワー密度露光系では、従来の、低〜中パワー密度露光用
感光材料系に利用される光反応とは異なった、具体的に
は、化学変化の他、相変化、形態変化等の構造変化を利
用した様々な現像ができる。このような高パワー密度露
光による記録方式はヒートモード記録と呼ばれる。
【０００６】また、従来のヒートモードポジ方式原版に
は別の大きな問題として非画像部への残膜があった。即
ち、インク受容性層中の支持体近傍での露光による溶解
性変化が、インク受容性層表面近傍に比較して小さいと
いう点の改良が必要であった。該ヒートモードポジ型原
版においては、ヒートモード露光時の熱の発生はインク
受容性層中の光吸収剤の光吸収に基くものであるため、
熱の発生量はインク受容性層表面で大きく、支持体近傍
では小さいため、支持体近傍でのインク受容性層の親水
化の程度が比較的低くなってしまうものである。結果と
して、しばしば、本来、親水性表面を提供すべき露光部
において、疎水性の残膜が生じることがあった。この様
な、非画像部の残膜は、印刷性能上汚れやすいという問
題を生じる。特に、印刷適性上好ましいアルミニウムの
ような熱伝導性の高い金属支持体を用いた場合、熱拡散
によって、一層、支持体近傍での温度上昇が妨げられる
ため、残膜の問題は顕著である。基板付近の十分な親水
性を得るためには、極端に大きな露光エネルギーを要す
るか、若しくは露光後の加熱といった後処理を実施する
必要があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記の様なヒートモー
ド刷版における露光時の支持体への熱拡散による弊害を
改善する方法として、例えば、特開昭５２−３７１０４
号公報や、特開昭５２−１１８４１７号公報には支持体
表面に一定の厚さ以上の酸化アルミニウムの層を設けて
熱拡散を低減する方法が提案されている。この方法は確
かに効果はあるが、不十分であり、ヒートモードポジ刷
版の残膜をなくすには至らないのが現状である。
【０００８】従って、本発明の目的は、前記従来におけ
る問題を解決することであり、水又は水溶液によって現
像可能な、あるいは画像書き込み後、現像することなし
にそのまま印刷機に装着し印刷することが可能な平版印
刷版用原版であって、感度が高く、耐刷性も良く、かつ
残色、汚れの生じない印刷物を与えることができる平版
印刷版用原版を提供することである。また、本発明の他
の目的は、特に赤外線を放射する固体レーザー又は半導
体レーザー等を用いて記録することにより、ディジタル
データから直接製版可能な平版印刷版用原版を提供する
ことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果、下記平版印刷版原
版を用いることにより解決できることを見出し、本発明
を完成するに至った。即ち本発明は以下の通りである。 （１）親水性表面を有する支持体上に、ラテックスを含
有する層（Ａ層）と、熱により水および水溶液の少なく
ともいずれかに対する溶解性が変化するインク受容性層
（Ｂ層）とを順に有し、Ａ層とＢ層の少なくとも１層に
光熱変換剤を含有することを特徴とする平版印刷版用原
版。 （２）前記ラテックスが架橋された有機樹脂粒子である
ことを特徴とする前記（１）の平版印刷版用原版。 （３）前記ラテックスを含有する層（Ａ層）の塗布量が
０．０５〜２．０ｇ／ｍ 2の範囲であり、描画用レーザ
ー光の波長における吸光度が0.３〜２の範囲であること
を特徴とする前記（１）の平版印刷版用原版。
【００１０】なお、上記本発明の平版印刷版用原版にお
いて、「水および水溶液」について説明する。「水」と
は、本発明の平版印刷版用原版において、そのインク受
容性層が、後述の極性変換高分子化合物（ポジ型、ネガ
型を問わず）を含有するものである場合、その非画像部
を溶解できる物であれば、純水であっても、その他の成
分を含んでいるものであってもよく、また、印刷時にお
いて、インクと共に供給する湿し水であってもよい。ま
た、「水溶液」とは上記の湿し水の他、前記インク受容
性層がアルカリ水溶液可溶性樹脂（ポジ型、ネガ型を問
わず）を含有するものである場合、従来公知のアルカリ
現像液も含めるものである。なお、上述の如く、湿し水
は「水」、「水溶液」のいずれにも該当する。
【００１１】本発明の平版印刷用原版によれば、露光部
では、露光後の光熱変換により発生した熱により、Ｂ層
は、画像様に水または水溶液に可溶化（ポジ化）もしく
は不溶化（ネガ化）する。その際、Ａ層に光熱変換剤が
存在しているならば、Ｂ層の水または水溶液に対する溶
解性の変化は、Ａ層とＢ層の界面から進行する。Ｂ層の
溶解性変化がポジ化であるならば、界面から溶解が進行
するために、Ａ層とＢ層の密着性が悪くなる。従って、
Ｂ層全てが可溶化しなくても完全に除去することができ
る。一方、ネガ化するＢ層の場合は、界面から不溶化が
進行するために、Ａ層とＢ層の密着性が良化する。従っ
て、Ｂ層全てが不溶化しなくても完全に除去されること
がない。即ち、光熱変換剤を含有したＡ層を用いると、
全てのＢ層の溶解性を変化させる必要が無く、平版印刷
版は高感度になる。また、Ｂ層に光熱変換剤が存在して
いるならば、Ｂ層の水または水溶液に対する溶解性の変
化は、Ｂ層の表面から進行する。この場合、Ａ層が存在
すると、Ｂ層の基板近傍部分は、基板への熱拡散が抑制
され、溶解性変化に必要な温度まで十分に加熱される。
従って、Ｂ層がポジ化するのであれば、残膜が発生する
ことがなく、逆にネガ化するのであれば基板との密着性
が良化する。即ち、Ａ層が存在することで、Ｂ層の溶解
性変化を完全に進行させることができる。さらに、Ａ層
とＢ層の両方に光熱変換剤が含有されている場合には、
光熱変換剤の含有量を適宜調整することにより、前述の
二つの効果を同時に発現することができる。感度、密着
性、印刷適性、コスト等を考慮すると、Ａ層もしくはＡ
層とＢ層の両方に光熱変換剤を含有するのがより好まし
い。
【００１２】上記の平版印刷版用原版を水または水溶液
による現像や機上現像すると、Ｂ層は画像様に除去され
る。一方、ラテックスが純水、アルカリ水溶液、メタノ
ール、アセトン、ＭＥＫ、ＭＦＧ、イソプロパノール、
アセトニトリル等の溶媒に対しては不溶性であるため
に、Ａ層は現像により除去されることはない。従って、
Ａ層表面が露出されることになる。しかしながら、ラテ
ックスを含有するＡ層は、通常の線状高分子化合物を含
有する層とは異なり、粒子が集まって積み重なった構造
を有しているので、印刷工程中の版胴による擦り等の外
力によって、露出された部分の粒子はバラバラにされて
支持体上から除去される。これによって、親水性の支持
体表面が露出し、汚れのない良好な非画像部が形成され
る。一方画像部は、Ａ層の上にＢ層が存在するために、
印刷時にＡ層が直接外力を受けることが無く、画像部Ａ
層中のラテックスが印刷中にバラバラにされることはな
い。また、感度が高くなる、Ｂ層の溶解性変化を完全に
起こすことができる。平版印刷用原版のＡ層において、
ラテックスの代わりに水溶性ポリマー等の水または水溶
液に溶解するポリマーを用いることができるが、そのよ
うなポリマーを用いた場合、Ａ層は現像によって除去さ
れてしまう。画像部のＡ層はＢ層が上に存在するため
に、非画像部よりは現像される速度は遅いが、やはり横
からは溶解される。そのため耐刷に要求される基板と接
している部分が小さく（細く）なるために画像部強度が
弱くなる。特に水溶性ポリマーを用いた場合には、印刷
中に湿し水によって徐々にＡ層が溶けていってしまうた
めに、さらに耐刷性が悪くなる。これに対して、本発明
の平版印刷用原版におけるラテックスを用いたＡ層は、
ラテックスは各種溶剤に不溶性であるために、水やアル
カリ水溶液等の現像液や印刷中の湿し水などによって溶
解されることが無い。
【００１３】以上のような理由から、本発明の平版印刷
用原版におけるラテックスを含有するＡ層を用いると、
良好な画像部強度、即ち耐刷性が得られる。上記のＡ層
とＢ層を有する平版印刷版は、赤外線を放出する固体レ
ーザー及び半導体レーザーを用いて記録することによ
り、コンピューター等のデジタルデータから直接製版可
能であり、感度が高く、耐刷性も良く、かつ汚れの生じ
ない感光性平版印刷版となる。
【００１４】また、Ａ層に含有されるラテックスとして
架橋のない有機樹脂粒子を用いる場合、平均粒子径が小
さすぎると、製膜乾燥時に起きる若干の融着のために、
機上現像性が悪くなってしまう。このため良好な機上現
像性を確保するためには、平均粒子径が４０nm以上の粒
子を用いる必要がある。これに対し、架橋がかかった有
機樹脂粒子を用いる場合は、架橋によって粒子形状がし
っかりと保持されるために、平均粒子径が小さくても、
製膜乾燥時に融着が起きることが無い。従って、平均粒
子径が２０nm程度でも良好な機上現像性を確保できる。
平均粒子径が小さくなると、基板及びＡ層と接触する面
積が大きくなるので、基板及びＡ層との密着性が良くな
り、耐刷性が向上する。以上のような理由から、Ａ層に
含有されるラテックスとしては、特に架橋された有機樹
脂粒子を用いると、より良好な画像部強度、即ち耐刷性
が得られる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明による平版印刷用原版は、親水性表面を有
する支持体上に、ラテックスを含有する層（Ａ層）と熱
により水または水溶液の少なくともいずれかに対する溶
解性が変化するインク受容性層（Ｂ層）をこの順に形成
して成り、Ａ層とＢ層の少なくとも１層に光熱変換剤を
含有することを特徴とする平版印刷版用原版である。は
じめに、本発明の平版印刷用原版の特徴である、ラテッ
クスを含有する層（Ａ層）について説明する。
【００１６】［ラテックスを含有する層（Ａ層）］本発
明に用いられる「ラテックスを含有する層」（以下Ａ層
と呼ぶ）とは、少なくとも以下に説明するラテックスを
含有する層を指す。 （ラテックス）本発明に用いられるラテックスとは、熱
伝導率分布を変化させてＡ層及び／又はＢ層で発生した
熱を効率よく利用できるものであれば特に限定はしない
が粒状物の有機粒子が特に好ましい。使用の際に次の注
意を払うことが必要である。樹脂粒子を分散させる際に
溶剤を用いるときはその溶剤に溶解しない樹脂粒子を選
択するか、樹脂粒子を溶解しない溶剤を選択する必要が
ある。また、樹脂粒子を熱可塑性ポリマーと熱により分
散させる際には樹脂粒子が分散させるときの熱により溶
融したり、変形したり、分解しないような物を選択する
必要がある。これらの注意点を軽減する物として、架橋
された樹脂粒子を好ましく使用することができる。有機
粒子は0.01〜10μｍ、好ましくは0.05〜10μｍ、さらに
好ましくは0.05〜５μｍの平均粒径を有する。有機粒子
の平均粒径が0.01μｍを下回ると、Ａ層の除去性、熱伝
導率分布変化は、効果が見られるほど改良されない。10
μｍを上回ると、印刷物の解像度が悪くなったり、支持
体との接着性が極端に悪くなって画像部の強度が低下す
る。
【００１７】Ａ層におけるラテックスの含有量は、どの
ような含有量でも使用することができるが、２重量％以
上が好ましく、５重量％以上がより好ましい。粒子の含
有量が２重量％を下回ると、Ａ層の除去性、熱伝導率分
布変化は、効果が見られるほど改良されない。有機粒子
としては、ポリスチレン粒子（粒径0.01〜10μｍ）、シ
リコーン樹脂粒子（粒径0.01〜４μｍ）等が挙げられ
る。架橋された樹脂粒子としては、例えば、２種以上の
エチレン性不飽和モノマーから成るマイクロゲル（粒径
0.01〜１μｍ）、スチレンとジビニルベンゼンとから成
る架橋樹脂粒子（粒径0.01〜10μｍ）、メチルメタクリ
レートとジエチレングリコールジメタクリレートとから
なる架橋樹脂粒子（粒径0.01〜10μｍ）等、つまりアク
リル樹脂のマイクロゲル、架橋ポリスチレン及び架橋メ
チルメタクリレート等が挙げられる。これらは乳化重合
法、ソープフリー乳化重合法、シード乳化重合法、分散
重合法、懸濁重合法等の一般的な方法で調製される。
【００１８】［その他成分］本発明のＡ層には、ラテッ
クスの他に必要に応じて以下の成分を含有する事ができ
る。 （有機高分子化合物）本発明の平版印刷版用原版のＡ層
には、製膜性を上げるために有機高分子化合物を添加す
ることができる。かかる有機高分子化合物としては、ア
クリル樹脂、メタアクリル樹脂、スチリル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂等を用いるこ
とができる。そのうち、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、スチリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂が有用であり、特にアクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、ポリウレタン樹脂が有用である。また、本発明の平
版印刷版用原版のＡ層に添加される有機高分子化合物の
GPCで測定した重量平均分子量は、好ましくは2000以上
であり、更に好ましくは5000〜30万の範囲であり、数平
均分子量は好ましくは800以上であり、更に好ましくは1
000〜25万の範囲である。多分散度（重量平均分子量／
数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは1.
1〜10の範囲である。これらの有機高分子化合物は、ラ
ンダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー
等何れでも良いが、ランダムポリマーであることが好ま
しい。上記のような有機高分子化合物がラテックスを含
む層に含まれる場合、有機高分子化合物の割合は、50重
量％以下が好ましく、40重量％以下がより好ましい。添
加量が50重量％より多い場合は、Ａ層の除去性が悪くな
り、非画像部の汚れ性が低下する。
【００１９】［光熱変換剤］本発明の平版印刷版用原版
のラテックスを含有する層に含まれ得る、レーザー光を
吸収して熱に変換しうる光熱変換剤について説明する。
本発明において好ましく使用される光熱変換剤は、波長
７６０〜１２００ｎｍの光を有効に吸収する染料又は顔
料である。より好ましくは、波長７６０〜１２００ｎｍ
に吸収極大を有する染料又は顔料である。染料として
は、市販の染料及び文献（例えば「染料便覧」有機合成
化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知の
ものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩ア
ゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フ
タロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、シアニン染料、金属チオレート錯体等
の染料が挙げられる。
【００２０】好ましい染料としては例えば、シアニン染
料、メチン染料、ナフトキノン染料、スクワリリウム色
素等を挙げることができる。また、近赤外吸収増感剤も
好適に用いられ、置換されたアリールベンゾ（チオ）ピ
リリウム塩、トリメチンチアピリリウム塩、ピリリウム
系化合物、シアニン色素、ペンタメチンチオピリリウム
塩等やピリリウム化合物も好ましく用いられ。また、染
料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，
９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されて
いる近赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染
料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、ス
クワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート
錯体が挙げられる。
【００２１】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
【００２２】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。
【００２３】顔料の粒径は０．０１〜１０μｍの範囲に
あることが好ましく、０．０５〜１μｍの範囲にあるこ
とが更に好ましく、特に０．１〜１μｍの範囲にあるこ
とが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは
分散物のラテックスを含有する層およびインク受容性層
の塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、１０
μｍを越えると塗布後のラテックスを含有する層および
インク受容性層の均一性の点で好まくない。顔料を分散
する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いら
れる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超
音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、
スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザ
ー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロー
ルミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新
顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載が
ある。
【００２４】これらの染料若しくは顔料は、本発明の平
版印刷版用原版のＡ層およびインク受容性層の全固形物
分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１
０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０重量
％、顔料の場合特に好ましくは１．０〜１０重量％の割
合で添加することができる。顔料若しくは染料の添加量
が０．０１重量％未満であると感度が低くなり、また５
０重量％を越えると印刷時非画像部に汚れが発生しやす
い。
【００２５】［固体粒子］本発明の平版印刷版用原版の
Ａ層には、光熱変換剤の他に無機粒子や金属粒子を添加
しても良い。これらの粒子としては、Ａ層の除去性を助
長すると共に、熱伝導率分布を変化させてＡ層及び／又
はＢ層で発生した熱を効率よく利用できる粒子が好まし
い。無機粒子としては、例えば酸化亜鉛、二酸化チタ
ン、酸化鉄、ジルコニア等の金属酸化物；無水ケイ酸、
含水ケイ酸カルシウム及び含水ケイ酸アルミニウム等そ
れ自体は可視域に吸収を持たないホワイトカーボンとも
呼ばれている珪素含有酸化物；クレー、タルク、カオリ
ン、ふっ石等の粘土鉱物粒子等が使用できる。また、金
属粒子としては、例えばアルミニウム、銅、ニッケル、
銀、鉄等が使用できる。無機粒子又は金属粒子は10μｍ
以下、好ましくは0.01〜10μｍ、さらに好ましくは0.1
〜５μｍの平均粒径を有する。無機粒子又は金属粒子の
平均粒径が0.01μｍを下回ると、Ａ層の除去性、熱伝導
率分布変化は、効果が見られるほど改良されない。10μ
ｍを上回ると、印刷物の解像度が悪くなったり、支持体
との接着性が極端に悪くなって画像部の強度が低下す
る。無機粒子又は金属粒子は、ラテックスが好ましい含
有量で使用されている限り、どのような含有量でも使用
することができるが、含有する場合は90重量％以下が好
ましく、80重量％以下がより好ましい。粒子の含有量が
90重量％を上回ると、印刷物の解像度が悪くなったり、
支持体との接着性が極端に悪くなって画像部の強度が低
下する。
【００２６】［界面活性剤］本発明の平版印刷用原版の
Ａ層中には、印刷条件に対する安定性を拡げるため、特
開昭62-251740号公報や特開平3-208514号公報に記載さ
れているような非イオン界面活性剤、特開昭59-121044
号公報、特開平4-13149号に記載されているような両性
界面活性剤を添加することができる。非イオン界面活性
剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソ
ルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、
ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテル等が挙げられる。両性界面活性剤の
具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシ
ン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2-アル
キル-N-カルボキシエチル-N-ヒドロキシエチルイミダゾ
リニウムベタインやN-テトラデシル-N,N-ベタイン型
（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等
が挙げられる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活
性剤のＡ層全固形物中に占める割合は、0.05〜15重量％
が好ましく、0.1〜５重量％がより好ましい。
【００２７】［その他］さらに、本発明の平版印刷版用
原版のＡ層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等
が用いられる。本発明の平版印刷版用原版のＡ層は、通
常上記各成分を溶媒に分散及び溶解させて、適当な支持
体上に塗布することにより製造することができる。ここ
で使用する溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチレ
ンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、2-メトキシエチルアセ
テート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1-メ
トキシ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、N,N-ジメチルホルムアミド、
N,N-ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳
酸エチル、乳酸メチル、ジメチルスルホキシド、水、ス
ルホラン、γ-ブチロラクトン等を挙げることができる
がこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独
或いは混合して使用される。塗布液を調製する場合、溶
媒中の上記Ａ層構成成分（添加剤を含む全固形分）の濃
度は、好ましくは１〜50重量％である。
【００２８】塗布する方法としては、公知の種々の方法
を用いることができるが、例えば、バーコター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。本発明の平版印刷版用原版のＡ層中に
は、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭
62-170950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、Ａ
層全固形物分に対し、0.01〜１重量％であり、更に好ま
しくは0.05〜0.5重量％である。塗布、乾燥後に得られ
るＡ層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、
一般的な平版印刷版用原版についていえば、０．０５〜
２．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．１〜１．５ｇ／ｍ2がよ
り好ましい。塗布量が０．０５ｇ／ｍ2以下では断熱性
が不足であり、上層（Ｂ層）の極性変化（水または水溶
液に可溶化または不溶化する変化）が不十分で、残膜
（可溶化する場合）もしくは画像部強度の低下（不溶化
する場合）を招く。塗布量が２．０ｇ／ｍ2以上では印
刷時の力に対する中間層（Ａ層）の耐性がなくなり、画
像部の強度が低下する。描画用レーザー光の波長におけ
る吸光度が０．３未満では、下から加熱する効果が十分
でないためにＢ層の変化が不十分なものになる。吸光度
が２を超えて高くなると、Ａ層に添加する色素などの光
熱変換剤量が多くなりすぎて、Ａ層の強度が不十分なも
のになり画像部の強度が低下し不適である。
【００２９】［インク受容性層］次に、インク受容性層
について説明する。本発明の平版印刷版用原版に用いら
れるインク受容性層（Ｂ層）は、露光後の光熱変換によ
り発生した熱により、画像様に水または水溶液に可溶化
（ポジ化）もしくは不溶化（ネガ化）する層であれば、
どの様な層でも用いることができる。ポジ化するＢ層と
して好ましいのは、熱により親水性に変化する疎水性高
分子化合物（以下、ポジ型極性変換高分子化合物と呼ぶ
ことがある）を含む層やアルカリ水溶液可溶性樹脂を含
む層であり、ネガ化するＢ層として好ましいのは、熱に
より疎水性に変化する親水性高分子化合物（以下、ネガ
型極性変換高分子化合物と呼ぶことがある）を含む層や
アルカリ水溶液可溶性樹脂と架橋する化合物を含む層や
熱融着型感熱層である。
【００３０】［ポジ型極性変換高分子化合物を含む層］
本発明の平版印刷版用原版に用いられる「ポジ型極性変
換高分子化合物を含む層」とは、少なくとも以下に説明
されるポジ型極性変換高分子化合物を含有する層を指
す。
【００３１】［ポジ型極性変換高分子化合物］本発明に
用いられるポジ型極性変換高分子化合物とは、前述した
通り、熱により親水性に変化する疎水性高分子化合物で
ある。そのような高分子化合物としては、側鎖に熱によ
り親水性に変化する疎水性官能基を有する疎水性高分子
化合物が挙げられる。この変化は、レーザー露光後の光
熱変換により熱が加えられた場合に、常温では水に対し
て溶解するあるいは膨潤する等の親和性を示さない高分
子化合物が、熱によって側鎖の極性変換官能基の一部も
しくは全部が変化して水に対して溶解するあるいは膨潤
する等の親和性を示すようになる程度の変化であること
を要する。
【００３２】疎水性高分子化合物側鎖の疎水性官能基
が、熱により親水性に変化する過程としては、元々疎水
性の側鎖官能基が熱により反応して親水性に変化する過
程と、元々疎水性の側鎖官能基が熱により分解して疎水
性官能基を失うことで親水性に変化する二つの過程が考
えられる。前者の熱により反応して親水性に変化する過
程としては、疎水性官能基がポリマー内部の他の官能基
と熱により反応して親水性に変化する過程と、疎水性官
能基がポリマー外部の他の化合物と熱により反応して親
水性に変化する過程とが考えられ、これらを二種組み合
わせた過程により親水性に変化しても良い。上述した過
程のうち、反応性の観点から、元々疎水性の側鎖官能基
が熱により分解して疎水性官能基を失うことで親水性に
変化する過程が好ましい。
【００３３】また、本発明においては、極性変換高分子
化合物の側鎖の極性変換官能基が総て親水性に変化する
ことがより好ましいが、極性変換高分子化合物が、水に
対して溶解する或いは膨潤する等の親和性を示すように
なる程度に起これば、特に制限はなく、その総てが親水
性に変化しなくても良い。本発明における疎水性官能基
の具体例としては、以下のような官能基が挙げられる。
【００３４】
【化１】
【００３５】（式中、Ｒ1、Ｒ3はアルキル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基を表し、Ｒ2、Ｒ4は水
素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基を表し、Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ3、及びＲ1とＲ4で環を
形成しても良い）
【００３６】また、本発明における親水性官能基の具体
例としては、以下のような官能基が挙げられる。
【００３７】
【化２】
【００３８】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は水素、アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を表し、
任意の２つで環を形成しても良い。Ｅ-は対アニオンを
表す。）
【００３９】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4がアルキル基を表すと
き、アルキル基としては、炭素原子数が１〜２０までの
直鎖状、分岐状及び環状のアルキル基を挙げることがで
きる。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、
２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基等
を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１
〜１２までの直鎖状、炭素原子数３〜１２までの分岐
状、並びに炭素原子数５〜１０までの環状のアルキル基
がより好ましい。
【００４０】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が置換アルキル基を表
すとき、その置換基としては、水素を除く一価の非金属
原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子
（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミ
ノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイ
ルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキル
スルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、
アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−ア
リールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−
アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−
Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、
【００４１】アルコキシカルボニル基、アリーロキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリー
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アル
キルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−
ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と
称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホ
ニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ
−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールス
ルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフ
ィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ァモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ
−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスル
ファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモ
イル基、ホスフォノ基（−ＰＯ 3Ｈ2）及びその共役塩基
基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフ
ォノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノ基
（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ基
（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基
（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ
基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、ア
リールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホスフォ
ナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノオキシ
基（−ＯＰＯ(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役
塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ
(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
【００４２】これらの置換基におけるアルキル基の具体
例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基
の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１
−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−
クロロ−１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の
例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチ
ニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
アシル基（Ｒ5ＣＯ−）におけるＲ5としては、水素、及
び上記のアルキル基、アリール基を挙げることができ
る。
【００４３】これら置換基の内、更により好ましいもの
としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基等が挙げられる。
【００４４】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数１〜２０のアルキル基上の水
素原子のいずれか１つを除き、２価の有機残基としたも
のを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１〜１２
までの直鎖状、炭素原子数３〜１２までの分岐状、及び
炭素原子数５〜１０までの環状のアルキレン基を挙げる
ことができる。該置換基とアルキレン基を組み合わせる
事により得られる置換アルキル基の、好ましい具体例と
しては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロ
エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、
メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フ
ェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメ
チル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピ
ル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイル
オキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２
−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシ
カルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル
基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイ
ルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフ
ェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ス
ルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル
基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ
−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピル
スルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイル
プロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−
メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基等を挙げることができる。
【００４５】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が、アリール基を表す
とき、アリール基としては、１個〜３個のベンゼン環が
縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮
合環を形成したものを挙げることができ、具体例として
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレ
ニル基等を挙げることができ、これらのなかでは、フェ
ニル基、ナフチル基がより好ましい。また、アリール基
には上記炭素環式アリール基の他、複素環式（ヘテロ）
アリール基が含まれる。複素環式アリール基としては、
ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキ
ノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバ
ゾール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含
むものが用いられる。
【００４６】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が、置換アリール基を
表すとき、置換アリール基としては、前述のアリール基
の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の
非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換
基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、及
び、先に置換アルキル基における置換基として示したも
のを挙げることができる。この様な、置換アリール基の
好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キ
シリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメ
チルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒド
ロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエト
キシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシ
フェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニ
ル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニ
ル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル
基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシル
カルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモ
イルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ
−メチルベンゾイルアミノオキシカルボニルフェニル
基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモ
イルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メ
トキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイ
ルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−ト
リルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホ
スフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフ
ォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホ
スフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナト
フェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホス
フォナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２
−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニ
ル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル
基等を挙げることができる。
【００４７】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が、アルケニル基、置
換アルケニル基［−Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7）（Ｒ8）］、
アルキニル基、又は置換アルキニル基［−Ｃ≡Ｃ
（Ｒ9）］を表すとき、Ｒ6〜Ｒ9としては、一価の非金
属原子団を使用することができる。好ましいＲ6〜Ｒ9の
例としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置
換アルキル基、アリール基、及び置換アリール基を挙げ
ることができる。これらの具体例としては、前述の例と
して示したものを挙げることができる。Ｒ6〜Ｒ9のより
好ましい置換基としては、水素原子、ハロゲン原子、及
び炭素原子数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキ
ル基を挙げることができる。
【００４８】アルケニル基、置換アルケニル基、アルキ
ニル基及び置換アルキニル基の具体例としては、ビニル
基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニ
ル基、１−オクテニル基、１−メチル−１−プロペニル
基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−
ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル基、２−クロ
ロ−１−エテニル基、エチニル基、プロピニル基、フェ
ニルエチル基等を挙げることができる。上記のうち、Ｒ
1、Ｒ3として好ましいものは、アルキル基、置換基アル
キル基、アリール基、及び置換アリール基であり、
Ｒ2、Ｒ4として好ましいものは、水素、アルキル基、置
換アルキル基、アリール基、置換アリール基である。
【００４９】Ｅ-で表される対アニオンとは、負電荷を
有するアニオンであり、親水性官能基であるアンモニウ
ム基（−Ｎ+Ｒ1Ｒ2Ｒ3）中の正電荷とイオンペアを形成
する。故に、Ｅ-で表される対アニオンは、アンモニウ
ム基中に存在する正電荷と等電荷となるモル数だけ存在
する。より具体的な対アニオンとしてはF-、Cl-、Br-、
I-、HO-、CN-、SO4 2-、HSO4 -、SO3 2-、HSO3 -、NO3 -、CO
3 2-、HCO3 -、PF6 -、BF4 -、ClO4 -、ClO3 -、ClO2 -、Cl
O -、BrO4 -、BrO3 -、BrO2 -、BrO-、IO4 -、IO3 -、IO2 -、I
O-、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ホスホ
ン酸アニオン、リン酸アニオン等が挙げられる。スルホ
ン酸アニオンの具体例としては、以下のようなものが挙
げられるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００５０】
【化３】
【００５１】
【化４】
【００５２】カルボン酸アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【００５３】
【化５】
【００５４】
【化６】
【００５５】ホスホン酸アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【００５６】
【化７】
【００５７】リン酸アニオンの具体例としては、以下の
ようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
【００５８】
【化８】
【００５９】これらのアニオンのうち、本発明に好適に
使用されるアニオンは、Cl-、Br-、I-、CN-、SO4 2-、PF
6 -、BF4 -、ClO4 -、スルホン酸アニオン、カルボン酸ア
ニオン、ホスホン酸アニオン、リン酸アニオンである。
このような熱により親水性に変化する疎水性官能基のう
ち、反応性、保存安定性、及び親疎水性のディスクリの
観点から特に好ましい官能基は、以下の一般式（１）〜
（５）で表される官能基である。
【００６０】
【化９】
【００６１】式中、Ｌは非金属原子から成る多価の連結
基を表し、Ｒ1はアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基又は環状イミド基を表し、Ｒ2、Ｒ3は
アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル
基を表し、Ｒ4はアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基又は−ＳＯ2−Ｒ11を表し、Ｒ5、Ｒ 6
及びＲ7はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｒ8及びＲ9の内の
一方は水素、他方は水素、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｒ10はアルキル
基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｒ11はアル
キル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を
表し、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の内の任意の２つもしくは３つ
で環を形成してもよく、Ｒ8とＲ10又はＲ9とＲ10で環を
形成してもよい。ＸはＯ又はＳを表す。
【００６２】Ｒ1〜Ｒ11がアルキル基を表すとき、アル
キル基としては、前述のような官能基が挙げられる。Ｒ
1〜Ｒ11が置換アルキル基を表すとき、その置換基とし
ては、前述のような官能基が挙げられる。Ｒ1〜Ｒ9及び
Ｒ11が、アリール基を表すとき、アリール基としては、
前述のような官能基が挙げられる。Ｒ1〜Ｒ9及びＲ
11が、置換アリール基を表すとき、置換アリール基とし
ては、前述のような官能基が挙げられる。
【００６３】Ｒ1〜Ｒ11が、アルケニル基、置換アルケ
ニル基［−Ｃ（Ｒ13）＝Ｃ（Ｒ14）（Ｒ15）］、アルキ
ニル基、又は置換アルキニル基［−Ｃ≡Ｃ（Ｒ16）］を
表すとき、Ｒ13〜Ｒ16としては、一価の非金属原子団を
使用することができる。好ましいＲ13〜Ｒ16の例として
は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、及び置換アリール基を挙げることが
できる。これらの具体例としては、前述の例として示し
たものを挙げることができる。Ｒ1が環状イミド基を表
すとき、環状イミドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸
イミド、シクロヘキサンジカルボン酸イミド、ノルボル
ネンジカルボン酸イミド等の炭素原子４〜２０までのも
のを用いることができる。
【００６４】上記のうち、Ｒ1として特に好ましいもの
は、アルキル基、置換アルキル基、及び環状イミド基で
ある。また、上記のうちＲ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ11とし
て特に好ましいものは、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の
電子吸引性基で置換されたアルキル基、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール基、
及び２級若しくは３級の分岐状アルキル基である。Ｒ5
〜Ｒ9として好ましいものは、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、又は置換アリール基であり、Ｒ10と
して好ましいものは、アルキル基又は置換アルキル基で
あって、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7のうちの任意の２つ若しくは
３つで環を形成した場合、及び、Ｒ8とＲ10又はＲ9とＲ
10で環を形成した場合である。
【００６５】Ｌで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０
個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１
個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。
【００６６】
【化１０】
【００６７】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１〜２０まで
のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜
１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スル
ホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基
のような炭素数１〜６までのアシルオキシ基、メトキシ
基、エトキシ基のような炭素数１〜６までのアルコキシ
基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシ
カルボニル基のような炭素数２〜７までのアルコキシカ
ルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネートのよう
な炭酸エステル基等を用いることができる。
【００６８】以下に本発明のポジ型極性変換高分子化合
物を合成するために好適に使用される、熱により親水性
に変化する疎水性官能基を有するラジカル重合性モノマ
ーの具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定される
ものではない。
【００６９】
【化１１】
【００７０】
【化１２】
【００７１】
【化１３】
【００７２】
【化１４】
【００７３】
【化１５】
【００７４】
【化１６】
【００７５】
【化１７】
【００７６】本発明に用いられるポジ型極性変換高分子
化合物は、その側鎖の少なくとも一部に熱により親水性
に変化する疎水性官能基を有していれば、特に制限はな
く、その側鎖に熱により親水性に変化する疎水性官能基
以外の官能基を有していても良い。故に、熱により親水
性に変化する疎水性官能基以外の官能基を有するモノマ
ーとの共重合体であっても、本発明の効果を妨げない限
り、好適に使用することができる。このような側鎖を有
するラジカル重合性のモノマーとしては、以下のような
モノマーが挙げられる。
【００７７】共重合体に用いられる他のラジカル重合性
のモノマーとしては、アクリル酸、アクリル酸エステル
類、アクリルアミド類、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステル類、メタクリルアミド類、マレイン酸、無水マレ
イン酸、マレイン酸エステル類、マレイン酸アミド類、
マレイン酸イミド類、イタコン酸、イタコン酸無水物、
イタコン酸エステル類、イタコン酸アミド類、イタコン
酸イミド類、クロトン酸、クロトン酸エステル類、クロ
トン酸アミド類、フマル酸、フマル酸エステル類、フマ
ル酸アミド類、メサコン酸、メサコン酸エステル類、メ
サコン酸アミド類、α、β-不飽和ラクトン類、α、β-
不飽和ラクタム類、不飽和炭化水素類、ビニルエーテル
類、ビニルエステル類、α、β-不飽和ケトン類、スチ
レン類、等の公知のモノマーが挙げられる。
【００７８】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ-又は
ｉ-）プロピルアクリレート、（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又は
ｔ-）ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、ヘ
キシルアクリレート、へプチルアクリレート、オクチル
アクリレート、ノニルアクリレート、デシルアクリレー
ト、アミルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレー
ト、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、5-ヒドロキシペンチルアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタ
エリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルア
クリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロ
キシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチル
アクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒド
ロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレ
ート、スルファモイルフェニルアクリレート、2-（ヒド
ロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルアクリレート
等が挙げられる。
【００７９】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ-メチルアクリルアミド、Ｎ-エチルアク
リルアミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルアクリルアミ
ド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）アクリルアミ
ド、Ｎ-ベンジルアクリルアミド、Ｎ-ヒドロキシエチル
アクリルアミド、Ｎ-フェニルアクリルアミド、Ｎ-トリ
ルアクリルアミド、Ｎ-（ヒドロキシフェニル）アクリ
ルアミド、Ｎ-（スルファモイルフェニル）アクリルア
ミド、Ｎ-（フェニルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ-
（トリルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ-ジメチ
ルアクリルアミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアクリルア
ミド、Ｎ-ヒドロキシエチル-Ｎ-メチルアクリルアミド
等が挙げられる。
【００８０】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ-又はｉ-）プロピルメタクリレート、（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチルメタクリレート、ペンチルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、へプチルメタク
リレート、オクチルメタクリレート、ノニルメタクリレ
ート、デシルメタクリレート、アミルメタクリレート、
2-エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレ
ート、クロロエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、5-ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリト
ールモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メ
トキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタク
リレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロ
キシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチ
ルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレ
ート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェ
ニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリ
レート、2-（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）エ
チルメタクリレート等が挙げられる。
【００８１】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ-メチルメタクリルアミド、Ｎ-エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルメタ
クリルアミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）メタ
クリルアミド、Ｎ-ベンジルメタクリルアミド、Ｎ-ヒド
ロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ-フェニルメタクリ
ルアミド、Ｎ-トリルメタクリルアミド、Ｎ-（ヒドロキ
シフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（スルファモイル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（フェニルスルホニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ-（トリルスルホニル）メタ
クリルアミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルメタクリルアミド、Ｎ-
メチル-Ｎ-フェニルメタクリルアミド、Ｎ-ヒドロキシ
エチル-Ｎ-メチルメタクリルアミド等が挙げられる。
【００８２】クロトン酸エステル類の具体例としては、
メチルクロトネート、エチルクロトネート、（ｎ-又は
ｉ-）プロピルクロトネート、（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又は
ｔ-）ブチルクロトネート、ペンチルクロトネート、ヘ
キシルクロトネート、へプチルクロトネート、オクチル
クロトネート、ノニルクロトネート、デシルクロトネー
ト、アミルクロトネート、2-エチルヘキシルクロトネー
ト、ドデシルクロトネート、クロロエチルクロトネー
ト、2-ヒドロキシエチルクロトネート、2-ヒドロキシプ
ロピルクロトネート、5-ヒドロキシペンチルクロトネー
ト、シクロヘキシルクロトネート、アリルクロトネー
ト、トリメチロールプロパンモノクロトネート、ペンタ
エリスリトールモノクロトネート、ベンジルクロトネー
ト、メトキシベンジルクロトネート、クロロベンジルク
ロトネート、ヒドロキシベンジルクロトネート、ヒドロ
キシフェネチルクロトネート、ジヒドロキシフェネチル
クロトネート、フルフリルクロトネート、テトラヒドロ
フルフリルクロトネート、フェニルクロトネート、ヒド
ロキシフェニルクロトネート、クロロフェニルクロトネ
ート、スルファモイルフェニルクロトネート、2-（ヒド
ロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルクロトネート
等が挙げられる。
【００８３】クロトン酸アミド類の具体例としては、ク
ロトン酸アミド、Ｎ-メチルクロトン酸アミド、Ｎ-エチ
ルクロトン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルクロ
トン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）クロ
トン酸アミド、Ｎ-ベンジルクロトン酸アミド、Ｎ-ヒド
ロキシエチルクロトン酸アミド、Ｎ-フェニルクロトン
酸アミド、Ｎ-トリルクロトン酸アミド、Ｎ-（ヒドロキ
シフェニル）クロトン酸アミド、Ｎ-（スルファモイル
フェニル）クロトン酸アミド、Ｎ-（フェニルスルホニ
ル）クロトン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニル）クロ
トン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルクロトン酸アミド、Ｎ-
メチル-Ｎ-フェニルクロトン酸アミド、Ｎ-ヒドロキシ
エチル-Ｎ-メチルクロトン酸アミド等が挙げられる。
【００８４】マレイン酸エステル類の具体例としては、
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジ（ｎ-又はｉ-）プロピル、マレイン酸ジ（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、マレイン酸ジフェニル、マレ
イン酸ジアリル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モ
ノエチル、マレイン酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、マ
レイン酸モノ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、マ
レイン酸ジベンジル、マレイン酸モノベンジル、マレイ
ン酸メチルエチル、マレイン酸メチルプロピル、マレイ
ン酸エチルプロピル等が挙げられる。
【００８５】マレイン酸アミド類の具体例としては、マ
レイン酸アミド、Ｎ-メチルマレイン酸アミド、Ｎ-エチ
ルマレイン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルマレ
イン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルマレイン酸アミド、Ｎ-ベンジルマレイン酸アミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルマレイン酸アミド、Ｎ-フェニルマ
レイン酸アミド、Ｎ-トリルマレイン酸アミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）マレイン酸アミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）マレイン酸アミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）マレイン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）マレイン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルマレイン酸ア
ミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルマレイン酸アミド、Ｎ-ヒ
ドロキシエチル-Ｎ-メチルマレイン酸アミド、Ｎ-メチ
ルマレイン酸モノアミド、Ｎ-エチルマレイン酸モノア
ミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルマレイン酸モノアミド、Ｎ-メチ
ル-Ｎ’-エチルマレイン酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ’-フ
ェニルマレイン酸アミド等が挙げられる。
【００８６】マレイン酸イミド類の具体例としては、マ
レイン酸イミド、Ｎ-メチルマレイン酸イミド、Ｎ-エチ
ルマレイン酸イミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルマレ
イン酸イミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルマレイン酸イミド、Ｎ-ベンジルマレイン酸イミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルマレイン酸イミド、Ｎ-フェニルマ
レイン酸イミド、Ｎ-トリルマレイン酸イミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）マレイン酸イミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）マレイン酸イミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）マレイン酸イミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）マレイン酸イミド等が挙げられる。
【００８７】イタコン酸エステル類の具体例としては、
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸
ジ（ｎ-又はｉ-）プロピル、イタコン酸ジ（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、イタコン酸ジフェニル、イタ
コン酸ジアリル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モ
ノエチル、イタコン酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、イ
タコン酸モノ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、イ
タコン酸ジベンジル、、イタコン酸エチルプロピル等が
挙げられる。
【００８８】イタコン酸アミド類の具体例としては、イ
タコン酸アミド、Ｎ-メチルイタコン酸アミド、Ｎ-エチ
ルイタコン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルイタ
コン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルイタコン酸アミド、Ｎ-ベンジルイタコン酸アミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルイタコン酸アミド、Ｎ-フェニルイ
タコン酸アミド、Ｎ-トリルイタコン酸アミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）イタコン酸アミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）イタコン酸アミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）イタコン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）イタコン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルイタコン酸ア
ミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルイタコン酸アミド、Ｎ-ヒ
ドロキシエチル-Ｎ-メチルイタコン酸アミド、Ｎ-メチ
ルイタコン酸モノアミド、Ｎ-エチルイタコン酸モノア
ミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルイタコン酸モノアミド、Ｎ-メチ
ル-Ｎ’-エチルイタコン酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ’-フ
ェニルイタコン酸アミド等が挙げられる。
【００８９】イタコン酸イミド類の具体例としては、イ
タコン酸イミド、Ｎ-メチルイタコン酸イミド、Ｎ-エチ
ルイタコン酸イミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルイタ
コン酸イミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルイタコン酸イミド、Ｎ-ベンジルイタコン酸イミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルイタコン酸イミド、Ｎ-フェニルイ
タコン酸イミド、Ｎ-トリルイタコン酸イミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）イタコン酸イミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）イタコン酸イミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）イタコン酸イミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）イタコン酸イミド等が挙げられる。
【００９０】フマル酸エステル類の具体例としては、フ
マル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ（ｎ-
又はｉ-）プロピル、フマル酸ジ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又
はｔ-）ブチル、フマル酸ジフェニル、フマル酸ジアリ
ル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル
酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、フマル酸モノ（ｎ-、
ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、フマル酸ジベンジル、
フマル酸モノベンジル、フマル酸メチルエチル、フマル
酸メチルプロピル、フマル酸エチルプロピル等が挙げら
れる。
【００９１】フマル酸アミド類の具体例としては、フマ
ル酸アミド、Ｎ-メチルフマル酸アミド、Ｎ-エチルフマ
ル酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルフマル酸アミ
ド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチルフマル酸
アミド、Ｎ-ベンジルフマル酸アミド、Ｎ-ヒドロキシエ
チルフマル酸アミド、Ｎ-フェニルフマル酸アミド、Ｎ-
トリルフマル酸アミド、Ｎ-（ヒドロキシフェニル）フ
マル酸アミド、Ｎ-（スルファモイルフェニル）フマル
酸アミド、Ｎ-（フェニルスルホニル）フマル酸アミ
ド、Ｎ-（トリルスルホニル）フマル酸アミド、Ｎ、Ｎ-
ジメチルフマル酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルフマ
ル酸アミド、Ｎ-ヒドロキシエチル-Ｎ-メチルフマル酸
アミド、Ｎ-メチルフマル酸モノアミド、Ｎ-エチルフマ
ル酸モノアミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルフマル酸モノアミ
ド、Ｎ-メチル-Ｎ’-エチルフマル酸アミド、Ｎ-メチル
-Ｎ’-フェニルフマル酸アミド等が挙げられる。
【００９２】メサコン酸エステル類の具体例としては、
メサコン酸ジメチル、メサコン酸ジエチル、メサコン酸
ジ（ｎ-又はｉ-）プロピル、メサコン酸ジ（ｎ-、ｉ-、
ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、メサコン酸ジフェニル、メサ
コン酸ジアリル、メサコン酸モノメチル、メサコン酸モ
ノエチル、メサコン酸モノ（ｎ-又はｉ-）プロピル、メ
サコン酸モノ（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチル、メ
サコン酸ジベンジル、メサコン酸モノベンジル、メサコ
ン酸メチルエチル、メサコン酸メチルプロピル、メサコ
ン酸エチルプロピル等が挙げられる。
【００９３】メサコン酸アミド類の具体例としては、メ
サコン酸アミド、Ｎ-メチルメサコン酸アミド、Ｎ-エチ
ルメサコン酸アミド、Ｎ-（ｎ-又はｉ-）プロピルメサ
コン酸アミド、Ｎ-（ｎ-、ｉ-、ｓｅｃ-又はｔ-）ブチ
ルメサコン酸アミド、Ｎ-ベンジルメサコン酸アミド、
Ｎ-ヒドロキシエチルメサコン酸アミド、Ｎ-フェニルメ
サコン酸アミド、Ｎ-トリルメサコン酸アミド、Ｎ-（ヒ
ドロキシフェニル）メサコン酸アミド、Ｎ-（スルファ
モイルフェニル）メサコン酸アミド、Ｎ-（フェニルス
ルホニル）メサコン酸アミド、Ｎ-（トリルスルホニ
ル）メサコン酸アミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルメサコン酸ア
ミド、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルメサコン酸アミド、Ｎ-ヒ
ドロキシエチル-Ｎ-メチルメサコン酸アミド、Ｎ-メチ
ルメサコン酸モノアミド、Ｎ-エチルメサコン酸モノア
ミド、Ｎ、Ｎ-ジメチルメサコン酸モノアミド、Ｎ-メチ
ル-Ｎ’-エチルメサコン酸アミド、Ｎ-メチル-Ｎ’-フ
ェニルメサコン酸アミド等が挙げられる。
【００９４】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレンク
ロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨ
ードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン、4-ビニルベンゼンスルホン酸ナトリウム等が挙げら
れる。α、β-不飽和ラクトン類の具体例としては、以
下のような化合物が挙げられる。
【００９５】
【化１８】
【００９６】α、β-不飽和ラクタム類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。
【００９７】
【化１９】
【００９８】不飽和炭化水素類の具体例としては、前述
のような化合物等が挙げられる。ビニルエーテル類の具
体例としては、前述のような化合物等が挙げられる。ビ
ニルエステル類の具体例としては、前述のような化合物
等が挙げられる。α、β-不飽和ケトン類の具体例とし
ては、前述のような化合物等が挙げられる。
【００９９】本発明に用いられるポジ型極性変換高分子
化合物の合成に使用される、熱により親水性に変化する
疎水性官能基を有するモノマーの割合は、５重量％以上
が好ましく、10〜95重量％がより好ましい。このような
モノマーの割合が５重量％より少ないと、側鎖の疎水性
官能基が親水性に変化してもポジ型極性変換高分子化合
物は親水性に変化せず、その結果として、非画像部に汚
れが生じる。また、本発明で使用されるポジ型極性変換
高分子化合物の合成に、前述のような他のモノマーを使
用する場合、共重合可能な他のモノマーの割合は、前述
のような特定の官能基を有するモノマーが好ましい割合
で使用されている限り、どの様な割合でも使用すること
ができる。この共重合可能な他のモノマーは、１種類の
みを使用しても良いし、２種類以上を混合して使用して
も良い。以下に、本発明で使用されるポジ型極性変換高
分子化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【０１００】
【化２０】
【０１０１】
【化２１】
【０１０２】
【化２２】
【０１０３】また、本発明の平版印刷用原版で使用され
るポジ型極性変換高分子化合物のGPCで測定した重量平
均分子量は、好ましくは2000以上であり、更に好ましく
は5000〜30万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは
800以上であり、更に好ましくは1000〜25万の範囲であ
る。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以
上が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
これらのポジ型極性変換高分子化合物は、ランダムポリ
マー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等何れでも
良いが、ランダムポリマーであることが好ましい。
【０１０４】本発明で使用されるポジ型極性変換高分子
化合物を合成する際に使用される溶媒としては、テトラ
ヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、2-メトキシエチル
アセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
1-メトキシ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルア
セテート、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルア
セトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸
メチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。こ
れらの溶媒は、単独で或いは２種以上混合して用いるこ
とができる。
【０１０５】本発明に使用されるポジ型極性変換高分子
化合物を合成する際に用いられるラジカル重合開始剤と
しては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合
物が使用できる。
【０１０６】上記のようなポジ型極性変換高分子化合物
がポジ型極性変換高分子化合物を含む層に含まれる場
合、ポジ型極性変換高分子化合物単独でも、２種以上の
ポジ型極性変換高分子化合物を混合して用いても良い。
ポジ型極性変換高分子化合物を含む層に含まれるポジ型
極性変換高分子化合物の割合は、40重量％以上が好まし
く、50重量％以上がより好ましい。添加量が40重量％未
満の場合は、画像強度が弱くなり、耐刷性が低下する。
次に、ポジ型極性変換高分子化合物を含む層に含有され
得るポジ型極性変換高分子化合物以外の構成成分につい
て説明する。
【０１０７】［光熱変換剤］本発明に使用されるポジ型
極性変換高分子化合物を含むインク受容層（Ｂ層）に添
加される光熱変換剤としては、前述のような光熱変換剤
が好適に使用できる。 ［酸発生剤］本発明に使用されるポジ型極性変換高分子
化合物を含むインク受容層に添加される酸発生剤として
は、後述のような酸発生剤が好適に使用できる。 ［増感色素］本発明に使用されるポジ型極性変換高分子
化合物を含むインク受容層に添加される増感色素として
は、後述のような増感色素が好適に使用できる。 ［界面活性剤］本発明に使用されるポジ型極性変換高分
子化合物を含むインク受容層に含まれる界面活性剤とし
ては、後述のような界面活性剤が好適に使用できる。
【０１０８】［その他構成成分］本発明に使用されるポ
ジ型極性変換高分子化合物を含むインク受容層には、更
に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができ
る。例えば、オニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香
族スルホン酸エステル化合物等は熱分解性物質として作
用するので、このような物質を添加すると、画像部の現
像液への溶解阻止性を向上させることができるので好ま
しい。
【０１０９】オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アン
モニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホ
ニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる
ことができる。本発明において用いられるオニウム塩と
して好適なものとしては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅ
ｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．、１
８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔａｌ，
Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）、または、
特開平５−１５８２３０号公報に記載のジアゾニウム
塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，
０５６号、または特開平３−１４０１４０号公報に記載
のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒｅｔａｌ，Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８
４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．
Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．ＣｕｒｉｎｇＡＳＩＡ，ｐ４７８
Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６
９，０５５号、または同４，０６９，０５６号に記載の
ホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａ
ｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６）、１３
０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，
Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０
４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１
０，２０１号、特開平２−１５０８４８号公報、または
特開平２−２９６５１４号公報に記載のヨードニウム
塩、
【０１１０】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．
Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．、４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ
ｅｔａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ，、Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．、２２，１７８９（１９８
４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ Ｂｕｌｌ．、１４，２７９（１９８５）、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅ
ｃｕｌｅｓ，１４（５）、１１４１（１９８１）、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｓｃｉ．、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．、１７，
２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、
同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，
４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９
０２，１１４号、同４１０，２０１号、同３３９，０４
９号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９３８０
４，６２６号、同３，６０４，５８０号、または同３，
６０４，５８１号に記載のスルホニウム塩、
【０１１１】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６）、１３０７
（１９７７）、またはＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ
ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．、Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍｉｃｈ．、１７，１０４７（１９７９）に記
載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ，Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等が挙げられる。
【０１１２】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
【０１１３】オニウム塩の添加剤の添加量は、好ましく
は１〜５０重量％、更に好ましくは５〜３０重量％、特
に好ましくは１０〜３０重量％である。本発明において
添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好まし
い。
【０１１４】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物穎、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，
１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，
６−エンドオキシ−△4−テトラヒドロ無水フタル酸、
テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無
水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノー
ル類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、２，４′，４′−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，
４′，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，
４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，
５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。
【０１１５】更に、有機酸類としては、特開昭６０−８
８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載さ
れている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン
酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン
酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフ
ィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息
香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類
および有機酸類のインク受容層中に占める割合は、０．
０５〜２０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜
１５重量％、特に好ましくは０．１〜１０重量％であ
る。
【０１１６】本発明に使用されるポジ型極性変換高分子
化合物を含むインク受容層中には、露光による加熱後直
ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。焼き出し剤とし
ては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光
酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表と
して挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３
６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されて
いるｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲ
ニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６
２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６
号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号
および同６３−５８４４０号の各公報に記載されている
トリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙
げることができる。かかるトリハロメチル化合物として
は、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあ
り、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を
与える。
【０１１７】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント
化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレ
ット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（ＣＩ４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ
Ｉ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）な
どを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２
４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。これ
らの染料は、画像形成材料全固形分に対し、０．０１〜
１０重量％、好ましくは０．１〜３重量％の割合でイン
ク受容層中に添加することができる。
【０１１８】更に本発明のインク受容層中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が
用いられる。
【０１１９】さらに、これら以外にも、エポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらには特開平８−２７６５５
８号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物及び特開平１１−１６０８６０号公報に記載の溶解抑
制増強架橋剤等を目的に応じて適宜添加することができ
る。
【０１２０】［アルカリ水溶液可溶性樹脂を含む層］本
発明の平版印刷版用原版に用いられる「アルカリ水溶液
可溶性樹脂を含む層」とは、少なくとも以下に説明され
るアルカリ水溶液可溶性樹脂を含有する層を指す。 ［アルカリ水溶液可溶性樹脂］本発明に使用されるアル
カリ水溶液可溶性高分子化合物（ｂ）とは、高分子化合
物の主鎖又は側鎖に、以下のような酸基構造を有するも
のを指す。フェノール性水酸基（−Ａｒ−ＯＨ）、カル
ボン酸基（−ＣＯ2Ｈ）、スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）、
リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ）、スルホンアミド基（−ＳＯ2
ＮＨ−Ｒ）、置換スルホンアミド系酸基（活性イミド
基）（−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−Ｃ
ＯＮＨＳＯ2Ｒ）。ここで、Ａｒは置換基を有していて
もよい２価のアリール基を表し、Ｒは置換基を有してい
てもよい炭化水素基を有する。なかでも、好ましい酸基
として、（ｂ−１）フェノール性水酸基、（ｂ−２）ス
ルホンアミド基、（ｂ−３）活性イミド基が挙げられ、
特に（ｂ−１）フェノール性水酸基を有するアルカリ水
溶液可溶性樹脂（以下、「フェノール性水酸基を有する
樹脂」という。）が最も好ましく用いることができる。
【０１２１】（ｂ−１）フェノール性水酸基を有する高
分子化合物としては、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドとの縮重合体（以下、「フェノールホルムアルデ
ヒド樹脂」という。）、ｍ−クレゾールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体（以下、「ｍ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂」という。）、ｐ−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール
（ｍ−、ｐ−、またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよ
い）とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹
脂、および、ピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙
げることができる。あるいは、フェノール基を側鎖に有
するモノマーを共重合させた共重合体を用いることもで
きる。用いるフェノール基を有するモノマーとしては、
フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【０１２２】具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）、メタクリ
ルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリル
アミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒ
ドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニ
ルアクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリ
レート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタク
リレート等を好適に使用することができる。
【０１２３】高分子の重量平均分子量は５．０×１０2
〜２．０×１０4で、数平均分子量が２．０×１０2〜
１．０×１０4のものが、画像形成性の点で好ましい。
また、これらの樹脂を単独で用いるのみならず、２種類
以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合
には、米国特許第４１２３２７９号明細書に記載されて
いるような、ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体のような、炭素数３〜８のアルキル基を
置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの
縮重合体を併用してもよい。これらのフェノール性水酸
基を有する樹脂は、重量平均分子量が５００〜２０００
０で数平均分子量が２００〜１００００のものが好まし
い。
【０１２４】（ｂ−２）スルホンアミド基を有するアル
カリ水可溶性高分子化合物の場合、この高分子化合物を
構成する主たるモノマーである（ａ−２）スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノ
マーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分
子化合物を挙げることができる。スルホンアミド基を有
する重合性モノマーとしては、１分子中に、窒素原子上
に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド
基−ＮＨ−ＳＯ2−と、重合可能な不飽和結合をそれぞ
れ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーが挙げ
られる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、また
はビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホ
ニル基または置換スルホニルイミノ基とを有する低分子
化合物が好ましい。このような化合物としては、例え
ば、下記一般式（６）〜（１０）で示される化合物が挙
げられる。
【０１２５】
【化２３】
【０１２６】式中、Ｘ1、Ｘ2はそれぞれ−Ｏ−又は−Ｎ
Ｒ27−を示す。Ｒ21、Ｒ24はそれぞれ水素原子又は−Ｃ
Ｈ3 を表す。Ｒ22、Ｒ26、Ｒ29、Ｒ32、Ｒ36はそれぞれ
置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレ
ン基を表す。Ｒ23、Ｒ27、Ｒ33は水素原子、それぞれ置
換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示
す。また、Ｒ26、Ｒ27は、それぞれ置換基を有していて
もよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。Ｒ28、Ｒ30、Ｒ
34は水素原子又は−ＣＨ3 を表す。Ｒ31、Ｒ 35はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Ｙ1、Ｙ2はそれぞれ単結合ま
たは−ＣＯ−を表す。
【０１２７】具体的には、ｍ−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。
【０１２８】（ｂ−３）活性イミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子化合物の場合、下記式で表される活性イ
ミド基を分子内に有するものであり、この高分子化合物
を構成する主たるモノマーである（ｂ−３）活性イミド
基を有するモノマーとしては、１分子中に、下記の式で
表される活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合をそれ
ぞれ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーを共
重合させて得られる高分子化合物を挙げることができ
る。
【０１２９】
【化２４】
【０１３０】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
【０１３１】本発明に用い得るアルカリ水可溶性共重合
体は、前記（ｂ−１）から（ｂ−３）の酸性基を含むモ
ノマーは、１種類である必要はなく、同一の酸性基を有
するモノマーを２種以上、または、異なる酸性基を有す
るモノマーを２種以上共重合させたものも用いることも
できる。共重合の方法としては、従来知られている、グ
ラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法
等を用いることができる。
【０１３２】前記共重合体は、共重合させる（ｂ−１）
〜（ｂ−３）の酸性基を有するモノマーを共重合成分と
して１０モル％以上含んでいることが好ましく、２０モ
ル％以上含むものがより好ましい。共重合成分が１０モ
ル％より少ないと、フェノール性水酸基を有する樹脂と
の相互作用が不十分となり共重合成分を用いる場合の利
点である現像ラチチュードの向上効果が不充分となる。
【０１３３】また、この共重合体には、前記（ｂ−１）
〜（ｂ−３）の酸性基を含むモノマー以外の他の共重合
成分を含んでいてもよい。共重合体成分として用いうる
モノマーの例としては、下記（１）〜（１２）に挙げる
モノマーを用いることができる。
【０１３４】（１）例えば、２−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、および
メタクリル酸エステル類。 （２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。
【０１３５】（４）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミ
ド。 （５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。
【０１３６】（７）スチレン、α−メチルスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 （８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 （９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミ
ド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニル
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 （１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【０１３７】本発明においてアルカリ水可溶性高分子化
合物としては、単独重合体、共重合体に係わらず、重量
平均分子量が２０００以上、数平均分子量が５００以上
のものが膜強度の点で好ましい。さらに好ましくは、重
量平均分子量が５０００〜３０００００、数平均分子量
が８００〜２５００００であり、分散度（重量平均分子
量／数平均分子量）が１．１〜１０のものである。
【０１３８】前記共重合体において、（ｂ−１）〜（ｂ
−３）の酸性基を有するモノマーと、他のモノマーとの
配合重量比が、現像ラチチュードの点から５０：５０か
ら５：９５の範囲にあるものが好ましく、４０：６０か
ら１０：９０の範囲にあるものがより好ましい。
【０１３９】これらアルカリ水可溶性高分子化合物は、
それぞれ１種類あるいは２種類以上を組み合わせて使用
してもよく、インク受容性層の全固形分中、３０〜９９
重量％、好ましくは４０〜９５重量％、特に好ましくは
５０〜９０重量％の添加量で用いられる。アルカリ可溶
性の高分子化合物の添加量が３０重量％未満であるとイ
ンク受容性層の耐久性が悪化し、また、９９重量％を越
えると感度、耐久性の両面で好ましくない。
【０１４０】次に、アルカリ水溶液可溶性樹脂を含む層
に含有されうるアルカリ水溶液可溶性樹脂以外の構成成
分について説明する。 ［光熱変換剤］本発明に使用されるアルカリ水溶液可溶
性樹脂を含む層に添加される光熱変換剤としては、前述
のような光熱変換剤が好適に使用できる。 ［界面活性剤］本発明に使用されるアルカリ水溶液可溶
性樹脂を含む層に添加される界面活性剤としては、後述
のような界面活性剤が好適に使用できる。 ［その他構成成分］本発明に使用されるアルカリ水溶液
可溶性樹脂を含む層に添加される上記以外のその他構成
成分としては、前述のポジ型極性変換高分子化合物を含
む層に含まれるその他構成成分と同様のものが好適に使
用できる。
【０１４１】［ネガ型極性変換高分子を含む層］本発明
の平版印刷版用原版に用いられる「ネガ型極性変換高分
子を含む層」とは、少なくとも以下に説明されるネガ型
極性変換高分子を含有する層を指す。 （ネガ型極性変換高分子化合物）本発明に用いられるネ
ガ型極性変換高分子化合物とは、前述した通り、熱によ
り疎水性に変化する親水性高分子化合物である。そのよ
うな高分子化合物としては、側鎖に熱により疎水性に変
化する親水性官能基を有する親水性高分子化合物が挙げ
られる。この変化は、レーザー露光後の光熱変換により
熱が加えられた場合に、常温では水に対して溶解するあ
るいは膨潤する等の親和性を示す高分子化合物が、熱に
よって側鎖の極性変換官能基の一部もしくは全部が変化
して水に対して溶解するあるいは膨潤する等の親和性を
示さないようになる程度の変化であることを要する。
【０１４２】親水性高分子化合物側鎖の親水性官能基
が、熱により疎水性に変化する過程としては、元々親水
性の側鎖官能基が熱により反応して疎水性に変化する過
程と、元々親水性の側鎖官能基が熱により分解して親水
性官能基を失うことで疎水性に変化する二つの過程が考
えられる。前者の熱により反応して疎水性に変化する過
程としては、親水性官能基がポリマー内部の他の官能基
と熱により反応して疎水性に変化する過程と、親水性官
能基がポリマー外部の他の化合物と熱により反応して疎
水性に変化する過程とが考えられ、これらを二種組み合
わせた過程により疎水性に変化しても良い。
【０１４３】上述した過程のうち、反応性の観点から、
元々親水性の側鎖官能基が熱により分解して親水性官能
基を失うことで疎水性に変化する過程が好ましい。ま
た、本発明においては、極性変換高分子化合物の側鎖の
極性変換官能基が総て疎水性に変化することがより好ま
しいが、極性変換高分子化合物が、水に対して溶解する
或いは膨潤する等の親和性を示さないようになる程度に
起これば、特に制限はなく、その総てが疎水性に変化し
なくても良い。このような熱により疎水性に変化する親
水性官能基のうち、反応性、保存安定性、及び親疎水性
のディスクリの観点から特に好ましい官能基は、以下の
一般式（１１）および（１２）で表されるカルボン酸基
及びカルボン酸塩基である。
【０１４４】
【化２５】
【０１４５】（式中、Ｘは４族から６族の元素、同酸化
物、同硫化物、同セレン化物および同テルル化物からな
る群から選択され、Ｐはポリマー主鎖を表し、−Ｌ−は
２価の連結基を表し、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同じでも異な
っていてもよい１価の基を表し、Ｍはアルカリ金属、ア
ルカリ土類金属およびオニウムからなる群から選択され
るいずれかを表す。）
【０１４６】好ましいＲ1およびＲ2の具体例としては、
炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分枝状または環
状のアルキル基を挙げることができ、その具体例として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、
イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチル
ブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２
−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチ
ル基、２−ノルボニル基を挙げることができる。これら
の中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素数
３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１
０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【０１４７】置換アルキル基の例としては、水素を除く
一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、
ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロ
キシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレ
イド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′
−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
【０１４８】Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル
−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−ア
ルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニル
アミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミ
ノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバ
モイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共
役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシス
ルホニル基、アリーロキシスルホニル基、
【０１４９】スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル
基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキル
スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル
基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリー
ルスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスル
ファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共
役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキル
ホスフォノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフ
ォノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォ
ノ基（−ＰＯ 3Ｈ(alkyl))及びその共役塩基基（以後、
アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフ
ォノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以
後、アリールホスフォナト基と称す）、
【０１５０】ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及び
その共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称
す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(alky
l)2）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(ary
l)2）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰ
Ｏ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、ア
ルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役
塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称
す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基が挙げられる。
【０１５１】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１
−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−
クロロ−１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の
例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチ
ニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
【０１５２】アシル基（Ｇ1ＣＯ−）におけるＧ1として
は、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙
げることができる。これら置換基の内、更により好まし
いものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、
−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
【０１５３】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。
【０１５４】該置換基とアルキレン基を組み合わせる事
により得られる置換アルキル基の、好ましい具体例とし
ては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエ
チル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メ
トキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェ
ノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチ
ル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、ス
ルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチ
ルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルフ
ァモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルフ
ァモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナ
トヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニ
ルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、
メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシ
ル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキ
シプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル
基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル
−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シン
ナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブ
テニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニル
メチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブ
チニル基等を挙げることができる。
【０１５５】アリール基としては、１個から３個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽
和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体
例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、
フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、
フルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。また、ア
リール基には上記炭素環式アリール基の他、複素環式
（ヘテロ）アリール基が含まれる。複素環式アリール基
としては、ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が
縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン
基、カルバゾール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数
１〜５を含むものが用いられる。
【０１５６】置換アリール基としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示
したものを挙げることができる。この様な、置換アリー
ル基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
エトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフ
ェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフ
ェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェ
ニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキ
シルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカル
バモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル
基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリル
オキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボ
ニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
カルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモ
イルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイ
ルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カ
ルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナト
フェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファ
モイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル
基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファ
モイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナ
トフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェ
ニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノ
フェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル
基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メ
チルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル
基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル
基、３−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。
【０１５７】好ましい−Ｘ−の具体例は、−Ｏ−、−Ｓ
−、−Ｓｅ−、−ＮＲ3 −、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−Ｓ
Ｏ2 −、−ＰＯ−を表す。その中でも、熱反応性の観点
からＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −が特に好ましい。好
ましいＲ3の具体例は、Ｒ1およびＲ2と同じであっても
異なっていてもよく、Ｒ1 およびＲ2 具体例から選ぶこ
とができる。
【０１５８】Ｌで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、１個から６０個までの炭素原子、０個から１
０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、
１個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個
までの硫黄原子から成り立つものである。より具体的な
連結基としては下記の構造単位で組合わさって構成され
るものを挙げることができる。
【０１５９】
【化２６】
【０１６０】Ｍはカチオンであれば特に限定されない
が、１〜４価の金属カチオンまたは下記一般式（１３）
で示されるアンモニウム塩が好ましい。
【０１６１】
【化２７】
【０１６２】（Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6 およびＲ7はそれぞれ同
じでも異なっていてもよい１価の基を表す。）
【０１６３】Ｍで表される１〜４の金属カチオンとして
は、Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、Ｒｂ+、Ｃｓ+、Ｆｒ+、Ｂ
ｅ2+、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｓｒ2+、Ｂａ2+、Ｒａ2+、Ｃｕ
+、Ｃｕ2 +、Ａｇ+、Ｚｎ2+、Ａｌ3+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、
Ｃｏ2+、Ｎｉ2+、Ｔｉ4+、Ｚｒ4+を挙げることができ
る。より好ましくはＬｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、Ｒｂ+、Ｃ
ｓ+、Ｆｒ+、Ｃｕ+、Ａｇ+を挙げることができる。
【０１６４】また、上記一般式（１３）で示されるアン
モニウムイオンにおいて、Ｒ4 〜Ｒ 7で表される基の具
体例としては、前記Ｒ1〜Ｒ3に示したものと同様の基が
挙げられる。上記一般式（１３）で示されるアンモニウ
ムイオンの具体例としては以下のものを挙げることがで
きる。
【０１６５】
【化２８】
【０１６６】Ｐで表されるポリマー主鎖は下記一般式に
より表される部分構造モノマー群の少なくとも一種によ
り選ばれる。
【０１６７】
【化２９】
【０１６８】本発明におけるカルボン酸基およびカルボ
ン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづれかの
基を有するポリマーは１種のモノマーのみの単独重合体
であっても、２種以上のモノマーの共重合体でもよい。
また、他のモノマーとの共重合体でもよい。用いられる
他のモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル
類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタク
リルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン
酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられ
る。このようなモノマー類を共重度、親水性、疎水性、
溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善することがで
きる。
【０１６９】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又は
ｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−
又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
２−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。
【０１７０】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレ
ート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベン
ジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレ
ート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニル
メタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スル
ファモイルフェニルメタクリレート、２−（ヒドロキシ
フェニルカルボニルオキシ）エチルメタクリレート等が
挙げられる。
【０１７１】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
【０１７２】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
【０１７３】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
【０１７４】共重合体の合成に使用されるこれらの他の
モノマーの割合は、諸物性の改良に充分な量である必要
があるが、割合が大きすぎる場合には、カルボン酸もし
くはモノマー総割合は８０重量％以下であることが好ま
しく、さらに好ましくは５０重量％以下である。
【０１７５】以下、本発明における、熱により脱炭酸を
起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群か
ら選ばれる少なくともいずれかの基を有するポリマーの
具体例を以下に示す。
【０１７６】
【化３０】
【０１７７】
【化３１】
【０１７８】
【化３２】
【０１７９】
【化３３】
【０１８０】
【化３４】
【０１８１】
【化３５】
【０１８２】
【化３６】
【０１８３】次に、ネガ型極性変換高分子化合物を含む
層に含有されうるネガ型極性変換高分子化合物以外の構
成成分について説明する。 ［光熱変換剤］本発明に使用されるネガ型極性変換高分
子化合物を含む層に添加される光熱変換剤としては、前
述のような光熱変換剤が好適に使用できる。 ［界面活性剤］本発明に使用されるネガ型極性変換高分
子化合物を含む層に添加される界面活性剤としては、後
述のような界面活性剤が好適に使用できる。 ［その他構成成分］本発明に使用されるネガ型極性変換
高分子化合物を含む層に添加される上記以外のその他構
成成分としては、前述のようなポジ型極性変換高分子化
合物を含む層に含まれるその他構成成分と同様なものが
好適に使用できる。
【０１８４】［アルカリ水溶液可溶性樹脂と架橋する化
合物を含む層］本発明の平版印刷版用原版に用いられる
「アルカリ水溶液可溶性樹脂と架橋する化合物を含む
層」とは、少なくとも前述のアルカリ水溶液可溶性樹脂
と以下に説明される（アルカリ水溶液可溶性樹脂と）架
橋する化合物を含有する層を指す。 ［（アルカリ水溶液可溶性樹脂と）架橋する化合物］本
発明に用いられる（アルカリ水溶液可溶性樹脂と）架橋
する化合物（以下、単に架橋性化合物または架橋剤とも
いう）とは、高分子化合物と反応して高分子化合物間を
橋架けする化合物である。従って、架橋性化合物は高分
子化合物と反応しうる官能基を二つ以上有していなけれ
ばならない。そのような化合物であれば本発明において
は好適に使用することができるが、それらの中でもアル
カリ水溶液可溶性樹脂と反応しうる官能基を二つ以上有
する化合物が特に好ましい。
【０１８５】本発明に好ましく用いられる架橋剤として
は、以下のものが挙げられる。 （ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 （iii）エポキシ化合物 これらについて詳細に説明する。
【０１８６】（ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロ
キシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例え
ば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基、若しく
はアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合
物及び複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂
として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性
条件下で重縮合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾ
ール樹脂は架橋性に優れるものの、熱安定性が充分でな
く、特に感光性の材料に含有させて高温下に長期間保存
した場合、均一な現像が困難となり好ましくない。
【０１８７】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のな
かでは、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチ
ル基又はアルコキシメチル基を有する化合物を好ましい
例として挙げることができる。アルコキシメチル基の場
合はアルコキシメチル基が炭素数１８以下の化合物であ
ることが好ましい。特に好ましい例として下記一般式
（１４）〜（１７）で表される化合物を挙げることがで
きる。
【０１８８】
【化３７】
【０１８９】
【化３８】
【０１９０】前記各式中、Ｌ1〜Ｌ5はそれぞれ独立にメ
トキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数１８以
下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又は
アルコキシメチル基を示す。これらは架橋効率が高く、
耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上記に
例示された架橋性化合物は、単独で使用してもよく、２
種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１９１】（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アル
コキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開（以下、ＥＰ−Ａと
記載する）第０，１３３，２１６号、西独特許第３，６
３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ
第０，２１２，４８２号に開示されたアルコキシ置換化
合物等が挙げられる。さらに好ましい例としては、例え
ば、少なくとも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ
−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が挙げら
れ、中でもＮ−アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。
【０１９２】（iii）エポキシ化合物としては、一つ以
上のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第４，０２６，７０５号公報、英
国特許第１，５３９，１９２号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。
【０１９３】以上の（ｉ）〜（iii）の本発明に用いる
ことのできる架橋剤は、インク受容性層の全固形分に対
し、５〜８０重量％、好ましくは１０〜７５重量％、特
に好ましくは２０〜７０重量％の範囲である。架橋剤の
添加量が５重量％未満であると得られるインク受容性層
の耐久性が悪化し、また、８０重量％を超えると保存時
の安定性の観点から好ましくない。
【０１９４】（iv）本発明では、架橋剤として、下記一
般式（１８）で表されるフェノール誘導体を使用するこ
とも好ましい。
【０１９５】
【化３９】
【０１９６】上記一般式（１８）中、Ａｒ1 は、置換基
を有していても良い芳香族炭化水素環を示す。原料の入
手性から、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナ
フタレン環またはアントラセン環が好ましい。また、好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２個以
下の炭化水素基、炭素数１２個以下のアルコキシ基、炭
素数１２個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ
基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。感度が高い
という理由で、Ａｒ1 としては、置換基を有していない
ベンゼン環およびナフタレン環、または、ハロゲン原
子、炭素数６個以下の炭化水素基、炭素数６個以下のア
ルコキシ基、炭素数６個以下のアルキルチオ基、ニトロ
基等を置換基として有するベンゼン環およびナフタレン
環が特に好ましい。
【０１９７】Ｒ31およびＲ32は、それぞれ同じでも異な
っていても良く、水素原子または炭素数１２個以下の炭
化水素基を示す。合成が容易であるという理由から、Ｒ
31およびＲ32は、水素原子またはメチル基であることが
特に好ましい。Ｒ33は、水素原子または炭素数１２個以
下の炭化水素基を示す。感度が高いという理由で、Ｒ 33
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基等の炭素数７個以下の炭化水素基
であることが特に好ましい。ｍは、２〜４の整数を示
す。ｎは、１〜３の整数を示す。
【０１９８】本発明において好適に用いられる上記一般
式（１８）で表されるフェノール誘導体の具体例を以下
に示す（架橋剤［ＫＺ−１］〜［ＫＺ−８］）が、本発
明はこれに制限されるものではない。
【０１９９】
【化４０】
【０２００】
【化４１】
【０２０１】これらのフェノール誘導体は、従来公知の
方法により合成できる。例えば［ＫＺ−１］は、フェノ
ール、ホルムアルデヒドおよび、ジメチルアミンやモル
ホリン等の２級アミンを反応させ、トリ（ジアルキルア
ミノメチル）フェノールとし、次に無水酢酸と反応さ
せ、さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノ
ールと反応させることにより、下記［反応式１］に表す
如き経路で合成することができる。
【０２０２】
【化４２】
【０２０３】さらに、別の方法によっても合成できる、
例えば［ＫＺ−１］は、フェノールとホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドを、ＫＯＨ等のアルカリ存
在下反応させ、２，４，５−トリヒドロキシメチルフエ
ノールとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと
反応させることにより、下記［反応式２］に表す如き経
路でも合成することができる。
【０２０４】
【化４３】
【０２０５】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また２種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して２量体や３量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い。なお、この場合でも、不純物は３
０％以下であることが好ましく、２０％以下であること
がさらに好ましい。
【０２０６】本発明において、フェノール誘導体はイン
ク受容性層の固形分中、５〜７０重量％、好ましくは１
０〜５０重量％の添加量で用いられる。ここで、架橋剤
としてのフェノール誘導体の添加量が５重量％未満であ
ると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、
７０重量％を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。
【０２０７】次に、アルカリ水溶液可溶性樹脂と架橋性
化合物を含む層に含有されうるアルカリ水溶液可溶性樹
脂と架橋性化合物以外の構成成分について説明する。 ［光熱変換剤］本発明に使用されるアルカリ水溶液可溶
性樹脂と架橋性化合物を含む層に添加される光熱変換剤
としては、前述のような光熱変換剤が好適に使用でき
る。 ［酸発生剤］本発明に使用されるアルカリ水溶液可溶性
樹脂と架橋性化合物を含む層に添加される酸発生剤とし
ては、後述のような酸発生剤が好適に使用できる。
【０２０８】［増感色素］本発明に使用されるアルカリ
水溶液可溶性樹脂と架橋性化合物を含む層に添加される
増感色素としては、前述のポジ型極性変換高分子化合物
を含む層に含まれる増感色素と同様のものが好適に使用
できる。 ［界面活性剤］本発明に使用されるアルカリ水溶液可溶
性樹脂と架橋性化合物を含む層に添加される界面活性剤
としては、後述のような界面活性剤が好適に使用でき
る。 ［その他構成成分］本発明に使用されるアルカリ水溶液
可溶性樹脂と架橋性化合物を含む層に添加されるその他
構成成分としては、前述のポジ型極性変換高分子化合物
を含む層に含まれるその他構成成分と同様のものが好適
に使用できる。
【０２０９】［熱融着型感熱層］次に、熱融着型感熱層
について説明する。熱融着型感熱層（以下、単に感熱層
ともいう）とは、熱反応性官能基を有するポリマー微粒
子、熱反応性官能基を有する化合物を内包したマイクロ
カプセル及び熱可塑性徴粒子ポリマーから選ばれた少な
くとも一つの成分を含有することができる。
【０２１０】上記の熱反応性官能基としては、重合反応
を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、
メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、付加反
応を行うイソシアナート基あるいはそのブロック体およ
びその反応相手である活性水素原子を有する官能基（例
えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基な
ど）、同じく付加反応を行うエポキシ基およびその反応
相手であるアミノ基、カルボキシル基あるいはヒドロキ
シル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル
基あるいはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とア
ミノ基あるいはヒドロキシル基などを挙げることができ
る。しかし、化学結合が形成されるならば、どのような
反応を行う官能基でも良い。
【０２１１】（熱反応性官能基を有するポリマー微粒
子）熱融着型感熱層に含まれる熱反応性官能基を有する
ポリマー微粒子としては、具体的には、アクリロイル
基、メタクリルロイル基、ビニル基、アリル基、エポキ
シ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イ
ソシアネート基、酸無水物およびそれらを保護した基を
有するものを挙げることができる。これらの官能基のポ
リマー粒子への導入は、ポリマー微粒子の重合時に行っ
てもよいし、ポリマー微粒子の重合後に高分子反応を利
用して行ってもよい。また、熱反応性官能基を有するポ
リマーを有機溶剤に溶解させた後、乳化剤あるいは分散
剤とともに水に乳化・分散した後に有機溶剤を蒸発させ
ポリマー微粒子を作製してもよい。
【０２１２】ポリマー微粒子の重合時に導入する場合
は、これらの官能基を有するモノマーを乳化重合あるい
は懸濁重合することが好ましい。そのような官能基を有
するモノマーの具体例として、アリルメタクリレート、
アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルア
クリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルア
クリレート、２−イソシアネートエチルメタクリレート
あるいはそのアルコールなどによるブロックイソシアナ
ート、２−イソシアネートエチルアクリレートあるいは
そのアルコールなどによるブロックイソシアナート、２
−アミノエチルメタクリレート、２−アミノエチルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、無水マレイン酸、２官能アクリレート、２官能メ
タクリレートなどを挙げることができるが、これらに限
定されない。これらのモノマーと共重合可能な、熱反応
性官能基をもたないモノマーとしては、例えば、スチレ
ン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、
アクリロニトリル、酢酸ビニルなどを挙げることができ
るが、熱反応性官能基をもたないモノマーであれば、こ
れらに限定されない。熱反応性官能基の導入をポリマー
微粒子の重合後に行う場合に用いる高分子反応として
は、例えば、ＷＯ９６−３４３１６号公報に記載されて
いる高分子反応を挙げることができる。
【０２１３】上記の熱反応性官能基を有するポリマー微
粒子の中で、ポリマー微粒子同志が熱により合体するも
のが好ましく、その表面は親水性で、水に分散するもの
が、特に好ましい。ポリマー微粒子のみを塗布し、凝固
温度よりも低い温度で乾燥して作製した時の皮膜の接触
角（空中水滴）が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して
作製した時の皮膜の接触角（空中水滴）よりも低くなる
ことが好ましい。このようにポリマー微粒子表面を親水
性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレング
リコールなどの親水性ポリマーあるいはオリゴマー、ま
たは親水性低分子化合物をポリマー微粒子表面に吸着さ
せてやれば良いが、その方法はこれらに限定されるもの
ではない。
【０２１４】これらの熱反応性官能基を有するポリマー
微粒子の凝固温度は、７０℃以上が好ましいが、経時安
定性を考えると１００℃以上がさらに好ましい。上記の
ポリマー微粒子の平均粒径は、０．０１〜２０μmが好
ましいが、その中でも０．０５〜２．０μｍがさらに好
ましく、特に０．１〜１．０μｍが最適である。平均粒
径が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過ぎると経時
安定性が悪くなってしまう。
【０２１５】これらの熱反応性官能基を有するポリマー
微粒子の添加量は、感熱層固形分の５０重量％以上が好
ましく、６０重量％以上がさらに好ましい。
【０２１６】（熱反応性基を有する化合物を内包するマ
イクロカプセル）本発明の平版印刷版用原版の感熱層に
含まれるマイクロカプセルは、熱反応性基を有する化合
物を内包している。この熱反応性官能基を有する化合物
としては、重合性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基あるいはカルボキシレート基あるいは酸無水物、
アミノ基、エポキシ基、および、イソシアナート基ある
いはそのブロック体から選ばれた少なくとも一個の官能
基を有する化合物を挙げることができる。
【０２１７】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基などを少なくとも１
個、好ましくは２個以上有する化合物が好ましく、この
様な化合物群は当該産業分野において広く知られるもの
であり、本発明においては、これらを特に限定なく用い
ることができる。これらは、化学的形態としては、モノ
マー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオ
リゴマー、またはそれらの混合物、あるいはそれらの共
重合体である。
【０２１８】例として、不飽和カルボン酸（例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸など）、そのエステルおよび
アミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アルコールとのエステルおよび不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミンとのアミドが挙げられる。また、
ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは不飽和カ
ルボン酸アミドと、単官能もしくは多官能イソシアネー
トまたはエポキシドとの付加反応物、および、単官能も
しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適
に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基な
どの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル
またはアミドと、単官能もしくは多官能のアルコール、
アミンおよびチオールとの付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多
官能アルコール、アミンおよびチオールとの置換反応物
も好適である。また、別の好適な例として、上記の不飽
和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸あるいはクロロメチ
ルスチレンに置き換えた化合物を挙げることができる。
【０２１９】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物の具体例としては、ア
クリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，
３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イ
ソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー
等を挙げることができる。
【０２２０】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕
ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリロイルオキシ
エトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることが
できる。
【０２２１】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙
げることができる。
【０２２２】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることがで
きる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイ
ソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート
等を挙げることができる。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。
【０２２３】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、
特開昭５７−１９６２３１号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−
５２４１号、特開平２−２２６１４９号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号記載のア
ミノ基を含有するもの等を挙げることができる。
【０２２４】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等を挙げることができる。その他の好ましいアミド系
モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載の
シクロへキシレン構造を有すものを挙げることができ
る。
【０２２５】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（Ｉ）で示される水酸基を有する不飽和
モノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性不飽
和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。 一般式（Ｉ) ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ2）ＯＨ （ただし、Ｒ1およびＲ2は、ＨまたはＣＨ3を示す。）
【０２２６】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレートや、特公昭５８−４
９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−
３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレン
オキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なもの
として挙げることができる。
【０２２７】さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特
開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げる
ことができる。
【０２２８】その他の好適なものの例としては、特開昭
４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公
報、同５２−３０４９０号公報の各公報に記載されてい
るようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。また、特公昭４６−４３９４６号公報、
特公平１−４０３３７号公報、同１−４０３３６号公報
記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号
公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なもの
として挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル
基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接
着協会誌、２０巻７号、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも好適に使用することができる。
【０２２９】好適なエポキシ化合物としては、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノ
ール類あるいはポリフェノール類もしくはそれらの水素
添加物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
【０２３０】好適なイソシアネート化合物としては、ト
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシ
アネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、ある
いは、それらをアルコールあるいはアミンでブロックし
た化合物を挙げることができる。
【０２３１】好適なアミン化合物としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポ
リエチレンイミンなどが挙げられる。
【０２３２】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリス
リトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリ
フェノール類などを挙げることができる。好ましいカル
ボキシル基を有する化合物としては、ピロメリット酸、
トリメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン
酸、アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げ
られる。好適な酸無水物としては、ピロメリット酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げ
られる。
【０２３３】エチレン状不飽和化合物の共重合体の好適
なものとして、アリルメタクリレートの共重合体を挙げ
ることができる。例えば、アリルメタクリレート／メタ
クリル酸共重合体、アリルメタクリレート／エチルメタ
クリレート共重合体、アリルメタクリレート／ブチルメ
タクリレート共重合体などを挙げることができる。
【０２３４】マイクロカプセル化する方法としては、公
知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造
方法としては、米国特許２８００４５７号、同２８００
４５８号にみられるコアセルベーションを利用した方
法、英国特許９９０４４３号、米国特許３２８７１５４
号、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号、同
４２−７１１号にみられる界面重合法による方法、米国
特許３４１８２５０号、同３６６０３０４号にみられる
ポリマーの析出による方法、米国特許３７９６６６９号
に見られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方
法、米国特許３９１４５１１号に見られるイソシアネー
ト壁材料を用いる方法、米国特許４００１１４０号、同
４０８７３７６号、同４０８９８０２号にみられる尿素
―ホルムアルデヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−
レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許４
０２５４４５号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特
公昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号にみられる
モノマー重合によるｉｎ ｓｉｔｕ法、英国特許９３０
４２２号、米国特許３１１１４０７号にみられるスプレ
ードライング法、英国特許９５２８０７号、同９６７０
７４号にみられる電解分散冷却法などがあるが、これら
に限定されるものではない。
【０２３５】本発明に用いられる好ましいマイクロカプ
セル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性
質を有するものである。このような観点から、マイクロ
カプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれら
の混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレ
タンが好ましい。マイクロカプセル壁に熱反応性官能基
を有する化合物を導入しても良い。
【０２３６】上記のマイクロカプセルの平均粒径は、
０．０１〜２０μmが好ましいが、中でも０．０５〜
２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが
特に好ましい。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、
また小さ過ぎると経時安定性が悪くなってしまう。この
ようなマイクロカプセルは、カプセル同志が熱により合
体してもよいし、合体しなくとも良い。要は、マイクロ
カプセル内包物のうち、塗布時にカプセル表面あるいは
マイクロカプセル外に滲み出したもの、あるいは、マイ
クロカプセル壁に浸入したものが、熱により化学反応を
起こせば良い。添加された親水性樹脂、あるいは、添加
された低分子化合物と反応してもよい。また２種類以上
のマイクロカプセルに、それぞれ異なる官能基で互いに
熱反応するような官能基をもたせることによって、マイ
クロカプセル同士を反応させてもよい。従って、熱によ
ってマイクロカプセル同志が、熱で溶融合体することは
画像形成上好ましいことであるが、必須ではない。
【０２３７】マイクロカプセルの感熱層への添加量は、
固形分換算で、好ましくは１０〜６０重量％、さらに好
ましくは１５〜４０重量％である。この範囲内で、良好
な機上現像性と同時に、良好な感度および耐刷性が得ら
れる。
【０２３８】マイクロカプセルを感熱層に添加する場
合、内包物が溶解し、かつ壁材が膨潤する溶剤をマイク
ロカプセル分散媒中に添加することができる。このよう
な溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有する化
合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。こ
のような溶剤としては、マイクロカプセル分散媒、マイ
クロカプセル壁の材質、壁厚および内包物に依存する
が、多くの市販されている溶剤から容易に選択すること
ができる。例えば架橋ポリウレア、ポリウレタン壁から
なる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、
エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多
価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類などが
好ましい。
【０２３９】具体的化合物としては、メタノール、エタ
ノール、第３ブタノール、n−プロパノール、テトラヒ
ドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケ
トン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドな
どがあるが、これらに限られない。またこれらの溶剤を
２種以上用いても良い。
【０２４０】マイクロカプセル分散液には溶解しない
が、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることが
できる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるもの
であるが、適性値より少ない場合は、画像形成が不十分
となり、多い場合は分散液の安定性が劣化する。通常、
塗布液の５〜９５重量％が有効であり、好ましい範囲
は、１０〜９０重量％、より好ましい範囲は１５〜８５
重量％である。
【０２４１】（熱可塑性徴粒子ポリマー）熱可塑性ポリ
マー微粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｃｈ
Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｎｏ．３３３０３、特開平９
−１２３３８７号公報、同９−１３１８５０号公報、同
９−１７１２４９号公報、同９−１７１２５０号公報お
よびＥＰ９３１６４７号公報などに記載の熱可塑性ポリ
マー微粒子を好適なものとして挙げることができる。具
体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニ
トリル、ビニルカルバゾールなどのモノマーのホモポリ
マーまたはコポリマーあるいはそれらの混合物を挙げる
ことができる。その中で、より好適なものとして、ポリ
スチレン、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができ
る。しかし、特に好ましいのは、熱反応性官能基を有す
るポリマー微粒子および熱反応性官能基を有する化合物
を内包したマイクロカプセルである。
【０２４２】（反応を開始あるいは促進する化合物）本
発明の平版印刷版用原版の感熱層には、上記の熱反応性
基を有するポリマー微粒子または熱反応性基を有する化
合物を含有するマイクロカプセルを用いるので、必要に
応じてこれらの反応を開始あるいは促進するような化合
物を添加してもよい。たとえば熱によりラジカルあるい
はカチオンを発生するような化合物を挙げることがで
き、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化
物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩あるいはジフェニルヨ
ードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホスフィ
ン、イミドスルホナートなどが挙げられる。これらの化
合物は感熱層において１重量％〜２０重量％の範囲で添
加することができる。好ましくは３重量％〜１０重量％
の範囲である。この範囲内で、機上現像性を損なわず、
良好な反応開始もしくは促進効果が得られる。
【０２４３】（親水性樹脂）該感熱層中には親水性樹脂
を添加しても良い。親水性樹脂を添加することで機上現
像性が良好となるばかりか、感熱層自体の皮膜強度も向
上する。また、樹脂を架橋硬化させて現像処理不要の平
版印刷版用原版を与えることができる。親水性樹脂とし
ては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、
アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有す
るものや、親水性のゾル−ゲル変換系結着樹脂が好まし
い。
【０２４４】親水性樹脂の具体例としては、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロース及びそれらのＮａ塩、セルロースアセテー
ト、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コ
ポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリ
アクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及び
それらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポ
リマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレート
のホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメ
タクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキ
シプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマ
ー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及
びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポ
リマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒ
ドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール
類、ならびに加水分解度が少なくとも６０重量％、好ま
しくは少なくとも８０重量％の加水分解ポリビニルアセ
テート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリ
マー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー
及びポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポ
リマー及びコポリマー等を挙げることができる。
【０２４５】又、上記親水性樹脂を架橋して用いてもよ
く、硬化させる耐水化剤としては、グリオキザール、メ
ラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹
脂などのアルデヒド類、Ｎ−メチロール尿素やＮ−メチ
ロールメラミン、メチロール化ポリアミド樹脂などのメ
チロール化合物、ジビニルスルホンやビス（β−ヒドロ
キシエチルスルホン酸）などの活性ビニル化合物、エピ
クロルヒドリンやポリエチレングリコールジグリシジル
エーテル、ポリアミド・ポリアミン・エピクロロヒドリ
ン付加物、ポリアミドエピクロロヒドリン樹脂などのエ
ポキシ化合物、モノクロル酢酸エステルやチオグリコー
ル酸エステルなどのエステル化合物、ポリアクリル酸や
メチルビニルエーテル／マレイン酸共重合物などのポリ
カルボン酸類、ほう酸、チタニルスルフェート、Ｃｕ、
Ａｌ、Ｓｎ、Ｖ、Ｃｒ塩などの無機系架橋剤、変成ポリ
アミドポリイミド樹脂などが挙げられる。そのほか、塩
化アンモニウム、シランカップリング剤、チタネートカ
ップリング剤などの架橋触媒を併用できる。
【０２４６】（光熱変換材料）該感熱層内に光熱変換材
料を含有していることにより、レーザー光照射等により
画像書き込みを行うことができる。特に微粒子中に光熱
変換剤を入れると効果的に微粒子の溶融および熱反応が
起こりやすい。その光熱変換材料としては、前述のもの
と重複するが、７００ｎｍ以上の光を吸収する物質であ
ればよく、種々の顔料や染料を用いる事ができる。顔料
としては、市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．
Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、
１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、
１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９
８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【０２４７】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
【０２４８】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シリカ
ゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ
化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結合さ
せる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金
属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」
（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）および「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
これらの顔料中、赤外光又は近赤外光を吸収するもの
が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適
する点で好ましい。かかる赤外光又は近赤外光を吸収す
る顔料としてはカーボンブラックが好ましく、水溶性あ
るいは親水性の樹脂と分散し易く、かつ親水性を損わな
いように、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされ
たカーボンブラックが特に好ましい。顔料の粒径は０．
０１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましく、０．０
１μｍ〜０．５μｍの範囲にあることが更に好ましい。
【０２４９】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしく
は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
【０２５０】赤外光又は近赤外光を吸収する染料として
は、例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−
８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号、米国特許
４，９７３，５７２号明細書、特開平１０−２６８５１
２号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１
７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５
８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特
開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３
号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９
６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７
４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５
８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム
染料、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料や
米国特許第４，７５６，９９３号明細書記載の染料、米
国特許第４，９７３，５７２号明細書に記載のシアニン
染料および特開平１０−２６８５１２号記載の染料を挙
げることができる。
【０２５１】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン染料、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Ｅｐｏｌｉｇ
ｈｔ III−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、
Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１２５等は特に好ましく用い
られる。これらの染料中、特に好ましいものは水溶性の
シアニン染料である。下記に具体的な化合物を列記す
る。
【０２５２】
【化４４】
【０２５３】
【化４５】
【０２５４】
【化４６】
【０２５５】
【化４７】
【０２５６】
【化４８】
【０２５７】
【化４９】
【０２５８】
【化５０】
【０２５９】
【化５１】
【０２６０】
【化５２】
【０２６１】次に、光熱変換性の金属微粒子について述
べる。本発明の金属微粒子に用いられる金属としては、
光熱変換性で光照射によって熱融着する金属微粒子であ
ればいずれの金属微粒子でもよいが、好ましい微粒子を
構成する金属は、第８族及び第１Ｂ族から選ばれる金属
単体又は合金の微粒子であり、さらに好ましくはＡｇ、
Ａｕ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄの金属単体又は合金の微粒子で
ある。本発明の金属コロイドは、分散安定剤を含む水溶
液に上記の金属塩又は金属錯塩の水溶液を添加し、さら
に還元剤を添加して金属コロイドとしたのち、不要な塩
を除去することによって得られる。本発明に用いる分散
安定剤には、クエン酸、シュウ酸などのカルボン酸及び
その塩、ＰＶＰ、ＰＶＡ、ゼラチン、アクリル樹脂など
のポリマーを用いることができる。本発明に用いる還元
剤としては、ＦｅＳＯ4、ＳｎＳＯ4などの卑金属塩、水
素化ほう素化合物、ホルマリン、デキストリン、ブドウ
糖、ロッセル塩、酒石酸、チオ硫酸ナトリウム、次亜燐
酸塩などがある。
【０２６２】本発明に用いられる金属コロイドの平均粒
子サイズは、１〜５００ｎｍであるが、好ましくは、１
〜１００ｎｍ、さらに好ましくは、１〜５０ｎｍであ
る。その分散度は多分散でもよいが、変動係数が３０％
以下の単分散の方が好ましい。本発明において用いられ
る塩類除去の方法としては、限外濾過法やコロイド分散
系にメタノール／水またはエタノール／水を添加して自
然沈降又は遠心沈降させて、その上澄み液を除去する方
法がある。
【０２６３】光熱変換剤の画像形成層（感熱層）への添
加量は、有機系光熱変換剤では感熱層全固形分の３０重
量％まで添加することができる。好ましくは５〜２５重
量％であり、特に好ましくは７〜２０重量％である。金
属微粒子系光熱変換剤の場合は、感熱層全固形分の５重
量％以上であり、好ましくは１０重量％以上、特に好ま
しくは２０重量％以上で用いられる。５重量％未満だと
感度が低くなってしまう。
【０２６４】本発明の画像形成層（感熱層）には、さら
に必要に応じて上記以外に種々の化合物を添加してもよ
い。例えば、耐刷力を一層向上させるために多官能モノ
マーを感熱層マトリックス中に添加することができる。
この多官能モノマーとしては、マイクロカプセル中に入
れられるモノマーとして例示したものを用いることがで
きる。特に好ましいモノマーとしては、トリメチロール
プロパントリアクリレートを挙げることができる。
【０２６５】また、本発明においては、感熱層塗布液の
調製中あるいは保存中においてエチレン性不飽和化合物
の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合防止剤
を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤として
はハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−
ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカ
テコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メ
チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ
−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニ
ウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組
成物の重量に対して約０．０１〜５重量％が好ましい。
また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するため
にベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸やその
誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感熱層の表
面に偏在させてもよい。高級脂肪酸やその誘導体の添加
量は、感熱層固形分の約０．１〜約１０重量％が好まし
い。
【０２６６】さらに、本発明の画像形成層（感熱層）に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤を加えることができる。例えば、ポリエチレングリコ
ール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル
酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチ
ル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸ト
リオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用
いられる。
【０２６７】本発明の平版印刷版用原版のインク受容性
層は、通常上記のような各成分を溶媒に溶かして、ラテ
ックスを含有する層が塗布された適当な支持体上に塗布
することにより製造することができる。ここで使用する
溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、2-メトキシエチルアセテート、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、1-メトキシ-2-プ
ロパノール、1-メトキシ2-プロピルアセテート、ジメト
キシエタン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチル
アセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸エチル、乳
酸メチル、ジメチルスルホキシド、水、スルホラン、γ
-ブチロラクトン等を挙げることができるがこれに限定
されるものではない。これらの溶媒は単独或いは混合し
て使用される。塗布液を調製する場合、溶媒中の上記イ
ンク受容性層構成成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜50重量％である。
【０２６８】塗布する方法としては、公知の種々の方法
を用いることができるが、例えば、バーコター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。本発明の平版印刷版用原版のインク受
容性層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例
えば特開昭62-170950号公報に記載されているようなフ
ッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添
加量は、インク受容性層全固形物分に対し、0.01〜１重
量％であり、更に好ましくは0.05〜0.5重量％である。
塗布、乾燥後に得られるインク受容性層塗布量（固形
分）は、用途によって異なるが、一般的な平版印刷版用
原版についていえば、0.5〜5.0g/m2が好ましく、0.5〜
1.5g/m2がより好ましい。この範囲より塗布量が少なく
なると、見かけの感度は大になるが、画像記録の機能を
果たすインク受容性層の皮膜特性は低下する。
【０２６９】［酸発生剤］本発明の平版印刷版用原版を
レーザー露光により画像を形成する平版印刷版用原版と
して用いる場合には、平版印刷版用原版のラテックスを
含有する層および記録層（極性変換高分子化合物または
アルカリ可溶性樹脂と架橋性化合物を含む層）に光若し
くは熱により酸を発生させる化合物（以下、酸発生剤と
呼ぶ）を添加することが望ましい。ただし、前記の極性
変換高分子化合物はそれ自身熱により酸を発生し、酸発
生剤としての機能を発揮することもあり、かかる場合に
は特に他の酸発生剤を併用しなくても画像を形成するこ
とができるため、酸発生剤は必須ではない。
【０２７０】本発明に用いられる酸発生剤としては、以
下のような公知の化合物を選択して用いることができ
る。例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホ
ニウム塩、ヨードニウム塩、セレノニウム塩、アルソニ
ウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属
／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有
する光酸発生剤、イミノスルフォネート等に代表される
光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化
合物、ｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハラ
イド、ｏ−ナフトキノンジアジド化合物を挙げることが
できる。
【０２７１】その他の酸発生剤としては、シクロヘキシ
ルシトレート、p−アセトアミノベンゼンスルホン酸シ
クロヘキシルエステル、p−ブロモベンゼンスルホン酸
シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステ
ル、本発明者らが先に出願した特開平１０−２８２６７
２号公報に記載の下記構造式で表されるアルキルスルホ
ン酸エステル等を用いることができる。
【０２７２】
【化５３】
【０２７３】上記光、熱又は放射線の照射により分解し
て酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられるも
のについて以下に説明する。 （１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（ＰＡＧ
１）で表されるオキサゾール誘導体又は一般式（ＰＡＧ
２）で表されるＳ−トリアジン誘導体、
【０２７４】
【化５４】
【０２７５】式中、Ｒ1は置換若しくは未置換のアリー
ル基、アルケニル基、Ｒ2は置換若しくは未置換のアリ
ール基、アルケニル基、アルキル基、−ＣＹ3を示す。
Ｙは塩素原子又は臭素原子を示す。具体的には以下の化
合物を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
【０２７６】
【化５５】
【０２７７】
【化５６】
【０２７８】（２）下記の一般式（ＰＡＧ３）で表され
るヨードニウム塩、又は一般式（ＰＡＧ４）で表される
スルホニウム塩、若しくはジアゾニウム塩。
【０２７９】
【化５７】
【０２８０】ここで、式Ａｒ1及びＡｒ2は、各々独立に
置換若しくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換
基としては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メ
ルカプト基及びハロゲン原子が挙げられる。
【０２８１】Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立に、置換若し
くは未置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましく
は炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８のアルキ
ル基及びそれらの置換誘導体である。好ましい置換基と
しては、アリール基に対しては炭素数１〜８のアルコキ
シ基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ基、カルボキ
シル基、ヒドロキシ基及びハロゲン原子であり、アルキ
ル基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基である。
【０２８２】Ｚ-は対アニオンを示し、例えば、Ｂ
Ｆ4 -、ＡｓＦ6 -、ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、Ｓｉ2Ｆ2 -、Ｃｌ
Ｏ4 -、ＣＦ3ＳＯ3 -等のパーフルオロアルカンスルホン
酸アニオン；ペンタフルオロベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ナフタレン−１−スルホン酸アニオン等の結合多核
芳香族スルホン酸アニオン；アントラキノンスルホン酸
アニオン；スルホン酸基含有染料等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。また、Ｒ3、Ｒ4及びＲ
5のうちの２つ及びＡｒ1、Ａｒ2はそれぞれの単結合又
は置換基を介して結合してもよい。
【０２８３】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
【０２８４】
【化５８】
【０２８５】
【化５９】
【０２８６】一般式（ＰＡＧ３）、（ＰＡＧ４）で示さ
れる上記オニウム塩は公知であり、例えば、J. W. Knap
czyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969)、A. L.
Maycok etal, J. Org. Chem., 35, 2532 (1970)、B. G
oethas etal, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546 (196
4)、H. M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587(1
929) 、J. V. Crivello etal, J. Polym. Chem. Ed., 1
8, 2677(1980)、米国特許第２，８０７，６４８号及び
同４，２４７，４７３号、特開昭５３−１０１，３３１
号等の公報に記載の方法により合成することができる。
【０２８７】（３）下記一般式（ＰＡＧ５）で表される
ジスルホン誘導体又は一般式（ＰＡＧ６）で表されるイ
ミノスルホネート誘導体。
【０２８８】
【化６０】
【０２８９】式中、Ａｒ3及びＡｒ4は各々独立に、置換
若しくは未置換のアリール基を示す。Ｒ6は置換若しく
は未置換のアルキル基、アリール基を示す。Ａは置換若
しくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリー
レン基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
【０２９０】
【化６１】
【０２９１】
【化６２】
【０２９２】これら酸発生剤の含有量は、本発明の平版
印刷版用原版の画像形成層全固形物分に対して通常０．
０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜４０重量％、よ
り好ましくは０．５〜３０重量％である。
【０２９３】なお、ラテックスを含有する層中に上記酸
発生剤を含む場合には、該酸発生剤を高分子電解質前駆
体を含むラテックスを含有する層塗布液に含ませ、後述
の支持体上に塗布した後、この塗布層に全面露光や加熱
を行い、該酸発生剤を作用させて、ラテックスを含有す
る層を形成させるものである。従って、ラテックスを含
有する層が形成された後は、本発明の平版印刷版用原版
が画像記録前であっても、該酸発生剤は活性を失ってい
る。よって、記録層に含まれる酸発生剤とは異なった役
割で用いられる。
【０２９４】［増感色素］ポジ型極性変換高分子化合物
を含むインク受容層に含まれる酸発生剤が紫外域から可
視域にまで感度を持たない場合、紫外域から可視域の光
に対して酸発生剤を活性にするために、種々の酸発生剤
の増感色素が用いられる。このような増感色素の例とし
ては、ピラン系色素、シアニン色素、及びスクアリリウ
ム系色素、メロシアニン系色素、ピリリュウム色素、そ
の他、ミヒラーズケトン、チオキサントン、ケトクマリ
ン色素、９−フェニルアクリジン等を有効なものとして
用いることができる。また、その他にもビスベンジリデ
ンケトン色素、９，１０−ジフェニルアントラセンのよ
うな多環芳香族化合物等を用いることができる。
【０２９５】その他の成分としては、例えば、面像形成
後、画像部と非画像部の区別をつきやすくするため、可
視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使
用することができる。具体的にはオイルイエロー＃１０
１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、
オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブル
ー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢ
Ｓ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工
業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバ
イオレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、メチルバイオレッ
ト（Ｃ．Ｉ．４２５３５）、エチルバイオレット、ロー
ダミンＢ（Ｃ．Ｉ．１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリ
ーン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、メチレンブルー（Ｃ．
Ｉ．５２０１５）等、あるいは特開昭６２−２９３２４
７号公報に記載されている染料を挙げることができる。
また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタン
などの顔料も好適に用いることができる。なお、添加量
は、本発明の平版印刷用原版のインク受容層全固形分に
対し、０．０１〜１０重量％の割合である。
【０２９６】［界面活性剤］本発明の平版印刷版用原版
のラテックスを含有する層中には、印刷条件に対する安
定性を拡げるため、特開昭62-251740号公報や特開平3-2
08514号公報に記載されているような非イオン界面活性
剤、特開昭59-121044号公報、特開平4-13149号に記載さ
れているような両性界面活性剤を添加することができ
る。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられ
る。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（ア
ミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、2-アルキル-N-カルボキシエチル-N-ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタインやN-テトラデシル
-N,N-ベタイン型（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一
工業（株）製）等が挙げられる。上記非イオン界面活性
剤及び両性界面活性剤のラテックスを含有する層全固形
物中に占める割合は、0.05〜15重量％が好ましく、0.1
〜5 重量％がより好ましい。
【０２９７】［支持体］本発明のラテックスを含有する
層（Ａ層）およびインク受容性層（Ｂ層）を塗布すべき
平版印刷版用原版に使用される支持体（基板）は、寸法
安定性の良好な板状物であり、これまで印刷版の支持体
として使用された公知のものはいずれも好適に使用する
ことができる。かかる支持体としては、紙、プラスチッ
クス（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等）がラミネートされた紙、例えば、アルミニウ
ム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅等のよう
な金属の板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸
酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のよう
なプラスチックスのフィルム、上記のような金属がラミ
ネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィ
ルム等が含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。
アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム
合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のも
のが使用でき、例えば、ケイ素、銅、マンガン、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等の金
属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの合金組
成物には、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視
し得る程度の量の不純物を含むことが容認される。
【０２９８】支持体は、必要に応じて表面処理される。
例えば、平版印刷版用原版を作製する場合には、支持体
の表面に、ラテックスを含有する層（Ａ層）およびイン
ク受容性層（Ｂ層）を塗布するに先立って親水化処理が
施される。また金属、特にアルミニウムの表面を有する
支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理等の表面処理がなされている
ことが好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６６
号公報に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸
ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国
特許第３，１８１，４６１号公報に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、
硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸
等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独
又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板
を陽極として電流を流すことにより実施される。
【０２９９】表面処理としては、米国特許第３，６５
８，６６２号公報に記載されているようなシリケート電
着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面
を親水性とするために施される以外に、その上に設けら
れるラテックスを含有する層との有害な反応を防ぐ為
や、該層との密着性を向上させるために施されるもので
ある。アルミニウム板を砂目立てにより粗面化するに先
立って、必要に応じて表面の圧延油を除去するため、あ
るいは清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表
面に前処理を施してもよい。通常、圧延油等の除去に
は、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられてい
る。また、清浄な面の表出のためには水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリエッチング剤を用いる
方法が広く行われてしる。
【０３００】砂目立て方法としては、機械的、化学的及
び電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石
のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦
りつけるブラシ研磨法等があり、化学的方法としては、
特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような
鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適
しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれ
らの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が
好ましい。このような粗面化方法のうち、特に特開昭５
５−１３７９９３号公報に記載されているような機械的
粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法が、ラ
テックスを含有する層や感脂性画像の支持体への接着力
が強いので好ましい。上記の如き方法による砂目立て
は、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が
０．３〜１．０μｍとなるような範囲で施されることが
好ましい。このようにして砂目立てされたアルミニウム
板は必要に応じて水洗及び化学的にエッチングされる。
【０３０１】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属、例えば、亜
鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチン
グ表面に不必要な被膜を形成するため好ましくない。こ
れらのエッチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間１分あたり０．３〜４０ｇ／ｍ2になるように行
なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下
回るものであっても差支えない、
【０３０２】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５
〜１０ｇ／ｍ2の範囲となるように処理されることが好
ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速
度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが
望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デ
スマット処理される。デスマット処理に使用される酸
は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ
化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミ
ニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極
酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行な
うことができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム
酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等ある
いはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶
液中でアルミニウムに直流又は交流の電流を流すと、ア
ルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させること
ができる。
【０３０３】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが、一
般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０、５〜６０アンペア／ｄｍ2、電圧１〜
１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当であ
る。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第
１，４１２，７６８号公報に記載されている硫酸中で高
電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第３，５１
１，６６１号公報に記載されている燐酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化さ
れ、更に陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じ
て親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国
特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６
１号明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケ
ート、例えば珪酸ナトリウム水溶液又は特公昭３６−２
２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カ
リウム及び米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開
示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方
法がある。
【０３０４】［その他の層］支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平５−４５８８５号公報に記載の有機高分
子化合物及び特開平６−３５１７４号公報に記載の有機
又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られ
る金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。こ
れらの被覆層のうち、Ｓｉ(ＯＣＨ3)4、Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)
4、Ｓｉ(ＯＣ3Ｈ7)4、Ｓｉ(ＯＣ4Ｈ9)4等のケイ素のア
ルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる
金属酸化物の被覆層が親水性に優れており特に好まし
い。
【０３０５】「製版方法］次に、本発明の平版印刷版用
原版からの平版印刷版の製版方法について説明する。こ
の平版印刷版用原版は、例えば、熱記録ヘッド等により
直接画像様に感熱記録を施されたり、光によって画像様
に露光されることで記録を施されたりする。像露光に用
いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルラン
プ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子
線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等がある。またｇ
線、ｉ線、Deep-UV光、高密度エネルギービーム（レー
ザービーム）も使用される。レーザービームとしてはヘ
リウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプト
ンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキ
シマレーザー、固体レーザー、半導体レーザー等が挙げ
られる。本発明においては、波長760〜1200nmの赤外線
を放射する固体レーザー、半導体レーザーが特に好まし
い。
【０３０６】上述の光による画像記録後、現像処理を行
う場合も行わない場合も、記録時の感度向上という観点
から加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件
は、80〜160℃の範囲内で10秒〜５分間行うことが好ま
しい。即ち、この加熱処理を施すことにより、上述の各
光源での露光時に、記録に必要なエネルギーを減少させ
ることができる。本発明の平版印刷版用原版は、上述の
手法により画像記録された後、現像液により現像後、更
に必要であればガム引きやバーニング処理等を行った
後、印刷機に版を装着し印刷を行うこともできる。ま
た、本発明の平版印刷版用原版は、記録層として極性変
換高分子化合物を含む層を用いる場合、画像記録後直ち
に（現像工程を経ずに）印刷機に版を装着し印刷を行う
こともできる。この場合は、湿し水等により、加熱部或
いは露光部が膨潤し、印刷初期に膨潤部が除去され、平
版印刷版が形成される。即ち、本発明の平版印刷版用原
版を使用する製版方法では、インク受容性層として好ま
しいものを用いることにより、特に現像処理やその他の
処理を経ることなく平版印刷版を製版し得る。
【０３０７】本発明の平版印刷版用原版のインク受容性
層として、アルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶性樹
脂と架橋性化合物を含む層を用いる場合には湿式現像処
理を要する。この処理に用いる現像液及び補充液として
は、従来より知られているアルカリ水溶液や、純水が使
用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第
３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第
２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソブロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。
【０３０８】これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素ＳｉＯ2とアルカリ金属酸化物Ｍ2
Ｏの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるため
であり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報、特公
昭５７−７４２７号公報に記載されているようなアルカ
リ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
【０３０９】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のＰＳ版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には、現像性の
促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤
や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界
面活性剤が挙げられる。
【０３１０】更に現像液および補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。上記現像液および補充液を用いて現像処
理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。ラテックスを含有する層およびインク受容
性層を有する本発明の平版印刷版用原版に画像形成を行
い印刷版として使用する場合の後処理としては、これら
の処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０３１１】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【０３１２】ラテックスを含有する層およびインク受容
性層を有する本発明の平版印刷版用原版は、画像露光
し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引き
して得られた平版印刷版に不必要な画像部（例えば原画
フィルムのフィルムエッジ跡など）がある場合には、そ
の不必要な画像部の消去が行われる。このような消去
は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されてい
るような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定
の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好
ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載され
ているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光
線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用で
きる。
【０３１３】
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 ［ラテックス溶液（１）の合成］1000mlの三口フラスコ
に下記モノマー（１）：８g、ジビニルベンゼン：１g、
ドデシル硫酸ナトリウム0.45ｇを秤取り、蒸留水：28g
に溶かし、65℃、窒素気流下にて30分間攪拌した。この
溶液に2,2'-アゾビス（2-アミジノプロパン）ジハイド
ロクロライド：18.6mgを蒸留水：2gに溶かした溶液を加
え、同温度で６時間攪拌した。反応終了後、反応混合物
をグラスフィルターで濾過し、ラテックス溶液（１）が
得られた。こうして得られたラテックス溶液（１）の固
形分濃度は、２０重量％であり、ラテックスの平均粒径
は87nmであった。
【０３１４】
【化６３】
【０３１５】［ラテックス溶液（２）の合成］500mlの
三口フラスコに蒸留水：300ml、分散剤Trax H-45（日本
油脂（株）製）：10g、スチレン−クロロメチルスチレ
ン−ジビニルベンゼンの混合物（モル比＝４４：４４：
１２）：104.4gを秤取り、60℃に加温して、窒素気流下
にて30分間攪拌した。この溶液に過硫酸カリウム：0.8g
を蒸留水：15mlに溶かした溶液を加え、その１分後に亜
硫酸水素ナトリウム：0.25gを蒸留水：5mlに溶かした溶
液を加え、そのまま同温度で６時間攪拌した。６時間
後、反応混合物をグラスフィルターで濾過し、得られた
濾液に、蒸留水：350gとイソプロパノール：140gを加え
た。ここにトリエチルアミン：36.14gを３０分かけて滴
下し、この反応混合物を、60℃にて６時間攪拌した。得
られた反応混合物をグラスフィルターで濾過した後、24
時間透析（蒸留水を２回交換）して残存モノマーや未反
応のトリエチルアミンを除去した。その後、反応混合物
を２リットルのビーカーに移し、85℃にて30分間加熱
し、この溶液を室温まで冷やした後、飽和食塩水200ml
を３０分間かけて滴下し、ラテックスを凝集させた。凝
集したラテックスをグラスフィルターにより濾過し、濾
別したラテックスを蒸留水で良く洗浄し、減圧下で乾燥
すると無色粉末のラテックスが得られた。得られたラテ
ックスの平均粒径は78nmであった。このラテックス：10
gとAR：40gをポリの容器に秤取り、ここにガラスビー
ズ：2gを加えて、ペイントシェーカーにより１時間良く
振り、ラテックス溶液（２）を調製した。
【０３１６】［ラテックス溶液（３）の合成］2000mlの
三口フラスコに、ドデシル硫酸ナトリウム：9.2ｇ、蒸
留水：1200mlを秤取り、75℃、窒素気流下にて10分間攪
拌した。この溶液に、過硫酸カリウム：0.462ｇ、蒸留
水：11.3ml、及び炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液：3.
5mlを混合した溶液を加えた後、ｔ−ブチルメタクリレ
ート：113.76ｇとエチレングリコールジメタクリレー
ト：39.65ｇの混合溶液と、過硫酸カリウム：0.462ｇ、
蒸留水：14.2ml、及び炭酸水素ナトリウムの飽和水溶
液：3.5mlを混合した溶液を、３時間かけて滴下した。
滴下終了後、更に１時間攪拌を続けた。得られた反応混
合物を、室温まで冷却し、グラスフィルターで濾過し
て、ラテックス溶液（３）が得られた。こうして得られ
たラテックス溶液（３）の固形分濃度は、11重量％であ
り、ラテックスの平均粒径は21nmであった。
【０３１７】［Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１の調
製］厚さ0.30mmのアルミニウム板（材質1050）をトリク
ロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと40
0メッシュのパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂
目立てし、水でよく洗浄した。この板を45℃の25％水酸
化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行
い、水洗後、更に２％硝酸に20秒間浸漬して水洗した。
このときの砂目立て表面のエッチング量は約３g/m2であ
った。次にこの板を７％硫酸を電解液として電流密度15
A/dm2で３g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾
燥した。得られたアルミニウム板を2.5wt％の３号珪酸
ソーダ水溶液（70℃）に14秒間浸した後、水洗乾燥し
た。更に上記の処理済みのアルミニウム板に、下記のよ
うに調製した溶液［１］をロッドバーで塗布し、100℃
で３分間乾燥して、Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１
を調製した。このときの固形分塗布量は0.2g/m2であっ
た。
【０３１８】 溶液［１］ ラテックス溶液（１） 10g 蒸留水 41.282g
【０３１９】［Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−２の調
製］Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１の調製時と同様
の処理を施したアルミニウム板に、下記のように調製し
た溶液［２］をロッドバーで塗布し、80℃で３分間乾燥
して、Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−２を調製した。
た。このときの固形分塗布量は0.2g/m2であった。
【０３２０】 溶液［２］ ラテックス溶液（２） 10g アセトニトリル 41.282g
【０３２１】［Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−３の調
製］Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１の調製時と同様
の処理を施したアルミニウム板に、下記のように調製し
た溶液［３］をロッドバーで塗布し、100℃で３分間乾
燥して、Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−３を調製し
た。た。このときの固形分塗布量は0.5g/m2であった。
【０３２２】 溶液［３］ ラテックス溶液（１） 9.0g ポリアクリル酸ナトリウム 0.2g 蒸留水 24.13g
【０３２３】［Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−４の調
製］Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１の調製時と同様
の処理を施したアルミニウム板に、下記のように調製し
た溶液［４］を回転数：150rpmで回転塗布し、80℃で３
分間乾燥して、Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−４を調
製した。このときの固形分塗布量は0.3g/m2であった。
【０３２４】 溶液［４］ ラテックス溶液（２） 1.0g 赤外線吸収剤（１） 0.1g アセトニトリル 28.9ｇ
【０３２５】
【化６４】
【０３２６】［Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−５の調
製］Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１の調製時と同様
の処理を施したアルミニウム板に、下記のように調製し
た溶液［５］を回転数：150rpmで回転塗布し、100℃で
３分間乾燥して、Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−５を
調製した。このときの固形分塗布量は0.15g/m2であっ
た。
【０３２７】 溶液［５］ ラテックス溶液（１） 9.0g ポリアクリル酸ナトリウム 0.2g 赤外線吸収剤（２） 1.0 g 蒸留水 100ｇ
【０３２８】［Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−６の調
製］Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１の調製時と同様
の処理を施したアルミニウム板に、下記のように調製し
た溶液［６］を回転数：150rpmで回転塗布し、130℃で
３分間乾燥して、Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−６を
調製した。このときの固形分塗布量は0.20g/m2であっ
た。
【０３２９】 溶液［６］ ラテックス溶液（２） 1.0g 高分子化合物（１） 0.05g 赤外線吸収剤（３） 0.2g アセトニトリル 48ｇ
【０３３０】
【化６５】
【０３３１】［Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−７の調
製］Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１の調製時と同様
の処理を施したアルミニウム板に、下記のように調製し
た溶液［７］をロッドバーで塗布し、80℃で3分間乾燥
して、Ａ層を備えたアルミニウム板Ｓ−７を調製した。
このときの固形分塗布量は0.2ｇ／ｍ2であった。
【０３３２】 溶液［７］ ラテックス溶液（３） 9.0g 蒸留水 40.5ｇ
【０３３３】［平版印刷版用原版（１）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１に、
下記のように調製した溶液［Ａ］をロッドバーを用いて
塗布し、80℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量は
1.0g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原版
（１）を得た。
【０３３４】 溶液［Ａ］ ポジ型極性変換高分子化合物（１） 2.36g 赤外線吸収剤（１） 0.47g アセトニトリル 30g
【０３３５】
【化６６】
【０３３６】［平版印刷版用原版（２）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−２に、
下記のように調製した溶液［Ｂ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は0.8g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（２）を得た。
【０３３７】 溶液［Ｂ］ ポジ型極性変換高分子化合物（２） 3.65g 赤外線吸収剤（２） 0.236g 酸発生剤 0.10g ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩 メチルエチルケトン 30g 1-メトキシ-2-プロパノール 18g
【０３３８】［平版印刷版用原版（３）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−3に、
下記のように調製した溶液［Ｃ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.0g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（３）を得た。
【０３３９】 溶液［Ｃ］ ポジ型極性変換高分子化合物（３） 2.36g 赤外線吸収剤（３） 0.47g メチルエチルケトン 30g
【０３４０】［平版印刷版用原版（４）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−４に、
下記のように調製した溶液［Ｄ］を回転数：150rpmで回
転塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重
量は1.0g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用
原版（４）を得た。
【０３４１】 溶液［Ｄ］ ポジ型極性変換高分子化合物（２） 3.65g 酸発生剤 0.10g ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩 メチルエチルケトン 30g 1-メトキシ-2-プロパノール 18g
【０３４２】［平版印刷版用原版（５）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−５に、
下記のように調製した溶液［Ｅ］を回転数：150rpmで回
転塗布し、80℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.2g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（５）を得た。
【０３４３】 溶液［Ｅ］ ポジ型極性変換高分子化合物（１） 3.65g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 アセトニトリル 48g
【０３４４】［平版印刷版用原版（６）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−６に、
下記のように調製した溶液［Ｆ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.5g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（６）を得た。
【０３４５】 溶液［Ｆ］ ポジ型極性変換高分子化合物（３） 3.65g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 メチルエチルケトン 30g 1-メトキシ-2-プロパノール 18g
【０３４６】［平版印刷版用原版（７）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１に、
下記のように調製した溶液［Ｇ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.0g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（７）を得た。
【０３４７】 溶液［Ｇ］ m,p-クレゾールノボラック 1.0g （m/p比：6/4、重量平均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量％含有） ＊アルカリ水溶液可溶性高分子化合物 ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 0.02g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 γ-ブチロラクトン ３g メチルエチルケトン ８g 1-メトキシ-2-プロパノール ７g
【０３４８】［平版印刷版用原版（８）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−２に、
下記のように調製した溶液［Ｈ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.8g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（８）を得た。
【０３４９】 溶液［Ｈ］ アルカリ水溶液可溶性高分子化合物（１） 11.0g 赤外線吸収剤（１） 0.1g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 0.02g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 γ-ブチロラクトン ８g メチルエチルケトン ８g 1-メトキシ-2-プロパノール ４g
【０３５０】［平版印刷版用原版（９）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−３に、
下記のように調製した溶液［Ｉ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.5g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（９）を得た。
【０３５１】 溶液［Ｉ］ m,p-クレゾールノボラック 1.0g （m/p比：6/4、重量平均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量％含有） ＊アルカリ水溶液可溶性高分子化合物 赤外線吸収剤（３） 0.2g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.02g 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 γ-ブチロラクトン ３g メチルエチルケトン ８g 1-メトキシ-2-プロパノール ７g
【０３５２】［平版印刷版用原版（10）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−６に、
下記のように調製した溶液［Ｊ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.0g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（10）を得た。
【０３５３】 溶液［Ｊ］ アルカリ水溶液可溶性高分子化合物（１） 11.0g 赤外線吸収剤（１） 0.1g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.02g 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 γ-ブチロラクトン ８g メチルエチルケトン ８g 1-メトキシ-2-プロパノール ４g
【０３５４】［平版印刷版用原版（11）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１に、
下記のように調製した溶液［Ｋ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて２分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.1g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（11）を得た。
【０３５５】 溶液［Ｋ］ ネガ型極性変換高分子化合物（１） 1.0g 赤外線吸収剤（１） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 20g メタノール ７g
【０３５６】［平版印刷版用原版（12）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−２に、
下記のように調製した溶液［Ｌ］を回転数：150rpmで回
転塗布し、100℃にて２分間乾燥した。乾燥後の塗布重
量は1.1g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用
原版（12）を得た。
【０３５７】 溶液［Ｌ］ ネガ型極性変換高分子化合物（２） 1.0g 赤外線吸収剤（１） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 20g メタノール ７g
【０３５８】［平版印刷版用原版（13）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−３に、
下記のように調製した溶液［Ｍ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて２分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.0g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（13）を得た。
【０３５９】 溶液［Ｍ］ ネガ型極性変換高分子化合物（３） 1.0g 赤外線吸収剤（１） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 20g メタノール ７g
【０３６０】
【化６７】
【０３６１】［平版印刷版用原版（14）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−４に、
下記のように調製した溶液［Ｎ］を回転数：150rpmで回
転塗布し、100℃にて２分間乾燥した。乾燥後の塗布重
量は1.2g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用
原版（14）を得た。
【０３６２】 溶液［Ｎ］ ネガ型極性変換高分子化合物（４） 1.0g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 20g メタノール ７g
【０３６３】［平版印刷版用原版（15）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−５に、
下記のように調製した溶液［Ｏ］を回転数：150rpmで回
転塗布し、100℃にて２分間乾燥した。乾燥後の塗布重
量は1.0g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用
原版（15）を得た。
【０３６４】 溶液［Ｏ］ ネガ型極性変換高分子化合物（５） 1.0g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 0.05g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 20g メタノール ７g
【０３６５】［平版印刷版用原版（16）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−４に、
下記のように調製した溶液［Ｐ］をロッドバーをの用い
て塗布し、100℃にて１分間乾燥した。乾燥後の塗布重
量は1.2g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用
原版（16）を得た。
【０３６６】 溶液［Ｐ］ フェノールとホルムアルデヒドから得られる ノボラック樹脂（重量平均分子量１万） 1.5g ＊アルカリ水溶液可溶性樹脂 架橋剤（１） 0.50g 酸発生剤（１） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.03g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 15g 1-メトキシ-2-プロパノール 10g メタノール ５g
【０３６７】［平版印刷版用原版（17）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−５に、
下記のように調製した溶液［Ｑ］をロッドバーを用いて
塗布し、100℃にて１分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は1.2g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用原
版（17）を得た。
【０３６８】 溶液［Ｑ］ ・フェノールとホルムアルデヒドから得られる 1.5g ノボラック樹脂（重量平均分子量１万） ＊アルカリ水溶液可溶性樹脂 架橋剤（１） 0.50g 酸発生剤（１） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.03g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 15g 1-メトキシ-2-プロパノール 10g メタノール ５g
【０３６９】［平版印刷版用原版（18）の調製］上記の
ように調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−１に、
下記のように調製した溶液［Ｒ］を回転数：150rpmで回
転塗布し、100℃にて１分間乾燥した。乾燥後の塗布重
量は1.2g/m2であった。以上のようにして平版印刷版用
原版（18）を得た。
【０３７０】 溶液［Ｒ］ フェノールとホルムアルデヒドから得られる ノボラック樹脂（重量平均分子量１万） 1.5g ＊アルカリ水溶液可溶性樹脂 架橋剤（１） 0.50g 赤外線吸収剤（１） 0.10g 酸発生剤（１） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.03g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 15g 1-メトキシ-2-プロパノール 10g メタノール ５g
【０３７１】［平版印刷版用原版（19）の調製］厚さ0.
30mmのアルミニウム板（材質1050）をトリクロロエチレ
ン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。この板を45℃の25％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、
更に２％硝酸に20秒間浸漬して水洗した。このときの砂
目立て表面のエッチング量は約３g/m2であった。次にこ
の板を７％硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で３g/m
2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。得ら
れたアルミニウム板を2.5wt％の３号珪酸ソーダ水溶液
（70℃）に14秒間浸した後、水洗乾燥した。更に上記の
処理済みのアルミニウム板に、下記のように調製した溶
液［Ｓ］を回転数：150rpmで回転塗布し、80℃で３分間
乾燥した。このときの固形分塗布量は1.2g/m2であっ
た。以上のようにして平版印刷版用原版（19）を得た。
【０３７２】 溶液［Ｓ］ ポジ型極性変換高分子化合物（１） 3.56g 赤外線吸収剤（２） 0.236g メチルエチルケトン 24g アセトニトリル 24g
【０３７３】［平版印刷版用原版（20）の調製］厚さ0.
30mmのアルミニウム板（材質1050）をトリクロロエチレ
ン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。この板を45℃の25％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、
更に２％硝酸に20秒間浸漬して水洗した。このときの砂
目立て表面のエッチング量は約３g/m2であった。次にこ
の板を７％硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で３g/m
2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。更に
上記の処理済みのアルミニウム板に、下記のように調製
した溶液［Ｔ］を塗布し、100℃で１分間乾燥した。こ
のときの固形分塗布量は1.8g/m2であった。以上のよう
にして平版印刷版用原版（20）を得た。
【０３７４】 溶液［Ｔ］ アルカリ水溶液可溶性高分子化合物（１） 11.0g 赤外線吸収剤（１） 0.1g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.02g 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 γ-ブチロラクトン ８g メチルエチルケトン ８g 1-メトキシ-2-プロパノール ４g
【０３７５】［平版印刷版用原版（21）の調製］厚さ0.
30mmのアルミニウム板（材質1050）をトリクロロエチレ
ン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。この板を45℃の25％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、
更に２％硝酸に20秒間浸漬して水洗した。このときの砂
目立て表面のエッチング量は約３g/m2であった。次にこ
の板を７％硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で３g/m
2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。更に
上記の処理済みのアルミニウム板に、下記のように調製
した溶液［Ｕ］を塗布し、100℃で２分間乾燥した。こ
のときの固形分塗布量は1.1g/m2であった。以上のよう
にして平版印刷版用原版（21）を得た。
【０３７６】 溶液［Ｕ］ ネガ型極性変換高分子化合物（１） 1.0g 赤外線吸収剤（２） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.05g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 20g メタノール ７g
【０３７７】［平版印刷版用原版（22）の調製］厚さ0.
30mmのアルミニウム板（材質1050）をトリクロロエチレ
ン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。この板を45℃の25％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、
更に２％硝酸に20秒間浸漬して水洗した。このときの砂
目立て表面のエッチング量は約３g/m2であった。次にこ
の板を７％硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で３g/m
2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。更に
上記の処理済みのアルミニウム板に、下記のように調製
した溶液［Ｖ］を塗布し、100℃で１分間乾燥した。こ
のときの固形分塗布量は1.1g/m2であった。以上のよう
にして平版印刷版用原版（22）を得た。
【０３７８】 溶液［Ｖ］ フェノールとホルムアルデヒドから得られる ノボラック樹脂（重量平均分子量１万） 1.5g ＊アルカリ水溶液可溶性樹脂 架橋剤（１） 0.50g 赤外線吸収剤（１） 0.10g 酸発生剤（１） 0.15g フッ素系界面活性剤 0.03g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 15g 1-メトキシ-2-プロパノール 10g メタノール ５g
【０３７９】［平版印刷版用原版（23）の調製］厚さ0.
30mmのアルミニウム板（材質1050）をトリクロロエチレ
ン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。この板を45℃の25％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、
更に２％硝酸に20秒間浸漬して水洗した。このときの砂
目立て表面のエッチング量は約３g/m2であった。次にこ
の板を７％硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で３g/m
2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。得ら
れたアルミニウム板を2.5wt％の３号珪酸ソーダ水溶液
（70℃）に14秒間浸した後、水洗乾燥した。更に上記の
処理済みのアルミニウム板に、下記のように調製した溶
液［15］を塗布し、100℃で３分間乾燥した。このとき
の固形分塗布量は0.2g/m2であった。
【０３８０】 溶液［15］ 水溶性ポリマー（１） 0.404g 赤外線吸収剤（２） 0.404g フッ素系界面活性剤 0.03g メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 2-プロパノール 8g 蒸留水 40g
【０３８１】上記のようにして得られたアルミニウム板
に、下記のように調製した溶液［Ｗ］を塗布し、80℃で
３分間乾燥した。このときの固形分塗布量は1.2g/m2で
あった。以上のようにして平版印刷版用原版（23）を得
た。
【０３８２】 溶液［Ｗ］ ポジ型極性変換高分子化合物（１） 3.65g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1-ナフタレン-スルホン酸にした染料 0.05g アセトニトリル 48g
【０３８３】［平版印刷版用原版(24)の調製］上記のよ
うに調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−７に、下
記のように調製した溶液［Ａ］をロッドバーを用いて塗
布し、８０℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量は
１．０ｇ／ｍ2であった。以上のようにして平版印刷版
用原版(24)を得た。
【０３８４】 溶液［Ａ］ ポジ型極性変換高分子化合物（１） 2.36ｇ 赤外線吸収剤（１） 0.47ｇ アセトニトリル 30ｇ
【０３８５】［平版印刷版用原版(25)の調製］上記のよ
うに調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−７に、下
記のように調製した溶液［Ｇ］をロッドバーを用いて塗
布し、１００℃にて３分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は１．０ｇ／ｍ2であった。以上のようにして平版印刷
版用原版(25)を得た。
【０３８６】 溶液［Ｇ］ ｍ，ｐ−クレゾールノボラック 1.0ｇ (m/p比：6/4、重量平均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量％含有) ＊アルカリ水溶液可溶性高分子化合物 ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを 0.02ｇ １−ナフタレン−スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 0.05ｇ メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 γ−ブチロラクトン ３ｇ メチルエチルケトン ８ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ７ｇ
【０３８７】［平版印刷版用原版(26)の調製］上記のよ
うに調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−７に、下
記のように調製した溶液［Ｋ］をロッドバーを用いて塗
布し、１００℃にて２分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は１．１ｇ／ｍ2であった。以上のようにして平版印刷
版用原版(26)を得た。
【０３８８】 溶液［Ｋ］ ネガ型極性変換高分子化合物（１） 1.0ｇ 赤外線吸収剤（１） 0.15ｇ フッ素系界面活性剤 0.05ｇ メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 20ｇ メタノール ７ｇ
【０３８９】［平版印刷版用原版(27)の調製］上記のよ
うに調製したＡ層を備えたアルミニウム板Ｓ−４に、下
記のように調製した溶液［Ｐ］をロッドバーを用いて塗
布し、１００℃にて１分間乾燥した。乾燥後の塗布重量
は１．２ｇ／ｍ2であった。以上のようにして平版印刷
版用原版(27)を得た
【０３９０】 溶液［Ｐ］ フェノールとホルムアルデヒドから得られる 1.5ｇ ノボラック樹脂（重量平均分子量１万） ＊アルカリ水溶液可溶性樹脂 架橋剤（１） 0.50ｇ 酸発生剤（１） 0.15ｇ フッ素系界面活性剤 0.03ｇ メガファックF-177、大日本インキ化学工業（株）製 メチルエチルケトン 15ｇ １−メトキシ−２−プロパノール 10ｇ メタノール 5ｇ
【０３９１】〈ポリマー微粒子の合成〉 （熱反応性官能基を有するポリマー微粒子（１）の合
成）アリルメタクリレート７．５ｇ、ブチルメタクリレ
ート７．５ｇ、ポリオキシエチレンノニルフェノール水
溶液（濃度９．８４×１０-3ｍｏｌｌ-1）２００ｍｌを
加え、２５０ｒｐｍでかき混ぜながら、系内を窒素ガス
で置換する。この液を２５℃にした後、セリウム（IV）
アンモニウム塩水溶液（濃度０．９８４×１０-3ｍｏｌ
ｌ-1）１０ｍｌ添加する。この際、硝酸アンモニウム水
溶液（濃度５８．８×１０-3ｍｏｌｌ-1）を加え、ｐＨ
を１．３〜１．４に調整する。その後８時間これを撹拌
した。このようにして得られた液の固形分濃度は９．５
％であり、平均粒径は０．４μｍであった。
【０３９２】（熱反応性官能基をもたないポリマー微粒
子（２）の合成）上記ポリマー微粒子（１）の合成にお
けるアリルメタクリレートとブチルメタクリレートの代
わりに、スチレン１５ｇを用いて、上記合成例（１）と
同様にして重合した。このようにして得られたポリスチ
レン微粒子分散液の固形分濃度は９．０重量％であり、
平均粒径は０．３μｍであった。
【０３９３】（マイクロカプセル（１）の調製）油相成
分として、Ｄ−１１０Ｎ（武田薬品（株）製）４０ｇ、
トリメチロールプロパンジアクリレート１０ｇ、アリル
メタクリレートとブチルメタクリレートの共重合体（モ
ル比７／３）１０ｇ、ＩＲ−３３ ５．０ｇ、パイオニ
ンＡ４１Ｃ（竹本油脂製）０．１ｇを酢酸エチル６０ｇ
に溶解した。水相成分として、ＰＶＡ２０５（クラレ
製）の４％水溶液を１２０ｇ作製した。油相成分および
水相成分をホモジナイザーを用いて１００００ｒｐｍで
乳化した。その後、水を４０ｇ添加し、室温で３０分、
さらに４０℃で３時間撹拌した。このようにして得られ
たマイクロカプセル液の固形分濃度は２０％であり、平
均粒径は０．５μｍであった。
【０３９４】［平版印刷版用原版(28)の調製］下記組成
からなる溶液をペイントシェーカーで１０分間分散して
調製し、上記のように調製したＡ層を備えたアルミニウ
ム板Ｓ−１に塗布し、１００℃にて１分間乾燥した。乾
燥後の塗布重量は０．５ｇ／ｍ2であった。以上のよう
にして平版印刷版用原版(28)を得た。
【０３９５】 合成したポリマー微粒子（１） ５ｇ（固形分換算） ポリヒドロキシエチルアクリレート 0.5ｇ （重量平均分子量２．５万） 赤外線吸収剤（２） 0.3ｇ トリフェニルスルホニウム安息香酸塩 0.1ｇ 水 100ｇ
【０３９６】［平版印刷版用原版(29)の調製］下記組成
からなる溶液をペイントシェーカーで１０分間分散して
調製し、上記のように調製したＡ層を備えたアルミニウ
ム板Ｓ−２に塗布し、１００℃にて１分間乾燥した。乾
燥後の塗布重量は０．５ｇ／ｍ2であった。以上のよう
にして平版印刷版用原版(29)を得た。
【０３９７】 合成したポリマー微粒子（２） ５ｇ（固形分換算） ポリヒドロキシエチルアクリレート 0.5ｇ （重量平均分子量２．５万） 赤外線吸収剤（２） 0.3ｇ トリフェニルスルホニウム安息香酸塩 0.1ｇ 水 100ｇ
【０３９８】［平版印刷版用原版(30)の調製］下記組成
からなる溶液をペイントシェーカーで１０分間分散して
調製し、上記のように調製したＡ層を備えたアルミニウ
ム板Ｓ−７に塗布し、１００℃にて１分間乾燥した。乾
燥後の塗布重量は０．５ｇ／ｍ2であった。以上のよう
にして平版印刷版用原版(30)を得た。
【０３９９】 合成したマイクロカプセル（１） ５ｇ（固形分換算） トリメチロールプロパントリアクリレート 3.0ｇ 赤外線吸収剤（２） 0.3ｇ トリフェニルスルホニウム安息香酸塩 0.1ｇ 水 60ｇ １−メトキシ−２−プロパノール 40ｇ
【０４００】［平版印刷版用原版(31)の調製］厚さ０．
３０mmのアルミニウム板（材質1050）をトリクロロエチ
レン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッ
シュのパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立て
し、水でよく洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化
ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、
水洗後、更に２％硝酸に２０秒間浸漬して水洗した。こ
のときの砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2で
あった。次にこの板を７％硫酸を電解液として電流密度
１５Ａ／ｄｍ2で３ｇ／ｍ2の直流陽極酸化皮膜を設けた
後、水洗乾燥した。下記組成からなる溶液をペイントシ
ェーカーで１０分間分散して調製し、上記のように調製
したアルミニウム板に塗布し、１００℃にて１分間乾燥
した。乾燥後の塗布重量は０．５ｇ／ｍ2であった。以
上のようにして平版印刷版用原版(31)を得た。
【０４０１】 合成したマイクロカプセル（１） ５ｇ（固形分換算） トリメチロールプロパントリアクリレート 3.0ｇ 赤外線吸収剤（２） 0.3ｇ トリフェニルスルホニウム安息香酸塩 0.1ｇ 水 60ｇ １−メトキシ−２−プロパノール 40ｇ
【０４０２】［実施例１〜７及び比較例１、２］得られ
た平版印刷版用原版（１）〜（６）、（19）、（23）及
び（24）を、波長840nmの赤外線を発する半導体レーザ
ーにより主走査速度2.0m/sで露光した。露光後、蒸留水
に１分間浸した後、光学顕微鏡で非画像部の線幅を観測
した。その線幅に相当するレーザーの照射エネルギーを
求めて、これを感度とした。また、同様に平版印刷版用
原版（１）〜（６）、（19）、（23）及び（24）を、波
長840nmの赤外線を発する半導体レーザーにより主走査
速度2.0m/sと4.0m/sでそれぞれ露光した後、何ら処理す
ることなくハイデルＫＯＲ−Ｄ機で通常通り印刷した。
この際、3000枚目の印刷物の非画像部に汚れが発生して
いるかどうか、何枚良好な印刷物が得られるかどうかを
評価した。以上の結果を表１に示す。
【０４０３】
【表１】
【０４０４】Ａ層を用いた平版印刷版用原版（１）〜
（６）、（24）は何れも感度が高く、2.0m/s、4.0m/sの
何れの走査速度で露光しても3000枚目の印刷物非画像部
には汚れが生じなかった。これに対して比較例１の平版
印刷版用原版（19）は、アルミ支持体上にインク受容性
層のみを有する平版印刷版用原版であるが、この平版印
刷版用原版は若干感度が低く、走査速度2.0m/sでは3000
枚目の印刷物非画像部にも汚れが無く、良好な印刷物が
45000枚得られたが、走査速度4.0m/sで露光した際には1
000枚目の印刷物非画像部に汚れが生じていた。これ
は、平版印刷版用原版（19）においてはインク受容性層
の水可溶化がインク受容性層の表面から進行するため
に、走査速度が速い（4.0m/s）場合にはインク受容性層
全てを水可溶化する事ができずにインク受容性層が残膜
したことが原因である。
【０４０５】一方、比較例２の平版印刷版用原版（23）
は、アルミニウム支持体上に赤外線吸収剤と水溶性ポリ
マーを含有した層とインク受容性層を有する平版印刷版
用原版であるが、この平版印刷版用原版は線幅感度、30
00枚目の印刷物非画像部汚れに関しては何れの走査速度
で露光した場合でも、実施例１〜７の平版印刷版用原版
とほとんど同レベルであった。これは、赤外線吸収剤と
水溶性ポリマーを含有した層がＡ層の効果の一部であ
る、インク受容性層下からの水可溶化、アルミ支持体へ
の熱拡散の抑制、を発揮し、インク受容性層の全てが水
可溶化しなくても除去できたことが原因である。しかし
ながら、画像部の赤外線吸収剤と水溶性ポリマーを含有
した層は印刷中の湿し水により徐々に溶かされるため
に、画像部がとれてしまい良好な印刷物は20000枚しか
得られなかった。
【０４０６】［実施例８〜12及び比較例３］得られた平
版印刷版用原版（７）〜（10）、（20）及び（25）を、
波長840nmの赤外線を発する半導体レーザーにより露光
した。露光後、富士写真フイルム（株）製現像液DP-4、
リンス液FR-3（1:7）を仕込んだ自動現像機（富士写真
フイルム（株）製「PSプロセッサー900VR」）を用いて
現像した。その際、DP-4は1:6で希釈したもの及び1:12
で希釈したものの２水準を使用し、それぞれの現像液に
て得られた非画像部の線幅を測定し、その線幅に相当す
るレーザーの照射エネルギーを求めて、これを感度とし
た。そして、標準である1:6で希釈したものと、1:12で
希釈したものとの差を記録した。その差が小さいほど現
像ラチチュードが良好であり、20mJ/cm2以下であれば、
実用可能なレベルである。以下の表２にこの結果を示
す。
【０４０７】
【表２】
【０４０８】Ａ層を用いた平版印刷版用原版（７）〜
（10）及び（25）は何れも感度が高く、現像ラチチュー
ドも実用可能なレベルであった。これに対して比較例３
の平版印刷版用原版（20）は、アルミニウム支持体上に
インク受容性層のみを有する平版印刷版用原版である
が、この平版印刷版用原版は若干感度が低く、現像ラチ
チュードも実用可能なレベルには達しなかった。
【０４０９】［実施例13〜18及び比較例４］得られた平
版印刷版用原版（11）〜（15）、（21）及び（26）を、
波長840nmの赤外線を発する半導体レーザーにより主走
査速度2.0m/sで露光した。露光後、pH8.8の水溶液（水8
4.7％、イソプロパノール10％、トリエチルアミン５
％、濃塩酸0.3％）に１分間浸した後、光学顕微鏡で画
像部の線幅を観測した。その線幅に相当するレーザーの
照射エネルギーを求めて、これを感度とした。また、同
様に平版印刷版用原版（11）〜（15）、（21）及び（2
6）を、波長840nmの赤外線を発する半導体レーザーによ
り主走査速度2.0m/sと4.0m/sでそれぞれ露光した後、何
ら処理することなくハイデルＫＯＲ−Ｄ機で通常通り印
刷した。このときの印刷湿し水の条件を以下に示す。 湿し水：pH8.8（水84.7％、イソプロパノール10％、ト
リエチルアミン５％、濃塩酸0.3％） この際、10000枚目の印刷物の画像部にインクが十分に
着肉しているかどうか、何枚良好な印刷物が得られるか
どうかを評価した。以上の結果を表３に示す。
【０４１０】
【表３】
【０４１１】Ａ層を用いた平版印刷版用原版（11）〜
（15）及び（26）は何れも感度が高く、画像部のインク
着肉性も良好であった。これに対して比較例４の平版印
刷版用原版（21）は、速い走査速度（4.0m/s）で露光し
た場合には感度が若干低く、画像部着肉性が悪かった。
また、良好な印刷物は１枚も得られなかった。
【０４１２】［実施例19〜22及び比較例５］得られた平
版印刷版用原版（16）〜（18）、（22）及び（27）を、
波長840nmの赤外線を発する半導体レーザーにより露光
した。露光後、140℃のオーブンで１分間加熱処理した
後、富士写真フイルム（株）製現像液DP-4、リンス液FR
-3（1:7）を仕込んだ自動現像機（富士写真フイルム
（株）製「PSプロセッサー900VR」）を用いて現像し
た。その際、DP-4は1:6で希釈したもの及び1:12で希釈
したものの２水準を使用し、それぞれの現像液にて得ら
れた非画像部の線幅を測定し、その線幅に相当するレー
ザーの照射エネルギーを求めて、これを感度とした。そ
して、標準である1:6で希釈したものと、1:12で希釈し
たものとの差を記録した。その差が小さいほど現像ラチ
チュードが良好であり、20mJ/cm2以下であれば、実用可
能なレベルである。以下の表４にこの結果を示す。
【０４１３】
【表４】
【０４１４】Ａ層を用いた平版印刷版用原版（16）〜
（18）及び（27）は何れも感度が高く、現像ラチチュー
ドも実用可能なレベルであった。これに対して比較例５
の平版印刷版用原版（22）は、アルミ支持体上にインク
受容性層のみを有する平版印刷版用原版であるが、この
平版印刷版用原版は若干感度が低く、現像ラチチュード
も実用可能なレベルには達しなかった。
【０４１５】［[実施例23〜25及び比較例６］得られた
平版印刷版用原版（28）〜（31）を、水冷式４０Ｗ赤外
線半導体レーザーを搭載したクレオ社製トレンドセッタ
ー３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２
１０rpm、版面エネルギー１００ｍＪ／cm2、解像度２４
００ｄｐｉの条件で露光した。その後、何ら処理するこ
となくハイデルベルグ社製印刷機ＳＯＲ−Ｍのシリンダ
ーに取り付け、湿し水を供給した後、インキを供給し、
更に紙を供給して印刷を行った。この際、良好な印刷物
を得るために必要な初期印刷枚数（刷り出し枚数）と何
枚良好な印刷物が得られるかどうかを評価した。以上の
結果を表５に示す。
【０４１６】
【表５】
【０４１７】Ａ層を用いた平版印刷版用原版（28）〜
（30）は何れも刷り出し枚数が速く、大量の印刷物が得
られた。これに対して比較例６の平版印刷版用原版（3
1）は、刷り出し枚数は平版印刷版用原版（28）〜（3
0）とほとんど変わりなかったが、良好な印刷物は５０
００枚しか得られなかった。
【０４１８】
【発明の効果】本発明の平版印刷用原版は、支持体上に
ラテックスを含有する層（Ａ層）を有することにより、
ヒートモード画像記録時において、支持体への熱拡散が
抑制され、また、ラテックスの特性により、水又は水溶
液現像可能な、あるいは画像書き込み後、湿式現像処理
やこすり等の特別な処理を必要とせず、高感度であり、
良好な画像部強度、即ち耐刷性が得られ、且つ、残色、
汚れのない印刷物を与えることができる。また、本発明
によれば、特に赤外線を放射する固体レーザー又は半導
体レーザー等を用いて記録することにより、ディジタル
データから直接製版可能である。さらに、Ａ層に含有さ
れるラテックスとして、架橋された有機樹脂粒子を用い
ることにより、より良好な画像部強度、即ち耐刷性を得
ることができた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 親水性表面を有する支持体上に、ラテッ
    クスを含有する層（Ａ層）と、熱により水および水溶液
    の少なくともいずれかに対する溶解性が変化するインク
    受容性層（Ｂ層）とを順に有し、Ａ層とＢ層の少なくと
    も１層に光熱変換剤を含有することを特徴とする平版印
    刷版用原版。
  2. 【請求項２】 前記ラテックスが架橋された有機樹脂粒
    子であることを特徴とする請求項１記載の平版印刷版用
    原版。
JP2000337792A 2000-03-21 2000-11-06 平版印刷版用原版 Pending JP2001337460A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000337792A JP2001337460A (ja) 2000-03-21 2000-11-06 平版印刷版用原版
EP01106393A EP1136281B1 (en) 2000-03-21 2001-03-20 Lithographic printing plate precursor
DE60113730T DE60113730T2 (de) 2000-03-21 2001-03-20 Flachdruckplattenvorläufer
EP03021157A EP1371500B1 (en) 2000-03-21 2001-03-20 Lithographic printing plate precursor
DE60101807T DE60101807T2 (de) 2000-03-21 2001-03-20 Flachdruckformen-Vorstufe
AT01106393T ATE258115T1 (de) 2000-03-21 2001-03-20 Flachdruckformen-vorstufe
US09/812,053 US6680161B2 (en) 2000-03-21 2001-03-20 Lithographic printing plate precursor

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000078597 2000-03-21
JP2000-78597 2000-03-21
JP2000337792A JP2001337460A (ja) 2000-03-21 2000-11-06 平版印刷版用原版

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001337460A true JP2001337460A (ja) 2001-12-07

Family

ID=26587968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000337792A Pending JP2001337460A (ja) 2000-03-21 2000-11-06 平版印刷版用原版

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6680161B2 (ja)
EP (2) EP1136281B1 (ja)
JP (1) JP2001337460A (ja)
AT (1) ATE258115T1 (ja)
DE (2) DE60101807T2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503806A (ja) * 2000-06-13 2004-02-05 コダック　ポリクロム　グラフィックス　カンパニーリミテッド 熱デジタルリソグラフ印刷版
EP1975709A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
JP2009058969A (ja) * 2008-10-27 2009-03-19 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6660446B2 (en) * 2000-05-30 2003-12-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-sensitive composition and planographic printing plate
GB0227608D0 (en) * 2002-11-27 2002-12-31 Univ Manchester Resin cross-linking
US20050208423A1 (en) * 2004-03-19 2005-09-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US20050263021A1 (en) * 2004-05-31 2005-12-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Platemaking method for lithographic printing plate precursor and planographic printing method
US20060063110A1 (en) * 2004-09-20 2006-03-23 Mitsubishi Paper Mills Limited Process for preparing light-sensitive lithographic printing plate and method for processing the same
JP2006188038A (ja) * 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
US20070134587A1 (en) * 2005-12-08 2007-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US7563556B2 (en) * 2006-11-17 2009-07-21 Kodak Graphic Communications Gmbh Multilayer element with low pH developer solubility
US8257907B2 (en) * 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US9417524B1 (en) 2015-03-10 2016-08-16 Eastman Kodak Company Infrared radiation-sensitive lithographic printing plate precursors

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1512982A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Salts
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
JPS5237104A (en) 1975-09-16 1977-03-22 Fuji Photo Film Co Ltd Printing plate material and method of making plate using same
JPS52118417A (en) 1976-03-29 1977-10-04 Mitsui Toatsu Chem Inc Preparation of acrylic alkali salt dispersion
JPH083630B2 (ja) 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JP2845995B2 (ja) 1989-10-27 1999-01-13 株式会社日立製作所 領域抽出手法
US5227275A (en) 1990-01-08 1993-07-13 Mitsubishi Paper Mills Limited Light sensitive element for making lithographic printing plate material
DE4230058B4 (de) * 1991-09-10 2004-09-23 Mitsubishi Paper Mills Limited Lichtempfindliches Element für lithographische Platten
JPH05158230A (ja) 1991-12-10 1993-06-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
EP0713140B1 (en) 1994-11-15 1998-06-10 Agfa-Gevaert N.V. Imaging element and method for making a printing plate according to the silver salt diffusion transfer process
JP3402538B2 (ja) * 1995-03-28 2003-05-06 三菱製紙株式会社 平版印刷版の製版方法
GB9709404D0 (en) * 1997-05-10 1997-07-02 Du Pont Uk Improvements in or relating to the formation of images
EP0881094B1 (en) 1997-05-27 2000-10-18 Agfa-Gevaert N.V. A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6686125B2 (en) * 2000-01-14 2004-02-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503806A (ja) * 2000-06-13 2004-02-05 コダック　ポリクロム　グラフィックス　カンパニーリミテッド 熱デジタルリソグラフ印刷版
EP1975709A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
JP2009058969A (ja) * 2008-10-27 2009-03-19 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE60101807D1 (de) 2004-02-26
DE60101807T2 (de) 2004-11-04
DE60113730T2 (de) 2006-08-24
EP1371500A1 (en) 2003-12-17
US20030190553A1 (en) 2003-10-09
EP1136281A1 (en) 2001-09-26
US6680161B2 (en) 2004-01-20
ATE258115T1 (de) 2004-02-15
EP1371500B1 (en) 2005-09-28
DE60113730D1 (de) 2006-02-09
EP1136281B1 (en) 2004-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6824946B2 (en) Lithographic printing plate precursor
EP0938972B1 (en) Photosensitive lithographic form plate using an image-forming material
US6509132B1 (en) Lithographic printing plate precursor
EP1371500B1 (en) Lithographic printing plate precursor
JP2004276603A (ja) 平版印刷版用支持体
US6455224B1 (en) Lithographic printing plate precursor
JP4099012B2 (ja) 画像形成材料
JP3920457B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3741342B2 (ja) 平版印刷版用原板
JP4210424B2 (ja) 平版印刷版用原版
JP4004651B2 (ja) 平版印刷版用原版および平版印刷版の製造方法
JP3698391B2 (ja) 機上現像型平版印刷版用原版
JP3934825B2 (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4082850B2 (ja) 平版印刷用原板
JP3761127B2 (ja) 平版印刷版用原板
JP2002174895A (ja) 平版印刷版用原版
JP2002174893A (ja) 平版印刷版用原版
JP4041611B2 (ja) アニオン性赤外線吸収剤、感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP3977557B2 (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JPH11338135A (ja) 平版印刷版用原版
JP2002254851A (ja) 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版