DE2518656B2 - Härtbare Zusammensetzungen - Google Patents

Härtbare Zusammensetzungen

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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft härtbare Zusammensetzungen mit folgenden Bestandteilen:
a) einem Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist und
b) einer wirksamen Menge mindestens eines strahlungsempfindlichen aromatischen Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe Va des Periodensystems, das die Härtung von a) bewirken kann durch Freisetzung eines Lewissäure-Katalysators, wenn es ultraviolettem Licht oder einem Elektronenstrahl ausgesetzt wird.
Epoxyharze sind allgemein für eine Reihe verschiedener Anwendungen eingesetzt worden, die hochleistungsfähige Materialien erfordern. Die Härtung eines Epoxyharzes kann allgemein mittels aus zwei Komponenten bestehenden Systemen erreicht werden, die auf der Einarbeitung aktives Amin enthaltender Verbindungen oder von Carbonsäureanhydriden in das Harz beruhen. Die Systeme erfordern ein gründliches Mischen der Bestandteile und außerdem kann die Härtungszeit einige Stunden betragen.
Weiter kann man Epoxyharze als sogenannte Einkomponentensysteme härten, wozu man einen
ίο Lewissäure-Katalysator in Form eines Aminkomplexes verwendet, wie Bortrifluorid/Monoäthylamin. Die Lewissäure wird beim Erhitzen freigesetzt und die Härtung findet innerhalb von 1 bis 8 Stunden statt und kann eine Temperatur von 1600C oder mehr erfordern.
Infolgedessen können diese Einkomponenten-Epoxyzusammensetzungen nicht zum Beschichten von hitzeempfindlichen Geräten verwendet werden, wie empfindlichen elektronischen Komponenten. Auch können keine Epoxymonomere mit niedrigen Siedepunkten verwendet werden, da während des Härtens Verluste durch Verdampfung auftreten.
Für eine solche Hitzehärtung von Epoxyharzen sind auch schon Organoborate der folgenden Formel vorgeschlagen worden
R4-M-R2
worin M für Phosphor oder Arsen steht und Ri-Rs unabhängig voneinander ein Alkyl-, Alkenyl- oder Arylrest sind (vgl. US-PS 36 37 572).
In der US-PS 37 08 296 ist die Verwendung gewisser fotoempfindlicher aromatischer Diazoniumsalze zum Härten von Epoxyharzen beschrieben. Durch Fotolyse setzen diese aromatischen Diazoniumsalze in situ einen Lewissäure-Katalysator frei, der die rasche Polymerisation des Epoxyharzes einleiten kann. Obwohl daher diese Einkomponenten-Epoxyharzmischungen rasch härtende Zusammensetzungen ergeben können, muß, da die Diazoniumsalze sehr instabil sind, immer ein Stabilisator verwendet werden, (vgl. die US-PS 38 16 280), um die Härtung im Dunkeln während der Lagerung dieser Mischungen möglichst gering zu halten. Es hat sich aber gezeigt, daß trotz dieser Verwendung eines Stabilisators und der Lagerung im Dunkeln die Gelierung der Mischung häufig eintritt.
Außerdem wird während der UV-Härtung aus den Diazoniumsalzen gasförmiger Stickstoff freigesetzt, der zur Verfärbung und Blasen in dem entstehenden Film führen kann. Außerdem sind Diazoniumsalze allgemein thermisch instabil und machen daher die Verwendung solcher Materialien wegen der Möglichkeit unkontrollierter Zersetzung gefährlich.
In der US-PS 35 67 453 sind strahlungsempfindliche Zusammensetzungen für Fotoresists und Lithografie beschrieben, die ein strahlungsempfindliches, organisch
bo substituiertes Boratsalz enthalten oder daraus bestehen. Soweit diese Zusammensetzungen zusätzlich Bindemittel enthalten, sind diese Bindemittel Novolak- oder Resolharze, also durch saure oder alkalische Kondensation hergestellte, niedere, lösliche, lineare Phenolformal-
b5 dehyd-Kondensate.
Der Einsatz dieser zur alleinigen oder mit den obigen Bindern gemeinsamen Verwendung für Fotoresists und Lithographie bekannten organisch substituierten Borate
anstelle der strahlungsempfindlichen Diazoniumsalze in den härtbaren Zusammensetzungen nach der US-PS 37 08 296 ist zum einen für den Fachmann nicht naheliegend und zum anderen zeigt ein Vergleichsversuch (s. Beispiele) die Unwirksamkeit dieser substituierten Boratsalze für die Strahlungshärtung von Epoxyharzen.
Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, härtbare Zusammensetzungen der eingangs genannten Art zu schaffen, die keinen Stabilisator erfordern und die ι ο Nachteile der bekannten härtbaren Zusammensetzungen mit Diazoniumsalzen nicht aufweisen.
Diese Aufgabe wurde erfindungsgemäß gelöst durch den Einsatz von 0,1 — 15 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der Zusammensetzung, eines Oniumsalzes der Formel
worin R ein einwertiger aromatischer Rest ist, ausgewählt aus carbocyclischen und heterocyclischen Resten, R1 ein einwertiger aliphatischer Rest ist, ausgewählt aus Alkyl, Alkoxy, Cycloalkyl und deren substituierten Derivaten, R2 ein mehrwertiger organischer Rest ist, der eine aromatische heterocyclische oder kondensierte Ringstruktur mit X bildet, X ein Element der Gruppe Va des Periodensystems ist, ausgewählt aus N, P, As, Sb und Bi, M ein Metall oder Nichtmetall ist, Q ein Halogenrest ist, a eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 4, b eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 ist, c eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 und die Summe von a+ b+ c einen Wert von 4 hat oder gleich der Wertigkeit von X ist,
d = e—/"ist, wobei
/ = der Wertigkeit von M und damit eine ganze Zahl
von 2 bis einschließlich 7 ist und
e größer ist als / und damit eine ganze Zahl mit einem Wert von bis zu 8.
Beispiele von Resten für R sind Q6-I3) aromatische Kohlenwasserstoffreste wie Phenyl, Tolyl, Naphthyl, Anthryl und solche Reste, die mit 1 bis 4 einwertigen Resten, wie Qi _8>-Alkoxy, Qi -8)-Alkyl, Nitro, Chlor, Hydroxy usw. substituiert sind; Arylacylreste, wie Phenylacyl usw.; Arylalkylreste, wie Phenyläthyl; aromatische, heterocyclische Reste wie Pyridyl, Furfuryl usw. Reste für R1 sind z. B. Qi _8> Alkyl; Q3-β)Cycloalkyl; substituiertes Alkyl, wie Halogenalkyl, z. B. Chloräthyl; Alkoxy, wie -OCH2C6H5 und -OCH3; Alkoxyalkyl, wie -C2H4OCH3 usw.; Alkylacyl, wie -CH2COOC2H5; Ketoalkyl, wie -CH2COCH3 usw. Beispiele von Resten für R2 sind zum Beispiel die folgenden:
R'— N-
N N
R'
worin Q' ausgewählt ist aus O, CH2, N, R und S; Z ausgewählt ist aus
25
— O— —S —
und —N—
R'
und R' ein einwertiger Rest ist, ausgewählt aus Wasserstoff und Kohlenwasserstoff. Beispiele von komplexen Anionen der Formel [MQe]-fe~fl sind z. B. BF4-, PF6-, AsF6-, SbF6-, FeCl4=, SnCl6", SbCl6-, BiCl5- usw., wobei M insbesondere ein Übergangsmetall ist, wie Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ga, In, Ti, Zr, Sc, V, Cr, Mn, Co usw., seltene Erdmetalle, wie Lanthanide, z. B. Ce, Pr, Nd usw., Actinide, wie Th, Pa, U, Np usw. und Nichtmetalle, wie B, P, As usw.
Bevorzugt in den erfindungsgemäßen Zusammensetzungen eingesetzte Oniumsalze sind Phosphoniumsalze, z. B. Phenylacylphosphoniumsalz, Ammoniumsalze, z. B. Phenylacylammoniumsalz; Arsoniumsalze. Hinsichtlich des komplexen Anions sind bevorzugt das Tetrafluorborat, z. B. Triphenylphenacylphosphonium-tetrafluorborat sowie das Hexafluorphosphat.
Beispiele für weitere spezifische Oniumsalze von Elementen der Gruppe Va, die unter die Formel 1 fallen sind z. B.
BF4
BF4
BF4"
«°»Tf
(ζ O }\— P-CH2COOC2H5
BF4-
Bi-CH,-C
Die Oniumsalze von Elementen der Gruppe Va der Formel I sind bekannt. Einige dieser Verbindungen können hergestellt werden nach Verfahren, die von J. Goerdeler in Methoden der organischen Chemie, 11/12, 591 -640 (1958) und K. S a s s e, ebenfalls in den Methoden der organischen Chemie, 12/1, 79 — 112 (1963), beschrieben sind.
Die Bezeichnung »Epoxyharz«, wie sie zur Beschreibung der härtbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung verwendet wird, schließt jegliche monomeren, dimeren, oligomeren oder polymeren Epoxymaterialien ein, die ein oder mehre/e funktioneile Epoxygruppen enthalten. So können z. B. solche Harze, die durch Umsetzung von Bisphenol-A, auch 4,4'-Isopropylidendiphenol genannt, mit Epichlorhydrin oder durch Umsetzung von Phenolformaldehydharzen geringen Molekulargewichtes, auch Novolakharze genannt mit Epichlorhydrin erhalten werden, allein oder in Kombination mit einer epoxygruppenhaltigen Verbindung als reaktivem Verdünnungsmittel verwendet werden. Solche Verdünnungsmittel, wie Phenylglycidyläther, 4-Vinylcyclohexendioxid, Limonendioxid, 1,2-Cyclohexenoxid, Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat, Styroloxid, Allylglycidyläther usw. können als Viskositätsmodifikatoren hinzugegeben werden. Außerdem kann der Bereich dieser Verbindungen dahingehend ausgedehnt werden, daß sie auch polymere Materialien
BF4 einschließen, die endständige, oder in Seitengruppen
angeordnete Epoxygruppen enthalten. Beispiele dieser
Verbindungen sind Vinylcopolymere, die Glycidylacry-
o lat oder Methacrylat als eines der Comonomeren
enthalten. Andere Klassen von epoxyhaltigen Polyme-
AsI-,7 ren, die mit den obigen Kaialysa.'oren gehärtet werden
können, sind Epoxysiliconharze, Epoxy-Polyurethane und Epoxy-Polyester. Solche Polymeren haben üblicher-
PF„- ίο weise funktioneile Epoxygruppen an den Enden ihrer
Ketten. Epoxy-Siliconharze und Verfahren zu deren Herstellung sind von E. P. Plueddemann und G. Fa ng er in Journal American Chemical Society 81,
BF_ 632-635 (1959) beschrieben. Wie in der Literatur
i5 beschrieben, können Epoxyharze auch in bekannter Weise modifiziert werden, wie durch Umsetzen mit Aminen, Carbonsäuren, Thiolen, Phenolen, Alkoholen usw, wie in den US-PS 29 35 488, 32 35 620, 33 69 055, 33 79 653, 33 98 211, 34 03 199, 35 63 850, 35 67 797, 36 77 995 usw. beschrieben. Weitere Beispiele von Epoxyfiarzen, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind in der Encyclopedia of Polymer Science and Technology, Band 6, 1967, Interscience Publishers, New York, Seiten 209-271 beschrieben.
Die härtbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung können hergestellt werden durch Vermischen des Epoxyharzes, das nachfolgend Epoxymonomer, -vorpolymer, -polymer oder deren Mischungen bedeu-VJ ten kann, mit einer Menge von 0,1 — 15 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der Zusammensetzung, mindestens eines wie vorstehend definierten Oniumsalzes, das nachfolgend kurz Oniumsalz genannt wird. Die erhaltene härtbare Zusammensetzung, die die Form j5 eines Lackes mit einer Viskosität von 1 bis 100 000 Centipoise bei 25° C haben oder ein frei fließendes Pulver sein kann, kann auf eine Reihe verschiedener Substrate auf übliche Weise aufgebracht und innerhalb von 1 Sekunde oder weniger als 10 Minuten oder mehr
BF4" 40 zu einem klebrigkeitsfreien Zustand gehärtet werden.
In Abhängigkeit von der Verträglichkeit des Oniumsalzes mit dem Epoxyharz kann das Oniumsalz in einem organischen Lösungsmittel aufgelöst oder darin dispergiert worden, wie in Nitromethan, Acetonitril usw, bevor es in das Epoxyharz eingearbeitet wird, hi Fällen, in denen das Epoxyharz ein Feststoff ist, kann die Einarbeitung des Oniumsalzes durch Trockenmahlen oder Schmelzvermischen des Harzes erreicht werden.
Es ist festgestellt worden, daß das Oniumsalz auch in situ in Gegenwart des Epoxyharzes erzeugt werden kann, wenn dies erwünscht ist So kann z. B. ein Oniumsalz der Formel
BF4"
BF4-
worin R1R', R2, X, a, bund cdie vorgenannte Bedeutung haben und Q"- ein Anion ist, wie Cl-, Br-, I-, F", HSO4 -, NO3- usw., getrennt oder gleichzeitig mit einem Lewissäuresalz der Formel
M'MQ
in das Epoxyharz eingearbeitet werden, wobei M' ein Metallkation ist, wie Na+, K+, Ca++, Mg++, Fe++, Ni+4, Zn++, Co++ usw. oder ein organisches Kation wie Ammonium, Pyridinium usw. und MQ die in Zusammenhang mit Formel I gegebene Bede tu ng hat Die Erfahrung hat gezeigt, daß der Anteil des
Oniumsalzes im Verhältnis zum Epoxyharz innerhalb weiter Grenzen variieren kann, da das Salz im wesentlichen inert ist, wenn es nicht aktiviert wird. Wirksame Ergebnisse können erhalten werden, wenn ein Anteil von 0,1 bis 15 Gew.-% des Oniumsalzes, bezogen auf das Gewicht der härtbaren Zusammensetzung, verwendet wird. Größere oder kleinere Mengen können verwendet werden, doch hängt dies von Faktoren ab, wie der Natur des Epoxyharzes, der Intensität der Bestrahlung, der erwünschten Härtungszeit usw.
Die härtbaren Zusammensetzungen können inaktive Bestandteile enthalten, wie anorganische Füllstoffe, Farbstoffe, Pigmente, Streckmittel, Mittel zum Kontrollieren der Viskosität, Verarbeitungshilfsmittel, UV-Abschirmer usw., in Mengen von bis zu 100 Teilen Füllstoff pro 100 Teile des Epoxyharzes. Die härtbaren Zusammensetzungen können auf solche Substrate wie Metall, Gummi, Kunststoff, geformte Teile oder Filme, Papier, Holz, Glasgewebe, Beton, Keramik usw. aufgebracht werden.
Einige der Anwendungen, für die die härtbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung benutzt werden können, sind z. B. Schutz-, dekorative und isolierende Beschichtungen, Massen zum Einbetten, Drucktinten, Abdichtungsmittel, Klebstoffe, Fotoresistlacke, Drahtisolierung, Textilbeschichtungen, Schichtstoffe, imprägnierte Bänder, Druckplatten usw.
Die Härtung der härtbaren Zusammensetzung nach der Erfindung erfolgt durch Aktivieren des Oniumsalzes mittels UV-Licht oder Elektronenstrahl, um die Freisetzung des Lewissäure-Katalysators zu erreichen. Die Elektronenstrahl-Härtung kann bewirkt werden bei einer Beschleunigerspannung von etwa 100 bis 1000 kV. Die Härtung der Zusammensetzungen wird bevorzugt unter Verwendung von UV-Bestrahlung mit einer Wellenlänge von 1849 bis 4000 A und einer Intensität von mindestens 5000 bis 80 000 Mikrowatt/cm2 erreicht. Die Lampensysteme zur Erzeugung solcher Strahlen können aus UV-Lampen, wie 1 bis 50 Entladungslampen bestehen, z. B, Xenon, Metallhalogenide Metallbogen-Lampen, wie Quecksilberdampfentladungslampen geringen, mittleren oder hohen Druckes mit einem Betriebsdruck von einigen Millimetern bis zu 10 Atmosphären usw. Die Lampen können Kolben aufweisen, die Licht einer Wellenlänge von etwa 1849 bis 4000 λ und vorzugsweise von 2400 bis 4000 Ä durchlassen. Der Lampenkolben kann aus Quarz bestehen, wie Spectrocil oder Pyrex. Typische Lampen zur Erzeugung der UV-Strahlung sind z. B. Quecksilberbogenlampen mit mittlerem Druck, wie die GE H3T7 und die Hanovia 450 Lampe. Die Härtungen können mit einer Kombination verschiedener Lampen ausgeführt werden, von denen einige oder alle in einer inerten Atmosphäre arbeiten können. Wenn man UV-Lampen benutzt, dann kann die Strahlungsdichte auf dem Substrat mindestens 0,01 Watt/6,45 cm2 sein, um die Härtung des organischen Harzes innerhalb von 1 bis 20 Sekunden zu bewirken und eine kontinuierliche Härtung von z. B. einem epoxybeschichteten Stahlstrei- wi fen zu gestatten, der mit einer Geschwindigkeit von etwa 30 bis 180 Meter pro Minute aufgenommen wird. Der Streifen kann dann zu einer vorbestimmten Breite geschnitten werden zur Verwendung als Transformatorschichtstoff usw. Eine Kombination von Wärme und t>5 Licht kann zum Härten reaktiver Zusammensetzungen angewendet werden. Eine solche Kombination von Wärme und Licht kann zur Verringerung der Gesamthärtungszeit dienen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert. Alle angegebenen Teile sind Gewichtsteile.
Beispiel 1
Eine Mischung gleicher Mole von Triphenylphosphin und Phenacylbromid in wäßrigem Aceton wurde 2 Stunden gerührt, bis sich rohes Triphenylphenacylphosphoniumbromid abtrennte. Das Rohprodukt wurde durch Filtration isoliert und getrocknet. Eine wäßrige Mischung von etwa gleichen Molen des obigen rohen aromatischen Phosphoniumbromids und von Natriumtetrafluoroborat wurde gerührt Triphenylphenacyl· phosphoniumtetrafluoroborat trennte sich rasch ab, da die Fluoroboratsalze beträchtlich weniger löslich sind als die entsprechenden Bromide. Es wurde eine quantitative Ausbeute von Triphenylphenacylphosphoniumtetrafluoroborat mit einem Schmelzpunkt von 24f bis 248° C erhalten.
Durch Einarbeiten von 3 Gew.-% des obiger TriphenylphenacylphosphoniumtetrafluoroboFats ir eine 60 :40 Mischung von Diglycidyläther des Bisphenol-A und 4-Vinylcyclohexendioxid wurde eine härtbare Zusammensetzung zubereitet. Man ließ einen Teil der Mischung in einem transparenten Behälter für eine längere Zeit unter normalen Tageslichtbedingunger stehen. Es gab keine Viskositätsveränderung der Mischung.
Ein Teil der härtbaren Zusammensetzung wurde als 0,0025 mm dicker Film auf einen Stahlstreifen aufgebracht. Die beschichtete Stahloberfläche wurde für 3C Sekunden der UV-Strahlung einer H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm ausgesetzt Es bildete sich eir klarer klebrigkeitsfreier Film, der keine Anzeichen vor Blasen oder anderen Fehlern zeigte.
Der wie oben behandelte Streifen wurde dann für 4i Stunden in IOC Kohlenwasserstofföl bei 1200C eingetaucht, um seine hydrolytische Stabilität gemäß derr IFT-Test ASTM D 971-50" Interfacial Tension of Oi Against Water« zu bestimmen, wie er auf Seite 322 des 1970er Jahrbuches der ASTM Standards, Teil 17 (November) beschrieben ist. Der ursprüngliche Wen des Öles betrug 39,0 Dyn/cm. Nach dem Test zeigte da; Öl eine Oberflächenspannung von 37 Dyn/cm. Um der obigen Test zu bestehen, ist ein Wert von mindestens 30 Dyn/cm erforderlich.
Beispiel 2
Eine Mischung ähnlich der des Beispiels 1 wurde hergestellt unter Verwendung von Triphenylcarbäthoxymethylphosphoniumtetrafluoroborat anstelle des Triphenylphenacylphosphoniumtetrafluoroborats. Es wurde festgestellt, daß das Epoxyharz in 3 Minuten zu einerr klebrigkeitsfreien Zustand auf einem Glassiibstrai härtete.
Beispiel 3
Weitere härtbare Zusammensetzungen wurden zubereitet unter Verwendung der Epoxyharzmischung des Beispiels 1 und einer Anzahl verschiedener Phosphoniumsalze, wie sie in der folgenden Zusammenstellung aufgeführt sind, wobei das Kation der organische Anteil und das Anion der Lewissäureanteil ist, m. p. der Schmelzpunkt des kristallinen Oniumsalzes und die »Härtungszeit« die erforderliche Zeit ist, um die gießbare Zusammensetzung in einen klebrigkeitsfrcien starren Zustand zu überführen.
Kation
Anion
m. p. (0C)
Härtungszeil (min)
HI
IV
VI
BF4"
BFf
SbF(r
AsF6-
350
125—127
149—152
194-197
203—206
297—302
9 10
VII
P—CH — CH, 220—226
10
OH
BF4
260
1,5
OH
IX
258—263
OH
Beispiel 4
Die folgende Umsetzung wurde in einem mit Stickstoff gefüllten Trockenbehälter ausgeführt. Zu 5,0 g (0,021 Mol) Diphenylmethylarsin wurden 4,17 g (0,021 Mol) Phenacylbromid in 25 ml Aceton hinzugegeben. Die erhaltene blaßgelbe Lösung wurde bei Raumtemperatur 6 Stunden gerührt und während dieser Zeit fiel weißes kristallines Diphenylmethylphenacylarsoniumbromid aus. Nach dem Filtrieren des Produktes, dem Waschen mit Wasser und Aceton erhielt man 8,3 g (91,5%) Produkt.
Das Bromid wurde in 50 ml heißem destillierten
Wasser gelöst und 2,1 g NaBF4 hinzugegeben. Es bildete sich reichlicher weißer Niederschlag des Tetrafluoroboratsalzes und dieser wurde durch Filtration isoliert und mit Wasser gewaschen, um das Natriumchlorid zu entfernen. Die Elementaranalyse ergab 56,1% C und 4,5% H. Errechnet wurden für die Formel C2BH2OAsOBF4,56,0% C und 4,4% H.
Drei Teile des Arsoniumtetrafluoroborats wurden mit 97 Teilen einer 70:30 Mischung von handelsüblichem Novolak-Epoxyharz und 4-Vinylcyclohexendioxid kombiniert. Die sensibilisierte Mischung wurde mit Hilfe eines Abstreichmessers auf eine Glasplatte aufgebracht so daß sich ein etwa 0,05 mm dicker Film bildete
Belichten des Filmes für 1,5 Minuten ergab einen harten klaren Film, der mit einem Fingernagel nicht angekratzt werden konnte.
Beispiel 5
N-Phenacylpyridiniumbromid wurde zubereitet durch langsames Zugeben von Phenacylbromid zu einer gerührten äquimolaren Menge Pyridin in einer Flasche, ι ο Die leicht exotherme Reaktion wurde begleitet vom Ausfallen des festen N-Phenacylpyridiniumbromides. Das Salz wurde dann filtriert und gründlich mit wasserfreiem Äther gewaschen.
Es wurden aktive Fotokatalysatoren zubereitet durch Auflösen von 0,025 Mol dieses Pyridiniumsalzes in 100 ml Wasser. Dann wurden zu verschiedenen Anteilen des Pyridiniumsalzes 0,03 Mol NaBF4, KAsF6, NaSbF6 und KPF6 hinzugegeben. In allen Fällen fielen weiße Salze aus der Lösung aus. Die Salze wurden mit destilliertem Wasser gewaschen und über Nacht im Vakuum bei 60° C getrocknet. In der folgenden Tabelle sind die Schmelzpunkte der Salze sowie die Ergebnisse einer vergleichenden Härtungsuntersuchung von Mischungen aufgeführt, die 3% des Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxid enthielten. Die Mischungen wurden mit einer GE H3T7-Lampe in einem Abstand von 15 cm bis zu einem klebrigkeitsfreien Zustand gehärtet.
Salz
Schmelzpunkt
(0C)
Härtungszeit
(min) bis zum
klebrigkeitsfreien
Zustand
C-CH1-N O
\
Il +/—\
C-CH2-N O">
BF4- 173—175 1,5
197—203 0,3
AsFf; 202—205 0,3
SbF6" 166—174 1,0
Beispiel 6
Eine härtbare Zusammensetzung wurde zubereitet aus 97 Teilen einer Mischung von 60% Epoxynovolak mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 206 und 40% 4-VinylcycIohexendioxid mit 3 Teilen N-Phenacylacridiniumtetrafluoroborat. Die Mischung wurde zum Imprägnieren zweier 15 χ 15 cm großer Glasgewebestükke benutzt, die geschnitten und zusammengelegt wurden. Der erhaltene Schichtstoff wurde mit einer GE H3T7-Lampe gehärtet. Die Härtungszeit betrug 1 Minute Belichtung von jeder Seite. Es wurde ein vollständig trockener starrer Schichtstoff erhalten, der zu einem Stück verbunden war. Der Schichtstoff konnte zur Herstellung von Schaltungstafeln benutzt werden.
Beispiel 7
Zu 95 g Limonendioxid wurden 2,7 g Phenacylpyridiniumbromid und 2,1 g Natriumhexafluoroarsenat hinzugegeben. Diese Zusammensetzung wurde durch Rollen auf einer Kugelmühle für 8 Stunden gründlich vermischt. Die unlöslichen Salze wurden dann durch Filtration entfernt und die verbleibende Epoxylösung auf FotoemDfindlichkeit untersucht. Es wurde ein gehärteter 0,05 ml dicker lösungsmittelbeständiger Film unter Anwendung des Verfahrens des Beispiels I in 30 Sekunden erhalten.
Beispiel 8
Es wurden 18,35 g (0,01 Mol) 48%ige wäßrige Fluorborsäure zu 24,6 g (0,2 Mol) 2,6-Lutidin-N-oxid, gelöst in 100 ml absolutem Äthanol, hinzugegeben. Es wurde ein sehr blaßgelber kristalliner Niederschlag gebildet und nach 30minütigem Stehenlassen abfiltriert und gründlich mit Diäthyläther gewaschen. Rekristallisation aus Äthanol ergab das reine Salz.
Zu einer 500-ml-Flasche wurden 26,5 g (0,0793 Mol) des Aminoxydsalzes in 64,3 ml (1,19 Mol) Nitromethan hinzugegeben. Die Lösung wurde bei 30 bis 4O0C
Mt gerührt, während 15,6 g (0,159 Mol) 1,2-Epoxyeyclohexan tropfenweise hinzugegeben wurden. Nach einstündigem Rühren wurde die Reaktionsmischung auf Zimmertemperatur abgekühlt und in 500 ml Diäthyläther gegossen. Das weiße kristalline Produkt wurde
b5 filtriert und gründlich mit Äther gewaschen. Nach Rekristallisation aus absolutem Äthanol erhielt man in 81%iger Ausbeute das Produkt mit einem Schmelzpunkt von 122-126°C. Nach dem Herstellungsverfah-
ren und der Elementaranalyse, für C13H20NO2BF.1 errechnet 50,5% C, 6,47% H und 4,53% N, gefunden 50,7% C, 6,51% H und 4,50% N, war das Produkt eine Verbindung der folgenden Formel
BF4"
Es wurden 0,2 Teile des obigen Salzes zu 10 Teilen eines epoxydierten Butadienharzes hinzugegeben, das in 2 g 4-Vinylcyclohexendioxid gelöst war. Nach dem gründlichen Vermischen der Reagenzien wurde die Mischung als 0,025 mm dicke Beschichtung auf eine etwa 1,5 mm dicke Glasplatte aufgetragen. Eine andere Glasplatte wurde auf die erste gelegt und das Ganze der
Belichtung von einer GE H3T7-Lampe mit einer Intensität von 200 Watt/6,45 cm2 aus einem Abstand von 7,5 cm ausgesetzt. Die Gesamtbelichtungszeit betrug 1 Minute. Es wurde ein Glas-Schichtstoff erhalten.
Aufgrund der Eigenschaften des erhaltenen Schichtstoffes weiß der Fachmann, daß eine bruchsichere Automobil-Windschutzscheibe nach einem ähnlichen Verfahren hergestellt werden kann.
Beispiel 9
Die folgende Tabelle zeigt verschiedene Oniumsalze und ihre jeweiligen Schmelzpunkte. Diese Salze wurden abgeleitet von aromatischen Stickstoff enthaltenden Basen durch Alkylierung mit Phenacylhalogeniden oder ct-Bromtoluol, gefolgt von einem Anionaustausch mit dem geeigneten anorganischen Salz in Wasser. In der Tabelle sind auch die Härtungszeiten von 0,05 mm dicken Filmen von Mischungen von 4-Vinylcyclohexendioxid aufgeführt, die 3 Gew.-% des jeweiligen Oniumsalzes enthielten, wobei zum Härten das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren benutzt wurde.
Kation
Anion
Schmelzpunkt
("C)
Härtungszeit
(see)
(oYol Il ^^
X/VN—CH2-C—ς^>
III I O I O I O
iv
Vl
BF4"
165—169
120
BF4"
160—167
!209—219
120
20
BF4
128—132
30
BF4"
212--2Γ
60
BF4"
I 22— 126
20
IK)
Beispiel !0
Drei Teile von O-(2-Hyd;Oxycyclohexyl)-2,6-lutidinium-N-oxidtetrafluorobo. at der Formel
CH.,
BF4"
HO-
Beispiel 13
15
30
wurden zu einem feinen Pulver gemahlen und dann innig mit 97 Teilen eines handelsüblichen pulverförmigem Beschichtungsharzes durch 30minütiges Durcheinanderwerfen vermischt. Das Pulver wurde dann elektrostatisch auf 7,5 χ 15 cm große Stahlplatten in Form einer etwa 0,05 mm dicken Beschichtung unter Verwendung einer GEMA Modell 171 Sprühkanone aufgebracht. Danach wurden die Platten kurz bis 150° C erhitzt, um das Pulver zu schmelzen und dann in heißem Zustand der Bestrahlung aus einer GE H3T7-Lampe aus einer Entfernung von 7,5 cm ausgesetzt. Nach 15 Sekunden Bestrahlung wurden gehärtete Proben erhalten.
Beispiel 11
Es wurden 80 Teile Bisphenol-A-diglycidyläther und eine Lösung aus 2 Teilen N-Phenacylpyridiniumhexafluoroarsenat in 18 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxid miteinander vermengt. Unter Verwendung eines Ziehstabes wu'de eine 0,025 mm dicke Beschichtung auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte aufgebracht. Über der Platte wurde eine Maske angeordnet und an Ort und Stelle festgeklemmt. Das Ganze wurde, wie in Beispiel 9 beschrieben, für 20 Sekunden ultraviolettem Licht ausgesetzt und dann in ein Isopropanolbad eingetaucht, wobei die unbelichteten Teile der Beschichtung entfernt wurden und ein scharfes Negativbild der Maske zurückließen.
Beispiel 12
Es wurden 10 Teile festen multifunktionellen aromatischen Glycidyläthers mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 210 bis 240 zu 40 Teilen Limonendioxid hinzugefügt. Die Mischung wurde mit 1 Teil N-Phen- so acylpyridiniumhexafluorphosphat kombiniert und eine halbe Stunde bei 5O0C erhitzt, um eine homogene Lösung der Bestandteile zu erhalten. Die Mischung wurde dann unter Verwendung eines 0,012 mm Zugstabes auf Glas aufgebracht und 10 Sekunden aus einer Entfernung von 7,5 cm mit einer GE H3T7-Lampe mit einer Intensität von 200 Watt/6,45 cm2 belichtet und dabei eine harte Beschichtung erhalten.
in Form eines 0,0025 mm dicken Filmes auf 7,5 χ 15 er große Stahlplatten aufgebracht und 20 Sekunden mi einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von Ii Zentimetern gehärtet. Die Platten wurden danach zun Teil 5 Stunden bei Zimmertemperatur in Methylenchlo rid eingetaucht und zum Teil 4 Stunden in Aceton. Ii allen Fällen wurden keine sichtbaren Zeichen de: Angriffes auf die Beschichtung durch diese Mitte beobachtet. Die Platten wurden 1 Stunde auf 1600C erhitzt und dann wurden getrennte Versuche ausgeführ in siedender 5%iger KOH-Lösung für 30 Minuten und ir siedendem destilliertem Wasser für 4 Stunden. Nach diesen Tests waren die Beschichtungen intakt unc zeigten keine Zeichen eines Abbaus.
Vergleichsversuch
Bei diesem Vergleichsversuch wurden Lösunger verschiedener Triphenylphenacylphosphoniumsalze ir 4-Vinylcyclohexendioxid in einer Dicke von etwE 0,075 mm auf Glaspiättchen gebracht. Diese Salze enthielten einmal ein Tetraphenylboratanion gemäß der US-PS 35 67 453 und zum anderen die Anionen SbF6-AsFe" und BF4- gemäß der vorliegenden Erfindung Diese Filme wurden einer UV-Bestrahlung aus einer General Electric H3T7-Quecksilberdampflampe aus einer Entfernung von etwa 15 cm ausgesetzt. Die Härtungszeiten wurden gemessen als die erforderliche Bestrahlungsdauer, um einen klebrigkeitsfreien Film zu erzeugen. Als klebrigkeitsfreier Film ist ein Film bezeichnet, der bei durchschnittlichem Daumendruck klebrigkeitsfrei ist und wobei die Oberfläche des Filmes keinen nachweisbaren Abdruck mehr aufnimmt. In der folgenden Tabelle sind die jeweiligen Anionen der verwendeten Photoinitiatoren, deren Menge in Gewichtsprozent in der 4-Vinylcyclohexendioxydlösung, ob eine Härtung auftrat oder nicht und die Belichtungszeit dafür in Sekunden angegeben.
Tabelle
b0
Es wurde ausreichend N-Phenacylpyridiniumhexafluoroarsenat zu einer Mischung von 67 Gew.-% eines Novolak-Epoxyharzes mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 172— 178, 33% 4-Vinylcyclohexendioxid und f>5 0,5% eines oberflächenaktiven Mittels hinzugegeben, um eine härtbare Mischung zu erhalten, die 1% des Ammoniumsalzes enthielt, Es wurde eine Beschichtung
Anion Gewichts Härtung Belichtungs
prozent zeit
(Sekunden)
B(C6H5)4 3 nein >300
10 nein >300
SbF6- 0,5 ja 7
1 ja 5
2 ja 3
3 ja 3
AsF6- 0,5 ja 8
1 ja 6
2 ja 5
3 ja 5
BF4' 0,5 ja 20
1 ja 14
2 ja 12
3 ja 10
Aus dieser Tabelle ergibt sich ohne weiteres, daß die aus der US-PS 35 67 453 bekannten organisch substituierten Borate für die Strahlungshärtung von Epoxyharzen vollkommen ungeeignet sind.
Die obigen Beispiele geben nur wenige von sehr vielen härtbaren Zusammensetzungen und deren
809 541/300
17 18
Verwendungen im Rahmen der vorliegenden Erfindung ten. Die Oniumsalze der Formel 1 sollen Verbindungen wieder. So umfassen die härtbaren Zusammensetzungen mit der Gruppierung
auch solche, in denen Oniumpolymere verwendet +
werden, die eine Oniumfunktionalität eines Elementes —N=N
der Gruppe Va des Periodensystems als Teil der 5
Polymerhauptkette oder in einer Seitenstellung enthal- nicht einschließen.

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Härtbare Zusammensetzungen mit folgenden Bestandteilen:
a) einem Epoxyharz, das zu einem Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist und
b) einer wirksamen Menge mindestens eines strahlungsempfindlichen aromatischen Oniumsalzes eines Elementes der Gruppe Va des Periodensystems, das die Härtung von a) bewirken kann durch Freisetzung eines Lewissäure-Katalysators, wenn es ultraviolettem Licht oder einem Elektronenstrahl ausgesetzt wird, gekennzeichnet durch 0,1 — 15 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der Zusammensetzung, eines Oniumsalzes der Formel
[(R)0(R1 WR2)^]/ [M QJ -"-"
worin R ein einwertiger aromatischer Rest ist, ausgewählt aus carbocyclischen und heterocyclischen Resten, R1 ein einwertiger aliphatischen Rest ist, ausgewählt aus Alkyl, Alkoxy, Cycloalkyl und deren substituierten Derivaten, R2 ein mehrwertiger organischer Rest ist, der eine aromatische heterocyclische oder kondensierte Ringstruktur mit X bildet, X ein Element der Gruppe Va des Periodensystems ist, ausgewählt aus N, P, As, Sb und Bi, M ein Metall oder Nichtmetall ist, Q ein Halogenrest ist, a eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 4, b eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 ist, c eine ganze Zahl von 0 bis einschließlich 2 und die Summe von a+ ft+ceinen Wert von 4 hat oder gleich der Wertigkeit von X ist,
d = e-/ist, wobei
f = der Wertigkeit von M entspricht und
damit eine ganze Zahl von 2 bis
einschließlich 7 ist und
e größer ist als /und damit eine ganze Zahl
mit einem Wert von bis zu 8.
2. Verwendung der härtbaren Zusammensetzungen nach Anspruch 1 zur Herstellung einer Drucktinte.
3. Verfahren zum Härten der härtbaren Zusammensetzungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung auf ein Substrat aufgebracht und anschließend durch Bestrahlung gehärtet wird.
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Families Citing this family (411)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4161478A (en) * 1974-05-02 1979-07-17 General Electric Company Photoinitiators
US4175973A (en) * 1974-05-02 1979-11-27 General Electric Company Curable compositions
US4407759A (en) * 1974-05-02 1983-10-04 General Electric Company Photoinitiators
US4173551A (en) * 1974-05-02 1979-11-06 General Electric Company Heat curable compositions
GB1508951A (en) * 1976-02-19 1978-04-26 Ciba Geigy Ag Epoxide resin based prepregs
AU517415B2 (en) * 1976-07-09 1981-07-30 General Electric Company Curable polymer composition
US4090936A (en) 1976-10-28 1978-05-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photohardenable compositions
US4101513A (en) * 1977-02-02 1978-07-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof
US4196138A (en) * 1977-05-20 1980-04-01 General Electric Company Dicarbonyl chelate salts
GB1587159A (en) * 1977-07-05 1981-04-01 Ciba Geigy Ag Film adhesives containing an epoxide resin
GB1587536A (en) * 1977-07-05 1981-04-08 Ciba Geigy Ag Expoxide resin-impregnated composites
GB1604953A (en) * 1977-08-05 1981-12-16 Gen Electric Photocurable compositions and method for curing
DE2750123C2 (de) * 1977-11-09 1982-10-21 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Härtungskatalysatoren für wärmehärtbare, epoxidgruppenhaltige Einkomponentensysteme
US4283312A (en) * 1977-12-16 1981-08-11 General Electric Company Heat curable processable epoxy compositions containing aromatic iodonium salt catalyst and copper salt cocatalyst
US4173476A (en) * 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4186108A (en) * 1978-02-08 1980-01-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Liquid compositions containing triarylsulfonium complex salts and oxyethylene material
US4231951A (en) * 1978-02-08 1980-11-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4216288A (en) * 1978-09-08 1980-08-05 General Electric Company Heat curable cationically polymerizable compositions and method of curing same with onium salts and reducing agents
US4310469A (en) * 1978-12-29 1982-01-12 General Electric Company Diaryliodonium salts
US4231886A (en) * 1979-01-29 1980-11-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ester solutions of complex salts
US4201640A (en) * 1979-03-14 1980-05-06 American Can Company Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio)phenyl] sulfide bis-M.X6
US4246298A (en) * 1979-03-14 1981-01-20 American Can Company Rapid curing of epoxy resin coating compositions by combination of photoinitiation and controlled heat application
US4197174A (en) * 1979-03-14 1980-04-08 American Can Company Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bis-MX6
US4250006A (en) * 1979-03-19 1981-02-10 American Can Company Polymerizable coating composition containing polymerizable epoxide compound and vinyl chloride dispersion polymer and method of coating utilizing same and coated articles produced thereby
WO1980002838A1 (en) * 1979-06-14 1980-12-24 Gen Electric Heat curable compositions
US4227978A (en) * 1979-06-27 1980-10-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photohardenable composition
US4247472A (en) * 1979-07-19 1981-01-27 American Can Company Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonic)phenyl]sulfide bis-MF6 photoinitiator
US4247473A (en) * 1979-07-19 1981-01-27 American Can Company Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio)pheny] sulfide bis-M.X6 photoinitiator
US4286047A (en) * 1979-07-25 1981-08-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure-sensitive adhesive susceptible to ultraviolet light-induced detackification
DE2940332A1 (de) * 1979-10-04 1981-04-23 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verwendung von quartaeren ammoniumsalzen als latente katalysatoren in beschichtungsmassen auf basis von polyurethan- oder epoxidharz-vorprodukten, die diese katalysatoren enthaltenden beschichtungsmassen, sowie ein verfahren zur herstellung von beschichtungen
US4306953A (en) * 1979-11-05 1981-12-22 American Can Company Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and stable free radicals as odor suppressants and _method of polymerization using same
US4238587A (en) * 1979-11-28 1980-12-09 General Electric Company Heat curable compositions
US4382130A (en) * 1980-04-25 1983-05-03 General Electric Company Moisture curable compositions and aryloxyphosphonium salts
US4341714A (en) * 1980-04-25 1982-07-27 General Electric Company Aryloxyphosphonium salts
US4371605A (en) * 1980-12-09 1983-02-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions containing N-hydroxyamide and N-hydroxyimide sulfonates
JPS588724A (ja) * 1981-07-08 1983-01-18 Mitsubishi Electric Corp 光硬化型プリプレグ用樹脂組成物
DE3218287A1 (de) * 1982-05-13 1983-11-17 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Isolierband zur herstellung einer mit einer heisshaertenden epoxidharz-saeureanhydrid-mischung impraegnierten isolierhuelse fuer elektrische leiter
US4725653A (en) * 1983-10-27 1988-02-16 Union Carbide Corporation Low viscosity adducts of a polycaprolactone polyol and a polyepoxide
US5503937A (en) * 1984-07-17 1996-04-02 The Dow Chemical Company Curable composition which comprises adducts of heterocyclic compounds
US4594291A (en) * 1984-07-17 1986-06-10 The Dow Chemical Company Curable, partially advanced epoxy resins
US4694029A (en) * 1985-04-09 1987-09-15 Cook Paint And Varnish Company Hybrid photocure system
US4756787A (en) * 1986-01-22 1988-07-12 Loctite Corporation Compositions curable by in situ generation of cations
US4717440A (en) * 1986-01-22 1988-01-05 Loctite Corporation Compositions curable by in situ generation of cations
DE3604580A1 (de) * 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
US4661429A (en) * 1986-04-28 1987-04-28 Eastman Kodak Company Photoelectrographic elements and imaging method
US4749728A (en) * 1986-06-06 1988-06-07 The Glidden Company Epoxy/nucleophile transesterification catalysts and thermoset coatings
US5310619A (en) * 1986-06-13 1994-05-10 Microsi, Inc. Resist compositions comprising a phenolic resin, an acid forming onium salt and a tert-butyl ester or tert-butyl carbonate which is acid-cleavable
US5362607A (en) * 1986-06-13 1994-11-08 Microsi, Inc. Method for making a patterned resist substrate composite
US4751138A (en) 1986-08-11 1988-06-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive having radiation curable binder
CA1305823C (en) * 1986-08-29 1992-07-28 Union Carbide Corporation Photocurable blends of cyclic ethers and cycloaliphatic epoxides
JPS63246890A (ja) * 1987-04-02 1988-10-13 関西ペイント株式会社 プリント回路の形成方法
ATE143986T1 (de) * 1988-02-12 1996-10-15 Dow Chemical Co Verwendung eines katalysators für epoxyharz- zusammensetzungen
US4925901A (en) * 1988-02-12 1990-05-15 The Dow Chemical Company Latent, curable, catalyzed mixtures of epoxy-containing and phenolic hydroxyl-containing compounds
US5399596A (en) * 1988-03-03 1995-03-21 Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof
US5070161A (en) * 1988-05-27 1991-12-03 Nippon Paint Co., Ltd. Heat-latent, cationic polymerization initiator and resin compositions containing same
US5047568A (en) * 1988-11-18 1991-09-10 International Business Machines Corporation Sulfonium salts and use and preparation thereof
US5141969A (en) * 1988-11-21 1992-08-25 Eastman Kodak Company Onium salts and the use thereof as photoinitiators
US5439766A (en) * 1988-12-30 1995-08-08 International Business Machines Corporation Composition for photo imaging
US5026624A (en) * 1989-03-03 1991-06-25 International Business Machines Corporation Composition for photo imaging
US5747223A (en) * 1988-12-30 1998-05-05 International Business Machines Corporation Composition for photoimaging
US6180317B1 (en) 1988-12-30 2001-01-30 International Business Machines Corporation Composition for photoimaging
US5264325A (en) * 1988-12-30 1993-11-23 International Business Machines Corporation Composition for photo imaging
US5278010A (en) * 1989-03-03 1994-01-11 International Business Machines Corporation Composition for photo imaging
US6210862B1 (en) 1989-03-03 2001-04-03 International Business Machines Corporation Composition for photoimaging
US5304457A (en) * 1989-03-03 1994-04-19 International Business Machines Corporation Composition for photo imaging
US5041358A (en) * 1989-04-17 1991-08-20 International Business Machines Corporation Negative photoresist and use thereof
DE3933420C1 (de) * 1989-10-06 1991-03-07 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De
EP0431564B1 (de) * 1989-12-05 1996-04-10 Konica Corporation Aufzeichnungsmaterial eines photographischen Bildes.
ES2077664T3 (es) * 1989-12-07 1995-12-01 Sicpa Holding Sa Tintas de imprenta altamente reactivas.
US5310581A (en) * 1989-12-29 1994-05-10 The Dow Chemical Company Photocurable compositions
US5464538A (en) * 1989-12-29 1995-11-07 The Dow Chemical Company Reverse osmosis membrane
US5238747A (en) * 1989-12-29 1993-08-24 The Dow Chemical Company Photocurable compositions
US5021595A (en) * 1990-03-02 1991-06-04 Exxon Chemical Patents Inc. Transition metal catalyst composition for olefin polymerization
KR960000980B1 (ko) * 1990-03-27 1996-01-15 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 무전해도금용 기재 접착제, 이 접착제를 사용한 프린트 회로판 및 이의 용도
US5108859A (en) * 1990-04-16 1992-04-28 Eastman Kodak Company Photoelectrographic elements and imaging method
ZA913801B (en) * 1990-05-21 1993-01-27 Dow Chemical Co Latent catalysts,cure-inhibited epoxy resin compositions and laminates prepared therefrom
US5721323A (en) * 1990-05-21 1998-02-24 The Dow Chemical Company Cure inhibited epoxy resin compositions and laminates prepared from the compositions
DE4027437C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane(s) - used as coating materials for laminar supports or modifying additives for cationically curable cpds.
DE4027438C1 (en) * 1990-08-30 1991-08-29 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De Cationically curable organo-polysiloxane cpd. prodn. - by reacting di:hydro:propane with an organo-polysiloxane in presence of catalyst at elevated temp.
DE4102340A1 (de) * 1991-01-26 1992-07-30 Bayer Ag Lichtleitfasern und verfahren zu ihrer herstellung
EP0508951B1 (de) * 1991-04-08 1996-08-21 Ciba-Geigy Ag Thermisch härtbare Zusammensetzungen
JPH0592670A (ja) * 1991-10-03 1993-04-16 Konica Corp 感熱転写記録用受像シート、画像保護材料、画像保護方法、及び画像記録体
US5262232A (en) * 1992-01-22 1993-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials
US5166126A (en) * 1992-02-19 1992-11-24 Eastman Kodak Company Color filter array element with protective overcoat layer and method of forming same
US5166125A (en) * 1992-02-19 1992-11-24 Eastman Kodak Company Method of forming color filter array element with patternable overcoat layer
EP0599779A1 (de) * 1992-10-29 1994-06-01 OCG Microelectronic Materials AG Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum
JP3517240B2 (ja) * 1992-12-25 2004-04-12 日本曹達株式会社 新規アニリニウム塩化合物および重合開始剤
US5439779A (en) * 1993-02-22 1995-08-08 International Business Machines Corporation Aqueous soldermask
US5514728A (en) * 1993-07-23 1996-05-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Catalysts and initiators for polymerization
DE4421623A1 (de) * 1994-06-21 1996-01-04 Thera Ges Fuer Patente Mehrkomponentige, kationisch härtende Epoxidmassen und deren Verwendung sowie Verfahren zur Herstellung gehärteter Massen
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH0954437A (ja) 1995-06-05 1997-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 化学増幅型ポジレジスト組成物
DE19534594B4 (de) * 1995-09-19 2007-07-26 Delo Industrieklebstoffe Gmbh & Co. Kg Kationisch härtende, flexible Epoxidharzmassen und ihre Verwendung zum Auftragen dünner Schichten
SG48462A1 (en) * 1995-10-26 1998-04-17 Ibm Lead protective coating composition process and structure thereof
US5814431A (en) 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JPH1087963A (ja) * 1996-09-20 1998-04-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 樹脂組成物および繊維質材料成形型
JP3786480B2 (ja) * 1996-10-14 2006-06-14 Ｊｓｒ株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3626302B2 (ja) * 1996-12-10 2005-03-09 Ｊｓｒ株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3765896B2 (ja) 1996-12-13 2006-04-12 Ｊｓｒ株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
US6254954B1 (en) 1997-02-28 2001-07-03 3M Innovative Properties Company Pressure-sensitive adhesive tape
AU711786B2 (en) * 1997-05-16 1999-10-21 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Reactive radiation- or thermally-initiated cationically- curable epoxide monomers and compositions made from those monomers
US6066889A (en) 1998-09-22 2000-05-23 International Business Machines Corporation Methods of selectively filling apertures
US6204456B1 (en) 1998-09-24 2001-03-20 International Business Machines Corporation Filling open through holes in a multilayer board
KR100317169B1 (ko) 1998-10-28 2002-10-25 한국화학연구원 열과자외선개시형에폭시수지의잠재성경화제와그것을함유한에폭시수지조성물및에폭시경화물
US6498200B1 (en) * 1999-01-12 2002-12-24 Namics Corporation Cationically polymerizable resin composition
JP3218026B2 (ja) * 1999-01-30 2001-10-15 財団法人韓国化学研究所 体積膨張反応を随伴する潜在性触媒型の硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および１，３−ジヒドロ−１−オキソ−２ｈ−インデン誘導体化合物
US6376590B2 (en) 1999-10-28 2002-04-23 3M Innovative Properties Company Zirconia sol, process of making and composite material
US6572693B1 (en) 1999-10-28 2003-06-03 3M Innovative Properties Company Aesthetic dental materials
US6387981B1 (en) 1999-10-28 2002-05-14 3M Innovative Properties Company Radiopaque dental materials with nano-sized particles
US6730156B1 (en) 1999-10-28 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Clustered particle dental fillers
EP1586294B2 (de) * 1999-10-28 2016-02-17 3M Innovative Properties Company Siliziumdioxid-Nanoteilchen in Form eines trockenen Pulvers
KR100422971B1 (ko) 1999-12-29 2004-03-12 삼성전자주식회사 나프톨 구조를 가진 이온형 광산발생제 및 이를 이용한감광성 폴리이미드 조성물
JP2001337460A (ja) 2000-03-21 2001-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
EP1410907B1 (de) 2000-06-02 2016-05-18 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer
US6350792B1 (en) 2000-07-13 2002-02-26 Suncolor Corporation Radiation-curable compositions and cured articles
US6511790B2 (en) 2000-08-25 2003-01-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
EP2036721B1 (de) 2000-11-30 2011-02-09 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer
EP1390664A4 (de) 2001-03-30 2008-01-02 Univ Arizona Materialien, verfahren und verwendungen zur photochemischen erzeugung von säuren und/oder radikalen spezien
JP2003073481A (ja) 2001-09-06 2003-03-12 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
US20030218269A1 (en) * 2001-09-28 2003-11-27 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Image-receiving layer composition and overcoat layer composition for ink-jet recording
JP2003105077A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP2003212965A (ja) * 2002-01-28 2003-07-30 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物
AU2003209430B2 (en) * 2002-01-31 2008-09-11 3M Innovative Properties Company Dental pastes, dental articles, and methods
US7521168B2 (en) 2002-02-13 2009-04-21 Fujifilm Corporation Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
US6939662B2 (en) 2002-05-31 2005-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-working resist composition
US7091259B2 (en) * 2002-07-03 2006-08-15 3M Innovative Properties Company Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
ATE532106T1 (de) 2002-09-20 2011-11-15 Fujifilm Corp Verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte
US7449146B2 (en) * 2002-09-30 2008-11-11 3M Innovative Properties Company Colorimetric sensor
US20040062682A1 (en) * 2002-09-30 2004-04-01 Rakow Neal Anthony Colorimetric sensor
US6841333B2 (en) * 2002-11-01 2005-01-11 3M Innovative Properties Company Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbon-fluorocarbon sulfonate anions
US7025791B2 (en) * 2002-12-02 2006-04-11 Gi Dynamics, Inc. Bariatric sleeve
US6777460B2 (en) * 2002-12-23 2004-08-17 3M Innovative Properties Company Curing agents for cationically curable compositions
US6984261B2 (en) * 2003-02-05 2006-01-10 3M Innovative Properties Company Use of ceramics in dental and orthodontic applications
US7122294B2 (en) * 2003-05-22 2006-10-17 3M Innovative Properties Company Photoacid generators with perfluorinated multifunctional anions
JP2005028774A (ja) 2003-07-07 2005-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版および平版印刷方法
US7030169B2 (en) * 2003-09-26 2006-04-18 3M Innovative Properties Company Arylsulfinate salts in initiator systems for polymeric reactions
US7250452B2 (en) * 2003-09-26 2007-07-31 3M Innovative Properties Company Dental compositions and methods with arylsulfinate salts
US7064152B2 (en) * 2003-09-26 2006-06-20 3M Innovative Properties Company Arylsulfinate salts in photoinitiator systems for polymerization reactions
US7026367B2 (en) * 2003-09-26 2006-04-11 3M Innovative Properties Company Photoiniators having triarylsulfonium and arylsulfinate ions
US7192991B2 (en) * 2003-11-26 2007-03-20 3M Innovative Properties Company Cationically curable composition
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP4199687B2 (ja) 2004-03-17 2008-12-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7553670B2 (en) * 2004-04-28 2009-06-30 3M Innovative Properties Company Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample
EP2246741A1 (de) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Bildaufzeichnungsverfahren
EP2618215B1 (de) 2004-05-31 2017-07-05 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
JP2006021396A (ja) 2004-07-07 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
US7146909B2 (en) 2004-07-20 2006-12-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US20060032390A1 (en) 2004-07-30 2006-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2006051656A (ja) * 2004-08-11 2006-02-23 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 平版印刷版材料用支持体及び平版印刷版材料
US7745090B2 (en) 2004-08-24 2010-06-29 Fujifilm Corporation Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2006062188A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
GB0421175D0 (en) 2004-09-23 2004-10-27 Securis Ltd High speed manufacture of microstructures
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
US7199192B2 (en) 2004-12-21 2007-04-03 Callaway Golf Company Golf ball
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
EP1798031A3 (de) 2005-01-26 2007-07-04 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren
JP4439409B2 (ja) 2005-02-02 2010-03-24 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7858291B2 (en) 2005-02-28 2010-12-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method for preparation of lithographic printing plate precursor, and lithographic printing method
EP1701213A3 (de) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
US20060204732A1 (en) 2005-03-08 2006-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
US7514482B2 (en) 2005-07-25 2009-04-07 The Walman Optical Company Optical coating composition
JP2007051193A (ja) 2005-08-17 2007-03-01 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20070049651A1 (en) 2005-08-23 2007-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, planographic printing plate, and oxcetane compound
DE102005040126A1 (de) * 2005-08-25 2007-03-01 Altana Electrical Insulation Gmbh Überzugsmasse
JP4757574B2 (ja) 2005-09-07 2011-08-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
JP4593419B2 (ja) 2005-09-26 2010-12-08 富士フイルム株式会社 赤外線感光性平版印刷版原版
JP2007101693A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
ATE494341T1 (de) 2005-11-04 2011-01-15 Fujifilm Corp Härtbare tintenzusammensetzung und oxetanverbindung
US8263725B2 (en) * 2005-12-26 2012-09-11 Kaneka Corporation Curable composition
EP1829684B1 (de) 2006-03-03 2011-01-26 FUJIFILM Corporation Härtbare Zusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Flachdruckplatte
JP2007241144A (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corp 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4698470B2 (ja) 2006-03-31 2011-06-08 富士フイルム株式会社 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置
US7767143B2 (en) * 2006-06-27 2010-08-03 3M Innovative Properties Company Colorimetric sensors
US20080003420A1 (en) * 2006-06-29 2008-01-03 3M Innovative Properties Company Transfer hardcoat films for graphic substrates
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
CN101529293B (zh) * 2006-10-31 2012-02-22 株式会社日本触媒 柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
US8771924B2 (en) 2006-12-26 2014-07-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
WO2008083275A2 (en) * 2006-12-28 2008-07-10 3M Innovative Properties Company Dental filler and methods
TW200838967A (en) 2007-02-02 2008-10-01 Jsr Corp Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite
JP2008189776A (ja) 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版
EP1955858B1 (de) 2007-02-06 2014-06-18 FUJIFILM Corporation Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Vorrichtung
JP4881756B2 (ja) 2007-02-06 2012-02-22 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
US8240808B2 (en) 2007-02-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP2008208266A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP2008233660A (ja) 2007-03-22 2008-10-02 Fujifilm Corp 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法
ATE471812T1 (de) 2007-03-23 2010-07-15 Fujifilm Corp Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
EP1974914B1 (de) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1975702B1 (de) 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Farbige lichthärtbare Zusammensetzung für eine Festkörperbildaufnahmevorrichtung, Farbfilter und Verfahren zur Herstellung davon, sowie Festkörperbildaufnahmevorrichtung
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
EP1975706A3 (de) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer
EP1975710B1 (de) 2007-03-30 2013-10-23 FUJIFILM Corporation Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers
JP5159141B2 (ja) 2007-03-30 2013-03-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
US8399592B2 (en) 2007-04-17 2013-03-19 Kaneka Corporation Polyhedral polysiloxane modified product and composition using the modified product
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5101930B2 (ja) 2007-06-08 2012-12-19 マブチモーター株式会社 多角形状外形の小型モータ
EP2006738B1 (de) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer
EP2006091B1 (de) 2007-06-22 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer und Plattenherstellungsverfahren
US20090000727A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Kanta Kumar Hardcoat layers on release liners
US20090004478A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 3M Innovative Properties Company Flexible hardcoat compositions, articles, and methods
ATE484386T1 (de) 2007-07-02 2010-10-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und flachdruckverfahren damit
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
DE102007041988A1 (de) * 2007-09-05 2009-03-12 Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh Flammhemmende Additive
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2009083106A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5111039B2 (ja) 2007-09-27 2012-12-26 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
US7955781B2 (en) 2007-09-28 2011-06-07 Fujifilm Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5055077B2 (ja) 2007-09-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 画像形成方法および平版印刷版原版
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP4951454B2 (ja) 2007-09-28 2012-06-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作成方法
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5002399B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理方法
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
EP2042311A1 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckverfahren
JP5244518B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
US8240838B2 (en) 2007-11-29 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material
JP2009139852A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
WO2009075233A1 (ja) 2007-12-10 2009-06-18 Kaneka Corporation アルカリ現像性を有する硬化性組成物およびそれを用いた絶縁性薄膜および薄膜トランジスタ
US20090155596A1 (en) * 2007-12-12 2009-06-18 3M Innovative Properties Company Nozzle sealing composition and method
JP5066452B2 (ja) 2008-01-09 2012-11-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版用現像処理方法
JP2009186997A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP5371449B2 (ja) 2008-01-31 2013-12-18 富士フイルム株式会社 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009184188A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
JP5150287B2 (ja) 2008-02-06 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP5175582B2 (ja) 2008-03-10 2013-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP2009214428A (ja) 2008-03-11 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
EP2269116A4 (de) 2008-03-11 2011-09-07 3M Innovative Properties Co Fotowerkzeuge mit einer schutzschicht
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP4940174B2 (ja) 2008-03-21 2012-05-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用自動現像装置
JP2009229771A (ja) 2008-03-21 2009-10-08 Fujifilm Corp 平版印刷版用自動現像方法
JP5020871B2 (ja) 2008-03-25 2012-09-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP2009236942A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5422146B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
JP5422134B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像方法
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
EP2105298B1 (de) 2008-03-28 2014-03-19 FUJIFILM Corporation Negativ arbeitender Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2110261B1 (de) 2008-04-18 2018-03-28 FUJIFILM Corporation Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte, lithographische Druckplattenträger, Druckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplatteträgers
KR101441998B1 (ko) 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP2009265519A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Hitachi Cable Ltd フレキシブル光導波路およびその製造方法
JP2010015135A (ja) * 2008-06-03 2010-01-21 Hitachi Cable Ltd 光ファイバ固定溝付き光導波路基板およびその製造方法、その製造方法に用いる型、ならびに、その光導波路基板を含む光電気混載モジュール
JP5106285B2 (ja) 2008-07-16 2012-12-26 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP5274151B2 (ja) 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5444933B2 (ja) 2008-08-29 2014-03-19 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法
JP5183380B2 (ja) 2008-09-09 2013-04-17 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
EP2168767A1 (de) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
EP2169018B1 (de) 2008-09-26 2012-01-18 Fujifilm Corporation Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren
JP5079653B2 (ja) 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5461809B2 (ja) 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5171514B2 (ja) 2008-09-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5127651B2 (ja) 2008-09-30 2013-01-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5660268B2 (ja) 2008-09-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
CN104497272B (zh) 2008-10-02 2017-06-23 株式会社钟化 光固化性组合物以及固化物
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2010221692A (ja) 2009-02-26 2010-10-07 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5292156B2 (ja) 2009-03-30 2013-09-18 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP2010237435A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
US9096712B2 (en) 2009-07-21 2015-08-04 3M Innovative Properties Company Curable compositions, method of coating a phototool, and coated phototool
EP2478033A1 (de) 2009-09-16 2012-07-25 3M Innovative Properties Company Fluorierte beschichtungen und damit hergestellte fotowerkzeuge
US8420281B2 (en) * 2009-09-16 2013-04-16 3M Innovative Properties Company Epoxy-functionalized perfluoropolyether polyurethanes
US9051423B2 (en) 2009-09-16 2015-06-09 3M Innovative Properties Company Fluorinated coating and phototools made therewith
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
US8883401B2 (en) 2009-09-24 2014-11-11 Fujifilm Corporation Lithographic printing original plate
JP2011073211A (ja) 2009-09-29 2011-04-14 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の製造方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
EP2485290A4 (de) 2009-10-01 2013-03-06 Hitachi Chemical Co Ltd Material für organische elektronik, organisches elektronisches element, organisches elektrolumineszenzelement, anzeigeelement mit dem organischen elektrolumineszenzelement, beleuchtungsvorrichtung und anzeigevorrichtung
JP2011148292A (ja) 2009-12-25 2011-08-04 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5322963B2 (ja) 2010-01-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5537980B2 (ja) 2010-02-12 2014-07-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
US8828648B2 (en) 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
BR112012023662A2 (pt) 2010-03-19 2016-08-16 Fujifilm Corp composição fotossensível à coloração, precursor de chapa de impressão litográfica e método de fabricação de chapa
US8828646B2 (en) 2010-03-26 2014-09-09 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of producing thereof
EP2554394B1 (de) 2010-03-26 2019-04-24 FUJIFILM Corporation Flachdruck-masterplatte und herstellungsverfahren dafür
EP2555054B1 (de) 2010-03-31 2018-06-20 FUJIFILM Corporation Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte und druckverfahren
JP5791874B2 (ja) 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
KR101537654B1 (ko) 2010-04-22 2015-07-17 히타치가세이가부시끼가이샤 유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
CN103068583B (zh) 2010-08-27 2015-05-13 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版和使用该原版的制版方法
JP5789448B2 (ja) 2010-08-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5656784B2 (ja) 2010-09-24 2015-01-21 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法
JP5205505B2 (ja) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP5286350B2 (ja) 2010-12-28 2013-09-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、その製版方法、及び、その平版印刷方法
EP3001249B1 (de) 2011-02-28 2019-12-25 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer und verfahren zur herstellung von lithografiedruckplatten
JP5244987B2 (ja) 2011-02-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
US8785517B2 (en) 2011-05-25 2014-07-22 3M Innovative Properties Company Pressure-sensitive adhesives with onium-epdxy crosslinking system
JP5651538B2 (ja) 2011-05-31 2015-01-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
CN103649212B (zh) 2011-06-23 2016-06-08 3M创新有限公司 包含鎓-环氧树脂交联体系的压敏粘合剂
BR112014002574A2 (pt) 2011-08-22 2019-12-17 Fujifilm Corp precursores de placa de impressão litográfica e processos para preparação de placas de impressão litográfica
JP5432960B2 (ja) 2011-08-24 2014-03-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5514781B2 (ja) 2011-08-31 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法
JP5602195B2 (ja) 2011-09-27 2014-10-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5690696B2 (ja) 2011-09-28 2015-03-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5740275B2 (ja) 2011-09-30 2015-06-24 富士フイルム株式会社 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法
WO2013059286A1 (en) 2011-10-19 2013-04-25 3M Innovative Properties Company Hardcoat compositions
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
US20150044456A1 (en) 2012-02-03 2015-02-12 3M Innovative Properties Company Primer compositions for optical films
EP2818522B1 (de) 2012-02-23 2018-11-21 FUJIFILM Corporation Chromogene zusammensetzung, chromogene härtbare zusammensetzung, lithografiedruckplattenvorläufer, plattenherstellungsverfahren und chromogene verbindung
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5579217B2 (ja) 2012-03-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2644664B1 (de) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
WO2013172407A1 (ja) 2012-05-18 2013-11-21 シーメット株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
WO2014002835A1 (ja) 2012-06-29 2014-01-03 富士フイルム株式会社 現像処理廃液濃縮方法及び現像処理廃液のリサイクル方法
JP5699112B2 (ja) 2012-07-27 2015-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5786098B2 (ja) 2012-09-20 2015-09-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
JP5786099B2 (ja) 2012-09-26 2015-09-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
BR112015006578A2 (pt) 2012-09-26 2019-12-17 Fujifilm Corp precursor da chapa de impressão litográfica e método de fabricação da chapa
KR102047349B1 (ko) 2012-12-07 2019-11-21 디에스피 고쿄 후도 ＆ 케미카루 가부시키가이샤 신규한 술포늄염 화합물, 그 제조 방법 및 광산발생제
CN104884537A (zh) 2012-12-28 2015-09-02 富士胶片株式会社 硬化性树脂组合物、红外线截止滤波器及使用其的固体摄影元件
CN105102560A (zh) 2012-12-28 2015-11-25 富士胶片株式会社 红外线反射膜形成用的硬化性树脂组合物、红外线反射膜及其制造方法、以及红外线截止滤波器及使用其的固体摄影元件
JP2014129475A (ja) * 2012-12-28 2014-07-10 Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk 熱カチオン重合性組成物
CN105190436A (zh) 2013-02-27 2015-12-23 富士胶片株式会社 红外线感光性显色组合物、红外线固化性显色组合物、平版印刷版原版和制版方法
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
CN106939074B (zh) 2013-03-08 2020-06-16 日立化成株式会社 含有离子性化合物的处理液
US20150368524A1 (en) 2013-03-13 2015-12-24 3M Innovative Properties Company Adhesives comprising epoxy-acid crosslinked groups and methods
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
BR112016007358A2 (pt) 2013-10-04 2017-08-01 3M Innovative Properties Co bloco bruto para usinagem de próteses dentárias
EP3088201B1 (de) 2014-02-04 2019-01-16 Fujifilm Corporation Flachdruckplattenvorläufer, herstellungsverfahren dafür, verfahren zur herstellung einer lithografischen druckplatte und druckverfahren
WO2015164087A1 (en) 2014-04-24 2015-10-29 3M Innovative Properties Company Compositions comprising cleavable crosslinker and methods
US10982122B2 (en) 2014-09-05 2021-04-20 3M Innovative Properties Company Heat conformable curable adhesive films
CN107001673A (zh) 2014-12-30 2017-08-01 埃西勒国际通用光学公司 用溅射涂层改善粘附性的组合物和方法
WO2016108061A1 (en) 2014-12-30 2016-07-07 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Uv curable coating compositions for improved abrasion resistance
US11198795B2 (en) 2015-02-17 2021-12-14 The Walman Optical Company Glycidyl ether based optical coating compositions
US10369086B2 (en) 2015-03-05 2019-08-06 3M Innovative Properties Company Composite material having ceramic fibers
US9856394B2 (en) 2015-03-19 2018-01-02 Mark Alan Litman Dye-tintable, abrasion resistant coating for ophthalmic lenses and method of application
EP3283294A1 (de) 2015-04-16 2018-02-21 3M Innovative Properties Company Quantenpunktartikel mit thiol-epoxid-matrix
WO2016168048A1 (en) 2015-04-16 2016-10-20 3M Innovative Properties Company Quantum dot article with thiol-alkene-epoxy matrix
EP3350285A1 (de) 2015-09-15 2018-07-25 3M Innovative Properties Company Additivstabilisierte kompositnanopartikel
CN108026443B (zh) 2015-09-15 2020-07-10 3M创新有限公司 添加剂稳定的复合纳米粒子
US10768528B2 (en) 2015-09-28 2020-09-08 3M Innovative Properties Company Patterned film article comprising cleavable crosslinker and methods
EP3374181A1 (de) 2015-11-11 2018-09-19 3M Innovative Properties Company Mehrschichtige konstruktion mit barriereschicht und versiegelungsschicht
CN108291138B (zh) 2015-11-18 2021-03-26 3M创新有限公司 用于纳米粒子的共聚稳定载体流体
WO2017142782A1 (en) 2016-02-17 2017-08-24 3M Innovative Properties Company Quantum dots with stabilizing fluorochemical copolymers
KR20180128956A (ko) 2016-04-01 2018-12-04 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 플루오로케미칼 안정화제를 갖는 양자점
US10526535B2 (en) 2016-05-20 2020-01-07 3M Innovative Properties Company Quantum dots with mixed amine and thiol ligands
EP3478781B1 (de) 2016-06-29 2020-05-13 3M Innovative Properties Company Verbindung, haftartikel und verfahren zur herstellung davon
US20190322905A1 (en) 2016-06-29 2019-10-24 3M Innovative Properties Company Adhesive article and method of making the same
KR20190031505A (ko) 2016-07-20 2019-03-26 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 양자점을 위한 안정화 스티렌계 중합체
CN109476986B (zh) 2016-07-20 2022-07-01 3M创新有限公司 用于量子点的稳定苯乙烯聚合物
CN109689819A (zh) 2016-09-08 2019-04-26 3M创新有限公司 粘合剂制品及其制备方法
BR112019017433A2 (pt) 2017-02-28 2020-04-07 Fujifilm Corp método para produzir chapa de impressão litográfica
WO2018167645A1 (en) 2017-03-14 2018-09-20 3M Innovative Properties Company Additive stabilized composite nanoparticles
WO2019027717A1 (en) 2017-07-31 2019-02-07 Dow Silicones Corporation DOUBLE CURABLE SILICONE COMPOSITIONS
US11168223B2 (en) 2017-09-28 2021-11-09 Sdc Technologies, Inc. Photochromic article
WO2020128729A1 (en) 2018-12-19 2020-06-25 3M Innovative Properties Company Release layers and articles containing them
EP3725820B1 (de) 2019-04-16 2022-04-06 Henkel AG & Co. KGaA Verwendung von funktionalisierten alpha-angelica-lactonen
EP3798246B1 (de) 2019-09-27 2024-01-31 Henkel AG & Co. KGaA Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf basis von modifiziertem epoxidharz
EP3831863B1 (de) 2019-12-04 2023-07-05 Henkel AG & Co. KGaA Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf der basis von epoxidharz
EP3831862B1 (de) 2019-12-04 2023-06-28 Henkel AG & Co. KGaA Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf basis von epoxidharz
EP4069793A1 (de) 2019-12-05 2022-10-12 PPG Industries Ohio Inc. Härtbare zusammensetzungen
WO2021124156A1 (en) 2019-12-20 2021-06-24 3M Innovative Properties Company Method of pattern coating adhesive composition comprising unpolymerized cyclic olefin and latent catalyst, adhesive compositions and articles
US20230014501A1 (en) 2019-12-20 2023-01-19 3M Innovative Properties Company Adhesive article comprising polymer and polymerizable cyclic olefins, adhesive compositions and methods
EP3916033A1 (de) 2020-05-28 2021-12-01 Henkel AG & Co. KGaA Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf basis von epoxidharz
EP3919943A1 (de) 2020-06-03 2021-12-08 Essilor International Härtbare beschichtungszusammensetzung
WO2022081271A1 (en) 2020-10-13 2022-04-21 Cabot Corporation Conductive photo-curable compositions for additive manufacturing
EP4012000A1 (de) 2020-12-11 2022-06-15 Bostik SA Lichthärtbare klebstoffzusammensetzung
EP4050061A1 (de) 2021-02-26 2022-08-31 Henkel AG & Co. KGaA Im nahinfrarotbereich (nir) sensibilisierte kleb- und dichtstoffzusammensetzungen
EP4050060A1 (de) 2021-02-26 2022-08-31 Henkel AG & Co. KGaA Photohärtbare klebe- oder dichtungsmasse
WO2023032545A1 (ja) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液
WO2023091407A1 (en) 2021-11-16 2023-05-25 3M Innovative Properties Company Release composition, articles prepared from the release composition, and related methods
EP4183807A1 (de) 2021-11-18 2023-05-24 Henkel AG & Co. KGaA Copolymer und heissschmelzzusammensetzungen mit diesem copolymer
CN118302472A (zh) 2021-12-16 2024-07-05 3M创新有限公司 包含可裂解交联剂的组合物
EP4332144A1 (de) 2022-09-05 2024-03-06 Henkel AG & Co. KGaA Einkomponentige (1k) härtbare klebstoffzusammensetzung
WO2024074908A1 (en) 2022-10-03 2024-04-11 3M Innovative Properties Company Adhesive composition comprising polar (meth)acrylate monomer and epoxy resin, articles and methods
WO2024074909A1 (en) 2022-10-07 2024-04-11 3M Innovative Properties Company Articles comprising cyclic olefin, catalyst, and second polymerizable material, methods and compositions

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3373221A (en) * 1964-11-04 1968-03-12 Shell Oil Co Reaction products of unsaturated esters of polyepoxides and unsaturated carboxylic acids, and polyisocyanates
US3567453A (en) * 1967-12-26 1971-03-02 Eastman Kodak Co Light sensitive compositions for photoresists and lithography
US3708296A (en) * 1968-08-20 1973-01-02 American Can Co Photopolymerization of epoxy monomers
US3637572A (en) * 1969-05-26 1972-01-25 Hitachi Ltd Epoxy resins with organoboron cure promotors
US3660354A (en) * 1969-08-13 1972-05-02 Gen Tire & Rubber Co Quaternary ammonium and phosphonium thiocyanates and their use as accelerators for epoxy resins
US3711390A (en) * 1971-05-18 1973-01-16 J Feinberg Photopolymerizable epoxy systems containing substituted cyclic amides or substituted ureas as gelation inhibitors
US3816280A (en) * 1971-05-18 1974-06-11 American Can Co Photopolymerizable epoxy systems containing cyclic amide gelation inhibitors
JPS509183B1 (de) * 1971-07-02 1975-04-10
BE787022A (fr) * 1971-08-02 1972-11-16 Eastman Kodak Co Compositions photosensibles stabilisees et produits photographiques en derivant
US3729313A (en) * 1971-12-06 1973-04-24 Minnesota Mining & Mfg Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use
NL7300007A (de) * 1973-01-02 1974-07-04
US3826280A (en) * 1973-02-16 1974-07-30 Us Army Quick-acting, self-resetting fluid pressure release valve assembly
US3979355A (en) * 1974-02-13 1976-09-07 Westinghouse Electric Corporation Arsonium latent catalysts for curing epoxy resins

Also Published As

Publication number Publication date
DE2559846C2 (de) 1983-12-22
JPS5214279B2 (de) 1977-04-20
DE2518656C3 (de) 1979-06-07
GB1512981A (en) 1978-06-01
BE828668A (fr) 1975-09-01
FR2269553A1 (de) 1975-11-28
JPS50158698A (de) 1975-12-22
US4069055A (en) 1978-01-17
FR2269553B1 (de) 1978-09-08
GB1512982A (en) 1978-06-01
DE2518656A1 (de) 1975-11-06

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