TWI465432B - 肟酯光起始劑（一） - Google Patents

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TWI465432B TW097117241A TW97117241A TWI465432B TW I465432 B TWI465432 B TW I465432B TW 097117241 A TW097117241 A TW 097117241A TW 97117241 A TW97117241 A TW 97117241A TW I465432 B TWI465432 B TW I465432B
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Hisatoshi Kura
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Description

肟酯光起始劑(一) 發明領域
本發明係關於以特定咔唑衍生物為主之新穎肟酯化合物，以及其作為可光聚合之組成物中之光起始劑的用途。
 發明背景
由美國第3558309號專利可知，某些肟酯衍生物為光起始劑。美國第4255513號專利係揭露肟酯化合物。美國第6596445號專利敘述某些具有電子供體基團的肟酯化合物。美國第4202697號專利揭露經丙烯酸胺取代之肟酯。在JP 7-140658 A(=Derwent資料庫第95-234519/31號)，Bull.Chem.Soc.Jpn. 1969,42(10),2981-3，Bull.Chem.Soc.Jpn. 1975,48(8),2393-4，Han'guk Somyu Konghakhoechi 1990,27(9),672-85(=化學摘要第115：115174號)，Macromolecules, 1991,24(15),4322-7以及European Polymer Journal ,1970,933-943之中，係敘述某些醛肟酯化合物。在US 4590145及JP 61-024558-A(=Derwent資料庫第86-073545/11號)，係揭露數種二苯甲酮(benzophenones)肟酯化合物。在Glas.Hem.Drus.Beograd,1981,46(6),215-30 ，J.Chem.Eng.Data 9(3),403-4(1964) ，J.Chin.Chem.Soc.(Taipei)41(5)573-8 (1994)，JP 62-273259-A(=化學摘要109：83463w)，JP 62-286961-A(=Derwent資料庫第88-025703/04號)，JP 62-201859-A(=Derwent資料庫第87-288481/41號)，JP 62-184056-A(=Derwent資料庫第87-266739/38號)，US 5019482以及J.of Photochemistry and Photobiology A 107,261-269(1997)中，係敘述某些對-烷氧基-苯基肟酯化合物。進一步地，WO 02/100903、WO 04/050653、WO 06/018405、國際專利申請案編號第EP2006/068202號以及國際專利申請案編號第EP2006/068254號係揭露肟酯化合物。
於光聚合反應技術中，仍存有對於高反應性、易於製備及易於處理之光起始劑的需求。例如，在濾色器阻劑應用中，為了高色彩品質性而需要高度色料防染性。當色料成份增加時，色彩阻劑的固化則變得較難。因此，則需要一具有較現今起始系統為高之敏化性之光起始劑。此外，此等新穎之光起始劑也需符合產業相關性質之高度要求，例如，熱安定性及貯存安定性。
 發明概要
驚人地，發現一種式I、II及III之化合物
R1 係氫、(CO)R”2 、C1 -C20 烷氧基羰基、苯基-C1 -C4 烷基、經由一或多個鹵代基、COOR11 或CONR12 R13 所取代之C1 -C20 烷基；或者R1 係被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基；或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C12 烯基，或係C4 -C8 環烯基或C2 -C12 炔基；或是R1 係苯甲醯基、萘甲醯基、苯氧基羰基或萘氧基羰基；或係苯甲醯基、萘甲醯基、苯氧基羰基或萘氧基羰基，其之每一者可擇地被一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵代基、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 所取代或係經O、CO或NR14 可擇地中斷之C3 -C10 環烷基所取代；或是R1 係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基，或係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基羰基，或係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷氧基羰基； 或是R1 係未經取代之苯基或萘基，或係被一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵代基、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 所取代之苯基或萘基、或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基所取代之苯基或萘基；R 2 和R’ 2 相互獨立地為氫、C1 -C20 烷基，該C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；為可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基，且該該未經中斷或經中斷之C3 -C10 環烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；或者R2 和R’2 係經一或多個鹵代基、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、、苯基所取代之C1 -C20 烷基或係經由SR10 、OR11 或NR12 R13 取代之苯基所取代之C1 -C20 烷基，該經取代之C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；或者R2 和R’2 係C2 -C20 烷基，被一或多個O所中斷和/或可擇地經一或多個鹵代基、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、、苯基所取代或經SR10 、OR11 、或NR12 R13 取代之苯基所取代，該經中斷之C2 -C20 烷基可擇地含有C-C多重鍵；或者R2 和R’2 係未經取代之苯基、萘基或C1 -C20 雜芳 基；或係苯基、萘基或經一或多個C1 -C12 烷基、C2 -C12 烯基、C2 -C12 炔基、苯基、鹵代基、CN、NO2 、SR10 、OR11 、NR12 R13 所取代之C1 -C20 雜芳基或係經可擇地被O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基所取代之C1 -C20 雜芳基；或是R2 及R’2 係C2 -C20 烷醇基、或係未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代之苯甲醯基；或是R2 及R’2 係可擇地被一或多個O所中斷及/或可擇地被一或多個OH所取代之C2 -C12 烷氧基羰基；或是R2 及R’2 係未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、鹵代基、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代之苯氧基羰基； 或者R2 及R’2 係NR12 R13 或； 或者R2 及R’2 與基群或(CO)R’2 所接附 之苯環或萘環上C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代或經取代的；R”2 具有指定於R2 及R’2 之意義中的一者，或係 R”’2 具有指定於R2 及R’2 之意義中的一者，或係 R 3 、R 4 、和R 5 係各自獨立地為氫、鹵代基、、 C1 -C20 烷基、經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基、或為可擇地經O、CO或NR14 中斷之C2 -C12 烯基、或為C4 -C8 環烯基、C2 -C12 炔基、苯基-C1 -C4 烷基、CN、NO2 或可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基；或者R3 、R4 、和R5 係未經取代或經一或多個C1 -C20 烷基、鹵代基、CN、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代之苯基；或是R3 、R4 及R5 係(CO)R’2 、SR10 、OR11 、SOR10 、SO2 R10 或NR12 R13 ，其中該等取代基(CO)R’2 、OR11 、SR10 和NR12 R13 係經由基團R10 、R11 、R12 R13 及/或R’2 和苯環上另外的取代基或和苯環上之一碳原子可擇地形成5-或6-員環；前提是：(i)至少R3 、R4 或R5 中之一者係除了氫或C1 -C20 烷基之外的；以及(ii)若在該苯環之對位上之R3 、R4 或R5 之一者係SR10 ，則該R10 並非是未經取代之苯基；以及(iii)若在該苯環之對位上之R3 、R4 或R5 之一者係NR12 R13 ，則該R12 及R13 兩者並非皆是C1 -C20 烷基；以及(iv)若在該苯環之對位上之R3 、R4 或R5 之一者係 NR12 R13 ，且R12 及R13 與其所連接之氮原子一起形成一環，該環並非是嗎啉基環；以及(v)若R3 係氫，R4 係在該苯環之鄰位上之氫或C1 -C20 烷基，且R5 係在該苯環之對位上之OR11 ，則該R11 並非是C3 -C10 環烷基或經O所中斷之C3 -C10 環烷基；R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 、R”7 、R’”6 及R”’7 係彼此獨立地具有指定於R3 、R4 及R5 之意義中的一者；或是在式II中之R”6 及R”7 係一起為C1 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基，和其所連接之苯基一起形成二環，其中該二環係可擇地經一或多個C1 -C20 烷基取代，或經O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基取代，或者該雙環係可擇地經C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵代基、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 所取代或是經O、CO或NR14 可擇 地中斷之C3 -C10 環烷基所取代；前提是基群係 連接至該二環其中之一環；或是在式III中之R”’6 及R”’7 係一起為C2 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基，和其所連接之苯基一起形成二環，其中該二環係可擇地經一或多個C1 -C20 烷基取代、經O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基取代，或該二環係可擇地經C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵代基、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 所取代或是經O、CO或NR14 可擇地中斷之C3 -C10 環烷基所取代；前提是一或多個基群(CO)R’”2 係連接至該二環其中 之一環；R9 係氫、C3 -C8 環烷基、C2 -C5 烯基、C1 -C20 烷氧基、未經取代之C1 -C20 烷基或是經由一或多個鹵代基、苯基、C1 -C20 烷苯基及/或CN所取代之C1 -C20 烷基；或是R9 係苯基或萘基，其係皆未經取代的或是被一或多個C1 -C6 烷基、鹵代基、CN、OR11 、SR10 及/或NR12 R13 所取代；或是R9 係苄氧基或苯氧基，其係皆未經取代的或是被一或多個C1 -C6 烷基及/或鹵代基所取代；R10 係為氫、C1 -C20 烷基、C3 -C12 烯基、可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基，或者R10 係苯基-C1 -C4 烷基或係經OH、SH、CN、C3 -C6 烯氧基、C1 -C20 雜芳基、 C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、、
-OCH2 CH2 CN、-OCH2 CH2 (CO)O(C1 -C4 烷基)、-O(CO)-(C1 -C4 烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1 -C4 烷基)所取代之C1 -C20 烷基；或R10 係經一或多個O或S所中斷之C2 -C20 烷基；或是R10 係-(CH2 CH2 O)n H、-(CH2 CH2 O)n (CO)-(C1 -C8 烷基)、C2 -C8 烷醇基、苯甲醯基、C3 -C12 烯基或C3 -C6 烯醇基；或是R10 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其各為未經取代的或是經由一或多個鹵代基、C1 -C12 烷基、C1 -C12 烷氧基、苯基-C1 -C3 烷基氧、苯氧基、C1 -C12 烷基磺醯基、苯基 磺醯基、-N(C1 -C12 烷基)2 、二苯胺、-(CO)O(C1 -C8 烷基)或(CO)N(C1 -C8 烷基)2 所取代；或是R10 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其係經由一直接鍵結、C1 -C4 烯基、O、S、NR14 或CO與該SR10 所連接之苯環形成一5-或6-員環，其中該苯基或萘基係未經取代的或係經由一或多個C1 -C20 烷基、經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基所取代，或是被經O、CO或NR14 可擇地中斷之C3 -C10 環烷基所取代，或是被鹵代基、C1 -C20 烷氧基、C1 -C20 烷基羰基或苯基羰基所取代；n係1至12之整數；R11 係氫、被一或多個鹵代基可擇地取代之C1 -C20 烷基；或者R11 係-(CH2 CH2 O)n H、-(CH2 CH2 O)n (CO)-(C1 -C8 烷基)、C1 -C8 烷醇基、C3 -C12 烯基、C3 -C6 烯醇基、苯基-C1 -C4 烷基或係被一或多個O中斷之C2 -C20 烷基；或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或者R11 係被OH、SH、CN、C3 -C6 烯氧基、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基 -S、-OCH2 CH2 CN、-OCH2 CH2 (CO)O(C1 -C4 烷基)、、 -O(CO)-(C1 -C4 烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1 -C4 烷基)所取代之C1 -C20 烷基；或是R11 係未經取代之苯甲醯基或是被一或多個C1 -C6 烷基、鹵代基、OH或C1 -C4 烷氧基所取代之苯甲醯基； 或是R11 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其各為未經取代的或是經由一或多個鹵代基、OH、C1 -C12 烷基、C3 -C10 環烷基或C1 -C12 烷氧基所取代；R12 及R13 係彼此獨立為氫、C1 -C20 烷基、被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基、或係C2 -C4 羥烷基、C1 -C12 烷氧基、苯基-C1 -C4 烷基、(CO)R15 、C2 -C10 烷氧基烷基、C3 -C5 烯基或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或是R12 及R13 係苯基或萘基，其各為未經取代的或是經由一或多個C1 -C20 烷氧基、(CO)R15 、苯基、NR16 R17 、SR10 、OR11 、C1 -C20 烷基所取代，被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基所取代，或是被可擇地由O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基所取代；或是R12 及R13 係彼此獨立為C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，其係連接至該NR12 R13 所接附之苯環或萘環上之碳原子中之一者，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係可擇地經O、CO或NR14 所中斷；或是R12 及R13 係彼此獨立為苯基，該苯基係經由一直接鍵結連接至有該NR12 R13 被置放於其上之苯基上；或是R12 及R13 和其所連接至之N-原子一起形成一經O、N或NR14 可擇地中斷之5-或6-員飽和或未飽和環，且該環係未經取代的或係經一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C20 烷氧基、=O、SR10 、OR11 、NR16 R17 、(CO)R15 、NO2 、CN、苯基所取代或是經O、CO或NR14 可擇地中斷之C3 -C10 環烷基所 取代；或是R12 及R13 和其所接附之N-原子一起形成一雜芳香環系統，該雜芳香環系統係未經取代的或係經一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C20 烷氧基、=O、SR10 、OR11 、NR16 R17 、(CO)R15 、NO2 、CN、苯基所取代，或是經O、CO或NR14 可擇地中斷之C3 -C10 環烷基所取代；R14 係氫、C1 -C20 烷基、C3 -C8 環烷基、苯基或(CO)R15 ；R15 係氫、OH、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、經O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基，或係經O、CO或NR14 可擇地中斷之C3 -C10 環烷基、或係苯基-C1 -C4 烷基、SR10 、OR11 或NR12 R13 ；或是R15 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其係皆未經 取代或經一或多個SR10 、OR11 、NR12 R13 、、 CN、NO2 、鹵代基、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基所取代，經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基所取代，或係經O、CO或NR14 可擇性中斷之C3 -C10 環烷基所取代；R16 及R17 係彼此獨立為氫、C1 -C20 烷基、C3 -C10 環烷基或苯基；或是R16 及R17 和其所接附之N-原子一起形成一經O、S或NR14 可擇地中斷之5-或6-員飽和或未飽和環；或是R16 及R17 係彼此獨立為C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，其係連接至該NR16 R17 所接附之該苯環或萘環的碳原子之一者，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係可擇地 被O、CO或NR14 所中斷，且一苯環係可擇地縮合至該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基；R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係彼此獨立為氫、 鹵代基、、C1 -C20 烷基、經O、CO或NR14 中斷之 C2 -C20 烷基、或為可擇地經O、CO或NR14 中斷之C2 -C12 烯基、或為C4 -C8 環烯基、C2 -C12 炔基、苯基-C1 -C4 烷基、CN、NO2 或為可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基；或者R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係未經取代或經一或多個C1 -C20 烷基、鹵代基、CN、SR10 、OR11 或NR12 R13 取代之苯基；或者R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係(CO)R’2 、SR10 、OR11 、SOR10 、SO2 R10 或NR12 R13 ，其中該等取代基(CO)R’2 、OR11 、SR10 和NR12 R13 係經由基團R10 、R11 、R12 R13 及/或R’2 和苯環上另外的取代基或與苯環上之一碳原子可擇地形成5-或6-員環；R” 18 和R” 19 係彼此獨立地具有指定於R”6 和R”7 之意義中的一者；且R’” 18 和R’” 19 係彼此獨立地具有指定於R'''6 和R'''7 之意義中的一者；R 21 係COOR11 、CONR12 R13 或(CO)R9 ；或者R21 具有指定於R15 之意義中的一者；R 22 係COOR11 、CONR12 R13 或(CO)R9 ；或者R22 具有指定於R12 和R13 之意義中的一者；X 係O、S、SO或SO2 ；X 2 係一直接鍵結、可擇地經O、CO或NR14 中斷之C1 -C20 伸烷基，且該未經中斷或經中斷之C1 -C20 伸烷基係未經取代或經一或多個鹵代基、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、、苯基所取代，或經鹵代基、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、或NR12 R13 所取代之苯基取代，且該未經取代或經取代、經中斷或未經中斷之C1 -C20 伸烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；m 係1或2之整數；R 23 具有指定於R9 之意義中的一者；R 24 係氫、C1 -C20 烷基；C2 -C20 烯基；可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基，或者R24 係C3 -C10 環烯基；經一或多個鹵代基、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、取代之C1 -C20 烷基或係經苯基取代之C1 -C20 烷基；或者R24 係經一或多個O中斷和/或可擇地經一或多個鹵代基、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、所取代之C2 -C20 烷基或經苯基所取代之C2 -C20 烷基； 或者R24 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其皆可擇地經一或多個C1 -C12 烷基、苯基、鹵代基、C1 -C4 鹵烷基、CN、NO2 、SR10 、OR11 、NR12 R13 所取代，或經可擇地由O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基所取代；或是R24 係C2 -C20 烷醇基或是未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、鹵代基、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代之苯甲醯基；或是R24 係可擇地被一或多個O所中斷及/或可擇地被一或多個OH所取代之C2 -C12 烷氧基羰基；或是R24 係未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、C1 -C4 鹵烷基、鹵代基、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代之苯氧基羰基；或是R24 係NR12 R13 ； 或是R24 與基群所接附之苯基或萘基環 上C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代 或經取代；或是R24 係或；前提是 (a) 至少下列之一者係NR 12 R 13 或 ，包括有 式I或III中之R 2 ， 式I中R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R’6 或R’7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是式II中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是用於式III中R’”2 或透過基團R2 或R’2 用於式I、II或 III中R24 之基群中R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、 R’20 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ；式II中之R" 2 ，或是式I之R1 中基群(CO)R”2 中之R" 2 ，或是透過基團R1 或R14 於式I、或是透過基團R12 或R13 於式II、或是透過基團R12 或R13 於式III，中R15 中之基群中之R" 2 ，或是 式III中之R'" 2 ；或者是(b) 至少下列之一者與對應基群、 、(CO)R' 2 或(CO)R"’ 2 所接附之該苯環或萘 環上C-原子之一者形成一環 ，包括有式I或III中之R 2 ，式I中R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R’6 或R’7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是 式II中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是用於式III中R’”2 或透過基群R2 或R’2 用於式I、II或III中R24 之基群中R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、R’20 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ；式II中之R" 2 ，或是式I之R1 中基群(CO)R”2 中之R" 2 ，或是透過基團R1 或R14 於式I、或是透過基團R12 或R13 於式II、或是透過基團R12 或R13 式III，中R15 中之基群中之R" 2 ，或是式III中之R'" 2 ；或者是(c) 至少下列之一者含有一或多個C-C多重鍵， 包括有式I或III中之R 2 ，式I中R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R’6 或R’7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是式II中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是用於式III中R’”2 或透過基團R2 或R’2 用於式I、II或 III中R24 之基群中R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、 R’20 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ；式II中之R" 2 ，或是式I之R1 中基群(CO)R”2 中之R" 2 ，或是透過基團R1 或R14 於式I、或是透過基團R12 或R13 於式II、或是透過基團R12 或R13 式III，中R15 中之基群中之R" 2 ，或是 式III中之R'" 2 ；或者是(d) 至少下列之一者係經一或多個C 1 -C 20 雜芳基、 C 1 -C 20 雜芳基-(CO)O、C 1 -C 20 雜芳基-S 或 所取代 之C 1 -C 20 烷基 ，包括有式I或III中之R 2 ，式I中R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R’6 或R’7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是式II中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ，或是用於式III中R’”2 或透過基團R2 或R’2 用於式I、II或 III中R24 之基群中R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、 R’20 所定義之基群(CO)R’2 中之R' 2 ； 式II中之R" 2 ，或是式I之R1 中基群(CO)R”2 中之R" 2 ，或是透過基團R1 或R14 於式I、或是透過基團R12 或R12 於式II、或是透過基團R12 或R13 式III，中R15 中之基群中之R" 2 ，或是 式III中之R'" 2 ，或是在式I、II或III中任一者作為取代基之基群SR10 、OR11 或COOR11 中所出現之R 10 或R 11 ；或者是(e) 至少下列之一者係未經取代或經取代之C 1 -C 20 雜芳基 ，包括有式III中之R'" 2 ，或是在式I、II或III中任一者作為取代基之基群SR10 、OR11 或COOR11 中所出現之R 10 或R 11 。 如上所述之式I、II和III之化合物之定義係受限於先前所述之條件(a)-(e)以及下列之其他條件(a’)-(e’)：(a’)至少R2 、R'2 、R"2 和R'"2 之一者係NR 12 R 13 或，或者 (b’)至少R2 、R'2 、R"2 和R'"2 之一者與對應基群、(CO)R'2 或(CO)R"’2 所接附 之該苯環或萘環上C-原子之一者形成一環 ；或者(c’)至少R2 、R'2 、R"2 和R'"2 之一者含有一或多個C-C多重鍵 ；或者(d’)至少R2 、R'2 、R"2 、R'"2 、R10 和R11 之一者係經一或多個C 1 -C 20 雜芳基、C 1 -C 20 雜芳基-(CO)O、C 1 -C 20 雜芳基-S 或所取代之C1 -C20 烷基；或者(e’)至少R"’2 、R10 、和R11 之一者係未經取代或經取代之 C1 -C20 雜芳基。
式I、II及III之化合物之特徵在於具有至少一種上述[(a)-(d)]所定義之特定取代基存在於分子中。
依據本發明，式I、II及III之化合物可被使用為烯族不飽和化合物或包含此類化合物之混合物的光聚合反應中之光起始劑。
C1 -C20 烷基係直鏈或分枝的，且係如C1 -C18 -、C1 -C14 -、C1 -C12 -、C1 -C8 -、C1 -C6 -或C1 -C4 烷基。舉例如：甲基、乙基、丙基、異丙基、正-丁基、仲-丁基、異-丁基、叔-丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十八烷基以及二十烷基。C1 -C18 烷基、C1 -C14 烷基、C1 -C12 烷基、C1 -C8 烷基、C1 -C6 烷基及C1 -C4 烷基具有如同上述給予C1 -C20 烷基多達相同數目碳原子之定義。
經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基，係如經O、CO或NR14 中斷一次或多次，例如：各別為1-9、1-7或一次或二次。假使該基團係經多於一個以上之O所中斷，該 等O原子係由至少一個亞甲基基團將其相互隔開，換言之，該等O原子係非連續的。舉例如以下結構單元：-CH2 -O-CH3 、-CH2 CH2 -O-CH2 CH3 、-[CH2 CH2 O]y -CH3 其中y=1-9，-(CH2 CH2 O)7 CH2 CH3 、-CH2 -CH(CH3 )-O-CH2 -CH2 CH3 或-CH2 -CH(CH3 )-O-CH2 CH3 。
C1 -C4 鹵烷基係經鹵代基一次或多次取代之C1-C4-烷基，C1-C4烷基係如上所界定。該烷基基團係如一次或多次鹵化的，直到將所有的氫原子用鹵素替換掉。舉例如氯甲基、三氯甲基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基或2-溴丙基，特別是三氟甲基或三氯甲基。
含有C-C多重鍵之C1 -C20 烷基、經取代之C1 -C20 烷基以及經中斷之C2 -C20 烷基，意指包括一或多個，例如1、2或3，尤其係1，C-C雙鍵或C-C三鍵。含有C-C多重鍵之C1 -C20 烷基係例如如下所述之C1 -C6 烯基。
C3 -C12 環烷基係如環丙基、環戊基、環己基、環辛基、環十二基、特別是環戊基和環己基，較佳是環己基。
C3 -C12 環烷基在本案內文中係被了解為至少包含有一環之烷基。例如：環丙基、甲基-環戊基、環戊基、環己基、甲基-或二甲基-環己基、環辛基，特別是環戊基及環己基，也表示較佳是環己基。進一步的範例如以下結構：、、，例如或，也如橋 接或融合環系統，如：、、等等，也表示被含括在此字義中。
經O、CO或NR14 中斷之C3 -C12 環烷基係具有上述之意義，其中該烷基上之至少一CH2 -基團係由O、CO或NR14 之一所替換。舉例如以下結構：、、。例如、或、等等。
含有C-C多重鍵之C3 -C10 環烷基意指包括一或多個，例如1、2或3，尤其係1，C-C雙鍵或C-C三鍵。含有C-C多重鍵之C3 -C10 環烷基係例如如下所述之C3 -C8 環烯基。
苯基-C1 -C4 烷基係如苯甲基(苄基)、苯乙基、α-甲基苯基、苯基丁基、苯基丙基或α,α-二甲基苯基，特別是苯甲基(苄基)。經取代之苯基-C1 -C4 烷基係經一至四次的取代，例如，一次、二次或三次，特別是二次或三次，較佳是在該苯環上。
C2 -C12 烯基基團係一元或多元不飽和，直鏈或支鏈的，係如C2 -C8 -、C2 -C6 -、C2 -C5 -或C2 -C4 烯基。舉例如：烯丙基，甲基烯丙基、乙烯基、1,1-二甲基烯丙基、1-丁烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、1,3-戊二烯基、5-己烯基或7-辛烯基，特別是烯丙基或乙烯基。
C4 -C8 環烯基，具有一或多個雙鍵且係如C4 -C6 環烯基 或C6 -C8 -環烯基。舉例如：環丁烯基、環戊烯基、環己烯基或環辛烯基，特別是環戊烯基或環己烯基，較佳是環己烯基。
C2 -C12 炔基基團係一元或多元不飽和，直鏈或支鏈的，係如C2 -C8 -、C2 -C6 -或C2 -C4 炔基。舉例如乙炔基、丙炔基、丁炔基、1-丁炔基、3-丁炔基、2-丁炔基、戊炔基、己炔基、2-己炔基、5-己炔基、辛炔基等等。
C1 -C20 烷基苯基係對應於在苯環上經烷基取代一次或多次之苯基，且係如C1 -C12 烷基-、C1 -C8 烷基-或C1 -C4 烷基苯基，其中該烷基之數目係對應於在該苯環之所有烷基取代基之所有碳原子的總數。舉例如：甲苯基、二甲苯基、三甲苯、乙基苯基、二乙基苯基，特別是甲苯基及三甲苯。
C1 -C20 烷氧基係直鏈或支鏈的，且係如C1 -C18 -、C1 -C16 -、C1 -C12 -、C1 -C8 -、C1 -C6 -或C1 -C4 -烷氧基。舉例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正-丁氧基、仲-丁氧基、異-丁氧基、叔-丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、2,4,4-三甲基戊氧基、2-乙基己氧基、辛氧基、壬氧基、癸氧基、十二烷氧基、十四烷氧基、十六烷氧基、十八烷氧基以及二十烷氧基，尤其是甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正-丁氧基、仲-丁氧基、異-丁氧基、叔-丁氧基，特別是甲氧基。
C1 -C12 烷基磺醯基係C1 -C12 烷基，但其中在其基團部份具有一硫原子。C1 -C12 烷基具有如上述對於C1 -C12 烷基所含最多相對之碳原子數目的相同涵意。C1 -C12 烷基磺醯基係直 鏈或支鏈的，舉例如：甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基、異丙基磺醯基、正-丁基磺醯基、仲-丁基磺醯基、異-丁基磺醯基、叔-丁基磺醯基。
C3 -C6 烯氧基基團係一元或多元不飽和，且係如烯丙氧基、甲基烯丙氧基、丁烯氧基、戊烯氧基、1,3-戊二烯氧基、5-己烯氧基。
C1 -C20 烷基羰基係相對應於C1 -C20 烷醇基，且係直鏈或支鏈的，且係例如C1 -C18 -、C1 -C14 -、C1 -C12 -、C1 -C8 -、C2 -C8 -、C1 -C6 -或C1 -C4 烷醇基或C4 -C12 -或C4 -C8 烷醇基。舉例如：甲醯基、乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、戊醯基、己醯基、庚醯基、辛醯基、壬醯基、癸醯基、十二醯基、十四醯基、十五醯基、十六醯基、十八醯基、二十醯基，較佳係乙醯基。C2 -C8 烷醇基、C2 -C6 烷醇基及C2 -C4 烷醇基具有如同上述給予C2 -C20 烷醇基多達相同數目碳原子之定義。
C3 -C6 烯醇基基團係一元或多元不飽和的，且係如丙烯醇基、2-甲基丙烯醇基、丁烯醇基、戊烯醇基、1,3-戊二烯醇基、5-己烯醇基。
C3 -C10 環烷基羰基係相對於以上界定之環烷基，其中該基團係連接至一CO部份。舉例如環己基羰基、環戊基羰基、，以及也表示涵蓋橋接或融合環系 統，例如：等等。
經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基羰基係相對於以上界定之C3 -C10 環烷基羰基，其中該烷基之至少一CH2 -基 團係被O或NR14 所替換。例如： 等等。
C2 -C12 烷氧基羰基係直鏈或支鏈的，且係如甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正-丁氧基羰基、異-丁氧基羰基、1,1-二甲基丙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基、庚氧基羰基、辛氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基或十二烷氧基羰基，尤其是甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正-丁氧基羰基、異-丁氧基羰基，特別是甲氧基羰基。C2 -C6 烷氧基羰基及C2 -C4 烷氧基羰基係具有具有如同上述給予C2 -C12 烷氧基羰基多達相同數目碳原子之定義。
經一或多個-O-所中斷之C2 -C12 烷氧基羰基係直鏈或支鏈的。該原子之數目係從1至5，例如：1至4，1至3，1或2。二個氧原子係藉由至少二亞甲基基團而分隔開來，也就是伸乙基。
苯氧基羰基係，氧基羰基係相對於。
經取代之苯氧基羰基及氧基羰基基團係經1-4次的取代，如：1、2或3次，特別是2或3次。在該苯環上之取代基係較佳地於位置4或是以在該苯環上之3,4-、3,4,5-、 2,6-、2,4-或2,4,6-的構形，尤其是在4-或3,4-構形。
C3 -C10 環烷氧基羰基係相對於以上界定之環烷基，其中該”基”係連接至一-O(CO)-部份。舉例如：環己烷氧基羰 基、環戊烷氧基羰基、以及也表示 涵蓋經橋接或經融合之環系統，如：等等。
經O或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷氧基羰基係相對於以上界定之基團，其中該烷基上之至少一CH2 -基團係被O 或NR14 所置換。舉例如等等。
C1 -C6 伸烷基係直鏈型或支鏈型伸烷基，例如：亞甲基、伸乙基、伸丙基、1-甲基伸乙基、1,1-二甲基伸乙基、伸丁基、1-甲基伸丙基、2-甲基伸丙基、伸戊基或伸己基。
C2 -C6 伸烯基係單元或多元不飽和的，且係例如伸乙烯基、1-伸戊烯基、1-伸丁烯基、3-伸丁烯基、2-伸丁烯基、1,3-伸戊二烯基或5-伸已烯基。
鹵代基係氟、氯、溴及碘，尤其是氟、氯及溴，較佳是氟及氯。
雜芳基係例如C1 -C20 雜芳基，且在本發明文中之雜芳基係意指包括單環或多環系統，例如，一融合環系統，其中一或多個環可擇地經取代，尤其是經一或多個C1 -C20 烷基和/或C1 -C20 烷氧基取代。例如噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘並[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、二苯并呋喃基、色烯基、噸基、 噻噸基、啡噁噻基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、吲嗪基、異吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、異喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹喔啉基、喹唑啉基、噌啉基、蝶啶基、咔唑基、β-咔啉基、菲啶基、吖啶基、呸啶基、菲羅啉基、吩嗪基、異噻唑基、吩噻嗪基、異噁唑基、呋吖基、吩噁嗪基、7-菲基、蒽醌-2-基(=9,10-二側氧基-9,10-二氫蒽-2-基)、3-苯并[b]噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b]噻吩基、4-二苯并呋喃基、4,7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-噸基、8-甲基-2-噸基、3-噸基、2-吩噁噻基、2,7-吩噁噻基、2-吡咯基、3-吡咯基、5-甲基-3-吡咯基、2-咪唑基、4-咪唑基、5-咪唑基、2-甲基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、3-吡唑基、1-甲基-3-吡唑基、1-丙基-4-吡唑基、2-吡嗪基、5,6-二甲基-2-吡嗪基、2-吲嗪基、2-甲基-3-異吲哚基、2-甲基-1-異吲哚基、1-甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲哚基、1,5-二甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲唑基、2,7-二甲基-8-嘌呤基、2-甲氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-喹嗪基、3-異喹啉基、6-異喹啉基、7-異喹啉基、3-甲氧基-6-異喹啉基、2-喹啉基、6-喹啉基、7-喹啉基、2-甲氧基-3-喹啉基、2-甲氧基-6-喹啉基、6-酞嗪基、7-酞嗪基、1-甲氧基-6-酞嗪基、1,4-二甲氧基-6-酞嗪基、1,8-萘啶-2-基、2-喹喔啉基、6-喹喔啉基、2,3-二甲基-6-喹喔啉基、2,3-二甲氧基-6-喹喔啉基、2-喹唑啉基、7-喹唑啉基、2-二甲基胺基-6-喹唑啉基、3-噌啉基、 6-噌啉基、7-噌啉基、3-甲氧基-7-噌啉基、2-蝶啶基、6-蝶啶基、7-蝶啶基、6,7-二甲氧基-2-蝶啶基、2-咔唑基、3-咔唑基、9-甲基-2-咔唑基、9-甲基-3-咔唑基、β-咔啉-3-基、1-甲基-β-咔啉-3-基、1-甲基-β-咔啉-6-基、3-菲啶基、2-吖啶基、3-吖啶基、2-呸啶基、1-甲基-5-呸啶基、5-菲羅啉基、6-菲羅啉基、1-吩嗪基、2-吩嗪基、3-異噻唑基、4-異噻唑基、5-異噻唑基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、10-甲基-3-吩噻嗪基、3-異噁唑基、4-異噁唑基、5-異噁唑基、4-甲基-3-呋吖基、2-吩噁嗪基或10-甲基-2-吩噁嗪基。
C1 -C20 雜芳基-(CO)O係指如上述之基團，但額外連接有COO基團。
C1 -C20 雜芳基-S係指如上述之基團，但額外連接有S基團。
在本案內文中之「及/或」或是「或/及」用辭係意指表示不僅一個經界定之選擇物(取代基)可存在，亦可數個經界定之選擇物(取代基)一起存在，即是，不同選擇物(取代基)之混合物。
「至少」一辭係意指定義一或多於一，例如，一或二或三，較佳係一或二。
「選擇性取代」一辭係意指所述及之基團係未經取代的或係經取代的。
於整個說明書及其後之申請專利範圍中，除非此內容特別需要之外，該「包含」一辭，或其變化用辭，將被瞭解 為意含包含所述之整數或步驟或一組整數或步驟，但並不排除任何其它之整數或步驟或一組整數或步驟。
設若R2 、R'2 、R"2 或R'"2 與上有對應基群、(CO)R'2 或(CO)R"’2 所接 附之苯環或萘環之C-原子之一者形成一環，則會形成結構 例如 ，其中該些基團
R1 、R2 、R'"2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R'6 、R"6 、R7 、R'7 、R'"6 、R"7 、R'"7 、R8 、R'8 和R9 係如上定義。所形成之環係未經取代或經取代的。取代基係如上述於R9 中所定義之基群。尤其是，例如，C3 -C8 環烷基、C2 -C5 烯基、C1 -C20 烷氧基、C1 -C20 烷基、苯基、萘基、苄氧基或苯氧基。
設若如(CO)R’2 、SR10 、OR11 、SOR10 、SO2 R10 或NR12 R13 之R3 、R4 或R5 與該苯環上之其他取代基透過基群R10 、 R11 、R12 、R13 或R’2 形成一5-或6-員環，則會涵蓋下列種類之結構等等。
若在式II中之R”6 及R”7 一起為C1 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基，而和其所連接至之苯基一起形成一雙環環形，其 中該雙環係可擇性地經取代，且前提是該基團 係連接至任一環，則會定義出如下式之結構： 等等，其中該雙環環狀系 統可擇地具有如以上定義之其它取代基。
若在式III中之R”’6 及R”’7 一起為C1 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基，而和其所連接至之苯基一起形成一雙環環形，其中該雙環係可擇性地經取代，且前提是一或多個(CO)R”2 基團係連接至任一環，則會定義出如下式之結構： 等等，其中該雙環 環狀系統可擇地具有如以上定義之其它取代基。
若R10 係苯基或萘基，其與透過一直接鍵鍵結、C1 -C4 伸烷基、O、S、NR14 或CO接附有SR10 之苯環形成一5-員或6-員環，其中該苯基或萘基係未經取代的或係經取代 的，會定義出如下結構之示例化合物： 等等，其中該苯基或萘基係可擇地經 進一步的取代。
若R12 及R13 係各自獨立地為連接至NR12 R13 所連 接之苯環或萘環上的碳原子之一的C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，會定義出如下結構之示例化合物： 等等，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係可擇地經O或 NR14 所中斷：等等。
若R12 及R13 係各自獨立地為經由一直接鍵鍵結連接至NR12 R13 所連接之苯環的苯基，會定義出包含下列結 構之示例化合物：。
若R12 及R13 一起和其所連接至之氮原子形成一經O、N或NR14 可擇地中斷之5-員或6-員飽和或未飽和環，會形成飽和或未飽和環例如氮丙啶、吡咯、吡咯啶、咪唑、三唑、噁唑、吡啶、1,3-二氮唑、1,2-二氮唑、哌啶或嗎啉。
若R12 及R13 係和其所連接之氮原子一起形成一雜芳香環系統，該環系統係意指為包含多於一個的環，例如：二或三個環，以及一個或多於一個的雜原子，相同種類或不同的種類。適宜之雜原子係例如：N、S、O或P，特別是N、S或O。舉例如：咔唑、吲哚、異吲哚、吲唑、嘌呤、異喹啉、喹啉、咔啉、吩噻嗪等等。
若R16 及R17 係和其所連接之氮原子一起形成一5 員-或6員-飽和或不飽和環，其係可擇地經O、S或NR14 所中斷，則會形成飽和或不飽和環，例如：氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二氮唑、1,2-二氮唑、哌啶或嗎啉。
若R16 及R17 係各自獨立地為C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係連接至該NR16 R17 所連接之苯環或萘環的碳原子之一，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係可擇地被O或NR15 所中斷，且一苯環係可擇地縮合至該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，則意指為如下 種類之結構： 等等。
在式I及III之化合物中，該肟基團較佳地係放置在該氮原子之對位，即是在該咔唑環的位置3：
在式II之化合物中，該肟基團較佳係放置在該氮原 子之對位，即是該苯環之位置4：。
在式III之化合物中，該醯基團(CO)R”’2 較佳係放置 在該氮原子之對位，即是該苯環之位置4：。
令人關注的是式III之化合物，其中該肟基團及該醯基團(CO)R”’2 較佳係放置在該氮原子之對位：。
R1 係舉例如苯基、苯基-C1 -C4 烷基、C1 -C20 烷基，特別是被O或NR14 所中斷之C1 -C8 烷基或C2 -C20 烷基；或是R1 是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基。R1 較佳係C1 -C20 烷基或是可擇地被O所中斷之C3 -C10 環烷基。
R2 、R’2 、R”2 和R”’2 例如相互獨立的為可擇地含有一或多個C-C多重鍵之C1 -C20 烷基、為可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基(且其中該未經中斷或經中斷之C3 -C10 環烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵)、或為經鹵代基、OR11 、苯基、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、或取代之C1 -C20 烷基；或者R2 和R’2 係未經取代之苯基或萘基，尤其是苯基，或為經一或多個C1 -C12 烷基、苯基、鹵代基、SR10 、OR11 或NR12 R13 取代之苯基或萘基，尤其是苯基；其中亦有如上所提出之限制。
較佳地R2 、R’2 、R”2 和R”’2 係可擇地含有一或多個C-C多重鍵之C1 -C20 烷基；經鹵代基、OR11 、苯基、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、或取代之C1 -C20 烷基；或為未經取代之苯基或經一或多個C1 -C12 烷基、SR10 、OR11 或NR12 R13 取代之苯基，其中亦有如上所提出之限制。在所有實例中，R”2 另外係且在所有實例中，R”’2 另外係。
R3 、R4 及R5 係彼此獨立如氫、C1 -C20 烷基、、被O或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基、苯基-C1 -C4 烷基或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；苯基係未經取代的或是被一或多個SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或是R3 、R4 及R5 係(CO)R’2 、SR10 、OR11 、SOR10 、SO2 R10 或NR12 R13 ，較佳係R3 、R4 及R5 係彼此獨立如氫、C1 -C20 烷基、(CO)R’2 、SR10 、OR11 或NR12 R13 。
R6 、R’6 、R7 及R’7 係彼此獨立如氫或C1 -C20 烷基，特別是氫，且R8 係舉例如氫、C1 -C20 烷基或(CO)R’2 ，特別是氫或(CO)R’2 。
引人關注的是式II之化合物，其中R’8 係基團氫、C1 -C20 烷基或(CO)R’2 ，尤其是在該氮原子之對位置的 (CO)R’2 ，即是。
R”6 及R”7 係舉例如氫或C1 -C20 烷基，尤其是氫；或是在式II中之R”6 及R”7 係一起為C1 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基以和其所連接之苯基一起形成二環環形；但前提是基 團係連接至該二環其中之一環。
R’”6 及R”’7 係舉例如氫或C1 -C20 烷基，尤其是氫；或是在式III中之R”’6 及R”’7 係一起為C1 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基以和其所連接之苯基一起形成二環環形；但前提是一或多個基團(CO)R’”2 係連接至該二環其中之一環。
R9 係舉例如氫、C3 -C8 環烷基、未經取代之C1 -C20 烷基或是經由苯基或C1 -C20 烷基苯基所取代之C1 -C20 烷基；或是苯基或萘基，其係皆未經取代的或是經一或多個C1 -C6 烷基、鹵代基、CN、OR11 、SR10 及/或NR12 R13 所取代；尤其是R9 係C3 -C8 環烷基、C1 -C20 烷基或苯基，較佳係C1 -C20 烷基。
R10 係較佳為苯基，或是和該SR10 經由一直接鍵結、C1 -C4 伸烷基、O、S、NR14 或CO所連接至之苯環形成一5-或6-員環，尤其是經由CO，其中該苯基係未經取代的或是經一或多個C1 -C20 烷基所取代之苯基。
若R10 係和該SR10 經由一CO而連接至之苯環形成一5-或6-員環的苯環，則係形成一硫代呫噸基(thioxanthyl)。
R11 係舉例如C1 -C20 烷基、苯基-C1 -C4 烷基；經由一或多個O所中斷之C2 -C20 烷基；或是可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基；較佳係C1 -C20 烷基或可擇地經O中斷之C3 -C10 環烷基。
R12 及R13 係舉例如氫、C1 -C20 烷基、經由O或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基；或是可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基；或是R12 及R13 係苯基或萘基，尤其是苯基，其各係未經取代之苯基或是經一或多個(CO)R15 、NR16 R17 、SR10 、OR11 或C1 -C20 烷基所取代之苯基；或是R12 及R13 係各自獨立為連接至該NR12 R13 所連接至之苯環或萘環之一碳原子之C2 -C5 伸烷基，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係可擇地經O或NR14 所中斷；或R12 及R13 係各自獨立為經由一直接鍵結連接至該NR12 R13 所置放之苯環的苯基；或R12 及R13 和其所連接至之N-原子一起形成一經O、N或NR14 可擇地中斷之5-或6-員飽和或未飽和環，尤其是經O所中斷，且該環係未經取代的或係經一或多個C1 -C20 烷基、SR10 、OR11 、NR16 R17 或(CO)R15 所取代；或R12 及R13 和其所連接至之N-原子一起形成一雜芳香環 系統，該雜芳香環系統係未經取代的或係經一或多個C1 -C20 烷基、SR10 、OR11 、NR16 R17 或(CO)R15 所取代。
該未經取代的或經取代的雜芳香環系統較佳係未經取代的或經取代的咔唑或是未經取代的或經取代的吲哚。
R14 係舉例如氫或C1 -C20 烷基。
R15 係舉例如C1 -C20 烷基，經O或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基，或是苯基，或是經O可擇地中斷之C3 -C10 環烷基；尤其是C1 -C20 烷基。
R16 及R17 係各自獨立為氫、C1 -C20 烷基、C3 -C10 環烷基或苯基；或是R16 及R17 係和其所連接至之N-原子一起形成一經O、S或NR14 可擇地中斷之5-或6-員飽和或未飽和環；或是R16 及R17 係各自獨立為C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，其係連接至該NR16 R17 所連接之該苯基環或萘基環的碳原子之一，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係經O或NR14 可擇地中斷，及一苯環係可擇地縮合至該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基；較佳地，R16 及R17 係C1 -C20 烷基、或係連接至該NR16 R17 所連接之該苯基環或萘基環的碳原子之一的C2 -C5 伸烷基且一苯環係可擇地縮合至該C2 -C5 伸烷基。
R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 及R’20 係彼此獨立地具有指定於R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 及R’8 之意義中的一者；R”18 及R”19 係彼此獨立地具有指定於R”6 及R”7 之意義中的一者；R”’18 及R”’19 係彼此獨立地具有指定於R”’6 及R”’7 之意義中的一者。
R21 係COOR11 、CONR12 R13 、(CO)R9 ；或具有指定於R15 之意義中的一者；即意指其為COOR11 、CONR12 R13 、(CO)R9 、氫、OH、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基、可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基、或係苯基-C1 -C4 烷基、SR10 、OR11 或NR12 R13 ；或者係苯基或萘基，其之每一者可未經取代或經一或 多個SR10 、OR11 、NR12 R13 、、CN、NO2 、鹵 代基、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基或可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基所取代。
R21 尤其係(CO)R9 。較佳地，於此基群中之R9 係C1 -C20 烷基。
R22 係COOR11 、CONR12 R13 、(CO)R9 ；或具有指定於R12 和R13 之意義中的一者；即意指其為COOR11 、CONR12 R13 、(CO)R9 、氫、C1 -C20 烷基、經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基、C2 -C4 羥烷基、C1 -C12 烷氧基、苯基-C1 -C4 烷基、(CO)R15 、C2 -C10 烷氧基烷基、C3 -C5 烯基、或可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基；或者係苯基或萘基，其之每一者可未經取代或經一或多個鹵代基、C1 -C4 鹵烷基、C1 -C20 烷氧基、(CO)R15 、苯基、 NR16 R17 、SR10 、OR11 、、C1 -C20 烷基、經O、 CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基或可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基所取代；或者係接附至該NR12 R13 所接附之該苯環或萘環上C-原子之一者的該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基可擇地經O、CO或NR14 中斷；R22 尤其係C1 -C20 烷基或(CO)R9 。較佳地，於此基群中之R9 係C1 -C20 烷基。
X係O、S、SO或SO2 ；例如O或S，尤其係O。
R24 係例如氫、C1 -C20 烷基；C2 -C20 烯基；可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基；經一或多個鹵代基、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C5 -C20 雜芳基、C5 -C20 雜芳基 -(CO)O、C5 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、或苯基取 代之C1 -C20 烷基；或R24 係苯基、萘基、香豆素基或雜芳基，其之每一者可擇地經一或多個C1 -C12 烷基、苯基、鹵代基、C1 -C4 鹵烷基、CN、NO2 、SR10 、OR11 、NR12 R13 或可擇地經O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基所取代； 或者R24 與基團所接附之該苯環或萘 環上C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代或經取代的。
R23 之較佳者係根據所指定於R9 之定義中之一者。
在式I之化合物中，R3 、R4 或R5 之至少一者係非為氫或C1 -C20 烷基。
在式I之化合物中，若該苯環之對位位置上R3 、R4 或R5 之一者係SR10 ，該R10 則非為未經取代之苯基。
令人關注的是式I之化合物，其中，若R3 、R4 或R5 之一者係SR10 ，該R10 則非為未經取代之苯基。
另外令人關注的是式I之化合物，其中若該苯環之對位位置上R3 、R4 或R5 之一者係SR10 ，該R10 則非為苯基。
其它令人關注的式I之化合物係為此類，其中若R3 、R4 或R5 之一者係SR10 ，該R10 則非為苯基。
在式I之化合物，若該苯環之對位位置上R3 、R4 或R5 之一者係NR12 R13 ，該R12 及R13 則非同時為C1 -C20 烷基。
另外令人關注的是式I之化合物，其中若R3 、R4 或R5 之一者係NR12 R13 ，該R12 及R13 則非同時為C1 -C20 烷基。
在式I之化合物，若該苯環之對位位置上R3 、R4 或R5 之一者係NR12 R13 ，且該R12 及R13 和其所連接至之N-原子一起形成一環，該環則非為一嗎啉基環。
其它令人關注的是式I之化合物係為此類，其中若R3 、R4 或R5 之一者係NR12 R13 ，且該R12 及R13 和其所連接至之N-原子一起形成一環，該環則非為一嗎啉基環。
在式I之化合物，若R3 係氫，R4 係在該苯環之鄰位位置上的C1 -C20 烷基且R5 係在該苯環之對位位置上的OR11 ，該R11 則非為一經O所中斷之C3 -C10 環烷基。
亦令人關注的是式Ia之化合物，如下所述，其中若R3 係氫，R4 係在該苯環之鄰位位置上的C1 -C20 烷基且R5 係在該苯環之對位位置上的OR11 ，則R11 非為一經O所中斷之C3 -C10 環烷基。
令人關注的是式I、II和III之化合物，其中R 1 係C1 -C20 烷基；R 2 和R’ 2 相互獨立地為C1 -C20 烷基，該C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；或者R2 和R’2 係經一或多個COOR11 、C1 -C20 雜芳基-S或所取代之C1 -C20 烷基，或者R2 和R’2 係未經取代的苯基或C1 -C20 雜芳基；或者係經一或多個C1 -C12 烷基或SR10 所取代之苯基；或者R2 和R’2 係；或者R2 和R’2 與基群或(CO)R’2 所接附之該苯環或萘環上C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代或經取代的；R” 2 具有指定於R2 及R’2 之意義中的一者；R”’ 2 具有指定於R2 及R’2 之意義中的一者，或 係；R 3 、R 4 、和R 5 係各自獨立地為氫，或者R3 、R4 、和R5 係(CO)R’2 、或NR12 R13 ，R 6 、R 7 、R 8 、R’ 6 、R’ 7 、R’ 8 、R” 6 、R” 7 、R”’ 6 和R”’ 7 相互獨立地具有指定於R3 、R4 和R5 之意義中的一者；R 9 係C1 -C20 烷基；R 10 係C1 -C20 雜芳基；R 11 係C1 -C20 烷基；R 12 和R 13 一起與其等所接附之N-原子形成一雜芳香環系統；R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係氫，或者R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係未經取代或經一或多個C1 -C20 烷基所取代之苯基；R 21 係(CO)R9 ；R 22 係(CO)R9 ；X 係O；X 2 係一直接鍵結；m 係整數1；R 23 具有指定於R9 之意義中的一者；且R 24 係C1 -C20 烷基；包括上述所定義之限制條件(a)-(e)。 較佳者係提供式I、II和III之化合物，其中R 1 係C1 -C20 烷基或可擇地經O中斷之C3 -C10 環烷基；R 2 和R’ 2 相互獨立地為C1 -C20 烷基，其中C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵且其中C1 -C20 烷基可擇地經一或多個NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、取代，或者R2 和R’2 係NR12 R13 或；或者R2 和R’2 與基群或(CO)R’2 所接附之該苯環或萘環上C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代或經取代的；或者R2 和R’2 係未經取代的苯基或C1 -C20 雜芳基，或者係經C1 -C12 烷基、OR11 和/或NR12 R13 取代之苯基或C1 -C20 雜芳基；R” 2 具有指定於R2 和R’2 之意義中的一者；R”’ 2 具有指定於R2 和R’2 之意義中的一者或者係；R 3 、R 4 、和R 5 各自獨立地為氫、C1 -C20 烷基，或者R3 、R4 、和R5 係(CO)R’2 、SR10 、OR11 或NR12 R13 ；R 6 、R 7 、R 8 、R’ 6 、R’ 7 、R’ 8 、R” 6 、R” 7 、R”’ 6 和R”’ 7 各自獨立地具有指定於R3 、R4 和R5 之意義中的一者；R 9 係C1 -C20 烷基；R 10 係苯基，其與SR10 透過CO所接附之該苯環形成一5-或6-員環，其中該苯基係未經取代或經一或多個C1 -C20 烷基所取代；R 11 係C1 -C20 烷基或可擇地經O中斷之C3 -C10 環烷基；R 12 和R 13 各自獨立地為C1 -C20 烷基、(CO)R15 或為未經取代或經NR16 R17 取代之苯基，或者R12 和R13 係各自獨立為或皆為接附至該NR12 R13 所接附之該苯環上C-原子之一者的C2 -C5 伸烷基；或R12 及R13 係彼此獨立為苯基，該苯基係經由一直接鍵結連接至有該NR12 R13 被置放於其上之苯基上；或是R12 及R13 和其所連接至之N-原子一起形成一經O或N可擇地中斷之5-或6-員飽和或未飽和環；或者R12 及R13 和其所連接至之N-原子一起形成一雜芳香環系統，該雜芳香環系統係未經取代的或係經一或多個C1 -C20 烷基或OR11 取代；R 15 係C1 -C20 烷基；R 16 和R 17 係彼此獨立為C1 -C20 烷基；或是R16 及R17 係彼此獨立為C2 -C5 伸烷基，其係連接至該NR16 R17 所連接之該苯環的碳原子之一者，且一苯環係可擇地縮合至該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基；R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係彼此獨立地具有指定於R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 和R’8 之意義中的一者；R” 18 和R” 19 係彼此獨立地具有指定於R”6 和R”7 之意義中的一者；R’” 18 和R’” 19 係彼此獨立地具有指定於R'''6 和R'''7 之意義中的一者；且m 、R 21 、R 22 、R 23 和R 24 係如申請專利範圍第1項中所定義；前提是(a’)至少R2 、R'2 、R"2 和R'"2 中之一者係NR 12 R 13 或，或者(b’)至少R2 、R'2 、R"2 和R'"2 中之一者與對應基群、、CO)R'2 或(CO)R"’2 所接附之該苯環或萘環上C-原子之一者形成一環 ；或者(c’)至少R2 、R'2 、R"2 和R'"2 中之一者含有一或多個C-C多重鍵 ；或者(d’)至少R2 、R'2 、R"2 和R'"2 中之一者係經一或多個C 1 -C 20 雜芳基、C 1 -C 20 雜芳基-(CO)O、C 1 -C 20 雜芳基-S 或取代之C1 -C20 烷基；或者(e’)R"’2 係一未經取代或經取代 之C1 -C20 雜芳基。
透過結合有下面表格中之取代基來展示較佳結構的特定範例。
在此之前以及本文中所指之式I、II和III化合物之較佳例，並非意圖限定化合物於該些種類，而是包括有申請專利範圍中所請之所有種類。如此說法亦推及到包括有式I、II和III化合物之組成物、包括該化合物之光起始劑混合物，以及應用該化合物之用途或方法請求項。
式I、II及III之肟酯係藉由內文所述之方法而製備，例如，藉由使相對應之肟與一醯基鹵化物，尤其是一氯化物，或是與一酐在一如第三丁基甲醚、四氫呋喃(THF)或是二甲基甲醯胺之惰性溶劑中且在鹼，例如三乙基胺或是吡啶，存在下反應，或是在一鹼性溶劑，例如吡啶，中反應。舉例如：
R1 、R2 、R’2 、R”2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R’6 、R”6 、R’”6 、R7 、R’7 、R”7 、R’”7 、R8 、R’8 及R9 係如上所界定，Hal表示一鹵原子，尤其是氯。
R9 較佳係甲基。
如此之反應係本發明所屬技術領域中具有通常知識者所熟知的，且係通常在-15至+50℃的溫度下實行，較佳係0至25℃。
因此本發明之主題係一製備式I、II或III之化合物的方法，藉由使一式Ia、IIa或IIIa之化合物
其中R1 、R2 、R’2 、R”2 、R”’2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R’6 、R”6 、R”’6 、R7 、R’7 、R”7 、R”’7 、R8 及R’8 係如上所界定；包括所提出之限制條件(a)-(e)，和具式V或VI之一醯基鹵化物或一酐反應
其中Hal表示一鹵原子且R9 係如上所界定，在一鹼或鹼混合物存在下。
該等所需作為起始物質之肟可藉由各種在一般化學教科書中所敘述之方法製得(例如：J.March，Advanced Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience出版，1992)或是在專科的專題論文中，例如：S.R.Sandler & W.Karo的Organic functional group preparations，第3冊，Academic Press出版。
最方便的方法之一係，例如，將醛或酮類和羥胺或其鹽類在如二甲基乙醯胺(DMA)、水性DMA、乙醇或水性乙醇等等之極性溶劑中反應。在這些實例中，添加如醋酸鈉或吡啶之鹼以控制該反應混合物的pH值。已知的是，該反應之速率係pH-取決的，且該鹼可在反應開始或在反應期 間持續地添加。如吡啶之鹼性溶劑也可使用為鹼及/或溶劑或共溶劑。該反應溫度係通常自室溫至該混合物的逆流溫度，通常是約20-120℃。
該等所對應之酮類中間產物係例如透過文獻，例如WO2005-080337A1或JP2005-54012-A，中所述之方法來製備。該些反應係所屬技術領域中具有通常知識者所熟知的。
另一方便的肟合成法係將「活性」之亞甲基基團和亞硝酸或一烷基亞硝酸鹽進行亞硝化作用。鹼性的條件，舉例如同Organic Syntheses coll.第VI冊第199及840頁所敘述(J.Wiley & Sons,New York,1988)，以及酸性的條件，舉例如同Organic Syntheses coll.第V冊第32及373頁、第III冊第191及513頁、第II冊第202、204及363頁所敘述，二者皆適用於製備該等在本發明中使用為起始物質的肟。亞硝酸通常係產生自亞硝酸鈉。烷基亞硝酸鹽可為例如甲基亞硝酸鹽、乙基亞硝酸鹽、異丙基亞硝酸鹽、丁基亞硝酸鹽或異戊基亞硝酸鹽。
各肟酯基團可以二種構形，(Z)或(E)，存在。其係可能利用習知之方法來分離該等異構物，但其也可能使用該類異構物混合物作為光起始劑物種。因此，本發明也係關於式I、II或III之化合物之構形異構物的混合物。
本發明之另一主題係式Ia、IIa或IIIa之化合物，
其中R1 、R2 、R’2 、R”2 、R”’2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R’6 、R”6 、R”’6 、R7 、R’7 、R”7 、R”’7 、R8 及R’8 係如上所定義；包括所提出之限制條件(a)-(e)。
因此本發明之另一主題係一可光聚合之組成物，其包含(a)至少一烯族不飽和之可光聚合化合物；及(b)作為光起始劑，至少一如上定義之式I、II或III之化合物。
該組成物除了該光起始劑(b)之外可包含至少一另外的光起始劑(c)及/或其它添加劑(d)。
該等不飽和化合物(a)可包括一或多個烯烴雙鍵。其可為低(單體的)或高(寡聚物的)分子量。含有一雙鍵之單體的範例係烷基、羥烷基、環烷基(其係經O可擇地中斷)或胺基之丙烯酸酯，或是烷基、羥烷基、環烷基(其係經O可擇地中斷)或胺基之甲基丙烯酸酯，例如：甲基、乙基、丁基、 2-乙基己基或2-羥乙基丙烯酸酯、四氫呋喃甲基丙烯酸酯、丙烯酸異莰酯(丙烯酸異冰片酯)、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸環己酯或甲基丙烯酸乙酯。丙烯酸矽氧烷酯也是較佳的。其它範例係丙烯腈、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-取代(甲基)丙烯醯胺、如乙酸乙烯基酯的乙烯基酯類、如異丁基乙烯醚之乙烯醚類、苯乙烯、烷基-及鹵-苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮、氯化乙烯或氯化伸乙烯。
含有二或多個雙鍵之單體的範例係乙二醇、丙二醇、戊二醇、1,6-己二醇之二丙烯酸酯或雙酚A之二丙烯酸酯，以及4,4'-雙(2-丙烯醯氧基乙氧基)二苯基丙烷三丙烯酸酯、三丙烯酸三羥甲基丙酯、三丙烯酸新戊四酯或四丙烯酸新戊四酯、丙烯酸乙烯酯、二乙烯苯、琥珀酸二乙烯酯、苯二甲酸二烯丙基酯、三烯丙基磷酸酯、異三聚氰酸三烯丙基酯或三(2-丙烯醯乙基)異三聚氰酸酯。
具相對高分子量(寡聚物)之多元不飽和化合物的範例係丙烯酸酯化環氧樹脂、含有丙烯酸酯-、乙烯醚-或環氧化物-基團之聚酯，亦可為聚氨酯及聚醚。不飽和寡聚物之另外的範例係不飽和聚酯樹脂，其係常由順丁烯二酸、鄰苯二甲酸及一或多個二醇製備而成且係具有自約500至3000之分子量。此外，其也可能應用乙烯醚單體及寡聚物且也可能應用具有聚酯、聚氨酯、聚醚、聚乙烯醚及環氧主鏈的順丁烯二酸酯結尾的寡聚物。特別適用者係帶有乙烯醚基團之寡聚物的組合以及在WO 90/01512中所述之聚合物的組合。然而，乙烯醚及順丁烯二酸-官能基化之單體的共 聚物也係適用的。此類不飽和寡聚物也可被稱為預聚合物。
特別適用之範例係烯族不飽和羧酸及多元醇或聚環氧化物之酯類，以及在該鏈或在側基中具烯族不飽和基團之聚合物，例如：不飽和聚酯、聚醯胺及聚氨酯及其等之共聚物，含有之甲基丙烯酸基團在其側鏈之聚合物及共聚物，以及此類一種或多種聚合物之混合物。
不飽和羧酸的範例係丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、伊康酸、肉桂酸以及不飽和脂肪酸，例如：亞麻油酸或油酸。較佳係丙烯酸及甲基丙烯酸。
適用之多元醇係芳香族的，且特別地，為脂肪族及環脂族的多元醇。芳香族多元醇舉例如：氫醌(對苯二酚)、4,4’-二羥基聯苯、2,2-二(4-羥苯基)丙烷，且也是熱塑性酚醛清漆及甲階熱固性酚醛清漆。聚環氧化物之範例如那些以上述多元醇為基礎，特別是該等芳香族多元醇，以及表氯醇。其它適用之多元醇係含有羥基基團於該聚合物鏈或於側基中之聚合物及共聚物，例如：聚乙烯醇及其共聚物或是甲基丙烯酸多羥烷基酯或其共聚物。另外適用的多元醇係具有尾端羥基基團的寡酯類。
脂肪族及環脂族多元醇的範例係具有較佳2至12個碳原子之伸烷基二醇，例如：乙二醇、1,2-或1,3-丙二醇、1,2-、1,3-或1,4-丁二醇、戊二醇、己二醇、辛二醇、十二烷二醇、二伸乙甘醇、三伸乙甘醇、具有分子量較佳為自200至1500之聚乙二醇、1,3-環戊二醇、1,2-、1,3-或1,4-環己二醇、1,4-二羥甲基環己烷、甘油、三(β-羥乙基)胺、 三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、新戊四醇、二新戊四醇及山梨醇。
該等多元醇可為部份地或完全地被一羧酸或不同之不飽和羧酸酯化，且在部份的酯類中該閒置的羥基團可經改質的，例如：以其它羧酸醚化或酯化。
酯類之範例係如：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，三羥甲基乙烷三丙烯酸酯，三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯，伸丁二醇二甲基丙烯酸酯，三伸乙甘醇二甲基丙烯酸酯，四伸乙甘醇二丙烯酸酯，二丙烯酸新戊四酯，三丙烯酸新戊四酯，四丙烯酸新戊四酯，二丙烯酸二新戊四酯，三丙烯酸二新戊四酯，四丙烯酸二新戊四酯，五丙烯酸二新戊四酯，六丙烯酸二新戊四酯，八丙烯酸三新戊四酯，二甲基丙烯酸新戊四酯，三甲基丙烯酸新戊四酯，二甲基丙烯酸二新戊四酯，四甲基丙烯酸二新戊四酯，八甲基丙烯酸三新戊四酯，二分解烏頭酸新戊四酯，三分解烏頭酸二新戊四酯，五分解烏頭酸二新戊四酯，六分解烏頭酸二新戊四酯，乙二醇二丙烯酸酯，1,3-丁二醇丙烯酸酯，1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯，1,4-丁二醇二分解烏頭酸酯，山梨醇三丙烯酸酯，山梨醇四丙烯酸酯，改質-三丙烯酸新戊四酯，山梨醇四甲基丙烯酸酯，山梨醇五丙烯酸酯，山梨醇六丙烯酸酯，丙烯酸寡酯及甲基丙烯酸寡酯，甘油二丙烯酸酯及甘油三丙烯酸酯，1,4-環己烷二丙烯酸酯，具有分子量為自200至1500之聚乙二醇的雙丙烯酸酯及雙甲 基丙烯酸酯，或其等之混合物。
也適用為成份(a)的係相同或不同之胺基化合物，具芳香環之不飽和羥酸，具有較佳2至6，尤其是2至4，個胺基團之環脂族或脂肪族。此類之聚胺係舉例如乙二胺，1,2-或1,3-丙二胺，1,2-、1,3-或1,4-丁二胺，1,5-戊二胺，1,6-己二胺，辛二胺，十二烯二胺，1,4-二胺環己烷，異佛酮二胺，苯二胺，雙苯二胺，二--胺乙基酯，二乙三胺，三乙四胺，二(-胺乙氧基)-或二(-胺丙氧基)乙烷。其它適用之聚胺係聚合物或共聚物，較佳係在其側鏈具有額外之胺基，以及具有胺尾端基團之寡胺。此類不飽和胺基化合物係舉例如亞甲雙丙烯醯胺，1,6-六亞甲雙丙烯醯胺，二乙三胺三甲基丙烯醯胺，雙(甲基丙烯醯胺丙氧基)乙烷，-甲基丙烯酸甲基丙烯醯胺乙酯及N[(-羥乙氧基)乙基]丙烯醯胺。
適用之不飽和聚酯及聚胺基化合物係衍生自如順丁烯二酸及自二醇或二胺。某些順丁烯二酸可被其它二羧酸所置換。其可和烯族不飽和共單體一起使用，例如：苯乙烯。該等聚酯及聚胺基化合物也可衍生自二羧酸及自烯族不飽和二醇或二胺，尤其是那些具有相對長鏈，例如：6至20個碳原子。聚胺酯之範例係那些由飽和或不飽和二異氰酸酯各別和不飽和或飽和二醇所組成的。
同樣地可得知具有(甲基)丙烯酸基團於其側鏈之聚合物。其可為，例如，以熱塑性酚醛清漆為主之環氧樹脂和(甲基)丙烯酸之反應產物，或是乙烯醇或其羥(甲基)丙烯 酸所酯化之羥烷基衍生物的同-或共聚物，或是經羥烷基(甲基)丙烯酸酯所酯化之(甲基)丙烯酸酯的同-或共聚物。
其它適用之具有丙烯酸或甲基丙烯酸基團於其側鏈之聚合物係舉例如溶劑可溶性或鹼可溶性之聚醯亞胺前質，例如：聚(醯胺基酸酯)化合物，其具有在該分子中連接於該主鏈或於該酯基團之可光聚合的側基團，即是依據EP 624826。此類寡聚物或聚合物可和新光起始劑及可擇地與反應性稀釋劑，例如：多功性(甲基)丙烯酸酯，經配製以製備高感性聚醯亞胺前質阻劑。
該等可光聚合之化合物可被單獨地使用或被使用於任何所欲之混合物中。其較佳係使用多元醇(甲基)丙烯酸酯混合物。
成份(a)之範例也是在該分子結構中具有至少二烯族不飽和基團及至少一羧基功能之聚合物或寡聚物，例如：一藉由飽和或不飽和多元酸酐和一環氧化物化合物及一不飽和單羧酸之反應產物之反應所獲得之樹脂，例如：在JP 6-1638及JP 10301276中所述之光敏性化合物以及市售產品，如：UCB Chemicals之EB9696；NIppon Kayaku Co.,LTD.之KAYARAD TCR1025；或是一附加產物形成在一含羧基基團樹脂及一具有一α,β-不飽和雙鍵以及一環氧基團之不飽和化合物(例如：Daicel Industries,Ltd.之ACA200M)。
當作稀釋劑，一單-或多-功能烯族不飽和化合物，或數種該化合物的混合物，可被包含在上述組成物中多達該 組成物固體部份之70%重量百分比。
本發明之主題亦為如上所述之光可聚合的組成物，其中該成份(a)係一藉由飽和或不飽和多元酸酐和一環氧樹脂及一不飽和單羧酸之反應產物之反應所獲得之樹脂。
此等成份係如JP06-1938、JP08-278629、JP08-278630、JP10-301276、JP2001-40022、JP10-221843、JP11-231523、JP2002-206014-A或JP2006-53569-A中所述，其等之揭示係因此併入此中當作參考。
該等不飽和化合物(a)也可被使用為一具有非可光聚合、薄膜形成之成分的混合物。這些係例如物理性乾燥之聚合物或其於有機溶劑中之溶液，例如：硝化纖維或醋酸丁酯纖維素。然而，其也可為化學性及/或可熱固化之樹脂，舉例如：聚異氰酸酯、聚環氧化物及三聚氫胺樹脂，以及聚醯亞胺前質。在同一時間使用可熱固性樹脂對於已知為雜合系統之系統的使用上係重要的，該系統之第一階段係光聚合反應而第二階段利用熱後處理作交聯。
本發明也提供包含至少一烯族不飽和可光聚合之化合物作為成份(a)之組成物，該化合物係乳化或溶解在水中。
許多此類可輻射固化之水性預聚合物分散液之變體係市面上可得的。一預聚合物分散液係了解為一水的分散液且至少一預聚合物分散於其中。在這些系統中水的濃度係舉例為自5%至80%重量百分比，特別係自30至60%重量百分比。可輻射固化預聚合物或預聚合物混合物的濃度係舉例為自95%至20%重量百分比，特別係自70%至40%重 量百分比。在這些組成物中，各實例中水及預聚合物之百分比總和是100，包含依照預期之用途而添加之不同量的輔助物及添加劑。
該分散於水中且通常也溶解在水中之可輻射固化、薄膜形成預聚合物係單-或多-功能、烯族不飽和預聚合物的水性預聚合物分散液，該單-或多-功能、烯族不飽和預聚合物其自身被認知為可被自由基所激發且舉例如具有每100g預聚合物即有自0.01至1.0 mol之可聚合雙鍵的成份以及舉例有至少400，尤其是500至10000，的平均分子量。然而，具較高分子量之預聚合物也可依照預期之應用而被考慮。例如，用途係利用含有可聚合之C-C雙鍵且具有不超過10之酸數目的聚酯，利用含有可聚合之C-C雙鍵的聚醚，利用每分子含有至少二環氧化物基團之聚環氧化物和至少一α,-烯族不飽和羧酸的含羥基反應產品，利用(甲基)丙烯酸聚胺酯，以及利用含有α,-烯族不飽和丙烯酸基之丙烯酸共聚物，如同EP 12339中所描述。這些共聚物之混合物也同樣地可被使用。EP 33896中所述的可聚合預聚合物也係適用的，其係可聚合預聚合物之硫醚加合物，其係具有一平均分子量為至少600，自0.2%至15%之羧基成份及每100g預聚合物有自0.01至0.8 mol之可聚合C-C雙鍵的成份。其它適用之水性分散液，以特定之烷基(甲基)丙烯酸酯聚合物為主，係在EP 41125中敘述，且丙烯酸氨基甲酸乙酯之適用之水可分散、可輻射固化之預聚合物則可在DE 2936039中發現。
可被包含在這些可輻射固化之水性預聚合物分散液中之另外的添加物係分散液輔助劑、乳化劑、抗氧化劑，如：2,2-硫雙(4-甲基-6-第三丁苯酚)或是2,6-二-第三丁苯酚，光穩定劑，染料，色素，填充料，如：玻璃或氧化鋁，舉例如：滑石、石膏、矽酸、金紅石、炭黑、氧化鋅、氧化鐵，反應加速劑，均化劑，潤滑劑，溼潤劑，增稠劑，消光劑，消泡劑及其它在塗料技術中慣用之輔助劑。適用之分散輔助劑係具高分子質量且含有極性基團之水溶性有機化合物，舉例如：聚乙烯醇、聚乙烯吡咯啶酮或纖維素醚類。可使用之乳化劑係非離子性乳化劑且若係所欲的的話，也係離子性乳化劑。
在特定之實例中，使用二種或多種以上之新穎光起始劑的混合物可能是有利的。當然也可能使用具有已知光起始劑(c)的混合物，例如：混合物具有樟腦喹；二苯甲酮、二苯甲酮衍生物，如2,4,6-三甲基二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-甲氧羰基二苯甲酮、4,4’-雙(氯甲基)二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、3,3’-二甲基-4-甲氧-二苯甲酮、[4(4-甲基苯基硫)苯基]-苯基甲酮、甲基-2-苯甲醯基苯甲酸酯、3-甲基-4’-苯基二苯甲酮、2,4,6-三甲基-4’-苯基二苯甲酮、4,4’-雙(二甲基胺)二苯甲酮、4,4’-雙(二乙基胺)二苯甲酮；縮酮化合物，例如：聯苯醯二甲基縮酮(IRGACURE® 651)；苯乙酮，苯乙酮衍生物，例如：α-羥環烷基苯基酮，例如：2-羥-2-甲基-1-苯基-丙酮(DAROCUR® 1173)、1-羥-環己基-苯基- 酮(IRGACURE® 184)；1-[4-(2羥乙氧基)-苯基]-2-羥-2-甲基-1-丙-1-酮(IRGACURE® 2959)；2-羥1-{4-[4-(2-羥-2-甲基-丙醯基)-苯甲基]-苯基}-2-甲基-丙-1-酮(IRGACURE®127)；2-羥-1-{4-[4-(2-羥-2-甲基-丙醯基)-苯氧基]-苯基}-2-甲基-丙-1-酮；二烷氧基苯乙酮，α-羥基-或α-胺基苯乙酮，例如：(4-甲硫苯甲醯基)-1-甲基-1-嗎啉乙烷(IRGACURE® 907)、(4-嗎啉苯甲醯基)-1-苯甲基-1-二甲基胺丙烷(IRGACURE® 369)、(4-嗎啉苯甲醯基)-1-(4-甲基苯甲基)1-二甲基胺丙烷(IRGACURE® 379)、(4-(2-羥乙基)胺苯甲醯基)-1-苯甲基-1-二甲基胺基丙烷)、2-苯甲基-2-二甲基胺-1-(3,4-二甲氧基苯基)丁-1-酮；4-芳醯基-1,3-二氧戊烷，安息香烷基醚及聯苯醯縮酮，苯基乙醛酸酯及其衍生物，例如：氧雜-苯基-乙酸-2-(2-羥-乙氧)-乙酯、二聚苯基乙醛酸酯，例如：氧雜-苯基-乙酸-1-甲基-2-[2-(2-氧雜-2-苯基-乙醯氧基)-丙氧基]-乙基酯(IRGACURE® 754)；另外的肟酯，例如：1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫)苯基]2-(O-苯甲醯基肟)(IRGACURE® OXE01)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯肟)(IRGACURE® OXE02)、9H-硫代噸-2-甲醯醛-9-氧雜-2-(O-乙醯肟)、2005年12月1日提申之歐洲第05111539.2號專利申請案中所述之肟酯、過酸酯，例如：EP126541中所舉例之二苯甲酮四羧酸過酸酯、單醯膦氧化物，例如：(2,4,6-三甲基苯甲醯基)二苯基膦氧化物(DAROCUR® TPO)、二醯膦氧化物，例如：雙(2,6- 二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基-戊基)膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物(IRGACURE® 819)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基膦氧化物、三醯膦氧化物、鹵甲基三氮唑，例如：2-[2-(4-甲氧-苯基)-乙烯基]-4,6-雙-三氯甲基-[1,3,5]三氮唑、2-(4-甲氧-苯基)-4,6-雙-三氯甲基-[1,3,5]三氮唑、2-(3,4-二甲氧基-苯基)-4,6-雙-三氯甲基-[1,3,5]三氮唑、2甲基-4,6-雙-三氯甲基-[1,3,5]三氮唑、六醯雙咪唑/共起始劑系統，例如：與2-巰基苯并噻唑混合之鄰-氯六苯基-雙咪唑、及4,4’-雙(二乙基胺基)二苯甲酮二茂鐵化合物、或二茂鈦，例如，雙(環戊二烯基)-雙(2,6-二氟-3-吡咯基-苯基)鈦(IRGACURE®784)。此外，硼酸鹽化合物也可被使用為共起始劑。
該等新穎之光起始劑系統係應用於雜合系統，用途除了新穎之自由基硬化劑之外，用途可為陽離子光起始劑；過氧化物化合物，如：苯甲醯基過氧化物(其它適用之過氧化物係在US第4950581號專利中第19欄第17-25行所述)；在US4950581第18欄第60行至第19欄第10行中所例示之芳香族之锍-、鏻-或碘鎓鹽或是環戊二烯基-芳烴-鐵(II)錯合物鹽，例如：(η6 -異丙基苯)(η5 -環戊二烯基)鐵(II)六氟磷酸鹽，以及EP780729中所例示之肟磺酸酯。並且，如EP497531及EP 441232所述之吡啶鹽及(異)喹啉鹽可和新穎光起始劑合併使用。
該等新穎光起始劑，不論是單獨或是和其它已知之光 起始劑及敏化劑形成混合物，也可被使用為於水中或是於水性溶液中之一分散液或乳狀液的形式。
引人關注的是除了式I、II或III之化合物之外，還有至少一α-胺酮的組成物，尤其是(4-甲基硫苯甲醯基)-1-甲基-1-嗎啉基乙烷或(4-嗎啉基苯甲醯基)-1-(4-甲基苯甲基)-1-二甲基胺丙烷。
該等可光聚合之組成物以該固體組成物為基礎，一般係包含0.05至25%重量百分比，較佳係0.01至10%重量百分比，尤其是0.01至5%重量百分比，之光起始劑。如果應用的是起始劑的混合物，該總量則係關於所有添加之光起始劑的總和。因此，該總量係關於該光起始劑(b)或光起始劑(b)+(c)。
除了該光起始劑之外，該可光聚合之混合物可包括不同的添加劑(d)。這些之範例係熱抗化劑，其係用於避免過早的聚合反應，舉例如：氫醌，氫醌衍生物，p-甲氧基酚，-萘酚或空間位阻酚，例如：2,6-二-第三丁基-p-甲酚。為了增加在黑暗中儲存之安定性，其係可能使用如銅化合物，例如：銅之環烷酸鹽，硬脂酸鹽或辛酸鹽；磷化合物，例如：三苯基膦、三丁基膦、三乙基亞磷酸鹽、三苯基亞磷酸鹽或三苯甲基亞磷酸鹽；四級銨化合物，例如：氯化四甲基銨或氯三甲基苯甲基銨；或羥基胺衍生物，例如：N-二乙基羥基胺。為了在聚合反應期間排除大氣中的氧氣，其係可能添加石蠟或相似的類蠟狀物質，其在該聚合物中具不充分可溶性的，且其在聚合反應之初始移動至該 表面且形成避免空氣進入之一透明表面層。其也係可能施用一不透氧層於該塗層之表面，例如：聚(乙烯醇-共-乙酸乙烯酯)。可被少量添加之光穩定劑係UV吸收劑，例如：那些具羥苯基苯并三唑，羥苯基-二苯甲酮，草醯胺或羥苯基-s-三氮唑型式之化合物。這些化合物可被單獨地使用或混合地使用，具有或不具有空間位阻的胺類(HALS)。
此類UV吸收劑及光穩定劑之範例係：1. 2-(2'-羥苯基)苯并三唑 舉例如：2-(2'-羥-5'-甲基苯基)苯并三唑，2-(3',5'-二-第三-丁基-2'-羥苯基)苯并三唑，2-(5'-第三-丁基-2'-羥苯基)苯并三唑，2-(2'-羥-5'-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯基)苯并三唑，2-(3',5'-二-第三-丁基-2'-羥苯基)-5-氯苯并三唑，2-(3'-第三-丁基-2'-羥-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑，2-(3'-第二-丁基-5'-第三-丁基-2'-羥苯基)苯并三唑，2-(2'羥-4'-辛氧基苯基)苯并三唑，2-(3',5'-二-第三-戊烷基-2'-羥苯基)苯并三唑，2-(3',5'-雙-(α,α-二甲基苯甲基)-2'-羥苯基)-苯并三唑，2-(3’-第三-丁基2'-羥-5’-(2-辛基氧羰乙基)苯基)-5-氯苯并三唑，2-(3’-第三-丁基-5’-[2-(2-乙基-己基-氧)羰乙基]-2'-羥苯基)-5-氯苯并三唑，2-(3’-第三-丁基-2'-羥-5’-(2-甲氧羰乙基)苯基)-5-氯苯并三唑，2-(3’-第三-丁基-2'-羥5’-(2-甲氧羰乙基)苯基)-苯并三唑，2-(3’-第三-丁基-2'-羥-5’-(2-辛基氧羰乙基)苯基)苯并三唑，2-(3’-第三-丁基-5’-[2-(2-乙基己氧基)羰乙基]-2'羥苯基)苯并三唑，2-(3’-十二基-2'-羥-5’-甲基苯基)苯并三唑以及2(3’-第三-丁基-2’-羥-5’-(2-異辛氧羧基乙基)苯基苯并三唑的混合 物，2,2’-亞甲基雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-苯并三唑-2-基-酚]；2[3’-第三-丁基-5’-(2-甲氧羰乙基)-2’-羥-苯基]-苯并三唑和聚乙烯醇300之轉酯化產物；[R-CH2 CH2 -COO(CH2 )3 ]2 -其中R=3’-第三-丁基-4’-羥-5’-2H-苯并三唑-2-基-苯基。
2. 2-羥二苯甲酮 ，舉例如：4-羥-，4-甲氧-，4-辛氧-，4-十烷氧基-，4-十二烷氧基-，4-苯甲氧基-，4,2',4'-三羥-及2'-羥-4,4'-二甲氧基之衍生物。
3.經取代之或未經取代之苯甲酸酯 ，舉例如：4-第三-丁基苯基水楊酸酯，苯基水楊酸酯，辛基苯基水楊酸酯，二苯甲醯基間苯二酚，雙(4-第三-丁基苯甲醯基)間苯二酚，苯甲醯基間苯二酚，2,4-二-第三-丁基苯基，3,5-二-第三-丁基-4-羥苯甲酸酯，十六基-3,5-二-第三-丁基-4-羥苯甲酸酯，十八基-3,5-二-第三-丁基-4-羥苯甲酸酯以及2-甲基-4,6-二-第三-丁基苯基3,5-二-第三-丁基-4-羥苯甲酸酯。
4.丙烯酸酯 ，舉例如：異辛基或乙基α-氰-,-二苯基丙烯酸酯，甲基α-甲氧羰基桂皮酸酯，丁基或甲基α-cy氰--甲基-p-甲氧基桂皮酸酯，甲基α-羰基甲氧基-p-甲氧基桂皮酸酯及N-(-碳甲氧基--氰乙烯)-2-甲基吲哚啉。
5.空間位阻胺 ，舉例如：雙(2,2,6,6-四甲基哌啶基)癸二酸酯，雙(2,2,6,6-四甲基哌啶基)琥珀酸酯，雙(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)癸二酸酯，雙(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)n-丁基-3,5-二-第三-丁基-4-羥苯甲基丙二酸酯，1-羥乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羥哌啶及琥珀酸之縮合產物，N,N'-雙 -(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)六亞甲基二胺之縮合產物及4-第三-辛基胺基-2,6-二氯-1,3,5-s-三氮唑，三-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)偶氮三醋酸酯，四-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷四酯，1,1'-(1,2-乙烷雙基)-雙(3,3,5,5-四甲基-哌嗪酮)，4-苯甲醯基-2,2,6,6-四甲基哌啶，4-硬脂酸氧-2,2,6,6-四甲基哌啶，雙-(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)2-n-丁基-2-(2-羥基-3,5-二-第三-丁基苯甲基)丙二酸酯，3-n-辛基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮雜螺旋-[4.5]癸烷2,4-二酮，雙-(1-辛基氧-2,2,6,6-四甲基哌啶基)癸二酸酯，雙-(1-辛基氧-2,2,6,6四甲基哌啶基)琥珀酸酯，N,N’-雙-(2,2,6,6-四甲基-4哌啶基)六甲基六亞甲二胺及4-嗎啉-2,6-二氯-1,3,5-三氮唑之縮合產物，2-氯-4,6-二-(4-n-丁基胺-2,2,6,6-四甲基哌啶基)-1,3,5-三氮唑及1,2雙-(3-胺丙基-胺)乙烷之縮合產物，of 2-氯-4,6-二-(4-n-丁基胺1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-1,3,5-三氮唑及1,2-雙-(3-胺丙基胺)乙烷對之縮合產物，8乙醯-3-十二基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮雜螺旋[4.5]癸烷-2,4-二酮，3-十二基-1(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)吡咯烷-2,5-二酮及3-十二基-1-(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)吡咯烷-2,5-二酮。
6.草醯胺 ，舉例如：4,4'-二辛基氧二醯苯胺，2,2'-二乙氧基二醯苯胺，2,2'-二辛基氧-5,5'-二-第三-丁基二醯苯胺，2,2'-二-十二基氧-5,5'二-第三-丁基二醯苯胺，2-乙氧基-2'-乙基二醯苯胺，N,N'-雙-(3-二甲基胺丙基)草醯胺，2-乙氧基-5-第三-丁基-2'-乙基二醯苯胺及其和2-乙氧基-2'-乙基-5,4'-二-第三-丁基二醯苯胺之混合物，o-及p-甲基-及 o-及p-乙氧-二取代二醯苯胺之混合物。
7. 2-(2-羥苯基)-1,3,5-三氮唑 ，舉例如：2,4,6-三(2-羥-4-辛基氧苯基)1,3,5-三氮唑,2-(2-羥-4-辛基氧苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三氮唑,2(2,4-二羥苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三氮唑,2,4-雙(2-羥-4-丙基氧-苯基)-6-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三氮唑,2-(2-羥-4-辛基氧苯基)-4,6-雙(4-甲基苯基)-1,3,5-三氮唑,2-(2-羥-4-十二基氧苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)1,3,5-三氮唑,2-[2-羥-4-(2-羥-3-丁基氧-丙基氧)苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三氮唑,2-[2-羥-4-(2-羥-3-辛基氧-丙基氧)苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三氮唑,2-[4-十二基/十三基-氧-(2-羥丙基)氧-2-羥-苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三氮唑。
8.亞磷酸酯及亞膦酸酯 ，舉例如：三苯基亞磷酸酯，二苯基烷基亞磷酸酯，苯基二烷基亞磷酸酯，三(壬基苯基)亞磷酸酯，三月桂基亞磷酸酯，三-十八基亞磷酸酯，二硬脂五新戊四基二亞磷酸酯，三-(2,4-二-第三-丁基苯基)亞磷酸酯，二異癸基五新戊四基二亞磷酸酯，雙-(2,4-二-第三-丁基苯基)五新戊四基二亞磷酸酯，雙-(2,6-二-第三-丁基-4-甲基苯基)五新戊四基二亞磷酸酯，雙-異癸氧基五新戊四基二亞磷酸酯，雙-(2,4-二-第三-丁基-6-甲基苯基)五新戊四基二亞磷酸酯，雙(2,4,6-三-第三-丁基苯基)五新戊四基二亞磷酸酯，三硬脂山梨三亞磷酸酯，四(2,4-二-第三-丁基苯基)-4,4'-二苯二亞膦酸酯，6-異辛基氧-2,4,8,10-四-第三丁基-12H-二苯并[d,g]-1,3,2-二噁磷(dioxaphosphocine)，6-氟-2,4,8,10-四-第三-丁基-12-甲基二苯并[d,g]-1,3,2-二噁磷，雙-(2,4-二-第三-丁基-6-甲基苯基)甲基亞磷酸酯及雙(2,4-二-第三-丁基-6-甲基苯基)乙基亞磷酸酯。
為加速光聚合反應，其係可能添加胺類為成份(d)，例如：三乙醇胺，N-甲基二乙醇胺，乙基-p-二甲基胺苯甲酸酯，2-(二甲基胺)乙基苯甲酸酯，2-乙基己基-p-二甲基胺苯甲酸酯，辛基-對-N,N-二甲基胺苯甲酸酯，N-(2-羥乙基)-N-甲基-對-甲苯胺或米希勒氏酮(Michler’s ketone)。該等胺類之作用可藉由添加具二苯甲酮型式之芳香族酮而被加強。可被使用為去氧劑之胺類的範例係經取代之N,N-二烷基苯胺，如EP339841中所述。其它反應促進劑、共起始劑及自氧化劑係硫醇、硫醚、二硫化物、鏻鹽、膦氧化物或膦，係如EP438123、GB2180358及JP Kokai Hei 6-68309中所述。
其更可能添加在此技藝中慣用之鏈轉移劑於依照本發明之組成物中作為成份(d)。舉例如：硫醇、胺及苯并噻唑。
光聚合反應也可藉由添加其它的轉移或擴大該波譜敏感度之光敏化劑或共起始劑(作為成份(d))而加速。這些係對，尤其是，芳香族化合物，例如：二苯甲酮及其衍生物，噻噸酮及其衍生物，蒽醌及其衍生物，香豆素及啡噻嗪及其衍生物，以及也是3-(芳醯基亞甲基)-噻唑啉，若丹林，樟腦醌，及曙紅，玫紅，赤蘚紅，噸，硫代噸，吖啶， 例如，9-苯基吖啶，1,7-雙(9-吖啶基)庚烷，1,5-雙9-吖啶基)戊烷，花菁及部花菁染料。
此類化合物之特定範例係：
1.噻噸酮
噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、2-十二烷基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、1-甲氧基羰基噻噸酮、2-乙氧基羰基噻噸酮、3-(2-甲氧基乙氧基羰基)-噻噸酮、4-丁氧基羰基噻噸酮、3-丁氧基羰基-7-甲基噻噸酮、1-氰基-3-氯噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-氯噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-乙氧基噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-胺基噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-苯基磺醯基噻噸酮、3,4-二[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基羰基]噻噸酮、1,3-二甲基-2-羥基-9H-噻噸-9-酮、2-乙基己基醚、1-乙氧基羰基-3-(1-甲基-1-嗎啉基乙基)-噻噸酮、2-甲基-6-二甲氧基甲基-噻噸酮、2-甲基-6-(1,1-二甲氧基苯甲基)-噻噸酮、2-嗎啉基甲基-噻噸酮、2-甲基-6-嗎啉基甲基噻噸酮、N-烯丙基噻噸酮-3,4-二羧醯亞胺、N-辛基噻噸酮-3,4-二羧醯亞胺、N-(1,1,3,3-四甲基丁基)-噻噸酮-3,4-二羧醯亞胺、1-苯氧基噻噸酮、6-乙氧基羰基-2-甲氧基噻噸酮、6-乙氧基羰基-2-甲基噻噸酮、噻噸酮-2-羧酸聚乙二醇酯、2-羥基-3-(3,4-二甲基-9-側氧-9H-噻噸酮-2-基氧)-N,N,N-三甲基-1-丙銨氯化物；
2.二苯甲酮
二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮,4-甲氧基二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、4,4’-二甲基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯 甲酮、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4’-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4’-雙(甲基乙基胺基)二苯甲酮、4,4’-雙(對-異丙基苯氧基)二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、4-(4-甲基硫基苯基)-二苯甲酮、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、甲基-2-苯甲醯基苯甲酸酯、4-(2-羥基乙基硫基)-二苯甲酮、4-(4-甲苯基硫基)二苯甲酮、1-[4-(4-苯甲醯基-苯基硫烷基)-苯基]-2-甲基-2-(甲苯-4-磺醯基)-丙-1-酮、4-苯甲醯基-N,N,N-三甲基苯甲銨氯化物、2-羥基-3-(4-苯甲醯基苯氧基)-N,N,N-二甲基-1-氯化丙銨單水合物、4-(13-丙烯醯基-1,4,7,10,13-五噁十三烷基)-二苯甲酮、4-苯甲醯基-N,N-二甲基-N-[2-(1-側氧-2-丙烯基)氧]乙基-苯甲銨氯化物；
3.香豆素
香豆素1，香豆素2，香豆素6，香豆素7，香豆素30，香豆素102，香豆素106，香豆素138，香豆素152，香豆素153，香豆素307，香豆素314，香豆素314T，香豆素334，香豆素337，香豆素500，3-苯甲醯基香豆素，3-苯甲醯基-7-甲氧基香豆素，3-苯甲醯基-5,7-二甲氧基香豆素，3-苯甲醯基-5,7-二丙氧基香豆素，3-苯甲醯基-6,8-二氯香豆素，3-苯甲醯基-6-氯-香豆素，3,3’-羰基-雙(7-二乙基胺基-香豆素)，3-異丁醯基香豆素，3-苯甲醯基-5,7-二甲氧基-香豆素，3-苯甲醯基-5,7-二乙氧基-香豆素，3-苯甲醯基-5,7-二丁氧基香豆素，3-苯甲醯基-5,7-二(甲氧基乙氧基)-香豆素，3-苯甲醯基-5,7-二(烯丙基氧)香豆素，3-苯甲 醯基-7-二甲基胺基香豆素，3-苯甲醯基-7-二乙基胺基香豆素，3-異丁醯基-7-二甲基胺基香豆素，5,7-二甲氧基-3-(1-萘甲醯基)-香豆素，5,7-二乙氧基-3-(1-萘甲醯基)-香豆素，3-苯甲醯基苯并[f]香豆素，7-二乙基胺基-3-噻吩醯基香豆素，3-(4-氰基苯甲醯基)-5,7-二甲氧基香豆素，3-(4-氰基苯甲醯基)-5,7-二丙氧基香豆素，7-二甲基胺基-3-苯基香豆素，7-二乙基胺基-3-苯基香豆素，JP 09-179299-A及JP 09-325209-A所揭示之香豆素衍生物，例如，7-[{4-氯-6-(二乙基胺基)-S-三氮嗪-2-基}胺基]-3-苯基香豆素；
4. 3-(芳醯基亞甲基)-噻唑啉
3-甲基-2-苯甲醯基亞甲基-β-萘噻唑啉、3-甲基-2-苯甲醯基亞甲基-苯并噻唑啉、3-乙基-2-丙醯基亞甲基-β-萘噻唑啉；
5.若丹林
4-二甲基胺基苯亞甲基若丹林、4-二乙基胺基苯亞甲基若丹林、3-乙基-5-(3-辛基-2-苯并噻唑啉叉基)-若丹林，揭示於JP 08-305019A之式[1]、[2]、[7]之若丹林衍生物；
6.其它化合物
乙醯苯，3-甲氧基乙醯苯，4-苯基乙醯苯，苯偶醯，4,4’-雙(二甲基胺基)苯偶醯，2-乙醯基萘，2-萘醛，丹磺酸衍生物，9,10-蒽醌酮，蒽，芘，胺基芘，二萘嵌苯，菲，菲醌酮，9-茀酮，二苯并辛二酮，姜黃素，呫噸酮，噻米其(thiomichler’s)酮，α-(4-二甲基胺基苯伸苄基)酮類，例如，2,5-雙(4-二乙基胺基苯伸苄基)環戊酮，2-(4-二甲基胺基- 苯伸苄基)-茚-1-酮，3-(4-二甲基胺基-苯基)-1-茚滿-5-基-丙烯酮，3-苯基硫基酞醯亞胺，N-甲基-3,5-二(乙基硫基)-酞醯亞胺，N-甲基-3,5-二(乙基硫基)-酞醯亞胺，啡噻嗪，甲基啡噻嗪，胺類，例如，N-苯基甘氨酸，4-二甲基胺基苯甲酸乙酯，4-二甲基胺基苯甲酸丁氧基乙酯，4-二甲基胺基乙醯苯，三乙醇胺，甲基二乙醇胺，二甲基胺基乙醇，2-(二甲基胺基)乙基苯甲酸酯，聚(丙二醇)-4-(二甲基胺基)苯甲酸酯。
較佳的是一種包含一光敏劑化合物作為另外的成份(d)之可光聚合組成物，該光敏劑化合物係選擇自由二苯甲酮及其衍生物，噻噸酮及其衍生物，蒽醌及其衍生物，或香豆素衍生物所組成的群組。
該固化過程尤其是可藉由添加經呈色之光敏劑(例如：二氧化鈦)於組成物中，且也可藉由添加一在熱狀態下產生自由基之成份而輔助，例如：一偶氮化合物，如：2,2'-偶氮雙(4-甲氧-2,4-二甲基戊腈)，三氮烯，重氮硫化物，五氮雜二烯或是一過氧化合物，例如：一過氧化氫或過氧碳酸酯，例如：第三丁基過氧化氫，如EP245639中所述者。
依據本發明之組成物可包含一作為額外添加物(d)之可光還原的染料，例如：噸-，苯并噸-，苯并硫代噸，噻嗪-，吡咯寧-，卟啉-或吖啶染料，及/或可被輻射所裂解之三鹵代基甲基化合物。相似之組成物係如EP445624中所述。
另外此技藝中已知可被添加如成份(d)之添加物，例如：流動改進劑、黏附促進劑，例如：乙烯三甲氧矽烷， 乙烯三乙氧矽烷，乙烯三(2-甲氧乙氧)矽烷，N-(2-胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧矽烷，N-(2-胺乙基)3-胺丙基三甲氧矽烷，3-胺丙基三乙氧矽烷，3-胺基乙酸氧丙基三甲氧矽烷，3-胺基乙酸氧丙基甲基二甲氧矽烷，2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧矽烷，3-氯丙基甲基二甲氧矽烷，3-氯丙基三甲氧矽烷，3-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧矽烷及3-硫醇丙基三甲氧矽烷。界面活性劑、光亮劑、色料、染料、溼潤劑、均染輔助劑、分散劑、防凝集劑、抗氧化劑或填充劑係添加物(d)之另外的範例。
為了固化厚且經染色的塗覆物，其係適於添加如US 5013768中所述的玻璃微球體或粉末化之玻璃纖維。
另外之可適用之成份(d)係，如以上已敘述者，界面活性劑及分散劑及其它成份，尤其是用以保持配方中色料或著色劑之運用者。
其較佳係對該色料進行一界面處理以使該色料易於分散且用以穩定該產生之色料分散物。該界面處理劑係舉例如界面活性劑、聚合性分散劑、普遍之質地改良劑、色料衍生物及其等之混合物。其特別較佳係當該依據本發明之組成物包含至少一聚合性分散劑及/或至少一色料衍生物時。
適用之界面活性劑包括陰離子界面活性劑，如烷基苯磺酸鹽或烷基萘磺酸鹽，烷基磺酸基琥珀酸酯或萘甲醛磺酸鹽；陽離子界面活性劑舉例係包括四級鹽，如氯化苯甲基三丁基銨；或非離子性或兩性之界面活性劑，例如：各 別為聚氧乙烯界面活性劑及烷基-或醯胺基丙基甜菜鹼(amidopropyl betaine)。
界面活性劑之說明用範例包括聚氧乙烯烷基醚，例如：聚氧乙烯月桂醚，聚氧乙烯硬脂醚及聚氧乙烯油醇醚；聚氧乙烯烷基苯基醚，例如：聚氧乙烯辛基苯基醚及聚氧乙烯壬基苯基醚；聚氧乙烯乙二醇醚，例如：聚氧乙烯乙二醇二月桂酸酯及聚氧乙烯乙二醇二硬脂酸酯；山梨醇酐脂肪酸酯；脂肪酸改質聚酯；三級胺改質聚胺酯；聚乙烯亞胺；這些係以商品名稱KP(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd之產品)，Polyflow(KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd之一產品)，F-Top(Tochem Products Co.,Ltd之一產品)，MEGAFAC(Dainippon Ink & Chemicals,Inc.之一產品)，Fluorad(Sumitomo 3M Ltd之一產品)，Asahi Guard and Surflon(Asahi Glass Co.,Ltd之產品)及其相似物而可得。
這些界面活性劑係可單獨或以二或多種之混合物使用。
該界面活性劑係一般以50部份或更少之重量的總量使用，較佳係0至30部份之重量，以著色劑組成物為100部份重量為基礎。
聚合性分散劑包括具色料親合性基團之高分子量聚合物。舉例如：由苯乙烯衍生物，(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯醯胺所組成之統計性共聚物，且此類統計性共聚物藉由後改質作用而改質；例如由苯乙烯衍生物，(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯醯胺所組成之嵌段共聚物及/或梳狀聚合物， 而此類嵌段共聚物及/或梳狀聚合物係藉由後改質作用而改質；聚乙烯亞胺，其係例如以聚酯而精製；聚胺，其係例如以聚酯而精製；以及許多種類(經改質)的聚氨酯。
也可應用聚合性分散劑。適用之聚合性分散劑係舉例如：BYK的產品DISPERBYK® 10、115、130、140、160、161、162、163、164、166、168、169、170、171、180、182、2000、2001、2020、2050、2090、2091、2095、2096、2150，Ciba Specialty Chemicals的產品Ciba® EFKA® 4008、4009、4010、4015、4046、4047、4050、4055、4060、4080、4300、4330、4340、4400、4401、4402、4403、4406、4500、4510、4520、4530、4540、4550、4560，Ajinomoto Fine Techno的產品PB®711、821、822、823、824、827，Lubrizol的產品SOLSPERSE® 1320、13940、17000、20000、21000、24000、26000、27000、28000、31845、32500、32550、32600、33500、34750、36000、36600、37500、39000、41090、44000、53095及其等之組合物。
較佳係使用Ciba® EFKA® 4046、4047、4060、4300、4330、4340，DISPERBYK® 161、162、163、164、165、166、168、169、170、2000、2001、2020、2050、2090、2091、2095、2096、2105、2150，PB®711、821、822、823、824、827，SOLSPERSE® 24000、31845、32500、32550、32600、33500、34750、36000、36600、37500、39000、41090、44000、53095及其等作為分散劑之組合物。
適用之質地改良劑係舉例如：脂肪酸，如：硬脂酸或 廿二酸，以及脂肪胺，如：月桂胺及硬脂胺。此外，脂肪醇或乙氧基化脂肪醇多元醇，如：脂肪族1,2-二醇或環氧化大豆油，蠟質，樹脂酸及樹脂酸鹽也可使用於此用途。
適用之色料衍生物係舉例如：酞醯氰化銅衍生物，如：Ciba Specialty Chemicals之產品Ciba® EFKA® 6745，Lubrizol之產品SOLSPERSE® 5000、12000，BYK之產品SYNERGIST 2100以及偶氮衍生物，例如：Ciba® EFKA® 6750、SOLSPERSE® 22000及SYNERGIST 2105。
以上所提之用於色料之分散劑及界面活性劑係舉例用於本發明之使用為阻劑配方之組成物，尤其是在濾色器之配方。
該等添加物(d)之選擇係依據應用之領域以及該領域所需之性質而決定。該等上述之添加物在此技藝領域中係慣用的而因此係於各別之應用以通常之用量添加。
黏結劑也可添加至該新穎組成物中。當該可光聚合之化合物係液態或黏性的物質時，該劑係特別有利的。黏結劑的用量係舉例如2-98%，較佳係5-95%而特別係20-90%重量百分比，相對全部之固體成份。黏結劑之選擇係依據應用之領域以及該領域所需之性質而決定，例如：用以在水性及有機溶劑系統中顯影的能力，以及對物體的黏附力及對氧之敏感度。
適用之黏結劑係舉例如：具有分子量為約2000至2000000，較佳係3000至1000000，之聚合物。鹼可顯影之黏結劑係具有羧酸官能性之側基的丙烯酸聚合物，舉例如：習知藉由共聚合一乙烯不飽和羧酸和一或多種單體所 得之共聚物，該乙烯不飽和羧酸係例如：(甲基)丙烯酸，2-羧乙基(甲基)丙烯酸，2-羧丙基(甲基)丙烯酸，衣康酸，巴豆酸，順丁烯二酸，反丁烯二酸及ω-羧基己內酯單(甲基)丙烯酸酯，該單體係選擇自(甲基)丙烯酸酯，例如：(甲基)丙烯酸甲酯，(甲基)丙烯酸乙酯，(甲基)丙烯酸丙酯，(甲基)丙烯酸丁酯，(甲基)丙烯酸苯甲酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，(甲基)丙烯酸羥乙酯，(甲基)丙烯酸羥丙酯，丙三醇單(甲基)丙烯酸酯，三環[5.2.1.02,6 ]癸烷-8-基(甲基)丙烯酸酯，縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯，2-甲基縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯，3,4-環氧基丁基(甲基)丙烯酸酯，6,7-環氧基戊基(甲基)丙烯酸酯；乙烯基芳香族化合物，例如：苯乙烯，-甲基苯乙烯，乙烯基甲苯，p-氯苯乙烯，乙烯基苯甲基縮水甘油醚；醯胺型不飽和化合物，(甲基)丙烯醯胺二丙酮丙烯醯胺，N-甲基醇丙烯醯胺，N-丁氧基甲基丙烯醯胺；及聚烯烴型化合物，例如：丁二烯，異戊間二烯，氯丁二烯及其相似物等；甲基丙烯腈，甲基異丙烯基酮，單-2-[(甲基)丙烯醯基氧]乙基琥珀酸酯，N-苯基馬來醯亞胺，順丁烯二酸酐，乙酸乙烯酯，丙酸乙烯酯，新戊酸乙烯酯，聚苯乙烯巨單體,或聚甲基(甲基)丙烯酸酯巨單體。共聚物之例子係丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯與丙烯酸或甲基丙烯酸及與苯乙烯或經取代之苯乙烯,酚醛樹脂(例如，熱塑性酚醛清漆novolak)，(聚)羥基苯乙烯之共聚物，及羥基苯乙烯與烷基丙烯酸酯，丙烯酸及/或甲基丙烯酸之共聚物。共聚物之較佳例子係甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸之共聚物，苯甲 基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸之共聚物，甲基甲基丙烯酸酯/乙基丙烯酸酯/甲基丙烯酸之共聚物，苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸/苯乙烯之共聚物，苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸/羥基乙基甲基丙烯酸酯之共聚物，甲基甲基丙烯酸酯/丁基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸/苯乙烯之共聚物，甲基甲基丙烯酸酯/苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸/羥基苯基甲基丙烯酸酯之共聚物。溶劑可顯影之黏結劑聚合物之例子係聚(烷基甲基丙烯酸酯)，聚(烷基丙烯酸酯)，聚(苯甲基-甲基丙烯酸酯-共-羥基乙基甲基丙烯酸酯-共-甲基丙烯酸)，聚(苯甲基甲基丙烯酸酯-共-甲基丙烯酸)；纖維素酯及纖維素醚，諸如：維素乙酸酯，纖維素乙醯丁酸酯，甲基纖維素，乙基纖維素；聚乙烯基丁醛，聚乙烯基甲醛，環化橡膠，聚醚，諸如，聚伸乙基氧化物，聚伸丙基氧化物，及聚四氫呋喃；聚苯乙烯，聚碳酸酯，聚胺酯，氯化聚烯烴，聚氯乙烯，氯乙烯/偏氯乙烯之共聚物，偏氯乙烯與丙烯腈、甲基甲基丙烯酸酯及乙酸乙烯酯之共聚物，聚乙酸乙烯酯，共聚(乙烯/乙酸乙烯酯)，諸如聚己內醯胺及聚(六亞甲基己二醯胺)之聚合物，及諸如聚(乙二醇對苯二甲酸酯)及聚(六亞甲基二醇琥珀酸酯)之聚酯，及聚醯亞胺黏結劑樹脂。
本發明之聚醯亞胺黏結劑樹脂可為一溶劑可溶之聚醯亞胺或是一聚醯亞胺前質，例如：一聚(醯胺酸)。
較佳係一可光聚合之組成物，其包含一作為黏結劑聚合物(e)之甲基丙烯酸酯及甲基丙烯酸之共聚物。
進一步引人關注的係JP 10-171119-A中所述之聚合性黏結劑成份，尤其是使用於色彩濾光器中。
該可光聚合之組成物可使用於各種目的，例如：作為印刷墨水，如：篩網印刷墨水、用於膠版印刷或橡膠版輪轉印刷之墨水，作為光面整理劑，作為白色或具色彩之拋光漆，例如：用於木頭或金屬，作為粉狀塗佈物，作為一塗覆材料，尤其是用於紙張、木頭、金屬或塑膠，作為日光可固化塗覆物，該日光可固化塗覆物係用於建築標示或道路標示，用於攝影複製技術，用於全像攝影記錄材料，用於影像記錄技術或用於生成可利用有機溶劑或水性鹼而顯影之印刷板，用於生成篩網印刷所用之遮罩，作為牙科填補組成物，作為黏附劑，作為壓感黏附劑，作為層合樹脂，作為蝕刻阻劑、焊料阻劑、電鍍阻劑或永久阻劑，液體及乾燥膜皆可，作為可光結構化之介電物質，用於印刷電路板及電子電路，作為製造用於各種顯示應用之濾色器的阻劑或是在電漿顯示面板及場致發光顯示器之製造過程中產生結構的阻劑(例如U S5853446、EP863534、JP 09-244230-A、JP10-62980-A、JP08-171863-A、US5840465、EP855731、JP05-271576-A、JP 05-67405-A中所述)，用於生成全像攝影資料儲存(HDS)材料，用於生成光學轉換器、光學晶格(干涉晶格)、光電路，用於藉由大量固化(透明模組內之紫外線固化)或藉由立體光顯影技術而製造三維物件，例如US4575330中所述者，用以製造複合材料(例如，苯乙烯聚酯,若要的話可含有玻璃纖維及/或其它纖維及其 它輔助劑)及其它厚層組成物，用於塗覆或密封電子組件及積體電路，或作為光纖之塗覆物，或用於製造光學透鏡，例如，隱形眼鏡或引雷斯內爾(Fresnel)透鏡。依據本發明之組成物進一步係適用於製造醫用設備，輔助物或移植物。再者，依據本發明之組成物係適用於製造具熱致變性質之凝膠，例：DE 19700064及EP 678534所述者。
新穎之光起始劑可另外作為乳化聚合反應，成珠聚合反應或懸浮聚合反應之起始劑，作為液晶單體及寡聚物固定順序狀態之聚合反應的起始劑，或作為使染料固著於有機材料上之起始劑。
於塗覆材料中，經常使用預聚合物與多元不飽和單體(其也可另外包含一單元不飽和單體)之混合物。預聚合物在此主要係支配該塗覆薄膜之性質，且藉由改變該預聚合物，熟習此項技藝者能影響該固化膜之性質。多元不飽和單體之功能係作為使膜變為不可溶之交聯劑。該單元不飽和單體之功能係作為反應性稀釋劑，其係用以無需使用溶劑而降低黏度。
不飽和聚酯樹脂一般係以二成份系統(與單元不飽和之單體，較佳係苯乙烯一起)使用。對於光阻劑，通常係使用特定之一成份系統，例如，聚馬來醯亞胺、聚查耳酮或聚醯亞胺，如DE 2308830所述。
新穎之光起始劑及其混合物亦可用於可輻射固化之粉末塗覆物之聚合反應。粉末塗覆物可以固體樹脂及含反應性雙鍵之單體為主，例如，順丁烯二酸酯、乙烯基醚、 丙烯酸酯、丙烯醯胺及其等之混合物。一自由基化可紫外線固化之粉末塗覆物可藉由使具固體丙烯醯胺[例如，甲基甲基丙烯醯胺基乙醇酸酯(mtethyl methyllacrylamidoglycolate)]之不飽和聚酯樹脂與一新穎之自由基光起始劑混合而配製，此等配製係描述於，例如，"粉末塗覆物之輻射固化"論文、Conference Proceedings、Radtech Europe 1993，M.Wittig及Th.Gohmann。粉末塗覆物亦可含有黏結劑，例如，DE 4228514及EP 636669中所述。自由基化可紫外線固化之粉末塗覆物亦可藉由使不飽和聚酯樹脂與固體丙烯酸酯，甲基丙烯酸酯或乙烯基醚及與新穎之光起始劑(或光起始劑混合物)混合而配製。該粉末塗覆物亦可包含，例如，DE 4228514及EP 636669所述之黏結劑。可紫外線固化之粉末塗覆物可另外包含白色或彩色之色料。例如，較佳地，金紅石二氧化鈦可以最高達50重量%之濃度使用，以產生具良好遮蔽能力之固化粉末塗覆物。此程序一般係包含使該粉末以靜電式或摩擦靜電式噴灑於基材(例如，金屬或木材)上，藉由加熱使粉末熔融，及於形成一平滑膜之後，以紫外線及/或可見光(使用，例如，中壓力之水銀燈、金屬鹵化物燈或氙氣燈)使塗覆物輻射固化。可以輻射固化之粉末塗覆物優於其可以熱固化之對應物之特別優點係粉未顆粒熔融後之流動時間可被延遲，以確保形成一平滑之高光澤塗覆物。相對於可熱固化之系統，可以輻射固化之粉末塗覆物可被配製成於一較低溫度熔融，而無縮短其壽命之非所欲的作用。因此，其亦 適於作為用於熱敏性基材(例如，木材或塑料)之塗覆物。除該等新穎之光起始劑系統外，粉末塗覆物配方亦可包含紫外線吸收劑。適當之例子係於上述1.至8.節中列示。
新穎之可光固化之組成物係適於，例如，作為用於所有種類之基材之塗覆材料，例如，木材、織物、紙張、陶瓷、玻璃、塑料，諸如，聚酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚烯烴或纖維素乙酸酯，特別是薄膜型式，以及也適用於金屬，諸如，Al、Cu、Ni、Fe、Zn、Mg或Co及GaAs、Si或SiO2 ，其中其係意於塗敷一保護層或藉由圖像式曝光以產生一圖像。
新穎之輻射敏化組成物進一步發現作為負阻劑之應用，其對於光線具有極高敏化性，且能於水性鹼介質中顯影而不會膨脹。其係適於製造用於凸紋印刷、平版印刷、照相凹版印刷之印刷型式，或篩網印刷型式，用於製造凸紋複製品，例如，用於製造盲人點字之文字，用於製造壓印，使用於化學研磨或用為製造積體電路之微阻劑。該組成物可進一步作為用於製造電腦晶片、印刷板及其它之電或電子組件之可光圖案化之介電層或塗覆物、封裝材料及隔離塗覆物。可能之層支撐體及該塗覆基材之加工處理條件係可改變的。
新穎之組成物亦係有關於光敏熱固性樹脂組成物，及藉由使用該組成物而形成一焊料阻劑圖案之方法，而更特別係有關於可使用為用以製造印刷電路板、精密製造金屬物件、玻璃及石材物件之蝕刻、塑料物件之凸紋，及製造 印刷板及特別係作為印刷電路板之焊料阻劑之材料的新穎光敏熱固性樹脂組成物，及係有關於藉由使樹脂組成物層選擇性地曝光於一通過具圖案之光罩的光化射線及使此層之未經曝光之部份顯影之步驟形成一焊料阻劑圖案之方法。
該焊料阻劑係一種於使特定部份焊接至一印刷電路板期間使用以避免熔融焊料黏著於不相關部份及用於保護電路之物質。因此，其需擁有諸如高黏著性、耐絕緣性、耐焊接溫度、耐溶劑、耐鹼、耐酸及耐電鍍之性質。
因為依據本發明之可光固化之組成物具有良好之熱安定性及對氧之抑制係具充分抗性，其係特別適於製造濾色器或彩色馬賽克系統，例如，在EP 320 264中所述。濾色器通常應用於製造平面面板顯示器，舉例如液晶顯示器(LCD)、PDP(電漿面板顯示器)、EL(電激發光)顯示器、以及投影系統，影像感應器，CCD(電耦合裝置)，以及用於掃描器、數位相機和攝影機之CMOS(互補金氧半導體)感應器。
濾色器一般係藉由於玻璃基材上形成紅、綠及藍之像素及一黑色矩陣而製得。於此等方法中，依據本發明之可光固化之組成物可被使用。特別較佳之使用方法包含添加紅、綠及藍色之著色物料、染料及色料至本發明之光敏性樹脂組成物，以此組成物塗覆該基材，以短的熱處理乾燥該塗覆物，使塗覆物以圖案式曝光於光化輻射及其後於水性鹼顯影劑溶液內使圖案顯影，及選擇性之熱處理。因此， 藉由以此方法以任何所欲之順序使紅、綠及藍色之經著色之塗覆物依序塗敷於彼此之上，可製得具紅、綠及藍像素之濾色層。
顯影係藉由以適當之鹼性顯影溶液洗掉未被聚合之區域而實行。此方法被重複而形成具有數種顏色之圖像。
於本發明之光敏性樹脂組成物中，藉由其間至少一或更多之圖像元素於透明基材上形成，然後自該透明基材之其上未形成上述圖像元素之一側進行曝光之方法，上述之圖像元素可被利用為遮光罩。於此情況下，例如，於進行整體曝光之情況下，遮罩之位置調整係不需要，且其位置滑移之顧慮被移除。而且，可固化所有其上未形成上述圖像元素之部份。再者，於此情況下，亦可顯影及移除其上上述之圖像元素藉由部份使用一遮光罩而未被形成之部份之部份。
因為於任一情況中，事先形成之圖像元素及其後形成之圖像元素間未形成間隙，本發明之組成物係適於，例如，用於濾色器之形成材料。具體而言，紅、綠及藍色之著色物料、染料及色料被添加至本發明之光敏性樹脂組成物，且該形成圖像之方法係被重複而形成紅、綠及藍色之圖像元素。然後，被添加如黑色著色材料、染料及色料之光敏性樹脂組成物係被提供於整個表面上。整體式曝光(或經由遮光罩之部份曝光)可於其上提供，而於紅、綠及藍色之圖像元素間之整個空間(或除遮光罩之部份區域外之所有空間)上形成黑色圖像元素。
除了其間光敏性樹脂組成物被塗覆於基材上並乾燥之方法外，本發明之光敏性樹脂組成物亦可用於層轉移材料。即為，該光敏性樹脂組成物係以層狀直接提供於一暫時性撐體上，較佳係於聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上，或於其上提供有遮氧層及剝離層或剝離層及遮氧層之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上。一般，由合成樹脂製成之可移除式覆蓋片材被層合於其上以於處理中作為保護。再者，亦可塗敷一層結構，其間一鹼可溶之熱塑性樹脂層及一中間層係被提供於一暫時性撐體上且，再者，一光敏性樹脂組成物層係提供於其上(JP 5-173320-A)。
上述覆蓋片材使用時係被移除，且該光敏性樹脂組成物層層合於一永久性撐體上。其後，當遮氧層及剝離層被提供時，剝離係在這些層及暫時性撐體之間進行；當剝離層及遮氧層被提供時，剝離係在剝離層及遮氧層間進行，及當剝離層或遮氧層未被提供時，剝離係在暫時性撐體及光敏性樹脂組成物層間進行，且該暫時性撐體被移除。
一金屬撐體、玻璃、陶瓷及一合成樹脂膜可作為濾色器之撐體。透明且具有優異尺寸安定性之玻璃及合成樹脂膜係特別佳的。
該光敏性樹脂組成物層之厚度一般係0.1至50微米，特別是0.5至5微米。
若該組成物含有鹼可溶樹脂或鹼可溶單體或寡聚物，一鹼性物質之稀釋水溶液可作為本發明光敏性樹脂組成物之顯影溶液，且再者，藉由添加小量之水可溶混之有機溶 劑於其間而製得之顯影劑溶液亦可被包含。
適當鹼性材料之例子包含鹼金屬氫氧化物(例如，氫氧化鈉及氫氧化鉀)，鹼金屬碳酸鹽(例如，碳酸鈉及碳酸鉀)，鹼金屬碳酸氫鹽(例如，碳酸氫鈉及碳酸氫鉀)，鹼金屬矽酸鹽(例如，矽酸鈉及矽酸鉀)，鹼金屬偏矽酸鹽(例如，偏矽酸鈉及偏矽酸鉀)，三乙醇胺，二乙醇胺，單乙醇胺，嗎啉，四烷基銨氫氧化物(例如，四甲基銨氫氧化物)，或磷酸三鈉。鹼性物質之濃度係0.01至30重量%，且pH較佳係8至14。
可與水溶混之適用的有機溶劑包含甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丁基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、正丁基乙酸酯、苯甲基醇、丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、2-戊酮、ε-己內酯、γ-丁基醇丙酮(γ-butylolactone)、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯基醯胺、六甲基磷醯胺、乙基乳酸酯、甲基乳酸酯、ε-己內醯胺、及N-甲基-吡咯烷酮。可與水溶混之有機溶劑之濃度係0.1至30重量%。
再者，公開已知之表面活性劑可被添加。表面活性劑之濃度較佳係0.001至10重量%。
本發明之光敏性樹脂組成物亦可以包含二或更多種之溶劑之摻合物，但不含鹼化合物，之有機溶劑顯影。適當之溶劑包含甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮 醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丁基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、正丁基乙酸酯、苯甲基醇、丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、2-戊酮、ε-己內酯、γ-丁基醇丙酮、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯基醯胺、六甲基磷醯胺、乙基乳酸酯、甲基乳酸酯、ε-己內醯胺、及N-甲基-吡咯烷酮。選擇性地，水可以最高仍可獲得澄清溶液且光敏性組成物之未曝光區域之充分溶解性仍被維持之量添加至此等溶劑。
該等顯影劑溶液可以此領域中熟習此項技藝者所知之所有型式使用，例如，以浴溶液、漿狀或噴灑溶液之型式。為移除光敏性樹脂組成物層之未固化部份，可結合諸如以旋轉刷磨擦及以濕海棉摩擦之方法。一般而言，顯影溶液之溫度較佳係於室溫或約室溫至40℃。顯影時間係可依特定種類之光敏性樹脂組成物、顯影溶液之鹼性及溫度，及在該情形下所添加之有機溶劑的種類及濃度而改變。一般係10秒至2分鐘。可於顯影處理後施以沖洗步驟。
最後之熱處理較佳係於顯影處理後實行。因此，具有藉由曝光而光聚合之層(其後稱為光固化層)之撐體係於電爐及乾燥器內加熱，或該光固化層係以紅外線燈照射或於加熱板上加熱。加熱之溫度及時間係依所用之組成物及形成層之厚度而定。一般而言，加熱較佳係於約120℃至約250℃實施約5至約60分鐘。
可被包含於依據本發明之組成物(包含經著色之濾色 器阻劑組成物)內之色料較佳係經加工處理之色料，例如，藉由使色料細微分散於至少一選自由丙烯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、順丁烯二酸樹脂及乙基纖維素樹脂所組成之群組的樹脂內而製得之粉末狀或糊狀產物。
紅色色料包含，例如，單獨之蒽醌型色料，單獨之二酮吡咯并吡咯型色料，其等之混合物或由其等之至少一者及雙偶氮型黃色色料或異吲哚啉型黃色色料所組成之混合物，特別是單獨之C.I.色料紅177、單獨之C.I.色料紅色254、C.I.色料紅色177及C.I.色料紅色254之混合物，或由C.I.色料紅色177及C.I.色料紅色254之至少一成員及C.I.色料黃色83或C.I.色料黃色139所組成之混合物(“C.I.”係指此領域中熟習此項技藝者所知且被大眾利用之比色指數)。
色料另外之適當例子係C.I.色料紅色9、97、105、122、123、144、149、168、176、179、180、185、202、207、209、214、222、242、244、255、264、272及C.I.色料黃色12、13、14、17、20、24、31、53、55、93、95、109、110、128、129、138、139、150、153、154、155、166、168、185、199、213及C.I.色料橙色43。
紅色染料之例子係C.I.溶劑紅色25、27、30、35、49、83、89、100、122、138、149、150、160、179、218、230，C.I.直接紅色20、37、39、44，及C.I.酸性紅色6、8、9、13、14、18、26、27、51、52、87、88、89、92、94、97、111、114、115、134、145、151、154、180、183、184、186、198，C.I.鹼性紅色12、13，C.I.分散紅色5、7、 13、17及58。紅色染料可與黃色及/或橙色染料結合使用。
綠色色料包含，例如，單獨之鹵化酞菁型色料或其與雙偶氮黃色色料、喹酞酮型黃色色料或一金屬錯合物之混合物，特別是單獨之C.I.色料綠色7，單獨之C.I.色料綠色36，或由C.I.色料綠色7、C.I.色料綠色36及C.I.色料黃色83、C.I.色料黃色138或C.I.色料黃色150之至少一成員所組成之混合物。其它適合之綠色色料係C.I.色料綠色15、25及37。
適當綠色染料之例子係C.I.酸性綠3、9、16，C.I.鹼性綠色1及4。
適當藍色色料之例子係酞菁型色料，其係單獨使用或與二噁型型紫色色料混合使用，例如，單獨之C.I.色料藍色15：6、C.I.色料藍色15：6及C.I.色料紫色23之混合物。藍色色料之進一步例子係C.I.色料藍色15：3、15：4、16、22、28及60。其它適當色料係C.I.色料紫色14、19、23、29、32、37、177及C.I.橙色73。
適當藍色染料之例子係C.I.溶劑藍色25、49、68、78、94，C.I.直接藍色25、86、90、108，C.I.酸性藍色1、7、9、15、103、104、158、161，C.I.鹼性藍色1、3、9、25及C.I.分散藍色198。
用於黑色矩陣之光聚合組成物之色料較佳係包含至少一選自碳黑、鈦黑及氧化鐵所組成之族群的成員。然而，整體上產生黑色外觀之其它色料之混合物亦可被使用。例如，C.I.色料黑色1、7及31可被單獨或合併使用。
用於濾色器之染料之其它例子係C.I.溶劑黃色2、5、14、15、16、19、21、33、56、62、77、83、93、162、104、105、114、129、130、162，C.I.分散黃色3、4、7、31、54、61、201，C.I.直接黃色1、11、12、28，C.I.酸性黃色1、3、11、17、23、38、40、42、76、98，C.I.鹼性黃色1C.I.溶劑紫色13、33、45、46，C.I.分散紫色22、24、26、28，C.I.酸性紫色49，C.I.鹼性紫色2、7、10，C.I.溶劑橙色1、2、5、6、37、45、62、99，C.I.酸性橙色1、7、8、10、20、24、28、33、56、74，C.I.直接橙色1，C.I.分散橙色5，C.I.直接棕色6、58、95、101、173，C.I.酸性棕色14，C.I.溶劑黑色3、5、7、27、28、29、35、45及46。
於某些製造濾色器之特殊情況，互補色(黃色、紫紅色、藍綠色及選擇性之綠色)係被使用以替代紅、綠及藍色。用於此種濾色器之黃色，上述之黃色色料及染料可被使用。適於紫紅色之著色劑之例子係C.I.色料紅色122、144、146、169、177，C.I.色料紫色19及23。藍綠色之例子係鋁酞菁色料、鈦酞菁色料、鈷酞菁色料及錫酞菁色料。
對於任何顏色，多於二種色料之組合亦可被使用。特別適合於濾色器應用者係藉由使上述色料細微地分散於樹脂中而製得之粉末狀之經加工處理之色料。
總固體成份(各種顏色及樹脂之色料)中之色料之濃度係，舉例於5至80重量%之範圍，特別是20至45重量%之範圍。
濾色器阻劑組成物中之色料較佳係具有小於可見光波 長(400 nm至700 nm)之平均顆粒直徑。特別佳係<100 nm之平均色料直徑。
若需要，色料可藉由以一分散劑預處理該色料而改良該色料於該液體配方中之分散安定性而於該光敏性組成物中安定化。
較佳地，依據本發明之濾色器阻劑組成物另外含有至少一加成之可聚合之單體化合物作為成份(a)。
烯族不飽和化合物(a)包含一或多個烯烴雙鍵。其可具低(單體)或高(寡聚物)分子量。含有雙鍵之化合物之例子係(甲基)丙烯酸，烷基、羥基烷基或胺基烷基之(甲基)丙烯酸酯，例如，甲基、乙基、正丁基、異丁基、第三丁基、正丙基、異丙基、正己基、環己基、2-乙基己基、異冰片基(isobornyl)、苯甲基、2-羥基乙基、2-羥基丙基、甲氧基乙基、乙氧基乙基、丙三醇、苯氧基乙基、甲氧基二甘醇、乙氧基二甘醇、聚乙二醇、聚丙二醇、縮水甘油基、N、N-二甲基胺基乙基、及N、N-二乙基胺基乙基之(甲基)丙烯酸酯。其它例子係(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺、N-取代之(甲基)丙烯醯胺，諸如，N、N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N、N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N、N-二丁基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、及N-(甲基)丙烯醯基嗎啉，乙烯基酯，諸如，乙酸乙烯酯，乙烯基醚，諸如，異丁基乙烯基醚，苯乙烯，烷基-、羥基-及鹵基之苯乙烯，N-乙烯基吡咯烷酮，N-乙烯基己內醯胺，N-乙烯基乙醯胺，N-乙烯基甲 醯胺，氯乙烯及偏氯乙烯(vinylidene chloride)。
相對較高分子量之多元不飽和化合物(寡聚物)之例子係含有乙烯不飽和羧酸酯之聚酯、聚氨酯、聚醚及聚醯胺。
特別適合之例子係乙烯不飽和羧酸與多元醇或聚環氧化物之酯。
不飽和羧酸之例子係丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、肉桂酸及不飽和脂肪酸，諸如，亞麻油酸或油酸。丙烯酸及甲基丙烯酸係較佳。
適當之多元醇係芳香族，特別地，脂族及環脂族之多元醇。芳香族多元醇之例子係氫醌、4,4’-二羥基聯苯、2,2-雙(4-羥基苯基)甲烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)六氟丙烷、9,9-雙(4-羥基苯基)茀、線型酚醛清漆及甲階酚醛清漆。脂族及環脂族之多元醇之例子係較佳具有2至12個碳之伸烷基二醇，諸如，乙二醇，1,2-或1,3-丙烷二醇，1,2-、1,3-或1,4-丁烷二醇，戊烷二醇，己烷二醇，辛烷二醇，十二烷二醇，二甘醇，三甘醇，具有較佳為200至1500之分子量之聚乙二醇，1,3-環戊烷二醇，1,2-、1,3-或1,4-環己烷二醇，1,4-二羥基甲基環己烷，丙三醇，三乙醇胺，三甲基醇乙烷，三甲基醇丙烷，新戊四醇，新戊四醇單草酸酯，二新戊四醇，新戊四醇與乙二醇或丙二醇之醚，二新戊四醇與乙二醇或丙二醇之醚，山梨糖醇，2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]甲烷，2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷及9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀。其它適合之多元醇係於聚合物鏈或側基含有羥基之聚合物及共聚物， 例子係包含乙烯基醇或包含羥基烷基(甲基)丙烯酸酯之同聚物或共聚物。進一步之適合的多元醇係具有羥端基之酯及胺酯。
多元醇可以不飽和羧酸或以不同之不飽和羧酸經部份或完全地酯化，且於部份之酯中，游離之羥基基團可被改質，例如，以其它羧酸醚化或酯化。
以多元醇為主之酯之例子係三甲基醇丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三甲基醇丙烷三(丙烯醯基氧丙基)醚、三甲基醇乙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、四亞甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯單草酸酯、二新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯單(2-羥基乙基)醚、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、1，3-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁烷二醇二衣康酸酯、己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-環己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇三(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇五(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇六(甲基)丙烯酸酯、寡聚酯(甲基)丙烯酸酯、丙三醇之二(甲基)丙烯酸酯及三(甲基)丙烯酸酯、具200至1500分子量之聚乙二醇之二(甲基)丙烯酸酯、新 戊四醇二之康酸酯、二新戊四醇三衣康酸酯、二新戊四醇五衣康酸酯、二新戊四醇六衣康酸酯、乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1,3-丁烷二醇二衣康酸酯、1,4-丁烷二醇二衣康酸酯、四亞甲基二醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯、乙二醇二巴豆酸酯、四亞甲基二醇二巴豆酸酯、新戊四醇二巴豆酸酯、乙二醇二順丁烯二酸酯、三甘醇二順丁烯二酸酯、新戊四醇二順丁烯二酸酯、山梨糖醇四順丁烯二酸酯或其等之混合物。
其它例子係如下式(XII)及(XIII)所示之新戊四醇及二新戊四醇之衍生物： 其中，M1 係-(CH2 CH2 O)-或-[CH2 CH(CH3 )O]-，R100 係-COCH=CH2 或-COC(CH3 )=CH2 ，p係0至6(p之總數：3-24)，且q係0至6(q之總數：2-16)。
聚環氧化物之例子係以上述多元醇及表氯醇(epichlorohydrin)為主者。典型之例子係雙(4-縮水甘油基氧-苯基)甲烷、2,2-雙(4-縮水甘油基氧苯基)丙烷、2,2-雙(4-縮水甘油基氧苯基)六氟丙烷、9,9-雙(4-縮水甘油基氧苯基)茀、雙[4-(2-縮水甘油基氧乙氧基)苯基]甲烷、2,2-雙[4-(2- 縮水甘油基氧乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(2-縮水甘油基氧乙氧基)苯基]六氟丙烷、9,9-雙[4-(2-縮水甘油基氧乙氧基)苯基]茀、雙[4-(2-縮水甘油基氧丙氧基)苯基]甲烷、2,2-雙[4-(2-縮水甘油基氧丙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(2-縮水甘油基氧丙氧基)苯基]六氟丙烷、9,9-雙[4-(2-縮水甘油基氧丙氧基)苯基]茀、及酚與甲酚之熱塑性酚醛清漆之縮水甘油醚。
以聚環氧化物為主之成份(a)之典型例子係2,2-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯基氧)丙氧基}苯基]丙烷、2,2-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯基氧)丙氧基乙氧基}苯基]丙烷、9,9-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯基氧)丙氧基}苯基]茀、9,9-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯基氧)丙氧基乙氧基}苯基]氟化物及以熱塑性酚醛清漆為主之環氧樹脂與(甲基)丙烯酸之反應產物。
自上述多元醇或聚環氧化物與具有羥基之不飽和化合物(諸如，2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基醇)之反應而獲得之聚醚亦可作為成份(a)。
亦適合作為成份(a)者係相同或相異之不飽和羧酸與具有較佳為2至6(特別是2至4)個胺基基團之芳香族、環脂族及脂肪族之聚胺的醯胺。此等聚胺之例子係乙二胺、1,2-或1,3-丙二胺、1,2-、1,3-或1,4-丁二胺、1,5-戊二胺、1,6-己二胺、辛二胺、伸十二烷基二胺、1,4-二胺基環己烷、異佛爾酮二胺、苯二胺、雙苯伸基二胺、二--胺基乙基醚、二伸乙基三胺、三伸乙基四胺、二(-胺基乙氧基)-或二(-胺基丙氧基)乙烷。其它適合之聚胺係較佳於側鏈具額外胺基之聚合 物及共聚物，及具胺端基之寡聚醯胺。此等不飽和醯胺之例子係亞甲基雙丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙丙烯醯胺、二伸乙基三胺三甲基丙烯醯胺、雙(甲基丙烯基醯胺基丙氧基)乙烷、-甲基丙烯基醯胺基乙基甲基丙烯酸酯及N[(-羥基乙氧基)乙基]丙烯醯胺。
其它例子係自聚異氰酸酯及具有羥基基團之不飽和化合物或自聚異氰酸酯、多元醇及具羥基基團之不飽和化合物所衍生之不飽和氨酯。
其它例子係於鏈中具有乙烯不飽和基團之聚酯、聚醯胺或聚氨酯。適當之不飽和聚酯及聚醯胺亦衍生自，例如，順丁烯二酸及二醇或二胺。一些順丁烯二酸可以被其它二羧酸所取代。聚酯及聚醯胺亦可衍生自二羧酸及乙烯不飽和二醇或二胺，特別是自具有，例如，6至20個碳原子之相對較長鏈者。聚氨酯之例子係由飽和或不飽和之二異氰酸酯及不飽和或，個別地，飽和之二醇所組成。
於側鏈具丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基團之其它適合之聚合物係，例如，溶劑可溶或鹼可溶之聚醯亞胺先質，例如，具有附接至主幹或至該分子內之酯基團之光可聚合之側基基團之聚(醯胺酸酯)化合物，即，依據EP 624826。此等寡聚物或聚合物可選擇性地以反應性稀釋劑(如，多官能性之(甲基)丙烯酸酯)配製，以便製造高敏化性之聚醯亞胺前質阻劑。
成份a)之進一步例子亦係於分子結構內具有至少一羧基官能基及至少二乙烯不飽和基團之聚合物或寡聚物，諸 如，藉由飽和或不飽和之多元酸酐與酚或甲酚熱塑性酚醛清漆環氧樹脂及一不飽和單羧酸之反應產物(例如，諸如EB9696、UCB Chemicals；KAYARAD TCR1025、Nippon Kayaku Co.，LTD之市售產品)反應而獲得之樹脂。多元酸酐之例子係順丁烯二酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、酞酸酐、四氫酞酸酐、六氫酞酸酐、甲基四氫酞酸酐、戊二酸酐、戊烯二酸酐、檸康酸酐、二甘醇酸酐、胺基二乙酸酐、1，1-環戊烷二乙酸酐、3，3-二甲基戊二酸酐、3-乙基-3-甲基戊二酸酐、2-苯基戊二酸酐、高酞酸酐、偏苯三酸酐、氯茵酸酐、苯四酸二酐、苯醯苯四羧酸二酐、二苯基四羧酸二酐、及二苯基醚四羧酸二酐。
其它的例子係式(XIV)之化合物與一或多種上述多元酸酐之多元縮合反應及/或加成反應之產物。
其中，Y1 係 、或； R200 係氫或甲基，R300 及R400 係彼此個別為氫、甲基、Cl或Br，M2 係具有1至10個碳原子之經取代或未經取代之伸烷基，x係 0至5，且y係1至10。作為成份(a)之此類化合物的例子係在JP2002-206014A、JP2004-69754A、JP2004-302245A、JP2005-77451A、JP2005-316449A、JP2005-338328A及JP3754065B2中敘述。
該化合物(XIV)之例子係，其係透過與 丙烯酸反應而得。
如上述之聚合物或寡聚物係具有如約1000至1000000的分子量，較佳係2000至200000，且具有一約10至200 mg KOH/g之酸值，較佳係20至180mg KOH/g。
較佳之可光聚合之組成物包含於該分子內具有至少二乙烯不飽和鍵及至少一羧酸基團之化合物作為成份(a)，特別是藉由添加含環氧基團之不飽和化合物至含羧酸基團之聚合物或如下所示化合物與一或多種多元酸酐之反應產物之一部份羧基而獲得之反應產物。進一步較佳之成份(a)包含自式XIV之化合物和一或多種多元酸酐之反應所得之化合物。
進一步例子係藉由添加含環氧基之不飽和化合物至含羧酸基團之聚合物的部份羧基而獲得之反應產物。作為含羧酸基團之聚合物，上述黏結劑聚合物(其係產自一不飽和羧酸化合物與一或多種可聚合化合物反應而形成)係，例如，(甲基)丙烯酸、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯及2-羥 基乙基(甲基)丙烯酸酯之共聚物，(甲基)丙烯酸、苯乙烯及α-甲基苯乙烯之共聚物，(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來醯亞胺、苯乙烯及苯甲基(甲基)丙烯酸酯之共聚物，(甲基)丙烯酸及苯乙烯之共聚物，(甲基)丙烯酸及苯甲基(甲基)丙烯酸酯之共聚物，四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯及(甲基)丙烯酸之共聚物等。
具有一環氧基團之不飽和化合物之例子係如下於式(V-1)-(V-15)所示者；
其中，R50 係氫或甲基，M3 係具有1至10個碳原子之經取代或未經取代之伸烷基。
於此等化合物，具有脂環狀環氧基團之化合物係特別佳，因為此等化合物與含羧基之樹脂具有高反應性，因此，反應時間可被縮短。此等化合物進一步係不會於反應處理中造成膠凝，且使其能安定地進行此反應。另一方面，縮水甘油基丙烯酸酯及縮水甘油基甲基丙烯酸酯由敏化性及耐熱性之觀點而言係有利的，因為其等具有低分子量且可產生高轉化率之酯化反應。
上述化合物之具體例子係，例如，苯乙烯、α-甲基苯乙烯及丙烯酸之共聚物或甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸之共聚物與3，4-環氧環己基甲基(甲基)丙烯酸酯之反應產物。
具有羥基之不飽和化合物(諸如，2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯及丙三醇單(甲基)丙烯酸酯)可被使用，以替代上述含環氧基團之不飽和化合物作為含羧酸基之聚合物之反應物。
其它例子係含酐聚合物之半酯，例如，順丁烯二酸酐及一或多種其它可聚合化合物之共聚物與具有醇羥基(諸如，2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯)或具有環氧基(例如，式(V-1)-(V-15)所述之化合物)之(甲基)丙烯酸酯之反應產物。
具有醇羥基之聚合物(諸如，2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、苯甲基甲基丙烯酸酯及苯乙烯)與(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯化氯之反應產物亦可使用為成份(a)。
其它例子係具不飽和端基之聚酯(其係自二元酸酐及具有至少二環氧基之化合物反應及其後與一不飽和化合物進一步反應而獲得)與多元酸酐反應之產物。
進一步例子係藉由一飽和或不飽和之多元酸酐與一藉由添加含環氧基之(甲基)丙烯化合物至如上所述之含羧酸之聚合物的所有羧基而獲得之反應產物反應而獲得之樹脂。
可光聚合之化合物可單獨或以任何所欲之混合物使用。
於濾色器阻劑組成物，該可光聚合之組成物內所含之單體總量較佳係5至80重量%，特別是10至70重量%，其係以該組成物之全部固體含量(即，沒有溶劑之所有成份的量)為基準計。
作為濾色器阻劑組成物之黏結劑，其係可溶於鹼性水溶液且不可溶於水，舉例如，於分子中具有一或多個酸基團及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物的同聚物，或其二或更多種之共聚物，及一或多種具有一或多個可與 此等化合物共聚合之不飽和鍵且不含酸基之可聚合化合物之共聚物，係可被使用。此等化合物可藉由使一或多種於分子內具有一或多個酸基及一或多個可聚合不飽和鍵之低分子化合物與一或多種具有一或多個可與此等化合物共聚合且不含酸基之不飽和鍵的可聚合化合物共聚合而獲得。酸基之例子係-COOH基、-SO3 H基、-SO2 NHCO-基、酚醛羥基、-SO2 NH-基、及-CO-NH-CO-基。其間，特別佳係具有-COOH基之高分子化合物。
較佳地，濾色器阻劑組成物中之有機聚合物黏結劑包含含有作為可加成聚合之單體單元之至少一不飽和有機酸化合物(諸如，丙烯酸、甲基丙烯酸等)之鹼可溶共聚物。較佳係使用作為聚合物黏結劑之進一步共單體的不飽和有機酸酯化合物，諸如，甲基丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯等，以平衡諸如鹼可溶性、黏著剛性、耐化學性等之性質。
有機聚合物黏結劑可為一無規共聚物或一嵌段共聚物，例如，在US 5368976中所述的。
分子內具有一或多個酸基及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物之例子包含下列化合物：分子內具有一或多個-COOH基及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物之例子係(甲基)丙烯酸、2-羧基乙基(甲基)丙烯酸、2-羧基丙基(甲基)丙烯酸、巴豆酸、肉桂酸、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]琥珀酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]己二酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]酞酸酯、 單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]六氫酞酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]順丁烯二酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丙基]琥珀酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丙基]己二酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丙基]酞酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丙基]六氫酞酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丙基]順丁烯二酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丁基]琥珀酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丁基]己二酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丁基]酞酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丁基]六氫酞酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丁基]順丁烯二酸酯、3-(烷基氨基甲醯基)丙烯酸、α-氯丙烯酸、順丁烯二酸、單酯化順丁烯二酸、福馬酸、衣康酸、檸康酸、中康酸、順丁烯二酸酐、及ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯。
乙烯基苯磺酸及2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸係具有一或多個-SO3 H基及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物之例子。
N-甲基磺醯基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基磺醯基(甲基)丙烯醯胺、N-苯基磺醯基(甲基)丙烯醯胺及N-(p-甲基苯基磺醯基)(甲基)丙烯醯胺係具有一或多個-SO2 NHCO-基及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物之例子。
於分子內具有一或多個酚醛羥基及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物之例子包含羥基苯基(甲基)丙烯醯胺、二羥基苯基(甲基)丙烯醯胺、羥基苯基-羰基氧乙基(甲基)丙烯酸酯、羥基苯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯、羥基苯基硫基乙基(甲基)丙烯酸酯、二羥基苯基羰基氧乙基(甲基)丙 烯酸酯、二羥基苯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯及二羥基-苯基硫基乙基(甲基)丙烯酸酯。
分子內具有一或多個-SO2 NH-基及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物之例子包含以式(a)或(b)表示之化合物：CH2 =CHA1 -Y1 -A2 -SO2 -NH-A3 (a)CH2 =CHA4 -Y2 -A5 -NH-SO2 -A6 (b)其中，Y1 及Y2 各係代表-COO-、-CONA7 -或一單一鍵；A1 及A4 各係代表H或CH3 ；A2 及A5 各係代表選擇性具有一取代基之C1 -C12 伸烷基、伸環烷基、伸芳基或伸芳烷基，或是一醚基及一硫醚基嵌入其中之C2 -C12 伸烷基、伸環烷基、伸芳基、或伸芳烷基；A3 及A6 各係代表H、選擇性具有取代基之C1 -C12 烷基、環烷基、芳基、或芳烷基；且A7 代表H、選擇性具有取代基之C1 -C12 烷基、環烷基、芳基、或芳烷基。
具有一或多個-CO-NH-CO-基及一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物包含馬來醯亞胺及N-丙烯醯基丙烯醯胺。此等可聚合化合物係藉由聚合反應變成包含-CO-NH-CO-基之高分子化合物，其中，一環係與主要鍵一起形成。再者，一甲基丙烯酸衍生物及一丙烯酸衍生物(每一者係具有-CO-NH-CO-基)亦可被使用。此類甲基丙烯酸衍生物及丙烯酸衍生物包含，例如，甲基丙烯醯胺衍生物，諸如，N-乙醯基甲基丙烯醯胺、N-丙醯基甲基丙烯醯胺、N-丁醯基甲基丙烯醯胺、N-戊醯基甲基丙烯醯胺、N-癸醯基甲基丙烯醯胺、N-十二烷醯基甲基丙烯醯胺、N-苯甲醯基甲基丙烯醯胺、N-(對-甲基苯甲醯基)甲基丙烯醯胺、 N-(對-氯苯甲醯基)甲基丙烯醯胺、N-(萘基-羰基)甲基丙烯醯胺、N-(苯基乙醯基)-甲基丙烯醯胺及4-甲基丙烯醯基胺基酞亞胺及具有與此等相同之取代基之丙烯醯胺衍生物。此等可聚合化合物聚合成於側鏈具有-CO-NH-CO-基團之化合物。
具有一或多個可聚合不飽和鍵且不含酸性基團之可聚合化合物之例子包含具有可聚合不飽和鍵之化合物，其係選自(甲基)丙烯酸之酯，諸如，甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、丙三醇單(甲基)丙烯酸酯、二羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、烯丙基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基苯基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三甘醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二丙甘醇(甲基)丙烯酸酯、異冰片基甲基(丙烯酸酯)、二環戊二烯基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、三環[5.2.1.02,6 ]癸-8-基(甲基)丙烯酸酯、胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N、N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、胺基丙基(甲基)丙烯酸酯、N、N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯酸酯、縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、3,4-環氧丁基(甲基)丙烯酸 酯、6,7-環氧庚基(甲基)丙烯酸酯；乙烯基芳香族化合物，諸如，苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、對-氯苯乙烯、聚氯苯乙烯、氟苯乙烯、溴苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯、乙烯基苯甲基甲基醚、乙烯基苯甲基縮水甘油基醚、茚、1-甲基茚；乙烯基或烯丙基酯，諸如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、戊酸乙烯酯，苯甲酸乙烯酯、乙烯基三甲基乙酸酯、乙烯基二乙基乙酸酯、硼酸乙烯酯、己酸乙烯酯、乙烯基氯乙酸酯、乙烯基二氯乙酸酯、乙烯基甲氧基乙酸酯、乙烯基丁氧基乙酸酯、乙烯基苯基乙酸酯、乙酸乙烯酯、乙烯基乙醯乙酸酯、乳酸乙烯酯、乙烯基苯基丁酸酯、乙烯基環己基羧酸酯、乙烯基水楊酸酯、乙烯基氯苯甲酸酯、乙烯基四氯苯甲酸酯、乙烯基萘酸酯、烯丙基乙酸酯、烯丙基丙酸酯、烯丙基丁酸酯、烯丙基戊酸酯、烯丙基苯甲酸酯、烯丙基己酸酯、烯丙基硬脂酸酯、烯丙基乙醯乙酸酯、烯丙基乳酸酯；乙烯基或烯丙基之醚，諸如，乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、乙烯基己基醚、乙烯基辛基醚、乙烯基乙基己基醚、乙烯基甲氧基乙基醚、乙烯基乙氧基乙基醚、乙烯基氯乙基醚、乙烯基羥基乙基醚、乙烯基乙基丁基醚、乙烯基羥基乙氧基乙基醚、乙烯基二甲基胺基乙基醚、乙烯基二乙基胺基乙基醚、乙烯基丁基胺基乙基醚、乙烯基苯甲基醚、乙烯基四氫糠基醚、乙烯基苯基醚、乙烯基甲苯基醚、乙烯基氯苯基醚、乙烯基氯乙基醚、乙烯基二氯苯基醚、乙烯基萘基醚、乙烯基 蒽基醚、烯丙基縮水甘油基醚；醯胺型不飽和化合物，諸如，(甲基)丙烯醯胺、N、N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N、N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N、N-二丁基(甲基)丙烯醯胺、N、N-二乙基己基(甲基)丙烯醯胺、N、N-二環己基(甲基)丙烯醯胺、N、N-二苯基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-苯基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基乙基-N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、N-庚基(甲基)丙烯醯胺、N-辛基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺環己基、N-苯甲基(甲基)丙烯醯胺、N-苯基(甲基)丙烯醯胺、N-甲苯基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基苯基(甲基)丙烯醯胺、N-萘基(甲基)丙烯醯胺、N-苯基磺醯基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基苯基磺醯基(甲基)丙烯醯胺及N-(甲基)丙烯醯基嗎啉、二丙酮丙烯醯胺、N-甲基醇丙烯醯胺、N-丁氧基丙烯醯胺；聚烯烴型化合物，諸如，丁二烯、異戊間二烯、氯丁二烯等；(甲基)丙烯腈、甲基異丙烯基酮、馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-甲基苯基馬來醯亞胺、N-甲氧基苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-烷基馬來醯亞胺、順丁烯二酸酐、聚苯乙烯巨單體、聚甲基(甲基)丙烯酸酯巨單體、聚丁基(甲基)丙烯酸酯巨單體；巴豆酸酯，諸如，丁基巴豆酸酯、己基巴豆酸酯、甘油單巴豆酸酯；及衣康酸酯，諸如，二甲基衣康酸酯、二乙基衣康酸酯、及丁基衣康酸酯；及順丁烯二酸酯或福馬酸酯，諸如，二甲基順丁 烯二酸酯、二丁基福馬酸酯。
共聚物之較佳例子係甲基(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸之共聚物，甲基(甲基)丙烯酸酯/乙基(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及苯乙烯之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯之共聚物，甲基(甲基)丙烯酸酯/丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及苯乙烯之共聚物，甲基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及羥基苯基(甲基)丙烯酸酯之共聚物，甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及聚甲基(甲基)丙烯酸酯巨單體之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及聚甲基(甲基)丙烯酸酯巨單體之共聚物，四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯及(甲基)丙烯酸之共聚物，甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及聚苯乙烯巨單體之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及聚苯乙烯巨單體之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯及聚苯乙烯巨單體之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯及聚苯乙烯巨單體之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯及聚甲基(甲基)丙烯酸酯巨單體之共聚物，甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯及聚苯乙烯巨單體之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、2-羥基乙基(甲基)丙烯酸 酯及聚甲基(甲基)丙烯酸酯巨單體之共聚物，N-苯基馬來醯亞胺、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及苯乙烯之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來醯亞胺、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]琥珀酸酯及苯乙烯之共聚物，烯丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來醯亞胺、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]琥珀酸酯及苯乙烯之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來醯亞胺、丙三醇單(甲基)丙烯酸酯及苯乙烯之共聚物，苯甲基(甲基)丙烯酸酯、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來醯亞胺、丙三醇單(甲基)丙烯酸酯及苯乙烯之共聚物及苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、N-環己基馬來醯亞胺及苯乙烯之共聚物。
本發明內文中之該術語「(甲基)丙烯酸酯」係意指丙烯酸酯以及所對應之甲基丙烯酸酯。
亦可使用羥基苯乙烯之同聚物或共聚物或熱塑性酚醛清漆之酚樹脂，例如，聚(羥基苯乙烯)及聚(羥基苯乙烯-共-乙烯基環己醇)、熱塑性酚醛清漆樹脂、甲酚熱塑性酚醛清漆樹脂、及鹵化酚熱塑性酚醛清漆樹脂。更特別地，其包含，例如，甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、順丁烯二酸酐共聚物，例如，以苯乙烯作為共單體，及順丁烯二酸共聚物、及部份酯化之順丁烯二酸共聚物，其各係描述於，例如，JP 59-44615-B4("JP-B4"一辭於此被使用為指稱被審查之日本專利公告案)、JP 54-34327-B4、JP 58-12577-B4、及JP 54-25957-B4、 JP 59-53836-A、JP 59-71048-A、JP 60-159743-A、JP 60-258539-A、JP 1-152449-A、JP 2-199403-A、及JP 2-199404-A，且此等共聚物可與一胺進一步反應，例如，US 5650263所揭露；進一步，於側鏈上具有羧基之纖維素衍生物可被使用，且特別佳係苯甲基(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸之共聚物及苯甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸及其它單體之共聚物，例如，US 4139391、JP 59-44615-B4、JP 60-159743-A及JP 60-258539-A中所述者。
有關上述有機黏結劑聚合物中之具羧酸基團者，其係可使一些或所有之羧酸基團與縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯或環氧(甲基)丙烯酸酯反應而獲得用於改良光敏性、塗覆物膜強度、塗覆溶劑及化學抗性及與該基材之黏著性之可光聚合之有機黏結劑聚合物。例子係揭示於，JP 50-34443-B4及JP 50-34444-B4、US 5153095、T.Kudo等人於J.Appl.Phys.第37冊(1998)第3594-3603頁、US 5677385、及US 5650233。
黏結劑之平均重量分子量較佳係500至1’000’000，例如，3’000至1’000’000，更佳係5’000至400’000。
此等化合物可單獨或以二或更多種之混合物而使用。於光敏性樹脂組成物中之黏結劑含量較佳係10至95重量%，更佳係15至90重量%，其係以全部固體物料為基準計。
再者，於濾色器中，每一顏色之總固體組份可含有離子性雜質清除劑，例如，具有環氧基之有機化合物。總固體組份內之離子性雜質清除劑濃度一般係在0.1重量%至10重量%之範圍。
濾色器之例子，特別是有關於上述色料及離子性雜質清除劑之混合物，係示於EP 320264。瞭解的是，在EP 320264中所述之濾色器組成物中，依據本發明之光起始劑(亦即是具化學式I、II及III之化合物)可取代三嗪起始劑化合物。
依據本發明之組成物可另外包含藉由酸活化之交聯劑(例如，JP 10 221843-A所述)，及藉由熱或藉由光化輻射產生酸且活化交聯反應之化合物。
依據本發明之組成物亦可包含潛色料，其可於含有此潛色料之光敏性圖案或塗覆物熱處理期間轉換成細微分散之色料。熱處理可於含潛色料之可以光形成圖像之層曝光後或顯影後實施。此等潛色料係可溶性色料先質，其可藉由化學、熱、光解或輻射誘發方法(例如，US 5879855所述)轉換成不可溶性之色料。此等潛色料之轉換可藉由添加於光化曝光產生酸之化合物或藉由添加酸性化合物至組成物而促進。因此，一依據本發明包含一潛色料於組成物中之濾色器亦可被製造。
濾色器阻劑之例子、此等阻劑之組成物及加工處理條件係示於T.Kudo等人之Jpn.J.Appl.Phys.37冊(1998)3594；T.Kudo等人之J.Photopolym.Sci.Technol.第9冊(1996)109；K.Kobayashi之固態技術(Solid State Technol.)1992年12月、S15-S18頁；US 5368976；US 5800952；US 5882843；US 5879855；US 5866298；US 5863678；JP 06-230212-A；EP 320264；JP 09-269410-A；JP 10-221843-A； JP 01-090516-A；JP 10-171119-A、US 5821016、US 5847015、US 5882843、US 5719008、EP 881541、或EP 902327。
本發明之光起始劑可用於濾色器阻劑，例如，如上所舉例者，或可部份或完全取代此等阻劑中之已知光起始劑。熟習此項技藝者瞭解本發明之新穎光起始劑之使土並不限於先前所示之濾色器阻劑例子之特殊黏結劑樹脂、交聯劑及組成物，但可與和染料或彩色色料混合之任何基可聚合組份結合使用，形成光敏性濾色器墨水或濾色器阻劑。
因此，本發明之標的亦係一種濾色器，其係藉由於透明基材上提供皆包含光敏性樹脂及色料之紅、綠及藍(RGB)色元素及選擇性之黑色矩陣，及於基材表面上或於濾色器層上提供透明電極而製得，其中，該光敏性樹脂包含多官能性丙烯酸酯單體、有機聚合物黏結劑，及如上所述具化學式I、II或III之光聚合反應起始劑。單體及黏結劑組份與適合色料係如上所述。於濾色器之製造，透明電極層可被塗敷於透明基材之表面上，或可於紅、綠及藍色圖像元素及黑色矩陣之表面上提供。透明基材係，例如，玻璃基材，其可另外於其表面上具有電極層。
較佳係於不同顏色之顏色區域間施用黑色矩陣，以提供濾色器之對比。
本發明之光敏性組成物，已於上所述，係亦適用於濾色器之黑色矩陣的製備。該黑色矩陣組成物例如包括： -一本發明化學式I或II之光起始劑化合物或一本發明化學式I或II化合物與根據本發明上述之化學式I'或II'化合物之光起始劑混合物，-一有機黏結劑，特別是一具有羧基基團之環氧丙烯酸酯的有機黏結劑，-一黑色顏料，-一聚合物分散液，尤其是一含有鹼性官能基之聚合物分散液。
所屬領域者係熟習該些配方。如上所述適用之黑色矩陣組成物與成份(光起始劑以外的)係於日本專利編號375065中教示，其所揭示者因此併入此中當作參考。
本發明之一主題也為如上所述之可光聚合組成物，作為包括一色料或色料混合物之額外添加劑(d)。
本發明之另一主題係如上所述之可光聚合組成物，除了作為額外添加劑(d)之色料或色料混合物之外，可擇地作為包括一分散液或分散液混合物之額外添加劑(d)。
替代使用光敏性組成物形成黑色矩陣及藉由圖像式曝光(即，經由適當遮罩)以微影術使黑色光敏性組成物形成圖案以於透明基材上形成分離紅、綠及藍色區域之黑色圖案，另外可使用無機黑色矩陣。此一無機黑色矩陣可藉由適當形成圖像之方法(例如，使用微影術形成圖案)藉由蝕刻阻劑，蝕刻未受蝕刻阻劑保護之區域內之無機層，然後移除剩餘之蝕刻阻劑，而自透明基材上之沈積(即，濺鍍)金屬(即，鉻)形成。
具有已知之不同方法於如何及於製造濾色器方法中之何步驟可施用該黑色矩陣。可為如上所述於形成紅、綠及藍(RGB)濾色器前直接塗敷於透明基材上，或可於RGB濾色器於基材上形成後塗敷。
於用於液晶顯示器之濾色器之不同實施例，依據US 626796，黑色矩陣亦可塗敷於與載負RGB濾色器元素之基材相反之基材上，二基材係藉由液晶層分隔。
若透明電極層於塗敷RGB濾色器元素及選擇性之黑色矩陣後沈積，作為保護層之額外保護塗層可於沈積電極層前塗敷於濾色器層上，例如，US 5650263所述。
為形成濾色器之保護塗層，光敏性樹脂或熱固性樹脂組成物可被使用。本發明之光敏性組成物亦可被用以形成此保護塗層，因為此組成物之固化膜於平整性、硬度、耐化學性及耐熱性、透明性(特別是於可見光區域)、與基材之黏著性，及於其上形成透明導電膜(例如，ITO膜)之適當性係優異。於製造保護層，需要使保護層之不必要部份(例如，用以切割基材之畫線及實體圖像感應器之結合墊)需自基材移除，如JP57-42009-A、JP1-130103-A及JP1-134306-A所述。因此，難以使用上述熱固性樹脂選擇性形成具良好精確性之保護層。但是，光敏性組成物能藉由微影術輕易移除保護層之不必要部份。
對於熟習此項技藝者明顯地，本發明之光敏性組成物可用於產生用於製造濾色器之紅、綠及藍色之像素及黑色矩陣，而無論上述加工處理上之差異，無論可被塗敷之額 外層，且無論濾色器設計上之差異。使用依據本發明之組成物形成具顏色之元素不應受不同設計及此等濾色器之製造方法而限制。
本發明之光敏性組成物可適當地用於形成濾色器，但不受限於此應用。其亦可用於記錄材料、阻劑材料、保護層、介電層、顯示器之應用及顯示元件、塗敷、及印刷墨水。
依據本發明之光敏性組成物亦適於製造液晶顯示器之層間絕緣層或介電層，且更特別係用於反射型液晶顯示器，包含具有薄膜電晶體(TFT)作為開關裝置之主動式矩陣型顯示器，及無開關裝置之被動式矩陣型。
近年來，液晶顯示器由於其小厚度及輕重量之故已廣泛用於，例如，口袋型電梘機及通訊用之終端裝置。無需使用背光之反射型液晶顯示器係特別需要，因為其係超薄且重量輕，且其可顯著降低動力消耗。但是，即使背光被自現今利用之透射型彩色液晶顯示器移除且光反射板添加至顯示器之下表面，其會造成問題，因為光利用效率低，且其不可具有實用亮度。
作為此問題之解決方式，已建議各種用以促進光利用效率之反射型液晶顯示器。例如，某種反射型液晶顯示器被設計而包含具反射功能之像素電極。
此反射型液晶顯示器包含絕緣基材及與絕緣基材間隔開之相對基材。此等基材間之空間係以液晶填充。閘極於於絕緣基材上形成，且閘極及絕緣電極皆以閘絕緣膜覆 蓋。然後，半導體層於閘極上之閘絕緣膜上形成。源極與汲極亦於閘絕緣膜上形成而與半導體層接觸。源極、汲極、半導體層及閘極彼此合作藉此構成作為開關裝置之底閘型TFT。
層間絕緣膜形成而覆蓋源極、汲極、半導體層、及其間之閘絕緣膜。接觸孔於汲極上於整個層間絕緣膜形成。由鋁製成之像素電極於層間絕緣膜及接觸孔之內側壁上形成。TFT之汲極最後係經由層間絕緣膜與像素電極接觸。層間絕緣層一般被設計成具有粗糙化之表面，藉此使像素電極作反射板，其擴散光線而產生較廣之視角(可見角度)。
反射型液晶顯示器係藉由像素電極作為光反射板而顯著促進光利用效率。
於上述之反射型液晶顯示器，層間絕緣膜被設計成具有保護且藉由微影術而形成凹部。為形成及控制用於表光粗化之微米等級之細微形狀之凸部及凹部及形成接觸孔，使用正及負光且劑之微影術方法被使用。用於此等阻劑，依據本發明之組成物係特別適合。
依據本發明之光敏性組成物可進一步用於製造控制液晶顯示器面板之液晶部份之晶胞間隙(cell gap)之間隔物。因為經由液晶顯示器之液晶層透射或反射之光線之性質係依晶胞間隙而定，像素矩陣上之厚度正確性及均一性對於液晶顯示單元之性能係重要參數。於液晶顯示晶胞，晶胞內之基材間之間隔係藉由於基材間稀疏地分佈作為間隔物之直徑約數微米之玻璃或聚合物球而維持固定。間隔物因 而被維持於基材間以使基材間之距離保持固定值。距離係藉由間隔物之直徑而決定。間隔物確保基材間之最小間隔，即，其等避免基材間之距離減少。但是，其不能避免基材彼此分開，即，基材間之距離增加。另外，此一使用間隔物珠之方法具有間隔物珠直徑均一性及難以使間隔物均勻分散於板上，與不均一位向及亮度及/或光學孔徑依間隔物於像素矩陣區域上之位置而減少之問題。具有大圖像顯示面積之液晶顯示器最近係更引起注意力。但是，液晶晶胞面積之增加一般產生構成此晶胞之基材之變形。液晶之層結構易由於基材變形而被破壞。因此，即使間隔物被用以使基材間之間隔維持固定，具有大圖像顯示面積之液晶顯示器因為顯示器遭受干擾而不能實施。替代上述間隔物球分散方法，於晶胞間隙形成管柱作為間隔物之方法被提出。於此方法，樹脂管柱係於像素矩陣區域及對兆電極間之區域形成作為間隔物而形成指定之晶胞間隙。具有黏著性質之光敏性材料藉由微影術被普遍用於，例如，濾色器之製造方法。以間隔物之位置、數量及高度可被自由控制之觀點而言，此方法係比傳統上使用間隔物珠之方法有利。於彩色液晶顯示面板，此等間隔物係於濾色器元素之黑色矩陣下之非形成圖像之區域形成。因此，使用光敏性組成物形成之間隔物不會減少亮度及光學孔徑。
用於製造用於濾色器之具間隔物之保護層之光敏性組成物係揭示於JP 2000-81701-A，且用於間隔物材料之乾燥膜型式之阻劑亦揭示於JP 11-174459-A及JP 11-174464-A。 如該等文獻中所述，該光敏性組成物、液體及乾燥膜阻劑係包含至少一鹼或酸可溶之黏結劑聚合物、一團基可聚合之單體，及一基團起始劑。於某些情況，可熱交聯之成份(諸如，環氧化物及羧酸)可另外被包含。
使用一光敏性組成物形成間隔物之步驟係如下：將一光敏性組成物塗敷於基材(例如，濾色器板)，且於該基材預烘烤之後，使其透過一遮罩曝光。然後，該基材係以顯影劑顯影及經圖案化而形成所欲之間隔物。當該組成物含有某些熱固性組份時，一般係進行一後烘烤以使該組成物熱固化。
依據本發明之可光固化組成物因其高敏化性而係適於製造用於液晶顯示器(如上所述)之間隔物。
依據本發明之光敏性組成物亦適於製造用於液晶顯示器面板、圖像感應器及其相似物之微透鏡矩陣。
微透鏡係顯微鏡被動式光學組件，其係安裝於主動式光學電子裝置(諸如，檢測器、顯示器，及發光裝置(發光二極體、橫式及垂直式腔雷射)以改良其光學輸入或輸出之品質。應用之領域廣泛且涵蓋諸如電信、資訊科技、視聽服務、太陽能電池、檢測器、固態光源及光學互連器之領域。
現今光學系統使用各種不同技術以獲得微透鏡及微光學裝置間之有效偶合。
微透鏡矩陣係用於使照射光線聚集於非冷光式顯示器裝置(諸如，液晶顯示器裝置)之圖像元素區域上，以增加該顯示器之亮度，用於聚集入射光線或作為一使用於，例如， 傳真機及其相似物之線圖像感應器之光電轉化區域上用以形成一圖像之物件以改良此等裝置之敏感性，及用於形成一欲被列印於一使用於液晶印表機或發光二極體(LED)印表機之光敏性物件上之圖像。
最普遍之應用係用於改良諸如電荷偶合裝置(CCD)之固態圖像感應裝置之光檢測器矩陣之效率。於一檢測器矩陣中，每一檢測器元件或像素中儘可能多之光線收集係所欲的。若一微透鏡係置於每一像素之頂部上，該透鏡收集進入之光線且使其集中於比該透鏡尺寸更小之主動區域上。
依據習知之技術，微透鏡矩陣可藉由各種不同之方法製造：
(1)一種獲得凸透鏡之方法，其中，於一平面構形中之透鏡圖案係藉由一傳統光微影法等繪於一熱塑性樹脂上，而然後，該熱塑性樹脂係經加熱至高於該樹脂軟化點之溫度而具有流動性，藉此，於該圖案端緣造成凹陷(所謂之“回流”)(見，例如，JP 60-38989-A、JP 60-165623-A、JP 61-67003-A、及JP 2000-39503-A)。於此方法，當該所用之熱塑性樹脂係光敏性時，透鏡之圖案可藉由使此樹脂曝光而獲得。
(2)一種藉由使用一模具或一壓模使塑料或玻璃材料成型之方法。作為透鏡材料，一可光固化之樹脂及一熱固性樹脂可用於此方法(見，例如，WO99/38035)。
(3)一種用以形成凸透鏡之方法，其係以當一光敏性樹 脂藉由使用一光刻機以所欲之圖案曝光時，未反應之單體自未曝光區域移至曝光區域而造成該曝光區域膨脹之現象為基礎(見，例如，Journal of the Research Group in Microoptics Japanese Society of Applied Physics、Colloquium in Optics、第5冊、編號2、18-123頁(1987)及第6冊，編號2、87-92頁(1988))。
於支撐基材之上表面之上，一光敏性樹脂層被形成。其後，藉由使用個別之遮罩，該光敏性樹脂層之上表面係以一水銀燈等之光線照射，俾使該光敏性樹脂層被曝露於該光線。因此，該光敏性樹脂層之曝光區域膨脹成凸透鏡之外型而形成具有數個微透鏡之集光層。
(4)一種獲得凸透鏡之方法，其中，一光敏性樹脂藉由使一光罩未與該樹脂接觸之近似曝光技術而曝光，於圖案端緣造成模糊，如此，光化學反應產物之量係依在該圖案端緣處之模糊程度而分佈(見，例如，JP 61-153602-A)。
(5)一種產生透鏡效果之方法，其中，一光敏性樹脂係曝光於一具特殊強度分佈之光線，以形成一具有依該光線強度而定之折射率的分佈圖案(見，例如，JP 60-72927-A及JP 60-166946-A)。
依據本發明之光敏性組成物可用於上述任一方法以形成使用可光固化之樹脂組成物之微透鏡矩陣。
特定類型之技術係集中於在類熱塑性樹脂之阻劑形成微透鏡。例子係公開於Popovic等人之參考文獻SPIE 898、23-25頁(1988)。稱為回流技術之技術包含，藉由例如於類 阻劑之光敏性樹脂進行光微影法而於一熱塑性樹脂界定透鏡覆蓋區，及其後使此材料加熱至高於其回流溫度之步驟。該表面張力將阻劑島體拉伸成具有等同於在回流前原始島體之體積的球形蓋。此蓋係一平凸鏡之微透鏡。此技術之優點係簡單、重現性及可直接於一發光裝置或光檢測光電裝置之頂部上積體化。
於某些情況，一覆膜層係於回流前於具有矩形之圖案化透鏡單元上形成，以避免中間之樹脂島體凹陷而未於回流步驟回流成球形蓋。該覆膜層係作為一永久保護層。此塗覆層亦係由光敏性組成物所製成。
微透鏡矩陣亦可藉由使用如EP 932256所揭示之模具或壓模製造。製造一平面式微透鏡矩陣之方法係如下所示：一脫模劑係塗覆於其上緻密配置凸部之壓模的成形表面上，且一具有高折射率之可光固化之合成樹脂材料係置放於該壓模之成形表面上。其次，該底玻璃板被推至該合成樹脂材料上，藉此散佈該合成樹脂材料，且該合成樹脂材料係藉由以紫外線輻射照射或藉由加熱而固化，並經塑型而形成凸微透鏡。其後，該壓模被剝離。然後，具低折射率之可光固化之合成樹脂材料係另外被塗覆於該凸微透鏡上作為黏結層，且一製成覆蓋玻璃板之玻璃基材係被推至該合成樹脂材料之上，藉此使該合成樹脂材料散佈。該合成樹脂材料接著被固化，且最後形成該平面微透鏡矩陣。
如US 5969867所揭示，使用一模具之相似方法被應用於製造稜鏡片，其係作為用於彩色液晶顯示面板之背光單 元之一部份以增進亮度。於一側形成稜鏡列之稜鏡片被嵌置於該背光之發光表面上。為了製造稜鏡片，一可以活性能量射線固化之組成物被鑄製且分散於由金屬、玻璃或樹脂製成之透鏡模具內，且形成稜鏡列等之透鏡外形，其後，透明基材片材被置於其上，且來自活性能量射線之發射源之活性能量射線通過該片材照射以供固化。然後，經製得之透鏡片材自透鏡模具脫離而獲得該透鏡片材。
用以形成透鏡段之可以活性能量射線固化之組成物需具有各種不同性質，包含與透明基材之黏著性，及適當之光學特性。
習知技藝中至少具有一些阻劑之透鏡對於某些應用係非所欲的，因為其在光學光譜之藍色端之透光性差。
因為依據本發明之可光固化組成物具有低的黃化性質(熱及光化學二者)，因此係適於製造如上所述之微透鏡矩陣。
新穎之輻射敏化性組成物亦適於電漿顯示器面板(PDP)製造方法中(特別是障壁肋部、磷光體層及電極之圖像形成方法)所使用之光微影法步驟。
PDP係藉由氣體放電發射光線而顯示圖像及資訊之平面顯示器。藉由面板之建構及操作方法，已知有二種型式，即，DC(直流)型及AC(交流)型。
舉例而言，將概略解釋DC型彩色PDP之原理。於DC型彩色PDP中，介於二透明基材(一般係玻璃板)間之空間係藉由置於該等透明基材間之晶格障壁肋部區分成數個微小晶 胞。於個別晶胞，放電氣體(諸如，He或Xe)被密封。每一晶胞之後壁上具有一磷光體層，其於被藉由該放電氣體放電而產生之紫外光激光時，發射三原色之可見光。於二基材之內表面上，電極係於相關單元上彼此相對地置放。一般地，陰極係由透明導電材料(諸如，NESA玻璃)膜形成。當高電壓被施加於形成在前壁及後壁上之此等電極之間，密封於該等晶胞內之放電氣體誘發電漿放電，且藉由因此而發射之紫外線，激發紅、藍及綠色之螢光元素發射光線且產生圖像顯示。於全彩顯示器系統中，個自具有如上所述之紅、藍及綠三原色之三個螢光元素結合形成一圖像元素。
DC型PDP中之晶胞係藉由晶格之元件障壁肋部而分隔，然而於AC型PDP者係藉由於該基材面上彼此平行配置之障壁肋部分隔。於任一情況中，該等晶胞係藉由障壁肋部而分隔。此等障壁肋部係用以使發光放電限制於一固定區域內，以排除相鄰放電晶胞間之錯誤放電及串音，及確保完美的顯示。
依據本發明之組成物亦發現可應用於可為單色或多色之圖像記錄或圖像複製(影印、複製)之單層或多層材料。再者，此等材料係適於彩色打樣系統。於此技術中，含有微囊之組成物可被應用且用於產生圖像，輻射固化後可接著熱處理。此等系統及技術與其應用係揭示於，例如，US 5376459。
具化學式I及II之化合物亦適於作為全像資料貯存應用 之光起始劑。當以適用於全像資料貯存之藍色雷射輻射照射時，此等光起始劑產生基團且起始單體之聚合反應。藍色雷射之波長範圍係390-420 nm，較佳係400-410 nm，且特別是405 nm。全像貯存系統(全像記錄媒體)係，例如，用於以快速讀取時間記錄及取回大量資料。本發明之光起始劑係，例如，特別適用於例如WO 03/021358所述之系統。
全像資料貯存系統較佳係包含低折射率矩陣先質及高折射率可光聚合單體之矩陣網絡。
該矩陣先質及光活性單體可被選擇以使(a)於固化期間該矩陣先質係經聚合之反應係與光活性單體將於圖案(例如，資料)書寫期間被聚合之反應無關，及(b)該矩陣聚合物及自光活性單體聚合反應而產生之聚合物(該光聚合物)係彼此可相容的。該矩陣被認為係於該光記錄材料(即，該矩陣材料加上光活性單體、光起始劑及/或添加劑)展現至少約105 Pa之彈性模量時形成，一般係約105 Pa至約109 Pa。
媒體矩陣係藉由於原位之聚合反應形成，其係於該維持「溶解」且未反應之可光聚合單體存在下以交聯網絡產生。含未反應之可光聚合單體之矩陣亦可藉由其它手段形成，例如，藉由使用其間該光反應性液體單體係均勻分散之固體樹脂矩陣材料。然後，單色曝光產生該全像圖案，其依據該光強度分佈，使在該固體預形成之矩陣中之光反應性單體產生聚合反應。該等未反應單體(光強度於其間係最小)係擴散於整個矩陣，產生折射率調節，該折射率係藉由單體及矩陣之折射率間之差異及藉由該單體之相對體積 分率而決定。該記錄層之厚度係於數微米至最高達一毫米之範圍內。因為此厚全像資料貯存層，其需要光起始劑兼有高光反應性及低吸收性，以使此層於雷射波長時呈透明而確保光聚合反應之程度係儘可能地低，依據記錄層內之曝光深度而定。
發現本發明之光起始劑於405 nm時兼有高反應性與低吸收性，且係適於此應用。染料及敏化劑亦可添加至此組成物。適用於藍色雷射輻射之染料及敏化劑係，例如，香豆素、呫噸酮、噻噸酮，見如上所列示。
特別相關者係如上列示中之於第1、2及3項中所述及之噻噸酮、香豆素及二苯甲酮。
發現該等光起始劑能以高敏化性使厚層(諸如，全像資料貯存所需者)內之單體產生聚合反應，且產生對藍色雷射輻射具敏感性之記錄層。該等光起始劑，當以2-8重量%濃度施用於20微米厚之光敏性層時，使包含該光起始劑之此層於雷射波長產生少於0.4(較佳係少於0.2)之吸收率。
光起始劑係特別適於製造於340-450 nm之紫外線波長範圍具最大吸收率之光學物件(例如，光學導波器)或全像記錄媒體，其係，例如，包含如上述之聚合物及有機光起始劑，其中，該經折射率對比調整之敏化性係大於3x10-6 △n/(mJ/cm2 )。例如，聚合物係藉由聚合一包含成份1及成份2之材料而形成，其中，成份1包含以NCO為端基之預聚合物，且成份2包含多元醇。成份1係，例如，二苯基甲烷二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰 酸酯、六亞甲基二異氰酸酯之衍生物、亞甲基雙環己基異氰酸酯，亞甲基雙環己基異氰酸酯之衍生物。成份2係，例如，環氧丙烷之多元醇。較佳地，該光活性單體係丙烯酸酯單體。於此媒體中，藉由書寫而誘發之收縮通常係少於0.25%。
進一步地，光固化作用對於印刷係極重要的，因為該墨水之乾燥時間對於圖案產品之生產速度係重要因素，且需為秒之分數的等級。紫外線可固化之墨水對於篩網印刷及膠版印刷之墨水係特別重要。
如上所述，該新穎混合物亦係高度適用於製造印刷板。此應用係使用，例如，可溶之線性聚醯胺或苯乙烯/丁二烯及/或苯乙烯/異戊間二烯橡膠、含有羧基之聚丙烯酸酯或聚甲基甲基丙烯酸酯、聚乙烯基醇或具可光聚合單體之胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合物，例如，丙烯醯胺及/或甲基丙烯醯胺、或丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯、及光起始劑之混合物。此等系統之膜及板(濕或乾燥)係於印刷原物之負片(或正片)上曝光，且未固化部份其後係使用適當溶劑或水溶液洗掉。
其間使用光固化之另一領域係金屬之塗覆，例如，於塗覆金屬板及管件、罐子或瓶蓋之情況，及聚合物塗覆物之光固化，例如，以PVC為主之地板或壁覆蓋物。
紙張塗覆物之光固化之例子係標籤、唱片套及書套之無色上漆。
亦感興趣者係使用新穎之光起始劑於固化自複合組成 物製成之物件。此複合化合物係由自行支撐之矩陣材料(例如，玻璃纖維織物，或另外地，例如，植物纖維[cf.K.-P.Mieck、T.Reussmann in Kunststoffe 85(1995)、366-370]，其係以光固化配方浸漬)所組成。包含複合化合物之成型零件，當使用該新穎化合物製造時，係維持高度之機械穩定性及耐性。該新穎化合物亦可作為模製、浸漬及塗覆組成物中之光固化劑，例如，EP 7086所述般。此等組成物之例子係凝膠塗覆樹脂(其係受到有關於固化活性及耐黃化之嚴格要求)，及纖維強化之模製物件，例如，光擴散板(其係平面或具有縱向或橫向之皺褶)。製造此等模製物件之技術(諸如，手工鋪疊、噴灑鋪疊、離心鑄造或纖絲繞捲)係描述於，例如，P.H.Selden之"Glasfaserverstrkte Kunststoffe"，第610頁，Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York 1967。可藉由此等技術製造之物件之例子係船、具雙側玻璃纖維強化塑料塗覆之纖維板或粗紙板、管件、容器等。模製、浸漬及塗覆組成物之進一步例子係用於含有玻璃纖維(GRP)之模製物件(諸如，皺褶片材及紙層合物)之UP樹脂凝膠塗覆物。紙層合物可以尿素樹脂或密胺樹脂為主。製造該層合物之前，凝膠塗覆物係於一撐體(例如，膜)上產生。該新穎之可光固化組成物亦可用於鑄製樹脂或用於包埋物件，例如，電子組件等。
依據本發明之組成物及化合物可用於製造全像照相、導波器、光學開關，其中，係利用經照射及未經照射區域間之折射率差異的產生。
使用可光固化組成物於圖像技術及資訊載體之光學製造亦係重要的。於此等應用中，如上所述，塗敷至該撐體之層(濕或乾)係例如經由一光罩以紫外線或可見光圖像式地照射，且此層之未經曝光區域係藉由以顯影劑處理而移除。塗敷可光固化層至金屬亦可藉由電沈積而實行。該經曝光之區域係經由交聯而聚合，且因而呈不可溶並留於撐體上。適當之著色產生可見圖像。若該撐體係金屬化之層，金屬於曝光及顯影後，可於未曝光區域蝕刻或藉由電鍍而強化。以此方式，其可產生電子電路及阻劑物。當用於形成圖像之材料時，該新穎之光起始劑於產生所謂之印出圖像產生優異之性能，藉此，顏色變化係因照射而誘發。為形成此等印出圖像，係使用不同之染料及/或其無色型式，且此等印出圖像系統之例子係發現於，例如，WO 96/41240、EP 706091、EP 511403、US 3579339，及US 4622286。
新穎之光起始劑亦適用於形成藉由依序累積方法而製造之多層電路板之介電層之可光圖案化組成物。
如上所述，本發明提供組成物，用於製造經著色及未經著色之塗料及清漆、粉末塗覆物、印刷墨水、印刷板、黏著劑、壓感黏著劑、牙科組成物、凝膠塗覆物、電子產品之光阻劑，電鍍阻劑、蝕刻阻劑、液體及乾燥膜、焊料阻劑、作為製造用於各種顯示器應用之濾色器之阻劑、作為電漿顯示器面板之製造方法中產生結構物(例如，障壁肋部，磷光體層，電極)之阻劑、作為電致發光顯示器及液晶 顯示器之製造方法中產生結構物(例如，層間絕緣層、間隔物、微透鏡矩陣)之阻劑，用於全像資料貯存(HDS)、作為用於封裝電及電子組件之組成物、用於製造磁性記錄材料、微機械零件、導波器、光學開關、電鍍罩、蝕刻罩、彩色打樣系統、玻璃纖維纜線塗覆物、篩網印刷模板，用於藉由立體成型製造三維物件，及作為用於全像記錄之圖像記錄材料，微電子電路，去色材料、用於使用微囊之圖像記錄材料，作為用於形成印刷電路板之依序累積層之介電層之光阻劑材料。
用於照相資訊記錄之基材包含，例如，聚酯膜、以纖維素乙酸酯或聚合物塗覆之紙張；用於膠版印刷模型之基材係經特別處理之鋁，用於製造印刷電路之基材係為鍍銅之層合物，且用於製造積體電路之基材係，例如，矽晶圓。用於照射材料及膠版印刷模型之光敏性層之層厚度一般係自約0.5 μm至10 μm，而對於印刷電路其係自0.1 μm至約100 μm。於塗覆該基材後，該溶劑被移除，一般係藉由乾燥，而於該基材上留下阻劑塗覆物。
基材之塗覆可藉由塗敷一液體組成物(一溶液或一懸浮液)至該基材而實行。溶劑及濃度之選擇主要係依組成物之型式及塗覆技術而定。溶劑需為惰性，即，其需不與組份進行化學反應，且需能於塗覆後於乾燥期間再次被移除。適當溶劑之例子係酮、醚及酯，諸如，甲基乙基酮、異丁基甲基酮、環戊酮、環己酮、N-甲基吡咯烷酮、二噁烷、四氫呋喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、1-甲氧基-2- 丙醇、1,2-二甲氧基乙烷、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙基3-乙氧基丙酸酯、2-甲氧基丙基乙酸酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、2-庚酮、2-戊酮及乳酸乙酯。
溶液係藉由已知之塗覆技術均勻塗敷至基材，例如，藉由自旋塗覆、浸漬塗覆、刮刀塗覆、簾式塗覆、粉刷、噴灑、特別是藉由靜電式噴灑、及逆輥塗覆、及也藉由電泳沈積法。亦可將該光敏性層塗敷至暫時之可撓性撐體，然後藉由層合作用轉移此層而塗覆該最終基材(例如，鍍銅之電路板，或玻璃基材)。
該塗敷量(塗覆物厚度)及該基材(層撐體)之性質係依所欲應用之領域而定。塗覆物厚度之範圍一般係包含自約0.1 μm至多於100 μm之數值，例如，0.1 μm至1 cm，較佳係0.5 μm至1000 μm。
於塗覆該基材之後，該溶劑被移除，一般係藉由乾燥，使一本質上乾燥之阻劑膜留於該基材上。
新穎組成物之光敏性一般係從約150 nm至600 nm延伸，例如，190-600 nm(紫外線-可見光區域)。適當之輻射係存在於，例如，太陽光或人造光源之光線。因此，大量之完全不同型式之光源被使用。點光源及矩陣(「燈毯」)皆適合。舉例如碳弧燈、氙弧燈、低、中、高及超高壓之水銀燈、可具有金屬鹵化物摻雜物(金屬-鹵素燈)、微波激發之金屬蒸氣燈、激元燈、超光化螢光管、螢光燈、氬熾熱燈、電子閃光燈、照相泛光燈、發光二極體(LED)、電子 束及X-射線。依據本發明之燈及該欲被曝光之基材間的距離可依據該所欲應用及該燈之型式及輸出而定，且可為，例如，自2公分至150公分。雷射光源，例如，激元雷射(諸如，於157 nm曝光之F2 激元雷射、於248 nm曝光之KrF激元雷射，及於193 nm曝光之ArF激元雷射)亦適合。可見光區域之雷射亦可被使用。
“圖像式”曝光一辭包含經由一包含預定圖案之光罩(例如，幻燈片、鉻罩、模版遮罩或線網)曝光，以及藉由一雷射或光束曝光(其係例如於電腦控制下於該經塗覆之基材表面上移動且以此方式產生圖案)。用於此目的之適當紫外線雷射曝光系統係由，例如，Etec及Orbotech(DP-100TM DIRECT IMAGING SYSTEM)所提供。雷射光源之其它例子係，例如，激元雷射，諸如，用於157 nm曝光之F2 激元雷射，用於248 nm曝光之KrF激元雷射，及用於193 nm曝光之ArF激元雷射。進一步適合的係固態紫外線雷射(例如，ManiaBarco之Gemini，PENTAX之DI-2050)，及具405 nm輸出之紫光雷射二極體(PENTAX之DI-2080、DIPDP)。可見光區域之雷射亦可被使用。而且，電腦控制之照射亦可藉由電子束達成。亦可使用由液晶製成之遮罩，其可藉由像素定址產生數位圖像，例如，A.Bertsch、J.Y.Jezequel、J.C.Andre於光化學及光生物學期刊(Journal of Photochemistry and Photobiology)A：Chemistry 1997、107、275-281頁，及K.-P.Nicolay於膠版印刷(Offset Printing)1997，6，34-37頁所述。
此材料之圖像式曝光後且於顯影前，其可有利地實行短時間之熱處理。顯影後，熱後烘烤可被實施以使組成物硬化及移除所有之微量溶劑。所應用之溫度一般係50-250℃，較佳係80-220℃；熱處理期間一般係在0.25與60分鐘之間。
可光固化組成物可另外用於製造印刷板或阻劑物之方法，例如，DE 4013358所述般。於此一方法中，該組成物係於圖像式照射之前、同時或之後，於無遮罩下曝光於具至少400 nm波長之可見光下一段短時間。
曝光及熱處理(若有被實施)之後，該光敏性塗覆物之未曝光區域係以本身已知之方式以顯影劑移除。
如所述般，該新穎組成物可藉由水性鹼或有機溶劑顯影。特別適合之水性鹼顯影劑溶液係四烷基銨氫氧化物或鹼金屬之矽酸鹽、磷酸鹽、氫氧化物及碳酸鹽之水溶液。微量之濕化劑及/或有機溶劑，若要的話，亦可被添加至此等溶液。可以小量添加至該顯影劑液體之典型有機溶劑之例子係環己酮、2-乙氧基乙醇、甲苯、丙酮，及此等溶劑之混合物。依該基材而定，該溶劑，例如，有機溶劑，亦可作為顯影劑，或如上所述，以水性鹼與此等溶劑之混合物。用於溶劑顯影之特別有用之溶劑包含甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丁基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、乙酸正丁酯、苯甲基醇、丙酮、甲基乙基酮、環 戊酮、環己酮、2-庚酮、2-戊酮、ε-己內酯、γ-丁基醇丙酮、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、六甲基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內醯胺、及N-甲基-吡咯烷酮。選擇性地，水可添加至此等溶劑，最高係達仍獲得澄清溶液且仍維持該光敏性組成物之未曝光區域之充分溶解性的量。
因此，本發明亦提供一種用於含有乙烯不飽和雙鍵之化合物(即，含有至少一乙烯不飽和鍵之單體、寡聚的或聚合之化合物)之聚合反應的方法，其包括以範圍自150至600nm之電磁輻射或以電子光束或以X射線來照射上述之組成物。
換句話說，即添加至少一種上述之式I、II或III之光起始劑於該些含有乙烯不飽和雙鍵之化合物並以波長範圍自150至600nm，尤其是190-600 nm，之電磁輻射或以電子光束，或以X射線來照射所產生之組成物。
本發明進一步提供一種經塗覆之基材，該基材係於至少一表面上經塗覆如上所述之組成物，且本發明描述一種凸紋圖像之照相製造方法，其中，一經塗覆之基材係接受圖像式曝光，然後，未曝光部份係以顯影劑移除。圖像式曝光可藉由經一遮罩照射或藉由如上已述之雷射或電子束而產生。於此內文中特別有利者係如上已述之雷射光束曝光。
本發明之化合物具有良好之熱安定性及低揮發性，且亦適於在空氣(氧)存在下之光聚合反應。再者，其於光聚合反應後於該組成物中僅造成低度之黃化。
 較佳實施例之詳細說明
下列實施例係更詳細地例示本發明。除非另有指示，否則於描述內容之其餘部份及申請專利範圍中之份數及百分率係以重量計。若具有多於3個碳原子之烷基團被述及於下列範例中而未述及任何特定異構物時，則在每一情況下係意指正異構物。
範例1 ：
之合成
1.a 1-(4-咔唑-9-基-苯基)-乙酮
將4-氟苯乙酮(3.45 g)及K2 CO3 (10.4 g)添加至咔唑(5.02 g)之DMSO(50 mL)中，並將該混合物在135℃攪拌一整夜。該混合物被倒入水中而產生一沉澱，其係藉由過濾而分離且以水清洗。藉此而得之粗產物係進一步藉由自第三丁基甲醚(TBME)再結晶而純化，而得一為淡棕色固體之產物。
該結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：2.71(s,3H),7.32(ddd,2H),7.41-7.50(m,4H),7.72(d,2H),8.15(d,2H),8.21(d,2H)。
1.b. (E)-1-[9-(4-乙醯基-苯基)-6-(噻吩-2-羰基)-咔唑-3-基]-丁-2-烯-1-酮
在0℃將噻吩羰基氯化物(15.4 g)和AlCl3 (28.4 g)加入至1-(4-咔唑-9-基-苯基)-乙酮(30.0 g)之CH2 Cl2 (1200 mL)中。在室溫攪拌整夜後，於0℃再加入巴豆醯氯(11.3 g)及AlCl3 (15.5 g)，並將該混合物在室溫攪拌整夜。將該反應混合物倒入冰水中，並將該粗產物以CH2 Cl2 萃取兩次。以水和鹽水沖洗該經化合的有機層，透過MgSO4 乾燥，並濃縮以產生該殘餘物，其透過熱乙酸乙酯沖洗而純化。
該所獲得如白色固體之產物的結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：2.06(d,3H),2.73(s,3H),7.13-7.17(m,2H),7.24(t,1H),7.48(d,1H),7.51(d,1H),7.71-7.78(m,4H),8.07(d,1H),8.13(d,1H),8.27(d,2H),8.79(s,1H),8.82(s,1H).
1.c. N -乙醯氧基-N -{3-[9-{4-(1-乙醯氧基亞胺基乙基)-苯基}-6-(2-噻吩羰基)-咔-唑-3-基]-1-甲基-3-側氧-丙基}-乙醯胺
根據相似於WO2005-080337A1中所述之方法，透過範例1.b.所獲得之化合物與對應之反應物來合成該化合物。該所獲得如淡黃色固體之產物的結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：1.36(bd,3H),1.90-2.20(bs,3H),2.26(s,3H),2.32(s,3H),2.52(s,3H),3.24(bs,1H),3.59(dd,1H),5.11(bs,1H),7.24(dd,1H),7.44(d,1H),7.48(d,1H),7.65(d,2H),7.75-7.79(m,2H),8.02-8.10(m, 3H),8.13(d,1H),8.81(s,1H),8.84(s,1H).
範例2 ：
之合成
根據範例1和WO2005-080337A1中所述之方法，透過1-(4-咔唑-9-基-苯基)-乙酮與對應之反應物來合成該化合物。
範例3 ：
之合成
3.a. [9-乙基-6-(2-甲基-苯甲醯基)-咔唑-3-基]-(4-氟-苯基)-甲酮
在0℃將4-氟苯甲醯氯(6.5 g)和AlCl3 (5.6 g)加入至N-乙基咔唑(8.0 g)之CH2 Cl2 (200 mL)。在室溫攪拌整夜後，於0℃再加入2-甲基苯甲醯氯(6.5 g)和AlCl3 (6.0 g)，並將該混合物在室溫攪拌整夜。將該反應混合物倒入冰水中，並將該粗產物以CH2 Cl2 萃取兩次。以水和鹽水沖洗該經化合的有機層，透過MgSO4 乾燥，並濃縮以產生該殘餘物，其 無經純化即被用於下一步驟。該所獲得如淺褐色固體之產物的結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：1.52(t,3H),2.35(s,3H),4.46(q,2H),7.20(t,2H),7.27-7.46(m,4H),7.50(t,2H),7.86(d,1H),7.88(d,1H),8.02(d,1H),8.07(d,1H),8.54(s,1H),8.55(s,1H).
3.b. (4-咔唑-9-基-苯基)-[9-乙基-6-(2-甲基-苯甲醯基)-咔唑-3-基]-甲酮
將範例3.a.中所獲得之化合物(17.8 g)和K2 CO3 (17.0 g)加入至咔唑(13.7 g)之NMP(100 mL)中，並將該混合物在150℃攪拌2天。將該反應混合物倒入冰水中，其然後以HCl中和以產生一中性pH值。以CH2 Cl2 自該混合物萃取出該粗產物。以水和鹽水沖洗該經化合的有機層，透過MgSO4 乾燥，並濃縮以產生該殘餘物，其藉由自乙酸乙酯再結晶而純化。
該所獲得如白色固體之產物的結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：1.53(t,3H),2.36(s,3H),4.48(q,2H),7.28-7.51(m,9H),7.54-7.59(m,3H),7.76(d,2H),8.06-8.18(m,6H),8.63(s,1H),8.69(s,1H).
3.c. (E)-1-(9-{4-[9-乙基-6-(2-甲基-苯甲醯基)-咔唑e-3-羰基]-苯基}-咔-唑-3-基)-丁-2-烯-1-酮
在0℃將巴豆醯氯(2.5 g)和AlCl3 (9.6 g)加入至含範例3.b.中所獲得之化合物(13.9 g)之CH2 Cl2 (200 mL)，並將該混合物在室溫攪拌整夜。將該反應混合物倒入冰水中，並將該粗產物以CH2 Cl2 萃取兩次。以水和鹽水沖洗該經化 合的有機層，透過MgSO4 乾燥，並濃縮以產生該殘餘物，其無經純化即被用於下一步驟。該所獲得如淺褐色固體之產物的結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：1.54(t,3H),2.07(d,3H),2.36(s,3H),4.48(q,2H),7.15-7.18(m,2H),7.28-7.59(m,10H),7.75(d,2H),8.06(d,1H),8.10-8.18(m,4H),8.24(d,1H),8.64(s,1H),8.69(s,1H),8.82(s,1H).
根據如WO2005-080337A1中所述之方法，透過範例3.c.所獲得之化合物與對應之試劑來合成該範例3化合物。
該所獲得如淡黃色固體之產物的結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：1.24(d,3H),1.53(t,3H),1.91(bs,3H),2.26(s,3H),2.35(s,3H),2.36(s,3H),3.38(m,2H),4.48(q,2H),4.97(bs,1H),7.26-7.60(m,10H),7.75(d,2H),7.93(d,1H),8.03-8.17(m,4H),8.24(d,1H),8.64(s,2H),8.69(s,1H).
範例4 ：
之合成
根據如範例3及WO2005-080337A1中所述之方法，以對應之反應物來合成該化合物。
範例5 ：
之合成
根據如範例3中所述之方法，以對應之反應物來合成該化合物。
範例6 ：
之合成
根據如範例3及WO2005-080337A1及WO2006-018405A1中所述之方法，以對應之反應物來合成該化合物。
範例7 ：
之合成
7.a (4-咔唑-9-基-苯基)-苯基-甲酮
根據如範例1.a中所述，並以4-氟二苯甲酮取代4-氟苯乙酮來合成該化合物7.a。該結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：7.32(t,2H),7.44(t,2H),7.51-7.57(m,4H),7.64(t,1H),7.72(d,2H),7.90(d,2H),8.07(d,2H),8.15(d,2H).
7.b 1-[9-(4-苯甲醯基-苯基)-9H-咔唑-3-基]-4-氯-丁-1-酮
以7.a和4-氯丁醯氯在氯化鋁存在下，如範例1.b.中所述來合成該化合物7.b。該結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：2.32(五重峰,2H),3.35(t,2H),3.75(t,2H),7.40(m,1H),7.50-7.59(m,5H),7.66(t,1H),7.73(d,2H),7.92(d,2H),8.09-8.14(m,3H),8.23(d,1H),8.83(s,1H).
7.c 1-[9-(4-苯甲醯基-苯基)-9H-咔唑-3-基]-4-(苯并噻唑-2-基磺醯基)-丁-1-酮
以7.b和2-巰基苯并噻唑在碳酸鉀存在下，如範例1.a.中所述來合成該化合物7.c。該結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ[ppm]：2.40(五重峰,2H),3.37(t,2H),3.55(t,2H),7.34-7.42(m,2H),7.46-7.59(m,6H),7.64-7.75(m,4H),7.81(d,1H),7.92(d,2H),8.08-8.13(m,3H),8.18(d,1H),8.79(s,1H).
7.d 1-[9-(4-苯甲醯基-苯基)-9H-咔唑-3-基]-4-(苯并噻唑-2-基磺醯基)-丁-1-酮肟O-乙酸酯
根據範例1.c.中之方法，將該酮類7.c轉變成該對應之肟酯7.d。該結構係藉由1 H-NMR光譜(CDCl3 )而確定。δ [ppm]：2.24(五重峰,2H),2.28(s,3H),3.22(t,2H),3.47(t,2H),7.32-7.39(m,2H),7.45-7.59(m,6H),7.64-7.73(m,4H),7.80(d,1H),7.85(d,1H),7.92(d,2H),8.08(d,2H),8.15(d,1H),8.55(s,1H).
範例8 ：
之合成
根據如範例7及WO2005-080337A1中所述之方法，以對應之反應物來合成該化合物。
範例9 ：
之合成
根據如範例6及範例7中所述之方法，以對應之反應物來合成該化合物。
範例10 ：
之合成
根據如範例4及JP2005-54012A中所述之方法，以對應之反應物來合成該化合物。
範例11：聚(苯甲基甲基丙烯酸酯-共-甲基丙烯酸)的製備
24 g的苯甲基甲基丙烯酸酯，6 g的甲基丙烯酸以及0.525 g的雜氮雙異丁腈(AIBN)係溶解於90 ml的丙三醇1-單甲基醚2-乙酸酯(PGMEA)。該產生之反應混合物係置放於一預熱至80℃之油浴中。在氮之下80℃中攪動5小時後，該所產生之黏性溶液係冷卻至室溫且不經進一步的純化即被使用。該固體成份係約25%。
範例12：敏感性測試
一用於一敏感性測試之光可固化的組成物係藉由混合下列成份而製備：
200.0部份重量之苯甲基甲基丙烯酸酯及甲基丙烯酸之共聚物(苯甲基甲基丙烯酸酯：甲基丙烯酸=80：20之重量比)
25%丙三醇1-單甲基醚2-乙酸
酯(PGMEA)溶液，在上面實例中製備
50.0部份重量之二新戊四酯六丙烯酸酯((DPHA)，由UCB Chemicals所提供)，
0.1部份重量之光起始劑，以及150.0部份重量之PGMEA
所有之操作皆在黃光下進行。使用一具有線絲捲繞桿之電塗抹器將該組成物施用至一鋁板上。該溶劑係藉由在一對流恆溫烤箱中在100℃加熱2分鐘而移除。該乾燥薄膜之厚度係近似2 μm。一具有21不同等級光學密度之標準化測試底片薄膜(Stouffer step wedge)係以一約100 μm之空氣空隙於該薄膜及該阻劑之間而放置。使用250W超高壓水銀燈(USHIO，USH-250BY)於一15 cm的距離進行曝光。藉由一光學能量計量器(ORC紫外光量測模式UV-M02及UV-35偵測器)在該測試底片薄膜上所量測之總曝光劑量為250mJ/cm2 。經曝光後，該經曝光之薄膜在28℃透過使用一噴塗型顯影機(AD-1200，Takizawa Sangyo)以一鹼性溶液(5%之DL-A4水溶液，Yokohama Yushi)來進行顯影達100秒。所使用之起始劑系統的敏感度係藉由顯影後所殘餘之最高等級數(即聚合物化)來表示。越高之等級數，則所測試之系統越敏感。結果列於表格1中。
範例13 黑色矩陣阻劑中之敏感性試驗
20.0部份重量之REGAL 400R(碳黑，由CABOT提供)
20.0部份重量之EFKA 4046(分散液，由Ciba提供)
93.3部份重量之PGMEA
藉由混合上述成份並透過使用一Paint conditioner儀器(SKANDEX)將其等分散1.5小時來製備一黑色分散液。上述範例中之該黏結劑聚合物溶液(48.0部份重量)係透過該Paint conditioner儀器與該分散液混合，並再加入DPHA(7.0部份重量，六丙烯酸二異戊四醇酯，由UCB Chemicals提供)和PGMEA(46.7部份重量)。欲測試之光起始劑被添加入該阻劑組成物中。因此所製備之該灰色矩陣阻劑透過一旋轉塗佈機被施加至一玻璃基材上。該經塗佈之基材在80℃乾燥10分鐘。該乾燥薄膜之厚度係近似1.1 μm。一具有9不同等級光學密度之標準化測試負遮罩(EIA GRAY SCALE，EDMUND SCIENTIFIC)係置於該阻劑上。使用250W超高壓水銀燈(USHIO，USH-250BY)於一15 cm的距離進行曝光。藉由一光學能量計量器(ORC紫外光量測模式UV-M02及UV-35偵測器)在該測試負遮罩上所量測之總曝光劑量為300mJ/cm2 。經曝光後，該經曝光之薄膜在28℃透過使用一噴塗型顯影機(AD-1200，Takizawa Sangyo)以一鹼性溶液(5%之DL-A4水溶液，Yokohama Yushi)來進行顯影。該起始劑之敏感度係藉由顯影後所殘餘之最高等級數(即聚合物化)來表示。越高之等級數，則所測試之光起始劑越敏感。結果列於表格2中。

Claims (20)

  1. 一種式II或III之化合物， ，其中R 2 為氫；C1 -C20 烷基，該C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；C3 -C10 環烷基，其可擇地被O、CO或NR14 所中斷，且該未經中斷或經中斷之C3 -C10 環烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；或者R2 係C1 -C20 烷基，其係經一或多個鹵素、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、、苯基或係經由SR10 、OR11 或NR12 R13 取代之苯基所取代者，該經取代之C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；或者R2 係C2 -C20 烷基，其被一或多個O所中斷和/或可擇地經一或多個鹵素、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、 CONR12 R13 、、苯基或經SR10 、OR11 、或NR12 R13 取代之苯基所取代，該經中斷之C2 -C20 烷基可擇地含有C-C多重鍵；或者R2 係未經取代之苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基；或係經下列取代之苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基：一或多個C1 -C12 烷基、C2 -C12 烯基、C2 -C12 炔基、苯基、鹵素、CN、NO2 、SR10 、OR11 、NR12 R13 或經可擇地被O、CO或NR14 中斷之C3 -C10 環烷基；或是R2 係C2 -C20 烷醇基；或苯甲醯基，其係未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或是R2 係C2 -C12 烷氧基羰基，其可擇地被一或多個O所中斷及/或可擇地經一或多個OH所取代；或是R2 係苯氧基羰基，其係未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、鹵素、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或者R2 係NR12 R13 或；或者R2 與基群所接附之苯環或萘環上的C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代或經取代的；R”2 具有指定於R2 之意義中的一者，或係；R”’2 具有指定於R2 之意義中的一者，或係或；R1 係氫、(CO)R”2 、C1 -C20 烷氧基羰基、苯基-C1 -C4 烷基、C1 -C20 烷基，其係經由一或多個鹵素、COOR11 或CONR12 R13 所取代；或者R1 係C2 -C20 烷基，其被O、CO或NR14 所中斷；或係C2 -C12 烯基，其可擇地被O、CO或NR14 所中斷；或係C4 -C8 環烯基或C2 -C12 炔基；或是R1 係苯甲醯基、萘甲醯基、苯氧基羰基或萘氧基羰基；或係苯甲醯基、萘甲醯基、苯氧基羰基或萘氧基羰基，其之每一者係可擇地經一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵素、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 或係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基所取代者；或是R1 係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基，或係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基羰基，或係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷氧基羰基；或是R1 係未經取代之苯基或萘基，或係經下列取代 之苯基或萘基：一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵素、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 ，或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；R 6 、R 7 、R 8 、R’ 6 、R’ 7 、R’ 8 、R” 6 、R” 7 、R’” 6 及R”’ 7 係係各自獨立地為氫、鹵素、、C1 -C20 烷基、被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基、或為可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C12 烯基、或為C4 -C8 環烯基、C2 -C12 炔基、苯基-C1 -C4 烷基、CN、NO2 ，或可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或者R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 、R”7 、R’”6 及R”’7 係苯基，其未經取代或經一或多個C1 -C20 烷基、鹵素、CN、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或是R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 、R”7 、R’”6 及R”’7 係(CO)R’2 、SR10 、OR11 、SOR10 、SO2 R10 或NR12 R13 ，其中該等取代基(CO)R’2 、OR11 、SR10 和NR12 R13 係經由基團R10 、R11 、R12 R13 及/或R’2 和該苯環上另外的取代基或和該苯環上的碳原子之一者可擇地形成5-或6-員環；或是在式II中之R”6 及R”7 係一起為C1 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基，其和它們所連接之苯基一起形成二環，其中該二環係可擇地經一或多個C1 -C20 烷基，或被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基所取代，或者該雙 環係可擇地經下列所取代：C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵素、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 或可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；前提是基群係連接至該二環之任一環；或是在式III中之R”’6 及R”’7 係一起為C2 -C6 伸烷基或C2 -C6 伸烯基，其和它們所連接之苯基一起形成二環，其中該二環係可擇地經一或多個C1 -C20 烷基、被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基所取代，或該二環係可擇地經下列所取代：C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、NR12 R13 、鹵素、苯基、COOR11 、CONR12 R13 、CN、NO2 或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；前提是一或多個基群(CO)R’”2 係連接至該二環之任一環；R’ 2 為氫、C1 -C20 烷基，該C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；C3 -C10 環烷基，其可擇地被O、CO或NR14 所中斷，且該未經中斷或經中斷之C3 -C10 環烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；或者R’2 係C1 -C20 烷基，其係經一或多個鹵素、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、、苯基或經由SR10 、OR11 或NR12 R13 取代之苯基所取代者，該經取代之C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重 鍵；或者R’2 係C2 -C20 烷基，其被一或多個O所中斷和/或可擇地經一或多個鹵素、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、、苯基，或經SR10 、OR11 、或NR12 R13 取代之苯基所取代，該經中斷之C2 -C20 烷基可擇地含有C-C多重鍵；或者R’2 係未經取代之苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基；或係經下列取代之苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基：一或多個C1 -C12 烷基、C2 -C12 烯基、C2 -C12 炔基、苯基、鹵素、CN、NO2 、SR10 、OR11 、NR12 R13 ，或可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或是R’2 係C2 -C20 烷醇基；或苯甲醯基，其係未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或是R’2 係可擇地被一或多個O所中斷及/或可擇地被一或多個OH所取代之C2 -C12 烷氧基羰基；或是R’2 係未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、鹵素、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代之苯氧基羰基；或者R’2 係NR12 R13 或；或者R’2 與基群(CO)R’2 所接附之苯環或萘環上的C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代 或經取代的；R9 係氫、C3 -C8 環烷基、C2 -C5 烯基、C1 -C20 烷氧基、未經取代之C1 -C20 烷基或是經由一或多個鹵素、苯基、C1 -C20 烷苯基及/或CN所取代之C1 -C20 烷基；或是R9 係苯基或萘基，其係皆未經取代的或是被一或多個C1 -C6 烷基、鹵素、CN、OR11 、SR10 及/或NR12 R13 所取代；或是R9 係苄氧基或苯氧基，其係皆未經取代的或是被一或多個C1 -C6 烷基及/或鹵素所取代；R10 係氫、C1 -C20 烷基、C3 -C12 烯基、可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基，或者R10 係苯基-C1 -C4 烷基或係經OH、SH、CN、C3 -C6 烯氧基、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、、-OCH2 CH2 CN、-OCH2 CH2 (CO)O(C1 -C4 烷基)、-O(CO)-(C1 -C4 烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1 -C4 烷基)所取代之C1 -C20 烷基；或R10 係經一或多個O或S所中斷之C2 -C20 烷基；或是R10 係-(CH2 CH2 O)n H、-(CH2 CH2 O)n (CO)-(C1 -C8 烷基)、C2 -C8 烷醇基、苯甲醯基、C3 -C12 烯基或C3 -C6 烯醇基；或是R10 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其各自為未經取代的或是經由一或多個鹵素、C1 -C12 烷基、C1 -C12 烷氧基、苯基-C1 -C3 烷基氧、苯氧基、C1 -C12 烷基磺醯基、苯基磺醯基、-N(C1 -C12 烷基)2 、二苯胺、-(CO)O(C1 -C8 烷基)或(CO)N(C1 -C8 烷基)2 所取代；或是R10 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其係經由一直接鍵結、C1 -C4 烯基、O、S、NR14 或CO而與該SR10 所連接之苯環形成一5-或6-員環，其中該苯基或萘基係未經取代的或係經由一或多個C1 -C20 烷基、經O、CO或NR14 中斷之C2 -C20 烷基所取代，或是被經O、CO或NR14 可擇地中斷之C3 -C10 環烷基所取代，或是被鹵素、C1 -C20 烷氧基、C1 -C20 烷基羰基或苯基羰基所取代；n係1至12之整數；R11 係氫、可擇地被一或多個鹵素取代之C1 -C20 烷基；或者R11 係-(CH2 CH2 O)n H、-(CH2 CH2 O)n (CO)-(C1 -C8 烷基)、C1 -C8 烷醇基、C3 -C12 烯基、C3 -C6 烯醇基、苯基-C1 -C4 烷基；或係被一或多個O中斷之C2 -C20 烷基；或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或者R11 係C1 -C20 烷基，其被OH、SH、CN、C3 -C6 烯氧基、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、-OCH2 CH2 CN、-OCH2 CH2 (CO)O(C1 -C4 烷基)、、-O(CO)-(C1 -C4 烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1 -C4 烷基)所取代；或是R11 係苯甲醯基，其係未經取代或是被一或多個C1 -C6 烷基、鹵素、OH或C1 -C4 烷氧基所取代；或是R11 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其各自為未經取代的或是經由一或多個鹵素、OH、C1 -C12 烷基、 C3 -C10 環烷基或C1 -C12 烷氧基所取代；R12 及R13 係彼此獨立為氫、C1 -C20 烷基、被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基、或係C2 -C4 羥烷基、C1 -C12 烷氧基、苯基-C1 -C4 烷基、(CO)R15 、C2 -C10 烷氧基烷基、C3 -C5 烯基或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或是R12 及R13 係苯基或萘基，其各自為未經取代的或是經由一或多個C1 -C20 烷氧基、(CO)R15 、苯基、NR16 R17 、SR10 、OR11 、C1 -C20 烷基，經由被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基所取代，或是被可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基所取代；或是R12 及R13 係彼此獨立為C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，其係連接至該NR12 R13 所接附之苯環或萘環上之碳原子中之一者，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基係可擇地經O、CO或NR14 所中斷；或是R12 及R13 係彼此獨立為苯基，該苯基係經由一直接鍵結連接至有該NR12 R13 被置放於其上之苯基；或是R12 及R13 和它們所接附之N-原子一起形成一5-或6-員飽和或未飽和環，其可擇地被O、N或NR14 所中斷，且該環係未經取代的或係經下列所取代：一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C20 烷氧基、=O、SR10 、OR11 、NR16 R17 、(CO)R15 、NO2 、CN、苯基或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或是R12 及R13 和它們所接附之N-原子一起形成一雜芳 香環系統，該雜芳香環系統係未經取代的或係經下列所取代：一或多個C1 -C20 烷基、C1 -C20 烷氧基、=O、SR10 、OR11 、NR16 R17 、(CO)R15 、NO2 、CN、苯基，或是可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；R14 係氫、C1 -C20 烷基、C3 -C8 環烷基、苯基或(CO)R15 ；R15 係氫、OH、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基；或係可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或係苯基-C1 -C4 烷基、SR10 、OR11 或NR12 R13 ；或是R15 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其全部係皆未經取代或經由一或多個SR10 、OR11 、NR12 R13 、、CN、NO2 、鹵素、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基，經由被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基所取代，或係經由可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基所取代；R16 及R17 係彼此獨立為氫、C1 -C20 烷基、C3 -C10 環烷基或苯基；或是R16 及R17 和它們所接附之N-原子一起形成一5-或6-員飽和或未飽和環，其可擇地被O、S或NR14 所中斷；或是R16 及R17 係彼此獨立為C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基，其係連接至該NR16 R17 所接附之該苯環或萘環的碳原子之一者，其中該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基 係可擇地被O、CO或NR14 所中斷，且一苯環係可擇地縮合至該C2 -C5 伸烷基或C2 -C5 伸烯基；R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係彼此獨立為氫、鹵素、、C1 -C20 烷基、被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C20 烷基；或為可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C2 -C12 烯基；或為C4 -C8 環烯基、C2 -C12 炔基、苯基-C1 -C4 烷基、CN、NO2 或可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基；或者R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係苯基，其未經取代或經一或多個C1 -C20 烷基、鹵素、CN、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或者R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係(CO)R’2 、SR10 、OR11 、SOR10 、SO2 R10 或NR12 R13 ，其中該等取代基(CO)R’2 、OR11 、SR10 和NR12 R13 係經由基團R10 、R11 、R12 R13 及/或R’2 和該苯環上另外的取代基或與該苯環上之碳原子的一者可擇地形成5-或6-員環；R” 18 和R” 19 係彼此獨立地具有指定於R”6 和R”7 之意義中的一者；且R’” 18 和R’” 19 係彼此獨立地具有指定於R'''6 和R'''7 之意義中的一者；R 21 係COOR11 、CONR12 R13 或(CO)R9 ；或者R21 具有指定於R15 之意義中的一者；R 22 係COOR11 、CONR12 R13 或(CO)R9 ；或者R22 具 有指定於R12 和R13 之意義中的一者；X 係O、S、SO或SO2 ；X 2 係一直接鍵結、可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C1 -C20 伸烷基，且該未經中斷或經中斷之C1 -C20 伸烷基係未經取代或經由下列所取代：一或多個鹵素、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、、苯基，或經鹵素、C1 -C20 烷基、C1 -C4 鹵烷基、SR10 、OR11 、或NR12 R13 所取代之苯基，且該未經取代或經取代、經中斷或未經中斷之C1 -C20 伸烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；m 係1或2之整數；R 23 具有指定於R9 之意義中的一者；R 24 係氫、C1 -C20 烷基；C2 -C20 烯基；可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基，或者R24 係C3 -C10 環烯基；經由下列取代之C1 -C20 烷基：一或多個鹵素、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、或苯基；或者R24 係被一或多個O所中斷和/或可擇地經下列所取代之C2 -C20 烷基：一或多個鹵素、OR11 、COOR11 、NR12 R13 、C1 -C20 雜芳基、C1 -C20 雜芳基-(CO)O、C1 -C20 雜芳基-S、CONR12 R13 、或苯基；或者R24 係苯基、萘基或C1 -C20 雜芳基，其全部皆可擇地經由一或多個C1 -C12 烷基、苯基、鹵素、C1 -C4 鹵烷基、CN、NO2 、SR10 、OR11 、NR12 R13 ，或經由可擇地被O、CO或NR14 所中斷之C3 -C10 環烷基所取代；或是R24 係C2 -C20 烷醇基；或苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、鹵素、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或是R24 係C2 -C12 烷氧基羰基，其可擇地被一或多個O所中斷及/或可擇地被一或多個OH所取代；或是R24 係苯氧基羰基，其未經取代或經一或多個C1 -C6 烷基、C1 -C4 鹵烷基、鹵素、苯基、SR10 、OR11 或NR12 R13 所取代；或是R24 係NR12 R13 ；或是R24 與基群所接附之苯基或萘基環上的C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代或經取代；或是R24 係或；前提是(a) 下列之至少一者係NR 12 R 13 或：式III中之R 2 ；下列定義中的基群(CO)R’2 中之R' 2 ：式II中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 的定義，或式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 的定義，或對於式III中R’”2 或對於式II或III中透過基團R2 或R’2 之R24 ，在基群中的R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、R’20 的定義；式II中之R" 2 ，或於式II中透過基團R12 或R13 、或是於式III中透過基團R12 或R13 之基群中之R" 2 ；或式III中之R'" 2 ；或者(b) 下列之至少一者與對應基群、、(CO)R' 2 或(CO)R"’ 2 所接附之該苯環或萘環上的C-原子之一者形成一環 ： III中之R 2 ；下列定義中的基群(CO)R’2 中之R' 2 ：式II中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 的定義，或式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 的定義，或對於式III中之R’”2 或對於式II或III中透過基群R2 或R’2 之R24 ，在基群中的R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、R’20 的定義；式II中之R" 2 ，或於式II中透過基團R12 或R13 、或是於式III中透過基團R12 或R13 之基群中之R" 2 ；或式III中之R'" 2 ；或者(c) 至少下列之一者含有一或多個C-C多重鍵 ：式III中之R 2 ；下列定義中的基群(CO)R’2 中之R' 2 ：式II中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 的定義，或式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 的定義，或對於式III中之R’”2 或對於式II或III中透過基 團R2 或R’2 之R24 ，在基群中之R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、R’20 的定義；式II中之R"2 ，或於式II中透過基團R12 或R13 、或是於式III中透過基團R12 或R13 之基群中之R"2 ；或式III中之R'"2 ；或者(d) 下列之至少一者係經一或多個C 1 -C 20 雜芳基、C 1 -C 20 雜芳基-(CO)O、C 1 -C 20 雜芳基-S或所取代之C 1 -C 20 烷基 ：式III中之R2 ；下列定義中的基群(CO)R’2 中之R' 2 ：式II中R6 、R7 、R8 、R6 、R’7 、R’8 、R”6 或R”7 的定義，或式III中R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’”6 或R’”7 的定義，或對於式III中之R’”2 或對於式II或III中透過基群R2 或R’2 之R24 ，在基群中之R18 、R19 、R20 、R’18 、R’19 、R’20 的定義；式II中之R" 2 ，或 於式II中透過基團R12 或R13 、或是於式III中透過基團R12 或R13 之基群中之R" 2 ；或式III中之R'" 2 ；或在式II或III任一者中作為取代基之基群SR10 、OR11 或COOR11 中所出現之R 10 或R 11 ；或者(e)R'" 2 係C 1 -C 20 雜芳基。
  2. 如申請專利範圍第1項之式II、和III之化合物，其中R 1 係C1 -C20 烷基；R 2 和R’ 2 各自獨立地為C1 -C20 烷基，該C1 -C20 烷基可擇地含有一或多個C-C多重鍵；或者R2 和R’2 係C1 -C20 烷基，其經一或多個COOR11 、C1 -C20 雜芳基-S或所取代，或者R2 和R’2 係未經取代的苯基或C1 -C20 雜芳基；或者係經一或多個C1 -C12 烷基或SR10 所取代之苯基；或者R2 和R’2 係；或者R2 和R’2 與基群或(CO)R’2 所接附之該苯環或萘環上的C-原子之一者形成一環，其中該所形成之環係未經取代或經取代的；R” 2 具有指定於R2 及R’2 之意義中的一者；R”’ 2 具有指定於R2 及R’2 之意義中的一者，或係；R 6 、R 7 、R 8 、R’ 6 、R’ 7 、R’ 8 、R” 6 、R” 7 、R”’ 6 和R”’ 7 相互獨立地為氫，或者R6 、R7 、R8 、R’6 、R’7 、R’8 、R”6 、R”7 、R”’6 和R”’7 係(CO)R’2 、或NR12 R13 ；R 9 係C1 -C20 烷基；R 10 係C1 -C20 雜芳基；R 11 係C1 -C20 烷基；R 12 和R 13 一起與它們所接附之N-原子形成一雜芳香環系統；R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係氫，或者R 18 、R 19 、R 20 、R’ 18 、R’ 19 、和R’ 20 係苯基，其未經取代或經一或多個C1 -C20 烷基所取代；R 21 係(CO)R9 ；R 22 係(CO)R9 ；X 係O；X 2 係一直接鍵結；m 係整數1；R 23 具有指定於R9 之意義中的一者；且R 24 係C1 -C20 烷基。
  3. 一種可光聚合之組成物，其包含：(a)至少一烯族不飽和可光聚合化合物；及(b)作為光起始劑之至少一種如申請專利範圍第1項所定義之式II或III之化合物。
  4. 如申請專利範圍第3項之可光聚合組成物，其包含除了該光起始劑(b)之外，至少一另外的光起始劑(c)及/或其它添加劑(d)。
  5. 如申請專利範圍第4項之可光聚合組成物，其包括一光敏化劑作為額外的添加劑(d)。
  6. 如申請專利範圍第5項之可光聚合組成物，其中該光敏化劑是一選自於下列所構成之群組的化合物：二苯甲酮及其衍生物、噻噸酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物、香豆素及其衍生物。
  7. 如申請專利範圍第3項之可光聚合組成物，其中該成份(a)係一藉由飽和或不飽和多元酸酐與一環氧樹脂及不飽和單羧酸之反應產物經反應所獲得之樹脂。
  8. 如申請專利範圍第4項之可光聚合組成物，其進一步包含一黏結劑聚合物(e)。
  9. 如申請專利範圍第8項之可光聚合組成物，其中該黏結劑聚合物(e)是甲基丙烯酸酯及甲基丙烯酸之共聚物。
  10. 如申請專利範圍第4項之可光聚合組成物，其包括一染料或一染料混合物作為額外的添加劑(d)。
  11. 如申請專利範圍第10項之可光聚合組成物，其包括一分散劑或一分散劑混合物作為額外的添加劑(d)。
  12. 如申請專利範圍第3項或第4項之可光聚合組成物，以該組成物為基礎，其包括0.005至25%重量百分比之光起始劑(b)、或該等光起始劑(b)及(c)。
  13. 一種用於光聚合一含有乙烯不飽和雙鍵之化合物的方 法，其包括以範圍自150至600nm之電磁輻射或以電子光束或以X射線來照射如申請專利範圍第3至12項中任一項的組成物。
  14. 一種製備如申請專利範圍第1項之式II或III之化合物的方法，係在一鹼或鹼混合物存在下，透過使一式IIa或IIIa之肟化合物與式V或VI之一醯基鹵化物或一酐反應： 其中R1 、R2 、R’2 、R”2 、R”’2 、R6 、R’6 、R”6 、R”’6 、R7 、R’7 、R”7 、R”’7 、R8 及R’8 係如申請專利範圍第1項所定義， 其中Hal表示一鹵原子且R9 係如申請專利範圍第1項所定義。
  15. 一種如申請專利範圍第3至12項中任一項之組成物的用途，係用於製造經著色及未經著色之塗料及清漆、粉末 塗覆物、印刷墨水、印刷板、黏著劑、壓感黏著劑、牙科組成物、凝膠塗覆物、電子產品之光阻劑、電鍍阻劑、蝕刻阻劑、液體及乾燥膜、焊料阻劑，用以製造用於各種顯示器應用之濾色器之阻劑，用以在電漿顯示面板、場致發光顯示器及LCD之製造過程中產生結構物的阻劑，用於LCD之間隔物，用於全像攝影資料儲存(HDS)，作為用於封裝電及電子組件之組成物，用於製造磁性記錄材料、微機械零件、導波器、光學開關、電鍍罩、蝕刻罩、彩色打樣系統、玻璃纖維纜線塗覆物、篩網印刷模板，用於藉由立體成型製造三維物件，作為圖像記錄材料，用於全像記錄、微電子電路、去色材料、用於圖像記錄材料之去色材料，用於使用微囊之圖像記錄材料，作為用於UV及可見雷射直接成像系統之光阻劑材料，作為用於在印刷電路板之依序累積層中形成介電層之光阻劑材料。
  16. 如申請專利範圍第13項之方法，係用於製造經著色及未經著色之塗料及清漆、粉末塗覆物、印刷墨水、印刷板、黏著劑、壓感黏著劑、牙科組成物、凝膠塗覆物、電子產品之光阻劑、電鍍阻劑、蝕刻阻劑、液體及乾燥膜、焊料阻劑，用以製造用於各種顯示器應用之濾色器之阻劑，用以在電漿顯示面板、場致發光顯示器及LCD之製造過程中產生結構物的阻劑，用於LCD之間隔物，用於全像攝影資料儲存(HDS)，作為用於封裝電及電子組件之組成物，用於製造磁性記錄材料、微機械零件、 導波器、光學開關、電鍍罩、蝕刻罩、彩色打樣系統、玻璃纖維纜線塗覆物、篩網印刷模板，用於藉由立體成型製造三維物件，作為圖像記錄材料，用於全像記錄、微電子電路、去色材料、用於圖像記錄材料之去色材料，用於使用微囊之圖像記錄材料，作為用於UV及可見雷射直接成像系統之光阻劑材料，作為用於在印刷電路板之依序累積層中形成介電層之光阻劑材料。
  17. 一種經塗佈之基材，在其至少一表面上係塗佈有如申請專利範圍第3項之組成物。
  18. 一種用於凸紋圖像之照相製造的方法，其中一如申請專利範圍第17項之經塗佈之基材係接受圖像式曝光，且接著未曝光部份係以一顯影劑移除。
  19. 一種濾色器，其係藉由提供所有於透明基材上包含光敏性樹脂及色料之紅色、綠色及藍色圖像元素及黑色矩陣，以及提供一個於基材表面上或於濾色器層上之透明電極而製得，其中，該光敏性樹脂包含一多官能性丙烯酸酯單體、一有機聚合物黏結劑，及一如申請專利範圍第3項之式II或III之光聚合反應起始劑。
  20. 一種式IIa和IIIa之化合物： 其中R1 、R2 、R’2 、R”2 、R”’2 、R6 、R’6 、R”6 、R”’6 、R7 、R’7 、R”7 、R”’7 、R8 及R’8 係如申請專利範圍第1項所定義。
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Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008138732A1 (en) * 2007-05-11 2008-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
KR101585279B1 (ko) 2008-05-30 2016-01-13 아도반스토 소후토 마테리아루즈 가부시키가이샤 폴리로탁산, 수계 폴리로탁산 분산 조성물, 및 폴리로탁산과 중합체의 가교체, 및 이들의 제조 방법
KR101646284B1 (ko) * 2008-06-06 2016-08-05 바스프 에스이 광개시제 혼합물
CN102112438B (zh) * 2008-06-06 2014-07-23 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
US8507726B2 (en) * 2008-11-03 2013-08-13 Basf Se Photoinitiator mixtures
EP2411430B1 (en) 2009-03-23 2015-10-14 Basf Se Photoresist composition
CN103435722B (zh) 2009-12-07 2015-07-01 爱克发印艺公司 用于uv-led可固化组合物和墨水的光引发剂
AU2010330040B2 (en) * 2009-12-07 2013-12-19 Agfa Nv UV-LED curable compositions and inks
JP5640722B2 (ja) * 2010-02-05 2014-12-17 Jsr株式会社 新規化合物及びそれを含有する感放射線性組成物
CN102781911B (zh) 2010-02-24 2015-07-22 巴斯夫欧洲公司 潜酸及其用途
EP2563843B1 (en) 2010-04-28 2017-12-06 University Of Georgia Research Foundation, Inc. Photochemical cross-linkable polymers, methods of marking photochemical cross-linkable polymers, methods of using photochemical cross-linkable polymers, and methods of making articles containing photochemical cross-linkable polymers
WO2012045736A1 (en) 2010-10-05 2012-04-12 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
JP5747345B2 (ja) * 2011-03-16 2015-07-15 新日鉄住金化学株式会社 ベクトル波記録媒体、及び多重記録再生方法
WO2012159213A1 (en) 2011-05-25 2012-11-29 American Dye Source, Inc. Compounds with oxime ester and/or acyl groups
EP2731999A4 (en) * 2011-07-15 2015-09-23 Univ Georgia PERMANENT FIXING OF MEANS OF SURFACES WITH C-H FUNCTIONALITY
CA2852999A1 (en) 2011-10-14 2013-04-18 University Of Georgia Research Foundation, Inc. Photochemical cross-linkable polymers, methods of making photochemical cross-linkable polymers, methods of using photochemical cross-linkable polymers, and methods of making articles containing photochemical cross-linkable polymers
JP6113181B2 (ja) * 2011-12-07 2017-04-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ オキシムエステル光開始剤
CN104144912B (zh) * 2012-03-22 2018-07-31 株式会社艾迪科 化合物以及感光性树脂组合物
JP6195456B2 (ja) * 2013-03-12 2017-09-13 東京応化工業株式会社 感放射線性樹脂組成物
KR20160030233A (ko) * 2013-07-08 2016-03-16 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
KR102028477B1 (ko) * 2013-07-19 2019-10-04 동우 화인켐 주식회사 투명화소 형성용 감광성 수지조성물
WO2015036910A1 (en) 2013-09-10 2015-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
KR101435652B1 (ko) * 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
JP5890464B2 (ja) * 2014-05-01 2016-03-22 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物
US9873815B2 (en) 2015-04-30 2018-01-23 Samsung Sdi Co., Ltd. Polymer, organic layer composition, and method of forming patterns
CN106483760B (zh) * 2015-09-02 2019-11-12 东京应化工业株式会社 感光性组合物、其制造方法、膜的形成方法、粘度增加抑制方法、光聚合引发剂及其制造方法
JP6894188B2 (ja) * 2015-09-02 2021-06-30 東京応化工業株式会社 感光性組成物、当該感光性組成物の製造方法、当該感光性組成物を用いる膜の形成方法、感光性組成物の保管時の増粘抑制方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の製造方法
KR102504338B1 (ko) * 2015-12-03 2023-02-28 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 유기 절연막
CN107129458B (zh) * 2016-02-26 2021-02-09 江苏和成新材料有限公司 咔唑肟酯类化合物及其合成方法与应用
JP6758070B2 (ja) * 2016-03-31 2020-09-23 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 遮光膜用感光性樹脂組成物、これを硬化させた遮光膜を備えたディスプレイ用基板、及びディスプレイ用基板の製造方法
TWI635079B (zh) * 2016-07-08 2018-09-11 韓國化學研究院 高敏感肟酯光聚合起始劑以及包含該起始劑的光聚合組合物
CN106467482B (zh) * 2016-07-27 2019-04-09 江苏三月光电科技有限公司 一种基于二芳基酮的化合物及其应用
KR20180014982A (ko) * 2016-08-02 2018-02-12 동우 화인켐 주식회사 카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물
KR20190101466A (ko) * 2017-01-30 2019-08-30 제이엑스금속주식회사 표면 처리 도금재, 커넥터 단자, 커넥터, ffc 단자, ffc, fpc 및 전자 부품
JP7482628B2 (ja) * 2017-03-16 2024-05-14 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP7079581B2 (ja) * 2017-08-31 2022-06-02 東京応化工業株式会社 感光性組成物、硬化物形成方法、硬化物、画像表示装置用パネル、及び画像表示装置
KR102085958B1 (ko) * 2018-01-26 2020-03-06 타코마테크놀러지 주식회사 고감도 옥심에스터 광중합 개시제 및 이를 포함하는 광중합 조성물
CN108658839A (zh) * 2018-05-04 2018-10-16 武汉瑞凯兴科技有限公司 N-(4-苯甲酰基苯)-咔唑的合成方法
EP3819291A4 (en) * 2018-06-29 2022-04-27 Adeka Corporation OXIMESTER COMPOUND AND PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR CONTAINING IT
US20220121113A1 (en) * 2019-01-23 2022-04-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
WO2022264987A1 (ja) * 2021-06-15 2022-12-22 三菱瓦斯化学株式会社 樹脂組成物、樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006018405A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators

Family Cites Families (141)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3579339A (en) 1967-05-23 1971-05-18 Du Pont Photopolymerizable dispersions and elements containing nonmigratory photoreducible dyes
GB1180846A (en) 1967-08-08 1970-02-11 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
JPS5034443B2 (zh) 1971-08-20 1975-11-08
JPS5034444B2 (zh) 1971-08-20 1975-11-08
DE2363806B2 (de) 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
JPS5944615B2 (ja) 1976-02-16 1984-10-31 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料
FR2393345A1 (fr) * 1977-06-01 1978-12-29 Agfa Gevaert Nv Fabrication d'elements modifies sous forme d'images
DE2962089D1 (en) 1978-07-14 1982-03-18 Basf Ag Light-curable moulding, impregnating and coating compositions and shaped articles prepared therefrom
GB2029423A (en) * 1978-08-25 1980-03-19 Agfa Gevaert Nv Photo-polymerisable materials and recording method
DE2853921A1 (de) 1978-12-14 1980-07-03 Basf Ag Strahlungshaertbare waessrige bindemitteldispersionen
DE2936039A1 (de) 1979-09-06 1981-04-02 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Wasserdispergierbare, durch strahlen vernetzbare bindemittel aus urethanacrylaten, ein verfahren zu ihrer herstellung sowie die verwendung dieser bindemittel in waessriger dispersion auf dem anstrich-, druckfarben- und textilsektor
DE3005036A1 (de) 1980-02-11 1981-08-27 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Strahlungshaertbare waessrige bindemitteldispersionen
DE3017543A1 (de) 1980-05-08 1981-11-26 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Waessrige dispersionen auf basis von (meth)acrylsaeurealkylester-polymerisaten mit zwei ausgepraegten, praktisch sich nicht ueberlappenden maxima in der teilchengroessenverteilung innerhalb spezieller teilchengroessenbereiche, sowie verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
JPS5742009A (en) 1980-08-27 1982-03-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Formation of protective film for color mosaic filter
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
JPS6038989A (ja) 1983-08-12 1985-02-28 Nec Corp 固体撮像装置の製造方法
JPS59197401A (ja) 1983-04-26 1984-11-09 Nippon Oil & Fats Co Ltd 光重合開始剤
JPS6072927A (ja) 1983-09-30 1985-04-25 Omron Tateisi Electronics Co 高分子マイクロレンズの製造方法
JPS60166946A (ja) 1983-10-14 1985-08-30 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いる屈折率差を有するパタ−ンの作成方法
JPS60159743A (ja) 1984-01-30 1985-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPS60258539A (ja) 1984-06-05 1985-12-20 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH0756547B2 (ja) 1984-02-08 1995-06-14 日本電気株式会社 透過型表示素子
JPS6124558A (ja) 1984-07-11 1986-02-03 Daicel Chem Ind Ltd オキシムエステル化合物
US4575330A (en) 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
JPS6167003A (ja) 1984-09-10 1986-04-07 Canon Inc カラ−イメ−ジセンサ−
JPS61153602A (ja) 1984-12-27 1986-07-12 Matsushita Electronics Corp マイクロレンズの製造方法
US4590145A (en) 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
GB2180358B (en) 1985-07-16 1989-10-04 Mead Corp Photosensitive microcapsules and their use on imaging sheets
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
US4977511A (en) 1985-11-20 1990-12-11 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compound as initiators
JPS62184056A (ja) 1986-02-10 1987-08-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性組成物
JPH0755925B2 (ja) 1986-02-28 1995-06-14 旭化成工業株式会社 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法
DE3612442A1 (de) 1986-04-12 1987-10-22 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von uv-gehaerteten deckend pigmentierten beschichtungen
JP2505746B2 (ja) 1986-05-20 1996-06-12 旭化成工業株式会社 感光性組成物
JPS62286961A (ja) 1986-06-05 1987-12-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 新規なオキシムエステル化合物及びその製造方法
US4950581A (en) 1987-07-06 1990-08-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
US5019482A (en) 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
JPS6490516A (en) 1987-09-30 1989-04-07 Sumitomo Metal Ind Semiconductor porcelain material
JPH01130103A (ja) 1987-11-16 1989-05-23 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH01134306A (ja) 1987-11-19 1989-05-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH0695211B2 (ja) 1987-12-09 1994-11-24 松下電器産業株式会社 カラーフィルタ
US4934791A (en) 1987-12-09 1990-06-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Color filter
WO1990001512A1 (en) 1988-08-12 1990-02-22 Desoto, Inc. Photo-curable vinyl ether compositions
JP2549303B2 (ja) 1988-09-21 1996-10-30 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0812290B2 (ja) 1989-01-30 1996-02-07 凸版印刷株式会社 カラーフィルターおよびその製造方法
JP2762511B2 (ja) 1989-01-30 1998-06-04 凸版印刷株式会社 カラーフィルターおよびその製造方法
JPH0375065A (ja) 1989-08-15 1991-03-29 Matsushita Electric Works Ltd 人体装着型の無線受信装置
US5013768A (en) 1989-12-19 1991-05-07 Dai Nippon Toryo Co., Ltd. Photopolymerizable coating composition and process for forming a coating having a stereoscopic pattern
DE69112852T2 (de) 1990-01-16 1996-05-15 Showa Denko Kk Polymerisationsinitiator verwendbar in der Nähe von Infrarot.
EP0441232A3 (en) 1990-02-09 1992-10-14 Basf Aktiengesellschaft Cationic photopolymerisation process
DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4013358A1 (de) 1990-04-26 1991-10-31 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von druckformen oder photoresists durch bildmaessiges bestrahlen eines photopolymerisierbaren aufzeichnungsmaterials
JP2977265B2 (ja) 1990-11-19 1999-11-15 旭化成工業株式会社 感光性エラストマー構成体
JP2999274B2 (ja) 1991-01-28 2000-01-17 三菱化学株式会社 エチレン重合体の製造法
JP2794242B2 (ja) 1991-06-25 1998-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料及び画像形成方法
JP3672105B2 (ja) 1991-09-09 2005-07-13 東レ株式会社 感光性導電ペースト
JP3218767B2 (ja) 1992-01-24 2001-10-15 東レ株式会社 感光性導電ペースト
US5368976A (en) 1992-03-27 1994-11-29 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Pigment-dispersed color-filter composition comprising an alkali-soluble block copolymer as a binder
DE4211060A1 (de) 1992-04-03 1993-10-07 Roehm Gmbh Polymerprodukte zur Behandlung von Leder
JPH061638A (ja) 1992-06-19 1994-01-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラスと金属の接着方法
JP2575572B2 (ja) 1992-06-19 1997-01-29 新日本製鐵株式会社 アルカリ現像型感光性カラーフィルター用インク及びそれを用いたカラーフィルター
JPH0668309A (ja) 1992-08-14 1994-03-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd パターン判別用ファジィ推論装置および判別ルール作成装置
DE4228514A1 (de) 1992-08-27 1994-03-03 Hoechst Ag Bindemittel für Pulverlacke
JP3218256B2 (ja) 1993-01-29 2001-10-15 東洋インキ製造株式会社 アルカリ現像型感光性着色組成物
EP0624826B1 (de) 1993-05-14 1997-07-16 OCG Microelectronic Materials Inc. Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen durch i-Linien-Bestrahlung
JP2962103B2 (ja) 1993-06-23 1999-10-12 東レ株式会社 ｉ線用感光性ポリイミド前駆体組成物
BE1007373A3 (nl) 1993-07-30 1995-05-30 Dsm Nv Stralingsuithardbare bindmiddelsamenstelling voor poederverfformuleringen.
US5514502A (en) 1993-08-16 1996-05-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition, color filter, and production of color filter
DE69408761T2 (de) 1993-09-24 1998-08-27 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Strahlungsempfindliche Zusammensetzung
DE69418826T2 (de) 1993-11-22 1999-10-21 Ciba Sc Holding Ag Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren Anwendung
JPH07271020A (ja) 1994-03-18 1995-10-20 Internatl Business Mach Corp <Ibm> ブラックマトリックス形成用感光性組成物、カラーフィルター基板及びそれを用いた液晶表示装置
DE4414088A1 (de) 1994-04-22 1995-10-26 Basf Ag Gele mit thermotropen Eigenschaften
TW339421B (en) 1994-09-12 1998-09-01 Sumitomo Kagaku Kk A photoresist composition comprising a polyfunctional vinyl ether compound
CA2158915A1 (en) 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
JP3292434B2 (ja) 1994-10-17 2002-06-17 太陽インキ製造株式会社 プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用組成物及びそれを用いた隔壁形成方法
US5840465A (en) 1995-07-17 1998-11-24 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Compositions and method for formation of barrier ribs of plasma display panel
US5969867A (en) 1994-10-18 1999-10-19 Mitsubishi Rayon Company Ltd. Active energy ray-curable composition and lens sheet
US5882843A (en) 1994-11-15 1999-03-16 Hoechst Japan Limited Photosensitive resin composition for color filter production
US5650233A (en) 1995-01-05 1997-07-22 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photo-setting colored filter composition, a color filter, a process for the preparation thereof, and a curable resin composition
EP0723167A3 (en) 1995-01-17 1997-04-02 Mitsubishi Chem Corp Light-curing composition for color filter
JP3509269B2 (ja) 1995-04-07 2004-03-22 新日鐵化学株式会社 遮光性薄膜形成用組成物及びこれを用いて形成された遮光膜
JPH08278630A (ja) 1995-04-07 1996-10-22 Nippon Steel Chem Co Ltd 保存安定性に優れたカラーフィルター用インク及びこれを用いて形成したカラーフィルター
JPH08305019A (ja) 1995-05-10 1996-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
WO1996041240A1 (en) 1995-06-07 1996-12-19 W.R. Grace & Co.-Conn. Water photoresist emulsions and methods of preparation thereof
JPH0915857A (ja) 1995-06-29 1997-01-17 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント及びカラーフィルタの製造法
JPH0926941A (ja) 1995-07-10 1997-01-28 Mitsubishi Electric Corp データ処理装置
JP3564836B2 (ja) 1995-11-22 2004-09-15 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP3587413B2 (ja) 1995-12-20 2004-11-10 東京応化工業株式会社 化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
JPH09179299A (ja) 1995-12-21 1997-07-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感放射線性組成物
EP0780731B1 (en) 1995-12-22 2002-04-17 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device
DE19700064A1 (de) 1996-01-13 1997-07-17 Basf Ag Gele mit thermotropen Eigenschaften
JP3641093B2 (ja) 1996-02-02 2005-04-20 東京応化工業株式会社 緑色カラーフィルタ用感光性組成物及びこれを用いた緑色カラーフィルタの製造方法
JPH09244230A (ja) 1996-03-07 1997-09-19 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びこの感光性エレメントを用いた蛍光体パターンの製造方法
US5853446A (en) 1996-04-16 1998-12-29 Corning Incorporated Method for forming glass rib structures
JPH09325209A (ja) 1996-06-06 1997-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd Ｌｃｄ表示装置用カラーフィルター
TW375759B (en) 1996-07-10 1999-12-01 Toray Industries Plasma display and preparation thereof
WO1999038035A1 (fr) 1996-07-22 1999-07-29 Maikurooputo Co., Ltd. Procede de fabrication d'une mini-lentille plate et mince; mini-lentille ainsi produite
JPH1062980A (ja) 1996-08-23 1998-03-06 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いた蛍光体パターンの製造法
JPH10171119A (ja) 1996-12-11 1998-06-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性樹脂組成物、およびこれを用いた色フィルタの製造方法
JP3849950B2 (ja) 1997-02-06 2006-11-22 東京応化工業株式会社 色フィルタ用感光性組成物
US5851732A (en) 1997-03-06 1998-12-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Plasma display panel device fabrication utilizing black electrode between substrate and conductor electrode
JPH10301276A (ja) 1997-04-23 1998-11-13 Nippon Steel Chem Co Ltd 感光性着色組成物及びこれを用いたカラーフィルタ
JP3829412B2 (ja) 1997-05-28 2006-10-04 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物
DE69828374T2 (de) 1997-07-03 2005-12-08 Seiko Epson Corp. Leiterwiderstandsschaltung und digital/analog-wandler und damit ausgerüstete halbleitervorrichtung
US6255034B1 (en) 1997-09-09 2001-07-03 Jsr Corporation Radiation sensitive composition
JPH11174459A (ja) 1997-12-11 1999-07-02 Hitachi Chem Co Ltd カラー液晶表示装置用スペーサーフィルム
JP3951396B2 (ja) 1997-12-12 2007-08-01 日立化成工業株式会社 樹脂スペーサー形成用感光性フィルム
JP3998797B2 (ja) 1998-02-10 2007-10-31 東京応化工業株式会社 光重合性樹脂組成物及び該光重合性樹脂組成物を用いたカラーフィルターの製造方法
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
JP2000039503A (ja) 1998-07-22 2000-02-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd レンズアレイ
JP2000081701A (ja) 1998-09-03 2000-03-21 Jsr Corp カラーフィルター保護膜用感放射線性樹脂組成物
JP4245740B2 (ja) 1999-07-29 2009-04-02 新日鐵化学株式会社 光重合性樹脂組成物並びにカラーフィルター
JP4404330B2 (ja) 2001-01-09 2010-01-27 東京応化工業株式会社 光重合性組成物および該組成物を用いたカラーフィルタの製造方法
CN100528838C (zh) * 2001-06-11 2009-08-19 西巴特殊化学品控股有限公司 具有复合结构的肟酯光引发剂
US6780546B2 (en) 2001-08-30 2004-08-24 Inphase Technologies, Inc. Blue-sensitized holographic media
JP2004069754A (ja) 2002-08-01 2004-03-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性黒色組成物及び黒色パターンの形成方法
EP1567518B1 (en) 2002-12-03 2009-01-14 Ciba Holding Inc. Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups
JP4443848B2 (ja) 2003-03-31 2010-03-31 新日鐵化学株式会社 カラーフィルター用レジスト材料及びカラーフィルター
JP2004359639A (ja) * 2003-06-06 2004-12-24 Asahi Denka Kogyo Kk オキシムエステル化合物および該化合物を含有する光重合開始剤
JP3754065B2 (ja) 2003-06-10 2006-03-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP3755522B2 (ja) 2003-08-01 2006-03-15 東洋インキ製造株式会社 光ラジカル重合開始剤及びそれを用いた光ラジカル重合性組成物
JP4437651B2 (ja) 2003-08-28 2010-03-24 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP2005121940A (ja) * 2003-10-17 2005-05-12 Toyo Ink Mfg Co Ltd 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。
JP2005154494A (ja) * 2003-11-21 2005-06-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光ラジカル重合開始剤及びそれを用いた光ラジカル重合性組成物
JP2005187678A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合性組成物
JP2005220097A (ja) 2004-02-06 2005-08-18 Asahi Denka Kogyo Kk チオフェン構造を有するオキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
TWI285297B (en) * 2004-02-09 2007-08-11 Chi Mei Corp Light-sensitive resin composition for black matrix
JP4639770B2 (ja) * 2004-02-20 2011-02-23 Ｊｓｒ株式会社 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP4830310B2 (ja) * 2004-02-23 2011-12-07 三菱化学株式会社 オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
CN101805282B (zh) 2004-02-23 2012-07-04 三菱化学株式会社 肟酯化合物、光聚合性组合物和使用该组合物的滤色器
KR100783337B1 (ko) * 2004-02-23 2007-12-07 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 옥심 에스테르 화합물, 광중합성 조성물 및 이것을 사용한컬러 필터
JP4570999B2 (ja) 2004-03-30 2010-10-27 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4448381B2 (ja) 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
EP1769286B1 (en) * 2004-07-20 2015-09-09 Basf Se Oxime derivatives and the use therof as latent acids
EP1780209B1 (en) 2004-08-20 2010-03-10 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing such compound
JP3798008B2 (ja) * 2004-12-03 2006-07-19 旭電化工業株式会社 オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
EP2172455B1 (en) * 2005-12-01 2011-01-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US8586268B2 (en) * 2005-12-20 2013-11-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006018405A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators

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