JP4830310B2 - オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター - Google Patents

Description

本発明は、光重合開始剤として有用なオキシムエステル系化合物、及びこれを含有する光重合性組成物に関する。詳しくは、本発明はカラーテレビ、液晶表示素子、固体撮像素子、カメラ等に使用される光学的カラーフィルターの製造で使用されるカラーフィルター用光重合性組成物及び該組成物より得られるカラーフィルターに有効であり、高遮光性でありながら高感度で解像性に優れたブラックマトリックス（Black Matrix。以下、ＢＭと略称する。）製造に適したカラーフィルター用光重合性組成物及び高精度、高遮光性の樹脂ＢＭを有するカラーフィルターに関する。

更に本発明にかかるオキシムエステル系化合物は高感度の光重合開始剤であるので、ＢＭ用に限定されることなく、フォトスペーサーやリブ（液晶分割配向突起）等、色材を用いない透明な感光性組成物にも利用可能であり、応用技術分野は広範である。

カラーフィルターは、通常、ガラス、プラスチックシート等の透明基板の表面に黒色のマトリックスを形成し、続いて、赤、緑、青等の３種以上の異なる色相を順次、ストライプ状あるいはモザイク状等の色パターンで形成したものである。パターンサイズはカラーフィルターの用途並びにそれぞれの色により異なるが５〜７００μｍ程度である。また、重ね合わせの位置精度は数〜数十μｍであり、寸法精度の高い微細加工技術により製造されている。

カラーフィルターの代表的な製造方法としては、染色法、印刷法、顔料分散法、電着法等がある。これらのうち、特に、色材料を含有する光重合性組成物を、透明基板上に塗布し、画像露光、現像、必要により硬化を繰り返すことでカラーフィルター画像を形成する顔料分散法は、カラーフィルター画素の位置、膜厚等の精度が高く、耐光性・耐熱性等の耐久性に優れ、ピンホール等の欠陥が少ないため、広く採用されている。

ＢＭは、赤、緑、青の色パターンの間に格子状、ストライプ状またはモザイク状に配置するのが一般的であり、各色間の混色抑制によるコントラスト向上あるいは光漏れによる薄膜トランジスター（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）の誤動作を防ぐ役割を果たしている。このため、ＢＭには高い遮光性が要求される。従来、ＢＭはクロム等の金属膜で形成する方法が一般的であった。この手法は透明基板上にクロム等の金属を蒸着し、フォトリソ工程を経てクロム層をエッチング処理するものであるため、薄い膜厚で高遮光性が高精度で得られる。その反面、製造工程が長く且つ生産性の低い手法であり高コストであり、また、エッチング処理の廃液などによる環境問題が生じる等の問題を抱えていた。

このため、遮光性の顔料、染料を分散させた感光性樹脂で低コスト、無公害の樹脂ＢＭを形成する手法が精力的に研究されている。しかしながら、樹脂ＢＭは後述するような問題を抱えているため、いまだ実用化できていないのが現状である。樹脂ＢＭにおいて、クロム等の金属膜によるＢＭと同等の遮光性（光学濃度）を発現させるためには、遮光性の顔料、染料等の含有量を多くするか、あるいは、膜厚を厚くする必要がある。

膜厚を厚くする方法においては、ＢＭの凹凸の影響を受けて、その上に形成するＲＧＢの着色画素の平坦性が損なわれる。このため、液晶セルギャップの不均一化あるいは液晶の配向の乱れを発生させ表示能力の低下を起こす。また、カラーフィルター上に設ける透明電極ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）膜の断線（平面状膜の破損）が発生する等の問題も生じる。

また、遮光性の顔料、染料の含有量を多くする方法においては、感光性樹脂（ブラックレジスト）の感度、現像性、解像性、密着性等が悪化する問題があり、生産性の低下のみならずカラーフィルターに要求される精度、信頼性が得られなくなる。すなわち、薄膜、高遮光性の条件下で感度、解像性を発揮できる感光材料が実現できていないため樹脂ＢＭの実用化を阻んでいる。

従来、一般的感光性樹脂、あるいは、カラーフィルター用の着色感光性組成物等一定の光透過性を有する感光性樹脂においては感度、解像性の性能を改善する手法について知られている。例えば、顔料を分散させたカラーフィルター用着色組成物としてバインダー樹脂、多官能アクリルモノマー、トリアジン化合物からなる開始剤を含有する感光性組成物が知られている（特許文献１〜４参照）。また、同様な組成において開始剤がビスイミダゾールであるものも知られている（特許文献５〜６参照）が、これらに開示の組成物の場合、空気中で露光した場合には酸素による重合阻害を受けるため、実用的な感度を得ることができなかった。

樹脂ＢＭのように光の全波長領域において遮光能力が要求される場合では、（１）露光部分と未露光部分における架橋密度の差をつけるのが著しく困難なこと、（２）露光された部分でも膜厚方向に対する架橋密度の差が発生すること、つまり、光照射面で十分硬化しても、基底面では硬化しないこと、（３）現像液に不溶な多量な黒色色材を配合するため現像性の低下が著しいこと等、著しく感光特性を付与する上で障害となっている。

特に、上記（１）と（２）の現象は相反するものであり、露光部分がより硬化する組成にする程、膜厚方向での硬化密度差が大となるため解像力低下に繋がる。また、露光部／未露光部の架橋密度差並びに露光部の硬化密度を均一化できないと溶解力の強い現像液の使用も困難となるため現像性の改良も困難となる。従来知られている樹脂ＢＭ形成用感光性組成物（例えば、特許文献７〜８参照）は、このような状況を避けたものであり、金属ＢＭと同程度の遮光ができる樹脂ＢＭを形成するのではなく、ある程度光透過させて感光能力をもたせたものであり遮光能力は著しく低く実用的ではなかった。このため、高膜厚、低遮光性の樹脂ＢＭを一旦形成したあとキュアー工程における膜収縮により、薄膜で高遮光度をもった樹脂ＢＭも提案もなされている（特許文献９参照）が、工程が複雑になること、膜収縮時のひずみ蓄積により密着性が低下する等の問題があり実用化が困難である。このように、遮光という、本来光反応と相反する条件下において光反応を起こすという一見矛盾する課題のため、実用的な樹脂ＢＭの実現は困難であった。

また、光重合開始剤として特定のオキシムエステル化合物を使用する技術が知られている（特許文献１０参照）が、従来の樹脂ＢＭで使用されている開始剤（例えば、ビスイミダゾールやトリアジン系開始剤）を、単に該オキシム化合物に置き換えるだけでは、樹脂ＢＭに求められる画像特性、すなわち感度や解像性を改善することはできなかった。

また、高感度の光重合性組成物は、黒色顔料を有するＢＭ用途向け以外に、レッド、グリーン、ブルーの色画素形成用組成物、フォトスペーサ用組成物、リブ用組成物等においても広く求められており、その技術上の問題点は主として光重合開始剤の選択にあった。

特開平１−１５２４４９号公報 特開平１−２５４９１８号公報 特開平２−１５３３５３号公報 特開平２−８０４号公報 特開平６−７５３７２号公報 特開平６−７５３７３号公報 特開平６−５１４９９号公報 特開平６−３５１８号公報 特開平８−４４０５０号公報 特開２０００−８００６８号公報

本発明は上述の問題点を解決し薄膜、高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、十分な感度、解像性をもつレジスト材料を提供するものであり、カラーフィルターの樹脂ＢＭを高精度、低コストで製造可能とするものである。また、このようにして製造されたカラーフィルターを使用した液晶表示装置はコントラスト等の表示能力に優れたものである。また、ＢＭを樹脂化することによりカラーフィルターの高画質化、無公害化をはかるものである。

また、近年、カラーフィルタに要求される「高濃度」を達成するためは、使用する着色組成物中の色材濃度を上げる必要があったが、反面、着色樹脂組成物の光透過性が下がるため、画像形成性能を維持、向上するためには、更に高感度の光重合性材料が求められていた。本発明は上記課題を解決するものである。

また、液晶表示装置の製造に用いられる、フォトスペーサー、リブ用感光性組成物、さらには光重合性材料を用いた感光性組成物一般においても同様に高精度、低コスト化での製造の要求が高まり、さらなる高感度な光重合性画像形成材料が求められており、本発明は上記課題を解決するものである。

本発明者等は鋭意研究を進めた結果、光重合開始剤としてより光重合の効率を向上させる構造を有する特定のオキシムエステル化合物を、かつ有機結合剤としてカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂を組み合わせて含有する光重合性組成物を使用することで、かかる目的を達成できることを見出した。

更に、かかる特定のオキシムエステル系化合物は、それ自体新規な化合物であり、かつ優れた光重合開始剤として、色材の存在有無にかかわらず有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の要旨は、一般式（１）又は（２）で示されるオキシムエステル系化合物に存する。

（式中、Ｒ^1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ^1aは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。）：

（式中、Ｒ^1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ^1bは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０アルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、 Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。）

また、本発明の他の要旨は、前記一般式（１）において、Ｒ^1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基であるか、またはＲ^1aは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aが、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、前記一般式（２）において、Ｒ^1bが、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、 一般式（３）又は（４）で示されるオキシムエステル系化合物に存する。

（式中、Ｒ^1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ^1aは、Ｒ³あるいはＲ⁷とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基又は、−ＯＲ⁸、−ＳＲ⁹、−ＳＯＲ⁹、−ＳＯ₂Ｒ⁹もしくは−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し、かつ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷の少なくとも一つは、−ＯＲ⁸、−ＳＲ⁹又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示す。ただし、Ｒ⁸は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、−（ＣＨ₂ ＣＨ₂Ｏ）_mＨ（ｍは１〜２０の整数）、又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ⁹は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数６〜２０のフェニル基又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表し、Ｒ³〜Ｒ⁷は互いに結合して、またＲ¹と共に環構造を形成してもよい。）：

（式中、Ｒ^1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ^1bは、Ｒ³あるいはＲ⁷とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ^1bとＲ³あるいは／およびＲ⁷は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、 Ｒ^2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は前記一般式（３）におけると同義である。）

また、本発明の他の要旨は、前記一般式（３）において、Ｒ^1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基であるか、またはＲ^1aは、Ｒ³あるいはＲ⁷とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ^1bとＲ³あるいは／およびＲ⁷は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aが、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基であり、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し、かつ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷の少なくとも一つは、−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し（ただし、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表す）、Ｒ³〜Ｒ⁷は互いに結合して、またＲ^1aと共に環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、前記一般式（４）において、Ｒ^1bが、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し、かつ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷の少なくとも一つは、−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し（ただし、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表す）、Ｒ³〜Ｒ⁷は互いに結合して、またＲ^1bと共に環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、一般式（５）〜（７）のいずれかで示されるオキシムエステル系化合物に存する。

（式中、Ｒ^1a、Ｒ^2aは、請求項４に記載の前記一般式（３）におけると同義であり、 Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよい。 ）

（式中、Ｒ^1b、Ｒ^2bは、前記一般式（４）におけると同義であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、前記一般式（５）におけると同義である。 ）

（式中、Ｒ^1aは、それぞれ前記の一般式（４）におけると同義であり、Ｒ^2bは、前記の一般式（３）におけるＲ^2a及び一般式（４）におけるＲ^2bを示し、 Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つＲ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む。）

また、本発明の他の要旨は、一般式（５）において、Ｒ^1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数 ３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基であるか、またはＲ^1aは、Ｒ³あるいはＲ⁷とともに環を形成してもよく、その場合Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷は互い結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−、あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aは、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、一般式（６）において、Ｒ^1bが、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、一般式（８）又は（９）で示されるオキシムエステル系化合物に存する。

（式中、Ｒ^1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ^1aは、Ａｒ₁とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aは、請求項１に記載の一般式（１）におけると同義であり、Ａｒ₁は、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、ｐは、２〜５の整数を表す。）：

（式中、Ｒ^1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ^1bは、Ａｒ₁とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０アルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2bは、請求項１に記載の一般式（２）におけると同義であり、Ａｒ₁は、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、ｐは、２〜５の整数を表す。）

また、本発明の他の要旨は、一般式（８）において、Ｒ^1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ^1aは、Ａｒ₁とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ^1aとＡｒ₁は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aが、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、一般式（９）において、Ｒ^1bは、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。

また、本発明の他の要旨は、（ｂ）有機結合材及び（ｃ）光重合開始剤を含有する光重合性組成物であって、（ｃ）が上記オキシムエステル系化合物であることを特徴とする光重合性組成物に存する。

また、本発明の他の要旨は、（ｂ）有機結合材が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂である前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。

また、本発明の他の要旨は、（ｂ）有機結合材が、ノボラック型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物に（ヒドロ）フタル酸無水物を反応させて得られるエポキシアクリレートである前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。

また、本発明の他の要旨は、光重合性組成物が、更に（ｄ）光重合性単量体を含有することを特徴とする前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。

また、本発明の他の要旨は、光重合性組成物が、更に（ｅ）塩基性官能基を有する高分子分散剤を含有することを特徴とする前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。

また、本発明の他の要旨は、光重合性組成物が、更に（ａ）色材を含有することを特徴とする前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。

また、本発明の他の要旨は、前記のいずれかに記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とするカラーフィルターに存する。

また、本発明の他の要旨は、前記のいずれかに記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とする液晶表示装置に存する。

本発明のオキシムエステル系化合物は、新規かつ高感度な光重合開始剤として利用することができる。これを有機結合剤及び色材と組合わせることによりカラーフィルター用途に有用な光重合性組成物を構成することができる。特に黒色色材と組合わせて利用する場合には、光重合性組成物は、薄膜において高遮光性でありながら感度、解像性に優れるため、低コストで高品質の樹脂ＢＭを形成することができる。本発明の樹脂ＢＭを用いたカラーフィルターは精度、平坦性、耐久性において優れるため、液晶素子の表示品位を向上させることができる。また、製造工程およびカラーフィルター自体にも有害な物質を含まないため、人体に対する危険性を低減し環境安全性が向上する。更に、ＢＭ用に限定されることなく、フォトスペーサーやリブ（液晶分割配向突起）等、色材を用いない透明な感光性組成物にも利用可能であり、応用技術分野は広範である。

（ａ）色材
本発明の実施において色材は必須の成分ではないが、多くの用途において色材を組合わせて利用する。ここに、色材とは感光性組成物を着色するものをいう。色材としては、染顔料が使用できるが、耐熱性、耐光性等の点から顔料が好ましい。顔料としては青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、黄色顔料、紫色顔料、オレンジ顔料、ブラウン顔料、黒色顔料等各種の色の顔料を使用することができる。また、その構造としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系等の有機顔料の他に種々の無機顔料等も利用可能である。以下、使用できる顔料の具体例をピグメントナンバーで示す。以下に挙げる「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２」等の用語は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する。

赤色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、１２、１４、１５、１６、１７、２１、２２、２３、３１、３２、３７、３８、４１、４７、４８、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５２：２、５３、５３：１、５３：２、５３：３、５７、５７：１、５７：２、５８：４、６０、６３、６３：１、６３：２、６４、６４：１、６８、６９、８１、８１：１、８１：２、８１：３、８１：４、８３、８８、９０：１、１０１、１０１：１、１０４、１０８、１０８：１、１０９、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４７、１４９、１５１、１６６、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８１、１８４、１８５、１８７、１８８、１９０、１９３、１９４、２００、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０、２１４、２１６、２２０、２２１、２２４、２３０、２３１、２３２、２３３、２３５、２３６、２３７、２３８、２３９、２４２、２４３、２４５、２４７、２４９、２５０、２５１、２５３、２５４、２５５、２５６、２５７、２５８、２５９、２６０、２６２、２６３、２６４、２６５、２６６、２６７、２６８、２６９、２７０、２７１、２７２、２７３、２７４、２７５、２７６を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、１２２、１６８、１７７、２０２、２０６、２０７、２０９、２２４、２４２、２５４、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２０９、２２４、２５４を挙げることができる。

青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、１：２、９、１４、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、１７、１９、２５、２７、２８、２９、３３、３５、３６、５６、５６：１、６０、６１、６１：１、６２、６３、６６、６７、６８、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７８、７９を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を挙げることができる。

緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、２、４、７、８、１０、１３、１４、１５、１７、１８、１９、２６、３６、４５、４８、５０、５１、５４、５５を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６を挙げることができる。

黄色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、１：１、２、３、４、５、６、９、１０、１２、１３、１４、１６、１７、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４１、４２、４３、４８、５３、５５、６１、６２、６２：１、６３、６５、７３、７４、７５，８１、８３、８７、９３、９４、９５、９７、１００、１０１、１０４、１０５、１０８、１０９、１１０、１１１、１１６、１１７、１１９、１２０、１２６、１２７、１２７：１、１２８、１２９、１３３、１３４、１３６、１３８、１３９、１４２、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１５７、１５８、１５９、１６０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８８、１８９、１９０、１９１、１９１：１、１９２、１９３、１９４、１９５、１９６、１９７、１９８、１９９、２００、２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７、２０８を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１１７、１２９、１３８、１３９、１５０、１５４、１５５、１８０、１８５、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１３８、１３９、１５０、１８０を挙げることができる。

オレンジ顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１、２、５、１３、１６、１７、１９、２０、２１、２２、２３、２４、３４、３６、３８、３９、４３、４６、４８、４９、６１、６２、６４、６５、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７７、７８、７９を挙げることができる。この中でも、好ましくは、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、７１を挙げることができる。

紫色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１：１、２、２：２、３、３：１、３：３、５、５：１、１４、１５、１６、１９、２３、２５、２７、２９、３１、３２、３７、３９、４２、４４、４７、４９、５０を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を挙げることができる。

黒色色材としては、単独の黒色色材、又は赤、緑、青色等の混合による黒色色材が使用可能である。これら黒色色材は、無機または有機の顔料、染料の中から適宜選択することができ、単独使用もしくは複数種混合して使用することができる。

単独の黒色色材としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック等が挙げられる。これらの中で、特にカーボンブラック、チタンブラックが遮光率、画像特性の観点から好ましい。カーボンブラックの市販品の例としては、以下のような銘柄が挙げられる。

三菱化学社製：ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃２７００、＃２６５０、＃２２００、＃１０００、＃９９０、＃９００等。

デグサ社製：Ｐｒｉｎｔｅｘ９５、Ｐｒｉｎｔｅｘ９０、Ｐｒｉｎｔｅｘ８５、Ｐｒｉｎｔｅｘ７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ４０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３、ＰｒｉｎｔｅｘＡ、ＰｒｉｎｔｅｘＧ、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ５５０、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ３５０、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ２５０、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ１００等。

キャボット社製：Ｍｏｎａｒｃｈ４６０、Ｍｏｎａｒｃｈ４３０、Ｍｏｎａｒｃｈ２８０、Ｍｏｎａｒｃｈ１２０、Ｍｏｎａｒｃｈ８００、Ｍｏｎａｒｃｈ４６３０、ＲＥＧＡＬ９９、ＲＥＧＡＬ９９Ｒ、ＲＥＧＡＬ４１５、ＲＥＧＡＬ４１５Ｒ、ＲＥＧＡＬ２５０、ＲＥＧＡＬ２５０Ｒ、ＲＥＧＡＬ３３０、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ４８０、ＰＥＡＲＬＳ１３０等。

コロンビヤンカーボン社製：ＲＡＶＥＮ１１、ＲＡＶＥＮ１５、ＲＡＶＥＮ３０、ＲＡＶＥＮ３５、ＲＡＶＥＮ４０、ＲＡＶＥＮ４１０、ＲＡＶＥＮ４２０、ＲＡＶＥＮ４５０、ＲＡＶＥＮ５００、ＲＡＶＥＮ７８０、ＲＡＶＥＮ８５０、ＲＡＶＥＮ８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ１０００、ＲＡＶＥＮ１０２０、ＲＡＶＥＮ１０４０等。

次に、混合による黒色色材について説明する。混合のベースとなる色材の具体例としては、ビクトリアピュアブルー（４２５９５）、オーラミンＯ（４１０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミンＢ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、Ｎｏ．１２０／リオノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、シムラーファーストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（２１０９５）、シムラーファーストレッド４０１５（１２３５５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（１５８５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）、リオノールブルーＥＳ（ピグメントブルー１５：６）、リオノーゲンレッドＧＤ（ピグメントレッド１６８）、リオノールグリーン２ＹＳ（ピグメントグリーン３６）等が挙げられる（なお、上記の（ ）内の数字は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する）。

また、更に他の混合使用可能な顔料についてＣ．Ｉ．ナンバーにて示すと、例えば、Ｃ．Ｉ．黄色顔料２０，２４，８６，９３，１０９，１１０，１１７，１２５，１３７，１３８，１４７，１４８，１５３，１５４，１６６、Ｃ．Ｉ．オレンジ顔料３６，４３，５１，５５，５９，６１、Ｃ．Ｉ．赤色顔料９，９７，１２２，１２３，１４９，１６８，１７７，１８０，１９２，２１５，２１６，２１７，２２０，２２３，２２４，２２６，２２７，２２８，２４０、Ｃ．Ｉ．バイオレット顔料１９，２３，２９，３０，３７，４０，５０、Ｃ．Ｉ．青色顔料１５，１５：１，１５：４，２２，６０，６４、Ｃ．Ｉ．緑色顔料７、Ｃ．Ｉ．ブラウン顔料２３，２５，２６等を挙げることができる。

なお、上記のカーボンブラックは、他の黒色または有色の無機、有機顔料と併用してもよい。他の顔料は、カーボンブラックより遮光性または画像特性が低いため自ずと混合比率は制限される。

チタンブラックの製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法（特開昭４９−５４３２号公報）、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法（特開昭５７−２０５３２２号公報）、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６０−６５０６９号公報、特開昭６１−２０１６１０号公報）、二酸化チタンまたは水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６１−２０１６１０号公報）などがあるが、これらに限定されるものではない。

チタンブラックの市販品の例としては、三菱マテリアル社製チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ−Ｃなどが挙げられる。
（ｂ）有機結合材
本発明において光重合性組成物を構成する場合、（ｂ）有機結合材が使用される。有機結合剤は特に限定されるものではないが、特にカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が好ましく用いられる。

上記エポキシアクリレート樹脂は、エポキシ樹脂にα，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多塩基酸無水物を反応させることにより合成される。かかる反応生成物は化学構造上、実質的にエポキシ基を有さず、かつ「アクリレート」に限定されるものではないが、エポキシ樹脂が原料であり、かつ「アクリレート」が代表例であるので、慣用に従いこのように命名したものである。

原料となるエポキシ樹脂として、（ｏ，ｍ，ｐ−）クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、下式で示されるエポキシ樹脂等を好適に用いることができる（特許第２８７８４８６号公報参照）。

エポキシ樹脂の分子量は、ＧＰＣで測定した重量平均分子量として、通常２００〜２０万、好ましくは３００〜１０００００の範囲である。分子量が上記範囲未満であると皮膜形成性に問題を生じる場合が多く、逆に、上記範囲を越えた樹脂ではα，β−不飽和モノカルボン酸の付加反応時にゲル化が起こりやすく製造が困難となるおそれがある。

α，β−不飽和モノカルボン酸としては、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられ、好ましくは、アクリル酸及びメタクリル酸であり、特にアクリル酸が反応性に富むため好ましい。エステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルとしては、アクリル酸−２−サクシノイルオキシエチル、アクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル、アクリル酸−２−フタロイルオキシエチル、アクリル酸−２−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、メタクリル酸−２−サクシノイルオキシエチル、メタクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル、メタクリル酸−２−フタロイルオキシエチル、メタクリル酸−２−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、クロトン酸−２−サクシノイルオキシエチル等を挙げられ、好ましくは、アクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル及びアクリル酸−２−フタロイルオキシエチルであり、特にアクリル酸−２−マレイノイルオキシエチルが好ましい。

α，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルとエポキシ樹脂との付加反応は、公知の手法を用いることができ、例えば、エステル化触媒存在下、５０〜１５０℃の温度で反応させることができる。エステル化触媒としてはトリエチルアミン、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジエチルアミン等の３級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩等を用いることができる。

α，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルの使用量は、原料エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対し０．５〜１．２当量の範囲が好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．１当量の範囲である。α，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルの使用量が少ないと不飽和基の導入量が不足し、引き続く多塩基酸無水物との反応も不十分となる。また、多量のエポキシ基が残存することも有利ではない。一方、該使用量が多いとα，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルが未反応物として残存する。いずれの場合も硬化特性が悪化する傾向が認められる。

α，β−不飽和カルボン酸又はそのエステルが付加したエポキシ樹脂に、更に付加させる多塩基酸無水物としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、好ましくは、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、特に好ましい化合物は、無水テトラヒドロフタル酸及びビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

多塩基酸無水物の付加反応に関しても公知の手法を用いることができ、α，β−不飽和カルボン酸又はそのエステルの付加反応と同様な条件下で継続反応させることにより得ることができる。多塩基酸無水物の付加量は、生成するエポキシアクリレート樹脂の酸価が１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲となるのが好ましく、更に２０〜１４０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。樹脂酸価が上記範囲以下であるとアルカリ現像性に乏しくなり、また、上記範囲を越えると硬化性能に劣る傾向が認められる。

（ｂ）有機結合剤としては、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂以外に、次のような樹脂も使用することができる。なお、以下に説明する樹脂にはエポキシアクリレート樹脂に属するものも一部重複的に含んでおり、完全に異なる別物質という分類ではない。

即ち、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、マレイン酸、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独重合体又は共重合体、又はカルボキシル基含有ビニル系樹脂、並びに、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アセチルセルロース等も好適に挙げられる。中でも、アルカリ現像性と画像形成性の面から、上記カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂及びカルボキシル基含有ビニル系樹脂が好ましく、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が更に好ましい。

そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル等のビニル化合物との共重合体等が挙げられる。

上記の共重合体の中では、スチレン−（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン３〜３０モル％、（メタ）アクリレート１０〜７０モル％、（メタ）アクリル酸１０〜６０モル％からなる共重合体が更に好ましく、スチレン５〜２５モル％、（メタ）アクリレート２０〜６０モル％、（メタ）アクリル酸１５〜５５モル％からなる共重合体が特に好ましい。また、これらカルボキシル基含有ビニル系樹脂は、酸価が３０〜２５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、好ましくは、５０〜２００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは、７０〜１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇである。

更に、上記カルボキシル基含有ビニル系樹脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが好適であり、例えば、カルボキシル基含有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又は、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕オキシメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を、カルボキシル基含有重合体の有するカルボキシル基の５〜９０モル％、好ましくは３０〜７０モル％程度を反応させて得られた反応生成物、及び、アリル（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メタ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、メタリル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化合物、又は、ビニル（メタ）アクリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−プロペニル（メタ）アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化合物と、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を１０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％程度となるように共重合させて得られた反応生成物等が挙げられる。

また、液晶分割配向突起の形成に用いるときは、特に、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂の場合は、通常１，０００以上、好ましくは１，５００以上であり、通常３０，０００以下、好ましくは２０，０００以下、更に好ましくは１０，０００以下、特に好ましくは５，０００以下である。カルボキシル基含有ビニル系樹脂の場合、通常１，０００以上、好ましくは１５００以上、更に好ましくは２０００以上であり、通常１００，０００以下、好ましくは５０，０００万以下、更に好ましくは２０，０００以下、特に好ましくは１０，０００以下である。上記範囲の有機結合材を含有する場合は、光重合性組成物の加熱時の変形が大きいため、液晶分割配向突起の良好な形状であるアーチ状の突起が形成されるので好ましい。

（ｃ）光重合開始剤
本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤として一般式（１）又は（２）で示されるオキシムエステル系化合物を含有する。

（式中、符号の意味は前記の一般式（１）で定義したものと同一である。）

一般式（１）中、好ましくは、Ｒ^1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ^1aは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aは、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。

（式中、符号の意味は前記の一般式（２）で定義したものと同一である。）

一般式（２）中、好ましくは、Ｒ^1bは、炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｒ^2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。

一般式（１）又は（２）で示されるオキシムエステル系化合物中、好ましい化合物は一般式（３）又は（４）で表される化合物である。

（式中、符号の意味は前記の一般式（３）で定義したものと同一である。）

一般式（３）中、好ましくは、Ｒ^1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ^1aは、Ｒ³あるいはＲ⁷とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ¹とＲ³あるいは／およびＲ⁷は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、 Ｒ^2aは、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し、かつ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷の少なくとも一つは、−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示す。ただし、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表し、Ｒ³〜Ｒ⁷は互いに結合して、またＲ¹と共に環構造を形成してもよい。

（式中、符号の意味は前記の一般式（４）で定義したものと同一である。）

一般式（４）中、好ましくはＲ^1bは、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し、かつ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷の少なくとも一つは、−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し（ただし、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表す）、Ｒ³〜Ｒ⁷は互いに結合して、またＲ^1bと共に環構造を形成してもよい。

更に好ましいオキシムエステル系化合物は、下記一般式（５）〜（７）のいずれかで示される化合物である。

（式中、符号の意味は前記の一般式（５）で定義したものと同一である。）

好ましくは、Ｒ^1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１５のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１５のジアルキルアミノアルキル基、炭素数３〜１５のＮ−アシルオキシ−Ｎ−アシルアミノアルキル基であるか、Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。

さらに好ましくは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１２のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜８のアミノ基であるか、Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。なお、上記においてｎは０〜３の整数であるが、１又は２が好ましい。

好ましくは、Ｒ^2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜１５のベンゾイル基、炭素数１〜１５のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基、炭素数３〜１２のジアルキルアミノカルボニル基又は炭素数７〜１５のフェニルアミノカルボニル基を示す。

好ましくは、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のフェニル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ル基、炭素数７〜１２のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルキル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基又は、−ＯＲ⁸もしくは−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹を示し、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵は互いに結合して、また、Ｒ^1aとともに環構造を形成してもよい。

好ましくは、Ｒ¹⁶は、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のフェニル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ル基、炭素数７〜１２のベンジル基、炭素数７〜１２のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルキル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基又は炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基を表す。ここに、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、互いに結合して、また、Ｒ^1aとともに環構造を形成してもよい。

ただし、Ｒ⁸は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルケノイル基、炭素数６〜１２のフェニル基、−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_mＨ（ｍは１〜２０の整数、好ましくは１〜５）又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ⁹は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基又は炭素数６〜１２のフェニル基を示し、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表す。

（式中、符号の意味は前記の一般式（６）で定義したものと同一である。）

好ましくは、Ｒ^1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜１５のフェニル基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１５のアルカノイル基、炭素数７〜１５のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数７〜１２のフェノキシカルボニル基、炭素数１〜１５のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１５のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１５のジアルキルアミノアルキル基、炭素数３〜１５のＮ−アシルオキシ−Ｎ−アシルアミノアルキル基であるか、Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。

さらに好ましくは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜１５のフェニル基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数７〜１２のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数７〜１２のフェノキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１２のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜８のアミノ基であるか、Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。なお、上記においてｎは０〜３の整数であるが、１又は２が好ましい。

好ましくは、Ｒ^2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１５のヘテロアリール基、炭素数１〜１５のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜１５のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜１５のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜１５のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数２〜１０のアミノカルボニル基である。好ましいＲ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵は、前記の一般式（６）におけるＲ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵の好ましい範囲と同じである。

（式中、Ｒ^1aは、それぞれ前記の一般式（４）におけると同義であり、Ｒ^2bは、前記の一般式（３）におけるＲ^2a及び一般式（４）におけるＲ^2bを示し、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つＲ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む。）

本発明のオキシムエステル化合物を示す化学式中、Ｒ^1a、Ｒ^1a、Ｒ^2a、Ｒ^2b、Ｒ²〜Ｒ¹⁶の「それぞれ置換されていてもよい置換基」としては、それぞれ独立に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；シアノ基；任意の有機基などを挙げることができ、その任意の有機基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数３〜１８のシクロアルキル基；ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数３〜１８のシクロアルケニル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、アミルオキシ基、ｔ−アミルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、アミルチオ基、ｔ−アミルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキルチオ基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基；ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基；ビニルチオ基、プロペニルチオ基、ヘキセニルチオ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基；−ＣＯＲ¹⁷で表されるアシル基；カルボキシル基；−ＯＣＯＲ¹⁸で表されるアシルオキシ基；−ＮＲ¹⁹Ｒ²⁰で表されるアミノ基；−ＮＨＣＯＲ²¹で表されるアシルアミノ基；−ＮＨＣＯＯＲ²²で表されるカーバメート基；−ＣＯＮＲ²³Ｒ²⁴で表されるカルバモイル基；−ＣＯＯＲ²⁵で表されるカルボン酸エステル基；−ＳＯ₃ＮＲ²⁶Ｒ²⁷で表されるスルファモイル基；−ＳＯ₃Ｒ²⁸で表されるスルホン酸エステル基；２−チエニル基、２−ピリジル基、フリル基、オキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、テトラヒドロチオフェンジオキサイド基等の飽和もしくは不飽和の複素環基、トリメチルシリル基などのトリアルキルシリル基等が挙げられる。

また、本発明の置換基としては、この他に、＝Ｎ−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ²のような置換基が挙げられる。このような化合物として、Ｒ^1a、Ｒ^1bが、＝Ｎ−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ²で置換されている炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、又は炭素数１〜２０のアミド基であってもよい。

上記において、複数の置換基同士が結合して環を形成してもよく、形成された環は飽和あるいは不飽和の芳香環あるいは複素環であってもよく、環状にさらにそれぞれ置換基を有していてよく、置換基がさらに環を形成してもよい。

Ｒ¹⁷〜Ｒ²⁸は、それぞれ水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基、または置換されていてもよいアラルキル基を表す。これらの位置関係は特に限定されず、複数の置換基を有する場合、同種でも異なっていてもよい。

以上、一般式（５）〜（７）で示される化合物について詳述したが、各置換基の組み合わせにおいて好ましい化合物を総括すると、次の通りである。

一般式（５）において、Ｒ^1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基であるか、またはＲ^1aは、Ｒ³あるいはＲ⁷とともに環を形成してもよく、その場合Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷は互い結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−、あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数） 、Ｒ^2aは、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよい化合物。

一般式（６）において、Ｒ^1bが、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、 Ｒ^2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよい化合物。

一般式（７）において、Ｒ^1bが、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基であるか、またはＲ^1aは、Ｒ³あるいはＲ⁷とともに環を形成してもよく、その場合Ｒ^1aとＲ³あるいは／およびＲ⁷は互い結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−、あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ²が、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つＲ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む化合物。

その他、好ましいオキシムエステル系化合物は、下記一般式（８）又は（９）で示される化合物である。

（式中、符号の意味は前記一般式（８）で定義したものと同一である。）

一般式（８）において、好ましくは、Ｒ^1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示す。また、Ｒ^1aは、Ａｒ₁とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ^1aとＡｒ₁は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_n−、−（Ｃ≡Ｃ）_n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ^2aが、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基である。

（式中、符号の意味は前記一般式（９）で定義したものと同一である。）

一般式（９）において、好ましくは、Ｒ^1bは、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基である。

また、Ａｒ₁は、本発明の化合物が光を吸収するために必要な部分であり、２００ｎｍ以上、好ましくは２００〜５００ｎｍ、さらに好ましくは２５０〜５００ｎｍに吸収をもつような化合物であれば好ましく用いられる。具体的にはＡｒ₁は、ベンゼン環、フェナントレン環、アズレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、インデン環およびその縮合環からなる芳香環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、チアジゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、およびその縮合環からなる環、さらにはアクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、ベンゾチアゾール環等の芳香環と複素環からなる縮合環などがあげられる。

ｐは、上記の芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環から選ばれるＡｒ₁中に存在する置換可能な水素原子数に対応するもので、通常２〜５、好ましくは２〜３の範囲から選択される。

本発明の好ましい化合物の具体例を各置換基の組み合わせをもって、以下の表１（１）〜表１（６）に示す。

また、本発明の光重合開始剤として上記オキシムエステル系化合物を単独で使用することができるが、他の光重合開始剤と併用することもでき、併用による高感度化が期待できる。例えば、以下のような化合物を挙げることができる。

２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル化トリアジン誘導体、２−トリクロロメチル−５−（２′−ベンゾフリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−〔β−（２′−ベンゾフリル）ビニル〕−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−〔β−（２′−（６″ベンゾフリル）ビニル）〕−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−フリル−１，３，４−オキサジアゾール等のハロメチル化オキサジアゾール誘導体、２−（２′−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（２′−クロロフェニル）−４，５−ビス（３′−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（２′−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（２′−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、（４′−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体等のイミダゾール誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン等のアントラキノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチル−（４′−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２、４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジン等のアクリジン誘導体、９，１０−ジメチルベンズフェナジン等のフェナジン誘導体、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジクロライド、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル）、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−（２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル）、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−（２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル）、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ビス−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル）、ビス−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−（２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル）、ビス−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等のチタノセン誘導体等が挙げられる。

本発明の光重合性組成物には、上記開始剤成分以外にさらに増感色素を加えることもできる。高遮光下で光重合反応を起こさせるためには、増感色素を添加するのは好ましい。このような増感色素としては、例えば特開平３−２３９７０３号公報、特開平５−２８９３３５号公報に記載の複素環を有するクマリン化合物、特開昭６３−２２１１１０号公報に記載の３−ケトクマリン化合物、特開平４−２２１９５８号公報、特開平４−２１９７５６号公報に記載のキサンテン色素、特開平６−１９２４０号公報に記載のピロメテン色素、特開昭４７−２５２８号公報、特開昭５４−１５５２９２号公報、特開昭５６−１６６１５４号公報、特開昭５９−５６４０３号公報に記載の（ｐ−ジアルキルアミノベンジリデン）ケトン、スチリル系色素、特開平６−２９５０６１号公報に記載のジュロリジル基を有する増感色素、特開平１１−３２６６２４号公報に記載のジアミノベンゼン化合物等を挙げることができる。

これらの増感色素のなかで特に好ましいのはアミノ基含有増感色素およびキサンテン色素である。

（ｄ）光重合性単量体
本発明の光重合性単量体としては、エチレン性不飽和基を一個以上有する化合物（以下、エチレン性化合物という）が使用される。具体的には、脂肪族（ポリ）ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、芳香族（ポリ）ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物により得られるエステル、芳香族ポリヒドロキシ化合物のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物と不飽和カルボン酸とのエステル化反応物、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物と不飽和カルボン酸とのエステル化反応物、カプロラクトン変性多価アルコールと不飽和カルボン酸とのエステル、多価アルコールと多価イソシアナートと不飽和カルボン酸との反応物、スチリル末端化合物、含リン酸不飽和化合物、ポリエポキシと不飽和カルボン酸との付加物等が挙げられる。

これらのうち、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては具体的には、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロトネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。

芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例としては、（メタ）アクリル酸、フタル酸及びエチレングリコールの縮合物、（メタ）アクリル酸、マレイン酸及びジエチレングリコールの縮合物、（メタ）アクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、（メタ）アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等が挙げられる。

その他本発明に用いられるエチレン性化合物の例としては、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類；フタル酸ジアリル等のアリルエステル類；ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物なども有用である。

以上挙げたエチレン性化合物の中で好ましいものは、（メタ）アクリロイル基、さらに好ましくはアクリロイル基を有するものである。このような化合物としてトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。

以上挙げた本発明の光重合性組成物の配合量は、（ｂ）有機結合材１００重量部に対して（ｃ）光重合開始剤は通常０．１〜５０重量部、好ましくは１〜４５重量部、（ｄ）光重合性単量体は通常０〜２００重量部、好ましくは３〜１８０重量部である。また、（ａ）黒色色材は溶剤を除いた全固形分中、通常３０〜７０重量％、好ましくは３５〜６５重量％である。更に増感色素は、（ｂ）有機結合材１００重量部に対して通常０〜３０重量部、好ましくは０〜１０重量部である。

光重合開始剤が上記範囲未満であると低感度となり作業効率の点で劣り、また、上記範囲を越えると塗膜形成機能に悪影響を与えやすい。光重合性単量体（エチレン性化合物）が上記未満であると架橋密度低下による耐久性、耐熱性等に問題が出やすく、また、上記範囲を越えると現像性が低下する問題が発生することがある。黒色色材が上記範囲未満であると遮光性が低下するため、充分な光学濃度の樹脂ＢＭを形成するのが困難となる。逆に、上記範囲を越えると感度、解像性、現像性等の低下が激しくなるため画像形成が困難となる。

本発明の光重合性組成物は通常、（ａ）黒色色材、（ｂ）有機結合材（カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂）、（ｃ）光重合開始剤（オキシムエステル系化合物）、更に必要に応じて（ｄ）光重合性単量体（エチレン性化合物）を溶剤に溶かした状態で使用される。

溶剤としては、組成物を構成する各成分を溶解または分散させることができるもので、沸点が１００〜２００℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは１２０〜１７０℃の沸点をもつものである。

このような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類；
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類；
ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類；
アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケ
トンのようなケトン類；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリンのような１価又は多価アルコール類；
ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジイソブチレン、ｎ−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類；
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類；
アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類；
３−メトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類；
ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類；
メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類；
アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類等が挙げられる。

上記に該当する溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントＮｏ．１及びＮｏ．２、ソルベッソ＃１５０、シェルＴＳ２８ ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジグライムのような商品名の市販品が挙げられる。

これらの溶剤は、単独もしくは数種混合して使用することができる。本発明の光重合性組成物は、これらの溶剤を用いて、固形分濃度が５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％の範囲となるように調液するのが望ましい。

本発明ではこれら必須成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に、必要に応じて任意成分（ｄ）が加えられるが、それ以外に顔料分散剤、密着向上剤、塗布性向上剤、現像改良剤等を好適に添加することができる。特に、本発明の組成物では黒色色材を微細に分散し、且つ、その分散状態を安定化させることが品質安定上重要なため顔料分散剤を配合するのが望ましい。

顔料分散剤は、（ａ）黒色色材及び（ｂ）有機結合材の双方に親和性を有するものであり、ノニオン、カチオン、アニオン等の界面活性剤、高分子分散剤等が挙げられるが、なかでも、高分子分散剤が好ましく、特に１級、２級、若しくは３級アミノ基、ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環等の（ｅ）塩基性官能基を有する高分子分散剤が有利に使用される。

（ｅ）塩基性官能基を有する高分子分散剤として好ましい化学構造を具体的に例示するならば、例えば、ポリイソシアネート化合物、分子内に水酸基を１個または２個有する化合物および同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物とを反応することによって得られる分散樹脂等が挙げられる。

上記のポリイソシアネート化合物の例としては、パラフェニレンジイソシアネート、２ ，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ω，ω′−ジイソシネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α，α，α′，α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニルメタン）、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート等のトリイソシアネート、およびこれらの三量体、水付加物、およびこれらのポリオール付加物等が挙げられる。ポリイソシアネートとして好ましいのは有機ジイソシアネートの三量体で、最も好ましいのはトリレンジイソシアネートの三量体とイソホロンジイソシアネートの三量体であり、これらを単独で用いても、併用してもよい。

イソシアネートの三量体の製造方法としては、前記ポリイソシアネート類を適当な三量化触媒、例えば第３級アミン類、ホスフィン類、アルコキシド類、金属酸化物、カルボン酸塩類等を用いてイソシアネート基の部分的な三量化を行い、触媒毒の添加により三量化を停止させた後、未反応のポリイソシアネートを溶剤抽出、薄膜蒸留により除去して目的のイソシアヌレート基含有ポリイソシアネートを得る方法が挙げられる。

同一分子内に水酸基を１個または２個有する化合物としては、ポリエーテルグリコール、ポリエステルグリコール、ポリカーボネートグリコール、ポリオレフィングリコール等、およびこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数１〜２５のアルキル基でアルコキシ化されたものおよびこれら２種類以上の混合物が挙げられる。

ポリエーテルグリコールとしては、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、およびこれら２種類以上の混合物が挙げられる。ポリエーテルジオールとしては、アルキレンオキシドを単独または共重合させて得られるもの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン−プロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシヘキサメチレングリコール、ポリオキシオクタメチレングリコールおよびそれらの２種以上の混合物が挙げられる。

ポリエーテルエステルジオールとしては、エーテル基含有ジオールもしくは他のグリコールとの混合物をジカルボン酸とまたはそれらの無水物と反応させるか、またはポリエステルグリコールにアルキレンオキシドを反応させることによって得られるもの、例えばポリ（ポリオキシテトラメチレン）アジペート等が挙げられる。ポリエーテルグリコールとして最も好ましいのはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールまたはこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数１〜２５のアルキル基でアルコキシ化された化合物である。

ポリエステルグリコールとしては、ジカルボン酸（コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、フタル酸等）またはそれらの無水物とグリコール（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−ブチル− ２−エチル−１，３−プロパンジーオル、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレングリコール、２−メチル−１，８−オクタメチレングリコール、１，９−ノナンジオール等の脂肪族グリコール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン等の脂環族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、Ｎ−メチルジエタノールアミン等のＮ−アルキルジアルカノールアミン等）とを重縮合させて得られたもの、例えばポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリエチレン／プロピレンアジペート等、または前記ジオール類または炭素数１〜２５の１価アルコールを開始剤として用いて得られるポリラクトンジオールまたはポリラクトンモノオール、例えばポリカプロラクトングリコール、ポリメチルバレロラクトンおよびこれらの２種以上の混合物が挙げられる。ポリエステルグリコールとして最も好ましいのはポリカプロラクトングリコールまたは炭素数１〜２５のアルコールを開始剤としたポリカプロラクトンである。

ポリカーボネートグリコールとしては、ポリ（１，６−ヘキシレン）カーボネート、ポリ（３−メチル−１，５−ペンチレン）カーボネート等、ポリオレフィングリコールとしてはポリブタジエングリコール、水素添加型ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリイソプレングリコール等が挙げられる。同一分子内に水酸基を１個または２個有する化合物の数平均分子量は３００〜１０，０００、好ましくは５００〜６，０００、さらに好ましくは１，０００〜４，０００である。

本発明に用いられる同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物を説明する。活性水素、即ち、酸素原子、窒素原子またはイオウ原子に直接結合している水素原子としては、水酸基、アミノ基、チオール基等の官能基中の水素原子が挙げられ、中でもアミノ基、特に１級アミノ基の水素原子が好ましい。３級アミノ基は特に限定されない。また、３級アミノ基としては、炭素数１〜４のアルキル基を有するアミノ基、またはヘテロ環構造、より具体的には、イミダゾール環またはトリアゾール環が挙げられる。

このような同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物を例示するならば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，４−ブタンジアミン等が挙げられる。

また、３級アミノ基がＮ含有ヘテロ環であるものとして、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチアジアゾール環等のＮ含有ヘテロ５員環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、アクリジン環、イソキノリン環、等のＮ含有ヘテロ６員環が挙げられる。これらのＮ含有ヘテロ環として好ましいものはイミダゾール環またはトリアゾール環である。

これらのイミダゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、１−（３−アミノプロピル）イミダゾール、ヒスチジン、２−アミノイミダゾール、１−（２−アミノエチル）イミダゾール等が挙げられる。また、トリアゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、５−（２−アミノ−５−クロロフェニル）−３−フェニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３，５−ジオール、３−アミノ−５−フェニル−１Ｈ−１，３，４−トリアゾール、５−アミノ−１，４−ジフェニル−１，２，３−トリアゾール、３−アミノ−１−ベンジル−１Ｈ−２，４−トリアゾール等が挙げられる。

なかでも、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，３−プロパンジアミン、１−（３−アミノプロピル）イミダゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾールが好ましい。分散剤原料の好ましい配合比率はポリイソシアネート化合物１００重量部に対し、同一分子内に水酸基を１個または２個有する数平均分子量３００〜１０，０００の化合物が１０〜２００重量部、好ましくは２０〜１９０重量部、さらに好ましくは３０〜１８０重量部、同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物は０．２〜２５重量部、好ましくは０．３〜２４重量部である。

（ｅ）塩基性官能基を有する高分子分散剤のＧＰＣ換算重量平均分子量は１，０００〜２００，０００、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜５０，０００の範囲である。分子量１，０００以下では分散性および分散安定性が劣り、２００，０００以上では溶解性が低下し分散性が劣ると同時に反応の制御が困難となる。高分子分散剤の製造はポリウレタン樹脂製造の公知の方法に従って行われる。

製造する際の溶媒としては、通常、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン等の炭化水素類、ダイアセトンアルコール、イソプロパノール、第二ブタノール、第三ブタノール等一部のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム等の塩化物、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒等が用いられる。

上記製造に際して、通常、ウレタン化反応触媒が用いられる。例えば、ジブチルチンジラウレート、ジオクチルチンジラウレート、ジブチルチンジオクトエート、スタナスオクトエート等の錫系、鉄アセチルアセトナート、塩化第二鉄等の鉄系、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の３級アミン系等が挙げられる。

同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物の導入量は反応後のアミン価で１〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲に制御するのが好ましい。より好ましくは５〜９５ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である。アミン価は、塩基性アミノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてＫＯＨのｍｇ数で表わした値である。アミン価が上記範囲以下であると分散能力が低下する傾向があり、また、上記範囲を超えると現像性が低下しやすくなる。なお、以上の反応で高分子分散剤にイソシアネート基が残存する場合にはさらに、アルコールやアミノ化合物でイソシアネート基を潰すと生成物の経時安定性が高くなるので好ましい。尚、高分子分散剤を使用する場合、その使用割合は（ａ）黒色色材に対して０．１〜３０重量％が好ましく、特に０．５〜２５重量％が好ましい。

次に本発明の光重合性組成物の製造方法について説明する。本発明においては、通常色材は、あらかじめペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザー等を用いて分散処理するのが好ましい。分散処理により色材が微粒子化されるためレジストの塗布特性の向上が達成される。また、色材として黒色色材を使用した場合は遮光能力の向上に寄与する。

分散処理においては黒色色材と溶剤または分散機能を有する有機結合剤、あるいは前記した顔料分散剤をさらに併用した系にて処理するのが好ましい。特に高分子分散剤を用いると経時の分散安定性に優れるので好ましい。また、レジスト液として配合する全成分を同時に混合した液での分散処理は、分散時に生じる発熱のため高反応性の成分が変性するおそれがあるので好ましくない。

サンドグラインダーで分散させる場合には、０．１〜８ｍｍ径のガラスビーズ又はジルコニアビーズが好ましく用いられる。分散させる条件は、通常、温度は０℃から１００℃であり、好ましくは、室温から８０℃の範囲である。分散時間はインキの組成（色材、溶剤、分散剤）及びサンドグラインダーの装置サイズ等により適正時間が異なるため適宜調節する。レジストの２０度光沢値が１００〜２００の範囲となるようにインキの光沢を制御するのが分散の目安である。レジスト光沢が低い場合には分散処理が十分でなく荒い顔料粒子が残っていることが多く、現像性、密着性、解像性等の点で不十分である。また、光沢値を上記範囲を越えるまで分散処理すると超微粒子が多数生じるために却って分散安定性が損なわれることになりやすい。

次に上記分散処理により得られたインキとレジスト成分として必要な上記の他の成分を添加、混合し均一な溶液とする。製造工程においては微細なゴミが感光液に混じることが多いため、得られたレジスト感光液はフィルター等により濾過処理するのが望ましい。続いて、本発明の光重合性組成物を用いたカラーフィルターの製造方法について説明する。

以下、本発明の光重合性組成物の応用例について説明する。

［１］カラーフィルター
まず、透明基板上に、本発明の光重合性組成物をスピナー，ワイヤーバー，フローコーター，ダイコーター，ロールコーター，スプレー等の塗布装置により塗布して乾燥した後、該試料の上にフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して画像露光，現像，必要に応じて熱硬化或いは光硬化により遮光用ＢＭ画像を形成させ、さらにこの操作をＲＧＢ３色について各々繰り返し、カラーフィルター画像を形成させる。

［１−１］光重合性組成物の塗布及び乾燥
なお、本発明の光重合性組成物を用いてカラーフィルターの画素を形成する場合には、非常に高感度、高解像力であるため、ポリビニルアルコール等の酸素遮断層を設けることなしに露光、現像して画像を形成することが可能である。ここで用いる透明基板は、カラーフィルター用の透明基板であり、その材質は特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン等の熱可塑性プラスチックシート、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ（メタ）アクリル樹脂等の熱硬化性プラスチックシート、或いは各種ガラス板等を挙げることができる。特に、耐熱性の点からガラス板、耐熱性プラスチックが好ましく用いられる。

このような透明基板には、表面の接着性等の物性を改良するために、あらかじめ、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種ポリマーの薄膜処理等を行うこともできる。塗布方法は特に限定されないが、塗布、乾燥後の樹脂ブラックマトリックスの膜厚が０．１〜２μｍ、好ましくは０．１〜１．５μｍ、さらに好ましくは０．１〜１μｍの範囲とするのがよい。尚、本発明のカラーフィルターは、遮光性の点から膜厚１μｍにおいて、光学濃度が３．０以上であるのが好ましい。又、顔料等の固型分の分散状態の指標として、ＢＭの２０度光沢値が１００〜２００であるのが有利である。

［１−２］露光及び現像
乾燥においてはホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブン等を用いることができ、好ましい乾燥条件は４０〜１５０℃、乾燥時間は１０秒〜６０分の範囲である。また、露光に用いる光源は、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源やアルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマーレーザー、窒素レーザー等のレーザー光源等が挙げられる。特定の照射光の波長のみを使用する場合には光学フィルターを利用することもできる。

現像処理は、未露光部のレジスト膜を溶解させる能力のある溶剤であれば特に制限は受けない。例えばアセトン、塩化メチレン、トリクレン、シクロヘキサノン等の有機溶剤を使用することができる。しかしながら、有機溶剤は環境汚染、人体に対する有害性、火災危険性などをもつものが多いため、このような危険性の無いアルカリ現像液を使用するの方が好ましい。このようなアルカリ現像液として、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機のアルカリ剤、或いはジエタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩等の有機のアルカリ剤を含有した水溶液が挙げられる。アルカリ現像液には、必要に応じ、界面活性剤、水溶性の有機溶剤、水酸基又はカルボキシル基を有する低分子化合物等を含有させることもできる。特に、界面活性剤は現像性、解像性、地汚れなどに対して改良効果をもつものが多いため添加するのは好ましい。

例えば、現像液用の界面活性剤としては、ナフタレンスルホン酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有するアニオン性界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有するノニオン性界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤等を挙げることができる。現像処理方法については特に制限は無いが、通常、１０〜５０℃、好ましくは１５〜４５℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。

［２］液晶表示装置（パネル）
本発明の液晶表示装置は、前記のカラーフィルターを使用して、次の様にして製造することが出来る。 先ず、カラーフィルター上に配向膜を形成し、この配向膜上にスペーサーを配置した後、対向基板と貼り合わせて液晶セルを形成する。次いで、形成した液晶セルに液晶を注入し、対向電極に結線して完成する。

配向膜は、ポリイミド等の樹脂膜が好適である。配向膜の形成には、通常、グラビア印刷法やフレキソ印刷法が採用され、配向膜の厚さは、通常、１０〜１００ｎｍとされる。熱焼成によって配向膜の硬化処理を行った後、紫外線の照射やラビング布による処理によって表面処理し、液晶の傾きを調節し得る表面状態に加工される。

スペーサーは、対向基板とのギャップ（隙間）に応じた大きさのものが使用され、通常２〜８μｍのものが好適である。カラーフィルター基板上に、フォトリソグラフィ法によって透明樹脂膜のフォトスペーサー（ＰＳ）を形成し、これをスペーサーの代わりに活用することも出来る。対向基板としては、通常、アレイ基板が使用され、特にＴＦＴ（薄膜トランジスター）基板が好適である。

対向基板との貼り合わせのギャップは、液晶表示装置の用途によって異なるが、通常２〜８μｍの範囲で選ばれる。対向基板と貼り合わせた後、液晶注入口以外の部分は、エポキシ樹脂などのシール材によって封止する。シール材は、ＵＶ照射および／または加熱によって硬化させ、液晶セル周辺がシールされる。

周辺がシールされた液晶セルは、パネル単位に切断した後、真空チャンバー内で減圧とし、上記の液晶注入口を液晶に浸漬した後、チャンバー内をリークすることによって、液晶セル内に液晶を注入する。液晶セル内の減圧度は、通常１×１０^-2〜１×１０^-7Ｐａ、好ましくは１×１０^-3〜１×１０^-6Ｐａである。また、減圧時に液晶セルを加温するのが好ましく、加温温度は、通常３０〜１００℃、好ましくは５０〜９０℃である。減圧時の加温保持は、通常１０〜６０分間の範囲とされ、その後に液晶中に浸漬される。液晶が注入された液晶セルは、ＵＶ硬化樹脂の硬化により、液晶注入口を封止することによって、液晶表示装置（パネル）が完成する。

液晶の種類は、特に制限されず、芳香族系、脂肪族系、多環状化合物など、従来公知の液晶であって、リオトロピック液晶、サーモトロピック液晶などの何れでもよい。サーモトロピック液晶には、ネマティック液晶、スメスティック液晶、コレステリック液晶などが知られているが、これらの何れであってもよい。

［３］フォトスペーサー
［３−１］基板への供給方法
本発明の樹脂組成物は、通常溶剤に溶解或いは分散された状態で、基板上へ供給される。その供給方法としては、従来公知の方法、例えば、スピナー法、ワイヤーバー法、フローコート法、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法などによって行うことができる。中でも、ダイコート法によれば、塗布液使用量が大幅に削減され、かつ、スピンコート法によった際に付着するミストなどの影響が全くない、異物発生が抑制されるなど、総合的な観点から好ましい。塗布量は、乾燥膜厚として、通常、０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜８μｍ、特に好ましくは１〜５μｍの範囲である。また乾燥膜厚あるいは最終的に形成されたスペーサーの高さが、基板全域に渡って均一であることが重要である。ばらつきが大きい場合には、液晶パネルにムラ欠陥を生ずることとなる。またインクジェット法や印刷法などにより、パターン状に供給されても良い。

［３−２］乾燥方法
基板上に樹脂組成物を供給した後の乾燥は、ホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブンを使用した乾燥法によるのが好ましい。また温度を高めず、減圧チャンバー内で乾燥を行う、減圧乾燥法を組み合わせても良い。乾燥の条件は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて適宜選択することができる。乾燥時間は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて、通常は、４０〜１００℃の温度で１５秒〜５分間の範囲で選ばれ、好ましくは５０〜９０℃の温度で３０秒〜３分間の範囲で選ばれる。

［３−３］露光方法
露光は、樹脂組成物の塗布膜上に、ネガのマスクパターンを重ね、このマスクパターンを介し、紫外線または可視光線の光源を照射して行う。またレーザー光による走査露光方式によっても良い。この際、必要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行ってもよい。上記の露光に使用される光源は、特に限定されるものではない。光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプなどのランプ光源や、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、青紫色半導体レーザー、近赤外半導体レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルタを利用することもできる。

［３−４］現像方法
上記の露光を行った後、アルカリ性化合物と界面活性剤とを含む水溶液、または有機溶剤を用いる現像によって、基板上に画像パターンを形成することができる。この水溶液には、さらに有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料または顔料を含ませることができる。

アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ性化合物や、モノ−・ジ−またはトリエタノールアミン、モノ−・ジ−またはトリメチルアミン、モノ−・ジ−またはトリエチルアミン、モノ−またはジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノ−・ジ−またはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、コリンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、２種以上の混合物であってもよい。

界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオン性界面活性剤、アルキルベタイン類、アミノ酸類などの両性界面活性剤が挙げられる。

有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。有機溶剤は、単独でも水溶液と併用して使用できる。

［３−５］熱硬化処理
現像の後の基板には、熱硬化処理を施すのが好ましい。この際の熱硬化処理条件は、温度は１００〜２８０℃の範囲、好ましくは１５０〜２５０℃の範囲で選ばれ、時間は５〜６０分間の範囲で選ばれる。

［４］リブ（液晶分割配向突起）
リブ（液晶分割配向突起）とは、液晶表示装置の視野角を改善するために、透明電極上に形成する突起をいい、前記突起のスロープを利用して液晶を局所的に傾け、一画素内で液晶を多方向に分割させるものである。以下、リブの形成方法を詳述する。

［４−１］塗布及び現像工程
ブラックマトリクスとレッド、ブルー、グリーンのカラーフィルターを設け、さらにその上に、１５０ｎｍ厚のＩＴＯを蒸着した通常０．１〜２ｍｍ厚透明基板上に、本発明の感光性組成物をスピナー、ワイヤーバー、フローコーター、ダイコーター、ロールコーター、スプレー等の塗布装置を用いて塗布する。組成物の塗布膜厚は通常０．５〜５μｍである。該組成物からなる塗布膜を乾燥した後、乾燥塗膜上にフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して画像露光する。露光後、未露光の未硬化部分を現像にて除去することにより、画素を形成する。通常、現像後得られる画像は、５〜２０μｍの巾の細線再現性が求められ、高画質のディスプレーの要求からより高精細な細線再現性が要求さる傾向にある。高精細な細線を安定し再現する上で、現像後の細線画像の断面形状は、非画像と画像部のコントラストが明瞭な矩形型が、現像時間、現像液経時、現像シャワーの物理刺激などの現像マージンが広く好ましい。

［４−２］加熱工程
本発明では、現像後の画像は、矩形型に近い断面形状を有している。リブの形状に必要なアーチ状の形状を得るために、通常１５０℃以上、好ましくは１８０℃以上、更に好ましくは２００℃以上、通常４００℃以下、好ましくは３００℃以下、更に好ましくは２８ ０℃以下で、且つ、通常１０分以上、好ましくは１５分以上、さらに好ましくは２０分以上、通常１２０分以下、好ましくは６０分以下、更に好ましくは４０分以下の加熱処理を施し、矩形状の断面形状をアーチ状の形状に変形させ、巾０．５〜２０μｍ高さ０．２〜５μｍのリブを形成させる。この加熱時の変形の範囲としては感光性組成物と加熱条件を適宜調整し、加熱前の細線画像（矩形画像断面形状）の側面と基板平面から形成される接触角（Ｗ１）が上記加熱処理後の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角（Ｗ２）を比較した場合、Ｗ１／Ｗ２が１．２以上、好ましくは１．３以上、更に好ましくは１．５以上、通常１０以下、好ましくは８以下になるようにする。加熱温度が高い程、又は加熱時間が長い程変形率が大きく、反対に加熱温度が低い程、又は加熱時間が短い程その変形率は低い。

以下実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。

合成例−１（高分子分散剤溶液の調製）
トリレンジイソシアネートの三量体（三菱化学社製、マイテックＧＰ７５０Ａ、樹脂固形分５０重量％、酢酸ブチル溶液）３２ｇと触媒としてジブチルチンジラウレート０．０２ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４７ｇで希釈溶解した。攪拌下に、これに、片末端がメトキシ基となっている数平均分子量１，０００のポリエチレングリコール（日本油脂社製、ユニオックスＭ−１０００）１４．４ｇと数平均分子量１，０００のポリプロピレングリコール（三洋化成工業社製、サンニックスＰＰ−１０００）９．６ｇとの混合物を滴下した後、７０℃でさらに３時間反応させた。次に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−１，３−プロパンジアミン１ｇを加え、４０℃でさらに１時間反応させた。このようにして得られた高分子分散剤を含有する溶液のアミン価を中和滴定によりもとめたところ１４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。また、樹脂含有量をドライアップ法（１５０℃で３０分間、ホットプレート上で溶剤を除去し重量変化量により樹脂濃度を算出）により求めたところ４０重量％であった。

合成例−２（有機結合材の合成）
エポキシ当量２００ｇ／ｅｑ、軟化点６５℃のｏ−クレゾールノボラックエポキシ樹脂２００ｇ、アクリル酸７２ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．２ｇ、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド０．２ｇ、ＰＧＭＥＡ２７２ｇをフラスコに仕込み１００℃の温度で８時間反応させた（エポキシ基１当量に対し、アクリル酸１当量が反応）。さらに、テトラヒドロ無水フタル酸４２ｇを加え８０℃で３時間反応させた。この反応液を水に再沈殿、真空乾燥させてカルボキシル基を有するノボラックエポキシアクリレート樹脂を得た。ＫＯＨによる中和滴定を行ったところ樹脂の酸価は５０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

（カーボンブラックの分散）
カラー用カーボンブラック（三菱化学社製、ＭＡ−２２０）５０重量部、合成例−１に示した高分子分散剤を固形分として５重量部の割合で、かつ固形分濃度が５０重量％となるようにカーボンブラック、高分子分散剤溶液及びＰＧＭＥＡを加えた。分散液の全重量は５０ｇであった。これを攪拌機によりよく攪拌しプレミキシングを行った。

次に、ペイントシェーカーにより２５〜４５℃の範囲で６時間分散処理を行った。ビーズは０．５ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散液と同じ重量を加えた。分散終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離した。

合成例−３（オキシムエステル系化合物Ｃ−１の合成）
［１］カルバゾール誘導体（ケトン）の製造
エチルカルバゾール３．９ｇ（２０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、塩化アルミニウム２．９ｇ（２２ｍｍｏｌ）を加えた。氷浴で冷却しながらｏ−メチルベンゾイルクロライド４．１ｇ（２２ｍｍｏｌ）を反応液を５℃以下に保ちながら滴下した。１時間かけて徐々に室温まで上げながら攪拌し、その後室温でさらに３時間反応させた。さらに反応液を氷浴で冷却し、塩化アルミニウム２．９ｇ（２２ｍｍｏｌ）を加えた後、氷浴で冷却しながらメタクリル酸クロライド２．３ｇ（２２ｍｍｏｌ）を、反応液の温度を５℃以下に保ちながら滴下した。１時間かけて徐々に室温まで上げながら攪拌し、その後室温でさらに３時間反応させた。

反応液を氷水１５０ｍｌに滴下し、酢酸エチル１００ｍｌを加え抽出し、さらに水層を酢酸エチル５０ｍｌで抽出し、有機層を合わせて、１０％炭酸ナトリウム水溶液１５０ｍｌで抽出した。さらに有機層を水１５０ｍｌで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレータで溶媒溜去したところ橙赤色オイルが得られた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／１）にて生成を行い、淡黄色固体（１）３．１ｇ、及び淡黄色固体（２）０．７ｇを得た。得られた固体（１）及び固体（２）について、ＮＭＲスペクトル分析を行い、下記の結果（シフト値）を得た。
固体（１）；7.9-8.8,m,3H; 7.4,m,7H; 5.9(1H, ) 5.6,s,1H; 5.6,s,1H; 4.4(2H, ), 2.4,s,3H; 2.1,2.4,d3H,1.5,t,3H
固体（２）； 8.6,dd,1H; 8.0,dd,1H; 7.9,d,1H; 7.4,m,6H; 4.5,q,2H; 3.6,d,2H, 2.6,s,1H; 2.4,s,3H; 2.2,s,3H; 1.5,t,3H
上記ＮＭＲ分析結果から、淡黄色固体（１）は、３−メタクリロイル−９−エチル−６−（ｏ−トルオイル）−９Ｈ−カルバゾールと同定された。淡黄色固体（２）は、下記式で示されるケトン化合物であることが確認された。

［２］オキシムエステル化合物の製造
上記淡黄色固体（２）（０．３８ｇ，０．００１ｍｏｌ）をエタノール５ｍｌに溶解し、塩酸ヒドロキシルアミン（０．０７５ｇ，０．００１０５ｍｏｌ）、ピリジン（０．０８４ｇ，０．００１０５ｍｏｌ）を加え、２時間還流した。エタノールを留去したのち、水を加えて無機物を溶解し、濾過した。濾過物を酢酸エチルに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥し、エバポレートしてオキシム体を得た。得られた固体をＴＨＦ３ｍｌに溶解し、アセチルクロライド（０．２３ｇ，０．００２２ｍｏｌ）を加え攪拌した。反応液にトリエチルアミン（０．２１ｇ，０．００２３ｍｏｌ）を室温で滴下した。滴下とともに塩の沈降が認められた。２時間攪拌後、水２０ｍｌを入れ、酢酸エチル４０ｍｌで抽出した。有機層を水２０ｍｌで２回洗浄、飽和炭酸カリウム水溶液２０ｍｌで２回洗浄を行い、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて（展開溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／１）にて精製を行い、淡黄色固体（３）０．３ｇを得た。

得られた固体（３）について、以下の条件でＨ−ＮＭＲスペクトル分析を行ない、下記の結果（シフト値）を得た。
・溶剤：重クロロホルム（ＣＤＣｌ₃）
・周波数：２７０ＭＨｚ
・基準化合物：（ＣＨ₃）₄Ｓｉ
8.5,dd,1H;8.1,dd,1H;7.9,dd,1H;7.4,m,6H;4.4,q,2H;3.6,d,2H,2.4,s,3H;2.3,s,3H;2.2,s,3H;2.0,s,3H;1.5,t,3H
上記ＮＭＲ分析結果から淡黄色固体（３）は、下記式で示されるオキシムエステル化合物（後記の実施例１で使用した光重合開始剤Ｃ−１）であることが確認された。

合成例−４（オキシムエステル系化合物Ｃ−２の合成）
合成例−３において、淡黄色固体（２）の代わりに、３−メタクリロイル−９−エチル−６−（ｏ−トルオイル）−９Ｈ−カルバゾールを用いた以外は、Ｃ−１の合成と同様にしてＣ−２を合成した。ＮＭＲシフト値は、次の通りであった。
8.5,d,1H; 8.4,d,1H; 8.1,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.4,m,6H; 7.2,d,1H; 5.6,s,1H; 5.1,s,1H; 4.4,q,2H; 2.4,s,3H; 2.2,s,3H; 2.0,s,3H; 1.5,t,3H

合成例−５（オキシムエステル系化合物Ｃ−３の合成）
合成例−３において、メタクリル酸クロリドをクロトン酸クロリドに変更した以外はＣ−１の合成と同様にしてＣ−３を合成した。ＮＭＲシフト値は、次の通りであった。
8.5,d,1H; 8.4,d,1H; 8.1,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.4,m,6H; 4.4,q,2H; 2.4,s,3H; 2.2,s,3H; 2.0,s,3H; 1.5,t,3H

合成例−６（オキシムエステル系化合物Ｃ−４の合成）
合成例−３において、メタクリル酸クロリドをアセチルクロリドに変更し、最終工程で用いるアセチルクロリドをコハク酸モノエチルクロリドに変更した以外は、Ｃ−１の合成と同様にしてＣ−４を合成した。ＮＭＲシフト値は、次の通りであった。
8.6,d,1H; 8.5,d,1H; 8.1,dd,1H; 8.0,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.5,m,6H; 4.5,q,2H; 4.2,m,6H; 2.9,t,2H; 2.8,t,2H; 2.7,t,2H; 2.6,s,3H; 2.5,s,3H; 1.5,t,3H; 1.3,s,3H

合成例−７（オキシムエステル系化合物Ｃ−５の合成）
合成例−３において、メタクリル酸クロリドをアセチルクロリドに変更し、最終工程で用いるアセチルクロリドをモルホリニルカルボニルクロリドに変更した以外は、Ｃ−１の合成と同様にしてＣ−５を合成した。

合成例−８（オキシムエステル系化合物Ｃ−８の合成）
合成例−３において、メタクリル酸クロリドをコハク酸モノエチルクロリドに変更した以外は、Ｃ−１の合成と同様にしてＣ−８を合成した。ＮＭＲシフト値は、次の通りであった。
8.5,d,1H; 8.4,d,1H; 8.1,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.4,m,6H; 4.4,q,2H; 4.1,q,2H; 3.3,t,2H; 2.6,s,3H; 2.4,s,3H; 2.3,s,3H; 1.5,t,3H; 1.2,d,3H

［実施例１〜９及び比較例１〜３］
（１）レジスト液の調合
上述したカーボンブラック分散インキを用いて固形分として下記の配合割合となるように各成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、有機溶剤及び界面活性剤を加え、スターラーにより攪拌、溶解させ、ブラックレジスト感光液を調整した。

（ａ）黒色色材
カーボンブラック（三菱化学社製、ＭＡ−２２０） ５０ｇ
（ｂ）有機結合剤 （表２に記載） ３０ｇ
（ｄ）光重合性単量体：エチレン性化合物
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １０ｇ
（ｃ）光重合開始剤 （表２に記載）
有機溶剤
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３００ｇ
（ｅ）高分子分散剤（合成例−１） ５ｇ
界面活性剤 （住友３Ｍ社製、ＦＣ−４３０） １００ｐｐｍ

（２）レジストの評価
ブラックレジスト感光液をスピンコーターにてガラス基板（コーニング社製、７０５９）に塗布し、ホットプレートで８０℃、１分間乾燥した。乾燥後のレジストの膜厚を触針式膜厚計（テンコール社製、α−ステップ）で測定したところ１μｍであった。次に、このサンプルをマスクを通して高圧水銀灯で露光量を変えて像露光した。温度２５℃、濃度０．８％炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像することによりレジストパターンを得た。

感度、解像力及び遮光性を下記の基準で評価し、表２の結果を得た。
１．感度
２０μｍのマスクパターンを寸法通り形成できる適正露光量（ｍｊ／ｃｍ²）をもって
表示した。すなわち、露光量の少ないレジストは低露光量で画像形成が可能であるため高感度であることを示す。
２．解像力
２０μｍのマスクパターンを忠実に再現する露光量における解像可能なレジスト最小パターン寸法を２００倍の倍率で顕微鏡観察した。
最小パターン寸法が１０μｍ以下 ： ○
最小パターン寸法が１０μｍを超える： ×

３．遮光性
画線部の光学濃度（ＯＤ）をマクベス反射濃度計（コルモルグン社製、ＴＲ９２７）で測定した。なお、ＯＤ値は遮光能力を示す数値であり数値が大きい程高遮光性であることを示す。
４．耐キズ性
得られた画像パターンを有するガラス基板を、無処理のガラス基板（コーニング社製、７０５９）の上に、画像パターンが無処理のガラス面に接するように載せ、下記に示す荷重をかけながら３ｃｍ／秒の速度で５回、摺り合わせる作業を行った。擂り合わせ後、キズの発生の有無を肉眼により、下記の基準で目視評価を行った。
荷重 ｇ／ｃｍ² キズの有無 評価
６０ 認められた △
６０ 全く認められず ○
１００ 全く認められず ◎

［実施例１０］
実施例９において、黒色色材として使用したカーボンブラック（三菱化学社製、ＭＡ−２２０）の代わりに、チタンブラック（三菱マテリアル社製、１３Ｍ−Ｃ）を使用した以外は実施例９と同様の処理を行い、ブラックマトリックスパターンを得た。結果を表２に示した。

［比較例４］
比較例３において、黒色色材として使用したカーボンブラック（三菱化学社製、ＭＡ−２２０）の代わりに、チタンブラック（三菱マテリアル社製、１３Ｍ−Ｃ）を使用した以外は比較例３と同様の処理を行い、ブラックマトリックスパターンを得た。結果を表２に示した。

尚、表２中、記号の意味は次の通りである。
ＡＣＡ−２００Ｍ：アクリルポリマー（ダイセル化学工業社製、ＡＣＡ−２００Ｍ）
Ｃ−１：表１記載のＮｏ．２２の化合物

Ｃ−２：表１記載のＮｏ．３の化合物

Ｃ−３：表１記載のＮｏ．４の化合物

Ｃ−４：表１記載のＮｏ．１６の化合物

Ｃ−５：表１記載のＮｏ．１９の化合物

Ｃ−７：表１記載のＮｏ．２８の化合物

Ｃ−８：表１記載のＮｏ．２９の化合物

Ｃ−９：表１記載のＮｏ．３７の化合物

トリアジンＡ：４−（ｍ−ブロモ−ｐ−メトキシフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン（５ｇ）

ＣＧＩ−１２４：: 光重合開始剤（チバ・スペシャルティーケミカル社製、ＣＧＩ−１２４）（５ｇ）

３種混合系：２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール（２ｇ）＋４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（１ｇ）＋ ２−メルカプトベンゾチアゾール（１ｇ）

［実施例１１〜１２］及び［比較例５］
各試験溶液を、スピンコーターにて１５０ｎｍ厚のＩＴＯをスパッタしたＡＮ１００ガラス基板上に塗布し、ホットプレート上で８０℃にて３分間乾燥し、乾燥膜厚１．７μｍの 塗布膜を得た。その後、塗布膜側から１５μｍ巾の細線パターンマスクを介して３ｋＷ高圧水銀を用い２５、５０、１００、２００ｍＪ／ｃｍ^-2の各種露光条件にて画像露光を施した。ついで、１重量％の炭酸カリウムと４重量％のノニオン性界面活性剤（「エマルゲンＡ−６０」花王社製）を含有する水溶液よりなる現像液を用い、２３℃において水圧０．２５メガパスカルのシャワー現像を施した後、純水にて現像を停止し、水洗スプレーにてリンスした。シャワー現像時間は、１０〜１２０秒の間で調整し、感光層が溶解除去される時間（ブレーク時間）の２倍とした。こうして画像形成されたガラス基板を２３０℃、３０分間加熱し、アーチ状に変形させた細線パターンを形成させた。得られた、加熱前後の細線の断面形状をＶＫ９５００にて測定、基板平面と細線画像側面との接触角を求め、加熱前後における接触角の変化率を下記の方法により評価をした。結果を表３に示した。

表３から明らかなように、本発明の感光性組成物を用いた実施例１１及び実施例１２は、接触角の変形率が高く、アーチ状の突起が良好に形成され、更に、画像の形成が良好な液晶分割配向突起の形成が可能であることが分かった。
＜加熱による接触角の変化率の評価＞
加熱前後の細線の断面形状をＶＫ９５００にて測定、接触角を求め、加熱前細線画像の側面と基板平面から形成されるの接触角（Ｗ１）と加熱後の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角（Ｗ２）を求め、接触角の変化率（Ｗ１／Ｗ２）の値から、加熱による接触角の変化を下記のように評価した。図１を参照。

Ａ： Ｗ１／Ｗ２が２以上
Ｂ： Ｗ１／Ｗ２が１．５以上２未満
Ｃ： Ｗ１／Ｗ２が１．２以上１．５未満
Ｄ： Ｗ１／Ｗ２が１．２未満

＜画像形成＞
上記の露光および現像処理で得られた画像を下記のように評価した。
Ａ： 塗布膜厚に対して、７０％以上の膜厚の画像が形成された。
Ｂ： 塗布膜厚に対して、７０％未満の膜厚の画像が形成された。
Ｃ： 感光層が完全に溶解し画像形成されなかった

表３中、記号の意味は下記の通りである。
・Ｍ−１：日本化薬社製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）
・Ｍ−２：新中村科学社製、２官能リン酸エステル「ＰＭ−２１」
・Ｓ−１：チバスペシャリティケミカルズ社製、「イルガキュアー９０７」
・Ｓ−２：日本化薬社製、２，４−ジエチルチオキサントン
・Ｐ−１：重量平均分子量２０００、酸価１００のアルカリ可溶性樹脂。構造式を［化４７］に示した。
・Ｆ−１：大日本インキ社製、フッソ系界面活性剤「Ｆ４７５」
・ＰＧＭＡ：東京化成社製、イソプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ テートまた、表３中、適性感度ｍＪ／ｃｍ^-2とは、１５μmの細線パターンが再現できる最低露
光量をいう。

本発明の光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルターは、カラーテレビ、液晶表示素子、固体撮像素子、カメラ等に利用可能である。

加熱による接触角の変化の状態を模式的に示す図である。

符号の説明

Ｗ１：加熱前細線画像の側面と基板平面から形成されるの接触角
Ｗ２：加熱後の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角

Claims (10)

1. 一般式（５）で示されるオキシムエステル系化合物。
   

   

   （式中、Ｒ^1aは、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、Ｒ^2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹²〜Ｒ¹⁶は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、Ｒ ¹⁰ およびＲ ¹¹ は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表す。）
2. 請求項１に記載の一般式（５）において、Ｒ ^2a は、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物。
3. （ｂ）有機結合材及び（ｃ）光重合開始剤を含有する光重合性組成物であって、（ｃ）が請求項１又は２に記載のオキシムエステル系化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。
4. （ｂ）有機結合材が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂である請求項３に記載の光重合性組成物。
5. （ｂ）有機結合材が、ノボラック型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物に（ヒドロ）フタル酸無水物を反応させて得られるエポキシアクリレートである請求項４に記載の光重合性組成物。
6. 光重合性組成物が、更に（ｄ）光重合性単量体を含有することを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の光重合性組成物。
7. 光重合性組成物が、更に（ｅ）塩基性官能基を有する高分子分散剤を含有することを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載の光重合性組成物。
8. 光重合性組成物が、更に（ａ）色材を含有することを特徴とする請求項３〜７のいずれか１項に記載の光重合性組成物。
9. 請求項３〜８のいずれか１項に記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とするカラーフィルター。
10. 請求項３〜８のいずれか１項に記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とする液晶表示装置。
    
    

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