KR20180014982A - 카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물 - Google Patents

카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20180014982A
KR20180014982A KR1020160098507A KR20160098507A KR20180014982A KR 20180014982 A KR20180014982 A KR 20180014982A KR 1020160098507 A KR1020160098507 A KR 1020160098507A KR 20160098507 A KR20160098507 A KR 20160098507A KR 20180014982 A KR20180014982 A KR 20180014982A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
pigment
mole
compound
meth
Prior art date
Application number
KR1020160098507A
Other languages
English (en)
Inventor
김봉규
최한영
장호진
박주현
오정훈
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
로움하이텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사, 로움하이텍 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020160098507A priority Critical patent/KR20180014982A/ko
Priority to TW106125199A priority patent/TWI707844B/zh
Priority to CN201710673856.9A priority patent/CN107674089B/zh
Publication of KR20180014982A publication Critical patent/KR20180014982A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/88—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Abstract

본 발명은 옥심 에스테르기를 함유한 카바졸 유도체에 실릴기와 아릴아실기가 도입된 구조를 가지는 카바졸 유도체, 및 이를 포함하는 고감도 광경화성 조성물을 제공한다.

Description

카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물 {Carbazole Derivatives and Photocurable Composition Comprising the Same}
본 발명은 카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 실릴기와 아릴아실기가 도입된, 옥심 에스테르기 함유 카바졸 유도체 및 이를 광 개시제로서 포함하는 고감도 광경화성 조성물에 관한 것이다.
광 개시제는 빛 에너지를 흡수하여 스스로 분해되어 라디칼을 생성하고 이 라디칼이 주변에 존재하는 중합성 모노머의 이중 결합과 반응하여 중합 반응을 개시시키는 역할을 한다. 종래 광 개시제로는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 옥심 화합물 등이 알려져 있다.
예를 들어, 대한민국 등록특허 제10-0801457호에서는 알킬, 아릴 케톤, 다이아릴 케톤 또는 케토쿠마린과 결합된 구조를 가지는 옥심 에스테르 화합물의 광중합성 조성물에서의 광개시제로서의 용도를 기재하고 있다.
그러나, 소량 첨가시에도 적은 노광량으로 우수한 경화도를 제공하는 고감도 광 개시제에 대한 기술 개발이 여전히 요구되고 있다.
대한민국 등록특허 제10-0801457호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 한 목적은 고감도 광 개시제로 사용될 수 있는 카바졸 유도체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 카바졸 유도체를 포함하는 고감도 광경화성 조성물을 제공하는 것이다.
한편으로, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 유도체를 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 식에서,
R1은 C1-C6의 알킬기이고,
R2는 C1-C6의 알킬기이며,
R3는 C1-C6의 알킬기 또는 아릴기이고,
Ar1은 아릴기이며,
n은 0 내지 3의 정수이고,
m은 1 내지 3의 정수이다.
다른 한편으로, 본 발명은 광경화성 화합물, 광 개시제 및 용제를 포함하는 광경화성 조성물로서, 상기 광 개시제는 상기 카바졸 유도체를 포함하는 광경화성 조성물을 제공한다.
본 발명에 따른 카바졸 유도체는 옥심 에스테르기를 함유한 카바졸 유도체에 실릴기와 아릴아실기가 도입된 구조를 가지며, 소량 첨가시에도 적은 노광량으로 우수한 경화도를 제공하는 고감도 광 개시제로서 사용될 수 있다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 일 실시형태는 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 유도체에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure pat00002
상기 식에서,
R1은 C1-C6의 알킬기이고,
R2는 C1-C6의 알킬기이며,
R3는 C1-C6의 알킬기 또는 아릴기이고,
Ar1은 아릴기이며,
n은 0 내지 3의 정수이고,
m은 1 내지 3의 정수이다.
본 명세서에서 사용되는 C1-C6의 알킬기는 탄소수 1 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, n-펜틸, n-헥실 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 아릴기는 아로메틱기와 헤테로아로메틱기 및 그들의 부분적으로 환원된 유도체를 모두 포함한다. 상기 아로메틱기는 5 내지 15각형으로 이루어진 단순 또는 융합 고리형이며, 헤테로아로메틱기는 산소, 황 또는 질소를 하나 이상 포함하는 아로메틱기를 의미한다. 대표적인 아릴기의 예로는 페닐, 나프틸, 피리디닐(pyridinyl), 푸라닐(furanyl), 티오페닐(thiophenyl), 인돌릴(indolyl), 퀴놀리닐(quinolinyl), 이미다졸리닐(imidazolinyl), 옥사졸릴(oxazolyl), 티아졸릴(thiazolyl), 테트라히드로나프틸 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 C1-C6의 알킬기 및 아릴기는 한 개 또는 그 이상의 수소가 C1-C6의 알킬기, C2-C6의 알케닐기, C2-C6의 알키닐기, C3-C10의 사이클로알킬기, C3-C10의 헤테로사이클로알킬기, C3-C10의 헤테로사이클로알킬옥시기, C1-C5의 할로알킬기, C1-C5의 알콕시기, C1-C5의 티오알콕시기, 아릴기, 아실기, 히드록시, 티오(thio), 할로겐, 아미노, 알콕시카보닐, 카복시, 카바모일, 시아노, 니트로 등으로 치환될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, R3는 C1-C6의 알킬기이고, Ar1은 C1-C6의 알킬기로 치환되거나 치환되지 않은 페닐기일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, R3는 C1-C6의 알킬기이고, Ar1은 C1-C6의 알킬기로 치환되거나 치환되지 않은 페닐기이고, m은 1일 수 있다.
본 발명의 카바졸 유도체 중 대표적인 화합물은 하기 화학식 2 또는 3의 화합물일 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00003
[화학식 3]
Figure pat00004

본 발명의 카바졸 유도체는 카바졸과 할로알킬기로 치환된 실란 화합물을 반응시켜 실릴기로 치환된 카바졸을 얻은 후, 상기 실릴기로 치환된 카바졸을 아릴아실 할라이드 및 알킬아실 할라이드와 순차적으로 반응시켜 아릴아실기와 알킬아실기를 도입한 다음, 상기 알킬아실기를 히드록실아민과 축합 반응시켜 옥심기로 전환한 뒤 아세틸 할라이드와 반응시켜 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태는 광경화성 화합물, 광 개시제 및 용제를 포함하는 광경화성 조성물로서, 상기 광 개시제는 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 유도체를 포함하는 광경화성 조성물에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure pat00005
상기 식에서,
R1은 C1-C6의 알킬기이고,
R2는 C1-C6의 알킬기이며,
R3는 C1-C6의 알킬기 또는 아릴기이고,
Ar1은 아릴기이며,
n은 0 내지 3의 정수이고,
m은 1 내지 3의 정수이다.
이하, 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 조성물을 각 성분 별로 상세히 설명한다.
광경화성 화합물(A)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광경화성 화합물(A)은 광 개시제(B)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 광경화성 화합물, 2관능 광경화성 화합물 또는 3관능 광경화성 화합물 등을 들 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 단관능 광경화성 화합물은 예를 들어, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있으며, 시판품으로는 아로닉스 M-101 (도아고세이), KAYARAD TC-110S (닛본가야꾸) 또는 비스코트 158 (오사카 유키 가가쿠 고교) 등을 들 수 있다.
상기 2관능 광경화성 화합물은 예를 들어, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 시판품으로는 아로닉스 M-210, M-1100, 1200 (도아고세이), KAYARAD HDDA (닛본가야꾸), 비스코트 260 (오사카 유키 가가쿠 고교), AH-600, AT-600 또는 UA-306H (교에이샤 가가꾸사) 등이 있다.
상기 3관능 이상의 다관능 광경화성 화합물은 예를 들어, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으며, 시판품으로는 아로닉스 M-309, TO-1382 (도아고세이), KAYARAD TMPTA, KAYARAD DPHA 또는 KAYARAD DPHA-40H (닛본가야꾸) 등이 있다.
상기 광경화성 화합물은 본 발명의 광경화성 조성물 총 중량에 대하여 3 내지 35 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광경화성 화합물이 상기 범위로 포함되었을 경우 광학 특성과 기계적 물성을 동시에 만족시킬 수 있다.
광 개시제 (B)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광 개시제(B)는 상기 화학식 1로 표시되는 카바졸 유도체를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광 개시제는 중합특성, 개시효율, 흡수파장 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 추가로 포함할 수 있다.
또한, 상기 광 개시제는 본 발명의 광경화성 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제(B-1)를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화성 조성물은 광중합 개시 보조제(B-1)를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.
상기 광중합 개시 보조제로는, 예를 들어 아민 화합물, 카르복실산 화합물 및 티올기를 가지는 유기 황화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 광 개시제는 본 발명의 광경화성 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 10 중량 %, 바람직하게는 0.05 내지 5 중량% 포함될 수 있다. 상기 광 개시제가 상기 범위 내에 있으면, 광경화성 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상될 수 있다.
또한, 상기 광중합 개시 보조제를 더 사용하는 경우, 상기 광 개시제와 동일한 함량 범위를 사용하는 것이 바람직하며, 상기 함량으로 사용할 경우 광경화성 조성물의 감도가 더욱 향상되고, 상기 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 효과를 나타낼 수 있다.
용제(C)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 용제는 본 발명의 광경화성 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 광경화성 조성물에서 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 또는 아미드류 등이 바람직하다.
상기 용제는 구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알콜류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; 및 γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.
상기 용제 중에서도 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 사용하는 것이 더욱 바람직하며, 그 예로는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등이 있다.
상기 예시한 용제는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 본 발명의 광경화성 조성물 총 중량에 대하여 30 내지 95 중량%, 바람직하게는 40 내지 85 중량% 포함될 수 있다. 상기 용제가 상기 30 내지 95 중량%의 범위이면, 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과를 제공한다.
또한, 상기 광경화성 조성물은 필요에 따라 착색제, 알칼리가용성 수지 및 계면활성제로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다.
착색제(D)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 착색제는 필요에 따라 첨가될 수 있는 것으로 1종 이상의 안료 또는 1종 이상의 염료를 포함할 수 있다.
안료( d1 )
상기 안료(d1)는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있다.
상기 유기 안료 또는 무기 안료는 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 등에 사용되는 각종의 안료를 사용할 수 있으며, 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌 안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다.
상기 무기 안료로서는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물, 카본블랙 등을 들 수 있다.
특히, 상기 유기 안료 및 무기 안료로는 구체적으로 색지수(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다.
C.I. 피그먼트 옐로우 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185;
C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65 및 71;
C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264;
C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38;
C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6 등), 21, 28, 60, 64 및 76;
C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58;
C.I 피그먼트 브라운 28;
C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등.
상기 안료들은 각각 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 예시된 C.I. 피그먼트 안료 중에서도 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36 및 C.I. 피그먼트 그린 58에서 선택되는 안료가 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 안료는 안료의 입경이 균일하게 분산된 안료 분산액으로 사용하는 것이 바람직하다. 안료의 입경을 균일하게 분산시키기 위한 방법의 예로는 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리하는 방법 등을 들 수 있으며, 상기 방법에 따라 안료가 용액 중에 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.
안료 분산제( d2 )
상기 안료 분산제(d2)는 안료의 탈응집 및 안정성 유지를 위해 첨가하는 것으로, 안료 분산제의 구체적인 예로는 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 폴리에스테르계, 폴리아민계 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 부틸메타아크릴레이트(BMA) 또는 N,N-디메틸아미노에틸메타아크릴레이트(DMAEMA)를 포함하는 아크릴레이트계 분산제 (이하, 아크릴 분산제라고도 함)를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 아크릴레이트계 분산제의 시판품으로는 DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070 또는 DISPER BYK-2150 등을 들 수 있으며, 상기 아크릴레이트계 분산제는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 안료 분산제는 상기한 아크릴 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제를 사용할 수도 있다. 상기 다른 수지 타입의 안료 분산제로는 공지된 수지 타입의 안료 분산제, 특히 폴리우레탄, 폴리아크릴레이트로 대표되는 폴리카르복실산 에스테르, 불포화 폴리아미드, 폴리카르복실산, 폴리카르복실산의 (부분적)아민 염, 폴리카르복실산의 암모늄 염, 폴리카르복실산의 알킬아민 염, 폴리실록산, 장쇄 폴리아미노아미드 포스페이트 염, 히드록실기-함유 폴리카르복실산의 에스테르 및 이들의 개질 생성물, 또는 프리(free) 카르복실기를 갖는 폴리에스테르와 폴리(저급 알킬렌이민)의 반응에 의해 형성된 아미드 또는 이들의 염과 같은 유질의 분산제; (메트)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메트)아크릴산-(메트)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐 알코올 또는 폴리비닐 피롤리돈과 같은 수용성 수지 또는 수용성 폴리머 화합물; 폴리에스테르; 개질 폴리아크릴레이트; 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드의 부가생성물 및 포스페이트 에스테르 등을 들 수 있다. 상기한 수지형 분산제의 시판품으로는 양이온계 수지 분산제로서는, 예를 들면, BYK(빅) 케미사의 상품명: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF사의 상품명: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; Lubirzol사의 상품명: SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204/10; 카와켄 파인 케미컬사의 상품명: 히노액트(HINOACT) T-6000, 히노액트 T-7000, 히노액트 T-8000; 아지노모토사의 상품명: 아지스퍼(AJISPUR) PB-821, 아지스퍼 PB-822, 아지스퍼 PB-823; 쿄에이샤 화학사의 상품명: 플로렌(FLORENE) DOPA-17HF, 플로렌 DOPA-15BHF, 플로렌 DOPA-33, 플로렌 DOPA-44 등을 들 수 있다. 상기한 아크릴 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 아크릴 분산제와 병용하여 사용할 수도 있다.
상기 안료 분산제(d2)의 함량은 안료(d1)의 고형분 100 중량부에 대하여 5 내지 60 중량부, 바람직하게는 15 내지 50 중량부이다. 안료 분산제(d2)의 함량이 60 중량부를 초과하면 점도가 높아질 수 있으며, 5 중량부 미만일 경우에는 안료의 미립화가 어렵거나 분산 후 겔화 등의 문제를 야기할 수 있다.
염료( d3 )
상기 염료(d3)는 유기 용제에 대한 용해성을 가지는 것이라면 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 유기 용제에 대한 용해성을 가지면서 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내열성, 내용제성 등의 신뢰성을 확보할 수 있는 염료를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 염료로는 설폰산이나 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료, 산성 염료와 질소 함유 화합물의 염, 산성 염료의 설폰아미드체 등과 이들의 유도체에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 이외에도 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성 염료 및 이들의 유도체도 선택할 수 있다. 바람직하게 상기 염료는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다.
상기 염료의 구체적인 예로는, C.I. 솔벤트 염료로서,
C.I. 솔벤트 레드 8, 45, 49, 89, 111, 122, 125, 130, 132, 146, 179 등의 적색 염료;
C.I. 솔벤트 블루 5, 35, 36, 37, 44, 45, 59, 67, 70 등의 청색 염료;
C.I. 솔벤트 바이올렛 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47, 49 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 솔벤트 옐로우 4, 14, 15, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 162 등의 황색 염료;
C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 56 등의 오렌지색 염료
C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
상기 예시된 C.I. 솔벤트 염료 중 유기 용제에 대한 용해성이 우수한 C.I. 솔벤트 옐로우 14, 16, 21, 56, 79, 93, 151; C.I. 솔벤트 레드 8, 49, 89, 111, 122, 132, 146, 179; C.I. 솔벤트 오렌지 41, 45, 62; C.I. 솔벤트 블루 35, 36, 44, 45, 70; C.I. 솔벤트 바이올렛 13이 바람직하고, 그 중에서도 C.I. 솔벤트 옐로우 21, 79; C.I. 솔벤트 레드 8, 122, 132; C.I. 솔벤트 오렌지 45, 62가 보다 바람직하다.
또한, C.I. 애시드 염료로서,
C.I. 애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 등의 적색 염료;
C.I. 애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251 등의 황색 염료
C.I. 애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173 등의 오렌지색 염료
C.I. 애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340 등의 청색 염료;
C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19, 66 등의 바이올렛색 염료
C.I. 애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
상기 예시된 C.I.애시드 염료 중 유기 용제에 대한 용해도가 우수한 C.I. 애시드 옐로우 42; C.I. 애시드 레드 92; C.I. 애시드 블루 80, 90; C.I. 애시드 바이올렛 66; C.I. 애시드 그린 27이 바람직하다.
또한 C.I. 다이렉트 염료로서,
C.I. 다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 등의 적색 염료;
C.I. 다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141 등의 황색 염료;
C.I. 다이렉트 오렌지 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107 등의 오렌지색 염료;
C.I. 다이렉트 블루 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 등의 청색 염료;
C.I. 다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다
또한 C.I. 모단토 염료로서,
C.I. 모단토 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 등의 황색 염료;
C.I. 모단토 레드 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95 등의 적색 염료;
C.I. 모단토 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 등의 오렌지색 염료;
C.I. 모단토 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 등의 청색 염료;
C.I. 모단토 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 모단토 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
상기 염료는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
알칼리 가용성 수지(E)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 알칼리 가용성 수지는 필요에 따라 선택적으로 첨가될 수 있는 것으로, 패턴을 형성할 때의 현상 처리 공정에서 이용되는 알칼리 현상액에 대해서 가용성을 갖기 위해 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체를 필수성분으로 하여 공중합하여 제조할 수 있다.
상기 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타아크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복실산류; 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복실산류; 디카르복실산류의 무수물; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있으며, 아크릴산, 메타아크릴산이 바람직하다.
상기 알칼리 가용성 수지에 추가적인 현상성을 확보하기 위하여 수산기를 부여할 수 있다. 상기 수산기를 부여하기 위한 방법으로는 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체와 수산기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체를 공중합하여 제조하는 방법, 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체에 글리시딜기를 갖는 화합물을 추가로 반응시켜 제조하는 방법, 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체와 수산기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체에 추가로 글리시딜기를 갖는 화합물을 반응시켜 제조하는 방법 등이 있다.
상기 수산기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체의 구체적인 예로는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, N-히드록시에틸아크릴아마이드 등이 있으며, 그 중에서도 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트가 바람직하며, 상기 수산기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 글리시딜기를 갖는 화합물의 구체적인 예로는 부틸글리시딜에테르, 글리시딜프로필에테르, 글리시딜페닐에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 글리시딜부틸레이트, 글리시딜메틸에테르, 에틸글리시딜에테르, 글리시딜이소프로필에테르, t-부틸글리시딜에테르, 벤질글리시딜에테르, 글리시딜4-t-부틸벤조에이트, 글리시딜스테아레이트, 아릴글리시딜에테르, 메타아크릴산글리시딜에스터 등이 있으며, 바람직하게는 부틸글리시딜에테르, 아릴글리시딜에테르, 메타아크릴산글리시딜에스터를 들 수 있으며, 상기 글리시딜기를 갖는 화합물은 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지의 제조시 공중합 가능한 불포화 단량체들은 하기에 예시되어지나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 중합 단량체의 구체적인 예로는 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물;
N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물;
메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 2-디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족(메타)아크릴레이트류;
2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, N-히드록시에틸아크릴아마이드 등의 히드록시에틸(메타)아크릴레이트류;
페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트류;
3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄 화합물 등이 있다.
상기 예시한 단량체는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지는 염료와의 상용성 및 본 발명의 광경화성 조성물의 저장 안정성을 확보하기 위해, 산가는 30 내지 150 mgKOH/g 인 것이 바람직하다. 알칼리 가용성 수지의 산가가 30 mgKOH/g 미만인 경우 광경화성 조성물의 현상 속도가 느리며, 150 mgKOH/g를 초과하는 경우 기판과의 밀착성이 감소되어 패턴의 단락이 발생하기 쉬우며 염료와의 상용성 문제가 발생하여 광경화성 조성물 내의 염료가 석출되거나 저장 안정성이 저하되어 점도가 상승하기 쉽다.
계면활성제(F)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 계면활성제는 필요에 따라 선택적으로 첨가될 수 있는 것으로, 본 발명의 광경화성 조성물의 피막 형성을 보다 향상시키기 위해 사용할 수 있으며, 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 계면활성제 등이 바람직하게 사용될 수 있으며, 구체적으로 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급아민변성폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등을 들 수 있다.
또한, 상기 실리콘계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 등이 있고, GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등이 있다.
상기 불소계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등이 있다. 또한, 그 외에 사용 가능한 시판품으로는 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(Lubrisol), EFKA(EFKA 케미칼스사), PB 821(아지노모또㈜), Disperbyk-series(BYK-chemi) 등을 들 수 있다.
상기 양이온계 계면활성제의 구체적인 예로는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다.
상기 음이온계 계면활성제의 구체적인 예로는 라우릴알코올황산에스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다.
상기 비이온계 계면활성제의 구체적인 예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.
상기 예시된 계면활성제는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 광경화성 조성물은 컬러필터, 블랙 매트릭스, 블랙 컬럼 스페이서, 컬러 센서(color sensor, CS), 컬러 이미지 센서(color image sensor, CIS), 유기절연막 등을 형성하는데 광범위하게 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 컬러필터는 기판 상에 상술한 광경화성 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여 착색층을 형성시킴으로써 제조될 수 있다.
이하, 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예, 비교예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.
제조예 1: 화학식 2의 화합물의 제조
제조예 1-1: 9- 트리메틸실란일메틸 -9H- 카바졸의 합성
Figure pat00006
둥근 바닥플라스크에 9H-카바졸(20g, 0.12 mole) 및 탄산칼륨(66.1g, 0.48 mole)을 넣고 DMF에서 혼탁시켰다. 반응혼합액에 클로로메틸트리메틸실란(50ml, 0.36 mole)을 천천히 첨가하고 혼합액을 80℃에서 밤새 가열교반시켰다. 반응혼합물에 200ml의 에틸아세테이트를 투입하고 여과하여 과량의 무기염을 제거하고, 여과액을 물로 2회 세척하고 MgSO4 상에서 건조시켰다. 유기층을 농축시키고 진공 하에서 건조하여 황색 고체의 표제화합물(25g, 83%)을 수득하였다. 생성물은 후속반응에 추가 정제 없이 사용하였다.
제조예 1-2: 1-[6-(2- 메틸벤조일 )-9- 트리메틸실란일메틸 -9H- 카바졸 -3-일]- 에 타논의 합성
Figure pat00007
둥근 바닥플라스크에 9-트리메틸실란일메틸-9H-카바졸(20g, 0.08 mole)을 넣고 250ml 무수 디클로로메탄에 용해시키고 아이스-배쓰(ice-bath) 하에서 냉각시켰다. 반응 플라스크에 AlCl3(10.5g, 0.08 mole) 및 o-톨루오일 클로라이드(12.2g, 0.08)를 천천히 첨가하였다. 0℃에서 3시간 동안 교반한 후, 0℃ 하에서 AlCl3(11.6g, 0.087 mole) 및 아세틸 클로라이드(6.8g, 0.087 mole)를 첨가하고 반응혼합액을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 혼합물을 빙수에 붓고, 생성물을 디클로로메탄으로 2회 추출하였다. 합한 유기층을 물과 소금물로 세척하고 MgSO4 상에서 건조시킨 후, 농축하여 헥산(Hex):에틸 아세테이트(EA)=5:1 조건 하에서 실리카겔 크로마트그래피로 표제화합물(25g)을 수득하였다.
제조예 1-3: 1-[6-(2- 메틸벤조일 )-9- 트리메틸실란일메틸 -9H- 카바졸 -3-일]- 에 타논 옥심 o-아세테이트의 합성
Figure pat00008
둥근 바닥플라스크에 1-[6-(2-메틸벤조일)-9-트리메틸실란일메틸-9H-카바졸-3-일]-에타논(5g, 0.012 mole)을 넣고 50ml 톨루엔과 10ml N-메틸피롤리돈(NMP)에 혼탁시키고 80℃에서 가열교반하였다. 반응혼합액에 아세트산 나트륨(1.15g, 0.014 mole) 및 하이드록실암모늄 클로라이드(0.97g, 0.014 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 100℃에서 밤새 교반하였다. 반응혼합물을 0℃에서 냉각시킨 후, 트리에틸아민(1.82g, 0.018mole) 및 아세틸 클로라이드(1.41g, 0.18 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 실온에서 3시간 동안 교반하였다. 반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 물에 첨가하고 톨루엔으로 추출하였다. 유기층을 물 및 소금물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조시키고, 농축시켜 잔류물을 수득하였다. 잔류물을 Hex:EA=1:4 조건에서 실리카겔 컬럼크로마토그래피하여 표제화합물(3.34g, 60%)을 수득하였다.
1H NMR (300MHz, CDCl3) 0.07(9H, s), 2.28(3H, s), 2.36(3H, s), 2.50(3H, s), 3.90(2H, s), 7.30(7H, m), 7.97(1H, d), 8.08(1H, d), 8.41(1H, d), 8.52(1H, d)
제조예 2: 화학식 3의 화합물의 제조
제조예 2-1: 9-(3- 트리에틸실란일프로필 )-9H- 카바졸의 합성
Figure pat00009
둥근 바닥플라스크에 9H-카바졸(20g, 0.12 mole) 및 탄산칼륨(66.1g, 0.48 mole)을 넣고 DMF에서 혼탁시켰다. 반응혼합액에 (3-클로로프로필)-트리에틸실란(69.4g, 0.36 mole)을 천천히 첨가하고 혼합액을 80℃에서 밤새 가열교반시켰다. 반응혼합물에 200ml의 에틸아세테이트를 투입하고 여과하여 과량의 무기염을 제거하고, 여과액을 물로 2회 세척하고 MgSO4 상에서 건조시켰다. 유기층을 농축시키고 진공 하에서 건조하여 황색 고체의 표제화합물(30g, 77%)을 수득하였다. 생성물은 후속반응에 추가 정제 없이 사용하였다.
제조예 2-2: 1-[6-(2- 메틸벤조일 )-9- 트리에틸실란일프로필 -9H- 카바졸 -3-일]-에타논의 합성
Figure pat00010
둥근 바닥플라스크에 9-트리에틸실란일프로필-9H-카바졸(25.9g, 0.08 mole)을 넣고 250ml 무수 디클로로메탄에 용해시키고 아이스-배쓰 하에서 냉각시켰다. 반응 플라스크에 AlCl3(10.5g, 0.08 mole) 및 o-톨루오일 클로라이드(12.2g, 0.08)를 천천히 첨가하였다. 0℃에서 3시간 동안 교반한 후, 0℃ 하에서 AlCl3(11.6g, 0.087 mole) 및 아세틸 클로라이드(6.8g, 0.087 mole)를 첨가하고 반응혼합액을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 혼합물을 빙수에 붓고, 생성물을 디클로로메탄으로 2회 추출하였다. 합한 유기층을 물과 소금물로 세척하고 MgSO4 상에서 건조시킨 후, 농축하여 Hex:EA=7:1 조건 하에서 실리카겔 크로마트그래피로 표제화합물(28g, 72.5%)을 수득하였다.
제조예 2-3: 1-[6-(2- 메틸벤조일 )-9- 트리에틸실란일프로필 -9H- 카바졸 -3-일]-에타논 옥심 o-아세테이트의 합성
Figure pat00011
둥근 바닥플라스크에 1-[6-(2-메틸벤조일)-9-트리에틸실란일프로필-9H-카바졸-3-일]-에타논(5.8g, 0.012 mole)을 넣고 50ml 톨루엔과 10ml N-메틸피롤리돈(NMP)에 혼탁시키고 80℃에서 가열교반하였다. 반응혼합액에 아세트산 나트륨(1.15g, 0.014 mole) 및 하이드록실암모늄 클로라이드(0.97g, 0.014 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 100℃에서 밤새 교반하였다. 반응혼합물을 0℃에서 냉각시킨 후, 트리에틸아민(1.82g, 0.018mole) 및 아세틸 클로라이드(1.41g, 0.18 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 실온에서 3시간 동안 교반하였다. 반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 물에 첨가하고 톨루엔으로 추출하였다. 유기층을 물 및 소금물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조시키고, 농축시켜 잔류물을 수득하였다. 잔류물을 Hex:EA=1:5 조건에서 실리카겔 컬럼크로마토그래피하여 표제화합물(4.2g, 65%)을 수득하였다.
1H NMR (300MHz, CDCl3) 0.67(6H, q), 0.92(9H, t), 0.63(2H, t), 1.82(2H, m), 2.28(3H, s), 2.36(3H, s), 2.50(3H, s), 3.85(2H, t), 7.30(7H, m), 7.97(1H, d), 8.08(1H, d), 8.41(1H, d), 8.52(1H, d)
비교제조예 1: 화학식 4의 화합물의 제조
[화학식 4]
Figure pat00012
비교제조예 1-1: 3-니트로-9- 트리메틸실란일메틸 -9H- 카바졸의 합성
Figure pat00013
둥근 바닥플라스크에 3-니트로-9H-카바졸(25.5g, 0.12 mole) 및 탄산칼륨(66.1g, 0.48 mole)을 넣고 DMF에서 혼탁시켰다. 반응혼합액에 클로로메틸트리메틸실란(44.2g, 0.36 mole)을 천천히 첨가하고 혼합액을 80℃에서 밤새 가열교반시켰다. 반응혼합물에 200ml의 에틸아세테이트를 투입하고 여과하여 과량의 무기염을 제거하고, 여과액을 물로 2회 세척하고 MgSO4 상에서 건조시켰다. 유기층을 농축시키고 진공 하에서 건조하여 황색 고체의 표제화합물(27.2g, 76%)을 수득하였다. 생성물은 후속반응에 추가 정제 없이 사용하였다.
비교제조예 1-2: 1-(6-니트로-9- 트리메틸실란일메틸 -9H- 카바졸 -3-일)- 에타논 의 합성
Figure pat00014
둥근 바닥플라스크에 3-니트로-9-트리메틸실란일메틸-9H-카바졸(23.9g, 0.08 mole)을 넣고 250ml 무수 디클로로메탄에 용해시키고 아이쓰-배쓰 하에서 냉각시켰다. 반응 플라스크에 AlCl3(10.5g, 0.08 mole) 및 아세틸 클로라이드 (6.2g, 0.08 mole)를 천천히 첨가하였다. 0℃에서 3시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 빙수에 붓고, 생성물을 디클로로메탄으로 2회 추출하였다. 합한 유기층을 물과 소금물로 세척하고 MgSO4 상에서 건조시킨 후, 농축하여 Hex:EA=6:1조건 하에서 실리카겔 크로마트그래피로 표제화합물(18.5g, 68%)을 수득하였다.
비교제조예 1-3: 1-(6-니트로-9- 트리메틸실란일메틸 -9H- 카바졸 -3-일)- 에타논 옥심 o-아세테이트의 합성
Figure pat00015
둥근 바닥플라스크에 1-(6-니트로-9-트리메틸실란일메틸-9H-카바졸-3-일)-에타논(4.1g, 0.012 mole)을 넣고 50ml 톨루엔과 10ml N-메틸피롤리돈(NMP)에 혼탁시키고 80℃에서 가열교반하였다. 반응혼합액에 아세트산 나트륨(1.15g, 0.014 mole) 및 하이드록실암모늄 클로라이드(0.97g, 0.014 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 100℃에서 밤새 교반하였다. 반응혼합물을 0℃에서 냉각시킨 후, 트리에틸아민(1.82g, 0.018mole) 및 아세틸 클로라이드(1.41g, 0.18 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 실온에서 3시간 동안 교반하였다. 반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 물에 첨가하고 톨루엔으로 추출하였다. 유기층을 물 및 소금물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조시키고, 농축시켜 잔류물을 수득하였다. 잔류물을 Hex:EA=1:4 조건에서 실리카겔 컬럼크로마토그래피하여 표제화합물(3.2g, 67%)을 수득하였다.
1H NMR (300MHz, CDCl3) 0.07(9H, s), 2.28(3H, s), 2.36(3H, s), 4.22(2H, s), 7.41(1H, d), 7.75(3H, m), 8.01(1H, d), 8.48(1H, s)
비교제조예 2: 화학식 5의 화합물의 준비
[화학식 5]
Figure pat00016
상기 화학식 5로 표시되는 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]에타논-1-O-아세틸옥심을 시바사(상품명: Irgacure OXE-02)로부터 입수하였다.
비교제조예 3: 화학식 6의 화합물의 제조
[화학식 6]
Figure pat00017
비교제조예 3-1: 9-(3- 트리에틸실란일프로필 )-9H- 카바졸의 합성
Figure pat00018
둥근 바닥플라스크에 9H-카바졸(20g, 0.12 mole) 및 탄산칼륨(66.1g, 0.48 mole)을 넣고 DMF에서 혼탁시켰다. 반응혼합액에 (3-클로로프로필)-트리에틸실란(69.4g, 0.36 mole)을 천천히 첨가하고 혼합액을 80℃에서 밤새 가열교반시켰다. 반응혼합물에 200ml의 에틸아세테이트를 투입하고 여과하여 과량의 무기염을 제거하고, 여과액을 물로 2회 세척하고 MgSO4 상에서 건조시켰다. 유기층을 농축시키고 진공 하에서 건조하여 황색 고체의 표제화합물(30g, 77%)을 수득하였다. 생성물은 후속반응에 추가 정제 없이 사용하였다.
비교제조예 3-2: 1-[6-아세틸-9-(3- 트리에틸실란일프로필 )-9H- 카바졸 -3-일]-2,2-디메틸프로판-1-온의 합성
Figure pat00019
둥근 바닥플라스크에 9-트리에틸실란일프로필-9H-카바졸(25.9g, 0.08 mole)을 넣고 250ml 무수 디클로로메탄에 용해시키고 아이스-배쓰 하에서 냉각시켰다. 반응 플라스크에 AlCl3(10.5g, 0.08 mole) 및 t-피바로일 클로라이드(9.6g, 0.08)를 천천히 첨가하였다. 0℃에서 3시간 동안 교반한 후, 0℃ 하에서 AlCl3(11.6g, 0.087 mole) 및 아세틸 클로라이드(6.8g, 0.087 mole)를 첨가하고 반응혼합액을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 혼합물을 빙수에 붓고, 생성물을 디클로로메탄으로 2회 추출하였다. 합한 유기층을 물과 소금물로 세척하고 MgSO4 상에서 건조시킨 후, 농축하여 Hex:EA=6:1 조건 하에서 실리카겔 크로마토그래피로 표제화합물(23g, 64%)을 수득하였다.
비교제조예 3-3: 1-[6-(2,2-디메틸프로판-1-온일)-9-(3- 트리에틸실란일프로필 )-9H- 카바졸 -3-일]- 에타논 옥심 o-아세테이트의 합성
Figure pat00020
둥근 바닥플라스크에 1-[6-아세틸-9-트리에틸실란일프로필-9H-카바졸-3-일]-2,2-디메틸프로판-1-온(5.4g, 0.012 mole)을 넣고 50ml 톨루엔과 10ml N-메틸피롤리돈(NMP)에 혼탁시키고 80℃에서 가열교반하였다. 반응혼합액에 아세트산 나트륨(1.15g, 0.014 mole) 및 하이드록실암모늄 클로라이드(0.97g, 0.014 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 100℃에서 밤새 교반하였다. 반응혼합물을 0℃에서 냉각시킨 후, 트리에틸아민(1.82g, 0.018mole) 및 아세틸 클로라이드(1.41g, 0.18 mole)를 첨가하고, 이어서 혼합물을 실온에서 3시간 동안 교반하였다. 반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 물에 첨가하고 톨루엔으로 추출하였다. 유기층을 물 및 소금물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조시키고, 농축시켜 잔류물을 수득하였다. 잔류물을 Hex:EA=1:6 조건에서 실리카겔 컬럼크로마토그래피하여 표제화합물(3.8g, 63%)을 수득하였다.
1H NMR (300MHz, CDCl3) 0.67(6H, q), 0.92(9H, t), 0.63(2H, t), 1.28(9H, s), 1.82(2H, m), 2.28(3H, s), 2.36(3H, s), 3.85(2H, t), 7.45(3H, m), 7.81(2H, m), 8.01(1H, s)
실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 3: 광경화성 조성물의 제조
하기 화학식 7의 비스페놀 A의 디에폭시아크릴레이트 50g, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 10g, 카본블랙 40g 및 하기 표 1에 나타낸 광 개시제 3g을 프로필렌글리콜모노메톡시아세테이트 100g에 첨가하여 혼합한 후 30분 동안 교반하여 광경화성 조성물을 제조하였다.
[화학식 7]
Figure pat00021
구분 광개시제(단위: g)
a b c d e
실시예1 3 - - - -
실시예2 - 3 - - -
비교예1 - - 3 - -
비교예2 - - - 3 -
비교예3 - - - - 3
a: 제조예 1의 화합물
b: 제조예 2의 화합물
c: 비교제조예 1의 화합물
d: 비교제조예 2의 화합물
e: 비교제조예 3의 화합물
실험예 1: 광경화성 조성물의 감도 평가
실시예 및 비교예의 광경화성 조성물을 각각 두께 1㎜의 청정한 표면을 가지는 유리 기판 상에 스핀 코터를 이용해 건조 막 두께가 1.0㎛가 되도록 도포하고 100℃에서 5분간 건조하여 광경화성 막을 형성하였다. 상기 광경화성 막에 선폭 20㎛의 네가티브 마스크를 통하여 365nm의 파장의 자외선이 각각 노광량 3 mJ/cm2, 5 mJ/cm2, 및 10 mJ/cm2이 되도록 자외선을 선택적으로 조사한 뒤, 0.5중량％ 탄산나트륨 수용액에서 25℃, 60초간 스프레이 현상함으로써, 블랙 매트릭스를 형성하였다. 형성된 불랙 매트릭스는 현미경으로 관찰하여, 각 노광량별 경화 및 미경화를 확인하였으며, 평가기준은 하기와 같다.
<감도 평가기준>
○: 미경화에 의한 패턴 뜯김이 관찰되지 않음
△: 미세한 뜯김이 관찰됨
×: 미경화에 의해 패턴이 모두 현상되어, 거의 잔류하지 않음
감도 평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.
구분 3 mJ/cm2 5 mJ/cm2 10 mJ/cm2
실시예 1 ○ ○ ○
실시예 2 ○ ○ ○
비교예 1 △ ○ ○
비교예 2 × △ ○
비교예 3 × △ ○
상기 표 2에 나타난 바와 같이, 실시예 1과 2의 광경화성 조성물은 비교예 1 내지 3의 광경화성 조성물과 비교하여 감도가 우수하여, 적은 노광량에도 경화도가 우수함을 확인하였다.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.

Claims (7)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 유도체:
    [화학식 1]
    Figure pat00022

    상기 식에서,
    R1은 C1-C6의 알킬기이고,
    R2는 C1-C6의 알킬기이며,
    R3는 C1-C6의 알킬기 또는 아릴기이고,
    Ar1은 아릴기이며,
    n은 0 내지 3의 정수이고,
    m은 1 내지 3의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, R3는 C1-C6의 알킬기이고, Ar1은 C1-C6의 알킬기로 치환되거나 치환되지 않은 페닐기인 카바졸 유도체.
  3. 제2항에 있어서, m은 1인 카바졸 유도체.
  4. 제1항에 있어서, 카바졸 유도체가 하기 화학식 2 또는 3의 화합물인 카바졸 유도체:
    [화학식 2]
    Figure pat00023

    [화학식 3]
    Figure pat00024
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 카바졸 유도체를 포함하는 광 개시제.
  6. 광경화성 화합물, 광 개시제 및 용제를 포함하는 광경화성 조성물로서, 상기 광 개시제는 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 카바졸 유도체를 포함하는 광경화성 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 착색제, 알칼리가용성 수지 및 계면활성제로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상을 추가로 포함하는 광경화성 조성물.
KR1020160098507A 2016-08-02 2016-08-02 카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물 KR20180014982A (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160098507A KR20180014982A (ko) 2016-08-02 2016-08-02 카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물
TW106125199A TWI707844B (zh) 2016-08-02 2017-07-27 咔唑衍生物、光起始劑及含彼之光可固化組合物
CN201710673856.9A CN107674089B (zh) 2016-08-02 2017-08-01 咔唑衍生物、包含其的光引发剂和光固化性组合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160098507A KR20180014982A (ko) 2016-08-02 2016-08-02 카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180014982A true KR20180014982A (ko) 2018-02-12

Family

ID=61135567

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160098507A KR20180014982A (ko) 2016-08-02 2016-08-02 카바졸 유도체 및 이를 포함하는 광경화성 조성물

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR20180014982A (ko)
CN (1) CN107674089B (ko)
TW (1) TWI707844B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108929392B (zh) * 2018-04-17 2019-09-03 江南大学 一种硅基双光子引发剂及其制备方法
CN111320714B (zh) * 2018-12-13 2022-04-19 常州强力先端电子材料有限公司 肟酯类光引发剂、其制备方法及应用

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100528838C (zh) * 2001-06-11 2009-08-19 西巴特殊化学品控股有限公司 具有复合结构的肟酯光引发剂
WO2005080337A1 (ja) * 2004-02-23 2005-09-01 Mitsubishi Chemical Corporation オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP4775077B2 (ja) * 2006-03-31 2011-09-21 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 ポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品
KR101526618B1 (ko) * 2007-05-11 2015-06-05 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
KR101678028B1 (ko) * 2009-06-17 2016-11-21 토요잉크Sc홀딩스주식회사 옥심에스테르 화합물, 라디칼 중합개시제, 중합성 조성물, 네가티브형 레지스트 및 화상 패턴
JP5236587B2 (ja) * 2009-07-15 2013-07-17 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物
CN101891845B (zh) * 2010-07-15 2013-08-07 常州强力电子新材料有限公司 咔唑肟酯类化合物在可光聚合丙烯酸酯类组合物中作为光引发剂的用途
KR101968462B1 (ko) * 2012-05-09 2019-04-11 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP2017008219A (ja) * 2015-06-23 2017-01-12 株式会社Adeka 組成物

Also Published As

Publication number Publication date
TW201823203A (zh) 2018-07-01
CN107674089B (zh) 2021-01-12
TWI707844B (zh) 2020-10-21
CN107674089A (zh) 2018-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI656404B (zh) 著色感光性樹脂組合物、利用其製造的濾色器和圖像顯示裝置
TWI687766B (zh) 著色感光性樹脂組合物、濾色器及影像顯示裝置
JP6303436B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP6722813B2 (ja) 高感度オキシムエステル光重合開始剤及びこれを含有する光重合組成物
TWI705299B (zh) 著色感光性樹脂組合物、濾色器及具備其之影像顯示裝置
TWI485515B (zh) 著色感光性樹脂組合物及使用該組合物的彩色濾光片
KR20140100261A (ko) 착색 감광성 수지 조성물
CN107674089B (zh) 咔唑衍生物、包含其的光引发剂和光固化性组合物
JP2011039317A (ja) 着色感光性樹脂組成物
KR20150081554A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20140014622A (ko) 착색 감광성 수지 조성물
JP2017037305A (ja) 着色感光性樹脂組成物およびこれを用いるカラーフィルタ
KR102291856B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치
KR20150028464A (ko) 카르복실기 및 아크릴 아마이드기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 광경화성 수지 조성물
KR20150072837A (ko) 광경화성 아크릴 수지 및 이를 포함하는 광경화성 조성물
KR20150028463A (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터 및 표시장치
KR20170123918A (ko) 다관능 아크릴레이트 및 이를 포함하는 광경화성 수지 조성물
KR20150028685A (ko) 4급 암모늄기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 광경화성 수지 조성물
KR102529875B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 화상 표시 장치
KR20150081583A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20150081581A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20150049346A (ko) 포스포닉산기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 광경화성 수지 조성물
KR20150081580A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20150081553A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20150077930A (ko) 감광성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application