JP2000081701A - カラーフィルター保護膜用感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ギャップ制御用柱状スペーサーを有する保護
膜を形成するのに好適な感放射線性樹脂組成物を提供す
ること。 【解決手段】 ［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および
／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基
含有不飽和化合物、および（ａ３）前記（ａ１）および
（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物、の共重合
体、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合
物、並びに［Ｃ］感放射線重合開始剤を含有するカラー
フィルター保護膜用感放射線性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用の
カラーフィルター保護膜として好適な感放射線性樹脂組
成物に関する。特にギャップ制御用柱状スペーサーを有
する保護膜を形成するのに好適な感放射線性樹脂組成物
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶パネルには２枚の基板の間隔
を一定に保つために所定の粒径を有するガラスビーズ、
プラスチックビーズ等のスペーサー粒子が使用されてい
る。これらスペーサー粒子は、ガラス基板上にランダム
に散布されるため、有効画素部内に上記スペーサーが存
在すると、スペーサーの写り込みがあったり、入射光が
散乱を受け液晶パネルのコントラストが低下するという
問題があった。これらの問題を解決するためにスペーサ
ーをフォトリソグラフィーにより形成する方法が提案さ
れた。この方法によれば、感光性樹脂を基板に塗布し所
定のマスクを介し紫外線を照射した後、現像してドット
状やストライプ状のスペーサーを形成することができ
る。これによると有効画素部以外の場所にスペーサーを
形成することができ上記問題を解決できる。さらにこの
方法では、セルギャップを感光性樹脂の塗布膜厚により
コントロールできるためギャップ幅のコントロールが容
易で、精度が高いという特徴もある。

【０００３】フォトリソグラフィーによりスペーサーを
カラーフィルター上に形成する場合、カラーフィルター
保護膜とスペーサーの密着性が低く、現像時にスペーサ
ーが剥離したり、配向膜ラビング時にスペーサーが剥が
れるという問題が生じることがある。

【０００４】この問題を解決する一つの手段として保護
膜とスペーサーを同時に形成する方法が提案されている
（特開平８−１１４８０９号公報参照）。この方法によ
り形成されたスペーサーは保護膜と一体化しているため
上述した問題の有効な解決策と考えられる。

【０００５】カラーフィルター上に設けられた柱状スペ
ーサーを有する保護膜には、ラビングによってスペーサ
ー部が剥がれたり、削れたりして表示不良が生じないよ
うラビング耐性が高いことが求められる。

【０００６】さらに、上記のスペーサーを有する保護膜
には、透明電極を成膜する時の熱により形状が変化しな
いよう耐熱寸法安定性や、液晶パネルにかかる外部圧力
により形状が変化しないよう圧縮強度が必要とされる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】それ故、本発明の目的
は、ラビングにより表示不良が生じないようラビング耐
性が高く、さらに、熱により形状が変化しないよう耐熱
寸法安定性が高くそして、液晶パネルにかかる外部圧力
により形状が変化しないよう圧縮強度が高い、ギャップ
制御用柱状スペーサーを有する保護膜を形成するのに好
適な感放射線性樹脂組成物を提供することにある。本発
明の他の目的および利点は以下の説明から明らかになろ
う。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、

【０００９】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／
または不飽和カルボン酸無水物（以下、「化合物（ａ
１）」ともいう。）、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化
合物（以下、「化合物（ａ２）」ともいう。）および
（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン
系不飽和化合物（以下、「化合物（ａ３）」ともい
う。）、の共重合体、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有
する重合性化合物（以下、「重合性化合物［Ｂ］」とも
いう。）、並びに［Ｃ］感放射線重合開始剤（以下、
「重合開始剤［Ｃ］」ともいう。）を含有することを特
徴とするカラーフィルター保護膜用感放射線性樹脂組成
物により達成される。

【００１０】以下、本発明のカラーフィルター保護膜用
感放射線性樹脂組成物について詳述する。本発明のカラ
ーフィルター保護膜用感放射線性樹脂組成物は、上記の
とおり、共重合体［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］および重
合開始剤［Ｃ］からなることを特徴とする。

【００１１】共重合体［Ａ］ 共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）、化合物（ａ２）お
よび化合物（ａ３）を溶媒中で、重合開始剤の存在下に
ラジカル重合することによって製造することができる。

【００１２】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ１）から誘導される構成単位を、好ましくは３
〜２５重量％、特に好ましくは５〜２０重量％含有して
いる。この構成単位が３重量％未満である共重合体は、
アルカリ水溶液に溶解しにくくなり、一方２５重量％を
超える共重合体はアルカリ水溶液に対する溶解性が大き
くなりすぎる傾向にあり、保護膜の膜厚およびスペーサ
ーの高さのコントロールが困難になる。化合物（ａ１）
としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸などのモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シト
ラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン
酸；およびこれらジカルボン酸の無水物が挙げられる。
これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイ
ン酸などが共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解
性および入手が容易である点から好ましく用いられる。
これらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１３】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ２）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜６０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は得ら
れるスペーサーの強度が低下する傾向にあり、一方７０
重量％を超える場合は共重合体の保存安定性が低下する
傾向にある。

【００１４】化合物（ａ２）としては、例えばアクリル
酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルア
クリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリ
シジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリ
ル酸−３,４−エポキシブチル、メタクリル酸−３,４−
エポキシブチル、アクリル酸−６,７−エポキシヘプチ
ル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−エ
チルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグ
リシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエー
テルなどが挙げられる。これらのうち、メタクリル酸グ
リシジル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、
ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベ
ンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシ
ジルエーテルなどが共重合反応性および得られるスペー
サーの強度を高める点から好ましく用いられる。これら
は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１５】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ３）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜５０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は、共
重合体［Ａ］の保存安定性が低下する傾向にあり、一方
７０重量％を超える場合は共重合体［Ａ］がアルカリ水
溶液に溶解しにくくなる。

【００１６】化合物（ａ３）としては、例えばメチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルメタクリレートなどのメタクリル酸アルキルエステ
ル；メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートな
どのアクリル酸アルキルエステル；シクロヘキシルメタ
クリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレー
ト、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペン
タニルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタ
クリレートなどのメタクリル酸環状アルキルエステル；
シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシ
ルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジ
シクロペンタオキシエチルアクリレート、イソボロニル
アクリレートなどのアクリル酸環状アルキルエステル；
フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレートなど
のメタクリル酸アリールエステル；フェニルアクリレー
ト、ベンジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエ
ステル；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタ
コン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル；２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレートなどのヒドロキシアルキルエステル；
およびスチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メト
キシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、酢酸ビニル、１,３−ブタジエン、イ
ソプレン、２,３−ジメチル−１,３−ブタジエンなどが
挙げられる。

【００１７】これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタ
クリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ｐ−
メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレ
ート、１,３−ブタジエンなどが共重合反応性およびア
ルカリ水溶液に対する溶解性の点から好ましい。これら
は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１８】上記のように本発明で用いられる共重合体
［Ａ］は、カルボキシル基および／またはカルボン酸無
水物基ならびにエポキシ基とを有しており、アルカリ水
溶液に対して適切な溶解性を有するとともに、特別な硬
化剤を併用しなくとも加熱により容易に硬化させること
ができる。

【００１９】上記の共重合体［Ａ］を含む感放射線性樹
脂組成物は、現像する際に良好なアルカリ溶解性を示
し、また膜べりすることなく、容易に所定パターンの保
護膜とスペーサーを備えたカラーフィルター保護膜を形
成することができる。

【００２０】共重合体［Ａ］の製造に用いられる溶媒と
しては、具体的には、例えばメタノール、エタノールな
どのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテ
ル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテル
アセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレン
グリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチ
ルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、
プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
エチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチル
エーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチ
ルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコール
アルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノ
ンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸
エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロ
キシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピ
ル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、
３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプ
ロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチ
ル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メト
キシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プ
ロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エ
トキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢
酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチ
ル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、
ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢
酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピ
オン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−
メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオ
ン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エ
トキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸
プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブト
キシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エ
チル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキ
シプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシ
プロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポ
キシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メ
チル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシ
プロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチ
ルなどのエステル類が挙げられる。

【００２１】共重合体［Ａ］の製造に用いられる重合開
始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知ら
れているものが使用でき、例えば２,２’−アゾビスイ
ソブチロニトリル、２,２’−アゾビス−（２,４−ジメ
チルバレロニトリル）、２,２’−アゾビス−（４−メ
トキシ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ
化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキ
シド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１,１’−ビ
ス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有
機過酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル
重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物
を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよ
い。

【００２２】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、ポ
リスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」とい
う）が、通常、２×１０³〜５×１０⁵、好ましくは５×
１０³〜１×１０⁵であることが望ましい。Ｍｗが２×１
０³未満であると、得られる被膜は、現像性、残膜率な
どが低下したり、またパターン形状、耐熱性などに劣る
ことがあり、一方５×１０⁵を超えると、アルカリ溶解
性が低下しすぎたりパターン形状に劣ることがある。

【００２３】重合性化合物［Ｂ］ 本発明で用いられる重合性化合物［Ｂ］としては、単官
能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート
が、重合性が良好であり、得られるスペーサーの強度が
向上する点から好ましく用いられる。

【００２４】上記単官能（メタ）アクリレートとして
は、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）ア
クリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−
２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられ、そ
の市販品としては、例えばアロニックスＭ−１０１、同
Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東亜合成化学工業（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２
０Ｓ（日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３
１１（大阪有機化学工業（株）製）が挙げられる。

【００２５】上記２官能（メタ）アクリレートとして
は、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、
１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,
９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキ
シエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げら
れ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１
０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亜合成化学工業
（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２
０、同Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ビスコート２
６０、同３１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業
（株）製）などが挙げられる。

【００２６】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えば
アロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０
２、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同
Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０（東亜合成化学工業
（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨ
Ａ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ
−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）、ビ
スコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３
ＰＡ、同４００（大阪有機化学工業（株）製）などが挙
げられる。これらの単官能、２官能または３官能以上の
（メタ）アクリレートは、単独であるいは組み合わせて
用いられる。

【００２７】重合開始剤［Ｃ］ 本発明において重合開始剤［Ｃ］としては、感放射線ラ
ジカル重合開始剤、感放射線カチオン重合開始剤などを
使用することができる。

【００２８】これら重合開始剤の使用に際しては、放射
線照射条件が酸素雰囲気下であるか、無酸素雰囲気下で
あるかを考慮することが必要である。放射線照射を無酸
素雰囲気下で行う場合には、一般的なあらゆる種類の感
放射線ラジカル重合開始剤および感放射線カチオン重合
開始剤を使用することができる。一方、酸素雰囲気下で
放射線照射を行うときには、感放射線ラジカル重合開始
剤の種類によっては、酸素によりラジカルが失活し、感
度の低下が起こり、スペーサーとなる放射線照射部分の
残膜率、圧縮強度などが充分に得られない場合があり、
感放射線ラジカル重合開始剤を選択して使用する必要が
ある。しかし、感放射線カチオン重合開始剤は、酸素に
よる活性種の失活はほとんどなく、酸素雰囲気下でも、
無酸素雰囲気下でも区別なく自由に使用できる。

【００２９】感放射線ラジカル重合開始剤としては、例
えばベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン類；ベン
ゾインなどのアシロイン類；ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルなどのアシロインエーテル類；チオキサント
ン、２,４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノ
ン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノ
ン、２,２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなど
のアセトフェノン類；アントラキノン、１,４−ナフト
キノンなどのキノン類；フェナシルクロライド、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジンなどのハロゲン化合物；２,４,６
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ドなどのアシルホスフィンオキサイド；およびジ−ｔ−
ブチルパーオキサイドなどの過酸化物が挙げられる。

【００３０】この感放射線ラジカル重合開始剤の市販品
としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３６
９、同５００、同６５１、同９０７、同１７００、同８
１９、同１０００、同２９５９、同１４９、同１８０
０、同１８５０、Ｄａｒｏｃｕｒ−１１７３、同１１１
６、同２９５９、同１６６４、同４０４３（チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ−Ｄ
ＥＴＸ 、同 ＭＢＰ、同 ＤＭＢＩ 、同 ＥＰＡ、
同 ＯＡ（日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、
同５５（ＳＴＡＵＦＦＥＲ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＴＲ
ＩＧＯＮＡＬＰ１（ＡＫＺＯ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、Ｓ
ＡＮＤＯＲＡＹ １０００（ＳＡＮＤＯＺＣｏ.ＬＴＤ
製）、ＤＥＡＰ（ＡＰＪＯＨＮ Ｃｏ.ＬＴＤ
製）、ＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ−ＰＤＯ、同 ＩＴＸ、同
ＥＰＤ（ＷＡＲＤ ＢＬＥＫＩＮＳＯＰ Ｃｏ.ＬＴ
Ｄ 製）等が挙げられる。

【００３１】さらに、感放射線カチオン重合開始剤とし
ては、例えばフェニルジアゾニウムテトラフルオロボレ
ート、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、フェニルジアゾニウムトリフルオロメタンスルホナ
ート、フェニルジアゾニウムトリフルオロアセテート、
フェニルジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホナ塩類；お
よび（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニ
ル）鉄（１＋）六フッ化リン酸（１−）などのメタロセ
ン化合物が挙げられる。

【００３２】この感放射線カチオン重合開始剤の市販品
としては、例えばジアゾニウム塩であるアデカウルトラ
セットＰＰ−３３（旭電化工業（株）製）、スルホニウ
ム塩であるＯＰＴＯＭＥＲ ＳＰ−１５０、同−１７０
（旭電化工業（株）製）、およびメタロセン化合物であ
るＩｒｇａｃｕｒｅ２６１（チバ・スペシャルティ・ケ
ミカルズ社製）などが挙げられる。

【００３３】また、これら感放射線ラジカル重合開始剤
または感放射線カチオン重合開始剤と感放射線増感剤と
を併用することによって酸素による失活の少ない、高感
度の感放射線性樹脂組成物を得ることも可能である。使
用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外
線、電子線、Ｘ線等を使用できるが、波長が１９０〜４
５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましく、特に３６０ｎ
ｍの放射線(紫外線）が好ましい。

【００３４】感放射線性樹脂組成物 本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の共重合体
［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］および重合開始剤［Ｃ］の
各成分を均一に混合することによって調製される。通
常、本発明の感放射線性樹脂組成物は、適当な溶媒に溶
解されて溶液状態で用いられる。例えば共重合体
［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］、重合開始剤［Ｃ］および
その他の配合剤を、所定の割合で混合することにより、
溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができ
る。

【００３５】本発明の感放射線性樹脂組成物は、共重合
体［Ａ］１００重量部に対して、重合性化合物［Ｂ］
を、好ましくは１０〜１５０重量部、より好ましくは２
０〜１２０重量部、および重合開始剤［Ｃ］を、好まし
くは１〜５０重量部、より好ましくは５〜３０重量部の
割合で含有している。

【００３６】重合性化合物［Ｂ］が１０重量部未満の場
合は得られるスペーサーの膜べりや強度の低下を生じや
すく、１５０重量部を超える場合は得られるスペーサー
と保護膜の膜厚のコントロールが困難になる。また重合
開始剤［Ｃ］の量が１重量部未満の場合は得られるスペ
ーサーの膜べりや強度の低下を生じやすく、５０重量部
を超える場合は液晶中への溶出物が増加し電圧保持率が
低下しやすい。

【００３７】本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用
いられる溶媒としては、共重合体［Ａ］、重合性化合物
［Ｂ］および重合開始剤［Ｃ］の各成分を均一に溶解
し、各成分と反応しないものが用いられる。

【００３８】具体的には、例えばメタノール、エタノー
ルなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエー
テル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエ
ーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエー
テルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレン
グリコール類；プロピレングリコールメチルエーテル、
プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリ
コールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチル
エーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエー
テル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、
プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートな
どのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−
４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒド
ロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒド
ロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン
酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−
ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオ
ン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−
ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類が挙げら
れる。

【００３９】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜の形成のしやすさから、グリコールエ
ーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類、エステル類およびジエチレングリコール類が好
ましく用いられる。

【００４０】さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用
することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例
えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソ
ホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、
１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、
安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。
本発明の感放射線性樹脂組成物は、本発明の目的を損な
わない範囲で、必要に応じて上記以外に他の成分を含有
していてもよい。

【００４１】ここで、他の成分としては、塗布性を向上
するための界面活性剤を挙げることができる。その市販
品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００
（ＢＭＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、
同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３（大日本インキ化
学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−
１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（住友スリ
ーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１
３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ
−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−
１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１
０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３
０３、同３５２（新秋田化成（株）製）、ＳＨ−２８Ｐ
Ａ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、Ｓ
Ｆ−８４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（東レシリコ
ーン（株）製）などフッ素およびシリコーン系界面活性
剤が挙げられる。

【００４２】その他にも、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル
類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチ
レンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキ
ルエステル類などのノニオン系界面活性剤；オルガノシ
ロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）
製）、（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ.
５７、９５（共栄社油脂化学工業（株）製）などが挙げ
られる。

【００４３】これらの界面活性剤は、共重合体［Ａ］１
００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好
ましくは２重量部以下で用いられる。界面活性剤の量が
５重量部を超える場合は、塗布時の膜あれが生じやすく
なる。

【００４４】また基体との接着性を向上させるために接
着助剤を使用することもできる。このような接着助剤と
しては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用さ
れ、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシ
アネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシ
ランカップリング剤が挙げられる。具体的にはトリメト
キシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシランなどが挙げられる。

【００４５】このような接着助剤は、共重合体［Ａ］１
００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より
好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。接着助剤
の量が２０重量部を超える場合は、現像残りが生じやす
くなる。また上記のように調製された組成物溶液は、孔
径０.５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過
した後、使用に供することもできる。

【００４６】スペーサーを有する保護膜の形成 本発明の感放射線性樹脂組成物によりスペーサーを有す
る保護膜を形成するには、該組成物を下地基板表面に塗
布し、プレベークにより溶媒を除去することによって塗
膜を形成する。このときプレベークの温度、時間を調整
することで保護膜の膜厚をコントロールすることもでき
る。

【００４７】次に所定のマスクを介してスペーサー部の
みを露光後、スペーサーおよび保護膜が所定の膜厚にな
るように使用する現像液の種類、現像液濃度、現像時
間、現像方法を選択し現像する。その後ポストベークを
行い塗膜を硬化させる。ポストベークの前に全面を露光
し未架橋の保護膜部を光架橋させてもよい。また、スペ
ーサー部を露光した後、スペーサー部よりも低い露光量
で保護膜部を露光してもよい。

【００４８】本発明の感放射線性樹脂組成物の塗布方法
として、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布
法などの各種の方法を採用することができる。また、プ
レベークの条件は、各成分の種類、配合割合などによっ
ても異なるが、通常７０〜１２０℃で１〜１５分間程度
である。次にプレベークされた塗膜に所定パターンマス
クを介して紫外線などの放射線を照射し、さらに現像液
により現像し、不要な部分を除去して所定パターンを形
成する。現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワ
ー法などのいずれでもよく、現像時間は通常1０〜１８
０秒間である。

【００４９】上記現像液としては、アルカリ水溶液、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１,８−
ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン、１,５
−ジアザビシクロ［４.３.０］−５−ノネンなどの環状
３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キノリ
ンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用することが
できる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、エタ
ノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活性剤
を適当量添加した水溶液を現像液として使用することも
できる。

【００５０】現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、
さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、
スペーサーを有する保護膜が形成される。その後このパ
ターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置に
より、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定時
間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オーブ
ン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより目的
とするスペーサーを有する保護膜を得ることができる。

【００５１】

【実施例】以下に合成例、実施例および比較例を示し
て、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下
の実施例に限定されるものではない。

【００５２】合成例１ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）７重量部および
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル２００重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリ
ル酸１０重量部、メタクリル酸ジシクロペンタニル２０
重量部、メタクリル酸およびグリシジル４５重量部を仕
込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の
温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重
合体［Ａ−１］を含む重合体溶液を得た。得られた重合
体溶液の固形分濃度は３３.０重量％であり、重合体の
重量平均分子量は、２４,０００であった（重量平均分
子量はＧＰＣ（ゲルパーミエイションクロマトグラフィ
ー） ＨＬＣ−８０２０（東ソー（株）製）を用いて測
定したポリスチレン換算分子量である）。

【００５３】合成例２ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）７重量部および
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル２００重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン２１重量部、メタクリ
ル酸１６重量部、メタクリル酸ジシクロペンタニル１８
重量部およびメタクリル酸グリシジル４５重量部を仕込
み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温
度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合
体［Ａ−２］を含む重合体溶液を得た。得られた重合体
溶液の固形分濃度は３３.２重量％であり、重合体の重
量平均分子量は、２７,０００であった。

【００５４】合成例３ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部および
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル１５０重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン２１重量部、メタクリ
ル酸１６重量部、メタクリル酸ジシクロペンタニル１８
重量部およびメタクリル酸グリシジル４０重量部を仕込
み窒素置換した後、さらに１，３−ブタジエンを５重量
部仕込みゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃
に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体［Ａ−
３］を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固
形分濃度は３２．５重量％であり、重合体の重量平均分
子量は、３０,０００であった。

【００５５】実施例１ 感放射線性樹脂組成物の調製 合成例１で得られた共重合体［Ａ−１］ １００重量部
（固形分）と、成分［Ｂ］としてのＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ
ＰＨＡ（日本化薬（株）製）５０重量部と、成分［Ｃ］
としての２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニ
ル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（イルガキ
ュア９０７；チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社
製）３０重量部とを混合し、固形分濃度が３３重量％に
なるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテル
に溶解させた後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで
濾過して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製
した。

【００５６】（Ｉ）スペーサー付き保護膜の形成 ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成物溶液
（Ｓ−１）を塗布した後、９０℃で３分間ホットプレー
ト上でプレベークして塗膜を形成した。上記で得られた
塗膜に所定パターンマスクを用いて、３６５ｎｍでの強
度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線をスペーサー部に３
０秒間照射した。この際の紫外線照射は酸素雰囲気下
（空気中）で行った。次いでテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド０．１重量％水溶液で２５℃で９０秒間現
像した後、純水で１分間リンスした。これらの操作によ
り、パターン底部が１２μｍ×１２μｍ角のスペーサー
パターンを形成することができた。次いで、３６５ｎｍ
での強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を全面に３０
秒間照射した。

【００５７】上記で形成されたスペーサー付き薄膜をオ
ーブン中で２２０℃で６０分間加熱し硬化させスペーサ
ーの高さ３．５μｍで保護膜の膜厚が１．５μｍのスペ
ーサー付き薄膜を得た（ここでのスペーサーの高さとは
保護膜上面からスペーサー上部までの高さを言う）。

【００５８】（II）スペーサー強度の評価 上記（Ｉ）で得られたスペーサー付き薄膜のスペーサー
部の圧縮強度を微小圧縮試験機（ＭＣＴＭ−２００、島
津製作所製）を用いて評価した。直径５０μｍの平面圧
子により、一定速度でスペーサー部に荷重を加え（０.
２７ｇｆ／ｓｅｃ.）、スペーサーに割れ、破壊が生じ
たときの荷重（破壊荷重）、歪み（破壊歪み：破壊時の
圧縮変位をスペーサー高で割った値を％で表したもの）
を測定した（測定温度：２３℃）。結果を表１に示す。

【００５９】（III）スペーサー付き薄膜の断面形状の
評価 上記（Ｉ）で形成したスペーサー付き薄膜の断面形状を
走査型電子顕微鏡で観察した。断面形状の評価基準を図
１に示す。形状がＡやＢのように長方形あるいは台形の
スペーサーが薄膜上に形成された場合を良好（○）と
し、Ｃのようにスペーサー部と薄膜の境界部に歪みが生
じたり、Ｄのように薄膜部に膜荒れが見られたときは不
良（×）とした。

【００６０】（IV）耐熱変形の評価 上記（Ｉ）で形成したスペーサー付き薄膜パターンをオ
ーブン中、２５０℃で６０分加熱した。スペーサーの高
さおよび保護膜部膜厚の寸法変化率が加熱前後で５％以
内で断面形状に変化がない時を○、寸法変化率が５％を
越える時、あるいは、パターンの断面形状が上記（II
I）においてＡ,Ｂ以外に変形したときを×とした。

【００６１】（Ｖ）透明性の評価 分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所
(株)製））を用いて保護膜部の４００〜８００ｎｍの透
過率を測定した。このとき最低透過率が９７％を超えた
場合を［○］、９０〜９７％の場合を［△］、９０％未
満の場合を［×］とした。

【００６２】（VI）耐熱変色性の評価 測定基板を２５０℃のオーブンで１時間加熱し、加熱前
後における保護膜部の透過率の変化により耐熱変色性を
評価した。このときの変化率が５％未満である場合を
［○］、５〜１０％である場合を［△］、１０％を超え
た場合を［×］とした。なお透過率は（Ｖ）透明性の評
価と同様にして求めた。

【００６３】（VII）密着性の評価 プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００％、
４時間）後の碁盤目テープ剥離試験により評価した。評
価結果は碁盤目１００個中、残った碁盤目の数で表し
た。

【００６４】（VIII）ラビング耐性の評価 上記(Ｉ)で得られた基板に、液晶配向剤としてＡＬ３０
４６（ジェイ・エス・アール製）を液晶配向膜塗布用印
刷機により塗布し、１８０℃で1時間乾燥し、乾燥膜厚
０.０５μｍの塗膜を形成した。この塗膜に、ナイロン
製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンに
より、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの移動速
度１ｃｍ/秒でラビング処理を行った。この時、スペー
サーパターンが剥がれたり、スペーサーが削られてスペ
ーサー高が低くなった場合を不良（×）、剥がれや、削
れがなかった場合を良好（○）としてラビング耐性の評
価を行った。

【００６５】実施例２ 実施例１において、成分［Ｃ］としての２−メチル−１
−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ
プロパン−１−オン（イルガキュア９０７；チバ・スペ
シャルティー・ケミカルズ社製）３０重量部の代わりに
ビス（２,４,６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフ
ォスフィンオキサイド（イルガキュア８１９；チバ・ス
ペシャルティー・ケミカルズ社製）２５重量部を使用し
た他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−２）を
調製し評価した。結果を表１に示す。

【００６６】実施例３ 実施例２において、共重合体［Ａ−１］の代わりに共重
合体［Ａ−２］を用いた他は、実施例２と同様にして組
成物溶液（Ｓ−３）を調製し、評価した。結果を表１に
示す。

【００６７】実施例４ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］の代わりに共重
合体［Ａ−３］を用いた他は、実施例２と同様にして組
成物溶液（Ｓ−４）を調製し評価した。結果を表１に示
す。

【００６８】実施例５ 実施例２において、スペーサー部の露光に次いで、３６
５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を全面
に３秒間照射した他は、実施例２と同様の処理を行いス
ペーサー付き保護膜を得た。結果を表１に示す。

【００６９】実施例６ 実施例２において、現像時間を６０秒とした他は、実施
例２と同様の処理を行いスペーサー付き保護膜を得た。
結果を表１に示す。

【００７０】

【表１】

【００７１】

【発明の効果】本発明によれば、ラビングにより表示不
良が生じないようラビング耐性が高く、さらに、熱によ
り形状の変化や変色がないよう耐熱性や、液晶パネルに
かかる外部圧力により形状が変化しないよう圧縮強度の
高い、ギャップ制御用柱状スペーサーを有する保護膜を
形成するのに好適な感放射線性樹脂組成物を得ることが
できる。本発明の組成物はカラーフィルターのスペーサ
ー付き保護膜以外にも、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型
液晶表示素子に層状に配置される配線の間を絶縁するた
めの層間絶縁膜（ギャップ制御用柱状スペーサーを有す
る）としても使用できる。また、ＴＦＴ液晶表示素子の
層間絶縁膜を着色層で形成する場合においては、本発明
の組成物を使用してギャップ制御用柱状スペーサーを有
する保護膜を着色層からなる層間絶縁膜上に形成するこ
とが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】スペーサーを有する保護膜の断面形状を示した
説明図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 昌之 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA10 AB13 AC04 AD01 BC12 BC31 CB06 CB08 CB43 2H048 BB37 BB42 4J011 QA03 QA12 QA13 QA22 QA23 QA34 QB02 QB03 QB16 QB19 RA11 RA12 SA01 SA21 SA41 SA63 SA76 SA90 TA07 UA01 UA03 UA04 UA06 VA01 WA01

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および
   ／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基
   含有不飽和化合物、および（ａ３）前記（ａ１）および
   （ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物、の共重合
   体、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合
   物、並びに［Ｃ］感放射線重合開始剤を含有することを
   特徴とするカラーフィルター保護膜用感放射線性樹脂組
   成物。