JP2001172339A - 光散乱性膜形成用組成物および光散乱性膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半透過型または反射型液晶ディス
プレイにおける反射光を効率よく散乱し、均一で正面輝
度の高い面照明を実現し、保護膜としての諸物性にも優
れる光散乱性膜形成用硬化性組成物、およびそれから得
られる光散乱性膜を提供する。 【解決手段】 硬化性組成物は、［Ａ］（ａ１）
重合性不飽和カルボン酸および／または重合性不飽和カ
ルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有重合性不飽和
化合物、および（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以
外の重合性不飽和化合物の共重合体、［Ｂ］（メタ）ア
クリレート基を有する特定の重合性化合物、［Ｃ］重合
開始剤、並びに［Ｄ］光散乱性物質、を含有する。光散
乱性膜は、上記感光性組成物より形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
等に用いる光散乱性膜用硬化性組成物、およびそれから
形成された光散乱性膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイは、均一で正面輝度が
高い面照明が必要なために、従来、バックライトユニッ
トを具備したものが主流であった。しかし近年、携帯用
端末の普及などの影響で、省電力の観点から半透過型お
よび反射型の液晶ディスプレイの採用が増加してきた。
半透過型および反射型液晶ディスプレイは、液晶パネル
下側にアルミニウム板等の反射板を設置し、パネル上部
からの光を反射させることにより輝度を得ている。しか
しこの方法によると、反射板が平面であるため、パネル
上部からの入射光の入射方向が斜めであった場合、反射
光の方向はパネル正面方向からずれ、十分な正面輝度が
得られない。

【０００３】反射型液晶ディスプレイにおける上記のよ
うな欠点を改良するため、いわゆる光拡散板を用いる技
術が提案されている。この方法は、反射板表面に細かい
凸凹形状を付することにより、反射光の方向を拡散し、
正面輝度を得るものである。しかしこの方法は、光拡散
板の形状を複雑化する必要があるため、工程が煩雑とな
り、プロセス上、コスト上不利である。

【０００４】上記の問題を解決するため、特開平７−２
６１１６４号公報、特開平７−９８４５２号公報等で
は、光散乱性膜を用いる技術が提案されている。これら
公報には、フッ化カルシウム、酸化チタン、ポリテトラ
フルオロエチレン等の光散乱性物質を分散させた組成物
から得られる膜をカラーフィルタの上部に設置すること
により、入射光および反射光を散乱せしめ、それにより
高い表面輝度を実現できる旨開示されている。しかし上
記の組成物から得られる膜では、保護膜として本来具備
するべき機能、すなわち平坦化性、耐熱性、耐薬品性、
透明電極（ＩＴＯ膜）との密着性等の物性が、光散乱性
物質の存在により損なわれており、実用できる水準には
未だ到達していない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な事情を鑑みてなされたもので、その目的は、半透過型
または反射型液晶ディスプレイにおいて、反射光を効率
よく散乱し、均一で正面輝度の高い面照明を実現し、か
つ平坦化性、耐熱性および耐薬品性に優れ、ＩＴＯ膜と
の密着性が高い光散乱性膜を形成するための硬化性組成
物を提供することにある。さらに本発明の別の目的は、
前記の硬化性組成物から形成された光散乱性膜を提供す
ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の目的は第一に、［Ａ］（ａ１）重合性不飽和カルボン
酸および／または重合性不飽和カルボン酸無水物、（ａ
２）エポキシ基含有重合性不飽和化合物、および（ａ
３）前記（ａ１）および（ａ２）以外の重合性不飽和化
合物の共重合体、［Ｂ］下記式（１）で表される重合性
化合物、および／または下記式（１）で表される化合物
と酸無水物との反応物（ただし、下記式（１）で表され
る化合物と酸無水物との反応物のときは、Ｒ¹およびＲ²
がともに式（２）で表される基の場合を除く。）。

【０００７】

【化３】

【０００８】ここで、Ｒ¹およびＲ²は、互いに独立に、
下記式

【０００９】

【化４】

【００１０】で表される基であり、そしてＲ³、Ｒ⁴は、
互いに独立に、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基ま
たはハロゲン原子であり、Ｒ⁵は水素原子またはメチル
基である。［Ｃ］重合開始剤、並びに［Ｄ］光散乱性物
質を含有することを特徴とする光散乱性膜形成用組成物
によって達成される。また、本発明の上記目的は第二
に、上記の光散乱性膜形成用組成物より形成される光散
乱性膜によって達成される。以下、本発明の光散乱性膜
形成用組成物について詳述する。

【００１１】共重合体［Ａ］ 共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）、化合物（ａ２）、
および化合物（ａ３）を溶媒中で、重合開始剤の存在下
にラジカル重合することによって合成することができ
る。

【００１２】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、重
合性不飽和基を有する化合物（ａ１）から誘導される構
成単位を、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは
１０〜３０重量％含有している。この構成単位が５重量
％未満である共重合体を用いると、得られる光散乱性膜
の耐熱性、耐薬品性、表面硬度が低下する傾向にあり、
一方４０重量％を超える場合は、光散乱性膜形成用組成
物の保存安定性が低下する。重合性不飽和基を有する化
合物（ａ１）としては、例えばアクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸などの不飽和モノカルボン酸；マレイン
酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸
などの不飽和ジカルボン酸；およびこれら不飽和ジカル
ボン酸の無水物が挙げられる。これらのうち、アクリル
酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などが共重合反応
性、アルカリ水溶液に対する溶解性および入手が容易で
ある点から好ましく用いられる。これらは、単独である
いは組み合わせて用いられる。

【００１３】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、エ
ポキシ化合物（ａ２）から誘導される構成単位を、好ま
しくは１０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜６０重
量％含有している。この構成単位が１０重量％未満の場
合は得られる光散乱性膜膜の耐熱性、表面硬度が低下す
る傾向にあり、一方７０重量％を超える場合は光散乱性
膜形成用組成物の保存安定性が低下する傾向にある。

【００１４】重合性不飽和基を有するエポキシ化合物
（ａ２）としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタ
クリル酸グリシジル、アクリル酸−β−メチルグリシジ
ル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、α−エチル
アクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グ
リシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アク
リル酸−３,４−エポキシブチル、メタクリル酸−３,４
−エポキシブチル、アクリル酸−６,７−エポキシヘプ
チル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−
エチルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、ｏ−ビ
ニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジル
グリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。これらのうち、メタクリル酸
グリシジル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチ
ル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグ
リシジルエーテルなどが共重合反応性および得られる光
散乱性膜の耐熱性、硬度を高める点から好ましく用いら
れる。これらは、単独であるいは組み合わせて用いられ
る。

【００１５】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、重
合性不飽和基を有する化合物（ａ３）から誘導される構
成単位を、好ましくは１０〜７０重量％、特に好ましく
は２０〜５０重量％含有している。この構成単位が１０
重量％未満の場合は、光散乱性膜形成用組成物の保存安
定性が低下する傾向にあり、一方７０重量％を超える場
合は得られる光散乱性膜の耐熱性、表面硬度が低下す
る。

【００１６】重合性不飽和基を有する化合物（ａ３）と
しては、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメ
タクリレート、ｔ−ブチルメタクリレートなどのメタク
リル酸アルキルエステル；メチルアクリレート、イソプ
ロピルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステ
ル；シクロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロ
ヘキシルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０
^2,6］デカン−８−イルメタクリレート（当該技術分野
で慣用名としてジシクロペンタニルメタクリレートとい
われている）、ジシクロペンタニルオキシエチルメタク
リレート、イソボロニルメタクリレートなどのメタクリ
ル酸環状アルキルエステル；シクロヘキシルアクリレー
ト、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシク
ロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルアクリレー
ト（当該技術分野で慣用名としてジシクロペンタニルア
クリレートといわれている）、ジシクロペンタオキシエ
チルアクリレート、イソボロニルアクリレートなどのア
クリル酸環状アルキルエステル；フェニルメタクリレー
ト、ベンジルメタクリレートなどのメタクリル酸アリー
ルエステル；フェニルアクリレート、ベンジルアクリレ
ートなどのアクリル酸アリールエステル；マレイン酸ジ
エチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの
ジカルボン酸ジアルキルエステル；２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ートなどのメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；
およびスチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩
化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢
酸ビニル、１,３−ブタジエン、イソプレン、２,３−ジ
メチル−１,３−ブタジエンなどが挙げられる。

【００１７】これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタ
クリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ｐ−
メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレ
ート、１,３−ブタジエンなどが共重合反応性および耐
熱性の点から好ましい。これらは、単独であるいは組み
合わせて用いられる。

【００１８】上記のように本発明で用いられる共重合体
［Ａ］は、カルボキシル基および／またはカルボン酸無
水物基、ならびにエポキシ基とを有しており、特別な硬
化剤を併用しなくとも加熱により容易に硬化させること
ができる。

【００１９】共重合体［Ａ］の合成に用いられる溶媒と
しては、具体的には、例えばメタノール、エタノールな
どのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテ
ル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテル
アセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレン
グリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチ
ルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、
プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
エチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチル
エーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチ
ルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコール
アルキルエーテルプロピオネート類；トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペン
タノン、メチルイソアミルケトンなどのケトン類；およ
び酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３
−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキ
シ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、
メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ
酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロ
ポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ
酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メ
チル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブ
トキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、
２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピ
オン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２
−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオ
ン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−
エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン
酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブト
キシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸
ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシ
プロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシ
プロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキ
シプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸
ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキ
シプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル
類が挙げられる。

【００２０】共重合体［Ａ］の製造に用いられる重合開
始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知ら
れているものが使用でき、例えば２,２'−アゾビスイソ
ブチロニトリル、２,２'−アゾビス−（２,４−ジメチ
ルバレロニトリル）、２,２'−アゾビス−（４−メトキ
シ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合
物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１,１'−ビス−
（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過
酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合
開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還
元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。

【００２１】重合性化合物［Ｂ］ 本発明で用いられる重合性化合物［Ｂ］は下記式（１）
で表される重合性化合物、および／または下記式（１）
で表される化合物と酸無水物との反応物（ただし、下記
式（１）で表される化合物と酸無水物との反応物のとき
は、Ｒ¹およびＲ²がともに式（２）で表される基の場合
を除く。）である。

【００２２】

【化５】

【００２３】ここで、Ｒ¹およびＲ²は、互いに独立に、
下記式

【００２４】

【化６】

【００２５】で表される基であり、そしてＲ³およびＲ⁴
は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素
基またはハロゲン原子であり、Ｒ⁵は互いに独立に水素
原子またはメチル基である。その具体例としては、下記
式で示される化合物［Ｂ−１］〜［Ｂ−１２］、および
化合物［Ｂ−５］〜［Ｂ−１２］で表される化合物と酸
無水物との反応物を例示することができる。

【００２６】

【化７】

【００２７】

【化８】

【００２８】化合物［Ｂ−５］〜［Ｂ−１２］で表され
る化合物との反応に用いられる酸無水物としては、無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタ
ル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフ
タル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル
酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル
酸、酸二無水物としては、無水ピロメリット酸、ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸二無水物の芳香族多価カルボン酸無水物等があげら
れる。

【００２９】本発明の光散乱性膜形成用組成物は、共重
合体［Ａ］１００重量部に対して、重合性化合物［Ｂ］
を、好ましくは４０〜２００重量部、より好ましくは６
０〜１５０重量部の割合で含有している。重合性化合物
［Ｂ］が４０重量部未満の場合は得られる光散乱性膜膜
の耐熱性の低下を生じやすく、２００重量部を超える場
合は得られる光散乱性膜膜の密着性が低下しやすい。

【００３０】重合開始剤［Ｃ］ 本発明で用いられる重合開始剤［Ｃ］としては、感放射
線ラジカル重合開始剤、感熱ラジカル重合開始剤などを
使用することができる。なお、本発明における「放射
線」の語は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ
線等を含むものを意味する。

【００３１】感放射線ラジカル重合開始剤としては、例
えばベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン類；ベン
ゾインなどのアシロイン類；ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルなどのアシロインエーテル類；チオキサント
ン、２,４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノ
ン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノ
ン、２,２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなど
のアセトフェノン類；アントラキノン、１,４−ナフト
キノンなどのキノン類；フェナシルクロライド、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジンなどのハロゲン化合物；２,４,６
-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ドなどのアシルホスフィンオキサイド；およびジ−ｔ−
ブチルパーオキサイドなどの過酸化物が挙げられる。

【００３２】この感放射線ラジカル重合開始剤の市販品
としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３６
９、同５００、同６５１、同８１９、同９０７、同１７
００、Ｄａｒｏｃｕｒ−１１７３、同１１１６、同２９
５９、同１６６４、同４０４３（チバ−ガイギー社
製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ−ＤＥＴＸ 、同 ＭＢＰ、同
ＤＭＢＩ 、同 ＥＰＡ、同 ＯＡ （日本化薬（株）
製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（ＳＴＡＵＦＦＥＲ
Ｃｏ．ＬＴＤ 製）、ＴＲＩＧＯＮＡＬＰ１（ＡＫＺ
Ｏ Ｃｏ．ＬＴＤ 製）、ＳＡＮＤＯＲＡＹ １０００
（ＳＡＮＤＯＺＣｏ．ＬＴＤ 製）、ＤＥＡＰ（ＡＰ
ＪＯＨＮ Ｃｏ．ＬＴＤ 製）、ＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ
−ＰＤＯ、同 ＩＴＸ、同 ＥＰＤ（ＷＡＲＤ ＢＬＥ
ＫＩＮＳＯＰ Ｃｏ．ＬＴＤ 製）等が挙げられる。ま
た、これら感放射線ラジカル重合開始剤を感放射線増感
剤と併用することによって酸素による失活の少ない、高
感度の光散乱性膜形成用組成物を得ることも可能であ
る。

【００３３】上記感熱ラジカル重合開始剤の具体例とし
ては、２，２‘−アゾビス（４−メトキシー２，４−ジ
メチルバレロニトリル）、２，２‘−アゾビス（４−ジ
メチルバレロニトリル）、２，２‘−アゾビス（２−メ
チルプロピオニトリル）、２，２‘−アゾビス（２−メ
チルブチロニトリル）、１，１‘−アゾビス（シクロヘ
キサンー１−カルボニトリル）、４，４‘−アゾビス
（４−シアノバレリックアシッド）、１，１‘−アゾビ
ス（１−アセトキシー１−フェニルエタン）等のアゾ系
化合物を挙げることができる。これらのアゾ系化合物の
うち、特に２，２‘−アゾビス（４−メトキシー２，４
−ジメチルバレロニトリル）、２，２‘−アゾビス（４
−ジメチルバレロニトリル）、２，２‘−アゾビス（２
−メチルプロピオニトリル）、２，２‘−アゾビス（２
−メチルブチロニトリル）、１，１‘−アゾビス（シク
ロヘキサンー１−カルボニトリル）等が好ましく使用で
きる。

【００３４】重合開始剤［Ｃ］の使用量は、共重合体
［Ａ］１００重量部当たり、０．１〜５０重量部、好ま
しくは３〜４０重量部である。この範囲の使用におい
て、耐熱性、硬度等の物性とＩＴＯ膜に対する密着性と
のバランスに優れた光散乱性膜を得ることができる。

【００３５】光散乱性物質［Ｄ］ 光散乱性物質［Ｄ］としては、たとえば、シリカ、チタ
ニア、アルミナ等の金属酸化物粒子；ベンゾグアナミ
ン、スチレン／ジビニルベンゼン共重合体等の有機系微
粒子；雲母等の鉱物類；アルミニウム、錫、金等の金属
粉等が挙げられるが、このうちでも屈折率が共重合体
［Ａ］と大きく異なり、光散乱効果が大きい点から金属
酸化物粒子が好ましく、シリカがとくに好ましく用いら
れる。光散乱性物質［Ｄ］の形状は、光散乱性がある限
りいづれでも使用できるが、球形および略球形が好まし
い。粒径としては、０．０１〜２０μｍが好ましく、と
くに好ましくは、０．３〜１０μｍである。このような
形状、サイズの光散乱性物質を使用することでパネル正
面輝度を有効に向上させることができる。

【００３６】このような光散乱性物質［Ｄ］の市販品と
しては、シリカ等の金属酸化物粒子としては、ニプシー
ルＳＳ−１０、同ＳＳ−１５、同ＳＳ−１０Ａ、同ＳＳ
−２０、同ＳＳ―３０、同ＳＳ−３０、同ＳＳ−３０
Ｐ、同ＳＳ−３０Ａ、同ＳＳ−４０、同ＳＳ−５０、同
ＳＳ−７０、同ＳＳ−７２Ｆ、同ＳＳ−１１５、同ＳＳ
―１７０Ｘ、同Ｅ−７５、同Ｅ−１５０、同Ｅ−２００
Ａ、同Ｅ−２２０Ａ、同Ｋ−３００（以上、日本シリカ
工業（株）製）、サイリシア２５０、同２５０Ｎ、同２
５６、同２５６Ｎ、同３１０、同３２０、同３５０、同
３５８、同４３０、同４３１、同４４０、同４５０、同
４７０、同４３５、同４４５、同４３６、同４４６、同
４５６、同５３０、同５４０、同５５０、同７３０、同
７４０、同７７０（以上、富士シリシア化学（株）
製）、ミクロパール（積水化学（株）製）、トスパール
１０５、同１２０、同１３０、同１４５、同３１２０、
同２４０（以上、東芝シリコン（株）製）、 ＡＥＲＯ
ＳＩＬ１３０、同２００、同２００Ｖ、同２００ＣＦ、
同２００ＦＡＤ、同３００、同３００ＣＦ、同３８０、
同Ｒ９７２、同Ｒ９７４、同ＲＸ２００、同ＲＹ２０
０、同Ｒ２０２、同Ｒ８０５、同Ｒ８１２、同ＯＸ５
０、同ＴＴ６００、同ＭＯＸ１７０、同ＣＯＫ８４（以
上、日本アエロジル（株）製）；グアナミン系有機粒子
としては、エポカラー、ＥＰシリーズ、ＭＡシリーズ、
エポスターＬ１５，同ＭＳ，同Ｍ３０，同Ｓ１２，同Ｓ
６，同Ｓ、エポスターＭＡ１００１，同１００２，同１
００４，同１００６，同１０１０，同１０１３、エポス
ターＧＰ−Ｈシリーズ、シーホスターＫＥ−Ｅシリー
ズ，同ＫＥ−Ｐ（以上、日本触媒（株）製）；雲母等の
鉱物類としては、天然雲母及び合成マイカパール顔料、
アルテミカＳＡ−１００、同ＳＢ−１００、同ＹＢ−１
００、同ＢＢ−１００（以上、日本光研工業（株）製）
等が挙げられる。

【００３７】光散乱性物質［Ｄ］の添加量は、共重合体
［Ａ］１００重量部あたり、通常１〜８０重量部であ
り、好ましくは３〜６０重量部である。この範囲の使用
で、透明性と光散乱性のバランスに優れた光散乱板を与
えることができる。

【００３８】また、光散乱性物質［Ｄ］を共重合体
［Ａ］中に有効に分散せしめるために、分散剤を併用す
ることができる。このような分散剤としては、シランカ
ップリング剤、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン
系分散剤、ポリオキシエチレンのエーテル類、ポリエチ
レングリコールのエステル類等が挙げられるが、このう
ちでもシランカップリング剤、ウレタン系分散剤が好ま
しく用いられる。

【００３９】上記シランカップリング剤としては、例え
ばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート
基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカッ
プリング剤が挙げられ、具体的にはトリメトキシシリル
安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（２
−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシ
アナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙
げられる。

【００４０】ウレタン系分散剤としては、芳香族ジイソ
シアナート類と片末端に水酸基を有するポリラクトン類
および／または両末端に水酸基を有するポリラクトン類
との反応生成物が好ましく、特に、トリレンジイソシア
ナート類と片末端に水酸基を有するポリカプロラクトン
および／または両末端に水酸基を有するポリカプロラク
トンとの反応生成物が好ましい。これらウレタン系分散
剤の具体例としては、商品名で、ＥＦＫＡ（エフカーケ
ミカルズビーブイ（ＥＦＫＡ）社製）、Disperbyk(ビッ
クケミー（ＢＹＫ）社製）、ディスパロン（楠本化成
（株）製）等を挙げることができる。

【００４１】上記分散剤を使用する場合の使用量は、光
散乱性物質［Ｄ］１００重量部に対して、通常１００重
量部以下、好ましくは５〜７０重量部である。この範囲
の使用量において、光散乱性物質［Ｄ］を［Ａ］成分中
に有効に分散せしめ、しかも形成後の光散乱性膜の透明
性、耐熱性、平坦化性等の物性を損なうことがない。

【００４２】その他の成分 本発明の光散乱性膜形成用組成物は、本発明の目的を損
なわない範囲で、必要に応じて上記以外に他の成分を含
有していてもよい。

【００４３】ここで、他の成分としては、塗布性を向上
するための界面活性剤を挙げることができる。その市販
品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００
（ＢＭＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、
同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３（大日本インキ化
学工業(株)製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１
７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（住友スリー
エム(株)製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、
同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３
８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０
３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６
（旭硝子(株)製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、
同３５２（新秋田化成（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、Ｓ
Ｈ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８
４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（東レシリコーン
（株）製）などフッ素およびシリコーン系界面活性剤が
挙げられる。

【００４４】その他にも、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル
類、ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチ
レンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキ
ルエステル類などのノニオン系界面活性剤、オルガノシ
ロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）
製）、（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ.
５７、９５（共栄社油脂化学工業（株）製）などが挙げ
られる。

【００４５】これらの界面活性剤は、共重合体［Ａ］１
００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好
ましくは２重量部以下で用いられる。界面活性剤の量が
５重量部を超える場合は、塗布時の膜あれが生じ易くな
る。

【００４６】また基体との接着性を向上させるために接
着助剤を使用することもできる。このような接着助剤と
しては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用さ
れ、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシ
アネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシ
ランカップリング剤が挙げられ、具体的にはトリメトキ
シシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルト
リメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、β−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシランなどが挙げられる。このような接
着助剤は、共重合体［Ａ］１００重量部に対して、好ま
しくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下
の量で用いられる。接着助剤の量が２０重量部を超える
場合は、耐熱性が低下し易い。

【００４７】光散乱性膜形成用組成物の調製 本発明の光散乱性膜形成用組成物は、上記の共重合体
［Ａ］、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物
［Ｂ］、重合開始剤［Ｃ］、および光散乱性物質
［Ｄ］、並びに任意的に配合されるその他の成分を均一
に混合することによって調製される。通常、本発明の光
散乱性膜形成用組成物は、適当な溶媒に均一に分散され
た状態で用いられる。例えば共重合体［Ａ］、エチレン
性不飽和結合を有する重合性化合物［Ｂ］、重合開始剤
［Ｃ］および、光散乱性物質［Ｄ］並びに任意的に配合
されるその他の成分を、所定の割合で混合することによ
り、均一分散状態の光散乱性膜形成用組成物を調製する
ことができる。

【００４８】本発明の光散乱性膜形成用組成物の調製に
用いられる溶媒としては、共重合体［Ａ］、エチレン性
不飽和結合を有する重合性化合物［Ｂ］、重合開始剤
［Ｃ］および光散乱性物質［Ｄ］、並びに任意的に配合
されるその他の成分を均一に混合し、各成分と反応しな
いものが用いられる。

【００４９】具体的には、例えばメタノール、エタノー
ルなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエー
テル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエ
ーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエー
テルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレン
グリコール類；プロピレングリコールメチルエーテル、
プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリ
コールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチル
エーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエー
テル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、
プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートな
どのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネ
ート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキ
シ−４−メチル−２−ペンタノン、メチルイソアミルケ
トンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン
酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メ
チル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチ
ル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒ
ドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プ
ロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキ
シプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸
ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、
メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢
酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチ
ル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エト
キシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢
酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブ
チル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブト
キシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシ
プロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチ
ル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシ
プロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチ
ル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプ
ロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプ
ロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピ
ル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、
３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロ
ピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオ
ン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−
プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピ
オン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、
３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロ
ピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３
−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピ
オン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。

【００５０】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜の形成のし易さから、グリコールエー
テル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト類、エステル類およびジエチレングリコール類が好ま
しく用いられる。

【００５１】さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用
することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例
えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソ
ホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、
１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、
安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。
また上記のように調製された組成物は、孔径５〜２０μ
ｍ程度のポリフロン製フィルターなどを用いて濾過した
後、使用に供することもできる。

【００５２】光散乱性膜膜の形成 次に、本発明の光散乱性膜形成用組成物を使用して本発
明の光散乱性膜を形成する方法について述べる。本発明
の光散乱性膜は、基体上に形成された平坦化膜上に、第
２膜として形成しても良いし、平坦化膜形成用組成物に
本発明の光散乱性膜形成用組成物を用い、平坦化膜に光
散乱機能を具備させても良い。本発明の光散乱性膜形成
用組成物は、下地基板表面に塗布し、プレベークにより
溶媒を除去することによって塗膜とすることができる。
塗布方法として、例えばスプレー法、ロールコート法、
回転塗布法などの各種の方法を採用することができる。
また、プレベークの条件は、各成分の種類、配合割合な
どによっても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分
間程度である。こうして得た塗膜をホットプレート、オ
ーブンなどの加熱装置により、所定温度、例えば１５０
〜２５０℃で、所定時間、例えばホットプレート上なら
５〜３０分間、オーブン中では３０〜９０分間加熱処理
をすることにより、目的とする光散乱性膜を得ることが
できる。

【００５３】また、必要に応じて、プレベーク後の塗膜
に所定パターンマスクを介して紫外線などの放射線を照
射し、さらに現像液により現像し、不要な部分を除去し
て所定パターンを形成しても良い。現像方法は液盛り
法、ディッピング法、シャワー法などのいずれでも良
く、現像時間は通常３０〜１８０秒間である。

【００５４】上記現像液としては、アルカリ水溶液、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１,８−
ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン、１,５
−ジアザビシクロ［４.３.０］−５−ノネンなどの環状
３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キノリ
ンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用することが
できる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、エタ
ノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活性剤
を適当量添加した水溶液を現像液として使用することも
できる。

【００５５】現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、
不要な部分を除去し、さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾
させることによって、パターンが形成される。その後こ
のパターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装
置により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定
時間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オー
ブン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより目
的とする光散乱性膜を得ることができる。

【００５６】本発明の光散乱性膜形成用組成物は、上記
のように、簡単な工程で光散乱性膜を形成することがで
きる。また、本発明の光散乱性膜は、以下の実施例から
明らかなように、透明性が高く、しかも効率よく光を散
乱する性質を具備しており、しかも平坦化膜または保護
膜としても各種の物性に優れたものである。

【００５７】

【実施例】以下に合成例、実施例を示して、本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。

【００５８】合成例１ 冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部および
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリ
ル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部お
よびジシクロペンタニルメタクリレート１０重量部を仕
込み窒素置換した後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の
温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重
合体［Ａ−１］を含む重合体溶液を得た。得られた重合
体溶液の固形分濃度は３３.０％、重合体のＭｗの値は
２８,０００であった。

【００５９】合成例２ 冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部および
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１５０重量
部、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート５
０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メ
タクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル３０重
量部およびｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル３０
重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに攪拌を始め
た。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間
保持し共重合体［Ａ−２］を含む重合体溶液を得た。得
られた重合体溶液の固形分濃度は３３.１％、重合体の
Ｍｗの値は２５,０００であった。

【００６０】実施例１光散乱性膜形成用組成物の調製 合成例１で得られた共重合体[Ａ−１]を含む溶液（共重
合体［Ａ−１］ １００重量部（固形分）に相当）と、
重合性化合物［Ｂ―１］ ８０重量部と、光散乱性物質
［Ｄ］としてトスパール１２０（東芝シリコン（株）
製）２０重量部、重合開始剤［Ｃ］として２,４,６-ト
リメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド
（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９；ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社
製）１５重量部、シランカップリング剤としてγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン１０重量部、およ
び界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レシリコーン
(株)製）０.１重量部を混合分散し、固形分濃度が３０
重量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテートに混合させた後、孔径１０μｍのポリ
フロン製フィルターで濾過して光散乱性膜形成用組成物
（Ｓ−１）を調製した。

【００６１】光散乱膜の形成 ＳｉＯ₂ディップガラス基板上にスピンナーを用いて、
上記組成物（Ｓ−１）を塗布した後、８０℃で５分間ホ
ットプレート上でプレベークして塗膜を形成した。

【００６２】上記で得られた塗膜に、３６５ｎｍでの光
強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を３０秒間照射し
た。この際の紫外線照射は酸素雰囲気下（空気中）で行
った後、クリーンオーブン中で２２０℃で６０分間加熱
し、硬化させ膜厚５．５μｍの光散乱性膜を形成した。

【００６３】光散乱性膜の評価 密着性 ＪＩＳ Ｋ−５４００（１９００）８．５の付着性試験
のうち、８．５・２の碁盤目テープ法にしたがって、上
記で形成した光散乱性膜に１００個の碁盤目をカッター
ナイフで形成して付着性試験を行った。その際、残った
碁盤目の数を表１に示す。

【００６４】透明性およびヘイズ測定 上記で形成した光散乱性膜について、Haze gard plas装
置＜型番Cat.No4725＞（ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ（株）
製）にて透明性（積算透過率）とＨａｚｅを測定した。
結果を表１に示す。

【００６５】平坦化性 上記で形成した光散乱性膜について、接触式膜厚測定装
置α-ステップ（テンコールジャパン（株）製）にて表
面平滑性を測定した。測定長さ２ｍｍで膜厚を測定した
際の、最大値と最小値の差を表１に示す。

【００６６】耐熱性 上記で形成した光散乱性膜について、接触式膜厚測定装
置α-ステップ（テンコールジャパン（株）製）にて膜
厚測定後、クリーンオーブンにて２５０℃、６０分の追
加ベークを実施した。追加ベーク後、再度膜厚を測定し
て、追加ベーク前後の残膜率を計算した。結果を表１に
示す。

【００６７】ＩＴＯ膜の形成 前記と同様に形成した光散乱性膜上に、スパッタリング
装置により、約３，０００ÅのＩＴＯ膜を成膜した。
（このようにして形成した、ガラス基板上に光散乱性膜
を有し、さらにその上にＩＴＯ膜を有する基板を、以
後、ＩＴＯスパッタ基板という。）

【００６８】ＩＴＯ膜の薬品耐性評価 耐アルカリ性 上記のように形成したＩＴＯスパッタ基板を５％ＮａＯ
Ｈ水溶液中に、６０℃３０分浸漬し、浸漬後の基板につ
いてＩＴＯ膜の密着性を、前記の光散乱性膜の密着性試
験に準じて評価した。結果を表１に示す。

【００６９】耐酸性 前記のように形成したＩＴＯスパッタ基板にＪＳＲ
（株）製ポジレジストＰＦＲ−３６５０を塗布し、９０
℃、３分ホットプレート上でベークし膜厚２ミクロンの
塗膜を得た。所定のマスクを介し露光量１００ｍＪ／ｃ
ｍ²（ｉ線）で露光を行った後、２．３８％ＴＭＡＨ水
溶液に浸漬し６０秒現像を行い、ついで超純水で６０秒
リンスを行った。基板を風乾した後、１２０℃、５分ホ
ットプレート上でベークを行いストライプ幅１５０ミク
ロン、スペース幅３０ミクロンのレジストパターンをＩ
ＴＯスパッタ基板上に形成した。得られたレジストパタ
ーン付きＩＴＯスパッタ基板をＨＣｌ/ＦｅＣｌ₃・６Ｈ
₂Ｏ/Ｈ₂Ｏ＝２：１：１（重量比）中に４５℃１５分浸
漬しＩＴＯのエッチングを行った。水洗、乾燥後、さら
にジメチルスルホオキシド中に４０℃、５分浸漬しレジ
ストを剥離した。得られたＩＴＯパターニング基板を光
学顕微鏡で観察しパターニングされたＩＴＯに剥がれや
浮きなどの異常がない場合を○、剥がれや浮きが見られ
た場合を×として評価した。結果を表１に示す。

【００７０】耐Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）性 前記のように形成したＩＴＯスパッタ基板をＮ−メチル
ピロリドン（ＮＭＰ）中、４０℃３０分浸漬し、浸漬後
の基板についてＩＴＯ膜の密着性を、前記の光散乱性膜
の密着性試験に準じて評価した。結果を表１に示す。

【００７１】耐湿性 前記のように形成したＩＴＯスパッタ基板を６０℃、湿
度９０％の恒温恒湿槽中に２４時間放置し、放置後の基
板についてＩＴＯ膜の密着性を、前記の光散乱性膜の密
着性試験に準じて評価した。結果を表１に示す。

【００７２】実施例２ 実施例１において、重合開始剤［Ｃ］２,４,６-トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド（Ｉｒ
ｇａｃｕｒｅ８１９；ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製）１５
重量部の代わりに１，１’−アゾビス（シクロヘキサン
−１−カルボニトリル）（熱ラジカル発生剤、和光純薬
（株）製）２重量部を用いた他は、実施例１と同様にし
て組成物（Ｓ−２）を調製し評価した。なお、光散乱性
膜の形成時に紫外線照射および現像工程は行わなかっ
た。結果を表１に示す。

【００７３】実施例３ 実施例２において、重合性化合物［Ｂ−１］の代わりに
［Ｂ−５］を使用した他は、実施例１と同様にして組成
物（Ｓ−３）を調製し評価した。結果を表１に示す。結
果を表１に示す。

【００７４】実施例４ 実施例２において、重合性化合物［Ｂ−１］１００重量
部の代わりに重合性化合物［Ｂ−１］５０重量部とＫＡ
ＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡを５０重量部用いた他は、実施例
１と同様にして組成物（Ｓ−４）を調製し、評価した。

【００７５】実施例５ 実施例２において、重合性化合物［Ｂ−１］の代わりに
［Ｂ−５］と無水テトラヒドロフタル酸無水物の１：２
（モル比）反応物を使用した他は、実施例１と同様にし
て組成物（Ｓ−５）を調製し評価した。結果を表１に示
す。

【００７６】実施例６ 実施例２において、共重合体[Ａ−１]の代わりに共重合
体[Ａ−２]を使用した他は、実施例１と同様にして組成
物（Ｓ−６）を調製し評価した。結果を表１に示す。

【００７７】

【表１】

【００７８】

【発明の効果】本発明によれば、半透過型または反射型
液晶ディスプレイにおける反射光を効率よく散乱し、均
一で正面輝度の高い面照明を実現し、かつ平坦化性、耐
熱性および耐薬品性に優れ、ＩＴＯ膜との密着性にも優
れた光散乱性膜を形成しうる硬化性組成物が提供され
る。また、上記組成物から効率の良い光散乱性膜が形成
される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 151/00 Ｃ０９Ｄ 151/00 ４Ｊ０３８ 163/00 163/00 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ａ Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA13 BA20 2H091 FA31X FA31Z FB02 FB12 LA02 LA03 LA04 LA18 4F071 AA12 AA22 AA22X AA24 AA32 AA32X AA33X AA34 AA35 AA36 AA36X AA42 AC15 AE06 AE19 AE22 AF29 AH16 BA02 BB02 BC01 4J011 AA05 PA07 PA13 PA43 PA65 PA69 PB40 QA12 RA03 RA10 SA01 SA21 SA31 SA63 SA64 SA76 SA78 SA83 SA84 UA01 WA02 WA10 4J026 AA17 AA20 AA24 AA25 AA38 AA43 AA45 AA48 AA49 AA50 AA53 AA54 AA55 AA67 AA68 AA69 BA30 DB12 DB36 GA07 4J038 CG011 CG031 CG061 CG071 CG141 CG142 CH122 CH142 CH171 DB221 HA216 HA446 KA03 KA20 MA02 PB08

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ［Ａ］（ａ１）重合性不飽和カルボン酸
   および／または重合性不飽和カルボン酸無水物、（ａ
   ２）エポキシ基含有重合性不飽和化合物、および（ａ
   ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外の重合性不飽和化
   合物の共重合体、［Ｂ］下記式（１）で表される重合性
   化合物、および／または下記式（１）で表される化合物
   と酸無水物との反応物（ただし、下記式（１）で表され
   る化合物と酸無水物との反応物のときは、Ｒ¹およびＲ²
   がともに式（２）で表される基の場合を除く。）。 【化１】 ここで、Ｒ¹およびＲ²は、互いに独立に、下記式 【化２】 で表される基であり、そしてＲ³およびＲ⁴は、互いに独
   立に、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基またはハロ
   ゲン原子であり、Ｒ⁵は水素原子またはメチル基であ
   る。［Ｃ］重合開始剤、並びに［Ｄ］光散乱性物質を含
   有することを特徴とする光散乱性膜形成用組成物。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の光散乱性膜形成用組成
   物より形成される光散乱性膜。