JP2001316408A - 光散乱性膜形成用感放射線性組成物および光散乱性膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半透過型および反射型液晶ディスプレイにお
いて、反射光を効率よく散乱し、均一で正面輝度の高い
面照明を実現し、かつ平坦化性、耐熱性および耐薬品性
に優れ、ＩＴＯ膜との密着性が高い光散乱性膜を与える
ことのできる光散乱性膜形成用感放射線性組成物を提供
すること。および露光、現像工程によりアライメントマ
ーク部の散乱をなくし、正確な位置合わせを可能にする
感放射線性を備えた硬化性組成物を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および
不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なく
とも１種のカルボン酸化合物、（ａ２）エポキシ基含有
不飽和化合物および（ａ３）前記化合物（ａ１）および
（ａ２）以外のオレフィン性不飽和化合物の共重合体、
（Ｂ）光散乱性物質、（Ｃ）多官能モノマーおよび
（Ｄ）光重合開始剤を含有する光散乱性膜形成用感放射
線性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
等に用いる光散乱性膜用感放射線性組成物、およびそれ
から形成された光散乱性膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイは、均一で正面輝度が
高い面照明が必要なために、従来、バックライトユニッ
トを具備したものが主流であった。しかし近年、携帯用
端末の普及などの影響で、省電力の観点から半透過型お
よび反射型の液晶ディスプレイの採用が増加してきた。

【０００３】半透過型および反射型液晶ディスプレイ
は、液晶パネル下側にアルミニウム板等の反射板を設置
し、パネル上部からの光を反射させることにより輝度を
得ている。しかしこの方法によると、反射板が平面であ
るため、パネル上部からの入射光の入射方向が斜めであ
った場合反射光の方向はパネル正面方向からずれて十分
な正面輝度が得られない。反射型液晶ディスプレイにお
ける上記のような欠点を改良するため、いわゆる光拡散
板を用いる技術が提案されている。この方法は、反射板
表面に細かい凸凹形状を付することにより、反射光の方
向を拡散して正面輝度を得るものである。しかしこの方
法は、光拡散板の形状を複雑化する必要があるため、工
程が煩雑となり、プロセス上、コスト上不利である。

【０００４】上記の問題を解決するため、特開平７−２
６１１６４号公報および特開平７−９８４５２号公報で
は、光散乱性膜を用いる技術が提案されている。これら
の公報には、フッ化カルシウム、酸化チタン、ポリテト
ラフルオロエチレン等の光散乱性物質を分散させた組成
物から得られる膜をカラーフィルタの上部に設置するこ
とにより、入射光および反射光を散乱せしめ、それによ
り高い表面輝度を実現できる旨開示されている。しかし
上記の組成物から得られる膜では、保護膜として本来具
備するべき機能、すなわち平坦化性、耐熱性、耐薬品
性、透明電極（ＩＴＯ膜）との密着性等の物性が、光散
乱性物質の存在により損なわれており、実用水準には未
だ到達しているとはいえない。

【０００５】ところで、ディスプレイ製造工程において
はガラス板上のアライメントマークを検出することによ
りガラス板はりあわせ時の位置合わせを行っている。し
かしながら、上記組成物から得られる膜を保護膜として
用いたガラス板をはりあわせる際、保護膜の散乱性によ
り正確な位置合わせが困難となる問題点がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な事情を鑑みてなされたもので、その目的は、半透過型
および反射型液晶ディスプレイにおいて、反射光を効率
よく散乱し、均一で正面輝度の高い面照明を実現し、か
つ平坦化性、耐熱性および耐薬品性に優れ、ＩＴＯ膜と
の密着性が高い光散乱性膜を与えることのできる光散乱
性膜形成用感放射線性組成物を提供することにある。

【０００７】本発明の他の目的は、露光、現像工程によ
りアライメントマーク部の散乱をなくし、正確な位置合
わせを可能にする感放射線性を備えた硬化性組成物を提
供することにある。本発明のさらに他の目的は、本発明
の光散乱性膜形成用感放射線性組成物から形成された光
散乱性膜を提供することにある。本発明のさらに他の目
的および利点は、以下の説明から明らかになろう。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の目的および利点は、第一に、（Ａ）（ａ１）不飽和カ
ルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から
選ばれる少なくとも１種のカルボン酸化合物、（ａ２）
エポキシ基含有不飽和化合物および（ａ３）前記化合物
（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン性不飽和化合
物の共重合体、（Ｂ）光散乱性物質、（Ｃ）多官能モノ
マーおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴と
する感放射線性光散乱性膜形成用組成物（以下、「第１
発明」という。）によって達成される。

【０００９】本発明の上記目的および利点は、第二に、
本発明の光散乱性膜形成用感放射線性組成物から形成さ
れた光散乱性膜（以下、「第２発明」という。）によっ
て達成される。なお、本発明で「放射線」という語は、
紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線、分子線、γ線、シン
クロトロン放射線、プロトンビーム線等を含む概念で用
いられる。

【００１０】以下、第１発明の光散乱性膜用感放射線性
組成物の各成分について説明する。共重合体（Ａ） 共重合体（Ａ）は、化合物（ａ１）、（ａ２）および
（ａ３）の共重合体である。化合物（ａ１）は、不飽和
カルボン酸または不飽和カルボン酸無水物である。化合
物（ａ１）としては、たとえばアクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸の如き不飽和モノカルボン酸；マレイン
酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸
の如き不飽和ジカルボン酸；およびこれら不飽和ジカル
ボン酸の無水物が挙げられる。これらのうち、アクリル
酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が、共重合反応性、
アルカリ水溶液に対する溶解性、および、入手が容易で
ある点から好ましく用いられる。これらの化合物（ａ
１）は単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いら
れる。

【００１１】共重合体（Ａ）は、化合物（ａ１）から誘
導される構成単位を、好ましくは１〜５０重量％、とく
に好ましくは５〜４０重量％含有している。この範囲に
おいて、共重合体（Ａ）は、平坦化性、密着性、塗布性
および耐熱性において最適の性能を示すこととなる。上
記化合物（ａ２）は、エポキシ基含有不飽和化合物であ
る。

【００１２】化合物（ａ２）としては、例えば（メタ）
アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２-メチル
グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ
−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアク
リル酸グリシジルの如き（メタ）アクリル酸グリシジル
エステルおよびその誘導体類；および（メタ）アクリル
酸−３,４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸−４,
５−エポキシペンチル、（メタ）アクリル酸−６,７−
エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６,７−エ
ポキシヘプチルの如き不飽和エポキシ化合物を挙げるこ
とができる。これらのうち、（メタ）アクリル酸グリシ
ジル、（メタ）アクリル酸２-メチルグリシジルが共重
合反応性、平坦化性等の面から好ましく用いられる。こ
れらの化合物（ａ２）は単独で、あるいは２種以上を組
み合わせて用いられる。

【００１３】共重合体（Ａ）は、化合物（ａ２）から誘
導される構成単位を、好ましくは５〜８０重量％、とく
に好ましくは７〜７０重量％含有している。この範囲に
おいて、共重合体（Ａ）は、平坦化性、耐熱性および密
着性において最適の性能を示す。化合物（ａ３）は化合
物（ａ１）、（ａ２）と異なるオレフィン性不飽和化合
物である。

【００１４】化合物（ａ３）としては、例えば（メタ）
アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メ
タ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチ
ルヘキシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）ア
クリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシク
ロ［５.２.１.０^2,6］デカン−８−イル（当該技術分野
で慣用名として（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル
といわれている）、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタ
ニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸イソボロニルの
如き（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレン
の如きビニル芳香族系化合物；インデン、１−メチルイ
ンデンの如きインデン誘導体；フェニルマレイミド、ベ
ンジルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ス
クシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−ス
クシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スク
シンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スク
シンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−
（９−アクリジル）マレイミドの如きジカルボニルイミ
ド誘導体；およびブタジエン、イソプレンの如き共役ジ
エン類を挙げることができる。これらのうち、（メタ）
アクリル酸エステル類、ジカルボニルイミド誘導体が密
着性、平坦化性等の点から好ましく用いられる。これら
の化合物（ａ３）は単独で、あるいは２種以上を組み合
わせて用いられる。

【００１５】共重合体（Ａ）は、化合物（ａ３）から誘
導される構成単位を、好ましくは１〜４０重量％、とく
に好ましくは２〜３５重量％含有している。この範囲に
おいて、共重合体（Ａ）は、密着性、平坦化性等におい
て最適の性能を示す。共重合体（Ａ）のポリスチレン換
算重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは３,０００〜
３００,０００、より好ましくは３,０００〜１００,０
００、特に好ましくは、３,０００〜５０,０００の範囲
である。共重合体（Ａ）に、この範囲のＭｗを採用する
ことによって、硬化後の膜の平坦化性、透明性、保存安
定性、密着性、光散乱能、現像性等の諸性能が、優れた
バランスを示す。

【００１６】（Ｂ）光散乱性物質 （Ｂ）光散乱性物質は、反射光を散乱し、液晶表示パネ
ルの正面輝度を高める作用を持つ物質である。光散乱性
物質（Ｂ）としては、例えば無機酸化物粒子、有機粒
子、鉱物粒子および金属粒子を挙げることができる。無
機酸化物粒子としては、例えばシリカ、チタニア、アル
ミナを挙げることができる。

【００１７】有機粒子としては、ポリスチレン、スチレ
ン／イソプレン共重合体、スチレン／ジビニルベンゼン
共重合体等のスチレン系有機粒子；ポリメタクリル酸メ
チル、ポリメタクリル酸エチル、ポリメタクリル酸ブチ
ル、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポ
リアクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル／メタクリル
酸ブチル共重合体等のアクリル系有機粒子；ポリアクリ
ロニトリル、アクリロニトリル／塩化ビニリデン共重合
体等のアクリロニトリル系有機粒子；ベンゾグアナミン
重合体、メラミン重合体、ベンゾグアナミン／メラミン
共重合体等のベンゾグアナミン系またはメラミン系有機
粒子；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等の
ポリオレフィン系有機粒子；エチレン／メタクリル酸メ
チル共重合体、エチレン／メタクリル酸エチル共重合
体、エチレン／メタクリル酸ブチル共重合体、エチレン
／アクリル酸メチル共重合体、エチレン／アクリル酸エ
チル共重合体、エチレン／アクリル酸ブチル共重合体等
のエチレン／アクリル系有機粒子；ポリテトラフルオロ
エチレン等のフッ素系有機粒子；ポリウレタン系有機粒
子；ナイロン系有機粒子；セルロース、酢酸セルロー
ス、キトサン、アルギン酸カルシウム等の天然物系有機
粒子等が挙げられる。鉱物粒子としては、例えば雲母を
挙げることができる。また金属粒子としては、例えばア
ルミニウム、錫、金の如き金属の金属粉を挙げることが
できる。これらのうち、無機酸化物粒子は、屈折率が
（Ａ）成分と大きく異なり、光散乱効果が大きい点で好
ましい。無機酸化物粒子としてはシリカが特に好ましく
用いられる。

【００１８】また、有機粒子は、散乱角の比較的小さな
範囲で、大きな散乱強度を得ることができるため、半透
過型または反射型液晶ディスプレイにおいて、優れた散
乱効果を示し、高い正面輝度を実現する。これらのう
ち、スチレン系有機粒子、アクリル系有機粒子が、大き
な散乱強度を得られる点で好ましく用いることができ
る。（Ｂ）光散乱性物質の形状は、光散乱性がある限り
いづれでも使用できるが、球形および略球形が好まし
い。粒径としては、０.０１〜２０μｍが好ましく、と
くに好ましくは、０.３〜１０μｍである。このような
形状、サイズの光散乱性物質を使用することでパネル正
面輝度を有効に向上させることができる。

【００１９】このような（Ｂ）光散乱性物質の市販品と
しては、シリカ等の無機酸化物粒子としては、ニップシ
ールＳＳ−１０、同ＳＳ−１５、同ＳＳ−１０Ａ、同Ｓ
Ｓ−２０、同ＳＳ―３０Ｓ、同ＳＳ−３０Ｐ、同ＳＳ−
３０Ａ、同ＳＳ−４０、同ＳＳ−５０、同ＳＳ−７０、
同ＳＳ−７２Ｆ、同ＳＳ−１１５、同ＳＳ―１７０Ｘ、
同Ｅ−７５、同Ｅ−１５０、同Ｅ−２００Ａ、同Ｅ−２
２０Ａ、同Ｋ−３００（以上、日本シリカ工業（株）
製）、サイリシア２５０、同２５０Ｎ、同２５６、同２
５６Ｎ、同３１０、同３２０、同３５０、同３５８、同
４３０、同４３１、同４４０、同４５０、同４７０、同
４３５、同４４５、同４３６、同４４６、同４５６、同
５３０、同５４０、同５５０、同７３０、同７４０、同
７７０（以上、富士シリシア化学（株）製）、ミクロパ
ール（積水ファインケミカル（株）製）、トスパール１
０５、同１２０、同１３０、同１４５、同３１２０、同
２４０（以上、東芝シリコ−ン（株）製）、 ＡＥＲＯ
ＳＩＬ１３０、同２００、同２００Ｖ、同２００ＣＦ、
同２００ＦＡＤ、同３００、同３００ＣＦ、同３８０、
同Ｒ９７２、同Ｒ９７４、同ＲＸ２００、同ＲＹ２０
０、同Ｒ２０２、同Ｒ８０５、同Ｒ８１２、同ＯＸ５
０、同ＴＴ６００、同ＭＯＸ１７０、同ＣＯＫ８４（以
上、日本アエロジル（株）製）；これら有機粒子の市販
品としては、スチレン系有機粒子として、ＰＢ２００
Ｈ、同２００Ｐ（以上、花王（株）製）、テクポリマー
ＳＢＸシリーズ、同ＳＢＰシリーズ（以上、積水化成品
工業（株）製）、ＳＧＰシリーズ（綜研化学（株）
製）、ＳＴＡＤＥＸシリーズ、ＣＬＩＮＴＥＸシリーズ
（以上、ＪＳＲ（株）製）、ニポールシリーズ（日本ゼ
オン（株）製）、ニッペマイクロジェルＳ−５００１、
同Ｓ−５００４、同Ｐ−５００１、同Ｐ−３１０１（以
上、日本ペイント（株）製）、ＳＧＰ−３Ｇ（綜研化学
（株）製）、 ＰＢ２００Ｃ、同２００Ｄ（以上、花王
（株）製）、ミクロパールシリーズ（積水ファインケミ
カル（株）製）等を、アクリル系有機粒子としては、テ
クポリマーＭＢシリーズ、同ＭＢＸシリーズ、同ＭＢＰ
シリーズ、同ＥＭＡシリーズ、同ＢＭＸシリーズ（以
上、積水化成品工業（株）製）、ＭＲシリーズ、ＭＰシ
リーズ（綜研化学（株）製）、ニッペマイクロジェルＳ
−５００２、Ｓ−５００３、Ｓ−５００５、Ｓ−５１０
１、Ｓ−５１０２、Ｐ−５００２、Ｐ１１０１（以上、
日本ペイント（株）製）、ジュリマーＭＢシリーズ（日
本純薬（株）製）、マツモトマイクロスフェアーＭシリ
ーズ（松本油脂製薬（株）製）、アコジェルシリーズ
（三井サイアナミット（株）製）、エポスターＭＡ１０
０１、同ＭＡ１００２、同ＭＡ１００４、同ＭＡ１００
６、同ＭＡ１０１０、同ＭＡ１０１３、エポカラーＭＡ
シリーズ（以上、日本触媒（株）製）等を、それぞれ例
示することができる。

【００２０】雲母等の鉱物類としては、天然雲母および
合成マイカパール顔料、アルテミカＳＡ−１００、同Ｓ
Ｂ−１００、同ＹＢ−１００、同ＢＢ−１００（以上、
日本光研工業（株）製）等が挙げられる。（Ｂ）光散乱
性物の添加量は、共重合体（Ａ）１００重量部あたり、
好ましくは１〜１００重量部であり、より好ましくは３
〜８０重量部である。この範囲で、透明性と光散乱性の
バランスに優れた光散乱板を与えることができる。ま
た、（Ｂ）光散乱性物を共重合体（Ａ）中に有効に分散
せしめるために、分散剤を併用することができる。この
ような分散剤としては、例えばシランカップリング剤、
ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリ
オキシエチレンのエーテル類およびポリエチレングリコ
ールのエステル類が挙げられるが、このうちでもシラン
カップリング剤、ウレタン系分散剤が好ましく用いられ
る。

【００２１】上記シランカップリング剤としては、例え
ばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート
基、エポキシ基の如き反応性置換基を有するシランカッ
プリング剤が挙げられる。具体的にはトリメトキシシリ
ル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス
（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエ
チル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシ
アナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、β−（３,４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランが挙げら
れる。

【００２２】ウレタン系分散剤としては、芳香族ジイソ
シアナート類と片末端に水酸基を有するポリラクトン類
および／または両末端に水酸基を有するポリラクトン類
との反応生成物が好ましく、特に、トリレンジイソシア
ナート類と片末端に水酸基を有するポリカプロラクトン
および／または両末端に水酸基を有するポリカプロラク
トンとの反応生成物が好ましい。これらウレタン系分散
剤の具体例としては、商品名で、ＥＦＫＡ（エフカーケ
ミカルズビーブイ（ＥＦＫＡ）社製）、Ｄｉｓｐｅｒｂ
ｙｋ(ビックケミー（ＢＹＫ）社製）、ディスパロン
（楠本化成（株）製）等を挙げることができる。

【００２３】上記分散剤を使用する場合の使用量は、
（Ｂ）光散乱性物質１００重量部に対して、好ましくは
１００重量部以下、より好ましくは０.０１〜７０重量
部である。この範囲の使用量において、（Ｂ）光散乱性
物質を（Ａ）成分中に有効に分散せしめ、しかも形成後
の光散乱性膜の透明性、耐熱性、平坦化性等の物性を損
なうことがない。上記（Ｃ）成分である多官能性モノマ
ーは、重合可能なエチレン性不飽和結合を２個以上有
し、後述の（Ｄ）光重合開始剤に光照射したとき発生す
るラジカル種によって重合しうる単量体からなる。本発
明で用いられる多官能性モノマー（Ｃ）としては、２官
能または３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく
用いられる。

【００２４】上記２官能（メタ）アクリレートとして
は、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、
１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,
９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキ
シエタノールフルオレンジアクリレートが挙げられる。
その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１０、
同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同
Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２
６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工
業（株）製）が挙げられる。

【００２５】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートが挙げられる。その市販品としては、例えばア
ロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０２、
同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−
８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−１３１０、同ＴＯ−
１４５０,同Ｍ−１６００、同Ｍ−１９６０、同Ｍ−８
１００、同Ｍ−８５３０、同Ｍ−８５６０、同Ｍ−９０
５０、同ＴＯ−１４５０（以上、東亞合成（株）製）、
ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ
−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰ
ＣＡ−１２０、同ＭＡＸ−３５１０（以上、日本化薬
（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、
同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工
業（株）製）が挙げられる。これらの２官能または３官
能以上の（メタ）アクリレートは、単独であるいは組み
合わせて用いられる。

【００２６】（Ｃ）成分の使用量は、（Ａ）成分１００
重量部あたり、好ましくは、１０〜２００重量部、より
好ましくは２０〜１５０重量部である。この範囲の使用
量において、高耐熱性、高平坦化性、高透過率、密着性
および耐薬品性に優れた光散乱性膜を与える。本発明で
用いられる感放射線性ラジカル発生剤（Ｄ）としては、
感放射線性ラジカル重合開始剤を挙げることができる。

【００２７】感放射線ラジカル重合開始剤としては、例
えばベンジル、ジアセチルの如きα−ジケトン類；ベン
ゾインの如きアシロイン類；ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルの如きアシロインエーテル類；チオキサント
ン、２,４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンの如きベンゾフェノ
ン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノ
ン、２,２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンの如
きアセトフェノン類；アントラキノン、１,４−ナフト
キノンの如きキノン類；フェナシルクロライド、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジンの如きハロゲン化合物；２,４,６
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ド、ビス（２,６−ジメトキシベンゾイル）−２,４,４
−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス
（２,４,６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィ
ンオキサイドの如きアシルホスフィンオキサイド；およ
びジ−ｔ−ブチルパーオキサイドの如き過酸化物が挙げ
られる。

【００２８】これら感放射線ラジカル重合開始剤の市販
品としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３
６９、同５００、同６５１、同９０７、同１７００、同
８１９、同１２４、同１０００、同２９５９、同１４
９、同１８００、同１８５０、Ｄａｒｏｃｕｒ−１１７
３、同１１１６、同２９５９、同１６６４、同４０４３
（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ｋ
ＡＹＡＣＵＲＥ−ＤＥＴＸ 、同 ＭＢＰ、同 ＤＭＢ
Ｉ 、同 ＥＰＡ、同 ＯＡ（以上、日本化薬（株）
製）、ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ Ｃｏ.ＬＴ
Ｄ 製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡ
ＵＦＦＥＲ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＴＲＩＧＯＮＡＬＰ
１（ＡＫＺＯ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＳＡＮＤＯＲＡＹ
１０００（ＳＡＮＤＯＺ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＤＥ
ＡＰ（ＡＰＪＯＨＮ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＱＵＡＮＴ
ＡＣＵＲＥ−ＰＤＯ、同 ＩＴＸ、同 ＥＰＤ（以上、
ＷＡＲＤＢＬＥＫＩＮＳＯＰ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）が挙
げられる。また、これら感放射線ラジカル重合開始剤と
感放射線増感剤とを併用することによって酸素による失
活の少ない、高感度の感放射線性樹脂組成物を得ること
も可能である。

【００２９】（Ｄ）重合開始剤の使用量は、（Ｃ）多官
能性モノマー１００重量部に対して、好ましくは、０.
０１〜６０重量部、より好ましくは０.５〜５０重量
部、さらに好ましくは１〜４０重量部である。

【００３０】その他の添加剤 第１発明の光散乱性膜形成用組成物には、必要に応じて
上記以外の添加剤を含有させることができる。たとえ
ば、組成物の塗布性等を改善するために、界面活性剤を
配合することができる。界面活性剤としては、例えばフ
ッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を好適
に用いることができる。

【００３１】フッ素系界面活性剤としては、少なくとも
１個のフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を
有する化合物を好ましく用いることができる。その具体
例としては、１,２,２,２−テトラフルオロオクチル
（１,１,２,２−テトラフルオロプロピル）エーテル、
１,２,２,２−テトラフルオロヘキシルエーテル、オク
タエチレングリコールジ（１,１,２,２−テトラフルオ
ロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ
（１,１,２,２,３,３−ヘキサフルオロペンチル）エー
テル、オクタプロピレングリコールジ（１,１,２,２−
テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサプロピレング
リコールジ（１,１,２,２,３,３−ヘキサフルオロペン
チル）エーテル、パーフルオロドデシルスルホン酸ナト
リウム、１,１,２,２,８,８,９,９,１０,１０−デカフ
ルオロドデカン、１,１,２,２,３,３−ヘキサフルオロ
デカン等を挙げることができる。この他にも、フルオロ
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム類、フルオロア
ルキルオキシエチレンエーテル類、ジグリセリンテトラ
キスフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル類、
パーフルオロアルキルポリオキシエタノール類、パーフ
ルオロアルキルアルコキシレート類、フッ素系アルキル
エスエル類も好適に用いることができる。

【００３２】これらフッ素系界面活性剤の市販品として
は、例えばＢＭ−１０００,ＢＭ−１１００（以上、Ｂ
Ｍ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、エフトップＥＦ３０１、同３
０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガフ
ァックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同１７２、同１７３、
同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以
上、大日本インキ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、
同４３１、同１７０Ｃ、同ＦＣ１７１、同ＦＣ４３０、
同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサ
ヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１
０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（以
上、旭硝子（株）製）が挙げられる。

【００３３】またシリコーン系界面活性剤としては、例
えばオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学
工業（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸系
（共）重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（以上、共栄
社化学（株）製）、ＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ
１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２
９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＦＳ−１２６５−３００
（以上、東レダウコーニングシリコーン（株）製）、Ｔ
ＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４
５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４
４５２（以上、東芝シリコーン（株）製）の市販品を挙
げることができる。

【００３４】また、上記のフッ素系界面活性剤およびシ
リコーン系界面活性剤の他、ポリオキシエチレンラウリ
ルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、
ポリオキシエチレンオレイルエーテルの如きポリオキシ
エチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオク
チルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエーテルの如きポリオキシエチレンアリールエーテ
ル類、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチ
レングリコールジステアレートの如き、ポリエチレング
リコールジアルキルエステル類も好適に用いることがで
きる。これらの界面活性剤は単独でまたは２種類以上を
組み合わせて使用することができる。

【００３５】これらの界面活性剤の使用割合は、その種
類や硬化剤組成物を構成する各成分の種類や割合によっ
ても異なるが、成分（Ａ）１００重量部に対して、好ま
しくは０〜１０重量部、より好ましくは０.０００１〜
５重量部の範囲である。また第１発明の組成物には基板
または下層との密着性を改良するための接着助剤を配合
することもできる。さらに第１発明の組成物には、必要
に応じて保存安定剤、消泡剤等を配合することができ
る。

【００３６】溶剤 第１発明の光散乱性膜用硬化性組成物は、固形分濃度が
好ましくは１０〜５０重量％となるように溶媒に均一に
分散した状態に調製される。この際に用いられる溶剤と
しては、ジアセトンアルコール、プロピレングリコール
の如きアルコール類；エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルの如き
グリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、
エチルセロソルブアセテートの如きエチレングリコール
アルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルの如きジエチレングリコールアルキルエーテル
類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ートの如きプロピレングリコールアルキルエーテルアセ
テート類；トルエン、キシレンの如き芳香族炭化水素
類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプ
タノン、メチルイソブチルケトンの如きケトン類、２−
ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン
酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エ
チル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒ
ドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３
−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキ
シブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブ
チルブチレート、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３
−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオ
ン酸ブチルの如きエステル類を用いることができる。こ
れらの溶剤は、単独でまたは混合して用いることができ
る。

【００３７】さらに必要に応じて、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、アセ
トニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル
酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアル
コール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエ
チル、マレイン酸ジエチル、γ− ブチロラクトン、炭
酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセ
テート、カルビトールアセテートの如き高沸点溶剤を添
加することもできる。

【００３８】光散乱性膜の形成方法 次に、第１発明の光散乱性膜形成用感放射線性組成物を
用いて第２発明の光散乱性膜を形成する方法について述
べる。第２発明の光散乱性膜は、基体上に形成された平
坦化膜上に、第２膜として形成してもよく、あるいは平
坦化膜形成用組成物に第１発明の光散乱性膜形成用感放
射線性組成物を用い、平坦化膜に光散乱機能を具備させ
てもよい。第２発明の光散乱性膜を形成するには、ま
ず、第１発明の光散乱性膜形成用感放射線性組成物を基
体の表面に塗布し、予備焼成を行うことにより溶剤を除
去して硬化性組成物の塗膜を形成する。次に加熱された
塗膜に所定パターンのマスクを介して放射線を照射した
後、現像液により現像し、アライメントマーク部等の不
要な部分を除去する。

【００３９】現像液としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウ
ム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水の如き無機ア
ルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンの如き第
一級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミ
ンの如き第二級アミン類；トリエチルアミン、メチルジ
エチルアミン、Ｎ−メチルピロリドンの如き第三級アミ
ン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミ
ンの如きアルコールアミン類；テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ド、コリンの如き第四級アンモニウム塩；ピロール、ピ
ペリジン、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−
ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ［４.３.０］−５
−ノナンの如き環状アミン類であるアルカリ類からなる
アルカリ水溶液を用いることができる。

【００４０】また上記アルカリ水溶液に、メタノール、
エタノールなどの水溶性有機溶媒、界面活性剤などを適
当量添加した水溶液を現像液として使用することもでき
る。現像時間は、好ましくは３０〜１８０秒間である。
また現像方法は液盛り法、ディッピング法などのいずれ
でもよい。現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、圧
縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基板上の
水分を除去し、パターン状被膜が形成される。その後、
本焼成を行い第２発明の光散乱性膜とする。

【００４１】上記において、第１発明の光散乱性膜形成
用組成物の塗布方法としては、とくに限定されず、例え
ばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法の如き適宜
の方法を採用できる。予備焼成の条件は、組成物溶液の
各成分の種類、使用割合等によっても異なるが、好まし
くは、６０〜１２０℃で３０秒〜２０分間程度である。
本焼成の条件としては、好ましくは１５０〜２５０℃で
３０分〜２時間程度が採用される。また、予備焼成およ
び本焼成のそれぞれは、１段階でまたは２段階以上の工
程に分けて行うことができる。

【００４２】本発明の光散乱性膜形成用感放射線性組成
物は、上記のように、簡単な工程で光散乱性膜を形成す
ることができる。また、本発明の光散乱性膜は、以下の
実施例から明らかなように、透明性が高く、しかも効率
よく光を散乱する性質を具備しており、しかも平坦化膜
または保護膜とても各種の物性に優れたものである。

【００４３】

【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。

【００４４】合成例１（共重合体（Ａ１）の合成） （ａ１）成分としてアクリル酸を２０重量部、（ａ２）
成分としてメタクリル酸グリシジルを４５重量部、（ａ
３）成分としてスチレン２０重量部とメタクリル酸ジシ
クロペンタニル１５重量部をジエチレングリコールエチ
ルメチルエーテル２００重量部中に添加混合し、アゾビ
スバレロニトリル（ＡＤＶＮ）４重量部を添加した後、
７０℃で５時間重合し、共重合体（Ａ１）濃度が３３重
量％である重合体溶液を得た。共重合体（Ａ１）のポリ
スチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は６,０００であ
った。

【００４５】合成例２（共重合体（Ａ２）の合成） （ａ１）成分としてメタクリル酸を２０重量部、（ａ
２）成分としてメタクリル酸２−メチルグリシジルを４
５重量部、（ａ３）成分としてスチレン２０重量部とフ
ェニルマレイミド１５重量部をジエチレングリコールエ
チルメチルエーテル２００重量部中に添加混合し、アゾ
ビスバレロニトリル（ＡＤＶＮ）４重量部を添加した
後、７０℃で５時間重合し、共重合体（Ａ１）濃度が３
３重量％である重合体溶液を得た。共重合体（Ａ１）の
ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８,０００
であった。

【００４６】実施例１ 上記合成例１で合成した共重合体（Ａ１）を含む溶液
（共重合体（Ａ１）１００重量部（固形分）に相当）に
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを
加え、総量３５０重量部の溶液とした後、シランカップ
リング剤としてγ―グリシドキシプロピルジエトキシシ
ラン１０重量部、成分（Ｂ）としてトスパール１２０
（東芝シリコーン（株）製）２０重量部、成分（Ｃ）と
してジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞
合成（株）製）６０重量部、成分（Ｄ）として２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフ
ェニル）−ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チ
バ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）２５重量部、
ＳＨ２８ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン（株）
製）０.０４重量部を添加し十分に攪拌した後、孔径１
０μｍのポリフロン製フィルターを用いて濾過し、硬化
性組成物（Ｓ１）を得た。

【００４７】光散乱性膜の形成 ガラス基板上に、上記の光散乱性膜形成用組成物（Ｓ
１）を膜厚が６μｍとなるようにスピンコータを用いて
塗布し、ホットプレートにより８０℃５分間予備焼成を
行って塗膜を形成した。上記で得られた塗膜に所定パタ
ーンマスクを用いて３６５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃ
ｍ²である紫外線を３０秒間照射した。この際の紫外線
照射は酸素雰囲気下（空気中）で行った。次いでテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド０.１４重量％水溶液
で２５℃で１分間現像した後、純水で１分間リンスし
た。これらの操作により、不要な部分を除去することが
できた。その後、塗膜が形成された基板を、クリーンオ
ーブン中２３０℃３０分間の条件で本焼成し、光散乱性
膜を得た。

【００４８】光散乱性膜の評価 密着性 ＪＩＳ Ｋ−５４００（１９００）８.５の付着性試験
のうち、８.５・２の碁盤目テープ法にしたがって、上
記で形成した光散乱性膜に１００個の碁盤目をカッター
ナイフで形成して付着性試験を行った。その際、残った
碁盤目の数を表１に示す。 透明性およびヘイズ測定 上記で形成した光散乱性膜について、Ｈａｚｅ ｇａｒ
ｄ ｐｌａｓ装置＜型番Ｃａｔ．Ｎｏ４７２５＞（ＢＹ
Ｋ Ｇａｒｄｎｅｒ（株）製）にて透明性（積算透過
率）とＨａｚｅを測定した。結果を表１に示す。 平坦化性 上記で形成した光散乱性膜について、接触式膜厚測定装
置α-ステップ（テンコールジャパン（株）製）にて表
面平滑性を測定した。測定長さ２ｍｍで膜厚を測定した
際の、最大値と最小値の差を表１に示す。 耐熱性；上記で形成した光散乱性膜について、接触式膜
厚測定装置α−ステップ（テンコールジャパン（株）
製）にて膜厚測定後、クリーンオーブンにて２５０℃６
０分の追加ベークを実施した。追加ベーク後、再度膜厚
を測定して、追加ベーク前後の膜残り率を計算した。結
果を表１に示す。

【００４９】ＩＴＯ膜の形成 前記と同様に形成した光散乱性膜上に、スパッタリング
装置により、約３,０００オングストロームのＩＴＯ膜
を成膜した。（このようにして形成した、ガラス基板上
に光散乱性膜を有し、さらにその上にＩＴＯ膜を有する
基板を、以後、ＩＴＯスパッタ基板という。）

【００５０】ＩＴＯ膜の薬品耐性評価 耐アルカリ性 上記のように形成したＩＴＯスパッタ基板を５％ＮａＯ
Ｈ水溶液中に、６０℃３０分浸漬し、浸漬後の基板につ
いてＩＴＯ膜の密着性を、前記の光散乱性膜の密着性試
験に準じて評価した。結果を表１に示す。耐酸性前記の
ように形成したＩＴＯスパッタ基板をＨＣｌ/ＦｅＣｌ₂
・６Ｈ₂Ｏ/Ｈ₂Ｏ＝２：２：１（重量比）中に、４５℃
１５分浸漬し、浸漬後の基板についてＩＴＯ膜の密着性
を、前記の光散乱性膜の密着性試験に準じて評価した。
結果を表１に示す。 耐Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）性 前記のように形成したＩＴＯスパッタ基板をＮ−メチル
ピロリドン（ＮＭＰ）中、４０℃３０分浸漬し、浸漬後
の基板についてＩＴＯ膜の密着性を、前記の光散乱性膜
の密着性試験に準じて評価した。結果を表１に示す。 耐湿性 前記のように形成したＩＴＯスパッタ基板を６０℃、湿
度９０％の恒温恒湿槽中に２４時間放置し、放置後の基
板についてＩＴＯ膜の密着性を、前記の光散乱性膜の密
着性試験に準じて評価した。結果を表１に示す。

【００５１】実施例２ 実施例１において、共重合体（Ａ１）を含む溶液の代わ
りに前記合成例２で合成した共重合体（Ａ２）を含む溶
液（共重合体（Ａ２）１００重量部（固形分）に相当）
を用い、成分（Ｃ）としてジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートのかわりにアロニックスＴＯ−１４５０
を使用した他は実施例１と同様に実施し、光散乱性膜形
成用組成物（Ｓ２）得た。（Ｓ１）の代わりに（Ｓ２）
を用いて実施例１と同様にして光散乱性膜、およびＩＴ
Ｏスパッタ基板を形成し、評価した。結果を表１に示
す。

【００５２】実施例３ 上記合成例１で合成した共重合体（Ａ１）を含む溶液
（共重合体（Ａ１）１００重量部（固形分）に相当）を
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２
５０重量部で希釈した後、シランカップリング剤として
γ―グリシドキシプロピルジエトキシシラン１０重量
部、成分（Ｂ）としてニップシールＳＳ−２０（日本シ
リカ工業（株）製）２０重量部、成分（Ｃ）としてジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成
（株）製）６０重量部、成分（Ｄ）として２−メチル−
１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ
プロパン−１−オン（イルガキュア９０７；チバ・スペ
シャルティー・ケミカルズ社製）３０重量部、２,４−
ジエチルチオキサントン５重量部を添加して十分に攪拌
した後、孔径１０μｍのポリフロン製フィルターを用い
て濾過し、硬化性組成物（Ｓ３）を得た。（Ｓ１）の代
わりに（Ｓ３）を用いて実施例１と同様にして光散乱性
膜、およびＩＴＯスパッタ基板を形成し、評価した。結
果を表１に示す。

【００５３】実施例４ 実施例３において、共重合体（Ａ１）を含む溶液の代わ
りに前記合成例２で合成した共重合体（Ａ２）を含む溶
液（共重合体（Ａ２）１００重量部（固形分）に相当）
を用い、成分（Ｂ）としてニップシールＳＳ−２０のか
わりにトスパール１２０を使用した他は実施例３と同様
に実施し、光散乱性膜形成用組成物（Ｓ４）を得た。
（Ｓ１）の代わりに（Ｓ４）を用いて実施例１と同様に
して光散乱性膜、およびＩＴＯスパッタ基板を形成し、
評価した。結果を表１に示す。

【００５４】実施例５ 実施例１において、光散乱性粒子としてのトスパール１
２０ ２０重量部の代わりにアクリル系粒子「テクポリ
マーＭＢ２０Ｘ−５」（商品名、積水化成品工業（株）
製）２０重量部を使用した他は実施例１と同様に実施
し、光散乱性膜形成用組成物（Ｓ５）を得た。（Ｓ１）
の代わりに（Ｓ５）を用いて実施例１と同様にして光散
乱性膜、およびＩＴＯスパッタ基板を形成し、評価し
た。結果を表１に示す。

【００５５】実施例６ 実施例１において、光散乱性粒子としてのトスパール１
２０ ２０重量部の代わりにスチレン系粒子「テクポリ
マーＳＢＸ−６」（商品名、積水化成品工業（株）製）
２０重量部を使用した他は実施例１と同様に実施し、光
散乱性膜形成用組成物（Ｓ６）を得た。（Ｓ１）の代わ
りに（Ｓ６）を用いて実施例１と同様にして光散乱性
膜、およびＩＴＯスパッタ基板を形成し、評価した。結
果を表１に示す。

【００５６】

【表１】

【００５７】上記実施例で明らかなように、本発明の光
散乱性膜は、高い透明性と高いヘイズを具備しており、
半透過型および反射型液晶ディスプレイのセル内に設け
る光散乱性膜として好適な性能を示し、かつ、平坦化
膜、保護膜としての性能をも具有することが分かる。

【００５８】

【発明の効果】本発明によれば、半透過型および反射型
液晶ディスプレイにおける反射光を効率よく散乱し、均
一で正面輝度の高い面照明を実現し、かつ平坦化性、耐
熱性および耐薬品性に優れ、ＩＴＯ膜との密着性が高い
光散乱性膜を与えることのできる組成物が提供される。
この組成物は露光、現像工程によりアライメントマーク
部の散乱膜なくし、正確な位置合わせを可能にする感放
射線性硬化性組成物である。また、上記組成物から効率
の良い光散乱性膜が形成される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 220/00 Ｃ０８Ｆ 220/00 ４Ｊ０２６ 291/10 291/10 ４Ｊ１００ Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ａ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ 7/027 ５１５ 7/027 ５１５ 7/11 ５０３ 7/11 ５０３ (72)発明者 遠藤 昌之 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA06 AA07 AA08 AA10 AA14 AB17 AC01 AD01 BC42 CA01 CA14 CA18 CA28 CA35 CB41 CB43 CC20 FA03 FA17 FA29 2H042 BA02 BA12 BA14 BA20 2H091 FA16Y FB02 FB04 FC22 FC23 GA03 LA16 4D075 BB42Z CA13 CA18 CA44 CA48 CB03 CB06 DA06 DB13 DC24 EA07 EA21 EB12 EB14 EB20 EB22 EB24 EB33 EC60 4J011 PA07 PA13 PA53 PA64 PA65 PA66 PA69 PA70 PA76 PA85 PA86 PA95 PA96 PB16 PB40 PC08 QA12 QA13 QA22 QA23 QA24 QA33 QA42 QA46 SA01 SA02 SA12 SA21 SA22 SA31 SA41 SA51 SA64 SA74 SA84 TA08 TA09 TA10 UA01 VA01 WA01 WA02 4J026 AA02 AA11 AA12 AA13 AA14 AA17 AA26 AA43 AA45 AA48 AA49 AA53 AA54 AA69 AB01 AB02 AB28 AC18 AC24 BA28 BB01 DA08 DA12 DB06 DB36 FA05 GA07 GA08 4J100 AB00R AB02R AB03R AB04R AJ01P AJ02P AJ08P AJ09P AK31P AK32P AL03R AL04R AL08R AL10Q AL16Q AM47R AM48R AR10R AS02R AS03R BA04R BC04R BC08R BC28R BC43R BC54Q CA05 FA03 JA39

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および
   不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なく
   とも１種のカルボン酸化合物、（ａ２）エポキシ基含有
   不飽和化合物および（ａ３）前記化合物（ａ１）および
   （ａ２）以外のオレフィン性不飽和化合物の共重合体、
   （Ｂ）光散乱性物質、（Ｃ）多官能モノマーおよび
   （Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする光散乱
   性膜形成用感放射線性組成物。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の感放射線性組成物から
   形成された光散乱性膜。