JPH07271020A - ブラックマトリックス形成用感光性組成物、カラーフィルター基板及びそれを用いた液晶表示装置 - Google Patents

ブラックマトリックス形成用感光性組成物、カラーフィルター基板及びそれを用いた液晶表示装置

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JPH07271020A
JPH07271020A JP4888894A JP4888894A JPH07271020A JP H07271020 A JPH07271020 A JP H07271020A JP 4888894 A JP4888894 A JP 4888894A JP 4888894 A JP4888894 A JP 4888894A JP H07271020 A JPH07271020 A JP H07271020A
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JP
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color filter
black matrix
liquid crystal
pigment
substrate
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Naoyuki Tsujimura
直行 辻村
Toshihiro Ueki
俊博 植木
Akira Ushimaru
晶 牛丸
Kesanao Kobayashi
袈裟直 小林
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International Business Machines Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
International Business Machines Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】(a)光重合性不飽和化合物、(b)光重合開
始剤、(c)バインダー及び(d)顔料を含む、ブラッ
クマトリックス形成用感光性組成物において、該顔料中
に不純物として含まれる1価の金属陽イオンの量が5p
pm以下であるブラックマトリックス形成用感光性組成
物;それから形成されたブラックマトリックス;透明基
板上に、カラーフィルターが形成されたカラーフィルタ
ー基板において、上記ブラックマトリックスが形成され
たカラーフイルター基板;及び、このブラックマトリッ
クスを使用した液晶表示装置。 【効果】液晶表示装置のブラックマトリックスを駆動回
路の表面に直接高い合わせ精度で形成できるため駆動電
極とブラックマトリックスの間で位置ずれを生ずること
がない。そのため、ブラックマトリックスの面積は必要
最小限に抑えられ、相対的に画素の開口率が広がる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置の遮光に
使用されるブラックマトリックス形成用感光性組成物、
それから得られるブラックマトリックス及びこれを有す
るカラーフィルター基板、更にブラックマトリックスを
形成した液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】カラー液晶表示装置は赤色(R)、緑色
(G)、青色(B)の画素がガラス基板上に規則的に配
列されたカラーフィルター基板を用いることによってカ
ラー画像が表示される。通常表示画像のコントラスト向
上のために、ブラックマトリックスと呼ばれる遮光性の
パターンが該画素と画素の間を埋めるように配列されて
カラーフィルターを形成している。ブラックマトリック
スの材料はクロームのような金属または金属酸化物膜、
あるいは顔料を含む樹脂膜等からなり、それらは主とし
てフォトリソグラフィー法によってパターン形成され
る。特開昭63−309916号公報には、顔料を分散
した感光性樹脂溶液を透明基板上に塗布し、露光、現像
することによってブラックマトリックスを形成する方法
が開示されている。特開平1−152449号公報に
は、ブラックマトリックスとカラーフィルターの画素を
同一基板上に形成する方法が開示されている。具体的に
は、光重合性感光性組成物にカーボンブラックを分散し
た顔料分散液をガラス基板表面に塗布し、露光・現像し
て、まずブラックマトリックスのパターンを形成し、そ
の表面に同様の方法でパターン形成を繰り返すことによ
って、R、G及びBの画素からなるカラーフィルター
を、ブラックマトリックスの開口部に重なるように形成
する。しかし、この顔料を含む樹脂膜からなるブラック
マトリックスの場合、クロームのような金属酸化膜で形
成したブラックマトリックスと比較して、液晶の比抵抗
が低下して液晶層の保持不良に起因する液晶表示装置の
動作不良を生じるという問題が発生した。
【0003】特開平2−166422号公報には、透明
基板上に複数の透明画素電極を形成し、前記画素電極の
間にブラックマトリックスを形成してなる液晶表示装置
が開示されている。この方式では、カラーフィルターと
ブラックマトリックスが対向する2枚の基板上に別々に
作られており、ブラックマトリックスは駆動電極の表面
にこれと接して配置されるため、ディスプレイの視野角
が変わっても駆動電極とブラックマトリックスの間で位
置ずれを生ずることがない。そのため、ブラックマトリ
ックスの面積は必要最小限に抑えられるので相対的に画
素の開口率が広がるという特長がある。しかし、駆動回
路の表面に顔料分散体から直接ブラックマトリックスを
形成するこの方式において、液晶表示装置の駆動素子で
ある薄膜トランジスター(TFT)あるいは薄膜ダイオ
ード(TFD、MIMとも呼ぶ)がしばしば誤作動する
という問題が発生した。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
表示装置の駆動側基板の表面に形成された駆動素子であ
るTFTあるいはTFDの表面にこれと接して形成され
た場合にも、TFTあるいはTFDの作動を劣化させる
ことなく、所望の遮光性を有するブラックマトリック
ス、それを与えるようなブラックマトリックス形成用感
光性組成物、及び該ブラックマトリックスを含むカラー
フィルター基板を提供することにある。さらに、本発明
の目的は、ブラックマトリックスの形成材料による液晶
の劣化を防止させた液晶表示装置を提供することにあ
る。またさらに、本発明の目的は、ブラックマトリック
スの形成材料によるTFT等の駆動素子の特性劣化を防
止させた液晶表示装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】発明者らは、ブラックマ
トリックスに使用される顔料分散体の顔料中に不純物と
して含まれる1価の金属陽イオンを洗浄除去することに
よって上記問題が解決されることを見いだし、本発明を
なすに至った。即ち、本発明は、(a)光重合性不飽和
化合物、(b)光重合開始剤、(c)バインダー及び
(d)顔料を含む、ブラックマトリックス形成用感光性
組成物において、該顔料中に不純物として含まれる1価
の金属陽イオンの量が5ppm以下であることを特徴と
するブラックマトリックス形成用感光性組成物;このブ
ラックマトリックス形成用感光性組成物から形成された
ブラックマトリックス;透明基板上に、カラーフィルタ
ーが形成されたカラーフィルター基板において、上記ブ
ラックマトリックスが形成されたことを特徴とするカラ
ーフイルター基板;及び、表示電極及び、前記表示電極
と電気的に接続されたスイッチング素子が形成されたア
レイ基板と、前記アレイ基板と所定の間隔を置いて対向
して設けられたカラーフィルター基板と、前記カラーフ
ィルター基板上に形成された共通電極と、前記アレイ基
板と前記カラーフィルター基板との前記所定の間隔内に
封止された液晶とを有する液晶表示装置において、前記
スイッチング素子上に、又は前記カラーフィルター基板
側に、前記ブラックマトリックスが形成されたことを特
徴とする液晶表示装置を提供するものである。
【0006】本発明に使用される成分(a)の光重合性
不飽和化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能
なエチレン性不飽和基を持ち、沸点が常圧で100℃以
上の化合物が好ましい。具体例としては、例えば、ポリ
エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプ
ロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノ
キシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレ
ートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)
エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシア
ヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官
能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサ
イドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、
特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、
特開昭51−37193号公報に記載されているような
ウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、
特公昭49−43191号、特公昭52−30490号
公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エ
ポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエ
ポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタ
アクリレート等も好ましい材料の1つである。更に、日
本接着協会誌 Vol. 20.No. 300〜308頁に光硬
化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているも
のも使用できる。使用量は、感光性組成物の固形分に対
して5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%が適
当である。上記モノマーまたはオリゴマーは単独で使用
するかあるいは2種以上を混合使用しても良い。
【0007】本発明に使用される成分(b)の光重合開
始剤としては、少なくとも1種のロフィン2量体(トリ
アリルイミダゾールダイマー)が挙げられる。このロフ
ィン2量体の他に下記の材料を組合せて使用することも
できる。米国特許第2,367,660号明細書に開示され
ているビシナールポリケトアルドニル化合物、米国特許
第2,367,661号および第2,367,670号明細書に
開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2,4
48,828号明細書に開示されているアシロインエーテ
ル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されてい
るα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、
米国特許第3,046,127号および第2,951,758号
明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第
3,549,367号明細書に開示されているトリアリルイ
ミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組み
合せ、特公昭51−48516号公報に開示されている
ベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチル−s−トリ
アジン系化合物、特開昭63−153542号公報に記
載されている感光性−s−トリアジン化合物、米国特許
第4,239,850号明細書に開示されているトリハロメ
チル−s−トリアジン系化合物、米国特許第4,212,9
76号明細書に記載されているオキサジアゾール化合物
等。光重合開始剤の使用量は固形分比で約0.2〜20重
量%、より好ましくは0.5〜15重量%が適当である。
【0008】本発明に使用される成分(c)のバインダ
ーとしては、成分(a)に対して相溶性のある線状有機
高分子重合体で、有機溶剤に可溶で、弱アルカリ水溶液
で現像できるものが好ましい。このような線状有機高分
子重合体としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリ
マー、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54
−34327号、特公昭58−12577号、特公昭5
4−25957号、特開昭59−53836号、特開昭
59−71048号公報に記載されているようなメタク
リル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重
合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分
エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側
鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体があ
る。この他に水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加
させたものなどが有用である。特にこれらの中でベンジ
ル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体
やベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸
/および他のモノマーとの多元共重合体が好適である。
この他に水溶性ポリマーとして、ポリビニールピロリド
ンやポリエチレンオキサイド、ポリビニールアルコール
等も有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)−プロパンとエピクロルヒドリンのポ
リエーテルなども有用である。これらのポリマーは任意
な量を混合させることができるが、固形分として90重
量%を越えることは形成される画像強度等の点で好まし
い結果を与えない。従って、好ましくは30〜85重量
%である。本発明で用いられる成分(a)、(b)及び
(c)を含む感光性組成物の好ましい具体例としては、
米国特許第3,549,367号明細書等に開示されている
ものが挙げられる。
【0009】本発明に使用される成分(d)の顔料は、
特に限定されるものではない。例えば、ブラックマトリ
ックス用として単独にあるいは混合して使用することが
できる顔料としては、例えば、アゾ系、アンスラキノン
系、キサンテン系、キナクリドン系、インジゴ系、ジオ
キサジン系、インダンスロン系、イソインドリノン系の
顔料が有用であり、例えば、フタロシアニンブルー
(C.I.ピグメントブルー15:6またはC.I.ピ
グメントブルー15:3、例えば、東洋インキ製造
(株)製のリオノールブルーES、チバガイギー社製の
クロモブルーA3R)、フタロシアニングリーン(C.
I.ピグメントグリーン7、36またはC.I.ピグメ
ントグリーン37、例えば、東洋インキ製造(株)製の
リオノールグリーン2YS)、ペリレン系顔料(C.
I.ピグメントレッド155)、アントラキノン系顔料
(C.I.ピグメントレッド177、例えば、東洋イン
キ製造(株)製のリオノーゲンレッドGD、チバガイギ
ー社製のクロモフタルレッドBRN)等が有用であり、
更に色補正用のためにC.I.ピグメントエロー83、
C.I.ピグメントエロー154、例えば、東洋インキ
製造(株)製のリオノーゲンエロー3G、C.I.ピグ
メントバイオレット23、例えば、東洋インキ製造
(株)製のリオノーゲンバイオレットRL、カーボンブ
ラック、例えば、三菱化成(株)製のMA−100等が
特に好ましい。その他、アニリンブラック、ペリレンブ
ラック、チタンブラック等も有用である。感光層中に占
める該顔料の比率は、固形分比で5〜90重量%が適当
であり、より好ましくは10〜60重量%である。
【0010】一般に工業的に入手できる顔料は、不純物
として数100〜数10ppm の1価の金属陽イオンを含
んでいる。本発明は、顔料中に不純物として含まれる1
価の金属陽イオンを洗浄除去することによって、1価の
金属陽イオン含量を5ppm 以下にした顔料を使用するこ
とを特徴とするものである。ところで、顔料は通常粉体
で取り扱われており、1価の金属陽イオンは通常溶解し
易い塩の形で存在するため、水洗によってある程度は除
くことができる。しかし、粉体の塊の中に取り込まれた
金属塩は容易に洗いだすことはできない。従って、顔料
中に不純物として含まれている1価の金属の塩を除去す
るためには、顔料を、水中ですり潰しながら洗浄する方
法、たとえば乳化機・分散機を用いる方法、超音波を当
てながら洗浄する方法、界面活性剤、低級アルコール等
の湿潤剤を添加して洗浄する方法あるいはこれらを併用
する方法等が有効である。
【0011】顔料はまた、乾燥前の状態(ウエットケー
キと呼ばれている)で取り扱われることがあるが、この
状態から水洗すれば粉体から洗浄するよりも効率良く1
価の金属塩を除去できる。いずれの場合も粒子径を小さ
くして洗浄することが好ましく、1ミクロン以下の粒子
径の顔料の割合が10重量%以上となる程度まで粒子径
を小さくした状態で洗浄することが好ましい。また、一
部に不溶性の塩を形成しているものもある。従って、最
初に酸洗いを行なうと、1価金属陽イオンの除去効果は
より大きくなる。酸としては、酢酸、しゅう酸、くえん
酸等の有機酸、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸等が挙げら
れる。酸の濃度は任意であるが、例えば、0.1〜10重
量%程度が適当である。また、粒子径を小さくする作業
と酸洗浄作業を同時に行なうこともできる。その方がそ
れぞれの工程を別々に行なうよりも効率が良い。洗浄に
使用する水は、1価の金属陽イオンを含まないものが好
ましく、イオン交換水、蒸留水等、不純物含有量の低い
ものが好ましいことはいうまでもなく、特にコストの点
からイオン交換水が最も好ましい。
【0012】本発明のブラックマトリックス形成用感光
性組成物は、上記成分(a)〜(d)を同時に、又は別
々に、適当な溶媒中に溶解又は分散することにより製造
できる。使用できる溶媒としては、3−メトキシプロピ
オン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチ
ルエステル、3−エトキシプロピオン酸メチルエステル
および3−エトキシプロピオン酸エチルエステル等の3
−アルコキシプロピオン酸エステル類、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等の
ケトン類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノプロピルエーテル等のプロピレングリコ
ールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノプロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコー
ルモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸メチル、乳
酸エチル等の乳酸エステル類等の他、ガンマーブチルラ
クトン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド
等が有用である。本発明の感光性組成物中の固形分の量
は、塗布性、保存性等の点から10〜30重量%が適当
である。
【0013】本発明のブラックマトリックス形成用感光
性組成物にはさらに種々の添加剤を含有させることがで
きる。例えば、界面活性剤を添加すると、より均一性の
高い塗膜を得ることができる。このような界面活性剤の
好ましい例としては、特開平2−804号公報に開示さ
れているオルガノポリシロキサン化合物およびフッ素系
界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤の添加量は感光
性組成物の固形分に対して0.001〜0.5重量%が適当
である。また、感光性組成物の保存安定性改良のため熱
重合防止剤の添加も一般的に行なわれている。例えば、
ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブ
チル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテ
コール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メル
カプトベンゾイミダゾール等が有用であり、その添加量
は成分(a)の光重合性不飽和化合物に対して通常50
0〜2000ppm 程度が適当である。なお、市販の光重
合性不飽和化合物には、一般に適量の熱重合防止剤が添
加されている。上記材料には常に不純物としてのイオン
混入の危険性がある。従って、使用する材料は常に吟味
して使用する必要がある。本発明の感光性組成物に顔料
を分散する際には、ロールミル、サンドミル、ボールミ
ルあるいはアトライターのような分散機を使用すること
ができる。注意しなければならないことは、これらの分
散機および材料を取り扱う容器類からの陽イオンの混入
である。通常のガラスビーズはナトリウムイオンを含ん
でいるから使用するのは不適当である。ジルコニアビー
ズあるいはナトリウムフリーのガラスビーズ等の使用が
好ましい。
【0014】以下に、本発明を実施例に基づき更に詳細
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【実施例】
顔料洗浄 以下に示す条件で、各種の顔料を洗浄した。洗浄前後の
顔料中のNa及びKの量を測定した。結果を表1に示
す。
【0015】
【表1】 (単位:ppm ) ──────────────────────────────── 顔料の種類 紫色 黄色 青色 試験例 ───────────────────────────── 洗浄条件 Na K Na K Na K ───────────────────────────────── 1 水洗 175 <1 210 <1 301 <1 2 酢酸洗浄 62 <1 78 <1 109 <1 3 塩酸洗浄 60 <1 79 <1 102 <1 4 IPA+酢酸 *1) 40 <1 50 <1 70 <1 5 ボールミル+酢酸 3 <1 5 <1 4 <1 6 ビーズミル+酢酸 2 <1 4 <1 2 <1 7 ウエットケーキ *2) 1 <1 ───────────────────────────────── 8 未洗浄顔料 *3) 190 <1 233 <1 354 <1 ───────────────────────────────── *1)IPA:イソプロピルアルコール *2)ウエットケーキを乾燥したもののNaイオン含量
は45ppm であった。 *3)市販顔料。下記のタイプ。 紫色:C.I.ピグメントバイオレット23 黄色:C.I.ピグメントイエロー139 青色:C.I.ピグメントブルー15:3
【0016】洗浄条件 水洗:顔料:5g イオン交換水(DIW):150g 温度:室温 攪拌時間:2時間 ポリエチレン製ビーカーに採り、マグネチックスターラ
ーでかき混ぜた後、遠心濾過した。 酢酸洗浄: 顔料:5g 酢酸:1g DIW:150g 温度:室温 攪拌時間:2時間 ポリエチレン製ビーカーに採り、マグネチックスターラ
ーでかき混ぜた後、遠心濾過した。濾集したケーキを1
50gのDIWに分散洗浄し、再び遠心濾過した後乾燥
した。 塩酸洗浄:酢酸洗浄の条件の内、酢酸を濃塩酸に置き換
えて同様に処理した。 IPA+酢酸洗浄: 顔料:5g 酢酸:1g IPA:150g 温度:室温 攪拌時間:2時間 ポリエチレン製ビーカーに採り、マグネチックスターラ
ーでかき混ぜた後、遠心濾過した。濾集したケーキを1
50gのDIWに分散洗浄し、再び遠心濾過した後乾燥
した。
【0017】1ボールミル+酢酸: 顔料:20g 酢酸:2g DIW:180g ステンレススチール製のボールミルに採り、10時間分
散後、更に300gのDIWを加えて10分間分散を続
けた。遠心濾過後1000gのDIWの中に採り、良く
洗った後、再び遠心濾過して乾燥した。 ビーズミル+酢酸: 顔料:20g 酢酸:2g DIW:180g ステンレススチール製の容器に採り、ジルコニアビーズ
を入れて5時間分散後、更に300gのDIWを加えて
10分間分散を続けた。遠心濾過後1000gのDIW
の中に採り、良く洗った後、再び遠心濾過して乾燥し
た。 ウエットケーキ: 顔料:10g 酢酸:1g DIW:150g 温度:室温 攪拌時間:2時間 ポリエチレン製ビーカーに採り、マグネチックスターラ
ーでかき混ぜた後、遠心濾過した。濾集したケーキを1
50gのDIWに分散洗浄し、再び遠心濾過した後乾燥
した。
【0018】
【実施例1及び比較例1】図1を用いてこの実施例によ
り製造した液晶表示装置の構造を説明する。図1はこの
実施例により製造した液晶表示装置のセル断面を示して
いる。スイッチング素子として機能するTFT(薄膜ト
ランジスタ)50がアレイ基板であるガラス基板1側に
形成されている。ガラス基板1上にはアルカリイオン溶
出防止のためのアンダーコート層4が形成されている。
アンダーコート層4上にTFT50のゲート電極6及び
蓄積容量線8が形成されている。これらの表面にゲート
絶縁膜10として機能する絶縁層が形成されている。ゲ
ート電極6上のゲート絶縁膜10上にTFT50のチャ
ネル領域を構成する半導体層16が形成されている。半
導体層16上には絶縁膜14が形成され、半導体層16
上の絶縁膜14の両側にはそれぞれソース電極18及び
ドレイン電極20が形成されている。表示領域を構成し
蓄積容量線8上まで延びた例えばITOからなる表示電
極12の端部に、ドレイン電極20の一端が接続されて
いる。表示電極12の領域は実際にはTFT50の領域
と比較してかなり広いのであるが図中では説明のため狭
く描いている。表示電極12の表示領域外の領域には保
護膜22が形成されている。
【0019】ガラス基板1に対向する位置に、カラーフ
ィルター基板となるガラス基板30が表示電極12と共
通電極34の間の液晶42の層が所定の厚みになるよう
に設けられている。ガラス基板30の表面には遮光機能
を持たせたブラックマトリックス24とR(赤)、G
(緑)、B(青)の三原色で構成されるカラーフィルタ
ー32が形成されている。この実施例による液晶表示装
置は、ブラックマトリックス24以外は従来の製造方法
により製造することが可能である。以下にこの実施例に
よる液晶表示装置の製造方法をブラックマトリックスの
形成方法を中心にして説明する。ガラス基板30上に下
記の感光性組成物〔処方1(比較例1)又は処方2(実
施例1)〕を乾燥膜厚が2μmとなるように塗布し、8
5℃で3分間加熱乾燥した。さらに酸素遮断を目的とし
てポリビニルアルコール(PVA)の10重量%水溶液
を乾燥膜圧が1.0μmとなるように塗布して、85℃で
3分間加熱乾燥し、PVA被膜を形成した。所定のフォ
トマスクを通して紫外線露光(100mJ/cm2 )を行
い、その後、下記の現像液で現像処理を行なうことによ
りガラス基板30上にブラックマトリックス24を形成
した。このブラックマトリックス24が形成されたガラ
ス基板30上にカラーフィルター32及び共通電極34
を形成し、これをTFTが形成されたガラス基板1と組
合せて封着し、ツイステッド・ネマチック液晶42を注
入して封止し、液晶表示装置を製造した。 (現像液処方) 1% 炭酸ナトリウム水溶液、室温、60秒
【0020】(感光性組成物処方1)(比較例1) ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸共重合体(バインダー) 〔モル比70/30、重量平均分子量20,000〕 62g ペンタエリスリトールテトラアクリレート(モノマー) 38g 4−〔p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)〕 −2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン (光重合開始剤) 1.5g C.I.ピグメントブルー〔15:3〕(顔料:未洗浄) 13g C.I.ピグメントバイオレット〔23〕(顔料:未洗浄) 33g C.I.ピグメントエロー〔139〕(顔料:未洗浄) 14g ハイドロキノンモノメチルエーテル(熱重合禁止剤) 0.01g 3−エトキシプロピオン酸エチルエステル(溶剤) 650g 上記組成で使用した市販の顔料(未洗浄)中のナトリウ
ムイオン含量は、以下の通りであった。 C.I.ピグメントブルー〔15:3〕 354ppm C.I.ピグメントバイオレット〔23〕 190ppm C.I.ピグメントエロー〔139〕 233ppm なお、上記処方1の中で顔料を除いた組成中に含まれる
ナトリウムイオン含量は0.1ppm であり、処方1中のナ
トリウムイオン含量は88ppm であった。 (感光性組成物処方2)(実施例1) 試験例5に従って洗浄した顔料を使用した他は処方1と
同じである。処方2中のナトリウムイオン含量は1ppm
であった。
【0021】この液晶表示装置の信頼性を調べるため高
温動作試験を行った。その結果、未洗浄の顔料を含む処
方1を使用した比較例1では、70℃では3,000時間
経過後に、50℃では6,000時間経過後に液晶層の保
持不良に起因する動作不良が発生した。解析の結果、液
晶の比抵抗が2桁低下しており、更にこの不良部分を二
次イオン質量分析法(SIMS)にて分析したところ、
不良部分の液晶/配向膜界面部分からナトリウムが検出
された。また、ブラックマトリックス24を形成してい
ないカラーフィルター基板と組合せた液晶表示装置から
はナトリウムが検出されなかった。次に、洗浄した顔料
を含む処方2を使用した実施例1では、ストレス印加時
間が8,000時間を経過しても、50℃および70℃の
いずれの条件においても動作不良は確認されず、さらに
SIMS分析においてもTFT中からナトリウムは検出
されなかった。以上の結果は、不純物として含まれる1
価金属陽イオンの量を5ppm 以下にした顔料を使用した
本発明のブラックマトリックスが、アクティブマトリッ
クスタイプのTFT液晶表示装置の信頼性を極めて高く
することを明瞭に示すものである。
【0022】
【実施例2及び比較例2】図2を用いてこの実施例によ
り製造した液晶表示装置の構造を説明する。図2はこの
実施例により製造した液晶表示装置のセル断面を示して
いる。スイッチング素子として機能するTFT(薄膜ト
ランジスタ)50がアレイ基板であるガラス基板1側に
形成されている。ガラス基板1上にはアルカリイオン溶
出防止のためのアンダーコート層4が形成されている。
アンダーコート層4上にTFT50のゲート電極6及び
蓄積容量線8が形成されている。これらの表面にゲート
絶縁膜10として機能する絶縁層が形成されている。ゲ
ート電極6上のゲート絶縁膜10上にTFT50のチャ
ネル領域を構成する半導体層16が形成されている。半
導体層16上は絶縁膜14が形成され、半導体層16上
の絶縁膜14の両側にはそれぞれソース電極18及びド
レイン電極20が形成されている。表示領域を構成し蓄
積容量線8上まで延びた例えばITOからなる表示電極
12の端部に、ドレイン電極20の一端が接続されてい
る。表示電極12の領域は実際にはTFT50の領域と
比較してかなり広いのであるが図中では説明のため狭く
描いている。表示電極12の表示領域外の領域には保護
膜22が形成されている。TFT50及び蓄積容量線8
上部には、ブラックマトリックス24が形成されてい
る。ブラックマトリックス24及び表示電極12上に
は、液晶分子を配向させる配向膜26が形成されてい
る。ガラス基板1の裏面には偏光板2が設けられてい
る。
【0023】ガラス基板1に対向する位置に、カラーフ
ィルター基板となるガラス基板30が、表示電極12と
共通電極34の間の液晶42の層が所定の厚みになるよ
うに設けられている。ガラス基板30の表面にはR
(赤)、G(緑)、B(青)の三原色の画素で構成され
るカラーフィルター32が形成されている。カラーフィ
ルター32は、各表示電極12に対向する位置にそれぞ
れ各色ごとに形成されている。カラーフィルター32上
には例えばITOの共通電極34が形成され、共通電極
34上には配向膜36が形成されている。ガラス基板3
0の裏面には偏光板40が設けられている。両配向膜2
6、36間に液晶42が封入されている。この実施例に
よる液晶表示装置も、ブラックマトリックス24以外は
従来の製造方法により製造することが可能である。以下
にこの実施例による液晶表示装置の製造方法をブラック
マトリックスの形成方法を中心にして説明する。アルカ
リイオン溶出防止のためのアンダーコート(SiOx、
例えばSiO2)層4を形成したガラス基板1に、TF
T50をフォトリソグラフィー技術を利用して形成し
た。このTFT50の上に、さらに実施例1及び比較例
1で使用した前記感光性組成物〔処方1(比較例2)又
は処方2(実施例2)〕を乾燥膜厚が2μmとなるよう
に塗布し、85℃で3分間加熱乾燥した。さらに酸素遮
断を目的としてポリビニルアルコール(PVA)の10
重量%水溶液を乾燥膜圧が1.0μmとなるように塗布し
て、85℃で3分間加熱乾燥し、PVA被膜を形成し
た。所定のフォトマスクを通して紫外線露光(100m
J/cm2 )を行い、その後、実施例1及び比較例1で使
用した前記現像液で現像処理を行なうことによりTFT
50上にブラックマトリックス24を形成した。このブ
ラックマトリックス24が形成されたガラス基板1をカ
ラーフィルター32側のガラス基板30と組み合わせて
封着し、ツイステッド・ネマチック液晶42を注入して
封止し、液晶表示装置を製造した。
【0024】この液晶表示装置の信頼性を調べるため、
高温動作試験を行なった。その結果、未洗浄の顔料を含
む処方1を使用した比較例2では、70℃では2,000
時間経過後に、50℃では4,000時間経過後にTFT
の書き込み不足に起因する動作不良が発生した。この不
良部分の解析を二次イオン質量分析(SIMS)法にて
行なったところ、不良画素のTFT部分からナトリウム
が検出され、またブラックマトリックスを形成していな
いセルの正常TFTからはナトリウムが検出されなかっ
た。次に、洗浄した顔料を含む処方2を使用した実施例
2では、ストレス印加時間が5,000時間を経過して
も、50℃および70℃のいずれの条件においても動作
不良は確認されず、さらにSIMS分析においてもTF
T中からナトリウムは検出されなかった。以上の結果
は、不純物として含まれる1価金属陽イオンの量を5pp
m 以下にした顔料を使用した本発明のブラックマトリッ
クスが、アクティブマトリックスタイプのTFT液晶表
示装置の信頼性を極めて高くすることを明瞭に示すもの
である。
【0025】
【発明の効果】本発明のブラックマトリックスは、液晶
表示装置の駆動側基板の表面に形成された駆動素子であ
るTFTあるいはTFDの表面にこれと接して形成され
た場合にも、TFTあるいはTFDの作動を劣化させる
ことなく、所望の遮光性を有する。従って、液晶表示装
置のブラックマトリックスを駆動回路の表面に直接高い
合わせ精度で形成できるため、駆動電極とブラックマト
リックスの間で位置ずれを生ずることがない。そのた
め、ブラックマトリックスの面積は必要最小限に抑えら
れ、相対的に画素の開口率が広がる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例による液晶表示装置のセ
ル断面を示す図である。
【図2】本発明の第2の実施例による液晶表示装置のセ
ル断面を示す図である。
【符号の説明】
1 ガラス基板 2 偏光板 4 アンダーコート層 6 ゲート電極 8 蓄積容量線 10 ゲート絶縁膜 12 表示電極 14 絶縁膜 16 半導体層 18 ソース電極 20 ドレイン電極 22 保護膜 24 ブラックマトリックス 26 配向膜 30 ガラス基板 32 カラーフィルター 34 共通電極 36 配向膜 40 偏光板 42 液晶 50 TFT
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 辻村 直行 神奈川県大和市下鶴間1623番地14 日本ア イ・ビー・エム株式会社 大和事業所内 (72)発明者 植木 俊博 神奈川県大和市下鶴間1623番地14 日本ア イ・ビー・エム株式会社 大和事業所内 (72)発明者 牛丸 晶 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 小林 袈裟直 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)光重合性不飽和化合物、(b)光
    重合開始剤、(c)バインダー及び(d)顔料を含む、
    ブラックマトリックス形成用感光性組成物において、該
    顔料中に不純物として含まれる1価の金属陽イオンの量
    が5ppm以下であることを特徴とするブラックマトリ
    ックス形成用感光性組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のブラックマトリックス形
    成用感光性組成物から形成されたブラックマトリック
    ス。
  3. 【請求項3】 透明基板上に、カラーフィルターが形成
    されたカラーフィルター基板において、請求項2に記載
    されたブラックマトリックスが形成されたことを特徴と
    するカラーフイルター基板。
  4. 【請求項4】 表示電極及び、前記表示電極と電気的に
    接続されたスイッチング素子が形成されたアレイ基板
    と、 前記アレイ基板と所定の間隔を置いて対向して設けられ
    たカラーフィルター基板と、 前記カラーフィルター基板上に形成された共通電極と、 前記アレイ基板と前記カラーフィルター基板との前記所
    定の間隔内に封止された液晶とを有する液晶表示装置に
    おいて、 前記スイッチング素子上に、請求項2に記載されたブラ
    ックマトリックスが形成されたことを特徴とする液晶表
    示装置。
  5. 【請求項5】 表示電極及び、前記表示電極と電気的に
    接続されたスイッチング素子が形成されたアレイ基板
    と、 前記アレイ基板と所定の間隔を置いて対向して設けられ
    たカラーフィルター基板と、 前記カラーフィルター基板上に形成された共通電極と、 前記アレイ基板と前記カラーフィルター基板との前記所
    定の間隔内に封止された液晶とを有する液晶表示装置に
    おいて、 前記カラーフィルター基板側に、請求項2に記載された
    ブラックマトリックスが形成されたことを特徴とする液
    晶表示装置。
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TW083112082A TW366440B (en) 1994-03-18 1994-12-23 Light-sensitive composition for black matrix, substrate for color filter and liquid crystal display
US08/385,884 US5626796A (en) 1994-03-18 1995-02-09 Light sensitive composition for black matrix, substrate for color filter, and liquid crystal display
DE69502225T DE69502225D1 (de) 1994-03-18 1995-02-14 Lichtempfindliche Zusammensetzung für eine Schwarzmatrix, ein Substrat eines Farbfilters, und eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
EP95101998A EP0672944B1 (en) 1994-03-18 1995-02-14 Light-sensitive composition for black matrix, substrate for color filter, and liquid crystal display
KR1019950003135A KR0147191B1 (ko) 1994-03-18 1995-02-18 블랙매트릭스 형성용 감광성 조성물, 칼라필터기판 및 액정표시장치

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TW (1) TW366440B (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10114836A (ja) * 1996-10-11 1998-05-06 Nippon Kayaku Co Ltd 黒色顔料組成物、黒色感放射線性樹脂組成物及び黒色硬化膜
JP2002365798A (ja) * 2001-06-12 2002-12-18 Sumitomo Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
KR100396070B1 (ko) * 2001-03-24 2003-08-27 (주)펨텍 유기 블랙매트릭스용 안료분산체 조성물 및 제조방법
KR100552279B1 (ko) * 1997-11-26 2006-04-28 삼성전자주식회사 컬러 필터 기판
WO2007026599A1 (ja) * 2005-08-29 2007-03-08 Toppan Printing Co., Ltd. 感光性着色組成物、カラーフィルタ基板及び半透過型液晶表示装置
WO2007125864A1 (ja) * 2006-04-28 2007-11-08 Mitsubishi Chemical Corporation 遮光性樹脂組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
JP2012123075A (ja) * 2010-12-07 2012-06-28 Nippon Steel Chem Co Ltd 遮光性組成物及びカラーフィルター
JP2012515233A (ja) * 2009-01-19 2012-07-05 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア カラーフィルタ用のブラックマトリックス

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5892244A (en) * 1989-01-10 1999-04-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Field effect transistor including πconjugate polymer and liquid crystal display including the field effect transistor
JP2827920B2 (ja) * 1994-10-13 1998-11-25 松下電器産業株式会社 カラー液晶表示パネル
JPH0964366A (ja) * 1995-08-23 1997-03-07 Toshiba Corp 薄膜トランジスタ
KR100219118B1 (ko) * 1996-08-30 1999-09-01 구자홍 박막트랜지스터 액정표시장치 및 그 제조방법
GB2307768B (en) * 1995-11-25 1998-06-10 Lg Electronics Inc Matrix array of active matrix lcd and manufacturing method thereof
KR100244450B1 (ko) * 1996-08-30 2000-02-01 구본준 액정표시장치의 기판의 제조방법 및 그 제조방법에 의하여 제조 되는 기판의 구조
TW384409B (en) * 1996-06-04 2000-03-11 Sharp Kk Liquid crystal display device
US6850290B1 (en) * 1996-07-13 2005-02-01 Lg Electronics Inc. Thin film transistor-liquid crystal display and method for fabricating the same
KR100605249B1 (ko) * 1998-09-23 2006-10-04 삼성전자주식회사 엘시디 모듈
JP2000147258A (ja) * 1998-11-17 2000-05-26 Daicel Chem Ind Ltd 選択反射性成形体
KR100582598B1 (ko) * 2000-10-25 2006-05-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 빛샘 현상을 방지하는 액정표시장치
JP2003107697A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料、フォトマスク材料、フォトマスクおよびフォトマスクの製造方法
KR100951348B1 (ko) 2003-04-04 2010-04-08 삼성전자주식회사 다중 도메인 액정 표시 장치 및 그 박막 트랜지스터 기판
KR101012784B1 (ko) * 2003-06-09 2011-02-08 삼성전자주식회사 표시 장치용 표시판 및 그 표시판을 포함하는 액정 표시장치
KR20060008534A (ko) * 2004-07-21 2006-01-27 삼성코닝 주식회사 신규 블랙 매트릭스, 그 제조방법 및 그를 이용한평판표시소자 및 전자파차폐 필터
KR20060046935A (ko) * 2004-11-12 2006-05-18 삼성코닝 주식회사 신규 블랙 매트릭스, 그 제조방법 및 그를 이용한평판표시소자 및 전자파차폐 필터
US7411643B2 (en) * 2005-03-03 2008-08-12 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Liquid crystal display device and inspection method thereof
KR100655045B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스
KR101213554B1 (ko) * 2006-06-20 2012-12-18 가부시키가이샤 아루박 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그의 제조 방법
EP2116527A4 (en) 2007-01-23 2011-09-14 Fujifilm Corp OXIME COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING THE COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
CN101679394B (zh) 2007-05-11 2013-10-16 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
WO2008138724A1 (en) 2007-05-11 2008-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5094315B2 (ja) * 2007-10-04 2012-12-12 富士フイルム株式会社 着色画素用硬化性組成物及びカラーフィルタ
KR101626172B1 (ko) 2008-06-06 2016-05-31 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
US20120068202A1 (en) * 2009-03-23 2012-03-22 Seiko Epson Corporation Active matrix substrate, method of manufacturing the same and display equipment using active matrix substrate manufactured by the same method
JP6157602B2 (ja) 2012-06-01 2017-07-05 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 黒色着色剤混合物

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58155759A (ja) * 1983-02-25 1983-09-16 Hitachi Ltd カラー固体撮像素子の製造方法
JPS5978568A (ja) * 1982-10-28 1984-05-07 Toshiba Corp カラ−固体撮像素子の製造法
JPS5990807A (ja) * 1982-11-16 1984-05-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラ−フイルタ−の製造方法
JPS61154844A (ja) * 1984-11-28 1986-07-14 エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン 基板上に染料層を製造する方法および染料層を有する基板
JPS61275702A (ja) * 1985-05-30 1986-12-05 Nec Corp カラ−固体撮像素子
JPS6364023A (ja) * 1986-09-05 1988-03-22 Toshiba Corp 表示装置
JPH01187531A (ja) * 1988-01-22 1989-07-26 Toshiba Corp 液晶表示装置
JPH01210902A (ja) * 1988-02-18 1989-08-24 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH0413106A (ja) * 1990-05-07 1992-01-17 Idemitsu Kosan Co Ltd 遮光膜用レジスト、該遮光膜用レジストを用いた遮光膜の製造方法および該遮光膜用レジストを用いたカラーフィルタの製造方法
JPH04204656A (ja) * 1990-11-30 1992-07-27 Fuji Yakuhin Kogyo Kk ネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラーフィルターの作成方法
JPH04342229A (ja) * 1991-05-20 1992-11-27 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JPH07198928A (ja) * 1993-12-28 1995-08-01 Toray Ind Inc カラーフィルター、電子工業用カラーペースト、その製造方法、顔料分散液およびその製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4934791A (en) * 1987-12-09 1990-06-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Color filter
JPH02153353A (ja) * 1988-07-25 1990-06-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 着色光重合組成物およびカラーフィルタ
JPH0792574B2 (ja) * 1988-12-21 1995-10-09 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 液晶表示装置およびその製造方法
DE3923426A1 (de) * 1989-07-15 1991-01-17 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von novolak-harzen mit geringem metallionengehalt
US5108870A (en) * 1990-08-02 1992-04-28 Morton International, Inc. Positive-working photoresist composition containing purified broadband dye and process of using
JPH087446B2 (ja) * 1990-10-26 1996-01-29 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体
US5225307A (en) * 1992-01-31 1993-07-06 Xerox Corporation Processes for the preparation of photogenerating compositions

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5978568A (ja) * 1982-10-28 1984-05-07 Toshiba Corp カラ−固体撮像素子の製造法
JPS5990807A (ja) * 1982-11-16 1984-05-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラ−フイルタ−の製造方法
JPS58155759A (ja) * 1983-02-25 1983-09-16 Hitachi Ltd カラー固体撮像素子の製造方法
JPS61154844A (ja) * 1984-11-28 1986-07-14 エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン 基板上に染料層を製造する方法および染料層を有する基板
JPS61275702A (ja) * 1985-05-30 1986-12-05 Nec Corp カラ−固体撮像素子
JPS6364023A (ja) * 1986-09-05 1988-03-22 Toshiba Corp 表示装置
JPH01187531A (ja) * 1988-01-22 1989-07-26 Toshiba Corp 液晶表示装置
JPH01210902A (ja) * 1988-02-18 1989-08-24 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH0413106A (ja) * 1990-05-07 1992-01-17 Idemitsu Kosan Co Ltd 遮光膜用レジスト、該遮光膜用レジストを用いた遮光膜の製造方法および該遮光膜用レジストを用いたカラーフィルタの製造方法
JPH04204656A (ja) * 1990-11-30 1992-07-27 Fuji Yakuhin Kogyo Kk ネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラーフィルターの作成方法
JPH04342229A (ja) * 1991-05-20 1992-11-27 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JPH07198928A (ja) * 1993-12-28 1995-08-01 Toray Ind Inc カラーフィルター、電子工業用カラーペースト、その製造方法、顔料分散液およびその製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10114836A (ja) * 1996-10-11 1998-05-06 Nippon Kayaku Co Ltd 黒色顔料組成物、黒色感放射線性樹脂組成物及び黒色硬化膜
KR100552279B1 (ko) * 1997-11-26 2006-04-28 삼성전자주식회사 컬러 필터 기판
KR100396070B1 (ko) * 2001-03-24 2003-08-27 (주)펨텍 유기 블랙매트릭스용 안료분산체 조성물 및 제조방법
JP2002365798A (ja) * 2001-06-12 2002-12-18 Sumitomo Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
WO2007026599A1 (ja) * 2005-08-29 2007-03-08 Toppan Printing Co., Ltd. 感光性着色組成物、カラーフィルタ基板及び半透過型液晶表示装置
US8642233B2 (en) 2005-08-29 2014-02-04 Toppan Printing Co., Ltd. Method of manufacturing color filter substrate for semitransmissive type liquid crystal display device
WO2007125864A1 (ja) * 2006-04-28 2007-11-08 Mitsubishi Chemical Corporation 遮光性樹脂組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
JP2007316620A (ja) * 2006-04-28 2007-12-06 Mitsubishi Chemicals Corp 遮光性樹脂組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
JP2012515233A (ja) * 2009-01-19 2012-07-05 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア カラーフィルタ用のブラックマトリックス
JP2012123075A (ja) * 2010-12-07 2012-06-28 Nippon Steel Chem Co Ltd 遮光性組成物及びカラーフィルター

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