JP6290428B2 - 成形研磨粒子を含む研磨物品 - Google Patents

Description

以下は、研磨物品、特に、成形研磨粒子を含む研磨物品を対象とする。

研磨粒子および研磨粒子から作製される研磨物品は、粉砕、仕上げ、および研磨を含む種々の材料除去操作に有用である。かかる研磨粒子は、研磨材料のタイプに応じて、製造品における広範な材料および表面を成形または粉砕するのに有用であり得る。これまで、特定の幾何学形状を有するある特定のタイプの研磨粒子、例えば、三角形状の成形研磨粒子、およびかかる対象を組み込んだ研磨物品が考案されてきた。例えば、米国特許第５，２０１，９１６号；同第５，３６６，５２３号；および同第５，９８４，９８８号を参照されたい。

特定の形状を有する研磨粒子を生成するのに使用されている３つの基本的な技術は、（１）溶融、（２）焼結、および（３）化学セラミックである。溶融プロセスにおいて、研磨粒子は、面が彫刻されていてもされていなくてもよいチルロール、溶融材料が注入される金型、または酸化アルミニウム溶融物に浸漬されたヒートシンク材料によって成形され得る。例えば、米国特許第３，３７７，６６０号（溶融研磨材料を炉から冷却回転鋳造シリンダ上に流すことと、該材料を迅速に固化して薄い半固体湾曲シートを形成することと、半固体材料を圧力ロールによって高密度化することと、半固体材料のストリップを、迅速に駆動する冷却されたコンベヤによってシリンダから引き離すことによってその湾曲を反転させることにより部分的に破壊させることとを含むプロセスを開示している）を参照されたい。

焼結プロセスにおいて、研磨粒子は、最大で直径１０μｍの粒径を有する耐火性粉末から形成され得る。該粉末には、バインダが、潤滑剤および好適な溶媒、例えば、水と併せて添加されてよい。得られた混合物またはスラリーは、種々の長さおよび直径のプレートレットまたはロッドに成形され得る。例えば、米国特許第３，０７９，２４２号（仮焼ボーキサイト材料から研磨粒子を作製する方法であって、（１）材料を小さくして微粉末にすることと、（２）肯定圧力下に圧縮して該粉末の微粒子から顆粒サイズの凝集物を形成することと、（３）ボーキサイトの溶融温度未満の温度で粒子の凝集物を焼結して粒子の限定された再結晶を誘発し、これにより、砥粒を直接生成してサイジングすることとを含む方法を開示している）を参照されたい。

化学セラミック技術は、場合により他の金属酸化物前駆体の溶液との混合物中の、コロイド分散系またはヒドロゾル（ゾルと呼ばれる場合がある）を、ゲル、または成分の可動性を制限する他の物理状態に転換することと、乾燥することと、焼成してセラミック材料を得ることとを含む。例えば、米国特許第４，７４４，８０２号および同第４，８４８，０４１号を参照されたい。

依然として、研磨粒子および研磨粒子を使用する研磨物品の性能、寿命および効能を改良することが当該業界において必要とされている。

第１高さ（ｈ１）を含む第１タイプの成形研磨粒子および第１高さ未満の第２高さ（ｈ２）を含む第２タイプの成形研磨粒子を有する研磨粒子ブレンドを含む固定研磨物品。

第１高さ（ｈ１）を含む第１タイプの成形研磨粒子および第１高さ未満の第２高さ（ｈ２）を含む第２タイプの成形研磨粒子を含む研磨粒子ブレンドを含む固定研磨物品であって、少なくとも約１１インチ^３のステンレス鋼寿命を含む、固定研磨物品。

第１高さ（ｈ１）を含む第１タイプの成形研磨粒子および第１高さ未満の第２高さ（ｈ２）を含む第２タイプの成形研磨粒子を含む研磨粒子ブレンドを含む研磨物品を用いて、ワークピースから材料を除去する方法。

本開示は、添付の図を参照することによって、より良好に理解され得、その多数の特徴および利点が当業者に明らかとなる。

図１Ａは、実施形態による粒子状材料を形成するためのシステムの一部を含む。 図１Ｂは、実施形態による粒子状材料を形成するための図１Ａのシステムの一部を含む。 図２は、実施形態による粒子状材料を形成するためのシステムの一部を含む。 図３Ａは、実施形態による成形研磨粒子の斜視図を含む。 図３Ｂは、図３Ａの成形研磨粒子の断面図を含む。 図４は、実施形態による成形研磨粒子およびパーセントフラッシングの側面図を含む。 図５は、実施形態による被覆研磨物品の一部の断面図を含む。 図６は、実施形態による被覆研磨物品の一部の断面図を含む。 図７は、実施形態による被覆研磨物品の一部のトップダウン図を含む。 図８Ａは、実施形態による被覆研磨物品の一部のトップダウン図を含む。 図８Ｂは、実施形態による被覆研磨物品の一部の斜視図を含む。 図９は、実施形態による被覆研磨物品の一部の斜視図を含む。 図１０は、実施形態による研磨物品の一部の上面図を含む。 図１１は、本明細書における実施形態に相当するサンプルおよび２つの従来サンプルに関しての、具体的な粉砕エネルギー対除去された累積材料のプロットを含む。 図１２は、裏打ちにおける成形研磨粒子の配向を分析するのに用いられる、実施形態による被覆研磨材の部分を表す画像を含む。

以下は、研磨物品を対象とする。本明細書における方法は、成形研磨粒子の形成、および、成形研磨粒子を組み込んだ研磨物品の使用に利用され得る。成形研磨粒子は、例えば、被覆研磨材、接着研磨材、遊離研磨材、およびこれらの組み合わせを含めた種々の用途において利用され得る。成形研磨粒子に関して種々の他の使用が誘導されてよい。

成形研磨粒子
成形研磨粒子を得るのに種々の方法が利用されてよい。粒子は、商業的供給源から得られても、製造されてもよい。成形研磨粒子を製造するのに用いられるいくつかの好適なプロセスとして、限定されないが、スクリーン印刷、成型、押圧、鋳造、分割、切削、ダイシング、打ち抜き、乾燥、硬化、堆積、被覆、押出、圧延、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。

図１Ａは、１つの非限定的な実施形態による成形研磨粒子を形成するためのシステム１５０の図を含む。成形研磨粒子を形成するプロセスは、セラミック材料および液体を含む混合物１０１を形成することによって開始され得る。特に、混合物１０１は、セラミック粉末材料および液体から形成されたゲルであってよく、ここで、ゲルは、グリーン（すなわち、未焼成）状態においても所与の形状を実質的に保持する能力を有する形状安定性材料として特徴付けられ得る。実施形態によると、ゲルは、個々の粒子の一体化されたネットワークとしてセラミック粉末材料から形成され得る。

混合物１０１は、本明細書に詳述されているプロセスによる使用に好適なレオロジー特性を有するように、ある特定の含量の固体材料、液体材料、および添加剤を含有していてよい。すなわち、ある特定の場合において、混合物は、ある特定の粘度、より詳細には、本明細書に記述されているプロセスを通して形成され得る寸法安定性材料相を形成する好適なレオロジー特性を有することができる。寸法安定性材料相は、特定の形状を有しかつ形成の後の加工の少なくとも一部で形状を実質的に維持することができる材料である。ある特定の場合において、形状は、後の加工を通して保持され得、その結果、形成プロセスにおいて最初に付与された形状が、最終的に形成される対象において存在することとなる。

混合物１０１は、特定含量の固体材料、例えば、セラミック粉末材料を有するように形成され得る。例えば、一実施形態において、混合物１０１は、混合物１０１の合計重量に対して少なくとも約２５重量％、例えば、少なくとも約３５重量％、またはさらには少なくとも約３８重量％の固体含量を有することができる。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、混合物１０１の固体含量は、約７５重量％以下、例えば、約７０重量％以下、約６５重量％以下、約５５重量％以下、約４５重量％以下、または約４２重量％以下であってよい。混合物１０１中の固体材料の含量は、上記に記述した最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

一実施形態によると、セラミック粉末材料は、酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、酸炭化物、酸窒化物、およびこれらの組み合わせを含むことができる。特定の例において、セラミック材料は、アルミナを含むことができる。より詳細には、セラミック材料は、α−アルミナの前駆体であり得るベーマイト材料を含むことができる。用語「ベーマイト」は、典型的にはＡｌ_２Ｏ_３・Ｈ_２Ｏであって約１５％の含水量を有する鉱物ベーマイト、ならびに１５％超、例えば、２０〜３８重量％の含水量を有する擬ベーマイトを含めたアルミナ水和物を表すのに本明細書において一般に用いられる。ベーマイト（擬ベーマイトを含む）が、特定の識別可能な結晶構造、したがって特有のＸ線回折パターンを有することに注意されたい。このように、ベーマイトは、他のアルミナ水和物、例えば、ＡＴＨ（三水酸化アルミニウム）、ベーマイト粒子状材料の製造のために本明細書において用いられる一般的な前駆体材料を含めた他のアルミニウム材料と区別される。

さらに、混合物１０１は、特定の含量の液体材料を有するように形成され得る。いくつかの好適な液体は、水を含んでいてよい。１つの実施形態によると、混合物１０１は、混合物１０１の固体含量未満の液体含量を有するように形成され得る。より詳細な例において、混合物１０１は、混合物１０１の合計重量に対して少なくとも約２５重量％の液体含量を有することができる。他の場合において、混合物１０１内の液体の含量は、より多く、例えば、少なくとも約３５重量％、少なくとも約４５重量％、少なくとも約５０重量％、またはさらには少なくとも約５８重量％であってよい。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、混合物の液体含量は、約７５重量％以下、例えば、約７０重量％以下、約６５重量％以下、約６２重量％以下、またはさらには約６０重量％以下であってよい。混合物１０１中の液体材料の含量は、上記に記述した最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

さらに、本明細書における実施形態による成形研磨粒子の加工および形成を容易にするために、混合物１０１は、特定の貯蔵弾性率を有することができる。例えば、混合物１０１は、少なくとも約１×１０^４Ｐａ、例えば、少なくとも約４×１０^４Ｐａ、またはさらには少なくとも約５×１０^４Ｐａの貯蔵弾性率を有することができる。しかし、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、混合物１０１は、約１×１０^７Ｐａ以下、例えば、約２×１０^６Ｐａ以下の貯蔵弾性率を有していてよい。混合物１０１の貯蔵弾性率は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

貯蔵弾性率は、ペルチェプレート温度制御システムにより、ＡＲＥＳまたはＡＲ−Ｇ２回転レオメータを用いた平行プレートシステムを介して測定され得る。試験において、混合物１０１は、互いからおよそ８ｍｍ離間して設定されている２つのプレート間のギャップ内に押し出され得る。ゲルをギャップ内に押し出した後、ギャップを定義する２つのプレート間の距離を、混合物１０１が該プレート間のギャップを完全に満たすまで２ｍｍまで低減する。過剰の混合物を拭き取った後、ギャップを０．１ｍｍだけ減少させ、試験を開始する。試験は、２５ｍｍの平行プレートを用い、１０個１組あたり１０点を記録して、６．２８ｒａｄ／ｓ（１Ｈｚ）で、０．０１％〜１００％の間の歪み範囲の機器設定で行われる振動歪み掃引試験である。試験終了後１時間以内に、ギャップを０．１ｍｍだけ再び減少させ、試験を繰り返す。試験を少なくとも６回繰り返すことができる。１回目の試験は、２回目および３回目の試験と異なってよい。各試料について２回目および３回目の試験からの結果のみが報告されるべきである。

さらに、本明細書における実施形態による成形研磨粒子の加工および形成を容易にするために、混合物１０１は、特定の粘度を有することができる。例えば、混合物１０１は、少なくとも約４×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約５×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約６×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約８×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約１０×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約２０×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約３０×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約４０×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約５０×１０^３Ｐａ・ｓ、少なくとも約６０×１０^３Ｐａ・ｓ、または少なくとも約６５×１０^３Ｐａ・ｓの粘度を有していてよい。少なくとも１つの非限定的な実施形態において、混合物１０１は、約１００×１０^３Ｐａ・ｓ以下、例えば、約９５×１０^３Ｐａ・ｓ以下、約９０×１０^３Ｐａ・ｓ以下、またはさらには約８５×１０^３Ｐａ・ｓ以下の粘度を有していてよい。混合物１０１の粘度は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。粘度は、上記に記載されている貯蔵弾性率と同様に測定され得る。

また、混合物１０１は、本明細書における実施形態による成形研磨粒子の加工および形成を容易にするために、上記液体と異なっていてよい例えば有機添加剤を含めた有機材料を特定の含量で有するように形成され得る。いくつかの好適な有機添加剤として、安定化剤、バインダ、例えば、フルクトース、スクロース、ラクトース、グルコース、ＵＶ硬化性樹脂などを挙げることができる。

とりわけ、本明細書における実施形態は、従来の形成操作において用いられているスラリーと異なっていてよい混合物１０１を利用してよい。例えば、混合物１０１内の有機材料、特に、任意の上記有機添加剤の含量は、混合物１０１内の他の成分と比較して少量であってよい。少なくとも１つの実施形態において、混合物１０１は、混合物１０１の合計重量に対して約３０重量％以下の有機材料を有するように形成され得る。他の場合において、有機材料の量は、より少ない、例えば、約１５重量％以下、約１０重量％以下、またはさらには約５重量％以下であってよい。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、混合物１０１内の有機材料の量は、混合物１０１の合計重量に対して少なくとも約０．０１重量％、例えば、少なくとも約０．５重量％であってよい。混合物１０１における有機材料の量は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

また、混合物１０１は、本明細書における実施形態による成形研磨粒子の加工および形成を容易にするために、液体分とは異なる、特定の含量の酸または塩基を有するように形成され得る。いくつかの好適な酸または塩基として、硝酸、硫酸、クエン酸、塩素酸、酒石酸、リン酸、硝酸アンモニウム、およびクエン酸アンモニウムを挙げることができる。硝酸添加剤が用いられる１つの特定の実施形態によると、混合物１０１は、約５未満のｐＨを有していてよく、より詳細には、約２と約４との間の範囲内のｐＨを有していてよい。

図１Ａのシステム１５０は、ダイ１０３を含むことができる。示すように、混合物１０１は、ダイ１０３の内部に付与されて、ダイ１０３の一方の端に位置付けられたダイ開口部１０５を通して押し出されるように構成されていてよい。さらに示すように、押出は、ダイ開口部１０５を通した混合物１０１の押出を容易にするように力１８０（例えば圧力）を混合物１０１に適用することを含むことができる。実施形態において、システム１５０は、スクリーン印刷プロセスと一般に称され得る。適用ゾーン１８３内での押出の間、スクリーン１５１は、ベルト１０９の一部と直接接触していてよい。スクリーン印刷プロセスは、方向１９１にダイ開口部１０５を通してダイ１０３から混合物１０１を押し出すことを含むことができる。特に、スクリーン印刷プロセスは、ダイ開口部１０５を通して混合物１０１を押し出すとき、混合物１０１がスクリーン１５１における開口部１５２内に押し進められ得るように、スクリーン１５１を利用してもよい。

実施形態によると、押出の間に特定の圧力が利用されてよい。例えば、該圧力は、少なくとも約１０ｋＰａ、例えば、少なくとも約５００ｋＰａであってよい。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、押出の間に利用される圧力は、約４ＭＰａ以下であってよい。混合物１０１を押し出すのに用いられる圧力は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。特定の例において、ピストン１９９によって送達される圧力の一貫性により、成形研磨粒子の加工および形成の改良を容易にすることができる。とりわけ、混合物１０１を横切りかつダイ１０３の幅を横切る一貫した圧力の制御された送達により、成形研磨粒子の加工制御の改良および寸法特性の改良を容易にすることができる。

図１Ｂを簡単に参照すると、スクリーン１５１の一部が示されている。示すように、スクリーン１５１は、開口部１５２、より詳細には、スクリーン１５１の容積を通して延在する複数の開口部１５２を含むことができる。実施形態によると、開口部１５２は、スクリーンの長さ（Ｌ）および幅（Ｗ）によって定義される平面で見たとき二次元形状を有することができる。二次元形状として、種々の形状、例えば、多角形、楕円体、数字、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、多角形の組み合わせを含む複雑な形状、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。特定の例において、開口部１５２は、二次元の多角形、例えば、三角形、矩形、四角形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形、およびこれらの組み合わせを有していてよい。

さらに示すように、スクリーン１５１は、互いに対して特定の様式で配向されている開口部１５２を有することができる。示すように、一実施形態によると、開口部１５２は、それぞれ、互いに対して実質的に同じ配向、およびスクリーンの表面に対して実質的に同じ配向を有することができる。例えば、開口部１５２は、それぞれ、スクリーン１５１の横軸１５８を横切って横方向に延在する開口部１５２の第１列１５６に関して第１平面１５５を定義する第１エッジ１５４を有することができる。第１平面１５５は、スクリーン１５１の縦軸１５７に実質的に直交する方向に延在することができる。しかし、他の場合において、開口部１５２は、互いに対して必ずしも同じ配向を有する必要がないことが認識される。

また、開口部１５２の第１列１５６は、成形研磨粒子の特定の加工および制御された形成を容易にするように並進の方向に対して配向されてよい。例えば、開口部１５２は、第１列１５６の第１平面１５５が並進１７１の方向に対して角度を定義するようにスクリーン１５１に配置されていてよい。示すように、第１平面１５５は、並進１７１の方向に実質的に直交する角度を定義してよい。さらに、一実施形態において、開口部１５２は、第１列１５６の第１平面１５５が、例えば、鋭角または鈍角を含めた、並進の方向に関して異なる角度を定義するようにスクリーン１５１に配置されていてよいことが認識される。さらに、開口部１５２は必ずしも列をなして配置されていなくてもよいことが認識される。開口部１５２は、スクリーン１５１において互いに関して種々の特定の秩序分布で、例えば、二次元パターンの形態で配置されていてよい。代替的には、開口部は、スクリーン１５１においてランダムに設けられていてよい。

図１Ａを再び参照すると、スクリーン１５１において、ダイ開口部１０５を通して混合物１０１を、開口部１５２を通して混合物１０１の一部を押し進めた後、１つ以上の前駆体の成形研磨粒子１２３が、スクリーン１５１下に設けられたベルト１０９に印刷されてよい。特定の実施形態によると、前駆体の成形研磨粒子１２３は、開口部１５２の形状を実質的に複製する形状を有することができる。とりわけ、混合物１０１は、スクリーンを通して迅速に押し進められてよく、その結果、混合物１０１の開口部１５２内での平均滞留時間が、約２分未満、約１分未満、約４０秒未満、またはさらには約２０秒未満となり得る。特定の非限定的な実施形態において、混合物１０１は、スクリーン開口部１５２を通って進行するとき、印刷の間に実質的に変更されず、これにより、元の混合物からの成分量の変化を経験しなくてよく、また、スクリーン１５１の開口部１５２における相当な乾燥を経験しなくてよい。

加えて、システム１５１は、適用ゾーン１８３内に下段１９８を含むことができる。成形研磨粒子を形成するプロセスの間、ベルト１０９は、下段１９８上を進行することができ、形成に好適な基材を付与することができる。一実施形態によると、下段１９８は、本明細書における実施形態による成形研磨粒子の形成を容易にするのに適した構成を有する金属または金属合金などの例えば無機材料を含む特に剛性の構成を含むことができる。また、下段１９８は、ベルト１０９と直接接触しかつ特定の幾何学形状および／または寸法（例えば、平坦さ、表面粗さなど）を有する上面を有することができ、成形研磨粒子の寸法特性の制御の改良を容易にすることもできる。

システム１５０の操作の間、スクリーン１５１は方向１５３に並進されてよく、一方で、ベルト１０９は、連続する印刷操作を容易にするように、少なくとも適用ゾーン１８３内で、方向１５３と実質的に同様の方向１１０に並進されてよい。こうして、前駆体の成形研磨粒子１２３は、ベルト１０９上に印刷され、ベルト１０９に沿って並進されて、さらなる加工を経ることができる。かかるさらなる加工は、例えば、成形、他の材料（例えば、ドーパント材料）の適用、乾燥などを含めた、本明細書における実施形態に記載されているプロセスを含むことができることが認識される。

いくつかの実施形態において、ベルト１０９および／またはスクリーン１５１は、ダイ開口部１０５を通して混合物１０１を押し出しながら並進されてよい。システム１００に示すように、混合物１０１は、方向１９１に押し出されてよい。ベルト１０９および／またはスクリーン１５１の並進の方向１１０は、混合物１０１の押し出し１９１の方向に対して角度付けられ得る。並進の方向１１０と押し出し１９１の方向との間の角度がシステム１００に実質的に直交するとして示されているが、例えば、鋭角または鈍角を含めた他の角度も企図される。

ベルト１０９および／またはスクリーン１５１は、加工を容易にする特定の速度で並進されてよい。例えば、ベルト１０９および／またはスクリーン１５１は、少なくとも約３ｃｍ／ｓの速度で並進されてよい。他の実施形態において、ベルト１０９および／またはスクリーン１５１の並進の速度は、より高速、例えば、少なくとも約４ｃｍ／ｓ、少なくとも約６ｃｍ／ｓ、少なくとも約８ｃｍ／ｓ、またはさらには少なくとも約１０ｃｍ／ｓであってよい。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、ベルト１０９および／またはスクリーン１５１は、約５ｍ／ｓ以下、約１ｍ／ｓ以下、またはさらには約０．５ｍ／ｓ以下の速度で方向１１０に並進されてよい。ベルト１０９および／またはスクリーン１５１は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内の速度で並進されてよく、また、互いに対して実質的に同じ速度で並進されてよいことが認識される。さらに、本明細書における実施形態によるある特定のプロセスでは、方向１９１における混合物１０１の押出速度と比較してベルト１０９の並進の速度が制御されて適当な加工を容易にすることができる。

混合物１０１は、ダイ開口部１０５を通して押し出された後、ダイ１０３の表面に取り付けられたナイフエッジ１０７の下でベルト１０９に沿って並進されてよい。ナイフエッジ１０７は、スクリーン１５１の開口部１５２内への混合物１０１の移転を容易にするダイ１０３の前の領域を定義することができる。

ある特定の加工パラメータは、本明細書に記載されている前駆体の成形研磨粒子１２３および最終的に形成される成形研磨粒子の特定の特徴の形成を容易にするように制御され得る。制御され得るいくつかの例示的なプロセスパラメータとして、離型距離１９７、混合物の粘度、混合物の貯蔵弾性率、下段の機械的特性、下段の幾何学的または寸法特性、スクリーンの厚さ、スクリーンの剛性、混合物の固体含量、混合物の担体含量、離型角度、並進速度、温度、離型剤の含量、混合物に及ぼされる圧力、ベルトの速度、およびこれらの組み合わせが挙げられる。

一実施形態によると、１つの特定のプロセスパラメータは、充填位置と離型位置との間の離型距離１９７を制御することを含むことができる。特に、離型距離１９７は、ダイ１０３の端部と、スクリーン１５１およびベルト１０９間の分離開始点との間の、ベルト１０９の並進の方向１１０に測定した距離であってよい。一実施形態によると、離型距離１９７を制御することは、前駆体の成形研磨粒子１２３または最終的に形成される成形研磨粒子の少なくとも１つの寸法特性に影響し得る。また、離型距離１９７の制御は、限定されないが、長さ、幅、内部高さ（ｈｉ）、内部高さの変動（Ｖｈｉ）、高さ差、プロファイル比、フラッシング指数、凹み指数、すくい角、本明細書における実施形態の任意の寸法特性変動、およびこれらの組み合わせを含めた成形研磨粒子の寸法特性の組み合わせに影響し得る。

一実施形態によると、離型距離１９７は、スクリーン１５１の長さ以下であってよい。他の場合において、離型距離１９７は、スクリーン１５１の幅以下であってよい。さらに、１つの特定の実施形態において、離型距離１９７は、スクリーン１５１における開口部１５２の最大寸法の１０倍以下であってよい。例えば、開口部１５２は、例えば図１Ｂに示されている三角形状を有することができ、離型距離１９７は、三角形状を定義する開口部１５２の一辺の長さの１０倍以下であってよい。他の場合において、離型距離１９７は、より短く、例えば、スクリーン１５１における開口部１５２の最大寸法の約８倍以下、例えば、約５倍以下、約３倍以下、約２倍以下、またはさらにはスクリーン１５１における開口部１５２の最大寸法以下であってよい。

より詳細な例において、離型距離１９７は、約３０ｍｍ以下、例えば、約２０ｍｍ以下、またはさらには約１０ｍｍ以下であってよい。少なくとも１つの実施形態では、離型距離は、実質的にゼロであってよく、より詳細には、本質的にゼロであってよい。したがって、混合物１０１は、適用ゾーン１８３内の開口部１５２内に置かれてよく、スクリーン１５１およびベルト１０９は、ダイ１０３の端部で、またはさらにはダイ１０３の端部の前で互いから分離していてよい。

１つの特定の形成方法によると、離型距離１９７は、本質的にゼロであってよく、混合物１０１による開口部１５２の充填およびベルト１０９とスクリーン１５１との間の分離を実質的に同時に行うことを容易にすることができる。例えば、スクリーン１５１およびベルト１０９がダイ１０３の端部を通って適用ゾーン１８３を出る前に、スクリーン１５１およびベルト１０９の分離が開始されてよい。より特定的な実施形態において、スクリーン１５１とベルト１０９との間の分離は、開口部１５２が混合物１０１で充填された直後に、適用ゾーン１８３を離れる前に、また、スクリーン１５１がダイ１０３の下にある間に開始されてよい。なお別の実施形態において、スクリーン１５１とベルト１０９との間の分離は、混合物１０１がスクリーン１５１の開口部１５２内に置かれている間に開始されてよい。代替の実施形態において、スクリーン１５１とベルト１０９との間の分離は、混合物１０１がスクリーン１５１の開口部１５２に置かれる前に開始されてよい。例えば、開口部１５２がダイ開口部１０５の下を通る前に、ベルト１０９およびスクリーン１５１が分離されていて、その結果、混合物１０１が開口部１５２内に押し進められながらも、ベルト１０９とスクリーン１５１との間にギャップが存在することとなる。

例えば、図２は、離型距離１９７が実質的にゼロであり、ベルト１０９とスクリーン１５１との間の分離がベルト１０９およびスクリーン１５１がダイ開口部１０５の下を通る前に開始される印刷操作を示す。より詳細には、ベルト１０９とスクリーン１５１との間の離型が、ベルト１０９およびスクリーン１５１が適用ゾーン１８３に入りダイ１０３の前部の下を通るときに開始される。さらに、いくつかの実施形態において、ベルト１０９およびスクリーン１５１の分離が、ベルト１０９およびスクリーン１５１が（ダイ１０３の前部によって定義される）適用ゾーン１８３に入る前に起こり得、その結果、離型距離１９７が負の値となる場合があることが認識される。

離型距離１９７の制御は、改良された寸法特性および改良された寸法公差（例えば、低い寸法特性変動）を有する成形研磨粒子の制御された形成を容易にすることができる。例えば、離型距離１９７を減少させることは、他の加工パラメータを制御することと組み合わされて、より大きな内部高さ（ｈｉ）値を有する成形研磨粒子の改良された形成を容易にすることができる。

加えて、図２に示すように、ベルト１０９の表面とスクリーン１５１の下面１９８との間の分離高さ１９６の制御は、改良された寸法特性および改良された寸法公差（例えば、低い寸法特性変動）を有する成形研磨粒子の制御された形成を容易にすることができる。分離高さ１９６は、スクリーン１５１の厚さ、ベルト１０９とダイ１０３との間の距離、およびこれらの組み合わせに関係し得る。また、前駆体の成形研磨粒子１２３の１つ以上の寸法特性（例えば、内部高さ）は、分離高さ１９６およびスクリーン１５１の厚さを制御することによって制御されてよい。特定の例において、スクリーン１５１は、約７００μｍ以下、例えば、約６９０μｍ以下、約６８０μｍ以下、約６７０μｍ以下、約６５０μｍ以下、または約６４０μｍ以下の平均厚さを有することができる。さらに、スクリーンの平均厚さは、少なくとも約１００μｍ、例えば、少なくとも約３００μｍ、またはさらには少なくとも約４００μｍであってよい。

１つの実施形態において、制御のプロセスとして、測定、計算、調整、およびこれらの組み合わせを含むことができる多段階プロセスを挙げることができる。かかるプロセスは、プロセスパラメータ、寸法特性、寸法特性の組み合わせ、およびこれらの組み合わせに適用され得る。例えば、一実施形態において、制御は、１つ以上の寸法特性を測定することと、１つ以上の寸法特性の測定のプロセスに基づいて１つ以上の値を計算することと、１つ以上の計算値に基づいて１つ以上のプロセスパラメータ（例えば、離型距離１９７）を調整することとを含むことができる。制御のプロセス、特に、測定、計算、および調整のプロセスのいずれかが、成形研磨粒子の形成の前、後または間に完了してよい。１つの特定の実施形態において、制御プロセスは、連続プロセスであって、１つ以上の寸法特性が測定され、１つ以上のプロセスパラメータが、測定された寸法特性に応じて変更される（すなわち、調整される）プロセスであってよい。例えば、制御のプロセスは、前駆体の成形研磨粒子１２３の高さ差などの寸法特性を測定することと、前駆体の成形研磨粒子１２３の高さ値の差を計算することと、離型距離１９７を変更して前駆体の成形研磨粒子１２３の高さ値の差を変更することとを含むことができる。

図１を再び参照すると、スクリーン１５１の開口部１５２内に混合物１０１を押し出した後、ベルト１０９およびスクリーン１５１は、ベルト１０９およびスクリーン１５１が前駆体の成形研磨粒子１２３の形成を容易にするように分離され得る離型ゾーン１８５に並進されてよい。実施形態によると、スクリーン１５１およびベルト１０９は、特定の離型角度で離型ゾーン１８５内において互いから分離されていてよい。

実際には、示すように、前駆体の成形研磨粒子１２３は、種々の処理プロセスが行われ得る一連のゾーンを通って並進されてよい。いくつかの好適な例示的な処理プロセスとして、乾燥、加熱、硬化、反応、照射、混合、撹拌、振とう、平坦化、仮焼、焼結、粉砕、篩分け、ドーピング、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。一実施形態によると、前駆体の成形研磨粒子１２３は、任意選択的な成形ゾーン１１３を通して並進されてよく、粒子の少なくとも１つの外面が、本明細書における実施形態に記載されているように成形されてよい。さらに、前駆体の成形研磨粒子１２３は、任意選択的な適用ゾーン１３１を通して並進されてよく、ドーパント材料が、本明細書における実施形態に記載されているように粒子の少なくとも１つの外面に適用され得る。さらにまた、前駆体の成形研磨粒子１２３は、任意選択的な後形成ゾーン１２５を通してベルト１０９において並進されてよく、例えば乾燥を含む種々のプロセスが、本明細書における実施形態に記載されているように前駆体の成形研磨粒子１２３において行われてよい。

適用ゾーン１３１は、１つ以上の前駆体の成形研磨粒子１２３の少なくとも１つの外面に材料を適用するのに用いられてよい。実施形態によると、ドーパント材料が前駆体の成形研磨粒子１２３に適用されてよい。より詳細には、図１に示すように、適用ゾーン１３１は、後形成ゾーン１２５の前に位置付けられ得る。こうして、ドーパント材料を適用するプロセスは、前駆体の成形研磨粒子１２３において完了し得る。しかし、適用ゾーン１３１は、システム１００内の他の箇所に位置付けられてよいことが認識される。例えば、ドーパント材料を適用するプロセスは、前駆体の成形研磨粒子１２３を形成した後、より詳細には後形成ゾーン１２５の後に完了し得る。本明細書においてより詳細に記載されている、なお他の例において、ドーパント材料を適用するプロセスは、前駆体の成形研磨粒子１２３を形成するプロセスと同時に行われてよい。

適用ゾーン１３１内において、ドーパント材料は、例えば、噴霧、浸漬、堆積、含浸、転写、打ち抜き、切削、押圧、破砕、およびこれらの任意の組み合わせを含めた種々の方法を利用して適用されてよい。特定の例において、適用ゾーン１３１は、ドーパント材料を前駆体の成形研磨粒子１２３上に噴霧するのにスプレーノズル、またはスプレーノズル１３２および１３３の組み合わせを利用することができる。

実施形態によると、ドーパント材料の適用として、特定の材料、例えば前駆体の適用を挙げることができる。ある特定の場合において、前駆体は、最終的に形成される成形研磨粒子に組み込まれるドーパント材料を含む塩、例えば金属塩であってよい。例えば、金属塩は、ドーパント材料に対する前駆体である元素または化合物を含むことができる。塩材料は、液体の形態、例えば、塩および液体担体を含む分散液中にあってよいことが認識される。塩は窒素を含んでいてよく、より詳細には、硝酸塩を含むことができる。他の実施形態において、塩は、塩化物、硫酸塩、リン酸塩、およびこれらの組み合わせであってよい。１つの実施形態において、塩は、金属硝酸塩を含んでいてよく、より詳細には、金属硝酸塩から本質的になっていてよい。

１つの実施形態において、ドーパント材料として、元素または化合物、例えば、アルカリ元素、アルカリ土類元素、希土類元素、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、バナジウム、またはこれらの組み合わせを挙げることができる。１つの特定の実施形態において、ドーパント材料として、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ニオブ、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、バナジウム、クロム、コバルト、鉄、ゲルマニウム、マンガン、ニッケル、チタン、亜鉛、およびこれらの組み合わせなどの元素を含めた、元素または化合物が挙げられる。

特定の例において、ドーパント材料を適用するプロセスは、前駆体の成形研磨粒子１２３の少なくとも１つの外面にドーパント材料を選択的に置くことを含むことができる。例えば、ドーパント材料を適用するプロセスは、前駆体の成形研磨粒子１２３の上面または底面へのドーパント材料の適用を含むことができる。なお別の実施形態において、前駆体の成形研磨粒子１２３の１つ以上の側面は、これにドーパント材料が適用されるように処理され得る。前駆体の成形研磨粒子１２３の種々の外面にドーパント材料を適用するのに種々の方法が用いられてよいことが認識される。例えば、前駆体の成形研磨粒子１２３の上面または側面にドーパント材料を適用するのに噴霧プロセスが用いられてよい。さらに、代替の実施形態において、ドーパント材料は、浸漬、堆積、含浸、またはこれらの組み合わせなどのプロセスを通して前駆体の成形研磨粒子１２３の底面に適用されてよい。ベルト１０９の表面は、前駆体の成形研磨粒子１２３の底面へのドーパント材料の転写を容易にするようにドーパント材料によって処理されてよいことが認識される。

前駆体の成形研磨粒子１２３を形成した後、該粒子は、後形成ゾーン１２５を通して並進されてよい。前駆体の成形研磨粒子１２３の処理を含めた種々のプロセスが後形成ゾーン１２５において行われてよい。１つの実施形態において、後形成ゾーン１２５は、前駆体の成形研磨粒子１２３が乾燥され得る加熱プロセスを含むことができる。乾燥は、揮発性物質、例えば水を含めた、特定の材料分の除去を含んでいてよい。実施形態によると、乾燥プロセスは、約３００℃以下、例えば、約２８０℃以下、またはさらには約２５０℃以下の乾燥温度で行われ得る。さらに、１つの非限定的な実施形態において、乾燥プロセスは、少なくとも約５０℃の乾燥温度で行われてよい。乾燥温度は、上記に記述した最低および最高温度のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。さらに、前駆体の成形研磨粒子１２３は、特定の速度、例えば、少なくとも約０．２フィート／分かつ約８フィート／分以下で後形成ゾーン１２５を通って並進されてよい。

さらに、乾燥プロセスは、特定の継続時間にわたって行われてよい。例えば、乾燥プロセスは、約６時間以下であってよい。

前駆体の成形研磨粒子１２３は、後形成ゾーン１２５を通って並進された後、ベルト１０９から除去されてよい。前駆体の成形研磨粒子１２３は、さらなる加工のために瓶１２７に収集されてよい。

実施形態によると、成形研磨粒子を形成するプロセスは、焼結プロセスをさらに含んでいてよい。本明細書における実施形態のある特定のプロセスにおいて、焼結は、ベルト１０９から前駆体の成形研磨粒子１２３を収集した後に行われ得る。代替的には、焼結は、前駆体の成形研磨粒子１２３がベルト１０９上にある間に行われるプロセスであってよい。前駆体の成形研磨粒子１２３の焼結は、概してグリーン状態にある粒子を高密度化するのに利用されてよい。特定の例において、焼結プロセスは、セラミック材料の高温相の形成を容易にすることができる。例えば、一実施形態において、前駆体の成形研磨粒子１２３は、アルミナ、例えば、α−アルミナの高温相が形成されるように焼結されてよい。一例において、成形研磨粒子は、粒子の合計重量の少なくとも約９０重量％のα−アルミナを含むことができる。他の場合において、α−アルミナの含量は、成形研磨粒子がα−アルミナから本質的になり得るようにより多くてよい。

加えて、最終的に形成される成形研磨粒子の本体は、特定の二次元形状を有することができる。例えば、本体は、本体の長さおよび幅によって定義される平面で見たとき、二次元形状を有することができ、多角形、楕円体、数字、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、多角形の組み合わせを含む複雑な形状、およびこれらの組み合わせを含めた形状を有することができる。特定の多角形として、三角形、矩形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形、およびこれらの任意の組み合わせが挙げられる。別の実施形態において、本体は、本体の長さおよび幅によって定義される平面で見たとき、楕円体、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される形状を含めた二次元形状を含むことができる。

図３Ａは、実施形態による成形研磨粒子３００の斜視図を含む。加えて、図３Ｂは、図３Ａの研磨粒子の断面図を含む。成形研磨粒子３００の本体３０１は、上主面３０３（すなわち、第１主面）、および上主面３０３に対向する底主面３０４（すなわち、第２主面）を含む。上面３０３および底面３０４は、側面３０５、３０６、および３０７によって互いから分離され得る。示すように、成形研磨粒子３００の本体３０１は、上面３０３の平面で見たとき略三角形状を有することができる。特に、本体３０１は、コーナー３１３から本体３０１の中点３８１を通り本体の対向するエッジ３１４における中点まで延在するとして本体３０１の底面３０４において測定されてよい、図３Ｂに示されている長さ（Ｌ中間）を有することができる。代替的には、本体３０１は、第１コーナー３１３から隣接するコーナー３１２までの、上面３０３における側方から見た本体３０１の寸法の尺度である第２長さまたはプロファイル長さ（Ｌｐ）によって定義され得る。とりわけ、Ｌ中間の寸法は、コーナーにおける高さ（ｈｃ）と、該コーナーと対向する中点エッジにおける高さ（ｈｍ）との間の距離を定義する長さであり得る。寸法Ｌｐは、ｈ１およびｈ２間の距離を定義する、（例えば図２Ａおよび２Ｂに示される側面図から分かるように）粒子３００の側方に沿ったプロファイル長さであり得る。本明細書における長さへの言及は、Ｌ中間またはＬｐのいずれを称してもよい。

本体３０１は、本体３０１の最長寸法であり側方に沿って延在している幅（ｗ）をさらに含むことができる。本体３０１は、本体３０１の側面によって定義される長さおよび幅に垂直な方向に延在する本体３０１の寸法であってよい高さ（ｈ）をさらに含むことができる。とりわけ、本明細書においてより詳細に記載されているように、本体３０１は、本体３０１での箇所に応じて種々の高さによって定義され得る。具体的な例において、幅は、長さ以上であってよく、長さは、高さ以上であってよく、幅は、高さ以上であってよい。

また、寸法特性（例えば、ｈ１、ｈ２、ｈｉ、ｗ、Ｌ中間、Ｌｐなど）を含めた、本明細書における実施形態の任意の特徴への言及は、バッチからの成形研磨粒子の好適なサンプリングの分析から誘導される、バッチの単一の成形研磨粒子の寸法、メジアン値、または平均値への言及であってよい。明確に記述されていない限り、本明細書における寸法特性への言及は、粒子バッチからの好適な数の粒子のサンプルサイズから誘導された統計的に有意な値に基づくメジアン値への言及であるとすることができる。とりわけ、本明細書におけるある特定の実施形態では、サンプルサイズは、粒子バッチからの少なくとも１０個のランダムに選択された粒子を含むことができる。粒子バッチは、市販グレードの研磨製品を形成するのに好適な量、例えば、少なくとも約２０ｌｂｓの成形研磨粒子を含んでいてよい。粒子バッチは、必ずしもそうである必要はないが、単一のプロセス運転から収集される粒子の群であってよい。

実施形態によると、成形研磨粒子の本体３０１は、コーナー３１３によって定義される本体の第１領域で第１コーナー高さ（ｈｃ）を有することができる。とりわけ、コーナー３１３は、本体３０１における最大高さの点を表すことができるが、コーナー３１３における高さは、必ずしも、本体３０１における最大高さの点を表していなくてもよい。コーナー３１３は、上面３０３、ならびに２つの側面３０５および３０７の接合によって定義される本体３０１上の点または領域として定義され得る。本体３０１は、例えば、コーナー３１１およびコーナー３１２を含めた互いに離間した他のコーナーをさらに含んでいてよい。さらに示すように、本体３０１は、コーナー３１１、３１２および３１３によって互いから分離され得るエッジ３１４、３１５、および３１６を含むことができる。エッジ３１４は、上面３０３と側面３０６との交差によって定義され得る。エッジ３１５は、コーナー３１１および３１３間で上面３０３と側面３０５との交差によって定義され得る。エッジ３１６は、コーナー３１２および３１３間で上面３０３と側面３０７との交差によって定義され得る。

さらに示すように、本体３０１は、コーナー３１３によって定義され得る第１端と対向し得るエッジ３１４の中点における領域によって定義され得る、本体３０１の第２端における第２中点高さ（ｈｍ）を含むことができる。軸３５０は、本体３０１の２つの端の間に延在し得る。図３Ｂは、コーナー３１３とエッジ３１４の中点との間の長さ（Ｌ中間）の寸法に沿って本体３０１の中点３８１を介して延在し得る軸３５０に沿った本体３０１の断面図である。

実施形態によると、例えば図３Ａおよび３Ｂの粒子を含めた、本明細書における実施形態の成形研磨粒子は、ｈｃおよびｈｍ間の差の尺度である平均高さ差を有することができる。本明細書における慣例で、平均高さ差は、ｈｃ−ｈｍとして概して同定されるが、該差の絶対値としても定義される。それゆえ、平均高さ差は、エッジ３１４の中点における本体３０１の高さがコーナー３１３における高さを超えるとき、ｈｍ−ｈｃとして算出されてよいことが認識される。より詳細には、平均高さ差は、好適なサンプルサイズからの複数の成形研磨粒子に基づいて算出され得る。粒子の高さｈｃおよびｈｍは、ＳＴＩＬ（Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ｅｔ Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｌｌｅｓ ｄｅ ｌａ Ｌｕｍｉｅｒｅ−Ｆｒａｎｃｅ）Ｍｉｃｒｏ Ｍｅａｓｕｒｅ ３Ｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔｅｒ（白色光（ＬＥＤ）色収差法）を使用して測定され得、平均高さ差は、サンプルからのｈｃおよびｈｍの平均値に基づいて算出され得る。

図３Ｂに示すように、１つの特定の実施形態において、成形研磨粒子３００の本体３０１は、本体３０１における種々の箇所での平均高さ差を有していてよい。本体３０１は、少なくとも約２０μｍである、第１コーナー高さ（ｈｃ）と第２中点高さ（ｈｍ）との間の絶対値［ｈｃ−ｈｍ］であり得る平均高さ差を有することができる。平均高さ差は、エッジの中点における本体３０１の高さが対向するコーナーにおける高さを超えるとき、ｈｍ−ｈｃとして算出されてよいことが認識される。他の場合において、平均高さ差［ｈｃ−ｈｍ］は、少なくとも約２５μｍ、少なくとも約３０μｍ、少なくとも約３６μｍ、少なくとも約４０μｍ、少なくとも約６０μｍ、例えば、少なくとも約６５μｍ、少なくとも約７０μｍ、少なくとも約７５μｍ、少なくとも約８０μｍ、少なくとも約９０μｍ、またはさらには少なくとも約１００μｍであってよい。１つの非限定的な実施形態において、平均高さ差は、約３００μｍ以下、例えば、約２５０μｍ以下、約２２０μｍ以下、またはさらには約１８０μｍ以下であってよい。平均高さ差は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。また、平均高さ差は、ｈｃの平均値に基づいていてよいことが認識される。例えば、コーナー（Ａｈｃ）における本体３０１の平均高さは、全てのコーナーにおける本体３０１の高さを測定し、該値を平均することによって算出され得、１つのコーナー（ｈｃ）における単一の高さ値と異なっていてよい。したがって、平均高さ差は、式［Ａｈｃ−ｈｉ］の絶対値によって付与されてよい。さらに、平均高さ差は、成形研磨粒子バッチからの好適なサンプルサイズから算出されたメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）と、サンプルサイズにおける全粒子のコーナーにおける平均高さとを使用して算出され得ることが認識される。したがって、平均高さ差は、式［Ａｈｃ−Ｍｈｉ］の絶対値によって付与されてよい。

特定の例において、本体３０１は、幅：長さとして表される比であり少なくとも１：１の値を有する一次アスペクト比を有するように形成され得る。他の場合において、本体３０１は、一次アスペクト比（ｗ：ｌ）が少なくとも約１．５：１、例えば、少なくとも約２：１、少なくとも約４：１、またはさらには少なくとも約５：１であるように形成され得る。さらに、他の場合において、研磨粒子３００は、本体３０１が約１０：１以下、例えば、９：１以下、約８：１以下、またはさらには約５：１以下である一次アスペクト比を有するように形成され得る。本体３０１は、上記に記述した比のいずれかの間の範囲内の一次アスペクト比を有することができることが認識される。さらに、本明細書における高さへの言及は、研磨粒子３００の測定可能な最大高さへの言及であり得ることが認識される。研磨粒子３００は、研磨粒子３００の本体３０１内の種々の位置で種々の高さを有していてよいことが後述されている。

一次アスペクト比に加えて、研磨粒子３００は、本体３０１が、高さがメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）である長さ：高さの比として定義され得る二次アスペクト比を含むように形成され得る。ある特定の場合において、二次アスペクト比は、少なくとも約１：１、例えば、少なくとも約２：１、少なくとも約４：１、またはさらには少なくとも約５：１であってよい。さらに、他の場合において、研磨粒子３００は、本体３０１が、約１：３以下、例えば、１：２以下、またはさらには約１：１以下である二次アスペクト比を有するように形成され得る。本体３０１は、上記に記述した比のいずれかの間の範囲内、例えば、約５：１と約１：１との間の範囲内の二次アスペクト比を有することができることが認識される。

別の実施形態によると、研磨粒子３００は、本体３０１が、高さがメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）である幅：高さ比によって定義される三次アスペクト比を含むように形成され得る。本体３０１の三次アスペクト比は、少なくとも約１：１、例えば、少なくとも約２：１、少なくとも約４：１、少なくとも約５：１、またはさらには少なくとも約６：１であってよい。さらに、他の場合において、研磨粒子３００は、本体３０１が、約３：１以下、例えば、２：１以下、またはさらには約１：１以下である三次アスペクト比を有するように形成され得る。本体３０１は、上記に記述した比のいずれかの間の範囲内、例えば、約６：１と約１：１との間の範囲内の三次アスペクト比を有することができることが認識される。

一実施形態によると、成形研磨粒子３００の本体３０１は、性能の改良を容易にすることができる特定の寸法を有することができる。例えば、一例において、本体３０１は、本体３０１における任意のコーナーと対向する中点エッジとの間の寸法に沿って測定される、本体３０１の高さの最小寸法であり得る内部高さ（ｈｉ）を有することができる。本体３０１が略三角形の二次元形状である特定の例において、内部高さ（ｈｉ）は、３つのコーナーおよび対向する中点のそれぞれの間で取られた３つの測定に関する本体３０１の高さの最小寸法（すなわち、底面３０４と上面３０５との間の尺度）であってよい。成形研磨粒子３００の本体３０１の内部高さ（ｈｉ）を図３Ｂに示す。一実施形態によると、内部高さ（ｈｉ）は、幅（ｗ）の少なくとも約２０％であり得る。高さ（ｈｉ）は、成形研磨粒子３００を分割または取り付けおよび粉砕し、本体３０１の内部内の最小高さ（ｈｉ）を求めるのに十分な方法（例えば、光学顕微鏡またはＳＥＭ）で観察することによって測定されてよい。１つの特定の実施形態において、高さ（ｈｉ）は、幅の少なくとも約２２％、例えば、本体３０１の幅の少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、またはさらには少なくとも約３３％であってよい。１つの非限定的な実施形態では、本体３０１の高さ（ｈｉ）が、本体３０１の幅の約８０％以下、例えば、幅の約７６％以下、約７３％以下、約７０％以下、約６８％以下、約５６％以下、約４８％以下、またはさらには約４０％以下であってよい。本体３０１の高さ（ｈｉ）は、上記に記述した最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

性能の改良を容易にすることができるメジアン内部高さ値（Ｍｈｉ）が制御され得る成形研磨粒子バッチが製造され得る。特に、バッチのメジアン内部高さ（ｈｉ）は、上記と同様にバッチの成形研磨粒子のメジアン幅と関係し得る。とりわけ、メジアン内部高さ（Ｍｈｉ）は、幅の少なくとも約２０％、例えば、バッチの成形研磨粒子のメジアン幅の少なくとも約２２％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、またはさらには少なくとも約３３％であってよい。１つの非限定的な実施形態では、本体３０１のメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）が、約８０％以下、例えば、本体３０１のメジアン幅の約７６％以下、約７３％以下、約７０％以下、約６８％以下、約５６％以下、約４８％以下、またはさらには約４０％以下であってよい。本体３０１のメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）は、上記に記述した最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

さらに、成形研磨粒子バッチは、好適なサンプルサイズからの寸法特性の標準偏差によって測定される寸法均一性の改良を示すことができる。一実施形態によると、成形研磨粒子は、バッチからの粒子の好適なサンプルサイズについての内部高さ（ｈｉ）の標準偏差として算出され得る内部高さ変動（Ｖｈｉ）を有することができる。一実施形態によると、内部高さ変動は、約６０μｍ以下、例えば、約５８μｍ以下、約５６μｍ以下、またはさらには約５４μｍ以下であってよい。１つの非限定的な実施形態において、内部高さ変動（Ｖｈｉ）は、少なくとも約２μｍであってよい。本体の内部高さ変動は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

別の実施形態では、成形研磨粒子３００の本体３０１は、少なくとも約４００μｍの内部高さ（ｈｉ）を有することができる。より詳細には、高さは、少なくとも約４５０μｍ、例えば、少なくとも約４７５μｍ、またはさらには少なくとも約５００μｍであってよい。さらなる１つの非限定的な実施形態において、本体３０１の高さは、約３ｍｍ以下、例えば、約２ｍｍ以下、約１．５ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、またはさらには約８００μｍ以下であってよい。本体３０１の高さは、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。また、上記範囲の値は、成形研磨粒子バッチに関するメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）の値を代表し得ることが認識される。

本明細書におけるある特定の実施形態では、成形研磨粒子３００の本体３０１が、例えば、幅≧長さ、長さ≧高さ、および幅≧高さを含む特定の寸法を有することができる。より詳細には、成形研磨粒子３００の本体３０１は、少なくとも約６００μｍ、例えば、少なくとも約７００μｍ、少なくとも約８００μｍ、またはさらには少なくとも約９００μｍの幅（ｗ）を有することができる。１つの非限定的な例において、本体３０１は、約４ｍｍ以下、例えば、約３ｍｍ以下、約２．５ｍｍ以下、またはさらには約２ｍｍ以下の幅を有することができる。本体３０１の幅は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。また、上記範囲の値は、成形研磨粒子バッチに関するメジアン幅（Ｍｗ）を代表し得ることが認識される。

成形研磨粒子３００の本体３０１は、例えば、少なくとも約０．４ｍｍ、例えば、少なくとも約０．６ｍｍ、少なくとも約０．８ｍｍ、またはさらには少なくとも約０．９ｍｍの長さ（Ｌ中間またはＬｐ）を含む特定の寸法を有することができる。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態では、本体３０１が、約４ｍｍ以下、例えば、約３ｍｍ以下、約２．５ｍｍ以下、またはさらには約２ｍｍ以下の長さを有することができる。本体３０１の長さは、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。また、上記範囲の値は、より詳細には、成形研磨粒子バッチに関するメジアン中間長さ（ＭＬ中間）またはメジアンプロファイル長さ（ＭＬｐ）であってよいメジアン長さ（Ｍｌ）を代表し得ることが認識される。

成形研磨粒子３００は、特定の凹み量を有する本体３０１を有することができ、凹み値（ｄ）は、内部における本体３０１の高さの最小寸法（ｈｉ）と比較した、コーナーにおける本体３０１の平均高さ（Ａｈｃ）との間の比として定義され得る。コーナーにおける本体３０１の平均高さ（Ａｈｃ）は、全てのコーナーにおける本体３０１の高さを測定し、その値を平均することによって算出され得、１つのコーナーにおける単一の高さ値（ｈｃ）と異なっていてよい。コーナーまたは内部における本体３０１の平均高さは、ＳＴＩＬ（Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ｅｔ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｌｌｅｓ ｄｅ ｌａ Ｌｕｍｉｅｒｅ−Ｆｒａｎｃｅ）Ｍｉｃｒｏ Ｍｅａｓｕｒｅ ３Ｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔｅｒ（白色光（ＬＥＤ）色収差法）を使用して測定され得る。代替的には、凹みは、バッチからの粒子の好適なサンプリングから算出される、コーナーにおける粒子のメジアン高さ（Ｍｈｃ）に基づいていてよい。同様に、内部高さ（ｈｉ）は、バッチからの成形研磨粒子の好適なサンプリングから誘導されるメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）であってよい。一実施形態によると、凹み値（ｄ）は、約２以下、例えば、約１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下、またはさらには約１．２以下であってよい。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、凹み値（ｄ）は、少なくとも約０．９、例えば、少なくとも約１．０であってよい。凹み比は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。また、上記凹み値は、成形研磨粒子バッチに関するメジアン凹み値（Ｍｄ）を代表し得ることが認識される。

例えば、図３Ａの粒子の本体３０１を含めた、本明細書における実施形態の成形研磨粒子は、底面積（Ａ_ｂ）を定義する底面３０４を有することができる。特定の例において、底面３０４は、本体３０１の最大表面であってよい。底主面３０４は、上主面３０３の表面積と異なる底面積（Ａ_ｂ）として定義される表面積を有することができる。１つの特定の実施形態において、底主面３０４は、上主面３０３の表面積と異なる底面積（Ａ_ｂ）として定義される表面積を有することができる。別の実施形態において、底主面３０４は、上主面３０３の表面積より小さい底面積（Ａ_ｂ）として定義される表面積を有することができる。

加えて、本体３０１は、底面積（Ａ_ｂ）に垂直な平面の面積を定義しかつ粒子３００の中点３８１を通って延在する断面中点面積（Ａ_ｍ）を有することができる。ある特定の場合において、本体３０１は、約６以下の、底面積対中点面積の面積比（Ａ_ｂ／Ａ_ｍ）を有することができる。より詳細な例において、面積比は、約５．５以下、例えば、約５以下、約４．５以下、約４以下、約３．５以下、またはさらには約３以下であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、面積比は、少なくとも約１．１、例えば、少なくとも約１．３、またはさらには少なくとも約１．８であってよい。面積比は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。また、上記面積比は、成形研磨粒子バッチに関するメジアン面積比を代表し得ることが認識される。

さらに、例えば、図３Ｂの粒子を含む、本明細書における実施形態の成形研磨粒子は、約０．３以下の正規化された高さ差を有することができる。正規化された高さ差は、式［（ｈｃ−ｈｍ）／（ｈｉ）］の絶対値によって定義され得る。他の実施形態において、正規化された高さ差は、約０．２６以下、例えば、約０．２２以下、またはさらには約０．１９以下であってよい。さらに、１つの特定の実施形態において、正規化された高さ差は、少なくとも約０．０４、例えば、少なくとも約０．０５、またはさらには少なくとも約０．０６であってよい。正規化された高さ差は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。また、上記正規化された高さ値は、成形研磨粒子バッチに関する正規化されたメジアン高さ値を代表し得ることが認識される。

別の例において、本体３０１は、少なくとも約０．０４のプロファイル比を有することができ、プロファイル比は、［（ｈｃ−ｈｍ）／（Ｌ中間）］の絶対値として定義される、成形研磨粒子３００の長さ（Ｌ中間）に対する平均高さ差［ｈｃ−ｈｍ］の比として定義される。本体３０１の長さ（Ｌ中間）は、図３Ｂに示すように、本体３０１を横切る距離であり得ることが認識される。また、長さは、本明細書において定義されているように、成形研磨粒子バッチからの粒子の好適なサンプリングから算出される平均またはメジアン長さであってよい。特定の実施形態によると、プロファイル比は、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０６、少なくとも約０．０７、少なくとも約０．０８、またはさらには少なくとも約０．０９であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、プロファイル比は、約０．３以下、例えば、約０．２以下、約０．１８以下、約０．１６以下、またはさらには約０．１４以下であってよい。プロファイル比は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。また、上記プロファイル比は、成形研磨粒子バッチに関するメジアンプロファイル比を代表し得ることが認識される。

別の実施形態によると、本体３０１は、本体３０１の底面３０４と側面３０５、３０６または３０７との間の角度として定義されてよい特定のすくい角を有することができる。例えば、すくい角は、約１°と約８０°との間の範囲内であってよい。本明細書における他の粒子では、すくい角が、約５°と５５°との間、例えば、約１０°と約５０°との間、約１５°と５０°との間、またはさらには約２０°と５０°との間の範囲内であってよい。かかるすくい角を有する研磨粒子の形成は、研磨粒子３００の研磨能力を改良することができる。とりわけ、すくい角は、上記に記述したすくい角のいずれか２つの間の範囲内であってよい。

別の実施形態によると、例えば、図３Ａおよび３Ｂの粒子を含めた、本明細書における成形研磨粒子は、本体３０１の上面３０３における楕円領域３１７を有することができる。楕円領域３１７は、上面３０３の周囲に延在し楕円領域３１７を定義することができるトレンチ領域３１８によって定義され得る。楕円領域３１７は、中点３８１を包含することができる。また、上面３０３において定義されている楕円領域３１７は、形成プロセスのアーチファクトであり得、本明細書に記載されている方法による成形研磨粒子の形成の間に混合物１０１にかけられる応力の結果として形成されてよいことが考えられる。

成形研磨粒子３００は、本体３０１が結晶材料、より詳細には多結晶材料を含むように形成され得る。とりわけ、多結晶材料は、砥粒を含むことができる。１つの実施形態において、本体３０１は、例えばバインダを含めた有機材料を本質的に含まなくてよい。より詳細には、本体３０１は、多結晶材料から本質的になっていてよい。

１つの態様において、成形研磨粒子３００の本体３０１は、研磨粒子３００の本体３０１を形成するように互いに接着された複数の研磨粒子、研磨グリット、および／または砥粒を含む凝集体であってよい。好適な砥粒は、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、オキシボレート、ダイヤモンド、およびこれらの組み合わせを含むことができる。特定の例において、砥粒は、酸化物化合物または錯体、例えば、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化クロム、酸化ストロンチウム、酸化ケイ素、およびこれらの組み合わせを含むことができる。１つの特定の例において、研磨粒子３００は、本体３０１を形成する砥粒がアルミナを含み、より詳細にはアルミナから本質的になっていてよいように形成される。また、特定の例において、成形研磨粒子３００は、種添加ゾルゲルから形成され得る。

本体３０１内に含有される砥粒（すなわち、晶子）は、一般に約１００μｍ以下である平均顆粒サイズを有していてよい。他の実施形態において、平均顆粒サイズは、より小さく、例えば、約８０μｍ以下、約５０μｍ以下、約３０μｍ以下、約２０μｍ以下、約１０μｍ以下、またはさらには約１μｍ以下であってよい。さらに、本体３０１内に含有される砥粒の平均顆粒サイズは、少なくとも約０．０１μｍ、例えば、少なくとも約０．０５μｍ、例えば、少なくとも約０．０８μｍ、少なくとも約０．１μｍ、またはさらには少なくとも約０．５μｍであってよい。砥粒は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内の平均顆粒サイズを有することができることが認識される。

ある特定の実施形態によると、研磨粒子３００は、本体３０１内に少なくとも２つの異なるタイプの顆粒を含む複合物品であってよい。異なるタイプの顆粒は、互いに対して異なる組成を有する顆粒であることが認識される。例えば、本体３０１は、少なくとも２つの異なるタイプの顆粒を含むように形成され得、２つの異なるタイプの顆粒は、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、オキシボレート、ダイヤモンド、およびこれらの組み合わせであってよい。

実施形態によると、研磨粒子３００は、本体３０１において測定可能な最大寸法によって測定される、少なくとも約１００μｍの平均粒径を有することができる。実際に、研磨粒子３００は、少なくとも約１５０μｍ、例えば、少なくとも約２００μｍ、少なくとも約３００μｍ、少なくとも約４００μｍ、少なくとも約５００μｍ、少なくとも約６００μｍ、少なくとも約７００μｍ、少なくとも約８００μｍ、またはさらには少なくとも約９００μｍの平均粒径を有することができる。さらに、研磨粒子３００は、約５ｍｍ以下、例えば、約３ｍｍ以下、約２ｍｍ以下、またはさらには約１．５ｍｍ以下である平均粒径を有することができる。研磨粒子３００は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内の平均粒径を有することができることが認識される。

本明細書における実施形態の成形研磨粒子は、性能の改良を容易にすることができるパーセントフラッシングを有することができる。とりわけ、フラッシングは、例えば図４に示す１つの側方に沿って見たときの粒子の面積を定義し、フラッシングは、ボックス４０２および４０３内で本体３０１の側面から延在している。フラッシングは、本体３０１の上面３０３および底面３０４に近いテーパー状の領域を表すことができる。フラッシングは、本体３０１の側面の最も内側の点（例えば、４２１）と本体３０１の側面の最も外側の点（例えば、４２２）との間に延在するボックス内に含有される側面に沿った本体３０１の面積の百分率として測定され得る。１つの特定の例において、本体３０１は、特定の含量のフラッシングを有することができ、フラッシングは、ボックス４０２、４０３、および４０４内に含有される本体３０１の合計面積と比較した、ボックス４０２および４０３内に含有される本体３０１の面積の百分率であってよい。一実施形態によると、本体３０１のパーセントフラッシング（ｆ）は、少なくとも約１％であってよい。別の実施形態において、パーセントフラッシングは、より大きく、例えば、少なくとも約２％、少なくとも約３％、少なくとも約５％、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、例えば、少なくとも約１５％、少なくとも約１８％、またはさらには少なくとも約２０％であってよい。さらに、非限定的な実施形態において、本体３０１のパーセントフラッシングは、制御され得、約４５％以下、例えば、約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下、またはさらには約４％以下であってよい。本体３０１のパーセントフラッシングは、上記最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。また、上記フラッシング百分率は、成形研磨粒子バッチに関する平均フラッシング百分率またはメジアンフラッシング百分率を代表し得ることが認識される。

パーセントフラッシングは、成形研磨粒子３００をその１つの側方において取り付け、該側方で本体３０１を見て、例えば図４に示す黒白画像を生成することによって測定され得る。これに好適なプログラムとして、ＩｍａｇｅＪソフトウエアが挙げられる。パーセントフラッシングは、中心４０４における、ボックス内の面積を含めた、上記側方で見たときの本体３０１の合計面積（斜線部合計面積）と比較して、ボックス４０２および４０３における本体３０１の面積を求めることによって算出され得る。かかる手順は、平均、メジアン、および／または標準偏差値を生成するために好適な粒子サンプリングで完了され得る。

本明細書における実施形態による成形研磨粒子バッチは、好適なサンプルサイズからの寸法特性の標準偏差によって測定される寸法均一性の改良を示すことができる。一実施形態によると、成形研磨粒子は、バッチからの粒子の好適なサンプルサイズに関するフラッシング百分率（ｆ）の標準偏差として算出され得るフラッシング変動（Ｖｆ）を有することができる。一実施形態によると、フラッシング変動は、約５．５％以下、例えば、約５．３％以下、約５％以下、または約４．８％以下、約４．６％以下、またはさらには約４．４％以下であってよい。１つの非限定的な実施形態において、フラッシング変動（Ｖｆ）は、少なくとも約０．１％であってよい。フラッシング変動は、上記に記述した最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

本明細書における実施形態の成形研磨粒子は、少なくとも４０００の、高さ（ｈｉ）×フラッシング乗数値（ｈｉＦ）を有することができ、ここで、ｈｉＦ＝（ｈｉ）（ｆ）であり、「ｈｉ」が、上記に記載した本体３０１の最小内部高さを表し、「ｆ」がパーセントフラッシングを表す。１つの特定の例において、本体３０１の高さ−フラッシング乗数値（ｈｉＦ）は、より大きく、例えば、少なくとも約４５００μｍ％、少なくとも約５０００μｍ％、少なくとも約６０００μｍ％、少なくとも約７０００μｍ％、またはさらには少なくとも約８０００μｍ％であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、高さ−フラッシング乗数値は、約４５０００μｍ％以下、例えば、約３００００μｍ％以下、約２５０００μｍ％以下、約２００００μｍ％以下、またはさらには約１８０００μｍ％以下であってよい。本体３０１の高さ−フラッシング乗数値は、上記最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。また、上記乗数値は、成形研磨粒子バッチに関するメジアン乗数値（ＭｈｉＦ）を代表し得ることが認識される。

固定研磨物品
成形研磨粒子を形成または調達した後、該粒子は、他の材料と合わされて固定研磨物品を形成することができる。いくつかの好適な例示的な固定研磨物品として、成形研磨粒子が接着材料の三次元マトリクスに含有されている接着研磨物品、および成形研磨粒子が裏打ちを覆う単一層に分散されて、１つ以上の接着層を用いて裏打ちに接着されていてよい被覆研磨物品を挙げることができる。粒子は、裏打ちと合わされて被覆研磨物品を形成することができる。

図５は、実施形態による被覆研磨物品の断面図を示す。特に、被覆研磨物品５００は、基材５０１（すなわち、裏打ち）と、基材５０１の表面を覆う少なくとも１つの接着層とを含むことができる。接着層は、メイクコート５０３および／またはサイズコート５０４を含むことができる。被覆研磨材５００は、本明細書における実施形態の成形研磨粒子５０５と、必ずしも成形研磨粒子でなくてよい、ランダム形状を有する希釈研磨粒子の形態の第２タイプの研磨粒子状材料５０７とを含むことができる研磨粒子状材料５１０を含むことができる。メイクコート５０３は、基材５０１の表面を覆っていて、成形研磨粒子５０５および第２タイプの研磨粒子状材料５０７の少なくとも一部を包囲していてよい。サイズコート５０４は、成形研磨粒子５０５と、第２タイプの研磨粒子状材料５０７と、メイクコート５０３とを覆い、これらに接着されていてよい。

一実施形態によると、基材５０１は、有機材料、無機材料、およびこれらの組み合わせを含むことができる。ある特定の場合において、基材５０１は、織布材料を含むことができる。しかし、基材５０１は、不織布材料からできていてよい。特に好適な基材材料は、ポリマー、特に、ポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリイミド、例えばＤｕＰｏｎｔ製ＫＡＰＴＯＮ、および紙を含めた有機材料を含むことができる。いくつかの好適な無機材料は、金属、金属合金、特に、銅、アルミニウム、鋼、およびこれらの組み合わせの箔を含むことができる。

ポリマー製剤は、研磨物品の任意の種々の層、例えば、フロントフィル、プレサイズ、メイクコート、サイズコート、および／またはスーパーサイズコートなどを形成するのに用いられてよい。ポリマー製剤は、フロントフィルを形成するのに用いられるとき、ポリマー樹脂、フィブリル化繊維（好ましくはパルプの形態）、フィラー材料、および他の任意選択的な添加剤を一般に含む。いくつかのフロントフィルの実施形態に好適な製剤は、例えば、フェノール樹脂、ウォラストナイトフィラー、消泡剤、界面活性剤、フィブリル化繊維、および残部の水などの材料を含むことができる。好適なポリマー樹脂材料は、フェノール樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／ラテックス樹脂、およびかかる樹脂の組み合わせを含めた熱硬化性樹脂から選択される硬化性樹脂を含む。他の好適なポリマー樹脂材料はまた、放射線硬化性樹脂、例えば、電子線、ＵＶ放射線、または可視光を用いて硬化可能なかかる樹脂、例えば、エポキシ樹脂、アクリル化エポキシ樹脂のアクリル化オリゴマー、ポリエステル樹脂、アクリル化ウレタンおよびポリエステルアクリレート、ならびにモノアクリル化、マルチアクリル化モノマーを含めたアクリル化モノマーを含んでいてもよい。製剤は、浸食性を向上させることによって堆積される研磨粒子の自己先鋭化を向上することができる非反応性熱可塑性樹脂バインダを含むこともできる。かかる熱可塑性樹脂の例として、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、およびポリオキシプロピレン−ポリオキシエテンブロックコポリマーなどが挙げられる。基材５０１におけるフロントフィルの使用は、メイクコート５０３の好適な適用、ならびに所定の配向での成形研磨粒子５０５の改良された適用および配向のために、表面の均一性を改良することができる。

メイクコート５０３は、単一のプロセスにおいて基材５０１の表面に適用され得、代替的には、研磨粒子状材料５１０は、メイクコート５０３材料と合わされて、混合物として基材５０１の表面に適用され得る。メイクコート５０３の好適な材料として、有機材料、特に、例えば、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの混合物を含めたポリマー材料を挙げることができる。１つの実施形態において、メイクコート５０３は、ポリエステル樹脂を含むことができる。被覆された基材は、次いで、基材に樹脂および研磨粒子状材料を硬化させるために加熱されてよい。一般に、被覆された基材５０１は、該硬化プロセスの間、約１００℃から約２５０℃未満の間の温度で加熱されてよい。

研磨粒子状材料５１０は、本明細書における実施形態による成形研磨粒子５０５を含むことができる。特定の例において、研磨粒子状材料５１０は、異なるタイプの成形研磨粒子５０５を含んでいてよい。異なるタイプの成形研磨粒子は、本明細書における実施形態に記載されているように、組成において、二次元形状において、三次元形状において、サイズにおいて、およびこれらの組み合わせにおいて互いに異なり得る。示すように、被覆研磨材５００は、略三角形の二次元形状を有する成形研磨粒子５０５を含むことができる。

他のタイプの研磨粒子５０７は、成形研磨粒子５０５と異なる希釈粒子であってよい。例えば、希釈粒子は、組成において、二次元形状において、三次元形状において、サイズにおいて、およびこれらの組み合わせにおいて成形研磨粒子５０５と異なり得る。例えば、研磨粒子５０７は、ランダムな形状を有する従来の粉砕された研磨グリットを表すことができる。研磨粒子５０７は、成形研磨粒子５０５のメジアン粒径未満のメジアン粒径を有していてよい。

研磨粒子状材料５１０によってメイクコート５０３を十分に形成した後、サイズコート５０４は、適所で研磨粒子状材料５１０を覆い、これに接着するように形成され得る。サイズコート５０４は、有機材料を含むことができ、ポリマー材料から本質的になっていてよく、とりわけ、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの混合物を用いることができる。

一実施形態によると、本明細書における成形研磨粒子５０５は、互いおよび基材５０１に対して所定の配向で配向され得る。完全に理解されているわけではないが、寸法特徴のうちの１つまたは組み合わせが、成形研磨粒子５０５の配向の改良の要因となり得ると考えられる。一実施形態によると、成形研磨粒子５０５は、例えば、図５に示されている、基材５０１に対して平坦な配向で配向され得る。平坦な配向では、成形研磨粒子の底面３０４が、基材５０１（すなわち、裏打ち）の表面に最も近くてよく、成形研磨粒子５０５の上面３０３が、基材５０１から離間して方向付けられて、ワークピースとの初期の係合を行うように構成されていてよい。

別の実施形態によると、成形研磨粒子５０５は、例えば、図６に示されている所定の側方配向で基材５０１に置かれ得る。特定の例において、研磨物品５００における全含量の成形研磨粒子５０５のうち大部分の成形研磨粒子５０５が、所定の側方配向を有することができる。側方配向において、成形研磨粒子５０５の底面３０４は、基材５０１の表面から離間してこれに対して角度付けられていてよい。特定の例において、底面３０４は、基材５０１の表面に対して鈍角（Ｂ）を形成することができる。また、上面３０３は、基材５０１の表面から離間してこれに対して角度付けられて、特定の例において、略鋭角（Ａ）を定義し得る。側方配向において、側面（３０５、３０６、または３０７）は、基材５０１の表面に最も近くてよく、より詳細には、基材５０１の表面と直接接触していてよい。

本明細書におけるある特定の他の研磨物品では、研磨物品５００における複数の成形研磨粒子５０５の少なくとも約５５％が、所定の側方配向を有することができる。さらに、百分率は、より大きく、例えば、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約７７％、少なくとも約８０％、少なくとも約８１％、またはさらには少なくとも約８２％であってよい。また、１つの非限定的な実施形態では、研磨物品５００が、本明細書における成形研磨粒子５０５を用いて形成されてよく、成形研磨粒子の全含量の約９９％以下が、所定の側方配向を有する。

所定の配向における粒子の百分率を求めるために、以下の表１の条件で運転されるＣＴスキャンマシンを使用して研磨物品５００の２Ｄ微小焦点Ｘ線画像を得る。Ｘ線２Ｄ画像化は、Ｑｕａｌｉｔｙ ＡｓｓｕｒａｎｃｅソフトウエアによってＲＢ２１４において行った。試料取り付け固定具は、４”×４”の窓および径０．５”の固体金属ロッドを有するプラスチックフレームであって、その上部が２つのスクリューによって半分平坦化されてフレームを固定している上記フレームを利用する。画像化の前に、試料を、スクリューヘッドがＸ線の入射方向に向いているフレームの１つの側方上にクリップした。次いで、４”×４”の窓領域内で５つの領域を選択し、１２０ｋＶ／８０μＡで画像化した。各々の２Ｄ投影をＸ線オフセット／ゲイン補正を用いて１５倍の倍率で記録した。

次いで、種々の配向が以下の表２による値に割り当てられているＩｍａｇｅＪプログラムを用いて画像を取り込んで分析する。図１３は、実施形態による被覆研磨材の部分を表しかつ裏打ちにおける成形研磨粒子の配向を分析するのに用いられる画像を含む。

次いで、表３において以下に付与するように３つの計算を実施する。該計算を行った後、特定の配向（例えば、側方配向）における平方センチメートル当たりの顆粒の百分率を誘導することができる。

＊−これらは、全て、画像の代表面積に関して正規化されている。
＋−０．５の倍率を適用し、画像に完全には存在しないという事実を構成した。

さらに、成形研磨粒子を用いて作製された研磨物品は、種々の含量の成形研磨粒子を利用することができる。例えば、研磨物品は、オープンコート構成またはクローズドコート構成において成形研磨粒子の単一層を含む被覆研磨物品であってよい。例えば、複数の成形研磨粒子は、約７０粒子／ｃｍ^２以下の成形研磨粒子の被覆密度を有するオープンコート研磨製品を定義することができる。他の場合において、研磨物品の平方センチメートル当たりの成形研磨粒子のオープンコート密度は、約６５粒子／ｃｍ^２以下、例えば、約６０粒子／ｃｍ^２以下、約５５粒子／ｃｍ^２以下、またはさらには約５０粒子／ｃｍ^２以下であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、本明細書における成形研磨粒子を用いるオープンコート被覆研磨材の密度は、少なくとも約５粒子／ｃｍ^２、またはさらには少なくとも約１０粒子／ｃｍ^２であってよい。被覆研磨物品のオープンコート密度は、上記最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

代替の実施形態において、複数の成形研磨粒子は、少なくとも約７５粒子／ｃｍ^２、例えば、少なくとも約８０粒子／ｃｍ^２、少なくとも約８５粒子／ｃｍ^２、少なくとも約９０粒子／ｃｍ^２、少なくとも約１００粒子／ｃｍ^２の成形研磨粒子の被覆密度を有するクローズドコート研磨製品を定義することができる。さらに、１つの非限定的な実施形態において、本明細書における成形研磨粒子を用いる被覆研磨材のクローズドコート密度は、約５００粒子／ｃｍ^２以下であってよい。被覆研磨物品のクローズドコート密度は、上記最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

ある特定の場合において、研磨物品は、被覆物のオープンコート密度が約５０％以下の、物品の外側研磨表面を被覆する研磨粒子を有することができる。他の実施形態において、研磨表面の合計面積に対する研磨粒子の被覆百分率は、約４０％以下、約３０％以下、約２５％以下、またはさらには約２０％以下であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、研磨表面の合計面積に対する研磨粒子の被覆百分率は、少なくとも約５％、例えば、少なくとも約１０％、少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％、またはさらには少なくとも約４０％であってよい。研磨表面の合計面積に対する成形研磨粒子のパーセント被覆は、上記最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

いくつかの研磨物品は、裏打ちまたは基材５０１の長さ（例えば、リーム）について特定の含量の研磨粒子を有することができる。例えば、一実施形態において、研磨物品は、少なくとも約２０ｌｂｓ／リーム、例えば、少なくとも約２５ｌｂｓ／リーム、またはさらには少なくとも約３０ｌｂｓ／リームの、成形研磨粒子の正規化された重量を利用してよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、研磨物品は、約６０ｌｂｓ／リーム以下、例えば、約５０ｌｂｓ／リーム以下、またはさらには約４５ｌｂｓ／リーム以下の、成形研磨粒子の正規化された重量を含むことができる。本明細書における実施形態の研磨物品は、上記最小および最大値のいずれかの間の範囲内の、成形研磨粒子の正規化された重量を利用することができることが認識される。

本明細書に記載されている研磨物品における複数の成形研磨粒子は、研磨粒子のバッチの第１部を定義することができ、本明細書における実施形態に記載されている特徴は、成形研磨粒子バッチの少なくとも第１部に存在する特徴を表すことができる。また、実施形態によると、１つ以上のプロセスパラメータの制御は、本明細書に既に記載されているように、本明細書における実施形態の成形研磨粒子の１つ以上の特徴の普及を制御することもできる。バッチの任意の成形研磨粒子の１つ以上の特徴の提供は、研磨物品における粒子の代替または改良された開発を容易にすることができ、研磨物品の性能または使用の改良をさらに容易にすることができる。バッチはまた、研磨粒子の第２部を含んでいてもよい。研磨粒子の第２部は、希釈粒子を含むことができる。

本明細書における実施形態の１つの態様によると、固定研磨物品は、研磨粒子ブレンドを含むことができる。研磨粒子ブレンドは、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子を含むことができる。特定の例において、第１タイプの成形研磨粒子は、第１高さ（ｈ１）によって定義され得る。第１高さへの言及は、例えば、限定されないが、第１タイプの成形研磨粒子のメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）を含めた、本明細書における実施形態において同定される任意の高さ寸法を含むことができることが認識される。また、第２タイプの成形研磨粒子は、第２高さ（ｈ２）によって定義され得る。第２高さへの言及は、例えば、限定されないが、第２タイプの成形研磨粒子のメジアン内部高さ（Ｍｈｉ）を含めた、本明細書における実施形態において同定される任意の高さ寸法を含むことができることが認識される。

１つの実施形態によると、第２タイプの成形研磨粒子は、第１高さ（ｈ１）未満の第２高さ（ｈ２）を有することができる。より詳細には、ある特定の場合において、研磨粒子ブレンドは、ブレンドの第１タイプの成形研磨粒子の第１高さ（ｈ１）によって除算されたブレンドの第２タイプの成形研磨粒子の第２高さ（ｈ２）を記載することができる高さ比（ｈ２／ｈ１）を有することができる。ブレンドのある特定の高さ比は、研磨物品の性能を改良することができる。少なくとも１つの実施形態では、高さ比（ｈ２／ｈ１）が、約０．９８以下であってよい。他の場合において、高さ比（ｈ２／ｈ１）は、約０．９５以下、例えば、約０．９３以下、約０．９０以下、約０．８８以下、約０．８５以下、またはさらには約０．８３以下であってよい。さらに、別の非限定的な実施形態において、高さ比（ｈ２／ｈ１）は、少なくとも約０．０５、例えば、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．１、少なくとも約０．１２、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．１８、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６、またはさらには少なくとも約０．６５であってよい。第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子を含むブレンドの高さ比（ｈ２／ｈ１）は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

ある特定の場合において、研磨粒子ブレンドは、固定研磨物品の性能の改良を容易にすることができる、第１高さと第２高さとの間の特定の高さ差（ｈ１−ｈ２）を定義することができる。示すように、高さ差は、第１高さ（ｈ１）から減算された第２高さ（ｈ２）との間の差の数値を定義することができる。例えば、ブレンドは、少なくとも約１μｍの高さ差（ｈ１−ｈ２）を有することができる。別の実施形態によると、高さ差（ｈ１−ｈ２）は、少なくとも約５μｍであってよい。他の場合において、高さ差は、より大きく、例えば、少なくとも約１０μｍ、少なくとも約１５μｍ、少なくとも約２０μｍ、少なくとも約２５μｍ、少なくとも約３０μｍ、少なくとも約３５μｍ、少なくとも約４０μｍ、少なくとも約５０μｍ、少なくとも約６０μｍ、少なくとも約７０μｍ、またはさらには少なくとも約８０μｍであってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、高さ差（ｈ１−ｈ２）は、約２ｍｍ以下、例えば、約１ｍｍ以下、約８００μｍ以下、またはさらには約５００μｍ以下であってよい。高さ差（ｈ１−ｈ２）は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

本明細書に記載されているように、本明細書における実施形態の成形研磨粒子は、長さ、幅、および高さによって定義される本体を有することができる。実施形態によると、第１タイプの成形研磨粒子は、第１長さを有してよく、第２タイプの成形研磨粒子は、第２長さを有してよい。また、研磨粒子ブレンドは、ブレンドの第１タイプの成形研磨粒子の第１長さ（ｌ１）によって除算された、ブレンドの第２タイプの成形研磨粒子の第２長さ（ｌ２）を記載することができる長さ比（ｌ２／ｌ１）を有することができる。ブレンドのある特定の長さ比は、研磨物品の性能を改良することができる。したがって、ある特定の場合において、第１タイプの成形研磨粒子は、第２タイプの成形研磨粒子に対応する第２長さとは異なる第１長さを有してよい。しかし、第１タイプの成形研磨粒子の第１長さは、第２タイプの成形研磨粒子の第２長さと実質的に同じであってよいことが認識される。

少なくとも１つの実施形態において、長さ比（ｌ２／ｌ１）は、少なくとも約０．０５、例えば、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．１、少なくとも約０．１２、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．１８、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．６５、少なくとも約０．７、少なくとも約０．７５、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９、またはさらには少なくとも約０．９５であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、長さ比（ｌ２／ｌ１）は、約１０以下、例えば、約８以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１．８以下、約１．５以下、またはさらには約１．２以下であってよい。長さ比（ｌ２／ｌ１）は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

さらに、研磨粒子ブレンドは、ブレンドの第２タイプの成形研磨粒子の第２長さに対するブレンドの第１タイプの成形研磨粒子の第１長さの差を定義することができ、また、研磨物品の性能の改良を容易にすることができる特定の長さ差（ｌ１−ｌ２）を定義することができる。例えば、一実施形態において、長さ差（ｌ１−ｌ２）は、約２ｍｍ以下、例えば、約１ｍｍ以下、約８００μｍ以下、約５００μｍ以下、約３００μｍ以下、約１００μｍ以下、またはさらには約５０μｍ以下であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、長さ差（ｌ１−ｌ２）は、少なくとも約１μｍ、例えば、少なくとも約５μｍ、またはさらには少なくとも約１０μｍであってよい。長さ差（ｌ１−ｌ２）は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

本明細書に記述されているように、第１タイプの成形研磨粒子は、第１幅（ｗ１）を定義する本体を有することができる。また、第２タイプの成形研磨粒子は、第２幅（ｗ２）を定義する本体を有することができる。さらに、研磨粒子ブレンドは、ブレンドの第１タイプの成形研磨粒子の第１幅（ｗ１）によって除算されたブレンドの第２タイプの成形研磨粒子の第２幅（ｗ２）を記載することができる幅比（ｗ２／ｗ１）を有することができる。ブレンドのある特定の幅比は、研磨物品の性能を改良することができる。したがって、ある特定の場合において、第１タイプの成形研磨粒子は、第２タイプの成形研磨粒子に対応する第２幅とは異なる第１幅を有することができる。しかし、第１タイプの成形研磨粒子の第１幅は、第２タイプの成形研磨粒子の第２幅と実質的に同じであってよいことが認識される。

１つの特定の実施形態において、幅比（ｗ２／ｗ１）は、少なくとも約０．０８、例えば、少なくとも約０．１、少なくとも約０．１２、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．１８、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．６５、少なくとも約０．７、少なくとも約０．７５、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９、またはさらには少なくとも約０．９５であってよい。さらに、別の非限定的な実施形態において、幅比（ｗ２／ｗ１）は、約１０以下、例えば、約８以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１．８以下、約１．５以下、またはさらには約１．２以下であってよい。幅比（ｗ２／ｗ１）は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

また、研磨粒子ブレンドは、ブレンドの第１タイプの成形研磨粒子とブレンドの第２タイプの成形研磨粒子との間の幅差を定義することができ、また、研磨物品の性能の改良を容易にすることができる幅差（ｗ１−ｗ２）を有することができる。少なくとも１つの実施形態において、幅差（ｗ１−ｗ２）は、約２ｍｍ以下、例えば、約１ｍｍ以下、約８００μｍ以下、約５００μｍ以下、約３００μｍ以下、約１００μｍ以下、またはさらには約５０μｍ以下であってよい。さらに、少なくとも１つの非限定的な実施形態において、幅差（ｗ１−ｗ２）は、少なくとも約１μｍ、例えば、少なくとも約５μｍ、またはさらには少なくとも約１０μｍであってよい。幅差は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

別の態様によると、研磨粒子ブレンドは、ブレンドの粒子の合計含量と比較したときの第１タイプの成形研磨粒子の百分率（例えば、重量パーセント）として表されてよい第１含量（Ｃ１）で存在する第１タイプの成形研磨粒子を含むことができる。さらに、研磨粒子ブレンドは、ブレンドの合計重量に対する第２タイプの成形研磨粒子の百分率（例えば、重量パーセント）として表されてよい第２含量（Ｃ２）の第２タイプの成形研磨粒子を含んでいてよい。少なくとも１つの実施形態において、第１含量は、第２含量と異なっていてよい。より詳細には、少なくとも１つの実施形態において、第１含量は、第２含量未満であってよい。

例えば、ある特定の場合において、ブレンドは、第１含量（Ｃ１）がブレンドの全含量の約９０％以下であり得るように形成され得る。別の実施形態において、第１含量は、より少なく、例えば、約８５％以下、約８０％以下、約７５％以下、約７０％以下、約６５％以下、約６０％以下、約５５％以下、約５０％以下、約４５％以下、約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１５％以下、約１０％以下、またはさらには約５％以下であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、第１タイプの成形研磨粒子の第１含量は、ブレンドの研磨粒子の全含量の少なくとも約１％で存在していてよい。なお他の例において、第１含量（Ｃ１）は、少なくとも約５％、例えば、少なくとも約１０％、少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％、少なくとも約４０％、少なくとも約４５％、少なくとも約５０％、少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、またはさらには少なくとも約９５％であってよい。第１含量（Ｃ１）は、上記に記述した最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内で存在していてよいことが認識される。

研磨粒子ブレンドは、特定の含量の第２タイプの成形研磨粒子を含んでいてよい。例えば、第２含量（Ｃ２）は、ブレンドの全含量の約９８％以下であってよい。他の実施形態において、第２含量は、約９５％以下、例えば、約９０％以下、約８５％以下、約８０％以下、約７５％以下、約７０％以下、約６５％以下、約６０％以下、約５５％以下、約５０％以下、約４５％以下、約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１５％以下、約１０％以下、またはさらには約５％以下であってよい。さらに、１つの非限定的な実施形態において、第２含量（Ｃ２）は、ブレンドの全含量の少なくとも約１％の量で存在していてよい。例えば、第２含量は、少なくとも約５％、例えば、少なくとも約１０％、少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％、少なくとも約４０％、少なくとも約４５％、少なくとも約５０％、少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、またはさらには少なくとも約９５％であってよい。第２含量（Ｃ２）は、上記に記述した最小および最大百分率のいずれかの間の範囲内にあってよいことが認識される。

別の実施形態によると、研磨粒子ブレンドは、第１含量（Ｃ１）と第２含量（Ｃ２）との間の比を定義することができるブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）を有することができる。例えば、一実施形態において、ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）は、約１０以下であってよい。さらに別の実施形態において、ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）は、約８以下、例えば、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１．８以下、約１．５以下、約１．２以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下、約０．７以下、約０．６以下、約０．５以下、約０．４以下、約０．３以下、またはさらには約０．２以下であってよい。さらに、別の非限定的な実施形態において、ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）は、少なくとも約０．１、例えば、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．６５、少なくとも約０．７、少なくとも約０．７５、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９、少なくとも約０．９５、少なくとも約１、少なくとも約１．５、少なくとも約２、少なくとも約３、少なくとも約４、またはさらには少なくとも約５であってよい。ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

少なくとも１つの実施形態において、研磨粒子ブレンドは、主含量の成形研磨粒子を含むことができる。すなわち、ブレンドは、限定されないが、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子を含む成形研磨粒子から主として形成され得る。少なくとも１つの特定の実施形態において、研磨粒子ブレンドは、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子から本質的になることができる。しかし、他の非限定的な実施形態において、ブレンドは、他のタイプの研磨粒子を含んでいてよい。例えば、ブレンドは、従来の研磨粒子または成形研磨粒子を含んでいてよい第３のタイプの研磨粒子を含んでいてよい。第３のタイプの研磨粒子は、従来の破砕および粉砕技術を通して得られ得る、不規則形状を有する希釈剤タイプの研磨粒子を含んでいてよい。

少なくとも１つの態様では、実施形態による固定研磨物品は、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子を含む研磨粒子ブレンドを含むことができ、固定研磨物品は、少なくとも約１１インチ^３のステンレス鋼寿命を含む。固定研磨物品のステンレス鋼寿命は、本明細書において定義されている標準のステンレス鋼粉砕特性決定試験に従って求められ得る。１つの実施形態において、固定研磨物品は、少なくとも約１１．５インチ^３、例えば、少なくとも約１２インチ^３のステンレス鋼寿命を有することができる。さらに、別の非限定的な実施形態において、固定研磨物品は、約２５インチ^３以下、例えば、約２０インチ^３以下のステンレス鋼寿命を有することができる。実施形態による固定研磨物品は、上記に記述した最小および最大値のいずれかの間およびいずれかを含む範囲内のステンレス鋼寿命を有することができることが認識される。

別の実施形態によると、研磨粒子ブレンドは、複数の成形研磨粒子を含むことができ、複数の成形研磨粒子は、各々、裏打ちに対して制御された配向で配置されてよい。好適な例示的な制御された配向は、所定の回転配向、所定の横配向、および所定の縦配向の少なくとも１つを含むことができる。少なくとも１つの実施形態において、制御された配向を有する複数の成形研磨粒子は、ブレンドの第１タイプの成形研磨粒子の少なくとも一部、ブレンドの第２タイプの成形研磨粒子の少なくとも一部、およびこれらの組み合わせを含むことができる。より詳細には、制御された配向を有する複数の成形研磨粒子は、第１タイプの成形研磨粒子の全てを含むことができる。なお別の実施形態において、裏打ちに対して制御された配向で配置された複数の成形研磨粒子は、研磨粒子ブレンド内の第２タイプの成形研磨粒子の全てを含んでいてよい。

図７は、制御された配向を有する成形研磨粒子を含む被覆研磨物品の一部の上面図を含む。示すように、被覆研磨物品７００は、裏打ち７０１の長さに沿って延在しかつ該長さを定義する縦軸７８０および裏打ち７０１の幅に沿って延在かつ該幅を定義する横軸７８１によって定義され得る裏打ち７０１を含む。実施形態によると、成形研磨粒子７０２は、裏打ち７０１の横軸７８１に対しての特定の第１の横位置および裏打ち７０１の縦軸７８０に対しての第１の縦位置によって定義される第１の所定の位置７１２にあってよい。さらに、成形研磨粒子７０３は、裏打ち７０１の横軸７８１に対しての第２の横位置、および成形研磨粒子７０２の第１の縦位置と実質的に同じである、裏打ち７０１の縦軸７８０に対しての第１の縦位置によって定義される第２の所定の位置７１３を有していてよい。とりわけ、成形研磨粒子７０２および７０３は、裏打ち７０１の横軸７８１に平行な横平面７８４に沿って測定される２つの隣接する成形研磨粒子７０２および７０３間の最小距離として定義される横空間７２１によって互いから離間していてよい。実施形態によると、横空間７２１は、ゼロより大きくてよく、その結果、いくらかの距離が成形研磨粒子７０２および７０３間に存在することとなる。しかし、示されていないが、横空間７２１は、ゼロであって、隣接する成形研磨粒子の部分の間の接触および重複さえも可能にすることができることが認識される。

さらに示すように、被覆研磨物品７００は、裏打ち７０１の縦軸７８０に対しての第２の縦位置によって定義され、また、裏打ち７０１の横軸７８１に平行であって横軸７８４から離間している横平面７８５に対しての第３の横位置によっても定義される第３の所定の位置７１４にある成形研磨粒子７０４を含むことができる。さらに、示すように、縦空間７２３は、成形研磨粒子７０２および７０４間に存在していてよく、縦軸７８０に平行な方向で測定したとき２つの隣接する成形研磨粒子７０２および７０４間の最小距離として定義され得る。実施形態によると、縦空間７２３は、ゼロより大きくてよい。さらに、示されていないが、縦空間７２３は、ゼロであってよく、その結果、隣接する成形研磨粒子が互いに接触またはさらには重複することとなることが認識される。

図８Ａは、成形研磨粒子を含む実施形態による研磨物品の一部の上面図を含む。示すように、研磨物品８００は、裏打ち８０１の幅を定義する横軸７８１に対して第１回転配向を有する、第１位置において裏打ち８０１を覆う成形研磨粒子８０２を含むことができる。特に、成形研磨粒子８０２は、横軸７８１に平行な横平面８８４と、成形研磨粒子８０２の寸法との間の第１回転角度によって定義される所定の回転配向を有することができる。とりわけ、成形研磨粒子８０２の寸法への言及として、成形研磨粒子８０２の二等分軸８３１への言及を挙げることができ、かかる二等分軸８３１は、裏打ち８０１に（直接または間接的に）接続される表面（例えば、側方またはエッジ）に沿って成形研磨粒子８０２の中心点８２１を通って延在している。したがって、側方配向に位置付けられた成形研磨粒子に関連して、（例えば、図６を参照されたい）、二等分軸８３１は、中心点８２１を通り、裏打ち８０１の表面に最も近い側方８３３の幅（ｗ）の方向に延在することができる。

ある特定の実施形態において、成形研磨粒子８０２の所定の回転配向は、図８Ａの上面から見たとき中心点８２１を通って延在する二等分軸８３１および横平面８８４の間の最小角度を定義する所定の回転角度８４１によって定義され得る。実施形態によると、所定の回転角度８４１、したがって所定の回転配向は、０°であってよい。他の実施形態において、所定の回転配向を定義する所定の回転角度は、より大きく、例えば、少なくとも約２°、少なくとも約５°、少なくとも約１０°、少なくとも約１５°、少なくとも約２０°、少なくとも約２５°、少なくとも約３０°、少なくとも約３５°、少なくとも約４０°、少なくとも約４５°、少なくとも約５０°、少なくとも約５５°、少なくとも約６０°、少なくとも約７０°、少なくとも約８０°、またはさらには少なくとも約８５°であってよい。さらに、回転角度８４１によって定義される所定の回転配向は、約９０°以下、例えば、約８５°以下、約８０°以下、約７５°以下、約７０°以下、約６５°以下、約６０°以下、例えば、約５５°以下、約５０°以下、約４５°以下、約４０°以下、約３５°以下、約３０°以下、約２５°以下、約２０°以下、例えば、約１５°以下、約１０°以下、またはさらには約５°以下であってよい。所定の回転配向は、上記最小および最大角度のいずれかの間の範囲内であってよいことが認識される。

図８Ｂは、実施形態による、成形研磨粒子８０２を含む研磨物品８００の一部の斜視図を含む。示すように、研磨物品８００は、成形研磨粒子８０２が裏打ち８０１の幅を定義する横軸７８１に対して第１回転配向を含むように第１位置８１２において裏打ち８０１を覆う成形研磨粒子８０２を含むことができる。成形研磨粒子の所定の配向のある特定のアスペクトは、示すようにｘ、ｙ、ｚ三次元軸を参照することによって記載されてよい。例えば、成形研磨粒子８０２の所定の縦配向は、裏打ち８０１の縦軸７８０に平行に延在するｙ軸に対しての成形研磨粒子８０２の位置を参照することによって記載されてよい。また、成形研磨粒子８０２の所定の横配向は、裏打ち８０１の横軸７８１に平行に延在するｘ軸における成形研磨粒子の位置を参照することによって記載されてよい。さらに、成形研磨粒子８０２の所定の回転配向は、成形研磨粒子８０２の側方８３３の中心点８２１を通って延在する二等分軸８３１を参照して定義されてよい。とりわけ、成形研磨粒子８０２の側方８３３は、裏打ち８０１に直接または間接のいずれかで接続されてよい。特定の実施形態において、二等分軸８３１は、例えば横軸７８１に平行に延在するｘ軸を含む任意の好適な基準軸との角度を形成することができる。成形研磨粒子８０２の所定の回転配向は、ｘ軸と二等分軸８３１との間で形成される回転角度として記載されてよく、回転角度は、角度８４１として図８Ｂにおいて表示されている。とりわけ、研磨物品の裏打ちへの複数の成形研磨粒子の制御された配置は、本明細書に記載されている所定の配向特性の制御を容易にするものであり、当該業界において以前に実施または開発されていなかった大いに関与するプロセスである。

図９は、実施形態による、粉砕方向に対して所定の配向特性を有する成形研磨粒子を含む研磨物品の一部の斜視図を含む。１つの実施形態において、研磨物品９００は、別の成形研磨粒子９０３に対しておよび／または粉砕方向９８５に対して所定の配向を有する成形研磨粒子９０２を含むことができる。粉砕方向９８５は、材料除去操作におけるワークピースに対しての研磨物品の意図する移動方向であってよい。特定の例において、粉砕方向９８５は、裏打ち９０１の寸法に対して定義され得る。例えば、一実施形態において、粉砕方向９８５は、裏打ちの横軸９８１に実質的に垂直であり、また、裏打ち９０１の縦軸９８０に実質的に平行であってよい。成形研磨粒子９０２の所定の配向特性は、成形研磨粒子９０２の、ワークピースとの最初の接触表面を定義し得る。例えば、成形研磨粒子９０２は、主面９６３および９６４、ならびに主面９６３および９６４間に延在し得る側面９６５および９６６を含むことができる。成形研磨粒子９０２の所定の配向特性は、主面９６３が材料除去操作の際に成形研磨粒子９０２の他の表面の前にワークピースと最初に接触をするように構成されるように粒子９０２を位置付けることができる。かかる配向は、粉砕方向９８５に対して主面配向とされてよい。より詳細には、成形研磨粒子９０２は、粉砕方向９８５に対して特定の配向を有する二等分軸９３１を有することができる。例えば、示すように、粉砕方向９８５および二等分軸９３１のベクトルは、互いに対して実質的に垂直である。裏打ちに対して任意の範囲の所定の回転配向が成形研磨粒子に関して予期されているのと同様に、粉砕方向９８５に対して任意の範囲の成形研磨粒子の配向が予期され、利用され得ることが認識される。

成形研磨粒子９０３は、成形研磨粒子９０２と比較して１つ以上の異なる所定の配向特性と、粉砕方向９８５とを有することができる。示すように、成形研磨粒子９０３は、主面９９１および９９２を含むことができ、それぞれ、側面９７１および９７２によって接合されていてよい。また、示すように、成形研磨粒子９０３は、粉砕方向９８５のベクトルに対して特定の角度を形成する二等分軸９７３を有することができる。示すように、成形研磨粒子９０３の二等分軸９７３は、二等分軸９７３と粉砕方向９８５との間の角度が本質的に０度であるように粉砕方向９８５と実質的に平行の配向を有することができる。したがって、成形研磨粒子９０３の所定の配向特性は、成形研磨粒子９０３の任意の他の表面の前に側面９７２のワークピースとの最初の接触を容易にする。成形研磨粒子９０３のかかる配向は、粉砕方向９８５に対して側面配向とされてよい。

さらに、１つの非限定的な実施形態において、研磨物品は、裏打ちに対して１つ以上の所定の分布で、粉砕方向で、および／または互いに配置され得る１つ以上の成形研磨粒子群を含むことができることが認識される。例えば、１つ以上の成形研磨粒子群は、本明細書に記載されているように、粉砕方向に対して所定の配向を有することができる。また、本明細書における研磨物品は、１つ以上の成形研磨粒子群を有することができ、それぞれの群が、粉砕方向に対して異なる所定の配向を有している。粉砕方向に対して異なる所定の配向を有する成形研磨粒子群の利用は、研磨物品の性能の改良を容易にすることができる。

図１０は、実施形態による研磨物品の一部の上面図を含む。特に、研磨物品１０００は、複数の成形研磨粒子を含む第１群１００１を含むことができる。示すように、成形研磨粒子は、裏打ち１０１に互いに対して配置されて、所定の分布を定義することができる。より詳細には、所定の分布は、上方から下方に見たときパターン１０２３の形態であってよく、より詳細には、三角形状の二次元配列を定義している。さらに示すように、第１群１００１は、研磨物品１０００に配置されて、裏打ち１０１を覆う所定のマクロ形状１０３１を定義することができる。実施形態によると、マクロ形状１０３１は、上方から下方に見たとき特定の二次元形状を有することができる。いくつかの例示的な二次元形状として、多角形、楕円体、数字、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、アラビアアルファベット文字、漢字、複雑形状、不規則形状、デザイン、これらの任意の組み合わせを挙げることができる。特定の例において、特定のマクロ形状を有する群の形成は、研磨物品の性能を改良することができる。

さらに示すように、研磨物品１０００は、互いに対して裏打ち１０１の表面に配置されて所定の分布を定義することができる複数の成形研磨粒子を含む群１００４を含むことができる。とりわけ、所定の分布は、パターン１０２４、より詳細には、略四角形パターンを定義する複数の成形研磨粒子の配置を含むことができる。示すように、群１００４は、研磨物品１０００の表面においてマクロ形状１０３４を定義することができる。１つの実施形態において、群１００４のマクロ形状１０３４は、上方から下方に見たとき例えば多角形を含む二次元形状、より詳細には、上方から下方に見たとき略四角（ダイヤモンド）形状を研磨物品１０００の表面に有することができる。図１０の示されている実施形態において、群１００１は、群１００４のマクロ形状１０３４と実質的に同じであるマクロ形状１０３１を有することができる。しかし、他の実施形態において、種々の異なる群が研磨物品の表面において用いられてよいこと、より詳細には異なる群のそれぞれが互いに対して異なるマクロ形状を有することが認識される。

さらに示すように、研磨物品は、群１００１〜１００４間に延在するチャネル領域１０２１および１０２２によって分離され得る群１００１、１００２、１００３、および１００４を含むことができる。特定の例において、チャネル領域１０２１および１０２２は、成形研磨粒子を実質的に含まなくてよい。また、チャネル領域１０２１および１０２２は、群１００１〜１００４間で液体を移動させ、また、研磨物品の削り屑の除去および粉砕性能を改良するように構成されてよい。さらに、ある特定の実施形態において、研磨物品１０００は、群１００１〜１００４間に延在するチャネル領域１０２１および１０２２を含むことができ、チャネル領域１０２１および１０２２は、研磨物品１０００の表面においてパターン化されていてよい。特定の例において、チャネル領域１０２１および１０２２は、研磨物品の表面に沿って延在する規則的かつ繰り返しの特徴配列を表すことができる。

本明細書における実施形態の固定研磨物品は、種々の材料除去操作において利用され得る。例えば、本明細書における固定研磨物品は、ワークピースに対して固定研磨物品を移動させることによってワークピースから材料を除去する方法において用いられ得る。固定研磨材とワークピースとの間の相対的な移動は、ワークピースの表面からの材料の除去を容易にすることができる。種々のワークピースは、限定されないが、無機材料、有機材料、およびこれらの組み合わせを含むワークピースを含む、本明細書における実施形態の固定研磨物品を用いて改変され得る。特定の実施形態において、ワークピースは、金属、例えば、金属合金を含んでいてよい。１つの特定の例において、ワークピースは、金属または金属合金、例えば、ステンレス鋼から本質的になっていてよい。

項１．第１高さ（ｈ１）を含む第１タイプの成形研磨粒子；および
第１高さ未満の第２高さ（ｈ２）を含む第２タイプの成形研磨粒子
を含む研磨粒子ブレンドを含む固定研磨物品。

項２．約０．９８以下の高さ比（ｈ２／ｈ１）をさらに含み、高さ比（ｈ２／ｈ１）が、約０．９５以下、約０．９３以下、約０．９０以下、約０．８８以下、約０．８５以下または約０．８３以下である、項１に記載の固定研磨物品。

項３．高さ比（ｈ２／ｈ１）が、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．１、少なくとも約０．１２、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．１８、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６または少なくとも約０．６５である、項２に記載の固定研磨物品。

項４．少なくとも約１μｍの高さ差（ｈ１−ｈ２）をさらに含む、項１に記載の固定研磨物品。

項５．高さ差（ｈ１−ｈ２）が、少なくとも約５μｍ、少なくとも約１０μｍ、少なくとも約１５μｍ、少なくとも約２０μｍ、少なくとも約２５μｍ、少なくとも約３０μｍ、少なくとも約３５μｍ、少なくとも約４０μｍ、少なくとも約５０μｍ、少なくとも約６０μｍ、少なくとも約７０μｍまたは少なくとも約８０μｍである、項４に記載の固定研磨物品。

項６．高さ差（ｈ１−ｈ２）が、約２ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約８００μｍ以下、または約５００μｍ以下ある、項４に記載の固定研磨物品。

項７．第１タイプの成形研磨粒子が第１長さ（ｌ１）を含み、第２タイプの成形研磨粒子が第２長さ（ｌ２）を含み、少なくとも約０．０５の長さ比（ｌ１／ｌ２）をさらに含む、項１に記載の固定研磨物品。

項８．長さ比（ｌ１／ｌ２）が、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．１、少なくとも約０．１２、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．１８、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．６５、少なくとも約０．７、少なくとも約０．７５、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９または少なくとも約０．９５である、項７に記載の固定研磨物品。

項９．長さ比（ｌ１／ｌ２）が、約１０以下、約８以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１．８以下、約１．５以下または約１．２以下である、項７に記載の固定研磨物品。

項１０．約２ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約８００μｍ以下、約５００μｍ以下、約３００μｍ以下、約１００μｍ以下または約５０μｍ以下の長さ差（Ｌ１−ｌ２）をさらに含む、項７に記載の固定研磨物品。

項１１．長さ差（Ｌ１−ｌ２）が、少なくとも約１μｍ、少なくとも約５μｍ、または少なくとも約１０μｍであってよい、項１０に記載の固定研磨物品。

項１２．第１タイプの成形研磨粒子が第１幅（ｗ１）を含み、第２タイプの成形研磨粒子が第２幅（ｗ２）を含み、少なくとも約０．０５の幅比（ｗ２／ｗ１）をさらに含む、項１に記載の固定研磨物品。

項１３．幅比（ｗ２／ｗ１）が、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．１、少なくとも約０．１２、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．１８、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．６５、少なくとも約０．７、少なくとも約０．７５、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９または少なくとも約０．９５である、項１２に記載の固定研磨物品。

項１４．幅比（ｗ２／ｗ１）が、約１０以下、約８以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１．８以下、約１．５以下または約１．２以下である、項１２に記載の固定研磨物品。

項１５．約２ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約８００μｍ以下、約５００μｍ以下、約３００μｍ以下、約１００μｍ以下または約５０μｍ以下の幅差（ｗ１−ｗ２）をさらに含む、項１２に記載の固定研磨物品。

項１６．幅差（ｗ１−ｗ２）が、少なくとも約１μｍ、少なくとも約５μｍまたは少なくとも約１０μｍであってよい、項１５に記載の固定研磨物品。

項１７．第１含量が第２含量より少ない、項１に記載の固定研磨物品。

項１８．第１含量が、ブレンドの全含量の約９０％以下、約８５％以下、約８０％以下、約７５％以下、約７０％以下、約６５％以下、約６０％以下、約５５％以下、約５０％以下、約４５％以下、約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１５％以下、約１０％以下または約５％以下である、項１に記載の固定研磨物品。

項１９．第１含量が、ブレンドの全含量の少なくとも約１％、少なくとも約５％、少なくとも約１０％、少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％、少なくとも約４０％、少なくとも約４５％、少なくとも約５０％、少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％または少なくとも約９５％である、項１に記載の固定研磨物品。

項２０．第２含量が、ブレンドの全含量の約９８％以下、約９５％以下、約９０％以下、約８５％以下、約８０％以下、約７５％以下、約７０％以下、約６５％以下、約６０％以下、約５５％以下、約５０％以下、約４５％以下、約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１５％以下、約１０％以下または約５％以下である、項１に記載の固定研磨物品。

項２１．第２含量が、ブレンドの全含量の少なくとも約１％、少なくとも約５％、少なくとも約１０％、少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％、少なくとも約４０％、少なくとも約４５％、少なくとも約５０％、少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％または少なくとも約９５％である、項１に記載の固定研磨物品。

項２２．研磨粒子ブレンドが、第１含量（Ｃ１）の第１タイプの成形研磨粒子および第２含量（Ｃ２）の第２タイプの成形研磨粒子を含み、約１０以下のブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）をさらに含む、項１に記載の固定研磨物品。

項２３．ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）が、約８以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１．８以下、約１．５以下、約１．２以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下、約０．７以下、約０．６以下、約０．５以下、約０．４以下、約０．３以下または約０．２以下である、項２２に記載の固定研磨物品。

項２４．ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）が、少なくとも約０．１、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．２、少なくとも約０．２２、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．２８、少なくとも約０．３、少なくとも約０．３２、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４、少なくとも約０．４５、少なくとも約０．５、少なくとも約０．５５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．６５、少なくとも約０．７、少なくとも約０．７５、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９、少なくとも約０．９５、少なくとも約１、少なくとも約１．５、少なくとも約２、少なくとも約３、少なくとも約４または少なくとも約５である、項２２に記載の固定研磨物品。

項２５．研磨粒子ブレンドが、主含量の成形研磨粒子を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項２６．研磨粒子ブレンドが、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子から本質的になる、項１に記載の固定研磨物品。

項２７．ブレンドが第３タイプの研磨粒子をさらに含み、第３タイプの研磨粒子が成形研磨粒子を含み、第３タイプの研磨粒子が希釈剤タイプの研磨粒子を含み、希釈剤タイプの研磨粒子が不規則形状を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項２８．固定研磨物品が、接着研磨物品、被覆研磨物品、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、項１に記載の固定研磨物品。

項２９．固定研磨物品が基材を含み、基材が裏打ちを含み、裏打ちが織布材料を含み、裏打ちが不織布材料を含み、裏打ちが有機材料を含み、裏打ちがポリマーを含み、裏打ちが、布、紙、フィルム、織物、フリース織物、バルカナイズドファイバ、織布材料、不織布材料、ウェビング、ポリマー、樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ラテックス樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリイミド、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項３０．裏打ちが、触媒、カップリング剤、硬化剤、帯電防止剤、懸濁剤、抗負荷剤、潤滑剤、湿潤剤、染料、フィラー、粘度調整剤、分散剤、消泡剤、および粉砕剤からなる群から選択される添加剤を含む、項２９に記載の固定研磨物品。

項３１．裏打ちを覆う接着層をさらに含み、接着層がメイクコートを含み、メイクコートが裏打ちを覆い、メイクコートが裏打ちの一部に直接接着され、メイクコートが有機材料を含み、メイクコートがポリマー材料を含み、メイクコートが、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項２９に記載の固定研磨物品。

項３２．接着層がサイズコートを含み、サイズコートが複数の成形研磨粒子の一部を覆い、サイズコートがメイクコートを覆い、サイズコートが複数の成形研磨粒子の一部に直接接着され、サイズコートが有機材料を含み、サイズコートがポリマー材料を含み、サイズコートが、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項３１に記載の固定研磨物品。

項３３．研磨粒子ブレンドが複数の成形研磨粒子を含み、複数の成形研磨粒子の各成形研磨粒子が、裏打ちに対して制御された配向に配置されており、制御された配向が、所定の回転配向、所定の横配向、および所定の縦配向の少なくとも１つを含んでいる、項１に記載の固定研磨物品。

項３４．複数の成形研磨粒子が、第１タイプの成形研磨粒子の少なくとも一部を含み、複数の成形研磨粒子が、第１タイプの成形研磨粒子の全てを含む、項３３に記載の固定研磨物品。

項３５．複数の成形研磨粒子が、第２タイプの成形研磨粒子の少なくとも一部を含み、複数の成形研磨粒子が、第２タイプの成形研磨粒子の全てを含む、項３３に記載の固定研磨物品。

項３６．第１タイプの研磨粒子の大部分が、側方配向で裏打ちに結合されており、複数の成形研磨粒子の成形研磨粒子の少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約７７％または少なくとも約８０％、かつ約９９％以下、約９５％以下、約９０％以下または約８５％以下が、側方配向で裏打ちに結合されている、項３３に記載の固定研磨物品。

項３７．第２タイプの研磨粒子の大部分が、側方配向で裏打ちに結合されており、複数の成形研磨粒子の成形研磨粒子の少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約７７％または少なくとも約８０％、かつ約９９％以下、約９５％以下、約９０％以下または約８５％以下が、側方配向で裏打ちに結合されている、項３３に記載の固定研磨物品。

項３８．固定研磨物品が、裏打ちにおいて成形研磨粒子のブレンドのオープンコートを有する被覆研磨物品を含み、オープンコートが、約７０粒子／ｃｍ^２以下、約６５粒子／ｃｍ^２以下、約６０粒子／ｃｍ^２以下、約５５粒子／ｃｍ^２以下または約５０粒子／ｃｍ^２以下、かつ少なくとも約５粒子／ｃｍ^２または少なくとも約１０粒子／ｃｍ^２の被覆密度を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項３９．固定研磨物品が、裏打ちにおいて成形研磨粒子のブレンドのクローズドコートを有する被覆研磨物品を含み、クローズドコートが、少なくとも約７５粒子／ｃｍ^２、少なくとも約８０粒子／ｃｍ^２、少なくとも約８５粒子／ｃｍ^２、少なくとも約９０粒子／ｃｍ^２または少なくとも約１００粒子／ｃｍ^２の被覆密度を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項４０．第１タイプの成形研磨粒子が、長さ（ｌ）、幅（ｗ）、および高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅≧長さ、長さ≧高さ、かつ幅≧高さである、項１に記載の固定研磨物品。

項４１．高さ（ｈ）が、幅（ｗ）の少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％または少なくとも約３３％であり、かつ幅の約８０％以下、約７６％以下、約７３％以下、約７０％以下、約６８％以下、約５６％以下、約４８％以下、または約４０％以下である、項４０に記載の固定研磨物品。

項４２．高さ（ｈ）が、少なくとも約４００μｍ、少なくとも約４５０μｍ、少なくとも約４７５μｍまたは少なくとも約５００μｍであり、かつ約３ｍｍ以下、約２ｍｍ以下、約１．５ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、または約８００μｍ以下である、項４０に記載の固定研磨物品。

項４３．幅が、少なくとも約６００μｍ、少なくとも約７００μｍ、少なくとも約８００μｍまたは少なくとも約９００μｍであり、かつ約４ｍｍ以下、約３ｍｍ以下、約２．５ｍｍ以下、または約２ｍｍ以下である、項４０に記載の固定研磨物品。

項４４．本体が、少なくとも約１％、例えば、少なくとも約２％、少なくとも約３％、少なくとも約５％、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、少なくとも約１５％、少なくとも約１８％または少なくとも約２０％、かつ約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下または約４％以下のパーセントフラッシングを含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項４５．本体が、約２以下、約１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下または約１．２以下、かつ少なくとも約０．９または少なくとも約１．０の凹み値（ｄ）を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項４６．本体が、少なくとも約１：１かつ約１０：１以下の範囲内の幅：長さの一次アスペクト比を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項４７．本体が、約５：１と約１：１との間の範囲内の幅：高さの比によって定義される二次アスペクト比を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項４８．本体が、約６：１と約１：１との間の範囲内の長さ：高さの比によって定義される三次アスペクト比を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項４９．本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の多角形を含み、本体が、三角形、四角形、矩形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される形状を含み、本体が、楕円体、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、複雑な多角形、不規則形状、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、本体の長さおよび幅によって定義される平面において見たときの二次元形状を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項５０．本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の三角形状を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項５１．本体がバインダを本質的に含まず、本体が有機材料を本質的に含まない、項４０に記載の固定研磨物品。

項５２．本体が多結晶材料を含み、多結晶材料が顆粒を含み、顆粒が、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、ダイヤモンド、およびこれらの組み合わせからなる材料群から選択され、顆粒が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化クロム、酸化ストロンチウム、酸化ケイ素、およびこれらの組み合わせからなる酸化物群から選択される酸化物を含み、顆粒がアルミナを含み、顆粒がアルミナから本質的になる、項４０に記載の固定研磨物品。

項５３．本体がアルミナから本質的になる、項４０に記載の固定研磨物品。

項５４．本体が種添加ゾルゲルから形成される、項４０に記載の固定研磨物品。

項５５．本体が、約１μｍ以下の平均顆粒サイズを有する多結晶材料を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項５６．本体が、少なくとも約２つの異なるタイプの顆粒を含む複合体である、項４０に記載の固定研磨物品。

項５７．本体が添加剤を含み、添加剤が酸化物を含み、添加剤が金属元素を含み、添加剤が希土類元素を含む、項４０に記載の固定研磨物品。

項５８．添加剤がドーパント材料を含み、ドーパント材料が、アルカリ元素、アルカリ土類元素、希土類元素、遷移金属元素、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される元素を含み、ドーパント材料が、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、バナジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、クロム、コバルト、鉄、ゲルマニウム、マンガン、ニッケル、チタン、亜鉛、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される元素を含む、項５７に記載の固定研磨物品。

項５９．第１タイプの成形研磨粒子が、第１主面、第２主面、および第１主面と第２主面との間で延在する少なくとも１つの側面を有する本体を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項６０．第１主面が、第２主面と異なる面積を定義し、第１主面が、第２主面によって定義される面積より大きい面積を定義し、第１主面が、第２主面によって定義される面積より小さい面積を定義する、項５９に記載の固定研磨物品。

項６１．第１タイプの成形研磨粒子が、二次元形状、平均粒径、粒子の色、硬度、摩損度、靱性、密度、比表面積、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される第１研磨材特性を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項６２．第２タイプの成形研磨粒子が、二次元形状、平均粒径、粒子の色、硬度、摩損度、靱性、密度、比表面積、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される第２研磨材特性を含む、項６１に記載の固定研磨物品。

項６３．少なくとも１つの第１研磨材特性および第２研磨材特性が、互いに比較して本質的に同じであり、少なくとも２つの第１研磨材特性および２つの第２研磨材特性が、互いと比較して本質的に同じである、項６２に記載の固定研磨物品。

項６４．少なくとも１つの第１研磨材特性および１つの第２研磨材特性が、互いと比較して異なっており、少なくとも２つの第１研磨材特性および２つの第２研磨材特性が、互いと比較して異なっている、項６２に記載の固定研磨物品。

項６５．第２タイプの成形研磨粒子が、長さ（ｌ）、幅（ｗ）、および高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅＞長さ、長さ＞高さ、かつ幅＞高さである、項１に記載の固定研磨物品。

項６６．高さ（ｈ）が、幅（ｗ）の少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％または少なくとも約３３％であり、かつ幅の約８０％以下、約７６％以下、約７３％以下、約７０％以下、約６８％以下、約５６％以下、約４８％以下、または約４０％以下である、項６５に記載の固定研磨物品。

項６７．高さ（ｈ）が、少なくとも約４００μｍ、少なくとも約４５０μｍ、少なくとも約４７５μｍまたは少なくとも約５００μｍであり、かつ約３ｍｍ以下、約２ｍｍ以下、約１．５ｍｍ以下、約１ｍｍ以下または約８００μｍ以下である、項６５に記載の固定研磨物品。

項６８．幅が、少なくとも約６００μｍ、少なくとも約７００μｍ、少なくとも約８００μｍまたは少なくとも約９００μｍであり、かつ約４ｍｍ以下、約３ｍｍ以下、約２．５ｍｍ以下、または約２ｍｍ以下である、項６５に記載の固定研磨物品。

項６９．本体が、少なくとも約１％、例えば、少なくとも約２％、少なくとも約３％、少なくとも約５％、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、少なくとも約１５％、少なくとも約１８％または少なくとも約２０％、かつ約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下または約４％以下のパーセントフラッシングを含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項７０．本体が、約２以下、約１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下または約１．２以下、かつ少なくとも約０．９または少なくとも約１．０の凹み値（ｄ）を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項７１．本体が、少なくとも約１：１かつ約１０：１以下の範囲内の幅：長さの一次アスペクト比を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項７２．本体が、約５：１と約１：１との間の範囲内の幅：高さの比によって定義される二次アスペクト比を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項７３．本体が、約６：１と約１：１との間の範囲内の長さ：高さの比によって定義される三次アスペクト比を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項７４．本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の多角形を含み、本体が、三角形、四角形、矩形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される形状を含み、本体が、楕円体、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、複雑な多角形、不規則形状、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、本体の長さおよび幅によって定義される平面において見たときの二次元形状を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項７５．本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の三角形状を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項７６．本体がバインダを本質的に含まず、本体が有機材料を本質的に含まない、項６５に記載の固定研磨物品。

項７７．本体が多結晶材料を含み、多結晶材料が顆粒を含み、顆粒が、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、ダイヤモンド、およびこれらの組み合わせからなる材料群から選択され、顆粒が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化クロム、酸化ストロンチウム、酸化ケイ素、およびこれらの組み合わせからなる酸化物群から選択される酸化物を含み、顆粒がアルミナを含み、顆粒がアルミナから本質的になる、項６５に記載の固定研磨物品。

項７８．本体がアルミナから本質的になる、項６５に記載の固定研磨物品。

項７９．本体が種添加ゾルゲルから形成される、項６５に記載の固定研磨物品。

項８０．本体が、約１μｍ以下の平均顆粒サイズを有する多結晶材料を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項８１．本体が、少なくとも約２つの異なるタイプの顆粒を含む複合体である、項６５に記載の固定研磨物品。

項８２．本体が添加剤を含み、添加剤が酸化物を含み、添加剤が金属元素を含み、添加剤が希土類元素を含む、項６５に記載の固定研磨物品。

項８３．添加剤がドーパント材料を含み、ドーパント材料が、アルカリ元素、アルカリ土類元素、希土類元素、遷移金属元素、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される元素を含み、ドーパント材料が、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、バナジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、クロム、コバルト、鉄、ゲルマニウム、マンガン、ニッケル、チタン、亜鉛、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される元素を含む、項８２に記載の固定研磨物品。

項８４．第２タイプの成形研磨粒子が、第１主面、第２主面、および第１主面と第２主面との間に延在する少なくとも１つの側面を有する本体を含む、項１に記載の固定研磨物品。

項８５．第１主面が、第２主面と異なる面積を定義し、第１主面が、第２主面によって定義される面積より大きい面積を定義し、第１主面が、第２主面によって定義される面積より小さい面積を定義する、項８４に記載の固定研磨物品。

項８６．第１高さ（ｈ１）を含む第１タイプの成形研磨粒子；および
第１高さ未満の第２高さ（ｈ２）を含む第２タイプの成形研磨粒子
を含む研磨粒子ブレンドを含む固定研磨物品であって、
少なくとも約１１インチ^３のステンレス鋼寿命を含む、固定研磨物品。

項８７．少なくとも約１１．５インチ^３または少なくとも約１２インチ^３のステンレス鋼寿命を含み、約２５インチ^３以下のステンレス鋼寿命を含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項８８．約０．９８以下の高さ比（ｈ２／ｈ１）をさらに含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項８９．高さ比（ｈ２／ｈ１）が、少なくとも約０．０５である、項８８に記載の固定研磨物品。

項９０．少なくとも約１μｍの高さ差（ｈ１−ｈ２）をさらに含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項９１．高さ差（ｈ１−ｈ２）が、約２ｍｍ以下である、項９０に記載の固定研磨物品。

項９２．第１タイプの成形研磨粒子が第１長さ（ｌ１）を含み、第２タイプの成形研磨粒子が第２長さ（ｌ２）を含み、少なくとも約０．０５の長さ比（ｌ１／ｌ２）をさらに含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項９３．約２ｍｍ以下の長さ差（Ｌ１−ｌ２）をさらに含む、項９２に記載の固定研磨物品。

項９４．第１タイプの成形研磨粒子が第１幅（ｗ１）を含み、第２タイプの成形研磨粒子が第２幅（ｗ２）を含み、少なくとも約０．０５の幅比（ｗ２／ｗ１）をさらに含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項９５．約２ｍｍ以下の幅差（ｗ１−ｗ２）をさらに含む、項９４に記載の固定研磨物品。

項９６．第１含量が第２含量より少ない、項８６に記載の固定研磨物品。

項９７．第１含量が、ブレンドの合計含量の約９０％以下である、項８６に記載の固定研磨物品。

項９８．第１含量が、ブレンドの合計含量の少なくとも約１％である、項８６に記載の固定研磨物品。

項９９．第２含量が、ブレンドの合計含量の約９８％以下である、項８６に記載の固定研磨物品。

項１００．第２含量が、ブレンドの合計含量の少なくとも約１％である、項８６に記載の固定研磨物品。

項１０１．研磨粒子ブレンドが、第１含量（Ｃ１）の第１タイプの成形研磨粒子および第２含量（Ｃ２）の第２タイプの成形研磨粒子を含み、約１０以下のブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）をさらに含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項１０２．研磨粒子ブレンドが、主含量の成形研磨粒子を含み、研磨粒子ブレンドが、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子から本質的になる、項８６に記載の固定研磨物品。

項１０３．ブレンドが第３タイプの研磨粒子をさらに含み、第３タイプの研磨粒子が成形研磨粒子を含み、第３タイプの研磨粒子が希釈剤タイプの研磨粒子を含み、希釈剤タイプの研磨粒子が不規則形状を含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項１０４．固定研磨物品が、接着研磨物品、被覆研磨物品、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、項８６に記載の固定研磨物品。

項１０５．固定研磨物品が基材を含み、基材が裏打ちを含み、裏打ちが織布材料を含み、裏打ちが不織布材料を含み、裏打ちが有機材料を含み、裏打ちがポリマーを含み、裏打ちが、布、紙、フィルム、織物、フリース織物、バルカナイズドファイバ、織布材料、不織布材料、ウェビング、ポリマー、樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ラテックス樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリイミド、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項１０６．裏打ちが、触媒、カップリング剤、硬化剤、帯電防止剤、懸濁剤、抗負荷剤、潤滑剤、湿潤剤、染料、フィラー、粘度調整剤、分散剤、消泡剤、および粉砕剤からなる群から選択される添加剤を含む、項１０５に記載の固定研磨物品。

項１０７．裏打ちを覆う接着層をさらに含み、接着層がメイクコートを含み、メイクコートが裏打ちを覆い、メイクコートが裏打ちの一部に直接接着され、メイクコートが有機材料を含み、メイクコートがポリマー材料を含み、メイクコートが、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項１０５に記載の固定研磨物品。

項１０８．接着層がサイズコートを含み、サイズコートが複数の成形研磨粒子の一部を覆い、サイズコートがメイクコートを覆い、サイズコートが複数の成形研磨粒子の一部に直接接着され、サイズコートが有機材料を含み、サイズコートがポリマー材料を含み、サイズコートが、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項１０７に記載の固定研磨物品。

項１０９．研磨粒子ブレンドが複数の成形研磨粒子を含み、複数の成形研磨粒子の各成形研磨粒子が、裏打ちに対して制御された配向に配置されており、制御された配向が、所定の回転配向、所定の横配向、および所定の縦配向の少なくとも１つを含んでいる、項８６に記載の固定研磨物品。

項１１０．第１タイプの成形研磨粒子が、長さ（ｌ）、幅（ｗ）、および高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅≧長さ、長さ≧高さ、かつ幅≧高さである、項８６に記載の固定研磨物品。

項１１１．高さ（ｈ）が、幅（ｗ）の少なくとも約２０％であり、かつ幅の約８０％以下である、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１２．本体が、少なくとも約１％のパーセントフラッシングを含む、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１３．本体が、約２以下の凹み値（ｄ）を含む、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１４．本体が、少なくとも約１：１かつ約１０：１以下の範囲内の幅：長さの一次アスペクト比を含む、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１５．本体が、約５：１と約１：１との間の範囲内の幅：高さの比によって定義される二次アスペクト比を含む、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１６．本体が、約６：１と約１：１との間の範囲内の長さ：高さの比によって定義される三次アスペクト比を含む、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１７．本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の多角形を含み、本体が、三角形、四角形、矩形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される形状を含み、本体が、楕円体、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、複雑な多角形、不規則形状、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、本体の長さおよび幅によって定義される平面において見たときの二次元形状を含む、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１８．本体がバインダを本質的に含まず、本体が有機材料を本質的に含まない、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１１９．本体が多結晶材料を含み、多結晶材料が顆粒を含み、顆粒が、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、ダイヤモンド、およびこれらの組み合わせからなる材料群から選択され、顆粒が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化クロム、酸化ストロンチウム、酸化ケイ素、およびこれらの組み合わせからなる酸化物群から選択される酸化物を含み、顆粒がアルミナを含み、顆粒がアルミナから本質的になる、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１２０．本体が添加剤を含み、添加剤が酸化物を含み、添加剤が金属元素を含み、添加剤が希土類元素を含む、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１２１．第１タイプの成形研磨粒子が、二次元形状、平均粒径、粒子の色、硬度、摩損度、靱性、密度、比表面積、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される第１研磨材特性を含む、項８６に記載の固定研磨物品。

項１２２．第２タイプの成形研磨粒子が、二次元形状、平均粒径、粒子の色、硬度、摩損度、靱性、密度、比表面積、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される第２研磨材特性を含む、項１２１に記載の固定研磨物品。

項１２３．少なくとも１つの第１研磨材特性および第２研磨材特性が、互いに比較して本質的に同じであり、少なくとも２つの第１研磨材特性および２つの第２研磨材特性が、互いと比較して本質的に同じである、項１２２に記載の固定研磨物品。

項１２４．少なくとも１つの第１研磨材特性および１つの第２研磨材特性が、互いと比較して異なっており、少なくとも２つの第１研磨材特性および２つの第２研磨材特性が、互いと比較して異なっている、項１２２に記載の固定研磨物品。

項１２５．第２タイプの成形研磨粒子が、長さ（ｌ）、幅（ｗ）、および高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅＞長さ、長さ＞高さ、かつ幅＞高さである、項１１０に記載の固定研磨物品。

項１２６．高さ（ｈ）が、幅（ｗ）の少なくとも約２０％であり、かつ幅の約８０％以下である、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１２７．高さ（ｈ）が、少なくとも約４００μｍである、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１２８．幅が、少なくとも約６００μｍである、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１２９．本体が、少なくとも約１％のパーセントフラッシングを含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３０．本体が、約２以下の凹み値（ｄ）を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３１．本体が、少なくとも約１：１かつ約１０：１以下の範囲内の幅：長さの一次アスペクト比を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３２．本体が、約５：１と約１：１との間の範囲内の幅：高さの比によって定義される二次アスペクト比を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３３．本体が、約６：１と約１：１との間の範囲内の長さ：高さの比によって定義される三次アスペクト比を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３４．本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の多角形を含み、本体が、三角形、四角形、矩形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される形状を含み、本体が、楕円体、ギリシャアルファベット文字、ラテンアルファベット文字、ロシアアルファベット文字、複雑な多角形、不規則形状、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、本体の長さおよび幅によって定義される平面において見たときの二次元形状を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３５．本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の三角形状を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３６．本体がバインダを本質的に含まず、本体が有機材料を本質的に含まない、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３７．本体が多結晶材料を含み、多結晶材料が顆粒を含み、顆粒が、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、ダイヤモンド、およびこれらの組み合わせからなる材料群から選択され、顆粒が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化クロム、酸化ストロンチウム、酸化ケイ素、およびこれらの組み合わせからなる酸化物群から選択される酸化物を含み、顆粒がアルミナを含み、顆粒がアルミナから本質的になる、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３８．本体が、少なくとも約２つの異なるタイプの砥粒を含む複合体である、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１３９．本体が添加剤を含み、添加剤が酸化物を含み、添加剤が金属元素を含み、添加剤が希土類元素を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１４０．添加剤がドーパント材料を含み、ドーパント材料が、アルカリ元素、アルカリ土類元素、希土類元素、遷移金属元素、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される元素を含み、ドーパント材料が、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、バナジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、クロム、コバルト、鉄、ゲルマニウム、マンガン、ニッケル、チタン、亜鉛、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される元素を含む、項１２５に記載の固定研磨物品。

項１４１．第１高さ（ｈ１）を含む第１タイプの成形研磨粒子；および
第１高さ未満の第２高さ（ｈ２）を含む第２タイプの成形研磨粒子
を含む研磨粒子ブレンドを含む研磨物品を用いてワークピースから材料を除去する方法。

項１４２．ワークピースが、有機材料、無機材料、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含み、ワークピースが、金属を含み、ワークピースが、金属合金を含む、項１４１に記載の方法。

項１４３．固定研磨物品が、少なくとも約１１インチ^３のステンレス鋼寿命を含む、項１４１に記載の方法。

項１４４．約０．９８以下の高さ比（ｈ２／ｈ１）をさらに含む、項１４１に記載の方法。

項１４５．高さ比（ｈ２／ｈ１）が、少なくとも約０．０５である、項１４４に記載の方法。

項１４６．少なくとも約１μｍの高さ差（ｈ１−ｈ２）をさらに含む、項１４１に記載の方法。

項１４７．高さ差（ｈ１−ｈ２）が、約２ｍｍ以下である、項１４６に記載の方法。

項１４８．第１タイプの成形研磨粒子が第１長さ（ｌ１）を含み、第２タイプの成形研磨粒子が第２長さ（ｌ２）を含み、少なくとも約０．０５の長さ比（ｌ１／ｌ２）をさらに含む、項１４１に記載の方法。

項１４９．約２ｍｍ以下の長さ差（Ｌ１−ｌ２）をさらに含む、項１４８に記載の方法。

項１５０．第１タイプの成形研磨粒子が第１幅（ｗ１）を含み、第２タイプの成形研磨粒子が第２幅（ｗ２）を含み、少なくとも約０．０５の幅比（ｗ２／ｗ１）をさらに含む、項１４１に記載の方法。

項１５１．約２ｍｍ以下の幅差（ｗ１−ｗ２）をさらに含む、項１５０に記載の方法。

項１５２．研磨粒子ブレンドが、第１含量（Ｃ１）の第１タイプの成形研磨粒子および第２含量（Ｃ２）の第２タイプの成形研磨粒子を含み、約１０以下のブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）をさらに含む、項１４１に記載の方法。

項１５３．研磨粒子ブレンドが、主含量の成形研磨粒子を含み、研磨粒子ブレンドが、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子から本質的になる、項１４１に記載の方法。

項１５４．ブレンドが第３タイプの研磨粒子をさらに含み、第３タイプの研磨粒子が成形研磨粒子を含み、第３タイプの研磨粒子が希釈剤タイプの研磨粒子を含み、希釈剤タイプの研磨粒子が不規則形状を含む、項１４１に記載の方法。

項１５５．固定研磨物品が、接着研磨物品、被覆研磨物品、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、項１４１に記載の方法。

項１５６．固定研磨物品が基材を含み、基材が裏打ちを含み、裏打ちが織布材料を含み、裏打ちが不織布材料を含み、裏打ちが有機材料を含み、裏打ちがポリマーを含み、裏打ちが、布、紙、フィルム、織物、フリース織物、バルカナイズドファイバ、織布材料、不織布材料、ウェビング、ポリマー、樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ラテックス樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリイミド、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項１４１に記載の方法。

項１５７．裏打ちが、触媒、カップリング剤、硬化剤、帯電防止剤、懸濁剤、抗負荷剤、潤滑剤、湿潤剤、染料、フィラー、粘度調整剤、分散剤、消泡剤、および粉砕剤からなる群から選択される添加剤を含む、項１５６に記載の方法。

項１５８．裏打ちを覆う接着層をさらに含み、接着層がメイクコートを含み、メイクコートが裏打ちを覆い、メイクコートが裏打ちの一部に直接接着され、メイクコートが有機材料を含み、メイクコートがポリマー材料を含み、メイクコートが、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項１５７に記載の方法。

項１５９．接着層がサイズコートを含み、サイズコートが複数の成形研磨粒子の一部を覆い、サイズコートがメイクコートを覆い、サイズコートが複数の成形研磨粒子の一部に直接接着され、サイズコートが有機材料を含み、サイズコートがポリマー材料を含み、サイズコートが、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、セラック、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む、項１５８に記載の方法。

項１６０．研磨粒子ブレンドが複数の成形研磨粒子を含み、複数の成形研磨粒子の各成形研磨粒子が、裏打ちに対して制御された配向に配置されており、制御された配向が、所定の回転配向、所定の横配向、および所定の縦配向の少なくとも１つを含んでいる、項１４１に記載の方法。

実施例１
５つのサンプルを用いて、比較の粉砕操作を行った。５つのサンプルは、各々、裏打ちおよび接着層を含む本質的に同じ構造を用いたが、これらのサンプルは、研磨粒子のタイプが異なった。第１サンプル、サンプルＳ１は、本明細書に記載されている実施形態による成形研磨粒子のブレンドを含む被覆研磨材を表す。サンプルＳ１は、およそ５００μｍのメジアン内部高さを有する複数の第１タイプの成形研磨粒子を含む。ブレンドは、およそ４００μｍのメジアン内部高さを有する複数の第２タイプの成形研磨粒子をさらに含む。ブレンドは、およそ２．３の比（Ｃ１／Ｃ２）を有する。ブレンドの成形研磨粒子の約８０％が、裏打ちにおいて所定の側方配向で位置付けられており、４０ｌｂｓ．／リームの正規化された成形研磨粒子重量を有する。

第２サンプル、サンプルＳ２は、本明細書に記載されている実施形態による成形研磨粒子のブレンドを含む被覆研磨材を表す。サンプルＳ２は、およそ５００μｍのメジアン内部高さを有する複数の第１タイプの成形研磨粒子を含む。ブレンドは、およそ４００μｍのメジアン内部高さを有する複数の第２タイプの成形研磨粒子をさらに含む。ブレンドは、およそ１の比（Ｃ１／Ｃ２）を有する。ブレンドの成形研磨粒子の約８０％が、裏打ちにおいて所定の側方配向で位置付けられており、４０ｌｂｓ．／リームの正規化された成形研磨粒子重量を有する。

第３サンプル、サンプルＳ３は、本明細書に記載されている実施形態による成形研磨粒子のブレンドを含む被覆研磨材を表す。サンプルＳ３は、およそ５００μｍのメジアン内部高さを有する複数の第１タイプの成形研磨粒子を含む。ブレンドは、およそ４００μｍのメジアン内部高さを有する複数の第２タイプの成形研磨粒子をさらに含む。ブレンドは、およそ０．４３の比（Ｃ１／Ｃ２）を有する。ブレンドの成形研磨粒子の約８０％が、裏打ちにおいて所定の側方配向で位置付けられており、４０ｌｂｓ．／リームの正規化された成形研磨粒子重量を有する。

第４サンプル、サンプルＣＳ４は、およそ４００μｍのメジアン内部高さを有する単一のタイプの成形研磨粒子を含む従来の被覆研磨物品を表す。これらの成形研磨粒子の約８０％が、裏打ちにおいて所定の側方配向で位置付けられており、４０ｌｂｓ．／リームの正規化された成形研磨粒子重量を有する。

第５サンプル、サンプルＣＳ５は、およそ５００μｍのメジアン内部高さを有する単一のタイプの成形研磨粒子を含む従来の被覆研磨物品を表す。これらの成形研磨粒子の約８０％が、裏打ちにおいて所定の側方配向で位置付けられており、４０ｌｂｓ．／リームの正規化された成形研磨粒子重量を有する。

サンプルを、以下の表１に付与する条件に従って、自動粉砕システムにおいて試験した。

図１１は、比粉砕エネルギー対各サンプルで除去された累積材料のプロットを含む。明確に示すように、サンプルＣＳ５の寿命は、サンプルＳ２およびＳ３よりも大幅に短かった。かなり顕著に、また、予想外にも、サンプルＳ２〜Ｓ３が、サンプルＣＳ４およびＣＳ５間の累積材料除去速度を有すると予期され得る、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子のブレンドを有しているにも関わらず、サンプルＳ２およびＳ３は、ＣＳ４と等しく、またＣＳ５を超える寿命を有した。また、サンプルＳ１〜Ｓ３は、それぞれ、除去された材料の初期の比粉砕エネルギーが０〜５立方インチであり、これは、同じ初期段階において比較サンプルＣＳ４およびＣＳ５よりも低かった。また、同じく予想外に、サンプルＳ３は、サンプルＣＳ１またはサンプルＣＳ２のいずれかと比較してテストの大部分にわたってより低い比粉砕エネルギーを有する。

本願は、当該分野の現状からの逸脱を表す。本明細書における実施形態の被覆研磨物品は、限定されないが、第１タイプの成形研磨粒子および第２タイプの成形研磨粒子を含むブレンドの組み込みを含めた、他の従来的に利用可能な研磨物品と異なった特徴の特定の組み合わせを含む。とりわけ、第１タイプおよび第２タイプの成形研磨粒子は、限定されないが、互いに対する高さ差を含めた特徴の特定の組み合わせを有することができる。また、成形研磨粒子は、それぞれ、例えば、アスペクト比、組成、添加剤、二次元形状、三次元形状、内部高さ、高さ差プロファイル、フラッシング百分率、凹みなどの特定の特徴を有することができる。また、ブレンドは、限定されないが、高さ比、高さ差、長さ比、長さ差、幅比、幅差、第１および第２タイプの成形研磨粒子の相対含量などを含めた、ある特徴の特定の組み合わせを利用してもよい。また、完全に理解されているわけではなく、特定の理論に拘束されることを望まないが、本明細書に記載されている実施形態のこれらの特徴の１つまたは組み合わせは、これらの被覆研磨物品の顕著かつ予想外の性能を容易にすると考えられる。

別個の実施形態の文脈において明確のために本明細書に記載されているある特定の特徴は、単一の実施形態において組み合わせて提供されてもよい。反対に、単一の実施形態の文脈において明確のために記載されている種々の特徴が、別個にまたは任意のサブ組み合わせにおいて提供されてもよい。さらに、範囲に記述されている値への言及は、当該範囲内にあるありとあらゆる値を含む。

利益、他の利点、および課題に対する解決手段を、具体的な実施形態に関して上記に記載した。しかし、利益、他の利点、および課題に対する解決手段、ならびに、任意の利益、利点または解決手段を生じさせ得るまたはより明白にさせ得る任意の特徴は、任意または全ての特許請求の範囲の厳密な、必要とされる、または必須の特徴であると解釈されてはならない。

本明細書に記載されている実施形態の詳述および図示は、種々の実施形態の構造の全体的な理解を提供することが意図されている。詳述および図示は、本明細書に記載されている構造または方法を用いる装置およびシステムの要素および特徴の全ての包括的かつ総合的な記載として機能することが意図される。別個の実施形態が、単一の実施形態において組み合わせて提供されてもよく、反対に、単一の実施形態の文脈において明確のために記載されている種々の特徴が、別個にまたは任意のサブ組み合わせにおいて提供されてもよい。さらに、範囲に記述されている値への言及は、当該範囲内にあるありとあらゆる値を含む。多くの他の実施形態は、本明細書を読んだ後のみに当業者に明らかになり得る。他の実施形態が本開示から用いられて誘導されてよく、その結果、構造的置換、論理的置換、または別の変更が、本開示の範囲から逸脱することなくなされてよい。したがって、本開示は、制限的であるよりもむしろ説明的であるとみなされるべきである。

図と組み合わせた以下の記載は、本明細書に開示されている教示の理解を助けるために提供されるものである。以下の議論は、該教示の具体的な実施および実施形態に焦点を当てている。この焦合は、該教示の記載を助けるために提供されるものであり、該教示の範囲または適用可能性に対する限定と解釈されるべきではない。しかし、他の教示が、本願において確かに用いられる可能性がある。

本明細書において用いられているとき、用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、または任意の他の変形は、非排他的包含をカバーすることが意図されている。例えば、特徴の列挙を含む方法、物品または装置は、これらの特徴のみに必ずしも限定されないが、明確に列挙されていないまたはかかる方法、物品もしくは装置に固有の他の特徴を含んでいてよい。さらに、反対であることが明確に記述されていない限り、「または（ｏｒ）」は、包括的な「または」を称し、排他的な「または」を称するものではない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のいずれか１つによって満たされる：Ａが真（または存在する）かつＢが偽（または存在しない）、Ａが偽（または存在しない）かつＢが真（または存在する）、ならびにＡおよびＢが真（または存在する）。

また、「１つ（ａ）」または「１つ（ａｎ）」の使用は、本明細書に記載されている要素および構成要素を記載するのに使用される。これは、単に、便宜上、かつ本発明の範囲の一般的な意味を付与するためになされる。この記載は、１つまたは少なくとも１つを含むと読み取られるべきではなく、別途意味することが明らかでない限り、単数は複数も含み、またはその逆も然りである。例えば、単一の項が本明細書に記載されているとき、１を超える項が、単一の項の代わりに用いられてよい。同様に、１を超える項が本明細書に記載されているとき、単一の項が、１を超える項に代替できる。

別途定義されていない限り、本明細書において用いられている全ての技術的および科学的用語は、本発明が属する分野の当業者によって一般的に理解されているものと同じ意味を有する。材料、方法、および例は、単に説明的なものであり、限定的であることは意図されていない。本明細書に記載されていない程度まで、具体的な材料および処理動作に関しての多くの詳細が従来的なものであり、構造的技術および対応する製造技術の範囲内の参考図書および他のソースにおいて見出され得る。

上記に開示されている主題は、説明的であって、制限的であるとみなされるべきではなく、添付の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲内にある全てのかかる変更、向上および他の実施形態をカバーすることが意図されている。したがって、本発明の範囲は、法によって許容される最大限の程度まで、以下の特許請求の範囲およびそれらの等価物の最も広範な許容可能な解釈によって決定されるべきであり、上記の詳細な説明によって制限または限定されてはならない。

本開示の要約書は、特許法に適合するように提供されており、特許請求の範囲または意味を解釈または限定するのに用いられないという理解の下で提出されている。また、上記の図面の詳細な説明では、種々の特徴が、本開示の簡潔化を目的として一緒にグループ化され、または単一の実施形態において記載されている場合がある。本開示は、請求されている実施形態が、各特許請求の範囲に明確に列挙されているよりも多くの特徴を必要とするという意図を反映していると解釈されるべきではない。むしろ、以下の特許請求の範囲が反映しているように、発明の主題は、任意の開示されている実施形態の全ての特徴よりも少ないものを対象としている場合がある。このように、以下の特許請求の範囲は、各特許請求の範囲が別個に請求されている主題を定義するとして自身に基づいていて、図面の詳細な説明に組み込まれる。

Claims (15)

1. 第１高さ（ｈ１）を含む、第１含量（Ｃ１）の第１タイプの成形研磨粒子、
   第１高さ未満の第２高さ（ｈ２）を含む、第２含量（Ｃ２）の第２タイプの成形研磨粒子
   を含む研磨粒子ブレンドを含む固定研磨物品であって、
   高さ比（ｈ２／ｈ１）が、少なくとも０．２かつ０．９８以下であり、
   前記第１含量が、前記ブレンドの全含量の少なくとも１％かつ７０％以下であり、
   前記第２含量が、前記ブレンドの全含量の少なくとも１％かつ９８％以下である、固定研磨物品。
2. 高さ比（ｈ２／ｈ１）は、少なくとも０．５かつ０．９以下である、請求項１に記載の固定研磨物品。
3. 少なくとも１μｍかつ２ｍｍ以下の高さ差（ｈ１−ｈ２）をさらに含む、請求項１に記載の固定研磨物品。
4. 前記第１タイプの成形研磨粒子が第１長さ（ｌ１）を含み、前記第２タイプの成形研磨粒子が第２長さ（ｌ２）を含み、少なくとも０．０５かつ１０以下の長さ比（ｌ１／ｌ２）をさらに含む、請求項１に記載の固定研磨物品。
5. 前記第１含量が前記第２含量より少ない、請求項１に記載の固定研磨物品。
6. 前記第１含量が、前記ブレンドの全含量の少なくとも２５％かつ３５％以下であり、前記第２含量が、前記ブレンドの全含量の少なくとも５０％かつ７５％以下である、請求項５に記載の固定研磨物品。
7. １０以下のブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）をさらに含む、請求項１に記載の固定研磨物品。
8. 前記ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）が、少なくとも０．１である、請求項７に記載の固定研磨物品。
9. 前記ブレンドが、成形研磨粒子を含む第３タイプの研磨粒子をさらに含む、請求項１に記載の固定研磨物品。
10. 前記固定研磨物品が、接着研磨物品、被覆研磨物品、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の固定研磨物品。
11. 前記研磨粒子ブレンドが複数の成形研磨粒子を含み、複数の成形研磨粒子の各成形研磨粒子が、裏打ちに対して制御された配向に配置されており、前記制御された配向が、所定の回転配向、前記裏打ちの横軸に対する成形研磨粒子の配向として定義される所定の横配向、および前記裏打ちの縦軸に対する成形研磨粒子の配向として定義される所定の縦配向の少なくとも１つを含んでいる、請求項１に記載の固定研磨物品。
12. 前記第１タイプの研磨粒子の大部分が、側方配向で前記裏打ちに結合されており、前記第２タイプの研磨粒子の大部分が、側方配向で前記裏打ちに結合されており、前記側方配向は、前記成形研磨粒子の側面が前記裏打ちの表面に最も近くなる成形研磨粒子の配向として定義される、請求項１１に記載の固定研磨物品。
13. 前記第１タイプの成形研磨粒子が、長さ（ｌ）、幅（ｗ）、および高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅≧長さ、長さ≧高さ、かつ幅≧高さであり、前記本体が、長さおよび幅によって定義される平面において見たときに二次元の多角形を含み、前記本体が、三角形、四角形、矩形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される形状を含む、請求項１に記載の固定研磨物品。
14. 前記本体が、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、ダイヤモンド、およびこれらの組み合わせからなる材料群から選択される多結晶材料を含む、請求項１３に記載の固定研磨物品。
15. 高さ差（ｈ１−ｈ２）が、少なくとも約１μｍかつ約５００μｍ以下であり、前記ブレンド比（Ｃ１／Ｃ２）が、少なくとも０．３かつ０．７以下である、請求項７に記載の固定研磨物品。