JPH06773A - 研磨テープの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 フロッピーディスク等のバーニッシュ加工用
研磨テープとして最適な、 スクラッチの発生を大幅に
改善した研磨テープの製造方法を提供すること。 【構成】 対向する金属ロール４と弾性ロール５の内、
研磨層２が前記金属ロール４に、可撓性支持体３が前記
弾性ロール５に接し、前記弾性ロール５の硬度がスプリ
ング式硬さ試験機Ａ形による硬度５０乃至８０に調整す
ることにより研磨剤粒子９の先端の位置１１を均一に揃
える表面平滑化処理を行う製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体等の研磨
に用いられる研磨テープの製造方法に係わり、特に、ス
クラッチが発生する恐れが少ないフロッピーディスク等
のバーニッシュ用の、研磨テープの製造方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術と問題点】フロッピーディスク等のバーニ
ッシュ加工は、可撓性支持体上に設けられた研磨剤、結
合剤、添加剤等を含む塗布液を塗布し、乾燥させて研磨
層が形成されてなる研磨テープにより研磨される。この
研磨テープには、テープ状またはデイスク状等の形態が
あり、可撓性支持体を有しているため、研磨砥石に比
べ、磁気ヘッド等の曲面加工やフロッピーディスク等の
フレキシブルな物体の研磨に適し、また被研磨面の傷つ
きが少なく、精密研磨が可能であるため、仕上げ研磨に
は不可欠のものであった。

【０００３】ところで近年の磁気記録に対する高記録密
度化の傾向に伴いフロッピーディスク等のバーニッシュ
加工に対してもその精度の向上が要求され、従来の研磨
テープでは、バーニッシュ加工時のフロッピ−ディスク
磁性層面のスクラッチの発生が大きな問題となってき
た。一方、研磨テープを用いて、磁気ヘッドを仕上げ研
磨する場合、研磨効果を低下させずに、且つ被研磨面に
傷付きや研磨屑の付着を防止する方法が各種提案されて
いる。

【０００４】例えば特開昭６３−１６９８０号公報に
は、研磨層の表面をエンボス加工により均一な凹凸に形
成し、この凹部内に研磨屑が入り込むようにし、研磨屑
が磁気ヘッド等の被研磨面を圧接摺動することによって
起こる傷つきを防止できることが開示されている。しか
しフロッピーディスク等のバーニッシュ加工では、磁気
ヘッドと異なり、被研磨面がフレキシブルであり、研磨
層表面の研磨剤粒子のうち、飛び出し量の多い研磨剤粒
子ほど、被研磨面に対して局部的に強く力が作用するた
めに、スクラッチが発生し、品質上問題となっていた。
さらにエンボス加工用ローラーの螺旋状の精密加工がコ
ストアップとなつていた。

【０００５】また、特開昭５５−１１７７３０号公報で
は、カレンダーロールで連続的叉は段階的に加熱、加圧
し、研磨剤粒子を研磨層中に埋設してクリーニングテー
プを製造する方法が開示されている。この方法では、研
磨剤粒子は０．３乃至５．０μｍのものを使用し、カレ
ンダー圧力を一定（例えば２００ｋｇ／ｃｍ）にして、
カレンーダーロールで塗膜を除々に２０乃至６０゜Ｃに
加熱するか、温度を一定（例えば６０゜Ｃ）にして、カ
レンダーロールで塗膜を除々に２００ｋｇ／ｃｍ以内で
加圧するか、カレンダーロールで塗膜を除々に加熱し、
２００ｋｇ／ｃｍ以内で加圧することにより、塗膜の表
面を漸次平滑化している。このようにして得られた塗膜
の表面は、漸次粗く、又は平滑となる面を有しており、
磁気ヘッドの目づまりがとれ易く、磁気ヘッドへの傷の
発生もなかった。しかし研磨剤粒子が研磨層中に任意に
埋設されることにより、研磨剤粒子の先端の位置も、研
磨層表面の凹部の深さも不均一となり、フロッピーディ
スク等のバーニッシュ加工では、研磨屑の発生が多いの
で、研磨剤粒子間に研磨屑を保持できない部分が発生
し、そのために研磨屑の脱落によるフロッピーディスク
面の汚れ等に問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする問題】本発明は、上記従来技
術の問題点に鑑みてなされたものであり、特にフロッピ
ーディスク等のバーニッシュ加工用の研磨テープとして
最適な、スクラッチの発生の問題を大幅に改善した研磨
テープの製造方法を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
研磨剤粒子及び結合剤樹脂を主たる組成物とする塗布液
を可撓性支持体上に塗布し、次いで乾燥して研磨層を形
成した後、スプリング式硬さ試験機Ａ形による硬度５０
乃至８０の弾性ロール及び金属ロールが対向している加
圧ロールの間を、該可撓性支持体が前記弾性ロールに接
し、前記研磨層が前記金属ロールに接するように前記加
圧ロールの間を圧接しつつ通過させることにより前記研
磨層の表面平滑化処理を行う研磨テープを使用すること
により達成される。

【０００８】磁気記録媒体は、通常非磁性支持体上に磁
性粉から成る磁性層を塗設し、乾燥させた後、磁性層の
艶だし、平滑化、充填密度の向上、あるいは厚味の均一
化等を目的とする表面平滑化処理を経て製造される。そ
の工程において、磁性層が金属ロール（直径１８０乃至
２６０ｍｍ）に接し、可撓性支持体が弾性ロール（直径
２２０乃至３００ｍｍ）に接し、金属ロールを加熱及び
加圧（線圧力５０乃至５００ｋｇ／ｃｍ）することによ
り、金属ロールの表面平滑性を磁気記録媒体の面に転写
することで表面平滑化処理を行っている。

【０００９】本発明の方法における前記表面平滑化処理
は、磁気記録媒体で目的とする表面平滑化処理と全く異
なり、表面平滑性を磁気記録媒体の面に転写することで
はなく、前記研磨剤粒子を選択的に加圧して、研磨剤粒
子の先端の位置を同一の高さに揃えることにある。

【００１０】本発明の研磨テープの部分断面の一例を模
式的に示す図１において、可撓性支持体３上に形成され
た研磨剤粒子９及び結合剤樹脂８を主たる組成物とする
研磨層２の表面は、部分的に研磨剤粒子の先端の位置の
不揃い部分１０を有している。可撓性支持体３が弾性ロ
ール５に接し、金属ロール４が研磨層２に接し、金属ロ
−ル４と弾性ロール５が対向する間に可撓性支持体３上
に形成された研磨層が矢印Ａ方向に向けて通過し、金属
ロール４の平滑面によって研磨層２が加圧される。加圧
された研磨層２の表面の研磨剤粒子９は、研磨層２の表
面に突出した研磨剤粒子により強く加圧され、しかも対
向する弾性ロール５の硬度が適宜に調整されている為、
研磨剤粒子９が無差別ではなく選択的に加圧され、前記
表面平滑化処理が行なわれる。すなわち研磨剤粒子９の
先端に選択的に力が伝達されるので、研磨剤粒子の周囲
の結合剤等８が永久変形し、研磨剤粒子９の先端の位置
１１が押された位置にとどまることにより均一になると
考えられる。

【００１１】本発明における前記研磨テープでは、前記
金属ロールが前記研磨層に接し、前記弾性ロールが前記
可撓性支持体に接し、前記弾性ロールの硬度をスプリン
グ式硬さ試験機Ａ形による硬度５０乃至８０とすること
により本発明の目的である研磨剤粒子の先端の位置の均
一化が達成される。尚ここでのスプリング式硬さ試験機
Ａ形による硬度とは、ＪＩＳ規格Ｋ６３０１に規定され
ている試験機で測定される硬度であって、この測定機の
加圧面をロールに接触させると、加圧面の穴からバネ圧
力により突き出ている押針がロール面によって押し戻さ
れる距離を硬さとして目盛りに示すものである。

【００１２】前記弾性ロールのスプリング式硬さ試験機
Ａ形による硬度５０以下では、前記金属ロールから伝達
された力が、前記研磨剤粒子の先端の位置を永久変形さ
せる位置まで移動しない為、加圧後の研磨剤粒子が、元
の位置に戻り、表面平滑化処理の効果が出ないと考えら
れる。一方弾性ロールのスプリング式硬さ試験機Ａ形に
よる硬度８０以上では、加圧後前記研磨剤粒子が前記結
合剤樹脂内に潜ってしまい、前記金属ロールの平滑面の
転写が強くなり、前記研磨剤粒子の先端の突出量が少な
くなり研磨効果を失うと考えられる。以上よりスプリン
グ式硬さ試験機Ａ形による弾性ロ−ルの硬度は、一般に
は５０乃至８０、好ましくは５５乃至７５、特に好まし
くは５５乃至６５である。

【００１３】この加圧時の弾性ロールの硬度を前記の範
囲に保つ方法としては種々あるが、最も一般的には前記
弾性ロールを、一般には３０乃至７０゜Ｃに加熱するこ
とである。また特開昭５５−１１７７３０号公報で開示
されているローラー加圧力を変化させたり、塗膜の温度
を変化させるのではなく、ローラー加圧力と塗膜の温度
は一定とし、対向する加圧ロールのロール硬度を調整し
て、研磨剤粒子の先端の位置を調整することにある。

【００１４】本発明の研磨テープの製造方法に使用され
る装置の一例の部分断面図である図２において、可撓性
支持体３上に研磨層２を形成した送出しロール１から供
給される表面平滑化処理前の研磨テ−プは、研磨層２に
金属ロール４が接し、可撓性支持体３に弾性ロール５が
接するように前記表面平滑化処理の加圧ロ−ルの間を矢
印Ｂ方向に向けて通過させる。前記弾性ロール５の表面
を加圧直前に加熱源６で加熱して、弾性ロール５の表面
硬度を適宜に一定に保持し、巻取りロール７に巻取られ
る工程により製造される研磨テ−プの製造方法である。
前記表面平滑化処理に使用されるロールは、加熱又は冷
却が可能なように、中空にして、内部に温水で加熱した
り、電熱又は誘導加熱等で温度を制御できる。前記表面
平滑化処理は、研磨層を形成した後、一度巻取りその後
前記表面平滑化処理を行うか、または研磨層を形成した
後、引き続いて前記表面平滑化処理を行っても同様の効
果が得られる。

【００１５】本発明の方法における研磨テープの製造に
使用する前記金属ロールは、鋳鋼製の躯体の表面を硬化
処理した後に、鏡面に仕上げたものであり、前記金属ロ
ールの材質としては、ステンレススチール製ロール、表
面をクロム、亜鉛、スズ、銅、ニッケルなどでメッキし
た金属ロールを使用することができる。

【００１６】本発明の方法における研磨テープの製造に
使用する前記弾性ロールは、鉄芯に原綿、パルプ、ウー
ル、アスベスト等を線状、マット状、紙状にして積み重
ね、高圧でプレスした後、切削研磨したり、金属ロール
の表面にゴム材料、プラスチック材料などの弾性材料層
で被覆した弾性ロールを用いることができる。被覆する
プラスチック材料としては、ポリアミド樹脂、エポキシ
樹脂等を使用できる。

【００１７】本発明の方法における研磨テープの研磨層
の主たる組成物である前記研磨剤粒子の平均粒子径は、
一般に０．３乃至５．０μｍのものが使用できる。研磨
剤粒子の平均粒子径が０．３μｍ以下では平滑になりす
ぎる為、研磨効果が悪くなり、一方、研磨剤粒子の平均
粒子径が５．０μｍ以上ではスクラッチが増加すること
があるので注意を要する。

【００１８】前記研磨剤粒子としては、例えば、α−ア
ルミナ、γ−アルミナ、溶融アルミナ、炭化珪素、酸化
クロム、酸化セリウム、コランダム、α酸化鉄、エメリ
ー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ケイ石、窒化珪
素、窒化硼素等があり、主としてモース硬度６以上の物
が望ましくこれらの中から、１乃至４種までの組み合わ
せで使用できる。

【００１９】本発明の方法における研磨テープの製造に
使用される前記可撓性支持体としては、例えばポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類、セルローストリアセテート、セルロースジア
セテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの合成
樹脂からなるフイルムもしくはシートから選ぶことがで
きる。

【００２０】本発明の方法における研磨テープの研磨層
の主たる組成物である前記結合剤樹脂は、従来公知の熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂やこれらの混
合物を使用できる。熱可塑性樹脂としては、例えば塩化
ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・酢酸ビ
ニル・ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル・酢酸ビ
ニル・マレイン酸共重合体が使用できる。熱硬化性樹脂
又は反応型樹脂としては、例えばニトロセルロース、エ
ポキシ樹脂、イソシアネート樹脂、ポリアミド、ポリア
ミン等があり、単独叉は２種類以上の組み合わせで使用
できる。

【００２１】本発明の方法における研磨テープの研磨層
の製造に際しては、前記研磨剤粒子及び前記結合剤樹脂
と共に必要に応じて添加剤を溶剤を用いて混練し、塗布
液とする。混練の際に使用する溶剤は、研磨テープの塗
布液に一般に使用されているメチルエチルケトン等の溶
剤を用いることができる。混練の方法及び各組成物の添
加順序などは適宜設定することができる。前記塗布液の
調整に使用する混練機の例としてボールミル、二本ロー
ルミル、三本ロールミル等を挙げることができる。この
前記塗布液には添加剤として、潤滑剤、分散剤、帯電防
止剤等の従来公知の材料を含んでもよい。

【００２２】本発明の方法における研磨テープの製造に
使用される塗布方法の例としては、エアドクターコー
ト、ブレードコート等従来公知の方法を挙げることがで
きる。この方法で塗布された研磨層の厚さは、一般には
乾燥後の厚さが約０．５乃至１０μｍ、望ましくは１．
５乃至７．０μｍである。

【００２３】

【実施例】本発明の方法における研磨テープについて実
施例および比較例を示す。なお以下に示す実施例及び比
較例において、「部」との表現は特に制限のない場合に
は「重量部」を表すものである。またここに示す成分、
割合は本発明の精神から逸脱しない範囲において変更し
得るものであることは、本業界に携わっているものとし
ては容易に理解されることである。従って本発明は、下
記の実施例に制限されるべきでない。

【００２４】（実施例１） 〈研磨層用塗布液の組成〉 研磨剤粒子 ……１００部 酸化クロム(Ｃｒ₂Ｏ₃)（粒状、平均粒子径０．３μｍ、モース硬度６〜７ ） 結合剤樹脂 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂 ……２．５部 ポリアミド樹脂 …… １１部 エポキシ樹脂 ……１．５部 溶剤 …… ８５部 ボールミルを使用して分散させた上記の組成を有する塗
布液（粘度０．５ポイズ）を乾燥後の研磨層の厚さが５
μｍになるように厚さ２３μｍのポリエチレンテレフタ
レートの支持体上に塗布し、乾燥条件としてはスピード
６０ｍ／分、前部４０゜Ｃ、中間部８０゜Ｃ、後部１２
０゜Ｃ、の下で乾燥させて研磨層を形成した後、スプリ
ング式硬さ試験機Ａ形による硬度６０のポリアミド樹脂
を使用したプラスチック製弾性ロールＰ２（直径３００
ｍｍ）とステンレス製で表面をクロムメッキした金属ロ
ール（直径２６０ｍｍ）で表面平滑化処理をし、１吋に
スリットしてバーニッシュ用研磨テープを製造した。

【００２５】（実施例２）実施例１において、スプリン
グ式硬さ試験機Ａ形による硬度６０のプラスチック製弾
性ロールＰ２に変え、硬度５０の弾性ロールＰ１を用い
て表面平滑化処理を行った以外は、実施例１と同一の条
件で１吋にスリットしてバーニッシュ用研磨テープを製
造した。

【００２６】（実施例３）実施例１において、スプリン
グ式硬さ試験機Ａ形による硬度６０のプラスチック製弾
性ロールＰ２に変え、硬度８０の弾性ロールＰ３を用い
て表面平滑化処理を行った以外は、実施例１と同一の条
件で１吋にスリットしてバーニッシュ用研磨テープを製
造した。

【００２７】（実施例４）実施例１において、プラスチ
ック製弾性ロールに変え、ウールンペーパー製の弾性ロ
ールＵを用いて表面平滑化処理を行った以外は、実施例
１と同一の条件で１吋にスリットしてバーニッシュ用研
磨テープを製造した。

【００２８】（実施例５）実施例１において、プラスチ
ック製弾性ロールに変え、ゴム製弾性ロールＧを用いて
表面平滑化処理を行った以外は、実施例１と同一の条件
で１吋にスリットしてバーニッシュ用研磨テープを製造
した。

【００２９】（実施例６）実施例１において、プラスチ
ック製弾性ロールの表面を加熱源で加熱して５０゜Ｃに
保持することによりスプリング式硬さ試験機Ａ形による
硬度を６０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以
外は、実施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバー
ニッシュ用研磨テープを製造した。

【００３０】（実施例７）実施例１において、プラスチ
ック製弾性ロールの表面を加熱源で加熱して６０゜Ｃに
保持することによりスプリング式硬さ試験機Ａ形による
硬度を６０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以
外は、実施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバー
ニッシュ用研磨テープを製造した。

【００３１】（実施例８）実施例１において、プラスチ
ック製弾性ロールの表面を加熱源で加熱して７０゜Ｃに
保持することによりスプリング式硬さ試験機Ａ形による
硬度を６０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以
外は、実施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバー
ニッシュ用研磨テープを製造した。

【００３２】（実施例９）実施例１において、プラスチ
ック製弾性ロールの加圧力を１００ｋｇ／ｃｍから５０
ｋｇ／ｃｍ、スプリング式硬さ試験機Ａ形による硬度を
６０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以外は、
実施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバーニッシ
ュ用研磨テープを製造した。

【００３３】（実施例１０）実施例１において、プラス
チック製弾性ロールの加圧力を１００ｋｇ／ｃｍから１
５０ｋｇ／ｃｍ、スプリング式硬さ試験機Ａ形による硬
度を６０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以外
は、実施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバーニ
ッシュ用研磨テープを製造した。

【００３４】（実施例１１）実施例１において、プラス
チック製弾性ロールの加圧力を１００ｋｇ／ｃｍから２
００ｋｇ／ｃｍ、スプリング式硬さ試験機Ａ形による硬
度を６０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以外
は、実施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバーニ
ッシュ用研磨テープを製造した。

【００３５】（実施例１２）実施例１において、研磨剤
粒子をＣｒ₂Ｏ₃（粒状、平均粒子径０．３μｍ、モース
硬度６〜７）をα−アルミナ（粒状、平均粒子径４．０
μｍ、モース硬度１．２〜９．６）、プラスチック製弾
性ロールをスプリング式硬さ試験機Ａ形による硬度が６
０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以外は、実
施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバーニッシュ
用研磨テープを製造した。

【００３６】（実施例１３）実施例１において、研磨剤
粒子をＣｒ₂Ｏ₃（粒状、平均粒子径０．３μｍ、モース
硬度６〜７）をα−アルミナ（粒状、平均粒子径３．０
μｍ、モース硬度１．２〜９．６）、プラスチック製弾
性ロールをスプリング式硬さ試験機Ａ形による硬度が６
０から５０に変えて表面平滑化処理を行った以外は、実
施例１と同一の条件で１吋にスリットしてバーニッシュ
用研磨テープを製造した。

【００３７】（比較例１）実施例１において、表面平滑
化処理を行なわなかった以外は、実施例１と同一の条件
で１吋にスリットしてバーニッシュ用研磨テープを製造
した。

【００３８】（比較例２）実施例１において、プラスチ
ック製弾性ロールに変え、金属製ロールを用いて表面平
滑化処理を行った以外は、実施例１と同一の条件で１吋
にスリットしてバーニッシュ用研磨テープを製造した。
この比較例２においてのみ研磨能力が、比較例１に対し
６０％低下した。

【００３９】（比較例３）実施例１において、研磨剤粒
子をＣｒ₂Ｏ₃（粒状、平均粒子径０．３μｍ、モース硬
度６〜７）をα−アルミナ（粒状、平均粒子径４．０μ
ｍ、モース硬度１．２〜９．６）に変えて表面平滑化処
理を行なわなかった以外は、実施例１と同一の条件で１
吋にスリットしてバーニッシュ用研磨テープを製造し
た。

【００４０】（比較例４）実施例１において、研磨剤粒
子をＣｒ₂Ｏ₃（粒状、平均粒子径０．３μｍ、モース硬
度６〜７）をα−アルミナ（粒状、平均粒子径３．０μ
ｍ、モース硬度１．２〜９．６）に変えて表面平滑化処
理を行なわなかった以外は、実施例１と同一の条件で１
吋にスリットしてバーニッシュ用研磨テープを製造し
た。上記の研磨剤の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡写
真上で任意に抽出した５００個の粒子の寸法を測った平
均値である。

【００４１】次に、市販のハイテック精工（株）製バー
ニッシュ研磨機タイプＦＢ−３５を使用して、３．５吋
のフロッピーディスクを実施例１〜１３及び比較例１〜
４の合計１７種類の研磨テープでバーニッシュ加工し、
フロッピーディスク表面のスクラッチ本数と出力を測定
した。スクラッチ本数は、倍率２０倍の顕微鏡で計測し
たフロッピーディスク５０面の合計数を示し、出力は、
ハイテック精工（株）製サーティファイアーＨＦＱ−３
５を用い、この装置からアウトプットとして出てくる出
力レベル（基準入力は５００ｋｂｐｓ）を測定し、比較
例１の出力を１００％とした相対値で表した。以上の評
価結果を表１に示す。

【００４２】

【表１】

【００４３】以上の実施例及び比較例において得られた
結果から、比較例１の表面平滑化処理のないものは、ス
クラッチが６０本に達したが、表面平滑化処理を行った
実施例１〜１３で製造された研磨テープは大幅にスクラ
ッチが減少していることが分かった。

【００４４】

【発明の効果】対向する金属ロールと弾性ロールの内、
前記弾性ロールの硬度をスプリング式硬さ試験機Ａ形に
よる硬度５０乃至８０に調整することにより、安定して
研磨剤粒子の先端の位置を均一に揃え、研磨層表面に研
磨屑を確保する空間を確保し、被研磨面への研磨層の付
着を防止し、且つ研磨剤粒子の先端の位置が均一に被加
工物に作用するので局部的に力が加わらないことによ
り、この方法で製造した研磨テープを使用してフロッピ
ーディスク等のバーニッシュ加工を行うと、スクラッチ
の極めて少ないバーニッシュ加工が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の研磨テープの製造方法における表面平
滑化処理を模式的に示した部分断面図。

【図２】本発明の研磨テープ製造方法に使用される装置
の部分断面図。

【符号の説明】

１ 送出しロール ２ 研磨層 ３ 可撓性支持体 ４ 金属ロール ５ 弾性ロール ６ 加熱源 ７ 巻取りロール ８ 結合剤樹脂 ９ 研磨剤粒子 １０ 研磨剤粒子の先端の位置の不揃い部分 １１ 研磨剤粒子の先端の位置

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 研磨剤粒子及び結合剤樹脂を主たる組成
   物とする塗布液を可撓性支持体上に塗布し、次いで乾燥
   して研磨層を形成した後、スプリング式硬さ試験機Ａ形
   による硬度５０乃至８０の弾性ロール及び金属ロールが
   対向している加圧ロールの間を、該可撓性支持体が前記
   弾性ロールに接し、前記研磨層が前記金属ロールに接す
   るように前記加圧ロールの間を圧接しつつ通過させるこ
   とにより前記研磨層の表面平滑化処理を行う研磨テープ
   の製造方法。
2. 【請求項２】 前記研磨剤粒子の平均粒子径が５μｍ以
   下である特許請求の範囲第１項記載の研磨テープの製造
   方法。
3. 【請求項３】 前記弾性ロールの表面温度を３０゜Ｃ以
   上に加熱することにより前記弾性ロールのスプリング式
   硬さ試験機Ａ形による硬度が５０乃至８０とする特許請
   求の範囲第１項記載の研磨テープの製造方法。