JPS62224579A - 研磨テ−プ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッド等の研磨に用いる研磨テープに関し
、特に仕上げ研磨用の研磨テープに関するものである。

（従来技術） 磁気ヘッド等を研磨する研磨テープは粒状の研磨剤を含
有する研磨層を研磨面上を店動させて研磨する方法がと
られる。

ビデオ用あるいは高級オーディＡ用磁気ヘッド等はテー
プ摺動面の平滑性がとくに要求されるため一般に磁気ヘ
ッドを製作する際には、１ＩＪＩ磨デープによる粗研磨
の後、精密研磨が必要とされる。

製作初期段階である１１　？ｉｌ？磨においては、モー
ス硬度９．５程度の硬い研磨剤である炭化ケイ素や、モ
ースｌｉｉ！度９程度の硬い研磨剤である酸化アルミニ
ウム等が適しているが、仕上げ研磨にはモース硬度８．
５程度の酸化クロム等を研磨剤として使用するのが適し
ている。磁気ヘッドの埃の除去等を目的とするクリーニ
ング用の研磨テープには、これにより柔かい−し一ス硬
度５．５Ｐｉ！度の酸化鉄等が使用されるが、これはｒ
ｉ１１Ｆ！！能力が低いため仕上げ研磨用の研磨テープ
には不適当である。しかし前記のような硬い研磨剤に、
圧接された磁気ヘッド等の被研磨面は傷がつきゃすく、
また粒状の研磨剤を含イコ゛づる研磨層表面は、研磨剤
が不規則に突出しているため、゛非常に粗く研磨面に無
数の傷をつける原因と／にっていた。このよう／７粒状
の研磨剤は、１ｉｆｔ磨時、ｒ＋ＪＩ　ＩＦ！ｒ　Ｆｉ
から脱粒する可能性も高く、脱粒した粒がｒｔｌｆ磨面
ど、研磨テープとの間に介在し、研磨面の１麻の原因と
もなっている。磁気ヘッド等はヘッド表面の精密性が必
要とされるためこのような研磨は好ましくない。

また可撓性の支持体上に研磨層を形成するため、ｔｉｌ
ｌ磨層に粒状の研磨剤を含有させると、カールしやりい
。このような、研磨テープのカールは、研磨面、ｒＩＪ
′ｌＫ而となじみにくく精密研磨に不都合であった。

（発明の目的） 本発明は上述のような問題に鑑み、研磨間を落とりこと
なく研磨面を傷つ（プることなく、精密研磨が可能な研
磨テープの提供を目的とするものである。

（発明の構成） 本発明の研磨テープは、六角板状のｒＩ１１磨剤を研磨
層に含有することを特徴とする。

前記研磨剤は、モース硬度８．５の酸化クロム（Ｃｒ２
０３）が使用される。この酸化クロムの製法としては、
重り［１ム酸カリを原料とする熱分解法、クロム酸ソー
ダを原料とする塩素化後ばい焼法などが知られている。

この酸化クロムは、粒、状とけず六角板状に形成し結合
剤等に混練させ研磨層として可撓性支持体−［に塗設づ
る。その際研磨剤が板状であるため、支持体面に平行に
配向され、粒状の研磨剤を含有さＶた場合に比べ、研磨
層の表面性がなめらかになり、高いモース硬度の酸化ク
ロムを研磨剤として使用しても被研磨面のｍ付きを防出
することができる。

なお、前記研磨層表面は０．０１〜０．２０の表面粗さ
に形成するのが好ましい。

面記研磨−テープは、いわゆるテープ形状のもののほか
、広くディスク形状あるいはシート形状のものも含むも
のとする。

（実施態様） 以下、本発明の実施態様について詳細に説明する。

本発明の実施態様による研磨テープ１は、第１図に示す
ように可撓性を有する支持体２と、この支持体２上に形
成された研磨層３から構成されている。研磨層３は、六
角板状に形成されているため、支持体に平行に配向可能
な研磨剤３Ａが、結合剤等と混練されて形成される。

磁気ヘッド４のテープ摺動面をｒｔｌｌ磨する際は、例
えば第２図に示すように、磁気ヘッド４を挾む２つの位
置に配されたリール（図示されていない）の一方から他
方へこの研磨テープ１を矢印へ方向に定速で走行させガ
イドロール５．５により送られて、磁気ヘッド４に研磨
層３が１Ｍ動される。このとき研磨層３表面のｒＡ磨剤
３Δににす、磁気ヘッド４のテープ摺動面が平滑に研磨
される。

また、ハードディスク等を研磨する方法の一例は第３図
、第４図に示すようにハードディスク１４等の被研磨物
を中央にはさみ、２つのゴムローラ１ｓ、　１５により
２本の研磨テープ１．１の研磨層３をハードディスク１
４の両面に押圧し、研磨テープ′１を定速で矢印Ｂ方向
に摺動させ、前記ハードディスク１４を矢印Ｃ方向に回
転させて研磨する方法がある。この方法によれば表裏を
なす被研磨面が同時に研磨される。

またフロッピーディスク用ヘッド４等の研磨を研磨ディ
スクにより行なう場合は、第５図に示すように鋳鉄製の
定盤６のにに研磨ディスク２１を設置し、この上方から
被研磨物であるフロッピーディスク用ヘッド４等を圧接
さぜ回転研磨する方法がとられる。

これらの方法は、いずれも研磨ｗ４３と被研磨面との接
触時、研磨テープを１習ｖノさせもしくは回転さＬるこ
とにより研磨するものであるが第２図は磁気ヘッド４を
遊動可能な研磨テープ１に押しつ番プるため、強い接触
は避Ｃノられるが第３図および第４図はゴムローラ１５
により研磨テープ１がフロッピーディスク１４に矢印り
方向圧接されるため。

第２図に示す研磨方法にくらべ接触に力が加わる。

また、第５図に示す研磨方法は研磨ディスク２１が鋳鉄
製の定盤６の上に設置されているため、磁気ヘッド４は
さらに強い力で、研磨ディスク２１に圧接されているも
のである。

従って、このように、強い力で研磨層３と被研磨面が圧
接される場合でも被ｒｔｌｌ　１面が傷つくことなく研
磨されることが可能と＜【るよう＾な記研磨テープ１お
よび研磨ディスク２１には、六角板状をなす酸化クロム
が研磨剤３として含有される必要がある。この酸化クロ
ムは、モース硬麻８．５と硬めで仕上げ用研磨に適する
。サイズは、六角表面の直径を０．１〜１０ミクロン、
好よくは０．３〜３ミクロン、厚さ０，０１〜１ミクロ
ン好ましくは０．０３〜０．３ミクロンに形成する。ま
た厚さは六角表面のり（Ｙの１０分の１程度とするのが
好ましい。

前記１ｉＩ′Ｉ磨剤を分散させてｒｉ１１磨層３互層３
させるため、分散性の高い結合剤が好ましく、また研磨
テープ１がどのような状況下にあっても磁気ヘッド４と
の十分なｒ、’＋滑性を維持して走行安定性を良好に保
つように潤括剤等を添加剤を研磨層３に含有させるのが
好ましい。

また、前述した非磁性支持体２としては、例えばポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，
６−ナフタレートが使用される。。

さらに、研磨層３の厚みは、磁気ヘッド４の形状、材質
に６よるが、この厚みがミツぎると磁気ヘッド４と研磨
テープの接触が悪くなるので５０μｍ以下にブるのが好
ましい。

つぎに実施例を挙げてざらに詳細に説明する。

実　　施　　例 以下の組成でボールミルを使用し、分散した液を７ミク
ロン厚のポリエステルフィルム上に３ミクロン厚に塗布
した。その後１／２吋にスリットして、研磨テープとな
した。なお、以下の説明において部はリベて固形分重量
をあられす。

（実　施　例） 組成 ・Ｃｒ２Ｏ３（六角板状）　　　　　・・・・・・３０
０部（ナイス２．０μｕｘ　２．０μ乳×０．２ミクロ
ン）・塩化ビニル−酢酸ビニル 一ビニルアルコール共重合体　　・・・・・・　６０部
・シリコーン油　　　　　　　　　　　・・・・・・０
．３部・メチルエチルケトン　　　　　　　・・・・・
・１５０　ＰＪＩ・酢酸０−ブチル　　　　　　　　　
・・・・・・３００７！ＪＳ（比較例１） 実施例に、１３いて、ｒｔｌｉ　＠剤を変更して、他は
同様の方法で研磨テープを作成した。

相　　　或 ・Ｃｒ２０３（粒状）　　　　　　　　・・・・・・３
００部（サイズ２．０ミクロン） ・塩化ビニル−ＦＩＩ酸ビニル 一ビニルアルコールＪｔ重合体　　・・・・・・　６０
部・シリコーン油　　　　　　　　　　　・・・・・・
０．３部・メチルエチルケトン　　　　　　　・・・・
・・１５０部ゝ酢Ｍｎ−ブチル　　　　　　　　　１９
．、、．３００部（比較例２） 実施例において、研磨剤を変更して、研磨テープを作成
した。

組　　　成 ・Ｃｒ２Ｏ３（粒状）　　　　　　　　・・・・・・３
００部（サイズ０．２ミクロン） ・塩化ビニル−酢酸ビニル 一ビニルアルコール共重合体　　・・・・・・　６０部
・シリコーン油　　　　　　　　　　　・・・・・・０
．３部・メチルエチルケトン　　　　　　　・・・・・
・１５０部・酢ｗｉｎ−ブチル　　　　　　　　　・・
・・・・３００部以上の実施例と比較例１．２の各研磨
テープについてヘッド研削時間、研削後におけるヘッド
表面傷の状＠Ｊｊよびヘッド４！７　＊を調べ、その結
果を第１表に示す。

第１表 上記第１表において、ヘッド研削ｒＨ間はフェライトヘ
ッド１μｍを研削するのに必要な時間である。またヘッ
ド表面の傷は研削後の磁気ヘッドのギャップ面を顕微鏡
で見て確認された幅２　ｔｔ　ｍ以上の傷の本数／　０
．５ｍ＋である。また、前記衣の備考欄のヘッド表面汚
れとは、研磨層から脱落した研磨粒子を主とする脱落粉
である。

また研磨層表面粗さとは、Ｒａ　　（中心線平均粗さ）
がｃｕｔ　ｏ［ｌｆｊ　０．８ｍ、触副半径２μＴｒＬ
Ｒ触針スピード０．３ｍ　／　ＳｅＣの条件で測定した
とき、このときの測定値が、０．０１〜０．２０がよい
。また好ましくは、０．０３〜０．１５更に好ましくは
０．０５〜０．１０である。表面平滑度は値が小なる程
増す。

前記衣かられかるように研磨剤Ｃｒ２０ａを六角板状に
形成することにより研磨層表面の粗さが減少し研＠層表
面の（口が防止され、０１磨ｍが増加し、さらに、研磨
層表面が平面化したため研磨テープのカールがなくなり
ヘッド周辺の汚れがなくなっていることから、研磨剤の
脱粒が少なくなっていることがわかる。

＜Ｒ明の効果） 本発明による研磨テープは、六角板状の酸化クロムを研
磨剤として研磨層に含イテさせたことによりｒＪｌ磨層
内層内六角板状の研磨剤が支持体表面に平行に配合され
る。このためｒｌＩ′Ｉｍ　Ｆｉの表面性が研磨剤のｌ
１ｌｌ磨能力を一致さ往た場合に限らず研磨剤のサイズ
を一致させた場合も、良好となり、研磨層からの脱粒が
ずくなく、ヘッドと研磨層間に介在することによる悪影
響が少ない。したがって被研磨面の傷つきが極めて減少
する。

また、厚み方向の研磨粒子サイズを一致させた場合、ヘ
ッドに接触する研磨剤の面積が、粒状の研磨剤にくらべ
大きくなっているため、粒状のものと同ＱｆＱをｒｔｌ
＋磨層に混入した際、研磨可能な表面積が大きくなり、
すなわら、同時間内での研磨用が増加する。

また、前述したように、研磨剤の研磨層からの脱粒が少
ないため、研磨部、研磨機械周辺を汚さない。また、Ｍ
ｆＭ剤が板状であるため、支持体に平行に１ｌｌＩ磨剤
が配向され、研磨層が平板状となり研＠アープのカール
が少ない。したがって研磨面によくなじみｒｄｌ磨に好
都合である。

また研磨層は表面の粗さを、０．０１〜０．２０である
ように前記研磨層表面を形成することにより、一段と効
果的になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気ヘッドの研磨時における、本発明の一実Ｉ
ＩＭ態様による研磨テープの拡大断面図、第２図は本発
明の研磨テープの一尖ｆＩ！ｉ態様により磁気ヘッドを
研磨する研磨方法の断面図、第３図は本発明の研磨テー
プの一実／ｉ！態様により磁気ディスクをｒＩＩ′ｌ磨
する研磨方法の断面図、第４図は第３図のｒＩＩＮ磨方
法の斜視図、第５図は磁気ヘッドを本発明の研磨テープ
の一実施態様であるディスク状の研磨テープにより研磨
する方法の断面図である。 １．２１・・・研磨テープ　　２・・・・・・支　持　
休３・・・・・・・・・研　磨　層　　３△・・・研　
磨　剤４・・・・・・・・・磁気ヘッド 第２図 第３図 第５図 （自利手続補正口 特願昭６１−６８１７６号 ２、発明の名称 研磨テープ ３、補正をする者 事件との関係　　　　　特許出願人 任　所　　　神奈川県南足柄市中沼２１０番地名　称　
　　　富士写真フィルム株式会社４６代理人 〒１６０東京都港区六本木５−２−１ はうらいやビル　７階　口（４７９）　２３６７（７３
１８）弁理士　柳　１）征　史　（ほか２名〉５、補正
命令の日付　　　な　　し 「図面の簡単な説明」の欄 ８、補正の内容 １）明ｍ書第３頁第１行 「に」を削除する。 ２）同第７頁第１５行 「好まＪの後に「しＪと訂正する。 ３）同第８頁第３行 「潤括剤等を」を「潤滑剤等の」と訂正する。 ４）同第１３頁第１３行 「磁気ディスク」を「ハードディスク」と訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）研磨剤および結合剤を含む研磨層を可撓性支持体上
   に塗設してなる研磨テープにおいて前記研磨剤が六角板
   状酸化クロムからなることを特徴とする研磨テープ。 ２）前記研磨層の表面粗さが０．０１〜０．２０である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の研磨テー
   プ。