JPS63185577A - 研磨テ−プ - Google Patents
研磨テ−プInfo
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- JPS63185577A JPS63185577A JP1545387A JP1545387A JPS63185577A JP S63185577 A JPS63185577 A JP S63185577A JP 1545387 A JP1545387 A JP 1545387A JP 1545387 A JP1545387 A JP 1545387A JP S63185577 A JPS63185577 A JP S63185577A
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- polishing
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- polished
- tape
- aluminum
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- Pending
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Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、アルミニウムハードディスク等の研磨に用い
る研磨テープに関し、とくに仕上げ研磨用として好適な
研磨テープに関するものである。
る研磨テープに関し、とくに仕上げ研磨用として好適な
研磨テープに関するものである。
（従来の技術）
従来から知られている研磨テープの１つに研磨剤として
のα−酸化アルミニウムを使用したものがある。かかる
研磨テープは、そのα−酸化アルミニウム硬度がモース
硬度９と硬く研磨能ノＪｋｆｌれていることから、例え
ば砥石で仕上げたビデオヘッドの粗研磨用として使用さ
れると共に、アルミニウムディスク基盤や該基盤の上に
各種の層を設けて成るアルミニウムハードディスクを研
磨する場合にも好んで使用されている。なぜならば、α
−酸化アルミニウムは上記アルミニウムディスク基盤等
と相性が良く、上記の様に硬度が高く研磨能力が優れて
いる割には炭化ケイ素や酸化クロム等を研磨剤として使
用する場合に比べて被研磨面に傷が付きにくいからであ
る。
のα−酸化アルミニウムを使用したものがある。かかる
研磨テープは、そのα−酸化アルミニウム硬度がモース
硬度９と硬く研磨能ノＪｋｆｌれていることから、例え
ば砥石で仕上げたビデオヘッドの粗研磨用として使用さ
れると共に、アルミニウムディスク基盤や該基盤の上に
各種の層を設けて成るアルミニウムハードディスクを研
磨する場合にも好んで使用されている。なぜならば、α
−酸化アルミニウムは上記アルミニウムディスク基盤等
と相性が良く、上記の様に硬度が高く研磨能力が優れて
いる割には炭化ケイ素や酸化クロム等を研磨剤として使
用する場合に比べて被研磨面に傷が付きにくいからであ
る。
しかしながら、いかにα−酸化アルミニウムが上記アル
ミニウム基盤等と相性が良くそれらの被研磨面に傷が付
きにくいと言っても、該α−酸化アルミニウムは上述の
如く硬度が高いので相当数の傷が付くことは避けがたく
、かかる研磨テープを上記アルミニウムディスク基盤等
の仕上げ研磨用として使用するには無理がある。
ミニウム基盤等と相性が良くそれらの被研磨面に傷が付
きにくいと言っても、該α−酸化アルミニウムは上述の
如く硬度が高いので相当数の傷が付くことは避けがたく
、かかる研磨テープを上記アルミニウムディスク基盤等
の仕上げ研磨用として使用するには無理がある。
かかる情況の下に、上記アルミニウムディスク基盤等の
仕上げ研磨用として好適なテープ、即ち上記α−酸化ア
ルミニウムの如きアルミニウムディスク基盤等との良好
な相性を有すると共にそれらの被研磨面に殆んど傷を付
けることなく精密研磨が可能な仕上げ研磨用の研磨テー
プが望まれている。
仕上げ研磨用として好適なテープ、即ち上記α−酸化ア
ルミニウムの如きアルミニウムディスク基盤等との良好
な相性を有すると共にそれらの被研磨面に殆んど傷を付
けることなく精密研磨が可能な仕上げ研磨用の研磨テー
プが望まれている。
（発明の目的）
本発明は、上記事情に鑑み、上記アルミニウムディスク
基盤等と良好な相性を有し、かつそれらの被研磨面に殆
んど傷をつけることなく精密研磨可能な仕上げ研磨用の
研磨テープの提供を目的とするものである。
基盤等と良好な相性を有し、かつそれらの被研磨面に殆
んど傷をつけることなく精密研磨可能な仕上げ研磨用の
研磨テープの提供を目的とするものである。
（発明の構成）
本発明による研磨テープは、微粒子のα−酸化アルミニ
ウムを研磨剤として含んで成ることを特徴とする。微粒
子のα−酸化アルミニウムは、アルミニウム基盤等と相
性が良く、しかも従来知られていたα−酸化アルミニウ
ムに比べて粒子サイズが小さいので精密研磨が可能であ
り、仕上げ研磨に適する。
ウムを研磨剤として含んで成ることを特徴とする。微粒
子のα−酸化アルミニウムは、アルミニウム基盤等と相
性が良く、しかも従来知られていたα−酸化アルミニウ
ムに比べて粒子サイズが小さいので精密研磨が可能であ
り、仕上げ研磨に適する。
尚、ここでいう研磨テープとは、テープ状のものの他、
ディスク状のもの等を広く含むものとする。また、本発
明による研磨テープは、上記アルミニウムディスク基盤
等の仕上げ研磨用としてのみでなく、前記磁気ヘッド等
の仕上げω１磨用としても好適に使用し得るものである
。
ディスク状のもの等を広く含むものとする。また、本発
明による研磨テープは、上記アルミニウムディスク基盤
等の仕上げ研磨用としてのみでなく、前記磁気ヘッド等
の仕上げω１磨用としても好適に使用し得るものである
。
（実 施 態 様）
以下、本発明の実施態様について詳細に説明する。
本発明の実施態様による研磨テープは、第１図に示すよ
うに可撓性を有する支持体１と、この支持体１上に形成
された研磨剤２から構成されている。研磨剤２は研磨剤
３と、結合剤（バインダ）と潤滑剤等を含む添加剤とを
混練して形成したものである。
うに可撓性を有する支持体１と、この支持体１上に形成
された研磨剤２から構成されている。研磨剤２は研磨剤
３と、結合剤（バインダ）と潤滑剤等を含む添加剤とを
混練して形成したものである。
かかる研磨テープは、その研磨ｌ！！２をアルミニウム
ディスク基盤や磁気ヘッド等の研磨対象物の被研磨面に
摺動させることにより、該研ｌＬ！層２から突出した硬
い粒子状の研磨剤３によって被研磨面を平滑に研磨する
ものである。研磨態様の一例を第２図に示す。図示のも
のは磁気ヘッド４のテープ摺動面を研磨する場合であり
、磁気ヘッド４を挾む２つの位置に配されたリール（図
示されていない）の一方から他方へこの研磨テープを定
速で走行させて磁気ヘッド４に研磨剤２を摺動させ、研
磨剤２表面から突出した硬い粒子状の研磨剤３により、
磁気ヘッド４のテープ摺動面（被研磨面）を平滑に研磨
する。
ディスク基盤や磁気ヘッド等の研磨対象物の被研磨面に
摺動させることにより、該研ｌＬ！層２から突出した硬
い粒子状の研磨剤３によって被研磨面を平滑に研磨する
ものである。研磨態様の一例を第２図に示す。図示のも
のは磁気ヘッド４のテープ摺動面を研磨する場合であり
、磁気ヘッド４を挾む２つの位置に配されたリール（図
示されていない）の一方から他方へこの研磨テープを定
速で走行させて磁気ヘッド４に研磨剤２を摺動させ、研
磨剤２表面から突出した硬い粒子状の研磨剤３により、
磁気ヘッド４のテープ摺動面（被研磨面）を平滑に研磨
する。
上記研磨剤３としては微粒子のα−酸化アルミニウム（
α−ＡＱ、２０３ ）が用いられている。この研磨剤の
サイズは０．０８ミクロン以下のものが効果的で、好ま
しくは０．０８〜０．０１ミクロン、また０、０１〜０
．０３ミクロンとのものがさらに好ましく、従来の研磨
剤として使用されているα−酸化アルミニウムのサイズ
が９０ミクロンから０．６ミクロン程度の範囲内であっ
たのにくらべ、小さいことを特徴としている。
α−ＡＱ、２０３ ）が用いられている。この研磨剤の
サイズは０．０８ミクロン以下のものが効果的で、好ま
しくは０．０８〜０．０１ミクロン、また０、０１〜０
．０３ミクロンとのものがさらに好ましく、従来の研磨
剤として使用されているα−酸化アルミニウムのサイズ
が９０ミクロンから０．６ミクロン程度の範囲内であっ
たのにくらべ、小さいことを特徴としている。
前記研磨剤３を結合させる結合剤は研磨剤を分散させる
効果の高いものが好ましい。
効果の高いものが好ましい。
また、前記結合剤のほか、研磨剤２の潤滑性をよくする
潤滑剤等の添加剤を必要に応じて使用することができる
。
潤滑剤等の添加剤を必要に応じて使用することができる
。
前述した可撓性支持体１としては、例えばポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ） 、ポリエチレン−２，６−
ナフタレート等から成る非磁性支持体が好適に使用され
る。
テレフタレート（ＰＥＴ） 、ポリエチレン−２，６−
ナフタレート等から成る非磁性支持体が好適に使用され
る。
研磨剤２の厚みは、研磨対象物の形状、材質等に応じて
適宜に決定すれば良いが、例えば研磨対象物が第２図の
如き磁気ヘッドの場合は、この厚みが厚すぎると磁気ヘ
ッド４と研磨テープとの接触が悪くなるので５０μｍ以
下にするのが好ましい。
適宜に決定すれば良いが、例えば研磨対象物が第２図の
如き磁気ヘッドの場合は、この厚みが厚すぎると磁気ヘ
ッド４と研磨テープとの接触が悪くなるので５０μｍ以
下にするのが好ましい。
また、この研磨テープにおいては、研磨剤２の表面粗さ
Ｒａすなわら中心線平均粗さが０．０１〜０．１５であ
るのが好ましく、０．０３〜０．１２さらには０．０５
〜０．１０であればより好ましい。Ｒａが０．０１より
小であると研磨能力が不充分となり、０．２０より大で
あると傷が付きやすくなるからである。なお、上記Ｒａ
はカットオフ（ｃｕｔ ａｒｔ ）０．８Ｍ、触針半径
２μＴｒＬＲ１触針スピード０，３゜／ Ｓｅｃを条件
としたときの数値である。
Ｒａすなわら中心線平均粗さが０．０１〜０．１５であ
るのが好ましく、０．０３〜０．１２さらには０．０５
〜０．１０であればより好ましい。Ｒａが０．０１より
小であると研磨能力が不充分となり、０．２０より大で
あると傷が付きやすくなるからである。なお、上記Ｒａ
はカットオフ（ｃｕｔ ａｒｔ ）０．８Ｍ、触針半径
２μＴｒＬＲ１触針スピード０，３゜／ Ｓｅｃを条件
としたときの数値である。
本発明の効果をより一層高めるために、分散機としてボ
ールミル、アトライター、サンドミルを使用するとよい
。これにより研磨剤とバインダーが強固に結合し、研磨
剤が塗膜から脱落して被研磨物にキズをつけることを最
少とする。またバインダーとして塩化ビニル系樹脂、ニ
トロセルロースなどの分散性のよいものを使用すること
によっても上に述べたと同様の好ましい効果が得られる
。
ールミル、アトライター、サンドミルを使用するとよい
。これにより研磨剤とバインダーが強固に結合し、研磨
剤が塗膜から脱落して被研磨物にキズをつけることを最
少とする。またバインダーとして塩化ビニル系樹脂、ニ
トロセルロースなどの分散性のよいものを使用すること
によっても上に述べたと同様の好ましい効果が得られる
。
つぎに本発明の実施例を詳細に説明する。
（実施例１）
ボールミルを使用して分散させた下記組成の塗布液を２
５ミクロン厚のポリエステルフィルム上に１０ミクロン
厚に塗布し、その模約５．１ｃｒＲ（２インチ）にスリ
ットして研磨テープとなした。なお重最部は、すべて固
形分組成であられす。
５ミクロン厚のポリエステルフィルム上に１０ミクロン
厚に塗布し、その模約５．１ｃｒＲ（２インチ）にスリ
ットして研磨テープとなした。なお重最部は、すべて固
形分組成であられす。
塗布液組成
α−Ａ免２０３ （サイズ０．０５ミクロン）・・・・
・・ ３００部 塩化ビニル−酢酸ビニル− ビニルアルコール共重合体・・・・・・ ６０部レシチ
ン １部シリコーンオイル
・・・・・・０．３部メチルエチルケト
ン ・・・・・・２００部酢酸ｎ−ブチル
・・・・・・２００部（比較例１） 前記実施例に対する比較例として、前記実施例１におい
て研磨剤を下記のように変更し、他は前記実施例１と同
様の方法で研磨テープを作った。
・・ ３００部 塩化ビニル−酢酸ビニル− ビニルアルコール共重合体・・・・・・ ６０部レシチ
ン １部シリコーンオイル
・・・・・・０．３部メチルエチルケト
ン ・・・・・・２００部酢酸ｎ−ブチル
・・・・・・２００部（比較例１） 前記実施例に対する比較例として、前記実施例１におい
て研磨剤を下記のように変更し、他は前記実施例１と同
様の方法で研磨テープを作った。
α−ＡＱ、ｚＯ３（サイズ５ミクロン）・・・３００部
（比較例２） 前記実施例に対する比較例として、前記実施例１におい
て研磨剤を下記のように変更し、他は前記実施例１と同
様の方法で研磨テープを作った。
（比較例２） 前記実施例に対する比較例として、前記実施例１におい
て研磨剤を下記のように変更し、他は前記実施例１と同
様の方法で研磨テープを作った。
（Ｚ−Ａ９，２０３ （サイズ０．６ミ’１口＞＞・
・・・・・ ３００部 以上の実施例１、比較例１．２の各研磨テープを用いて
アルミニウムディスク基盤を研磨し、研磨後におけるア
ルミニウムの表面傷を調べた。なお、この研磨試験は上
記比較例１の従来の標準的な研磨テープを用いて研磨し
た侵のアルミニウムディスク基盤を上記各研磨テープで
研磨したものである。また、上記各研磨テープについて
前述し° た条件における研磨剤表面相さＲａを調べ
た。それらの結果を第１表にまとめる。
・・・・・ ３００部 以上の実施例１、比較例１．２の各研磨テープを用いて
アルミニウムディスク基盤を研磨し、研磨後におけるア
ルミニウムの表面傷を調べた。なお、この研磨試験は上
記比較例１の従来の標準的な研磨テープを用いて研磨し
た侵のアルミニウムディスク基盤を上記各研磨テープで
研磨したものである。また、上記各研磨テープについて
前述し° た条件における研磨剤表面相さＲａを調べ
た。それらの結果を第１表にまとめる。
第 １ 表
前記第１表において、アルミニウム表面の傷の本数は研
磨後のアルミニウム表面を顕微鏡で見て確認された幅２
μｍ以上の傷の本数（幅２μｍ以上の傷の本数’／ ０
、５ａｍ ）である。
磨後のアルミニウム表面を顕微鏡で見て確認された幅２
μｍ以上の傷の本数（幅２μｍ以上の傷の本数’／ ０
、５ａｍ ）である。
第１表から、実施例１におけるアルミニウム表面傷は比
較例１〜２に比べて極めて少なく殆んど零であり、また
実施例１におけるＲａも比較例１〜２に比べて小さく研
磨剤表面が平滑的であることが認められる。
較例１〜２に比べて極めて少なく殆んど零であり、また
実施例１におけるＲａも比較例１〜２に比べて小さく研
磨剤表面が平滑的であることが認められる。
（発明の効果）
本発明による研磨テープは、従来のα−酸化アルミニウ
ムより粒子サイズの小さなα−酸化アルミニウムを含ん
で成る研磨剤が研磨剤に含有されているため、研削後の
被研磨面の傷つきが減少し、精密研磨が可能となり、し
たがって磁気ヘッド等の粗研磨後に使用する仕上げ研磨
用研磨テープとして好適に使用することができる。
ムより粒子サイズの小さなα−酸化アルミニウムを含ん
で成る研磨剤が研磨剤に含有されているため、研削後の
被研磨面の傷つきが減少し、精密研磨が可能となり、し
たがって磁気ヘッド等の粗研磨後に使用する仕上げ研磨
用研磨テープとして好適に使用することができる。
また、微粒子α−酸化アルミニウムはアルミニウムディ
スク基盤の研磨や、該基盤上に主としてα−酸化アルミ
ニウムから成る研磨剤を有する研磨剤を設けたアルミニ
ウムハードディスクの該研磨剤表面の研磨あるいは上記
基盤上に蒸着、スパッタリング等で金属薄膜層を設けた
アルミニウムハードディスクの該金属薄膜層表面のテク
スチャーリング等に対して良好な相性を有し、従って本
発明に係る研磨テープは、特に、上記アルミニウムディ
スク基盤等における上記の如き仕上げ研磨に好適に使用
することができる。
スク基盤の研磨や、該基盤上に主としてα−酸化アルミ
ニウムから成る研磨剤を有する研磨剤を設けたアルミニ
ウムハードディスクの該研磨剤表面の研磨あるいは上記
基盤上に蒸着、スパッタリング等で金属薄膜層を設けた
アルミニウムハードディスクの該金属薄膜層表面のテク
スチャーリング等に対して良好な相性を有し、従って本
発明に係る研磨テープは、特に、上記アルミニウムディ
スク基盤等における上記の如き仕上げ研磨に好適に使用
することができる。
第１図は本発明に係る研磨テープの一実施態様の断面図
、 第２図は第１図に示す研磨テープを用いた磁気ヘッドの
研磨態様を示す図である。 １・・・可撓性支持体 ２・・・研 磨 層 ３・・・研 磨 剤 ４・・・磁気ヘッド 第１図 第２図
、 第２図は第１図に示す研磨テープを用いた磁気ヘッドの
研磨態様を示す図である。 １・・・可撓性支持体 ２・・・研 磨 層 ３・・・研 磨 剤 ４・・・磁気ヘッド 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）研磨剤および結合剤を含む研磨剤を可撓性支持体上
に塗設してなる研磨テープにおいて、前記研磨剤が粒子
サイズ０．０８μｍ以下のα−酸化アルミニウムを含む
ことを特徴とする研磨テープ。 ２）前記研磨層表面の表面粗さが０．０１〜０．２０で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の研磨
テープ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1545387A JPS63185577A (ja) | 1987-01-26 | 1987-01-26 | 研磨テ−プ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1545387A JPS63185577A (ja) | 1987-01-26 | 1987-01-26 | 研磨テ−プ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63185577A true JPS63185577A (ja) | 1988-08-01 |
Family
ID=11889219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1545387A Pending JPS63185577A (ja) | 1987-01-26 | 1987-01-26 | 研磨テ−プ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63185577A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5199227A (en) * | 1989-12-20 | 1993-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Surface finishing tape |
| EP0737549A2 (en) * | 1995-04-10 | 1996-10-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Abrasive tape, process for producing it, and coating agent for abrasive tape |
-
1987
- 1987-01-26 JP JP1545387A patent/JPS63185577A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5199227A (en) * | 1989-12-20 | 1993-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Surface finishing tape |
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| EP0737549A3 (en) * | 1995-04-10 | 1997-07-23 | Dainippon Printing Co Ltd | Abrasive belt and process for its production with a coating agent |
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