JPH0554171B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0554171B2 JPH0554171B2 JP61267120A JP26712086A JPH0554171B2 JP H0554171 B2 JPH0554171 B2 JP H0554171B2 JP 61267120 A JP61267120 A JP 61267120A JP 26712086 A JP26712086 A JP 26712086A JP H0554171 B2 JPH0554171 B2 JP H0554171B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- medium
- magnetic head
- layer
- polishing
- polished
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 9
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、コンピユータの外部記憶装置の一つ
である固定磁気デイスク装置に適用される薄膜磁
気記録媒体の製造方法に関する。 〔従来技術とその問題点〕 薄膜磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称す
る）は一般にアルミニウム合金、強化ガラス、プ
ラスチツクなどからなる非磁性基板を所定の平行
度、平面度、表面粗さに仕上げ、その表面にアル
マイト処理あるいはNi−Ｐ無電解めつき処理な
どを施して表面層を形成し、その表面を所望の粗
さに研磨仕上げした後、その表面層上に、あるい
は必要に応じて磁性を強化するための下地層（例
えばCr膜など）を設けた上に、磁性層として無
電解めつきによるCo−Ni−Ｐ膜、スパツタによ
るCo合金膜、あるいはスパツタによるγ−Fe2O3
膜などの強磁性金属からなる薄膜を形成し、さら
に、その上に保護潤滑層としてＣあるいはSiO2
などの膜をスパツタ法あるいはスピンコート法な
どにより形成して作製される。 固定磁気デイスク装置においては、このような
媒体と磁気ヘツドとが組み合わせられて装置内に
密閉内蔵されており、磁気ヘツドを介して媒体へ
の情報の書き込みと読み出しが行われる。媒体と
磁気ヘツドとは装置が停止しているときには互い
に接触しているが、装置駆動時（情報の書き込み
時あるいは読み出し時）には媒体が高速回転（例
えば3600rpm）するため、媒体と磁気ヘツドとの
間に発生する空気流の作用により磁気ヘツドは媒
体より僅かに浮上して走行する。従つて、駆動の
スタート時点とストツプ時点には、両者は互いに
接触しながら摺動する。このような、停止接触し
ている状態から摺動を開始し、浮上走行し、接触
摺動して停止する一連の動作を一般にCSS（Con
−tact Start Stop）と呼んでいる。CSS動作を
繰り返すと、媒体と磁気ヘツドとの間の動摩擦係
数が次第に増加してくることが知られており、甚
だしい場合には、媒体と磁気ヘツドとの間に一種
の焼き付き状態が発生するとともに、ヘツド・ク
ラツシユという致命的なトラブルを引き起こすこ
とがある。 CSS動作を繰り返したときの以上のような摩擦
係数に係わる特性をstiction／friction特性と称
し、このような特性の向上が強く求められている
が、最近主流になりつつあるスパツタリングを用
いた薄膜磁気記録媒体、すなわちアルミニウム合
金基板の表面を所定の粗さに仕上げ、その表面上
にNi−Ｐ無電解めつき処理を施して基板表面の
硬度を高めるためのNi−Ｐめつき層を形成し、
その上に、Cr下地層、Co合金磁性層及びカーボ
ン保護層を、スパツタリングにより順次形成する
ことにより製造されるものにおいては、十分な特
性を得るまでには至つていない。 〔発明の目的〕 本発明は、上述の点に鑑み、媒体の表面の粗さ
を制御することにより、スパツタリングを用いた
薄膜磁気記録媒体に要求されるstiction／friction
特性を満足できるようにした薄膜磁気記録媒体の
製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の要点〕 本発明は、上述の目的を達成するため、アルミ
ニウム合金基板の表面を所定の粗さに仕上げ、そ
の表面上にNi−Ｐ無電解めつき処理を施してNi
−Ｐめつき層を形成し、そのNi−Ｐめつき層の
表面を、平均粒径3μｍ以上5μｍ以下の砥粒を用
いて研磨し、この研磨されたNi−Ｐめつき層の
表面上に、Cr下地層、Co合金磁性層及びカーボ
ン保護層を、スパツタリングにより順次形成する
ことを特徴としている。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説
明する。 実施例 １ 両面ポリツシングマシン（スピードフアム(株)
製、型式16B）を使用し、ポリツシングパツドと
してポリテツクスシユープリーム（スピードフア
ム(株)製）、研磨剤として平均粒径がそれぞれ0.5μ
ｍ、1μｍ、2μｍ、3μｍ、5μｍのAl2O3粉および
SiC粉（いずれも不二見研磨材工業(株)製）を用
い、膜厚約15μｍの無電解Ni−Ｐめつきを施した
Al合金基板の表面を5μｍ研磨した。その上にス
パツタ法にてCrの下地層を形成し、さらにその
上に同じくスパツタ法でCo合金磁性層とアモル
フアスカーボン（ａ−Ｃ）保護潤滑層を積層して
媒体とした。 これらの媒体について、stiction／friction特性
の加速試験としてスライドコンタクトテストを行
つた。第６図は試験装置の概念図で、第６図ａは
上面図、第６図ｂは側面図である。この試験は、
媒体１をスピンドル５に装着し、磁気ヘツド４を
おもり３により所定の垂直荷重をかけて媒体１に
接触させた状態で、所定の回転速度で媒体１を回
転させたとき摺動する磁気ヘツド４に加わる摩擦
力の変化を歪みゲージ２を用いて記録するもの
で、摩擦と磨耗の複合した現象を調べる一種の摩
擦磨耗試験である。 歪みゲージはTOYO BOLDWIN DIGITAL
INDICATORを用い、センサーはMODEL T7−
30−240、計測器はMODEL DAM−5000Bを用
いた。 試験は温度23℃、相対湿度50％のクリーンベン
チ（クラス1000）内で次の手順で行つた。また、
磁気ヘツドにかける垂直荷重は10ｇｆ、磁気ヘツ
ドと媒体との接触位置はデイスク状媒体の中心か
ら半径42mmの位置、媒体の回転は86.7rpm（従つ
て、半径42mmの接触位置での速度は381mm／秒）
とした。磁気ヘツドは測定毎に新しいものを用い
る。 (a) 装置に標準塗布媒体（STD）および磁気ヘ
ツド装着。 (b) STDを15〜30秒回転させ、摺動する磁気ヘ
ツドの初期の動摩擦係数μ1およびその一周内
のばらつきμ2を測定。μ1が0.2±0.05の範囲を
はずれるヘツド、またはμ2が0.002±0.002の範
囲をはずれるヘツドは使用しないで交換する。 (c) STDをはずし、測定すべき媒体を装着し、
媒体を回転させて、媒体と磁気ヘツドとの間の
μ1、μ2を60分間測定。 (d) 媒体をはずし、STDを装着し、STDと磁気
ヘツドとの間のμ1、μ2を15〜30秒間測定。 (e) 磁気ヘツドを取りはずし、測定を終了した磁
気ヘツドおよび媒体の表面状態を調べる。 (c)項で測定した動摩擦係数を時間的経過を示す
線図の一例を第７図に示す。通常、動摩擦係数は
初期のμ10から60分後のμ160まで徐々に増大し、
同時にその面内のばらつきもμ20からμ260へと少
しずつ増大する。 本発明者等は以上のスライドコンタクトテスト
において、媒体と磁気ヘツドとの間のμ1の最大
値が0.5以下であり、μ2の最大値が0.035以下であ
ると、現在媒体に対して要望されている
stiction／friction特性を充分満足することができ
ることを見いだした。 動摩擦係数は媒体のみならず、使用される磁気
ヘツドによつても異なる。本実施例のスライドコ
ンタクトテストにおいては、現在多用されている
Mn−Znフエライトヘツドと次世代のヘツドと目
されている硬質のAl2O3／TiCセラミツクスヘツ
ドの両者についてテストを行つた。Mn−Znフエ
ライトヘツドとしてはTDK(株)製の
HDD05WIN02D−001を、Al2O3／TiCセラミツ
クスヘツドとしてはAMC製のものを用いた。 このようにして行つたスライドコンタクトテス
トの結果、動摩擦係数μ1の最大値と基板の研磨
に用いた研磨剤の砥粒平均粒径との関係を、砥粒
の材質、磁気ヘツドの種類をパラメータとして第
１図に示す。第１図によれば、Mn−Znフエライ
トヘツドとAl2O3／TiCセラミツクスヘツドとで
傾斜は異なるが、動摩擦係数μ1最大値と砥粒平
均粒径との関係は、砥粒の材質によらず、対数目
盛の線図ではほぼ比例しており、平均粒径3μｍ
以上の砥粒で基板表面の研磨を行うとμ10.5と
なる媒体が得られることが判る。 実施例 ２ 次に、テクノ(株)製テープポリツシング装置を用
いて、無電解Ni−Ｐめつきを施したAl合金基板
の表面を研磨する方法により媒体を作製した。 第５図はポリツシング装置の概念図で、第５図
ａはポリツシングテープを正面から見る側面図で
あり、第５図ｂはポリツシングテープを横から見
る側面図である。第５図において、矢印Ａの方向
に回転しているデイスク状基板１の表裏両面に４
本のポリツシングテープ２をテープ押し付けロー
ラー ３で押し付けて研磨を行う。テープ押し付
けローラー３はローラー押さえシリンダ４により
基板１の面にポリツシングテープを所定の力で押
圧している。ポリツシングテープは矢印Ｂの方向
に走行しており、基板の面には常に新しいテープ
面が接触して研磨される。また、ポリツシングテ
ープは矢印Ｃの方向に往復動して基板の全面を研
磨できるようになつている。さらに、ポリツシン
グテープの研磨面側へは研磨液ノズル５より研磨
液が供給される。このような装置を用いて、第１
表に示すように研磨条件を標準条件よりふつた研
磨条件で、無電解Ni−Ｐめつきを施され、鏡面
加工された基板表面を研磨した。
である固定磁気デイスク装置に適用される薄膜磁
気記録媒体の製造方法に関する。 〔従来技術とその問題点〕 薄膜磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称す
る）は一般にアルミニウム合金、強化ガラス、プ
ラスチツクなどからなる非磁性基板を所定の平行
度、平面度、表面粗さに仕上げ、その表面にアル
マイト処理あるいはNi−Ｐ無電解めつき処理な
どを施して表面層を形成し、その表面を所望の粗
さに研磨仕上げした後、その表面層上に、あるい
は必要に応じて磁性を強化するための下地層（例
えばCr膜など）を設けた上に、磁性層として無
電解めつきによるCo−Ni−Ｐ膜、スパツタによ
るCo合金膜、あるいはスパツタによるγ−Fe2O3
膜などの強磁性金属からなる薄膜を形成し、さら
に、その上に保護潤滑層としてＣあるいはSiO2
などの膜をスパツタ法あるいはスピンコート法な
どにより形成して作製される。 固定磁気デイスク装置においては、このような
媒体と磁気ヘツドとが組み合わせられて装置内に
密閉内蔵されており、磁気ヘツドを介して媒体へ
の情報の書き込みと読み出しが行われる。媒体と
磁気ヘツドとは装置が停止しているときには互い
に接触しているが、装置駆動時（情報の書き込み
時あるいは読み出し時）には媒体が高速回転（例
えば3600rpm）するため、媒体と磁気ヘツドとの
間に発生する空気流の作用により磁気ヘツドは媒
体より僅かに浮上して走行する。従つて、駆動の
スタート時点とストツプ時点には、両者は互いに
接触しながら摺動する。このような、停止接触し
ている状態から摺動を開始し、浮上走行し、接触
摺動して停止する一連の動作を一般にCSS（Con
−tact Start Stop）と呼んでいる。CSS動作を
繰り返すと、媒体と磁気ヘツドとの間の動摩擦係
数が次第に増加してくることが知られており、甚
だしい場合には、媒体と磁気ヘツドとの間に一種
の焼き付き状態が発生するとともに、ヘツド・ク
ラツシユという致命的なトラブルを引き起こすこ
とがある。 CSS動作を繰り返したときの以上のような摩擦
係数に係わる特性をstiction／friction特性と称
し、このような特性の向上が強く求められている
が、最近主流になりつつあるスパツタリングを用
いた薄膜磁気記録媒体、すなわちアルミニウム合
金基板の表面を所定の粗さに仕上げ、その表面上
にNi−Ｐ無電解めつき処理を施して基板表面の
硬度を高めるためのNi−Ｐめつき層を形成し、
その上に、Cr下地層、Co合金磁性層及びカーボ
ン保護層を、スパツタリングにより順次形成する
ことにより製造されるものにおいては、十分な特
性を得るまでには至つていない。 〔発明の目的〕 本発明は、上述の点に鑑み、媒体の表面の粗さ
を制御することにより、スパツタリングを用いた
薄膜磁気記録媒体に要求されるstiction／friction
特性を満足できるようにした薄膜磁気記録媒体の
製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の要点〕 本発明は、上述の目的を達成するため、アルミ
ニウム合金基板の表面を所定の粗さに仕上げ、そ
の表面上にNi−Ｐ無電解めつき処理を施してNi
−Ｐめつき層を形成し、そのNi−Ｐめつき層の
表面を、平均粒径3μｍ以上5μｍ以下の砥粒を用
いて研磨し、この研磨されたNi−Ｐめつき層の
表面上に、Cr下地層、Co合金磁性層及びカーボ
ン保護層を、スパツタリングにより順次形成する
ことを特徴としている。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説
明する。 実施例 １ 両面ポリツシングマシン（スピードフアム(株)
製、型式16B）を使用し、ポリツシングパツドと
してポリテツクスシユープリーム（スピードフア
ム(株)製）、研磨剤として平均粒径がそれぞれ0.5μ
ｍ、1μｍ、2μｍ、3μｍ、5μｍのAl2O3粉および
SiC粉（いずれも不二見研磨材工業(株)製）を用
い、膜厚約15μｍの無電解Ni−Ｐめつきを施した
Al合金基板の表面を5μｍ研磨した。その上にス
パツタ法にてCrの下地層を形成し、さらにその
上に同じくスパツタ法でCo合金磁性層とアモル
フアスカーボン（ａ−Ｃ）保護潤滑層を積層して
媒体とした。 これらの媒体について、stiction／friction特性
の加速試験としてスライドコンタクトテストを行
つた。第６図は試験装置の概念図で、第６図ａは
上面図、第６図ｂは側面図である。この試験は、
媒体１をスピンドル５に装着し、磁気ヘツド４を
おもり３により所定の垂直荷重をかけて媒体１に
接触させた状態で、所定の回転速度で媒体１を回
転させたとき摺動する磁気ヘツド４に加わる摩擦
力の変化を歪みゲージ２を用いて記録するもの
で、摩擦と磨耗の複合した現象を調べる一種の摩
擦磨耗試験である。 歪みゲージはTOYO BOLDWIN DIGITAL
INDICATORを用い、センサーはMODEL T7−
30−240、計測器はMODEL DAM−5000Bを用
いた。 試験は温度23℃、相対湿度50％のクリーンベン
チ（クラス1000）内で次の手順で行つた。また、
磁気ヘツドにかける垂直荷重は10ｇｆ、磁気ヘツ
ドと媒体との接触位置はデイスク状媒体の中心か
ら半径42mmの位置、媒体の回転は86.7rpm（従つ
て、半径42mmの接触位置での速度は381mm／秒）
とした。磁気ヘツドは測定毎に新しいものを用い
る。 (a) 装置に標準塗布媒体（STD）および磁気ヘ
ツド装着。 (b) STDを15〜30秒回転させ、摺動する磁気ヘ
ツドの初期の動摩擦係数μ1およびその一周内
のばらつきμ2を測定。μ1が0.2±0.05の範囲を
はずれるヘツド、またはμ2が0.002±0.002の範
囲をはずれるヘツドは使用しないで交換する。 (c) STDをはずし、測定すべき媒体を装着し、
媒体を回転させて、媒体と磁気ヘツドとの間の
μ1、μ2を60分間測定。 (d) 媒体をはずし、STDを装着し、STDと磁気
ヘツドとの間のμ1、μ2を15〜30秒間測定。 (e) 磁気ヘツドを取りはずし、測定を終了した磁
気ヘツドおよび媒体の表面状態を調べる。 (c)項で測定した動摩擦係数を時間的経過を示す
線図の一例を第７図に示す。通常、動摩擦係数は
初期のμ10から60分後のμ160まで徐々に増大し、
同時にその面内のばらつきもμ20からμ260へと少
しずつ増大する。 本発明者等は以上のスライドコンタクトテスト
において、媒体と磁気ヘツドとの間のμ1の最大
値が0.5以下であり、μ2の最大値が0.035以下であ
ると、現在媒体に対して要望されている
stiction／friction特性を充分満足することができ
ることを見いだした。 動摩擦係数は媒体のみならず、使用される磁気
ヘツドによつても異なる。本実施例のスライドコ
ンタクトテストにおいては、現在多用されている
Mn−Znフエライトヘツドと次世代のヘツドと目
されている硬質のAl2O3／TiCセラミツクスヘツ
ドの両者についてテストを行つた。Mn−Znフエ
ライトヘツドとしてはTDK(株)製の
HDD05WIN02D−001を、Al2O3／TiCセラミツ
クスヘツドとしてはAMC製のものを用いた。 このようにして行つたスライドコンタクトテス
トの結果、動摩擦係数μ1の最大値と基板の研磨
に用いた研磨剤の砥粒平均粒径との関係を、砥粒
の材質、磁気ヘツドの種類をパラメータとして第
１図に示す。第１図によれば、Mn−Znフエライ
トヘツドとAl2O3／TiCセラミツクスヘツドとで
傾斜は異なるが、動摩擦係数μ1最大値と砥粒平
均粒径との関係は、砥粒の材質によらず、対数目
盛の線図ではほぼ比例しており、平均粒径3μｍ
以上の砥粒で基板表面の研磨を行うとμ10.5と
なる媒体が得られることが判る。 実施例 ２ 次に、テクノ(株)製テープポリツシング装置を用
いて、無電解Ni−Ｐめつきを施したAl合金基板
の表面を研磨する方法により媒体を作製した。 第５図はポリツシング装置の概念図で、第５図
ａはポリツシングテープを正面から見る側面図で
あり、第５図ｂはポリツシングテープを横から見
る側面図である。第５図において、矢印Ａの方向
に回転しているデイスク状基板１の表裏両面に４
本のポリツシングテープ２をテープ押し付けロー
ラー ３で押し付けて研磨を行う。テープ押し付
けローラー３はローラー押さえシリンダ４により
基板１の面にポリツシングテープを所定の力で押
圧している。ポリツシングテープは矢印Ｂの方向
に走行しており、基板の面には常に新しいテープ
面が接触して研磨される。また、ポリツシングテ
ープは矢印Ｃの方向に往復動して基板の全面を研
磨できるようになつている。さらに、ポリツシン
グテープの研磨面側へは研磨液ノズル５より研磨
液が供給される。このような装置を用いて、第１
表に示すように研磨条件を標準条件よりふつた研
磨条件で、無電解Ni−Ｐめつきを施され、鏡面
加工された基板表面を研磨した。
以上のような本発明によれば、アルミニウム合
金基板上のNi−Ｐめつき層の表面を、平均粒径
3μｍ以上5μｍ以下の砥粒を用いて研磨し、この
研磨されたNi−Ｐめつき層の表面上に、Cr下地
層、Co合金磁性層及びカーボン保護層を、スパ
ツタリングにより順次形成することにより、Ni
−Ｐめつき層の表面に所定の粗さをもたせ、その
粗さにより媒体の表面の粗さを制御するようにし
たので、CSS動作を行う場合における磁気ヘツド
との動摩擦係数を所定値以下にして要求される
stiction／friction特性を満足させることができる
と共に、磁気ヘツドの浮上走行の障害となる媒体
表面の異常突起を少なくすることができる。
金基板上のNi−Ｐめつき層の表面を、平均粒径
3μｍ以上5μｍ以下の砥粒を用いて研磨し、この
研磨されたNi−Ｐめつき層の表面上に、Cr下地
層、Co合金磁性層及びカーボン保護層を、スパ
ツタリングにより順次形成することにより、Ni
−Ｐめつき層の表面に所定の粗さをもたせ、その
粗さにより媒体の表面の粗さを制御するようにし
たので、CSS動作を行う場合における磁気ヘツド
との動摩擦係数を所定値以下にして要求される
stiction／friction特性を満足させることができる
と共に、磁気ヘツドの浮上走行の障害となる媒体
表面の異常突起を少なくすることができる。
第１図は本発明の一実施例である両面ポリツシ
ングマシンで、第２図は他の実施例であるテープ
ポリツシング装置で、第３図はさらに他の実施例
の平面グラインドマシンで、基板表面を研磨した
ときの砥粒平均粒径と、媒体・磁気ヘツド間の動
摩擦係数の最大値との関係をそれぞれ示す線図、
第４図は基板表面の研磨砥粒の平均粒径と媒体表
面の突起の数との関係を示す線図、第５図はテー
プポリツシング装置の概念図、第６図はスライド
コンタクトテスト装置の概念図、第７図はスライ
ドコンタクトテスト装置で測定した動摩擦係数の
時間的経過の一例を示す線図である。
ングマシンで、第２図は他の実施例であるテープ
ポリツシング装置で、第３図はさらに他の実施例
の平面グラインドマシンで、基板表面を研磨した
ときの砥粒平均粒径と、媒体・磁気ヘツド間の動
摩擦係数の最大値との関係をそれぞれ示す線図、
第４図は基板表面の研磨砥粒の平均粒径と媒体表
面の突起の数との関係を示す線図、第５図はテー
プポリツシング装置の概念図、第６図はスライド
コンタクトテスト装置の概念図、第７図はスライ
ドコンタクトテスト装置で測定した動摩擦係数の
時間的経過の一例を示す線図である。
Claims (1)
- １ アルミニウム合金基板の表面を所定の粗さに
仕上げ、その表面上にNi−Ｐ無電解めつき処理
を施してNi−Ｐめつき層を形成し、そのNi−Ｐ
めつき層の表面を、平均粒径3μｍ以上5μｍ以下
の砥粒を用いて研磨し、この研磨されたNi−Ｐ
めつき層の表面上に、Cr下地層、Co合金磁性層
及びカーボン保護層を、スパツタリングにより順
次形成することを特徴とする薄膜磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26712086A JPS63121123A (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26712086A JPS63121123A (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63121123A JPS63121123A (ja) | 1988-05-25 |
| JPH0554171B2 true JPH0554171B2 (ja) | 1993-08-11 |
Family
ID=17440346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26712086A Granted JPS63121123A (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63121123A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5605733A (en) * | 1992-01-22 | 1997-02-25 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium, method for its production, and system for its use |
| US5723198A (en) * | 1993-06-11 | 1998-03-03 | Hitachi, Ltd. | Multi-layered magnetic recording medium and magnetic recording system employing the same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62236664A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-16 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用基盤のテクスチヤリング方法 |
-
1986
- 1986-11-10 JP JP26712086A patent/JPS63121123A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62236664A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-16 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用基盤のテクスチヤリング方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63121123A (ja) | 1988-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4587157A (en) | Wear resisting undercoat for thin film magnetic recording media | |
| US5478622A (en) | Magnetic disk | |
| JPH0660368A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH06318381A (ja) | ハードディスクドライブ装置、磁気ディスク及びリードライトヘッド | |
| JPH0795369B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| US5210673A (en) | Thin-film hard disk magnetic medium | |
| US5223304A (en) | Process for fabricating magnetic disks | |
| JPH0554171B2 (ja) | ||
| JPH0823935B2 (ja) | 薄膜磁気記録媒体 | |
| US5232750A (en) | Method for fabricating magnetic recording medium | |
| JP2613947B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0568771B2 (ja) | ||
| US5576111A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH04212714A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01146103A (ja) | 磁気記録装置 | |
| JP2832711B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH05151563A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JP3051851B2 (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPH0696436A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0775069B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH05128468A (ja) | 浮上式磁気ヘツド | |
| JPH05189756A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02156417A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH06195701A (ja) | 磁気ディスク及びその製造方法 | |
| JPH0428012A (ja) | 磁気ディスク及びその製造方法並びに磁気ディスク装置 |