JP5445663B2 - 電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 165
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 158
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 143
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 78
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 78
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- -1 For example Substances 0.000 description 13
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 5
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 5
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 5
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 5
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 5
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 5
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 5
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 5
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 5
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
- B65H2301/00—Handling processes for sheets or webs
- B65H2301/50—Auxiliary process performed during handling process
- B65H2301/51—Modifying a characteristic of handled material
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- B65H2301/5112—Processing surface of handled material upon transport or guiding thereof, e.g. cleaning removing material from outer surface
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1168—Gripping and pulling work apart during delaminating
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/19—Delaminating means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/19—Delaminating means
- Y10T156/1978—Delaminating bending means
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
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- Folding Of Thin Sheet-Like Materials, Special Discharging Devices, And Others (AREA)
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Description
補強シートで補強された基板上に電子デバイス用部材を形成する第1の工程と、
該電子デバイス用部材を形成した前記基板と、前記補強シートとを剥離する第2の工程とを有する、電子デバイスの製造方法であって、
該第2の工程は、
前記基板及び前記補強シートを含む積層体の一方の主面を支持する支持ユニットと、
前記積層体の他方の主面に取付けられる板状の可撓性部材と、
前記可撓性部材上の前記積層体側と反対側の面に固定された複数のパッドと、
それぞれが、前記複数のパッドのいずれかに継手を介して連結された複数のロッドと、
前記複数のロッドをロッド毎にロッドの軸方向に移動させるための複数の駆動装置と、
前記複数のロッドの位置をロッド毎に制御する制御装置とを備えた剥離装置を用い、前記支持ユニットにより前記積層体の一方の主面を支持すると共に、前記積層体の他方の主面が一端側から順次撓み変形するように前記制御装置により前記複数のロッドの位置を制御するステップを有し、
該ステップにおいて、前記各パッドを、前記各パッドと継手を介して連結されたロッドの中心線と、前記補強シート上の前記基板側の面又は前記基板上の前記補強シート側の面との交点近傍を中心として回動させる。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態における電子デバイスの製造方法で用いられる剥離装置を示す一部断面側面図である。図2は、図1の剥離装置の動作を示す一部断面側面図である。
図9は、第2実施形態における電子デバイスの製造方法で用いられる剥離装置を示す一部断面側面図である。図10は、図9の剥離装置の動作を示す一部断面側面図である。
複数の駆動装置70Aは、1つの制御装置80による制御下で、複数のロッド60Aをロッド60A毎に軸方向に伸縮させるためのものである。駆動装置70Aは、ロッド60A毎に1つずつ設置されている。複数の駆動装置70Aは、複数のクッション部材14Aのいずれかを介して、フレーム16Aに連結されている。一方、複数の駆動装置70Bは、1つの制御装置80による制御下で、複数のロッド60Bをロッド60B毎に軸方向に伸縮させるためのものである。駆動装置70Bは、ロッド60B毎に1つずつ設置されている。複数の駆動装置70Bは、複数のクッション部材14Bのいずれかを介して、フレーム16Bに連結されている。
本実施形態では、図9に示す剥離装置を用いて剥離を行うが、剥離装置の動作が異なる。
この場合、耐熱性の点では上記したガラス基板はどれも当てはまる。
耐熱性の観点でより好ましいプラスチック基板としては、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアラミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、各種液晶ポリマー樹脂等が例示される。
また、基板はガラス基板、シリコンウェハ、金属板、プラスチック基板等、同じ材質、または異なる材質を積層した積層基板であってもよい。例えば、ガラス基板とプラスチック基板の積層体、プラスチック基板、ガラス、プラスチック基板の順に積層した積層体、2枚以上のガラス基板同士、あるいは2枚以上のプラスチック基板同士の積層体などでもよい。
[実施例1]
(補強シートの作製)
縦350mm、横300mm、厚さ0.4mmのガラスシート(旭硝子社製、AN100)をアルカリ洗浄し、純水で超音波洗浄した後、80℃のIPA蒸気を10分間あてて乾燥を行った。乾燥後のガラスシート上に、付加反応型の液状シリコーン(信越シリコーン社製、KNS−320A)100質量部と白金系触媒(信越シリコーン社製、CAT−PL−56)2質量部との混合物をスピンコータにより塗工した(塗工量30g/m2)。次いで、180℃にて10分間大気中で加熱硬化して、ガラスシートとシリコーン樹脂層とからなる補強シートを作製した。
(ガラス基板と補強シートの貼り付け)
縦350mm、横300mm、厚さ0.3mmのガラス基板(旭硝子社製、AN100)をアルカリ洗浄、純水洗浄した後、80℃のIPA蒸気を10分間あてて乾燥を行った。乾燥後のガラス基板と補強シートとを真空中でプレス装置により貼り付け、ガラス基板とシリコーン樹脂層とを密着させた。
(積層体の作製)
このようにして貼り合わせたガラス基板/補強シートを2組用意し、ガラス基板同士を両面テープにより貼り合わせて積層体を作製した。この積層体は、補強シート、ガラス基板、両面テープ(接着剤層)、ガラス基板、補強シートが順次配置された構成である。尚、接着剤層は、図5に示す液晶層130に代わるものである。
(剥離試験)
上記積層体を、図1、図2に示す剥離装置を用いて剥離した。具体的には、積層体の第1主面をステージ10上に真空吸着し、積層体の第2主面に可撓性部材30を真空吸着した。
実施例2〜3、比較例1〜2では、曲率半径Rを表1に記載の条件に変更した以外は、実施例1と同様に、積層体を作製し、ガラス基板に貼り付けた補強シートを剥離した。結果を表1に示す。
実施例4〜6、比較例3〜4では、補強シートとして、ガラスシートのみを用い、曲率半径Rを表1に記載の条件に変更した以外は、実施例1と同様に、積層体を作製し、ガラス基板に貼り付けた補強シートを剥離した。結果を表1に示す。
実施例7では、縦350mm、横300mm、厚さ0.4mmのガラスシート(旭硝子社製、AN100)からなる補強シートを、厚さ0.1mmのポリエチレンテレフタラート樹脂板に貼り付けた以外は、実施例3と同様に積層体を作製し、ポリエチレンテレフタラート樹脂板に貼り付けた補強シートを剥離した。剥離後の補強シートに破損は認められなかった。
実施例8では、縦350mm、横300mm、厚さ0.4mmのガラスシート(旭硝子社製、AN100)からなる補強シートを、厚さ0.1mmの鏡面処理を施したステンレス基板(SUS304)に貼り付けた以外は、実施例3と同様に積層体を作製し、ステンレス基板に貼り付けた補強シートを剥離した。剥離後の補強シートに破損は認められなかった。
実施例9では、縦350mm、横300mm、厚さ0.4mmのガラスシート(旭硝子社製、AN100)からなる補強シートを、厚さ0.05mmのポリイミド基板(東レ・デュポン製、カプトン200HV)に貼り付けた以外は、実施例3と同様に積層体を作製し、ポリイミド基板に貼り付けた補強シートを剥離した。剥離後の補強シートに破損は認められなかった。
実施例10では、初めに縦350mm、横300mm、板厚0.08mm、線膨張係数38×10−7/℃のガラス基板(旭硝子社製、AN100、無アルカリガラス基板)を、洗浄装置を用いてアルカリ洗剤で洗浄を行い、表面を清浄化した。さらにガラス基板表面にγ−メルカプトプロピルトリメトキシシランの0.1%メタノール溶液を噴霧し、続いて80℃で3分乾燥させ、積層用ガラスフィルムとして準備した。一方で、縦350mm、横300mm、板厚0.05mmのポリイミド基板(東レ・デュポン社製、カプトン200HV)の表面をプラズマ処理した物を準備した。そして、前記積層用ガラスフィルムと前記ポリイミド基板とを重ね合わせ、320℃に加熱したプレス装置を用いて両者を積層し、ガラス/樹脂積層基板とした。
縦350mm、横300mm、厚さ0.4mmのガラスシート(旭硝子社製、AN100)からなる補強シートを、前記ガラス/樹脂積層基板の樹脂面に貼り付けた以外は、実施例3と同様に積層体を作製し、ガラス/樹脂積層基板に貼り付けた補強シートを剥離した。剥離後の補強シートに破損は認められなかった。
20 剥離刃
30 可撓性部材
32 取付部
34 規定部
40 パッド
50 球面継手
60 ロッド
70 駆動装置
80 制御装置
100 積層体
110 ガラス基板
120 補強シート
121 ガラスシート
122 樹脂層
124 剥離領域
126 未剥離領域
128 剥離前線
Claims (10)
- 補強シートで補強された基板上に電子デバイス用部材を形成する第1の工程と、
該電子デバイス用部材を形成した前記基板と、前記補強シートとを剥離する第2の工程とを有する、電子デバイスの製造方法であって、
該第2の工程は、
前記基板及び前記補強シートを含む積層体の一方の主面を支持する支持ユニットと、
前記積層体の他方の主面に取付けられる板状の可撓性部材と、
前記可撓性部材上の前記積層体側と反対側の面に固定された複数のパッドと、
それぞれが、前記複数のパッドのいずれかに継手を介して連結された複数のロッドと、
前記複数のロッドをロッド毎にロッドの軸方向に移動させるための複数の駆動装置と、
前記複数のロッドの位置をロッド毎に制御する制御装置とを備えた剥離装置を用い、前記支持ユニットにより前記積層体の一方の主面を支持すると共に、前記積層体の他方の主面が一端側から順次撓み変形するように前記制御装置により前記複数のロッドの位置を制御するステップを有し、
該ステップにおいて、前記各パッドを、前記各パッドと継手を介して連結されたロッドの中心線と、前記補強シート上の前記基板側の面又は前記基板上の前記補強シート側の面との交点近傍を中心として回動させる、電子デバイスの製造方法。 - 前記継手は、球面継手である請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記複数の駆動装置のそれぞれは、複数のクッション部材のいずれかを介して、1つのフレームに連結される請求項1又は2に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記駆動装置は、サーボモータである請求項1〜3のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記可撓性部材は、前記積層体の他方の主面に取外し可能に取付けられる取付部、及び前記可撓性部材の曲げ剛性を規定する規定部により構成される請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記取付部は、ゴムからなる請求項5に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記補強シートは、少なくともガラスシートを含む請求項1〜6のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
- 補強シートで補強された基板上に電子デバイス用部材を形成する第1の工程と、
該電子デバイス用部材を形成した前記基板と、前記補強シートとを剥離する第2の工程とを有する、電子デバイスの製造方法であって、
該第2の工程は、
前記基板及び前記補強シートを含む積層体の両方の主面に取付けられる板状の可撓性部材と、
前記可撓性部材上の前記積層体側と反対側の面に固定された複数のパッドと、
それぞれが、前記複数のパッドのいずれかに継手を介して連結された複数のロッドと、
前記複数のロッドをロッド毎にロッドの軸方向に移動させるための複数の駆動装置と、
前記複数のロッドの位置をロッド毎に制御する制御装置とを備えた剥離装置を用い、前記積層体の一方の主面が一端側から順次撓み変形するように前記制御装置により前記複数のロッドの位置を制御し、前記積層体の他方の主面が一端側から順次撓み変形するように前記制御装置により前記複数のロッドの位置を制御するステップを有し、
該ステップにおいて、前記各パッドを、前記各パッドと継手を介して連結されたロッドの中心線と、前記補強シート上の前記基板側の面又は前記基板上の前記補強シート側の面との交点近傍を中心として回動させる、電子デバイスの製造方法。 - 前記電子デバイス用部材は、表示パネルに用いられる部材、太陽電池に用いられる部材、又は薄膜2次電池に用いられる部材である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記表示パネルは、液晶パネル、有機ELパネル、プラズマディスプレイパネル、又はフィールドエミッションパネルである、請求項9に記載の電子デバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012259414A JP5445663B2 (ja) | 2009-08-31 | 2012-11-28 | 電子デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009200914 | 2009-08-31 | ||
JP2009200914 | 2009-08-31 | ||
JP2012259414A JP5445663B2 (ja) | 2009-08-31 | 2012-11-28 | 電子デバイスの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011528751A Division JP5155454B2 (ja) | 2009-08-31 | 2010-08-18 | 剥離装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013056774A JP2013056774A (ja) | 2013-03-28 |
JP5445663B2 true JP5445663B2 (ja) | 2014-03-19 |
Family
ID=43627795
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011528751A Active JP5155454B2 (ja) | 2009-08-31 | 2010-08-18 | 剥離装置 |
JP2012259414A Active JP5445663B2 (ja) | 2009-08-31 | 2012-11-28 | 電子デバイスの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011528751A Active JP5155454B2 (ja) | 2009-08-31 | 2010-08-18 | 剥離装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8360129B2 (ja) |
JP (2) | JP5155454B2 (ja) |
KR (1) | KR101254418B1 (ja) |
CN (1) | CN102202994B (ja) |
TW (2) | TWI436892B (ja) |
WO (1) | WO2011024689A1 (ja) |
Families Citing this family (78)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8950459B2 (en) * | 2009-04-16 | 2015-02-10 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Debonding temporarily bonded semiconductor wafers |
KR101561729B1 (ko) | 2009-05-06 | 2015-10-19 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 기판의 캐리어 |
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JP6014477B2 (ja) * | 2012-12-04 | 2016-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 |
JP6016108B2 (ja) * | 2012-12-18 | 2016-10-26 | 旭硝子株式会社 | 基板の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 |
JP6252118B2 (ja) | 2013-01-25 | 2017-12-27 | 旭硝子株式会社 | 基板の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 |
CN103972133B (zh) * | 2013-01-25 | 2017-08-25 | 旭硝子株式会社 | 基板的剥离装置和剥离方法以及电子器件的制造方法 |
JP6003675B2 (ja) | 2013-01-25 | 2016-10-05 | 旭硝子株式会社 | 基板の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 |
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JP6269954B2 (ja) | 2014-07-11 | 2018-01-31 | 旭硝子株式会社 | 積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 |
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JP6471606B2 (ja) * | 2015-02-23 | 2019-02-20 | Agc株式会社 | 積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 |
JP6468462B2 (ja) * | 2015-02-23 | 2019-02-13 | Agc株式会社 | 積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 |
CN105904831B (zh) * | 2015-02-23 | 2019-07-26 | Agc株式会社 | 层叠体的剥离装置和剥离方法及电子器件的制造方法 |
JP6419619B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2018-11-07 | 株式会社Screenホールディングス | 剥離装置のレシピ作成方法 |
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JP2007030214A (ja) | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Canon Inc | 印刷システム |
JP4490345B2 (ja) * | 2005-08-04 | 2010-06-23 | 共同印刷株式会社 | 保護シート剥離装置 |
JP5307970B2 (ja) * | 2006-01-11 | 2013-10-02 | 旭硝子株式会社 | 大型ガラス基板の剥離方法及びその装置 |
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-
2010
- 2010-08-18 JP JP2011528751A patent/JP5155454B2/ja active Active
- 2010-08-18 KR KR1020117009793A patent/KR101254418B1/ko active IP Right Grant
- 2010-08-18 WO PCT/JP2010/063946 patent/WO2011024689A1/ja active Application Filing
- 2010-08-18 CN CN201080003114.1A patent/CN102202994B/zh active Active
- 2010-08-31 TW TW101146445A patent/TWI436892B/zh active
- 2010-08-31 TW TW099129311A patent/TWI400166B/zh active
-
2011
- 2011-04-28 US US13/096,006 patent/US8360129B2/en active Active
-
2012
- 2012-11-28 JP JP2012259414A patent/JP5445663B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102202994A (zh) | 2011-09-28 |
KR20110063693A (ko) | 2011-06-13 |
JP2013056774A (ja) | 2013-03-28 |
TW201311455A (zh) | 2013-03-16 |
US8360129B2 (en) | 2013-01-29 |
TWI400166B (zh) | 2013-07-01 |
TWI436892B (zh) | 2014-05-11 |
US20110198040A1 (en) | 2011-08-18 |
CN102202994B (zh) | 2014-03-12 |
JPWO2011024689A1 (ja) | 2013-01-31 |
WO2011024689A1 (ja) | 2011-03-03 |
JP5155454B2 (ja) | 2013-03-06 |
KR101254418B1 (ko) | 2013-04-15 |
TW201119864A (en) | 2011-06-16 |
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A977 | Report on retrieval |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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