JP6547403B2 - 積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
)、カラーフィルタ(CF:Color Filter))を形成することが困難になる。
電子デバイスは、ガラス製、樹脂製、金属製等の基板の表面に電子デバイス用の機能層(LCDであれば、薄膜トランジスタ(TFT)、カラーフィルタ(CF))を形成することにより製造される。
図1は、積層体1の一例を示した要部拡大側面図である。
基板2は、その表面2aに機能層が形成される。基板2としては、ガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、半導体基板を例示できる。これらの基板のなかでも、ガラス基板は、耐薬品性、耐透湿性に優れ、かつ、線膨張係数が小さいので、電子デバイス用の基板2として好適である。また、線膨張係数が小さくなるに従い、高温下で形成される機能層のパターンが冷却時に、ずれ難くなる利点もある。
補強板3としては、ガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、半導体基板を例示できる。
樹脂層4は、樹脂層4と補強板3との間で剥離するのを防止するため、補強板3との間の結合力が、基板2との間の結合力よりも高く設定される。これにより、剥離工程では、樹脂層4と基板2との界面が剥離される。
機能層形成工程を経ることにより積層体1の基板2の表面2aには、機能層が形成される。機能層の形成方法としては、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、PVD(Physical Vapor Deposition)法等の蒸着法、スパッタ法が用いられる。機能層は、フォトリソグラフィ法、エッチング法によって所定のパターンに形成される。
図3は、剥離開始部作成工程にて使用される剥離開始部作成装置10の構成を示した説明図であり、図3(A)は、積層体6とナイフNとの位置関係を示した説明図、図3(B)は、ナイフNによって界面24に剥離開始部26を作成する説明図、図3(C)は、界面28に剥離開始部30を作成する直前状態を示した説明図、図3(D)は、ナイフNによって界面28に剥離開始部30を作成する説明図、図3(E)は、剥離開始部26、30が作成された積層体6の説明図である。また、図4は、剥離開始部26、30が作成された積層体6の平面図である。
剥離開始部作成装置10による剥離開始部作成方法は、ナイフNの刺入位置を、積層体6の隅部6Aであって、積層体6の厚さ方向において重なる位置に設定し、かつナイフNの刺入量を、界面24、28ごとに異なるように設定した点にある。
図5は、実施形態の剥離装置40の構成を示した縦断面図であり、図6は、剥離装置40の剥離ユニット42に対する複数の可動体44の配置位置を模式的に示した剥離ユニット42の平面図である。なお、図5は図6のB−B線に沿う断面図に相当し、また、図6においては積層体6を実線で示している。
図7(A)は、剥離ユニット42の平面図であり、図7(B)は、図7(A)のC−C線に沿う剥離ユニット42の拡大縦断面図である。また、図7(C)は、剥離ユニット42を構成する矩形の板状の可撓性板(第1の可撓性部材)52に対して、剥離ユニット42を構成する吸着部54が両面接着テープ56を介して着脱自在に備えられたことを示す剥離ユニット42の拡大縦断面図である。
可撓性板52の下面には、図5に示した円盤状の複数の可動体44が、図6の如く碁盤目状に固定される。これらの可動体44は、可撓性板52にボルト等の締結部材によって固定されるが、ボルトに代えて接着固定されてもよい。これらの可動体44は、コントローラ50によって駆動制御された駆動装置48によって、独立して昇降移動される。
図9(A)〜(C)〜図10(A)〜(C)は、図3にて説明した剥離開始部作成方法によって隅部6Aに剥離開始部26、30が作成された積層体6の剥離方法が示されている。すなわち、同図には、積層体6の補強板3A、3Bを剥離する剥離方法が時系列的に示されている。
まず、図7(C)の如く、可撓性板52に対して吸着部54を、両面接着テープ56を介して着脱自在に備えたことを特徴としている。
板52に対して吸着部54を着脱自在に取り付ける手段は、両面接着テープ56に限定されるものではなく、真空吸着手段によって着脱自在としてもよい。
Claims (11)
- 第1の基板と第2の基板とが剥離可能に貼り付けられてなる積層体に対し、前記第1の基板と前記第2の基板との界面を一端側から他端側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する積層体の剥離装置において、
前記積層体の前記第1の基板を支持する支持部と、
板状の第1の可撓性部材、及び前記第1の可撓性部材と前記積層体の前記第2の基板との間に配置される吸着部であって、前記第1の可撓性部材に着脱自在に備えられ、前記積層体の前記第2の基板を吸着する吸着部を含む剥離ユニットと、
前記積層体の前記第2の基板が一端側から他端側に向けて順次撓み変形するように前記剥離ユニットを変形させる駆動部と、
を備えたことを特徴とする積層体の剥離装置。 - 前記支持部は、前記剥離ユニットと同一構成である請求項1に記載の積層体の剥離装置。
- 前記吸着部は、
前記第1の可撓性部材に一方面が着脱自在に備えられた板状の第2の可撓性部材と、
前記第2の可撓性部材の他方面に備えられ、前記第2の基板の内面を真空吸着する通気性シートと、
前記通気性シートを包囲するように前記第2の可撓性部材の他方面に備えられ、前記第2の基板の内面を除く外周面に接触するシール枠部材と、
を有する請求項1又は2に記載の積層体の剥離装置。 - 前記吸着部は、前記第1の可撓性部材に対し、両面接着テープを介して着脱自在に備えられ、
前記両面接着テープの前記吸着部に対する接着力は、前記第1の可撓性部材に対する接着力よりも高い請求項1、2又は3に記載の積層体の剥離装置。 - 前記吸着部は、前記積層体のサイズに応じた複数のサイズのものが揃えられ、前記積層体のサイズに基づいて選択された一つの吸着部が前記第1の可撓性部材に着脱自在に装着される請求項1から4のいずれか1項に記載の積層体の剥離装置。
- 第1の基板と第2の基板とが剥離可能に貼り付けられてなる積層体に対し、前記第1の基板と前記第2の基板との界面を一端側から他端側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する積層体の剥離方法において、
前記積層体の前記第1の基板を支持部によって支持する支持工程と、
板状の第1の可撓性部材、及び前記第1の可撓性部材と前記積層体の前記第2の基板との間に配置される吸着部であって、前記第1の可撓性部材に着脱自在に備えられ、前記積層体の前記第2の基板を吸着する吸着部を含む剥離ユニットを用い、前記吸着部によって前記積層体の前記第2の基板を吸着する吸着工程と、
前記積層体の前記第2の基板が一端側から他端側に向けて順次撓み変形するように前記剥離ユニットを駆動部によって変形させて前記界面を剥離させる剥離工程と、
を備えたことを特徴とする積層体の剥離方法。 - 前記支持工程において、前記吸着工程における前記剥離ユニットと同一構成の前記支持部を用いて前記第1の基板を支持する請求項6に記載の積層体の剥離方法。
- 前記吸着部は、前記積層体のサイズに応じた複数のサイズのものが揃えられ、前記積層体のサイズに基づいて選択された一つの吸着部が前記第1の可撓性部材に着脱自在に装着される請求項6又は7に記載の積層体の剥離方法。
- 第1の基板とガラス製の第2の基板とが剥離可能に貼り付けられてなる積層体に対し、
前記第1の基板の露出面に機能層を形成する機能層形成工程と、前記機能層が形成された前記第1の基板から前記第2の基板を分離する分離工程と、を有する電子デバイスの製造方法において、
前記分離工程は、
前記積層体の前記第1の基板を支持部によって支持する支持工程と、
板状の第1の可撓性部材、及び前記第1の可撓性部材と前記積層体の前記第2の基板との間に配置される吸着部であって、前記第1の可撓性部材に着脱自在に備えられ、前記積層体の前記第2の基板を吸着する吸着部を含む剥離ユニットを用い、前記吸着部によって前記積層体の前記第2の基板を吸着する吸着工程と、
前記積層体の前記第2の基板が一端側から他端側に向けて順次撓み変形するように前記剥離ユニットを駆動部によって変形させて前記第1の基板から前記第2の基板を剥離させる剥離工程と、
を備えたことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記支持工程において、前記吸着工程における前記剥離ユニットと同一構成の前記支持部を用いて前記第1の基板を支持する請求項9に記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記吸着部は、前記積層体のサイズに応じた複数のサイズのものが揃えられ、前記積層体のサイズに基づいて選択された一つの吸着部が前記第1の可撓性部材に着脱自在に装着される請求項9又は10に記載の電子デバイスの製造方法。
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