JP2009511670A5 - - Google Patents
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- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims 2
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- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 claims 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims 1
- 230000005712 crystallization Effects 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims 1
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous oxide Inorganic materials [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Claims (3)
- 前記架橋度は、本質的に環状物が、環式基中の12個以下の原子を有する架橋によって形成されない程十分低い、請求項1に記載の組成物。
- 前記照射は、アモルファス材料を実質的に多結晶性の材料へと転換するために結晶化を実行するために、レーザーを用いて実行される、請求項8に記載の方法。
- 前記液体材料を前記基板に適用するのと同時にまたはその後に、紫外線照射を用いて前記液体材料を照射することをさらに含む、請求項6に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US72421605P | 2005-10-05 | 2005-10-05 | |
US60/724,216 | 2005-10-05 | ||
PCT/US2006/038878 WO2007044429A2 (en) | 2005-10-05 | 2006-10-05 | Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009511670A JP2009511670A (ja) | 2009-03-19 |
JP2009511670A5 true JP2009511670A5 (ja) | 2009-11-26 |
JP5888831B2 JP5888831B2 (ja) | 2016-03-22 |
Family
ID=37943356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008534671A Active JP5888831B2 (ja) | 2005-10-05 | 2006-10-05 | 架橋済みポリマー及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7943721B2 (ja) |
EP (1) | EP1943669A4 (ja) |
JP (1) | JP5888831B2 (ja) |
WO (1) | WO2007044429A2 (ja) |
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