JPS63234033A - 高分子金属 - Google Patents

高分子金属

Info

Publication number
JPS63234033A
JPS63234033A JP6852187A JP6852187A JPS63234033A JP S63234033 A JPS63234033 A JP S63234033A JP 6852187 A JP6852187 A JP 6852187A JP 6852187 A JP6852187 A JP 6852187A JP S63234033 A JPS63234033 A JP S63234033A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
main chain
polymeric metal
formula
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6852187A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyouzaburou Takeda
武田 京三郎
Masaya Fujino
藤野 正家
Nobuo Matsumoto
信雄 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP6852187A priority Critical patent/JPS63234033A/ja
Publication of JPS63234033A publication Critical patent/JPS63234033A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はシリコン原子が交互に一重と二重の結合をして
いる主鎖を持ち、側鎖にアルキル基又はアリール基を有
する高分子構造を持つ高分子金属に関するものである。
本発明の上記高分子金属は有機溶媒に可溶で任意の物体
表面に塗布あるいは薄膜化が可能である。
本発明によるこの高分子金属あるいは無機高分子は導電
性高分子として有用であり、太陽電池用の大面積電極膜
、航空機内での多量の配線、電磁波シールド材、その他
の導電材料として応用することができる。
従来の技術 いわゆる導電性高分子は、銅、アルミニウムなどの通常
の金属にない大きな二つの特徴、すなわち、有機溶媒へ
の可溶性に基づく大面積任意形状の物体表面への塗布可
能性と軽量性とを有している。その応用上の一例として
、前者では太陽電池用の大面積電極膜、後者では航空機
内での多量の配線の軽量化に結びつ(ことが考えられる
従来の導電性高分子には二つの種類があった。
即ち、ポリアセチレン、ポリパラフェニシン、ポリピロ
ール等の様に(C=C)、の主鎖に沿った伝導を利用す
るものと、ポリビニルカルバゾールのように、(CH,
−CH)、の如く絶縁性の主鎖に付いた側鎖基Xの間の
ホッピング伝導を利用するものとがあった。しかし、両
者供に半導体であるため、導電性の付与のためには不純
物のドーピングが必要であり、■(ヨウ素)やAsFs
(五フッ化ヒ素)゛等を高濃度でドープしなければなら
ず、たとえドープしたとしても、金属並の伝導度101
05Se’を得ることは困難であった。
即ち、これら従来の高分子は炭素を主鎖構成原子とする
場合が最も多く、この場合、主鎖は絶縁体又は半導体と
なり金属とはなりえない。例えば、炭素間の結合がすべ
て一重結合であり側鎖が水素のポリエチレンは絶縁体で
あり、側鎖の変化は化学的性質を変えるが伝導性には影
響しない。また、炭素間の結合が二重結合と一重結合の
交代結合である物質としては側鎖が水素のポリアセチレ
ンがあるが、これは、バンドキャブが1eV程度の半導
体である。
一方、−重結合のシリコンのみで形成された主鎖(−3
i−S i−3i−3i−)を持つ高分子、ポリシラン
はバンドギャップが4eV程度の半導体であり、しかも
生成物の大部分は固体で溶けにくく且つ不安定である。
また、ヘテロ結合であるシリコン−炭素結合(−5i 
−R−Si −R−)よりなるポリシルアルキル系重合
体や、シリコン−酸素結合(−3i−0−3i −0−
)よりなるシロキサン重合体には導電性はなく、ポリシ
ラザンあるいはシルチアン系重合体は絶縁体であり且つ
極めて加水分解されやすい。
このように従来の高分子は、すべて絶縁体又は半導体で
あり、有機溶媒に可溶で且つ金属的性質を持つ高分子金
属は皆無であった。
発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、有機溶媒に可溶で、かつ不純物のドー
ピングによらず高い伝導性を持つ高分子金属を提供する
こ・とにある。
本発明の他の目的は、シリコン原子を主鎖構成原子とし
、その結合を二重結合と一重結合の交代結合とし、側鎖
にアルキル基またはアリール基を有する高分子金属を提
供することにある。
問題点を解決するための手段 本発明は、シリコン原子を主鎖構成原子とし、その結合
を二重結合と一重結合の交代結合とすることにより主鎖
に金属的性質を持たせ、側鎖にメチル、エチル等のアル
キル基、又はアリール基をつけることにより有機溶媒へ
の可溶性を持たせたことを特徴とする高分子金属である
本発明の高分子金属は、下記繰返し単位:(ここで、R
1右よびR2は同一または異なるアルキル基またはアリ
ール基を表し、nは2以上の数を表す)を有していても
よい。
上記アルキル基およびアリール基は使用する有機溶媒、
に応じて広範囲の中から選択できる。−例として、上記
側鎖基R+および/またはR2としてメチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル基までのアルキル基を採用
した場合には、得られた高分子金属はテトラヒドロフラ
ンに可溶であるが他の溶媒には溶けない。より安価で毒
性のない有機溶媒であるシクロヘキサンに可溶なのはヘ
キシル基以降の炭素数6以上のアルキル基である。
上記側鎖基としてアリール基を操用する場合には一般式
: (ここで、R3、R4、Rsは水素またはアルキル基を
表す)を有する基が好ましく、シクロヘキサンに可溶と
するには上記アルキル基R3、R,、R3の少なくとも
一つをヘキシル以降の炭素数6以上のアルキル基にする
本発明の高分子金属は下記一般式(■)、(II):C
I          R2 R+           H (l          R2 R,CI (R,JよびR2は前記で定義のもの)で表されるジシ
レン誘導体を出発原料として用いることによって重合す
ることができる。
上記(1)のジシレン誘導体を出発原料として用いる場
合には下記の反応−1に従って本発明の高分子金属を得
ることができる: 〔反応−1〕 上記(II)のジシレン誘導体を出発原料として用いる
場合には下記の反応−2に従って本発明の高分子金属を
得ることができる: 〔反応−2〕 Kt       シE      KIIIK。
実施例 以下、実施例を用いて本発明による高分子金属の合成方
法を説明する。しかし、本発明はこれらの実施例のみに
限定されるものではない。
実施例1 〔ジシレン誘導体(I−1)の合成〕 下記のジシレン誘導体(r−1)を合成する。
先ず、2Jの石英製フラスコに500ccの脱水テトラ
ヒドロフラン、20gの金属ナトリウム及び20gの金
属カリウムを入れ、20分間攪拌後、この中へ、100
gのトリメチルクロロシランと58gのメシチルトリク
ロロシランの混合液を滴下する。1時間還流攪拌した後
反応液を濾過し、真空蒸留により下記のトリシラン誘導
体(I I I)を得る。
Hs (CHa)ist  St  5t(CR3)3同様に
して、メシチルトリクロロシランの代わりに、50gの
メシチルジクロロシランを用いて上記反応を行うことに
より下記のトリシラン誘導体(IV)を得る。
“1゜ (CHs)asi −3i−3i(CHs)sCH。
次に、11の石英ガラス製フラスコ中で、上記(III
) (7)物質Logと上記(IV)(7)物質9gと
を200CCの3−メチルペンタンに溶解し、アルゴン
雰囲気下で一90℃にて低圧水銀灯の光(254nff
l)を照射し、2日間攪拌する。析出物を濾過し、3メ
チルペンタンで洗浄後真空乾燥することにより下記の反
応式に従ってジシレン誘導体(I−1)が得られる。
CH,CH3 〔ジシレン誘導体(II−1)の合成〕上記で得られた
化合物(IV)のみを用いる。即ち上記(IV)の化合
物20gを200ccの3−メチルペンタンに溶解し、
アルゴン雰囲気下で一90℃にて低圧水銀灯の光(25
40m)を照射し、2日間攪拌する。
析出物を濾過し、3メチルペンクンで洗浄後真空乾燥す
ることにより下記の反応式に従ってジシレン誘導体(I
I−1)が得られる。
CHs        CHa CHs       CHs (I I −1) 〔高分子金属の重合−(反応−1)〕 21の石英ガラス製フラスコ内で15gの上記(1−1
)のジシレン誘導体を300ccのエタノールに溶解し
、水酸化カリウム15gを溶解したエタノール溶液50
0ccを加え、10時間攪拌する。析出した黒色高分子
を濾別し、エタノールで洗浄後真空乾燥する。乾燥した
高分子を0℃、アルゴン雰囲気下でテトラヒドロフラン
−イソプロピルアルコール系で3回再沈精製し真空乾燥
することにより収率lO%で所望の高分子金属が得られ
る。この時の反応は上記(反応−1)に従って行われる
〔高分子金属の重合−(反応−2)〕 この場合には上記のジシレン誘導体(II−1)を用い
る。即ち、11の石英ガラス製フラスコ中でに30gの
ジシレン誘導体(II−1)を300ccの3−メチル
ペンタンに一90℃アルゴン雰囲気下で分散する。攪拌
しながら0.3℃/分の速度で室温まで昇温することに
より、下記のポリシランを辱により、右記のポリシラン
を得る。
ここで、R6は下記の基をあられす: CH。
これを濾別し、3−メチルペンタンで洗浄後真空乾燥す
る。110石英製フラスコ内で得られた5gの上記ポリ
シランと10gのヨウ化カリウムを200ccの1.3
−ジメチルイミダゾリジノンに分散し、室温で2時間攪
拌する。反応液を0℃のイソプロピルアルコール21中
に滴下、析出する黒色高分子を濾別する。これを0℃の
イソプロピルアルコール及びテトラヒドロフランで交互
に洗浄し、5℃の水で洗浄し、再度イソプロピルアルコ
ールで洗浄し真空乾燥することにより所望の高分子金属
が得られる。この時の反応は上記(反応−2)に従って
おこなわれる。
以上の実施に従って得られた高分子金属は下記の分子構
造を持つ: この高分子金属の電子状態は、第1図のバンド構造図に
示されている。第1図において、参照番号2はフェルミ
準位を示し、参照番号3は主鎖シリコンのπバンド、参
照番号4は主鎖シリコンのσバンドを表している。第1
図かられかるように、2つのバンド3.4が重なりを持
つため、フェルミレベルがバンド内に位置する。そのた
め、この高分子は金属としてふるまう。しかも、側鎖に
アリール基又はアルキル基を持つため、テトラヒドロフ
ラン等の有機溶媒に可溶である。
発明の詳細 な説明したように、本発明による高分子金属は、有機溶
媒に可溶な高分子金属であるからスプレ一式の散布やへ
ヶによる塗布等により、大面積の物体表面に金属薄膜を
容易に形成できる利点がある。
さらに、前記側鎖の一部に親水性の基を付けてLB膜化
することにより特定の配向状態をとらせることによって
導電性を向上させることができる。
これを利用すれば、太陽電池用の電極、電磁波シールド
材等への応用が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の高分子金属のバンド構造図であり、2
はフェルミ準位を示し、3は主鎖シリコンのπ−バンド
、4は主鎖シリコンのσバンドヲ表している。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シリコン原子が交互に一重と二重の結合をしてい
    る主鎖を持ち、側鎖にアルキル基又はアリール基を有す
    る高分子構造を持つ高分子金属。
  2. (2)上記高分子金属が、下記繰り返し単位:▲数式、
    化学式、表等があります▼ (ここで、R_1およびR_2は同一または異なるアル
    キル基又はアリール基を表し、nは2以上の数を表す)
    を有していることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
    記載の高分子金属。
  3. (3)上記側鎖R_1およびR_2の少なくとも一つが
    下記一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、R_3、R_4、R_5、は同一または異な
    るアルキル基を表す)で表される基であることを特徴と
    する特許請求の範囲第2項に記載の高分子金属。
JP6852187A 1987-03-23 1987-03-23 高分子金属 Pending JPS63234033A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6852187A JPS63234033A (ja) 1987-03-23 1987-03-23 高分子金属

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6852187A JPS63234033A (ja) 1987-03-23 1987-03-23 高分子金属

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63234033A true JPS63234033A (ja) 1988-09-29

Family

ID=13376106

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6852187A Pending JPS63234033A (ja) 1987-03-23 1987-03-23 高分子金属

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63234033A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006027917A (ja) * 2004-07-12 2006-02-02 Shiseido Co Ltd Sp2混成軌道からなるシリコンオリゴマー
US7943721B2 (en) 2005-10-05 2011-05-17 Kovio, Inc. Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006027917A (ja) * 2004-07-12 2006-02-02 Shiseido Co Ltd Sp2混成軌道からなるシリコンオリゴマー
US7943721B2 (en) 2005-10-05 2011-05-17 Kovio, Inc. Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions
US8378050B2 (en) 2005-10-05 2013-02-19 Kovio, Inc. Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0077794A1 (en) Soluble polysilastyrene and method for preparation
JPS63234033A (ja) 高分子金属
US5407987A (en) Polycyclic aromatic group - pendant polysilanes and conductive polymers derived therefrom
US20110184141A1 (en) Polymer production process
JPH0859996A (ja) ポリシラン組成物
JP2669702B2 (ja) 環状ジシラニレン‐アセチレンの製法
JPH036232A (ja) 新規な重合体およびその用途
JP3218928B2 (ja) 導電性重合体の製造方法
JP2576312B2 (ja) ポリシランフィルム組成物及び架橋ポリシランフィルム
JP2956432B2 (ja) ピロリル基ペンダントポリシラン及びその製造方法
JP3287200B2 (ja) 導電性重合体の製造方法
JP2750335B2 (ja) ポリシラン化合物及びその用途
KR910008301B1 (ko) 전기 전도성 폴리머의 제조방법
JPH04141596A (ja) ポリシラン薄膜の製造方法
JP2929751B2 (ja) (ハロゲン化シリル置換)エチレン誘導体、ポリシラン化合物、その製造方法および用途
JP3060857B2 (ja) 多環式縮合芳香族基ペンダントポリシラン類及びその製造方法並びに導電性重合体
JPS6259632A (ja) 導電性ポリシランの製造方法
JPH04108785A (ja) ビチオフェン誘導体及びその製造方法
JP3229182B2 (ja) 導電性ポリシラン組成物およびその製造方法
JPH02227432A (ja) ポリシラン化合物、その製造方法及びその用途
EP0632086A2 (en) A method of producing a semiconducting material
JPS6187729A (ja) 共重合体
JP3275736B2 (ja) 高導電性重合体組成物及びその製造方法
JPH08245796A (ja) ピロリル基ペンダントポリシランの製造方法
JPH0762105A (ja) フラーレン−オルガノシラン共重合体