JPH036232A - 新規な重合体およびその用途 - Google Patents

新規な重合体およびその用途

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JPH036232A
JPH036232A JP14070189A JP14070189A JPH036232A JP H036232 A JPH036232 A JP H036232A JP 14070189 A JP14070189 A JP 14070189A JP 14070189 A JP14070189 A JP 14070189A JP H036232 A JPH036232 A JP H036232A
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JP
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group
bis
naphthalene
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polymer
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JP14070189A
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Mitsuo Ishikawa
石川 満夫
Joji Oshita
浄治 大下
Toru Yamanaka
徹 山中
Tetsuya Danno
團野 哲也
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Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はケイ素−ケイ素結合を主鎖に有する新規かつ有
用な重合体およびその用途に関する。さらに詳しくは、
本発明はケイ素−ケイ素結合と1゜4−ナフチレン基と
を交互に繰返し単位として含む新規かつ有用な重合体、
およびこの重合体からなる導電性材料に関する。
〔従来の技術〕
高分子の主鎖にSi −Si結合を有する重合体は。
感光性材料や絶縁材料として極めて有用な材料である。
この種の重合体としてはジャーナル・オブ・ポリマー・
サイエンス、ポリマー・レター・エデイジョン(J、 
Polymer Sci、、 Polymer Let
t。
Ed、)22.669〜671(1984)に下記式〔
■〕で表わされる構成単位よりなる重合体などが示され
ているが、有機溶媒に対する溶解性や塗膜を形成すると
きの均一性に問題を有し、実用に供されていない。
また、特開昭60−61744号公報には光および放射
線感応性有機高分子材料として、下記式(In)で表わ
される構成単位の繰り返しからなる高分子材料場合に限
定され、特に導電性材料として使用する場合には改善が
望まれている。
一方、従来から導電性を必要とする用途には専ら金属が
使用され、有機高分子化合物は一般には絶縁材料として
取扱われていた。ところが従来絶縁材料として認識され
ていた有機高分子化合物のうち、ケイ素原子を含む高分
子化合物が導電性を有していることが見出され、このよ
うなケイ素含有高分子化合物を導電性材料として使用し
ようとする試みがなされている。
例えば1981年には、ポリシランの一種であるメチル
フェニルポリシランに光照射することにより架橋構造を
形成させた化合物にドーパント(ドーピングエージェン
ト)を添加することにより、この化合物が高い導電率を
示すことが発見されている。ところが、ここで使用され
るドーパントとしては、AsF、のような化合物が使用
されている。そしてこのようなドーパントを使用するこ
とにより、上記のケイ素含有化合物は、0.55/cm
程度の導電率を示すことが開示されている(JACS、
 103.7352−7354)。
しかしながら、このようなケイ素含有化合物を導電性材
料として使用する場合には、ドーパントとして毒性の高
いAsF、を使用しなければならない。
また上記のようなケイ素含有化合物を製造する際、光照
射の制御が難しく、良好な特性を有する化合物を再現性
よく製造することが難しいといった問題もある。
また特開昭62−59632号公報にはAsF、を使用
せずに優れた導電性を示すマトリックス状のポリアルキ
ルシランが開示されている。ここではドーパントとして
ポリアルキルシラン中に硫酸イオンを含有させることに
より、導電性が賦与されたポリシランが開示されている
。このときのポリアルキルシランの導電率は104〜1
0 S/c璽程度である。
しかしながら、上記のようなポリシランからなる導電性
材料においても、導電率等の特性や製造条件などに改善
の余地を残している。
〔発明の課題〕
本発明の目的は、ケイ素−ケイ素結合およびナフチレン
結合を繰返し単位に有する新規かつ機能性高分子材料と
して有用な重合体を提供することである。
また本発明の他の目的は、上記のポリシラン化合物から
なる導電性材料を提供することである。
〔発明の構成〕
本発明は次の新規な重合体およびその用途である。
(1)下記一般式〔I〕で表わされるポリシラン化合物
からなることを特徴とする新規な重合体。
(2)下記−数式(13で表わされる重合体からなるこ
とを特徴とする導電性材料。
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立にアルキル基
、アリール基およびアラルキル基よりなる群がら選ばれ
た基を表わし、nは2以上の整数を表わす、) 本発明の重合体は上記一般式〔I〕で表わされるポリシ
ラン化合物であり、優れた導電性を有している。
一般式(Ilにおいて、R1、R2で表わされるアルキ
ル基としては、通常炭素数1〜10のアルキル基、好ま
しくは1〜6のアルキル基がある。このようなアルキル
基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基
、n−ブチル基、n−ヘキシル基なとの直鎖状アルキル
基; 1so−プロピル基、5ee−ブチル基、5ac
−アミル基などの2級アルキル基;ならびにtart−
ブチル基、tart−アミル基などの3級アルキル基な
どをあげることができる。
アリール基は少なくとも1個の芳香族環を有する1価の
基であり、この芳香族環は置換基を有していてもよい。
このようなアリール基の具体的な例としては、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、およびキシリル基などをあ
げることができる。これらのアリール基のうち、本発明
のポリシラン化合物を導電性材料として使用する場合に
は、フェニル基が好ましい6 またアラルキル基は少なくとも1個の芳香族環を有する
脂肪族炭化水素からなる1価の基であり、ここで含まれ
る芳香族環は置換基を有していてもよい。このようなア
ラルキル基の具体的な例としてはベンジル基、フェネチ
ル基、α−メチルベンジル基、トリル基などをあげるこ
とができる。
上記のようなR1、R2のうち、同時に存在する基とし
ては、重合体の有機溶媒に対する溶解性を考慮して選択
することができ、中でもR1およびR2がそれぞれメチ
ルおよびエチル、メチルおよびローヘキシル、メチルお
よびフェニルの組合せが好ましい。
また上記式(1)において、nは2以上の整数であり、
好ましくは10以上の整数である。
本発明の一般式[1)で示されるポリシラン化合物から
なる重合体の典型的なものをあげると、次のものがあげ
ら九る。
ポリ〔(テトラメチルジシラニレン−1,4−ナフチレ
ン〕、ポリ[(1,2−ジメチル−1,2−ジフェニル
ジシラニレン)−1,4−ナフチレン]、ポリ((1,
2−ジエチル−1,2−ジメチルジシラニレン)−1,
4−ナフチレン〕。
ポリ〔(テトラフェニルジシラニレン)−1,4−ナフ
チレン〕、ポリ((1,2−ジメチル−1,2−ジヘキ
シルジシラニレン)−1,4−ナフチレン) 上記のような本発明の重合体の物性は後の実施例に示す
通りである。
上記のような本発明のポリシラン化合物は、例えば次の
一般式(IV)で表わされる1、4−ビス(クロロシリ
ル)ナフタレン誘導体と、該誘導体中における塩素原子
と反応しつる量のアルカリ金属とを反応させることによ
り製造することができる。
(式中、R1およびR2は前記式(I)におけるR1お
よびR2と同じものを表わす。) 上記式(IV)で表わされるビス(クロロシリル)ナフ
タレン誘導体は、所定の置換基(RL、R2)を有する
モノクロロヒドロシランと1.4−ジブロモナフタレン
をマグネシウムを用いて反応させ、 ビス(ヒドロシリ
ル)ナフタレンとし、 さらにこれを四塩化炭素中でP
dCQ2またはBPO(ベンゾイルペルオキシド)存在
下加熱して得られる。
例えば上記のようにして得られる1、4−ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体の例としては、1゜4−ビス
(ジメチルクロロシリル)ナフタレン、 1.4−ビス
(メチルエチルクロロシリル)ナフタレン、1゜4−ビ
ス(メチルn−へキシルクロロシリル)ナフタレン、1
,4−ビス(メチルフェニルクロロシリル)ナフタレン
、1,4−ビス(メチルフェニルクロロシリル)ナフタ
レン、 1,4−ビス(プロピルフェニルクロロシリル
)ナフタレン、1.4−ビス(iso−プロピルフェニ
ルクロロシリル)ナフタレン、1,4〜ビス(ジフェニ
ルクロロシリル)ナフタレン、1,4−ビス(ナフチル
フェニルクロロシリル)ナフタレン、1,4−ビス(ト
リルフェニルクロロシリル)ナフタレン、1.4−ビス
(ベンジルフェニルクロロシリル)ナフタレン、1.4
−ビス(メチルベンジルクロロシリル)ナフタレンなど
をあげることができる。
本発明のポリシラン化合物を導電性材料として使用する
場合には、上記のような化合物のうち。
1.4−ビス(メチルエチルクロロシリル)ナフタレン
、1.4−ビス(メチルフェニルクロロシリル)ナフタ
レンを使用することが好ましい。
これらの化合物は通常は単独で使用されるが、例えば得
られるポリシラン化合物の導電性を調整することなどを
目的として、2種類以上の化合物を組合わせて使用する
こともできる。
本発明のポリシラン化合物の製造方法において、上記の
1,4−ビス(クロロシリル)ナフタレン誘導体と反応
させるアルカリ金属としては、金属ナトリラム、金属リ
チウム、金属カリウムなどをあげることができる。これ
らのアルカリ金属は、単独で使用することもできるし、
組合わせて使用することもできる。特に本発明において
は、金属ナトリウムを使用することが好ましい。
上記のビス(クロロシリル)ナフタレン誘導体とアルカ
リ金属との反応の例を次に示す。
上記式に示すように、アルカリ金属は少なくともビス(
クロロシリル)ナフタレン誘導体中の塩素原子と反応す
るような量で使用することが必要であり、ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体1モルに対して通常は2モル
以上、好ましくは2〜3モルの量で使用される。
このようなアルカリ金属は1通常アルカリ金属に対して
反応性を有しない溶媒中に分散させて、ディスバージJ
ンの形態で使用される。従って本発明の製造方法は2通
常液相で行われる。そして。
この場合に使用される溶媒は、上記のようにアルカリ金
属に対して反応性を有しない溶媒であり。
さらに原料である1、4−ビス(クロロシリル)ナフタ
レン誘導体に対しても反応性を有していない溶媒が使用
される。
このような溶媒の例としては、芳香族炭化水素系溶媒、
飽和炭化水素系溶媒、不飽和炭化水素系溶媒、エーテル
系溶媒などをあげることができ、特にトルエン、ベンゼ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素が好ましい、これら
の溶媒は、単独で、あるいは組合わせて使用することが
できる。また上記の反応は溶媒を用いずに行うこともで
きる。
上記の反応における反応温度は、通常−20〜200℃
、好ましくは50〜150℃範囲が好ましい。
また、この反応は減圧〜加圧のいず九の圧力条件で行う
ことができるが、反応圧力は通常減圧〜60kg/ad
、好ましくはO〜30kg/alf、さらに好ましくは
0〜5kg/atの範囲に設定するのが好ましい。
このような反応における反応時間は圧力および温度を考
慮して適宜設定できるが、通常5分〜100時間、好ま
しくは1〜10時間である。
さらにこのような反応は1通常不活性雰囲気下で行われ
る。そして、この反応は、通常アルゴン雰囲気下あるい
は窒素雰囲気下に行われる。
例えば上記のようにして得られた一数式CI〕で表わさ
れる本発明のポリシラン化合物は導電性を有するため、
導電性材料として使用することができる。
本発明のポリシラン化合物を導電性材料として使用する
場合、このポリシラン化合物にドーパントを添加して使
用するのが好ましい。
本発明のポリシラン化合物の導電率(σ)は通常10″
″aS−cll−1以下であるが、ドーパントを添加す
ることにより、その導電率(σ)は通常0.01〜IS
・Qm””程度になる。
本発明において使用することができるドーパントとして
は特に限定はなく、従来から使用されているエイ、SO
l、AsF、などを用いることができる他、SbF、な
ども使用することができる。これらのドーパントは、単
独で、あるいは組合わせて使用することができる。この
ようなドーパントのうち1本発明においては、SbF、
を使用することが好ましい。
上記のようなドーパントの使用方法には特に限定はなく
、例えばポリシラン化合物からなる膜を形成した後、こ
の膜にドーパントを塗布する方法など種々の方法を採用
することができる。
このようにドーパントを使用することにより、本発明の
ポリシラン化合物は良好な導電性を示すようになる。し
たがって、このポリシラン化合物を導電性材料として好
適に使用することができる。
本発明のポリシラン化合物は、上記のように導電性材料
として使用できる他、Si −Si結合の有する光機能
性を利用して、感光材料などとしても使用できる。
〔発明の効果〕
本発明は新規かつ有用なポリシラン化合物であり、利用
価値は大きい。
そしてこのポリシラン化合物は、主鎖中に5l−81結
合およびナフタレン環の両者を有するため、導電材料と
して有効に使用することができ、特にSbF、などのド
ーパントを使用することにより、優れた導電性を有する
ようになる。
〔実施例〕
次に本発明の実施例について説明する。
実施例1 14−ビスメチルエチルシリルナフタレンのへ威 還流冷却器、滴下ロートおよびかきまぜ機を取付けた3
00mn内容の三つロフラスコにクロロエチルメチルシ
ラン30g(0,2mol)、マグネシウム5.3g(
0,22mol)およびベンゼン、エーテル、■旺の1
:1:2の混合液100mQを入れ、これに同じ混合溶
媒100m12に1.4−ジブロムナフタレン30g(
0,1H5mol)を溶かした溶液を室温で2時間かけ
て滴下した。
滴下終了後10時間加熱還流した後加水分解を行った。
有機層を分離、水洗し、炭酸カリウムで乾燥し、減圧で
分留することにより 1.4−ビス(メチルエチルシリ
ル)ナフタレン20g (70%)を得た。
ここで得られた化合物の沸点は133〜135℃(2m
mHg)であった、また元素分析の結果を以下に示す。
元素分析結果 C0H□Si。
Ca1c’d  C70,51,H8,8BFound
  C70,39、H8,81還流冷却器を取付けた2
00+a12内容の二つロフラスコに1.4−ビス(メ
チルエチルシリル)ナフタレン28.0g (0,10
3mol)、塩化白金76mgおよび四塩化炭素150
1を入れて、これを10時間加熱還流した。
反応終了後、減圧蒸留により1,4−ビス(メチルエチ
ルクロロシリル)ナフタレン32.6g(93%)を得
た。
ここで得られた化合物の沸点は165〜167℃(2m
ml(g)であった。また元素分析の結果を以下に示す
元素分析結果 C1,H,、CQ、Si。
Ca1c’d   C56,28、H6,50Foun
d     C56,15、H6,4g還流冷却器、滴
下ロートおよびかきまぜ機を取付けた300mn内容の
三つロフラスコに金属ナトリウム5.1g(0,22m
ol)とトルエンLoom(lを入れ、加熱還流しなが
ら激しくかくはんを行い、ナトリウム分散を調製した。
これに1,4−ビス(メチルエチルクロロシリル)ナフ
タレン25g(0,073履o1)をトルエン100m
+2に溶かした溶液を還流下1.5時間で滴下し。
滴下了終後10時間加熱還流した。反応終了後、過剰の
ナトリウムを酢酸−エタノールの1〜1混合溶液で分解
したのち加水分解を行った。有機層を分離、水洗して炭
酸カルシウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた固体
をエタノールから再沈澱させることにより、14.3g
 (72%)の淡黄色の固体ポリマーとしてポリ((1
,2−ジメチル−1,2−ジエチルジシラニレン)−1
,4−ナフチレン〕(式(I)中R1=メチル基、R1
=エチル基)を得た。
ここで得られたポリシラン化合物の融点は104〜10
9℃であった。
このポリシラン化合物の機器分析の結果を以下に示す。
1H核磁気共鳴スペクトルCCDCQ、溶媒中で測定、
δppm) 0.44 (6H,brs、 MaSi)、0.6〜1
.32 (IOH,rn。
C,H,SL)、6.62〜8.16 (6H,ts、
 ring protons)13C核磁気共鳴スペク
トル(CDCII、溶媒中で測定、δpp■) −4,3(MeSi)、7.1.8.1 (C)l、C
H,Si)、 124.5゜129.3,133.2.
137.1.137.9 (ring carbons
)実施例2 14−ビスメチルフェニルシリルナフタレンのハ 反応容器にマグネシウム7.1gを入れ乾燥させた後T
HF 50−を加えた。これに1,4−ジブロモナフタ
レン31.0gとクロロメチルフェニルシラン46gを
50社のT)IFに溶解したものを滴下した。
終夜かくはんの後加水分解し、エーテル抽出を行った。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、減圧蒸留を
行って1,4−ビス(メチルフェニルシリル)ナフタレ
ンを14 、5g (収率36%)得た。
ここで得られた化合物の機器分析の結果を以下に示す。
1H核磁気共鳴スペクトル(Cs Ds溶媒中で測定、
δppm) 0.73 (6H,d、 J=3.6)1z、 Ne5
i)、5.25(2H19、J=3.6Hz、 H3i
)、7.1〜7.9 (16H,m、 ringpro
tons) 赤外吸収スペクトル v Sj、−H2124c+a−”  シMe−3i 
1252c+a−1マススペクトル m/e=368(
M”)元素分析結果 C24H24Si2 Calc’d   C78,20,H6,56Foun
d   C77,90、H6,49塩化パラジウム86
Hに四塩化炭素50mMを加え、これに1,4−ビス(
メチルフェニルシリル)ナフタレン27.4gを四塩化
炭素200m12に溶解したものを滴下した。3時間リ
フラックスさせた後、室温で終夜かくはんし、溶媒を留
去し、減圧蒸留を行ない1.4−ビス(メチルフェニル
クロロシリル)ナフタレン11.0g(収率64%)を
得た。
この化合物の沸点は215〜220℃(0,1mmHg
)で融点は150〜153℃であった。
更にこの化合物の機器分析結果を以下に示す。
1H核磁気共鳴スペクトル(CCQ、溶媒中で測定、δ
pp講) 0.72 (6)1. S、 MeSi)、6.7〜7
.7 (16H,m、 ringprotons) 赤外収吸スペクトル v Me−5i 1258cm−” マススペクトル tale = 436 (M”)元素
分析 C24H,、Si、Cら Ca1c’d   C65,89、H5,06Foun
d   C65,78、H4,9114−ビスメチルフ
ェニルクロロシリルナフタ22力先1介 ナトリウム0.3gを15++Qのトルエンリフラック
ス中で激しくかくはんし、ディスバージョンにした後室
温まで冷却した。1,4−ビス(メチルフェニルクロロ
シリル)ナフタレン2.Ogを固体のまま加え、8時間
リフラックスかくはんした後、室温で放冷した。酢酸、
エタノール、水を順に用いてナトリウムを処理し、ベン
ゼンで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶液
を濃縮し、エタノール中に滴下して再沈を行った。得ら
れた固体をろ過。
乾燥し、ポリ((L、2−ジメチル−1,2−ジフェニ
ルジシラニレン)−1,4−ナフチレン〕(式(1〕中
R”=メチル基、R2=フェニル基) 1.1g(収率
53%)を得た。
ここで得られたポリシラン化合物の融点は183〜20
1℃であった。このポリシラン化合物の機器分析結果を
以下に示す。
1H核磁気共鳴スペクトル(CCU、溶媒中で測定、δ
ppm) 0.8 (6H,brs、 MsSi)、6.3〜8.
1(16H,m、 ringprotons) ″3C核磁気共鳴スペクトル(cocu、溶媒中で測定
、δppm) −2,25、−1,66(NeSi)、124.67.
127.76.128.79.129.10,129.
98,132.38,132.69゜135.24.1
36.86.137.19  (ring carbo
ns)赤外吸収スペクトル v Me−Si 1252cI!−’ 実施例3 実施例1で得られたポリジシラニレンナフチレン(式(
1):R’=メチル基、R1=エチル基)  1gを1
0m12のジクロロエタンに溶解した。この溶液を用い
てスピンコード法により絶縁基板上に6500人の厚さ
の膜を形成した。
この膜にSbF、を気相にて供給してドーピングを行っ
た後、膜の導電性を測定した。導電性は四探針法を採用
して、膜に電圧を印加して流れる電流および電圧を測定
することにより評価した。この結果、この膜の導電率は
(σ)は0.049S/c+oであった。
実施例4 実施例2で得られたポリジシラニレンナフチレン(式(
13:R’=メチル基、R2=フェニル基)0.1gを
ジクロロエタン1mflおよびトルエン1tQの混合溶
液2mQに溶解した。この溶液を用いてスピンコード法
により絶縁基板上に2700人の厚さの膜を形成した。
この膜に実施例3と同様にSbF、をドーピングして得
られた導電率(σ)は2.86S/c+aであつた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 下記一般式〔 I 〕で表わされるポリシラン化
    合物からなることを特徴とする新規な重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は、それぞれ独立にアルキ
    ル基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選
    ばれた基を表わし、nは2以上の整数を表わす。)
  2. (2) 下記一般式〔 I 〕で表わされる重合体からな
    ることを特徴とする導電性材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は、それぞれ独立にアルキ
    ル基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選
    ばれた基を表わし、nは2以上の整数を表わす。)
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0820882A (ja) * 1994-07-05 1996-01-23 Natl Sci Council イリジウム/パラジウム酸化物メッキ層を有するチタニウム電極の製法
EP0781079A1 (en) * 1994-09-06 1997-06-25 Toshiba Silicone Co., Ltd. Method of fabricating electronic circuit
JP2015117222A (ja) * 2013-12-20 2015-06-25 住友化学株式会社 臭素化合物の製造方法
CN105461744A (zh) * 2014-09-12 2016-04-06 中国科学院上海高等研究院 一种含氟萘乙基有机硅单体及其制备方法和用途

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0820882A (ja) * 1994-07-05 1996-01-23 Natl Sci Council イリジウム/パラジウム酸化物メッキ層を有するチタニウム電極の製法
EP0781079A1 (en) * 1994-09-06 1997-06-25 Toshiba Silicone Co., Ltd. Method of fabricating electronic circuit
EP0781079A4 (en) * 1994-09-06 1999-03-24 Toshiba Silicone METHOD FOR PRODUCING AN ELECTRONIC CIRCUIT
JP2015117222A (ja) * 2013-12-20 2015-06-25 住友化学株式会社 臭素化合物の製造方法
CN105461744A (zh) * 2014-09-12 2016-04-06 中国科学院上海高等研究院 一种含氟萘乙基有机硅单体及其制备方法和用途

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