JP2956432B2 - ピロリル基ペンダントポリシラン及びその製造方法 - Google Patents
ピロリル基ペンダントポリシラン及びその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、置換基中にピロリル基
を有し、光導電性材料や導電性材料として有用なポリシ
ラン及びその製造方法に関する。
を有し、光導電性材料や導電性材料として有用なポリシ
ラン及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、ポリシランはマイクロエレクトロニクスの分野にお
けるレジスト材、オプトエレクトロニクスにおける光導
電体として有用性が認められている。
り、ポリシランはマイクロエレクトロニクスの分野にお
けるレジスト材、オプトエレクトロニクスにおける光導
電体として有用性が認められている。
【０００３】かかるポリシランは、当初その置換基とし
てメチル基に代表されるアルキル基やフェニル基を有す
るものが主であった（Ｒ．Ｗｅｓｔ ｅｔ ａｌ．，
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０３，７３５２（１
９８１））。
てメチル基に代表されるアルキル基やフェニル基を有す
るものが主であった（Ｒ．Ｗｅｓｔ ｅｔ ａｌ．，
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０３，７３５２（１
９８１））。
【０００４】その後、置換基として水素、反応性の炭素
−炭素二重結合を含有する置換基を持つポリシランや、
ハロゲン化アルキル基を有するポリシランが合成される
ようになり、ポリシランを架橋することが可能になるな
ど、応用への期待が高くなった（Ｒ．Ｗｅｓｔ ｅｔ
ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｎ．，３０
０，３２７（１９８６）。
−炭素二重結合を含有する置換基を持つポリシランや、
ハロゲン化アルキル基を有するポリシランが合成される
ようになり、ポリシランを架橋することが可能になるな
ど、応用への期待が高くなった（Ｒ．Ｗｅｓｔ ｅｔ
ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｎ．，３０
０，３２７（１９８６）。
【０００５】近年、その他の置換基として、シリル基を
導入したポリシラン（特開昭６３−１２６３６号公
報）、フェノール性の置換基を導入し、レジスト材料へ
の応用に関しても報告されている（特開昭６３−１１３
０２１号公報）。
導入したポリシラン（特開昭６３−１２６３６号公
報）、フェノール性の置換基を導入し、レジスト材料へ
の応用に関しても報告されている（特開昭６３−１１３
０２１号公報）。
【０００６】また、本出願人は、ポリシランの光導電性
及び導電性に着目し、カルバゾリル基を含有する置換基
をポリシランに導入することにより、光分解性を抑制し
たポリシランを提案した（特開平５−４３７０２号公
報）。
及び導電性に着目し、カルバゾリル基を含有する置換基
をポリシランに導入することにより、光分解性を抑制し
たポリシランを提案した（特開平５−４３７０２号公
報）。
【０００７】しかしながら、より導電性等を高め、ポリ
シランの応用性を拡大したポリシランが要望されてい
る。
シランの応用性を拡大したポリシランが要望されてい
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記要望に応えるべく鋭意検討を重ねた結果、下記一般式
（３）で示されるジオルガノハロゲノシランと下記一般
式（４）で示されるピロリル基含有ジハロゲノシランと
を不活性溶媒中でアルカリ金属の存在下に反応させるこ
とによって、下記一般式（１）で示される新規なピロリ
ル基ペンダントポリシランが得られること、さらにこの
ピロリル基含有のポリシランは、電気伝導度が従来のポ
リシランより向上していると共に、ピロリル基自体がピ
ロール環の重合性を有するため、この重合性を利用して
ポリシラン含有架橋性組成物の原料とすることができる
ことを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
記要望に応えるべく鋭意検討を重ねた結果、下記一般式
（３）で示されるジオルガノハロゲノシランと下記一般
式（４）で示されるピロリル基含有ジハロゲノシランと
を不活性溶媒中でアルカリ金属の存在下に反応させるこ
とによって、下記一般式（１）で示される新規なピロリ
ル基ペンダントポリシランが得られること、さらにこの
ピロリル基含有のポリシランは、電気伝導度が従来のポ
リシランより向上していると共に、ピロリル基自体がピ
ロール環の重合性を有するため、この重合性を利用して
ポリシラン含有架橋性組成物の原料とすることができる
ことを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
【０００９】
【化３】 ［但し、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素
原子、炭素数１〜１２の一価炭化水素基又は下記式
（２） （但し、式中Ｒ５、Ｒ６は水素原子、アルキル基又はア
リール基であり、ｐは０〜１２の整数である。）で示さ
れるピロリル基含有一価炭化水素基であるが、Ｒ３、Ｒ
４の少なくとも一つは式（２）で示されるピロリル基含
有一価炭化水素基であり、ｋ、ｍは０≦ｋ＜１、０＜ｍ
≦１、ｋ＋ｍ＝１、ｎは６以上の整数である。］
原子、炭素数１〜１２の一価炭化水素基又は下記式
（２） （但し、式中Ｒ５、Ｒ６は水素原子、アルキル基又はア
リール基であり、ｐは０〜１２の整数である。）で示さ
れるピロリル基含有一価炭化水素基であるが、Ｒ３、Ｒ
４の少なくとも一つは式（２）で示されるピロリル基含
有一価炭化水素基であり、ｋ、ｍは０≦ｋ＜１、０＜ｍ
≦１、ｋ＋ｍ＝１、ｎは６以上の整数である。］
【００１０】従って、本発明は、上記一般式（１）で示
されるピロリル基ペンダントポリシラン、及び上記一般
式（３）で示されるジオルガノハロゲノシランと上記一
般式（４）で示されるピロリル基含有ジハロゲノシラン
とを不活性溶媒中でアルカリ金属の存在下に反応させる
ことを特徴とする上記ピロリル基ペンダントポリシラン
の製造方法を提供する。
されるピロリル基ペンダントポリシラン、及び上記一般
式（３）で示されるジオルガノハロゲノシランと上記一
般式（４）で示されるピロリル基含有ジハロゲノシラン
とを不活性溶媒中でアルカリ金属の存在下に反応させる
ことを特徴とする上記ピロリル基ペンダントポリシラン
の製造方法を提供する。
【００１１】以下、本発明について更に詳しく説明する
と、本発明のポリシランは、上述したように下記一般式
（１）で示されるものである。
と、本発明のポリシランは、上述したように下記一般式
（１）で示されるものである。
【００１２】
【化４】
【００１３】上記式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれ
ぞれ水素原子又はアルキル基、アリール基、アラルキル
基等の炭素数１〜１２の一価炭化水素基、下記式（２）
で示されるピロリル基含有一価炭化水素基などが挙げら
れるが、Ｒ３、Ｒ４のうち少なくとも１つは、下記式
（２）で示されるピロリル基を含有する一価炭化水素基
である。
ぞれ水素原子又はアルキル基、アリール基、アラルキル
基等の炭素数１〜１２の一価炭化水素基、下記式（２）
で示されるピロリル基含有一価炭化水素基などが挙げら
れるが、Ｒ３、Ｒ４のうち少なくとも１つは、下記式
（２）で示されるピロリル基を含有する一価炭化水素基
である。
【００１４】
【化５】 （但し、式中Ｒ5、Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリ
ール基であり、ｐは０〜１２の整数である。）
ール基であり、ｐは０〜１２の整数である。）
【００１５】なお、アルキル基としては炭素数１〜１２
のものが挙げられるが、特に低級アルキル基が好まし
く、またアリール基は炭素数６〜１２のものが挙げら
れ、フェニル基等が例示される。
のものが挙げられるが、特に低級アルキル基が好まし
く、またアリール基は炭素数６〜１２のものが挙げら
れ、フェニル基等が例示される。
【００１６】また、ｋ、ｍは０≦ｋ＜１、０＜ｍ≦１、
ｋ＋ｍ＝１であり、重合度を示すｎは６以上の整数であ
り、本発明のピロリル基ペンダントポリシラン類の特性
を十分に発揮させるためには重合度は高いものの方が好
ましい。
ｋ＋ｍ＝１であり、重合度を示すｎは６以上の整数であ
り、本発明のピロリル基ペンダントポリシラン類の特性
を十分に発揮させるためには重合度は高いものの方が好
ましい。
【００１７】本発明の式（１）のポリシラン類は、上述
したように下記一般式（３）で示されるジオルガノハロ
ゲノシランと下記一般式（４）で示されるピロリル基含
有ジハロゲノシランとを不活性溶媒中でアルカリ金属の
存在下に反応させることによって製造することができ
る。
したように下記一般式（３）で示されるジオルガノハロ
ゲノシランと下記一般式（４）で示されるピロリル基含
有ジハロゲノシランとを不活性溶媒中でアルカリ金属の
存在下に反応させることによって製造することができ
る。
【００１８】 Ｒ1Ｒ2ＳｉＸ2 …（３） Ｒ3Ｒ4ＳｉＸ2 …（４） （但し、式中Ｒ1〜Ｒ4は上記と同様の意味を示し、Ｘは
ハロゲン原子である。）
ハロゲン原子である。）
【００１９】ここで、出発原料の一般式（４）で示され
るピロリル基含有ジハロゲノシランは、例えばＮ−アル
ケニルピロールと（オルガノ）ジハロゲノヒドロシラン
とをモル比１〜１．５の割合で混合し、付加反応させる
ことにより合成することができる。この場合、付加反応
は塩化白金酸等の付加反応触媒の存在下で行うことが好
ましい。その反応条件は特に制限されないが、０〜１０
０℃で１〜５時間とすることが望ましい。なお、このピ
ロリル基含有ジハロゲノシランは、モノペンダントタイ
プあるいはジペンダントタイプのいずれでも良い。
るピロリル基含有ジハロゲノシランは、例えばＮ−アル
ケニルピロールと（オルガノ）ジハロゲノヒドロシラン
とをモル比１〜１．５の割合で混合し、付加反応させる
ことにより合成することができる。この場合、付加反応
は塩化白金酸等の付加反応触媒の存在下で行うことが好
ましい。その反応条件は特に制限されないが、０〜１０
０℃で１〜５時間とすることが望ましい。なお、このピ
ロリル基含有ジハロゲノシランは、モノペンダントタイ
プあるいはジペンダントタイプのいずれでも良い。
【００２０】上記式（３）、（４）のハロゲノシラン類
の反応に用いられるアルカリ金属としては、例えばリチ
ウム、カリウム、カリウムナトリウム合金、ナトリウム
等を用いることができるが、中でもナトリウムが好まし
く用いられる。このアルカリ金属の添加量は、式（３）
及び式（４）のジハロゲノシラン類の合計使用量１モル
に対して２〜３モル、特に２〜２．１モルの範囲とする
ことが好ましい。添加量が２モルに満たないと反応が十
分に進まない場合がある。
の反応に用いられるアルカリ金属としては、例えばリチ
ウム、カリウム、カリウムナトリウム合金、ナトリウム
等を用いることができるが、中でもナトリウムが好まし
く用いられる。このアルカリ金属の添加量は、式（３）
及び式（４）のジハロゲノシラン類の合計使用量１モル
に対して２〜３モル、特に２〜２．１モルの範囲とする
ことが好ましい。添加量が２モルに満たないと反応が十
分に進まない場合がある。
【００２１】また、不活性溶媒として具体的には、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素や、デカン、ドデカ
ン、テトラリン等の脂肪族炭化水素が好適に使用され、
その使用量は式（３）と式（４）のジハロゲノシラン類
の合計使用量に対して１〜１０倍量、特に２〜５倍量と
することが望ましい。
エン、キシレン等の芳香族炭化水素や、デカン、ドデカ
ン、テトラリン等の脂肪族炭化水素が好適に使用され、
その使用量は式（３）と式（４）のジハロゲノシラン類
の合計使用量に対して１〜１０倍量、特に２〜５倍量と
することが望ましい。
【００２２】上記式（３）及び式（４）のジハロゲノシ
ラン類とアルカリ金属との反応条件は適宜調整できる
が、１００℃以上の温度条件下で１〜６時間行うことが
望ましい。
ラン類とアルカリ金属との反応条件は適宜調整できる
が、１００℃以上の温度条件下で１〜６時間行うことが
望ましい。
【００２３】而して、本発明の製造方法では、不活性溶
媒にアルカリ金属を添加し、加熱、撹拌を行った後、式
（３）及び式（４）のジハロゲノシラン類の混合物を滴
下して行うことができ、この反応は発熱的に進行し、ア
ルカリ金属が消費されたところで反応が終了する。
媒にアルカリ金属を添加し、加熱、撹拌を行った後、式
（３）及び式（４）のジハロゲノシラン類の混合物を滴
下して行うことができ、この反応は発熱的に進行し、ア
ルカリ金属が消費されたところで反応が終了する。
【００２４】この場合、式（３）及び（４）のジハロゲ
ノシラン類を用いることにより、一次元のポリマー又は
環状体が生成するが、Ｊ．Ｗ．ＷｅｉｄｍａｎらがＪ．
Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（１９８８）．１１０，２
３４２で報告しているように三官能性のトリハロシラン
類を添加しても良く、これによってネットワーク状のポ
リシラン類を得ることもできる。更に、予め主鎖骨格に
炭素−炭素不飽和結合を含有するハロシラン類を用いる
ことも可能であり、これによってポリシラン骨格中に炭
素−炭素不飽和結合を導入することもできる。
ノシラン類を用いることにより、一次元のポリマー又は
環状体が生成するが、Ｊ．Ｗ．ＷｅｉｄｍａｎらがＪ．
Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（１９８８）．１１０，２
３４２で報告しているように三官能性のトリハロシラン
類を添加しても良く、これによってネットワーク状のポ
リシラン類を得ることもできる。更に、予め主鎖骨格に
炭素−炭素不飽和結合を含有するハロシラン類を用いる
ことも可能であり、これによってポリシラン骨格中に炭
素−炭素不飽和結合を導入することもできる。
【００２５】反応終了後は、過剰のアルカリ金属をアル
コールで失活させた後、有機層を取り出してアセトン等
から沈殿させ、本発明の式（１）のポリシランを得るこ
とができる。
コールで失活させた後、有機層を取り出してアセトン等
から沈殿させ、本発明の式（１）のポリシランを得るこ
とができる。
【００２６】このようにして得られる本発明のピロリル
基ペンダントポリシラン類は、通常のメチルフェニルポ
リシランに比べて電気伝導度が高く、例えば［（Ｍｅ2
Ｓｉ）0.75（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.25］
n（但し、式中Ｐｙはピロリル基、Ｍｅはメチル基を示
す。以下同様。）のヨウ素をドーピングしたときの電気
伝導度は４．５×１０-3Ｓ／ｃｍであり、ドーピングし
た（ＭｅＰｈＳｉ）n（但し、式中、Ｐｈはフェニル基
を示す。以下同様。）の電気伝導度が１０-6Ｓ／ｃｍで
あるのに対して非常に電気伝導度が高い。また、ピロー
ル環の重合性を利用して、ポリシラン含有架橋性組成物
の原料とすることもできる。そのため、光導電性材料及
び導電性材料等に好適に応用することがてきる。
基ペンダントポリシラン類は、通常のメチルフェニルポ
リシランに比べて電気伝導度が高く、例えば［（Ｍｅ2
Ｓｉ）0.75（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.25］
n（但し、式中Ｐｙはピロリル基、Ｍｅはメチル基を示
す。以下同様。）のヨウ素をドーピングしたときの電気
伝導度は４．５×１０-3Ｓ／ｃｍであり、ドーピングし
た（ＭｅＰｈＳｉ）n（但し、式中、Ｐｈはフェニル基
を示す。以下同様。）の電気伝導度が１０-6Ｓ／ｃｍで
あるのに対して非常に電気伝導度が高い。また、ピロー
ル環の重合性を利用して、ポリシラン含有架橋性組成物
の原料とすることもできる。そのため、光導電性材料及
び導電性材料等に好適に応用することがてきる。
【００２７】
【発明の効果】本発明のピロリル基ペンダントポリシラ
ン類は、電気伝導度が高く、ポリシラン類の導電性材料
等への応用範囲を広げるものである。
ン類は、電気伝導度が高く、ポリシラン類の導電性材料
等への応用範囲を広げるものである。
【００２８】また、本発明の製造方法によれば、かかる
ピロリル基ペンダントポリシラン類を工業的に有利に製
造することができる。
ピロリル基ペンダントポリシラン類を工業的に有利に製
造することができる。
【００２９】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に示すが、本発明は下記の実施例に制限されるもので
はない。
的に示すが、本発明は下記の実施例に制限されるもので
はない。
【００３０】［実施例１］まず、３−（Ｎ−ピロリル）
プロピルメチルジクロロシランを次のように合成した。
窒素雰囲気下、Ｎ−アリルピロール１５．６ｇ（１４６
ミリモル）、トルエン３０ｇ、塩化白金酸／ブタノール
溶液０．１ｇ（白金含有量２．０重量％）をフラスコに
納め、７５℃に加熱し、撹拌を開始した。メチルジクロ
ロシラン２０．７ｇ（１８０ミリモル）を４０分で滴下
した。加熱撹拌を２時間行った後、蒸留により下記式で
示される３−（Ｎ−ピロリル）プロピルメチルジクロロ
シラン２７．８ｇ（収率８６％）を得た。質量分析を行
ったところ、分子イオン質量の２２１が確認され、目的
物が得られたことが確認された。
プロピルメチルジクロロシランを次のように合成した。
窒素雰囲気下、Ｎ−アリルピロール１５．６ｇ（１４６
ミリモル）、トルエン３０ｇ、塩化白金酸／ブタノール
溶液０．１ｇ（白金含有量２．０重量％）をフラスコに
納め、７５℃に加熱し、撹拌を開始した。メチルジクロ
ロシラン２０．７ｇ（１８０ミリモル）を４０分で滴下
した。加熱撹拌を２時間行った後、蒸留により下記式で
示される３−（Ｎ−ピロリル）プロピルメチルジクロロ
シラン２７．８ｇ（収率８６％）を得た。質量分析を行
ったところ、分子イオン質量の２２１が確認され、目的
物が得られたことが確認された。
【００３１】
【化６】
【００３２】次に、下記のように［（ＭｅＰｈＳｉ）
0.83（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.17］nを合成し
た。
0.83（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.17］nを合成し
た。
【００３３】窒素雰囲気下、金属ナトリウム３．０ｇ
（１３０ミリモル）にトルエン３０ｇを加え、１１０℃
に昇温し、激しく撹拌してナトリウムディスパージョン
を調製した。
（１３０ミリモル）にトルエン３０ｇを加え、１１０℃
に昇温し、激しく撹拌してナトリウムディスパージョン
を調製した。
【００３４】このディスパージョンに３−（Ｎ−ピロリ
ル）プロピルメチルジクロロシラン２．２ｇ（１０ミリ
モル）とメチルフェニルジクロロシラン９．５５ｇ（５
０ミリモル）を１５分間で加え、１１０℃で４時間撹拌
した。反応終了後、室温まで冷却し、残存するナトリウ
ムを失活させるため、メタノールを約５ｍｌ滴下し、更
に水洗を行った。次に、有機層を取り出し、塩化カルシ
ウム上で乾燥後、反応混合物を濃縮した。得られた粘稠
物をアセトン１００ｍｌに加え、ポリマーを沈殿させ
た。沈殿物をろ別し、真空乾燥することにより、上記式
で示されるピロリルペンダントポリシラン０．５ｇを白
色沈殿として得た。
ル）プロピルメチルジクロロシラン２．２ｇ（１０ミリ
モル）とメチルフェニルジクロロシラン９．５５ｇ（５
０ミリモル）を１５分間で加え、１１０℃で４時間撹拌
した。反応終了後、室温まで冷却し、残存するナトリウ
ムを失活させるため、メタノールを約５ｍｌ滴下し、更
に水洗を行った。次に、有機層を取り出し、塩化カルシ
ウム上で乾燥後、反応混合物を濃縮した。得られた粘稠
物をアセトン１００ｍｌに加え、ポリマーを沈殿させ
た。沈殿物をろ別し、真空乾燥することにより、上記式
で示されるピロリルペンダントポリシラン０．５ｇを白
色沈殿として得た。
【００３５】ＧＰＣ分析により、このポリマーの重量平
均分子量はポリスチレン換算で８８００であった。ま
た、ポリシランに由来する紫外線吸収極大（λmax＝３
３６ｎｍ）が確認された。
均分子量はポリスチレン換算で８８００であった。ま
た、ポリシランに由来する紫外線吸収極大（λmax＝３
３６ｎｍ）が確認された。
【００３６】［実施例２］下記のように［（ＭｅＰｈＳ
ｉ）0.91（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.09］nを合
成した。
ｉ）0.91（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.09］nを合
成した。
【００３７】窒素雰囲気下、金属ナトリウム３．０ｇ
（１３０ミリモル）にトルエン３０ｇを加え、１１０℃
に昇温し、激しく撹拌してナトリウムディスパージョン
を調製した。
（１３０ミリモル）にトルエン３０ｇを加え、１１０℃
に昇温し、激しく撹拌してナトリウムディスパージョン
を調製した。
【００３８】このディスパージョンに３−（Ｎ−ピロリ
ル）プロピルメチルジクロロシラン１．１ｇ（５ミリモ
ル）とメチルフェニルジクロロシラン９．５５ｇ（５０
ミリモル）を１０分間で加え、１１０℃で４時間撹拌し
た。反応終了後、室温まで冷却し、残存するナトリウム
を失活させるため、メタノールを約５ｍｌ滴下し、更に
水洗を行った。次に、有機層を取り出し、塩化カルシウ
ム上で乾燥後、反応混合物を濃縮した。得られた粘稠物
をアセトン１００ｍｌに加え、ポリマーを沈殿させた。
沈殿物をろ別し、真空乾燥することにより、上記式で示
されるピロリルペンダントポリシラン０．８４ｇを白色
沈殿として得た。
ル）プロピルメチルジクロロシラン１．１ｇ（５ミリモ
ル）とメチルフェニルジクロロシラン９．５５ｇ（５０
ミリモル）を１０分間で加え、１１０℃で４時間撹拌し
た。反応終了後、室温まで冷却し、残存するナトリウム
を失活させるため、メタノールを約５ｍｌ滴下し、更に
水洗を行った。次に、有機層を取り出し、塩化カルシウ
ム上で乾燥後、反応混合物を濃縮した。得られた粘稠物
をアセトン１００ｍｌに加え、ポリマーを沈殿させた。
沈殿物をろ別し、真空乾燥することにより、上記式で示
されるピロリルペンダントポリシラン０．８４ｇを白色
沈殿として得た。
【００３９】ＧＰＣ分析により、このポリマーの重量平
均分子量はポリスチレン換算で６４００であった。ま
た、ポリシランに由来する紫外線吸収極大（λmax＝３
３７ｎｍ）が確認された。
均分子量はポリスチレン換算で６４００であった。ま
た、ポリシランに由来する紫外線吸収極大（λmax＝３
３７ｎｍ）が確認された。
【００４０】［実施例３］下記のように［（Ｍｅ2Ｐｈ
Ｓｉ）0.75（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.25］nを
合成した。
Ｓｉ）0.75（Ｐｙ−（ＣＨ2）3−ＳｉＭｅ）0.25］nを
合成した。
【００４１】窒素雰囲気下、金属ナトリウム２．３４ｇ
（１００ミリモル）にトルエン２０ｇを加え、１１０℃
に昇温し、激しく撹拌してナトリウムディスパージョン
を調製した。
（１００ミリモル）にトルエン２０ｇを加え、１１０℃
に昇温し、激しく撹拌してナトリウムディスパージョン
を調製した。
【００４２】このディスパージョンに３−（Ｎ−ピロリ
ル）プロピルメチルジクロロシラン２．１ｇ（１０ミリ
モル）とジメチルジクロロシラン３．８７ｇ（３０ミリ
モル）を１５分間で加え、１１０℃で５時間撹拌した。
反応終了後、室温まで冷却し、残存するナトリウムを失
活させるため、メタノールを約５ｍｌ滴下し、更に水洗
を行った。次に、有機層を取り出し、塩化カルシウム上
で乾燥後、反応混合物を濃縮した。得られた粘稠物をア
セトン１００ｍｌに加え、ポリマーを沈殿させた。沈殿
物をろ別し、真空乾燥することにより、上記式で示され
るピロリルペンダントポリシラン０．４ｇを白色沈殿と
して得た。
ル）プロピルメチルジクロロシラン２．１ｇ（１０ミリ
モル）とジメチルジクロロシラン３．８７ｇ（３０ミリ
モル）を１５分間で加え、１１０℃で５時間撹拌した。
反応終了後、室温まで冷却し、残存するナトリウムを失
活させるため、メタノールを約５ｍｌ滴下し、更に水洗
を行った。次に、有機層を取り出し、塩化カルシウム上
で乾燥後、反応混合物を濃縮した。得られた粘稠物をア
セトン１００ｍｌに加え、ポリマーを沈殿させた。沈殿
物をろ別し、真空乾燥することにより、上記式で示され
るピロリルペンダントポリシラン０．４ｇを白色沈殿と
して得た。
【００４３】ＧＰＣ分析により、このポリマーの重量平
均分子量はポリスチレン換算で１９０００であった。ま
た、ポリシランに由来する紫外線吸収極大（λmax＝３
１６ｎｍ）が確認された。
均分子量はポリスチレン換算で１９０００であった。ま
た、ポリシランに由来する紫外線吸収極大（λmax＝３
１６ｎｍ）が確認された。
【００４４】［参考例］実施例１と３で得られたピロリ
ル基ペンダントポリシランにヨウ素をドーピングし、そ
の電気伝導度を測定した。結果を表１に示す。なお、比
較としてメチルフェニルポリシランの結果を併記した。
ル基ペンダントポリシランにヨウ素をドーピングし、そ
の電気伝導度を測定した。結果を表１に示す。なお、比
較としてメチルフェニルポリシランの結果を併記した。
【００４５】
【表１】
フロントページの続き (72)発明者 福島 基夫 神奈川県川崎市高津区坂戸３丁目２番１ 号 信越化学工業株式会社 コーポレー トリサーチセンター内 (56)参考文献 特開 平６−93253（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08G 77/60
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で示されるピロリル基
ペンダントポリシラン。 【化１】 ［但し、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素
原子、炭素数１〜１２の一価炭化水素基又は下記式
（２） （但し、式中Ｒ５、Ｒ６は水素原子、アルキル基又はア
リール基であり、ｐは０〜１２の整数である。）で示さ
れるピロリル基含有一価炭化水素基であるが、Ｒ３、Ｒ
４の少なくとも一つは式（２）で示されるピロリル基含
有一価炭化水素基であり、ｋ、ｍは０≦ｋ＜１、０＜ｍ
≦１、ｋ＋ｍ＝１、ｎは６以上の整数である。］ - 【請求項２】 下記一般式（３） Ｒ１Ｒ２ＳｉＸ２ …（３） （但し、式中Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ水素原子又は炭素数
１〜１２の一価炭化水素基であり、Ｘはハロゲン原子で
ある。）で示されるジオルガノハロゲノシランと、下記
一般式（４） Ｒ３Ｒ４ＳｉＸ２ …（４） 【化２】［但し、式中Ｒ３、Ｒ４は水素原子、炭素数１
〜１２の一価炭化水素基又は下記式（２） （但し、式中Ｒ５、Ｒ６は水素原子、アルキル基又はア
リール基であり、ｐは０〜１２の整数である。）で示さ
れるピロリル基含有一価炭化水素基であるが、Ｒ３、Ｒ
４の少なくとも一つは式（２）で示されるピロリル基含
有一価炭化水素基であり、Ｘはハロゲン原子である。］
で示されるピロリル基含有ジハロゲノシランとを不活性
溶媒中でアルカリ金属の存在下に反応させることを特徴
とする請求項１記載のピロリル基ペンダントポリシラン
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22216293A JP2956432B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | ピロリル基ペンダントポリシラン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22216293A JP2956432B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | ピロリル基ペンダントポリシラン及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753721A JPH0753721A (ja) | 1995-02-28 |
| JP2956432B2 true JP2956432B2 (ja) | 1999-10-04 |
Family
ID=16778154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22216293A Expired - Fee Related JP2956432B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | ピロリル基ペンダントポリシラン及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2956432B2 (ja) |
-
1993
- 1993-08-13 JP JP22216293A patent/JP2956432B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0753721A (ja) | 1995-02-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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