JPS6187729A - 共重合体 - Google Patents
共重合体Info
- Publication number
- JPS6187729A JPS6187729A JP20829684A JP20829684A JPS6187729A JP S6187729 A JPS6187729 A JP S6187729A JP 20829684 A JP20829684 A JP 20829684A JP 20829684 A JP20829684 A JP 20829684A JP S6187729 A JPS6187729 A JP S6187729A
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- Japan
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- copolymer
- group
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- mol
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- Pending
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高い光反応性を持ち、導電性付与可能な安定
性の高い新規な共重合体に関する。
性の高い新規な共重合体に関する。
従来、周期表第ＷＢ族元素を主鎖構造とじてなる有機高
分子化合物としては、広範な炭素系高分子化合物が知ら
れている。
分子化合物としては、広範な炭素系高分子化合物が知ら
れている。
また、５１、Ｇｏ、 ８ｎ、 Ｐｂなとの第ＷＢ族
金属元素を高分子主鎖中に組込んだ高分子化合物として
は＄１− Ｇ結合、５ｉ−０結合、Ｓｉ −Ｎ結合ある
いはａｎ−０結合、ａｎ−０結合、８ｎ７Ｎ結合などを
主鎖構造に組入れた有機高分子化合物はあるものの第ｙ
族金属元素のみで主鎖構造をなすものはｓｉ −ｓｉ
結合、＄ｎ−５ｎ結合からなるものが知られているのみ
である。
金属元素を高分子主鎖中に組込んだ高分子化合物として
は＄１− Ｇ結合、５ｉ−０結合、Ｓｉ −Ｎ結合ある
いはａｎ−０結合、ａｎ−０結合、８ｎ７Ｎ結合などを
主鎖構造に組入れた有機高分子化合物はあるものの第ｙ
族金属元素のみで主鎖構造をなすものはｓｉ −ｓｉ
結合、＄ｎ−５ｎ結合からなるものが知られているのみ
である。
しかし、８ｎ −ａｎ結合からなる高分子化合物は空気
中で酸化される等安定性が悪い。また、Ｇｏ −Ｇｏ
結合からなるものは、環状化合物が知られているのみで
６４７、有機高分子化合物は知られていない；更に、こ
れら第ＷＢ族金属元累で主鎖構造を作る有機高分子化合
物で異極元素同志での共重合体の合成は全く試みられて
いなかったのが現状である。
中で酸化される等安定性が悪い。また、Ｇｏ −Ｇｏ
結合からなるものは、環状化合物が知られているのみで
６４７、有機高分子化合物は知られていない；更に、こ
れら第ＷＢ族金属元累で主鎖構造を作る有機高分子化合
物で異極元素同志での共重合体の合成は全く試みられて
いなかったのが現状である。
本発明の目的は、新規な安定性の高いＳｌ及びＧｏ″ｆ
：含有する高分子化合物を提供することにおる。
：含有する高分子化合物を提供することにおる。
本発明を概説すれば、本発明は共重合体に関する発明で
あって、下記一般式Ｉ： （式中Ｒ１〜Ｒ４は同−又は異なシ、アルキル基及び芳
香族基よりなる群から選択した置換基を示し、Ｘ及びｙ
は１以上の正の整数を示す〕で表される化学構造よルな
ることを特徴とする。
あって、下記一般式Ｉ： （式中Ｒ１〜Ｒ４は同−又は異なシ、アルキル基及び芳
香族基よりなる群から選択した置換基を示し、Ｘ及びｙ
は１以上の正の整数を示す〕で表される化学構造よルな
ることを特徴とする。
１１％ Ｒ４のアルキル基としては例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシ
ル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、芳香
族基としては、例えばフェニルｆｉ、ｐ−）リル基、−
一７エネチル基などが挙げられる。
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシ
ル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、芳香
族基としては、例えばフェニルｆｉ、ｐ−）リル基、−
一７エネチル基などが挙げられる。
本発明の共重合体は、例えば、ウルツ型の重縮合反応に
よって、相当する２官能性ハロゲン化物から製造するこ
とができる。
よって、相当する２官能性ハロゲン化物から製造するこ
とができる。
本発明の共重合体は感光性高分子材料又は導′成性高分
子材料として有用である。
子材料として有用である。
以下、本発明を実施例によシ、更に具体的に説明するが
、本発明はこれら実施例に限定されない。
、本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１
モノマーとして、メチルフェニルジクロロシラン５．１
６１ （２，７Ｘ １０ モル〕とジフェニルジクロ
ロゲルマン２．１０Ｊｌ（７Ｘ１０ モル）を用意す
る。
６１ （２，７Ｘ １０ モル〕とジフェニルジクロ
ロゲルマン２．１０Ｊｌ（７Ｘ１０ モル）を用意す
る。
これｆｔ５．９のナトリウムを分散したドデカン５０−
中に滴下し、反応温度１６０℃で４時間重合させた。生
成した沈殿物をフィルターに取９、ヘキサン、メタノー
ル、水の順に洗浄し九人にテトラヒドロフランに溶解し
て不溶物を除去し、メタノールに再沈して白色の高分子
物質の固体を得た。収率は１１％であった。得られた高
分子物質の分子量全ゲルパーミェーションクロマトグラ
フィーで測定したところ分子量は５．７００でアシ、赤
外スペクトルからも重合体になっていることが確認され
た。共重合組成ｔｘｓａＡｔ−用いて測定したところ０
６単位の含有率は１０．５モル％であった。
中に滴下し、反応温度１６０℃で４時間重合させた。生
成した沈殿物をフィルターに取９、ヘキサン、メタノー
ル、水の順に洗浄し九人にテトラヒドロフランに溶解し
て不溶物を除去し、メタノールに再沈して白色の高分子
物質の固体を得た。収率は１１％であった。得られた高
分子物質の分子量全ゲルパーミェーションクロマトグラ
フィーで測定したところ分子量は５．７００でアシ、赤
外スペクトルからも重合体になっていることが確認され
た。共重合組成ｔｘｓａＡｔ−用いて測定したところ０
６単位の含有率は１０．５モル％であった。
実施例２
メチルフェニルジクロロシラン５．１６．９ （２，７
Ｘ １０−２モル〕トメチルフェニルジクロロゲルマン
１．７ ！ｉ（７Ｘ １０”３そル〕をモノマーとして
実施例１と同様にし【共重合させ、精製した得られた高
分子物質の分子量は１２，０００ 、Ｇ。
Ｘ １０−２モル〕トメチルフェニルジクロロゲルマン
１．７ ！ｉ（７Ｘ １０”３そル〕をモノマーとして
実施例１と同様にし【共重合させ、精製した得られた高
分子物質の分子量は１２，０００ 、Ｇ。
単位の含有率は１４モル％であった。
実施例５
メチルフェニルジクロロシラン５．１６ 、Ｐ （２，
７Ｘ １０””モル〕トメチルフェニルジクモロゲルル
マン６．４．９ （２，７Ｘ １０ モル〕ｔモノマ
ーとして実施例１と同様にして共重合させ、精製した。
７Ｘ １０””モル〕トメチルフェニルジクモロゲルル
マン６．４．９ （２，７Ｘ １０ モル〕ｔモノマ
ーとして実施例１と同様にして共重合させ、精製した。
得られた高分子物質の分子量は９，８００、Ｇｅ単位の
含有率は２５モル％であった。
含有率は２５モル％であった。
実施例４
メチルｎ−プロピルジクロロシラン４．２９（２，７Ｘ
１０ モル〕とメチルフェニルジクロロゲルマン６．
４．９ （２，７Ｘ １０−２モル〕ｔモノマーとして
実施例１と同様に共重合させて、精製した。得られた高
分子物質の分子量は２６．０００、Ｇｅ単位の含有率は
１８％であった。
１０ モル〕とメチルフェニルジクロロゲルマン６．
４．９ （２，７Ｘ １０−２モル〕ｔモノマーとして
実施例１と同様に共重合させて、精製した。得られた高
分子物質の分子量は２６．０００、Ｇｅ単位の含有率は
１８％であった。
実施例５
実施例１〜４で得た共１合体を暗所、室温、空気中で６
力月放置した後、赤外吸収スペクトル及び分子量の変化
を調べたが、合成時と何ら変化はなく、極めて安定でお
った。
力月放置した後、赤外吸収スペクトル及び分子量の変化
を調べたが、合成時と何ら変化はなく、極めて安定でお
った。
実施例６〜９、比較例１
実施例１〜４で得た共重合体上石英板上に塗布して０．
２μｍ厚のフィルム状にした。これに、３３０止の単色
光を照射して分子量が％になる光黒射エネルギーを表１
にまとめた。比較のためポリメチルフェニルシラン（分
子量４７，０００）の結果を合わせ【示し７’Ｃ（比較
例１）。
２μｍ厚のフィルム状にした。これに、３３０止の単色
光を照射して分子量が％になる光黒射エネルギーを表１
にまとめた。比較のためポリメチルフェニルシラン（分
子量４７，０００）の結果を合わせ【示し７’Ｃ（比較
例１）。
本発明の共重合体は、比較例１よシ高い反応性を示した
。
。
表 １
実施例１０．比較例２
実施例３で°得た共重合体（実施例１０〕と比較例１で
用いたポリメチルフェニルシラン（比較例２）ｔ−シリ
コン基板上に約０．２μｍ厚に塗布してフィルム状とし
た。これに７オトリングラフイーで用いられる石英製ク
ロムマスク全型ね、２００Ｗの重水素ランプで露光後、
アルコール溶剤で現像して露光された部分を選択的に溶
解除去して高分子物質のパターンをシリコン基板上に得
た。このときに必要な最小露光時間を表２に示す。本発
明の共重合体は比較例よりも高い感度を有していた。
用いたポリメチルフェニルシラン（比較例２）ｔ−シリ
コン基板上に約０．２μｍ厚に塗布してフィルム状とし
た。これに７オトリングラフイーで用いられる石英製ク
ロムマスク全型ね、２００Ｗの重水素ランプで露光後、
アルコール溶剤で現像して露光された部分を選択的に溶
解除去して高分子物質のパターンをシリコン基板上に得
た。このときに必要な最小露光時間を表２に示す。本発
明の共重合体は比較例よりも高い感度を有していた。
表 ２
実施例１１
実施例５で得九共重合体を１０トルの圧力下で７クセブ
タとしてＡＩＦ５ｔ−添加した。添加前の伝導度は１ｏ
−１１Ω−１ｃＩｓ″″１であったが添茄後は１０−６
Ω−’ｃｙｉ” と導電性が高くなった。
タとしてＡＩＦ５ｔ−添加した。添加前の伝導度は１ｏ
−１１Ω−１ｃＩｓ″″１であったが添茄後は１０−６
Ω−’ｃｙｉ” と導電性が高くなった。
以上説明したように、本発明の共重合体に、主鎖構造中
にＳｉ −Ｇｏ結合を持つ周期表第■８族金属元索を主
鎖構造とする新規な有機高分子共１合体である。本発明
の共重合体は光に対する反応性が高く、これを利用して
ホトレジスト等の感光性高８分子材料への応用が可能で
おる。また、アクセプタ化合物の添加によシ導電性が高
くなるため、導電性高分子材料としての応用ができるな
どの利点がある。
にＳｉ −Ｇｏ結合を持つ周期表第■８族金属元索を主
鎖構造とする新規な有機高分子共１合体である。本発明
の共重合体は光に対する反応性が高く、これを利用して
ホトレジスト等の感光性高８分子材料への応用が可能で
おる。また、アクセプタ化合物の添加によシ導電性が高
くなるため、導電性高分子材料としての応用ができるな
どの利点がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 （式中Ｒ＿１〜Ｒ＿４は同一又は異なり、アルキル基及
び芳香族基よりなる群から選択した置換基を示し、ｘ及
びｙは１以上の正の整数を示す）で表される化学構造よ
りなることを特徴とする共重合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20829684A JPS6187729A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 共重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20829684A JPS6187729A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 共重合体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6187729A true JPS6187729A (ja) | 1986-05-06 |
Family
ID=16553899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20829684A Pending JPS6187729A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 共重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6187729A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61200130A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高分子半導体 |
| EP0266693A2 (de) * | 1986-11-03 | 1988-05-11 | BASF Aktiengesellschaft | Blockcopolymere, die Polysilan und organische Polymer-Blöcke enthalten |
| US4960666A (en) * | 1989-02-27 | 1990-10-02 | Xerox Corporation | Toner and developer compositions with polysilylenes |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP20829684A patent/JPS6187729A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61200130A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高分子半導体 |
| EP0266693A2 (de) * | 1986-11-03 | 1988-05-11 | BASF Aktiengesellschaft | Blockcopolymere, die Polysilan und organische Polymer-Blöcke enthalten |
| US4960666A (en) * | 1989-02-27 | 1990-10-02 | Xerox Corporation | Toner and developer compositions with polysilylenes |
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