JP3154849B2 - ポリシランの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はポリシランの製造方法に
関し、さらに詳しくは、特定の金属錯体と特定のシリル
化合物を含む混合物、又は特定の金属錯体と特定のメタ
ルハイドライドを含む混合物を触媒として用いてシラン
化合物モノマーからポリシランを製造する方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ポリシランは、半導体、導電体などの電
子材料、非線形光学材料、フォトレジストや光重合開始
剤などの光反応性材料、あるいはセラミックス前駆体と
しての利用が期待され、近年注目を浴びている。

【０００３】ところで従来、ポリシランは、下記一般式
（７）に示す方法で製造するのが一般的であった。

【０００４】

【化１０】

【０００５】（式中、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶は炭化水素基であ
る。）しかし、上記のポリシランの製造方法では、シラ
ン化合物モノマーに対して２倍モルの金属ナトリウムを
使用するので非常にコスト高である。しかも、金属ナト
リウムには発火の危険性があり、取扱いに困難が伴う。
さらに、多量の塩化ナトリウムが副生するので、この塩
化ナトリウムをポリシランから取り除く工程が必要とな
る。

【０００６】そこで近年、下記一般式（８）に示す様
に、錯体触媒を用いてヒドロシランを脱水素縮合するこ
とにより、ポリシランを合成する研究が行われている。

【０００７】

【化１１】

【０００８】（式中、Ｒ¹⁷はアルキル基、置換基を有す
るアルキル基、フェニル基または置換基を有するフェニ
ル基、アルキル基やフェニル基を置換基とするＲＲ′
Ｒ″Ｓｉ型シリル基であり、Ｒ¹⁸は水素、アルキル基、
置換基を有するアルキル基、フェニル基または置換基を
有するフェニル基、アルキル基やフェニル基を置換基と
するＲＲ′Ｒ″Ｓｉ型シリル基である。ただし、Ｒ、
Ｒ′およびＲ″は水素、炭素数１〜１２のアルキル基、
あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１２のアリ
ール基より選ばれ、これらは同一であっても異なっても
よい。）これまでに触媒として、Ｃｐ₂ＴｉＭｅ₂［Ｊ.
Ａｍ.Ｃｈｅｍ.Ｓｏｃ.，１０８，４０５９（１９８
６）］、Ｃｐ₂ＴｉＰｈ₂［Ｃｈｅｍ.Ｌｅｔｔ.，１９８
９，８３］、Ｃｐ₂ＺｒＭｅ₂［Ｃａｎ.Ｊ.Ｃｈｅｍ.，
６４，１６７７（１９８６）］、Ｎｉ(ｄｐｐｐ)Ｍｅ₂
［特開平１−１９８６３１］、ＲｕＣｌ₂(ＰＰｈ₃)₃、
ＨＲｈ(ＣＯ)(ＰＰｈ₃)₃、ＰｔＣｌ₂(ＰＰｈ₃)₂［日化
第５８春季年会、１ＩＩＡ３１、１９８９］などが開発
されている。しかしながら、トリヒドロシランからは４
０量体程度のポリマーしか得られておらず、また、ジヒ
ドロシランからは２〜３量体のオリゴマーが得られてい
るにすぎない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ヒドロシラ
ンからポリシランを製造するに際し、公知の触媒よりも
安価で入手し易い触媒系を用いて、公知の触媒よりもさ
らに重合度の大きなポリマーを効率良く製造できる、ポ
リシランの製造方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の様
な状況に鑑みて鋭意検討した結果、特定の金属錯体と特
定のシリル化合物を含む混合物、又は特定の金属錯体と
特定のメタルハイドライドを含む混合物を触媒として用
いれば、ヒドロシランからポリシランをさらに効率良く
製造しうることを見いだして本発明を完成するに至つ
た。

【００１１】すなわち本発明の第１の態様によれば、
（Ａ）下記一般式（１）

【００１２】

【化１２】ＬＬ′ＭＣｌ₂ （１） ［式中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆを表す。Ｌおよ
びＬ′は、無置換シクロペンタジエニル、炭素数１〜６
のアルキル基で置換されたシクロペンタジエニル、下記
一般式（２）

【００１３】

【化１３】Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ− （２） ｛式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は水素、炭素数１〜１２のアル
キル基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１
２のアリール基より選ばれ、これらは同一であっても異
なってもよい。｝で示されるシリル基で置換されたシク
ロペンタジエニル、無置換インデニル、炭素数１〜６の
アルキル基で置換されたインデニル、もしくは上記一般
式（２）で示されるシリル基で置換されたインデニルよ
り選ばれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。
またＬとＬ′の間は炭素数１〜４のアルキレン、もしく
は下記一般式（３）

【００１４】

【化１４】 ｛式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素、炭素数１〜１２のアルキル
基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１２の
アリール基より選ばれ、これらは同一であっても異なっ
てもよい。｝で示されるシリレンで架橋されていてもよ
い］で表されるメタロセン化合物と、（Ｂ）下記一般式
（４）

【００１５】

【化１５】Ｒ⁹Ｒ¹⁰Ｒ¹¹ＳｉＡ （４） ［式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は、それぞれ炭素数１〜１２
の直鎖または分枝状のアルキル基あるいはアラルキル
基、炭素数６〜１２のアリール基、もしくは下記一般式
（５）

【００１６】

【化１６】Ｒ¹²Ｒ¹³Ｒ¹⁴Ｓｉ− （５） ｛ただしＲ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は炭素数１〜８のアルキル基
もしくはアリール基より選ばれ、同一であっても異なっ
ていてもよい。｝で示されるシリル基より選ばれ、同一
であっても異なっていてもよい。

【００１７】Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、もしくはＫを表す。］
で表されるシリル化合物とを含有する混合物を触媒とし
て用い、ヒドロシランを反応させてポリシランを製造す
ることを特徴とする、ポリシランの製造方法が提供され
る。

【００１８】また本発明の第２の態様によれば、（Ａ）
下記一般式（１）

【００１９】

【化１７】ＬＬ′ＭＣｌ₂ （１） ［式中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆを表す。Ｌおよ
びＬ′は、無置換シクロペンタジエニル、炭素数１〜６
のアルキル基で置換されたシクロペンタジエニル、下記
一般式（２）

【００２０】

【化１８】Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ− （２） ｛式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は水素、炭素数１〜１２のアル
キル基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１
２のアリール基より選ばれ、これらは同一であっても異
なってもよい。｝で示されるシリル基で置換されたシク
ロペンタジエニル、無置換インデニル、炭素数１〜６の
アルキル基で置換されたインデニル、もしくは上記一般
式（２）で示されるシリル基で置換されたインデニルよ
り選ばれ、互いに同一であつても異なっていてもよい。
またＬとＬ′の間は炭素数１〜４のアルキレン、もしく
は下記一般式（３）

【００２１】

【化１９】 ｛式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素、炭素数１〜１２のアルキル
基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１２の
アリール基より選ばれ、これらは同一であっても異なっ
てもよい。｝で示されるシリレンで架橋されていてもよ
い］で表されるメタロセン化合物と、（Ｂ）′下記一般
式（６）

【００２２】

【化２０】Ａ′Ｘn （６） （式中、Ａ′は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ、Ｒ⁴
_(3-n)Ａｌ、ＬｉＡｌ、ＬｉＡｌＲ⁵ _(4-n)、ＮａＡｌＲ⁵
_(4-n)、Ｂ、Ｒ⁴ _(3-n)Ｂ、ＬｉＢ、ＬｉＢＲ⁵、ＮａＢ、
ＫＢ又はＲ⁶Ｂを表し、Ｒ⁴は炭素数１〜５のアルキル
基、Ｒ⁵は炭素数１〜８のアルキルまたはアルコキシル
基、Ｒ⁶は炭素数１〜４の第４級アンモニウム、をそれ
ぞれ示す。

【００２３】ただし、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が複数個存在
する場合には、それぞれ同一であっても異なっていても
よい。

【００２４】また、ＸはＨ（水素）またはＤ（重水素）
であり、ｎは１〜４の整数である。）で表されるメタル
ハイドライドとを含有する混合物を触媒として用い、ヒ
ドロシランを反応させてポリシランを製造することを特
徴とする、ポリシランの製造方法が提供される。

【００２５】以下、本発明をさらに詳細に説明する。

【００２６】本発明の第１の態様においては（Ａ）一般
式（１）で表されるメタロセン化合物と（Ｂ）一般式
（４）で表されるシリル化合物を含有する混合物を触媒
として用いる。

【００２７】一般式（１）で表されるメタロセン化合物
としては、例えばジクロロビス（η−シクロペンタジエ
ニル）チタン、ジクロロビス（η−メチルシクロペンタ
ジエニル）チタン、ジクロロビス（η−ジメチルシクロ
ペンタジエニル）チタン、ジクロロビス（η−トリメチ
ルシクロペンタジエニル）チタン、ジクロロビス（η−
ペンタメチルシクロペンタジエニル）チタン、ジクロロ
ビス（η−トリフルオロメチルシクロペンタジエニル）
チタン、ジクロロビス（η−トリメチルシリルシクロペ
ンタジエニル）チタン、ジクロロ（η−ペンタメチルシ
クロペンタジエニル）（η−シクロペンタジエニル）チ
タン、ジクロロ（η−トリフルオロメチルシクロペンタ
ジエニル）（η−シクロペンタジエニル）チタン、ジク
ロロメチレンビス（η−シクロペンタジエニル）チタ
ン、ジクロロエチレンビス（η−シクロペンタジエニ
ル）チタン、ジクロロプロピレンビス（η−シクロペン
タジエニル）チタン、ジクロロジメチルシリレンビス
（η−シクロペンタジエニル）チタン、ジクロロビス
（η−インデニル）チタン、ジクロロビス（η−メチル
インデニル）チタン、ジクロロビス（η−ジメチルイン
デニル）チタン、ジクロロビス（η−トリメチルシリル
インデニル）チタン、ジクロロメチレンビス（η−イン
デニル）チタン、ジクロロエチレンビス（η−インデニ
ル）チタン、ジクロロプロピレンビス（η−インデニ
ル）チタン、ジクロロビス（η−シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウム、ジクロロビス（η−メチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウム、ジクロロビス（η−ジメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウム、ジクロロビ
ス（η−トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ム、ジクロロビス（η−ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウム、ジクロロビス（η−トリフルオロ
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム、ジクロロ
ビス（η−トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウム、ジクロロ（η−ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル）（η−シクロペンタジエニル）ジルコニウ
ム、ジクロロ（η−トリフルオロメチルシクロペンタジ
エニル）（η−シクロペンタジエニル）ジルコニウム、
ジクロロメチレンビス（η−シクロペンタジエニル）ジ
ルコニウム、ジクロロエチレンビス（η−シクロペンタ
ジエニル）ジルコニウム、ジクロロプロピレンビス（η
−シクロペンタジエニル）ジルコニウム、ジクロロジメ
チルシリレンビス（η−シクロペンタジエニル）ジルコ
ニウム、ジクロロビス（η−インデニル）ジルコニウ
ム、ジクロロビス（η−メチルインデニル）ジルコニウ
ム、ジクロロビス（η−ジメチルインデニル）ジルコニ
ウム、ジクロロビス（η−トリメチルシリルインデニ
ル）ジルコニウム、ジクロロメチレンビス（η−インデ
ニル）ジルコニウム、ジクロロエチレンビス（η−イン
デニ ル）ジルコニウム、ジクロロプロピレンビス（η−
インデニル）ジルコニウム、ジクロロビス（η−シクロ
ペンタジエニル）ハフニウム、ジクロロビス（η−メチ
ルシクロペンタジエニル）ハフニウム、ジクロロビス
（η−ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウム、ジ
クロロビス（η−トリメチルシクロペンタジエニル）ハ
フニウム、ジクロロビス（η−ペンタメチルシクロペン
タジエニル）ハフニウム、ジクロロビス（η−トリフル
オロメチルシクロペンタジエニル）ハフニウム、ジクロ
ロビス（η−トリメチルシリルシクロペンタジエニル）
ハフニウム、ジクロロ（η−ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル）（η−シクロペンタジエニル）ハフニウム、
ジクロロ（η−トリフルオロメチルシクロペンタジエニ
ル）（η−シクロペンタジエニル）ハフニウム、ジクロ
ロメチレンビス（η−シクロペンタジエニル）ハフニウ
ム、ジクロロエチレンビス（η−シクロペンタジエニ
ル）ハフニウム、ジクロロプロピレンビス（η−シクロ
ペンタジエニル）ハフニウム、ジクロロジメチルシリレ
ンビス（η−シクロペンタジエニル）ハフニウム、ジク
ロロビス（η−インデニル）ハフニウム、ジクロロビス
（η−メチルインデニル）ハフニウム、ジクロロビス
（η−ジメチルインデニル）ハフニウム、ジクロロビス
（η−トリメチルシリルインデニル）ハフニウム、ジク
ロロメチレンビス（η−インデニル）ハフニウム、ジク
ロロエチレンビス（η−インデニル）ハフニウム、ジク
ロロプロピレンビス（η−インデニル）ハフニウムなど
が挙げられる。該メタロセン化合物は上記より選ばれる
１種類単独、もしくは２種類以上を混合して用いること
ができる。

【００２８】上記の中でアンダラインを付したものが中
でも好ましいメタセロン化合物である。

【００２９】一般式（４）で表されるシリル化合物とし
ては、例えばフェニルジメチルシリルリチウム、ジフェ
ニルメチルシリルリチウム、ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルリチウム、トリフェニルシリルリチウム、トリス（ト
リメチルシリル）シリルリチウム、トリメチルシリルナ
トリウム、トリエチルシリルナトリウム、トリ−ｎ−プ
ロピルシリルナトリウム、トリ−ｉ−プロピルシリルナ
トリウム、トリ−ｎ−ブチルシリルナトリウム、トリ−
ｎ−ヘキシルシリルナトリウム、トリフェニルシリルナ
トリウム、エチルジメチルシリルナトリウム、ｎ−プロ
ピルジメチルシリルナトリウム、ｉ−プロピルジメチル
シリルナトリウム、ｎ−ブチルジメチルシリルナトリウ
ム、ｔ−ブチルジメチルシリルナトリウム、ｎ−ヘキシ
ルジメチルシリルナトリウム、シクロヘキシルジメチル
シリルナトリウム、ｎ−オクチルジメチルシリルナトリ
ウム、ｎ−デシルジメチルシリルナトリウム、フェニル
ジメチルシリルナトリウム、ベンジルジメチルシリルナ
トリウム、フェネチルジメチルシリルナトリウム、ジ−
ｎ−ブチルメチルシリルナトリウム、ジフェニルメチル
シリルナトリウム、ｔ−ブチルジフェニルシリルナトリ
ウム、トリス（トリメチルシリル）シリルナトリウム、
トリメチルシリルカリウム、トリエチルシリルカリウ
ム、トリ−ｎ−プロピルシリルカリウム、トリ−ｉ−プ
ロピルシリルカリウム、トリ−ｎ−ブチルシリルカリウ
ム、トリ−ｎ−ヘキシルシリルカリウム、トリフェニル
シリルカリウム、エチルジメチルシリルカリウム、ｎ−
プロピルジメチルシリルカリウム、ｉ−プロピルジメチ
ルシリルカリウム、ｎ−ブチルジメチルシリルカリウ
ム、ｔ−ブチルジメチルシリルカリウム、ｎ−ヘキシル
ジメチルシリルカリウム、シクロヘキシルジメチルシリ
ルカリウム、ｎ−オクチルジメチルシリルカリウム、ｎ
−デシルジメチルシリルカリウム、フェニルジメチルシ
リルカリウム、ベンジルジメチルシリルカリウム、フェ
ネチルジメチルシリルカリウム、ジ−ｎ−ブチルメチル
シリルカリウム、ジフェニルメチルシリルカリウム、ｔ
−ブチルジフェニルシリルカリウム、トリス（トリメチ
ルシリル）シリルカリウムなどが挙げられる。該シリル
化合物は上記より選ばれる１種類単独、もしくは２種類
以上を混合して用いることができる。

【００３０】上記の中でアンダラインを付したものが中
でも好ましいシリル化合物である。上記メタロセン化合
物およびシリル化合物の使用割合は、ヒドロシラン１０
０ｍｏｌに対し、メタロセン化合物が通常０.０１〜１
０ｍｏｌ、好ましくは０.１〜５ｍｏｌ、シリル化合物
が通常０.００５〜５０ｍｏｌ、好ましくは０.０５〜２
０ｍｏｌである。

【００３１】該触媒には添加物として、１２−クラウン
−４、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、ジベ
ンゾ−１２−クラウン−４、ジベンゾ−１５−クラウン
−５、ジベンゾ−１８−クラウン−６などのクラウンエ
ーテル類やテトラメチルエチレンジアミンなどのジアミ
ン類などを加えてもよい。該添加物の使用割合は、ヒド
ロシラン１００ｍｏｌに対し、通常０.００５〜５０ｍ
ｏｌ、好ましくは０.０５〜２０ｍｏｌである。

【００３２】本発明の第１の態様においては上記メタロ
セン化合物およびシリル化合物を含有する混合物を触媒
として、ヒドロシランを反応させてポリシランを製造す
る。

【００３３】該ヒドロシランには通常、ヒドロモノシラ
ン、ヒドロジシラン、ヒドロトリシラン、もしくはこれ
らのうちの２種以上の混合物を用いる。

【００３４】ヒドロモノシランとしては、具体的には、
例えばシラン、メチルシラン、エチルシラン、ｎ−プロ
ピルシラン、（３,３,３−トリフルオロプロピル）シラ
ン、ｎ−ブチルシラン、ｔ−ブチルシラン、（１−メチ
ルプロピル）シラン、（２−メチルプロピル）シラン、
アミルシラン、ｎ−ヘキシルシラン、シクロヘキシルシ
ラン、ｎ−ヘプチルシラン、ｎ−オクチルシラン、ｎ−
ノニルシラン、ｎ−デシルシラン、ｎ−ドデシルシラ
ン、フェニルシラン、ｐ−トリルシラン、メシチルシラ
ン、ベンジルシラン、フェネチルシラン、（トリメチル
シリルメチル）シラン、ジメチルシラン、ジエチルシラ
ン、ジ−ｎ−プロピルシラン、ビス（３,３,３−トリフ
ルオロプロピル）シラン、ジ−ｎ−ブチルシラン、ジ−
ｔ−ブチルシラン、ジ（１−メチルプロピル）シラン、
ジ（２−メチルプロピル）シラン、ジアミルシラン、ジ
−ｎ−ヘキシルシラン、ジシクロヘキシルシラン、ジ−
ｎ−ヘプチルシラン、ジ−ｎ−オクチルシラン、ジ−ｎ
−ノニルシラン、ジ−ｎ−デシルシラン、ジ−ｎ−ドデ
シルシラン、ジフェニルシラン、ジ−ｐ−トリルシラ
ン、ジメシチルシラン、ジベンジルシラン、ジフェネチ
ルシラン、ビス（トリメチルシリルメチル）シラン、エ
チルメチルシラン、メチル−ｎ−プロピルシラン、メチ
ル（３,３,３−トリフルオロプロピル）シラン、メチル
−ｉ−プロピルシラン、ｎ−ブチルメチルシラン、ｔ−
ブチルメチルシラン、メチル（１−メチルプロピル）シ
ラン、メチル（２−メチルプロピル）シラン、アミルメ
チルシラン、ｎ−ヘキシルメチルシラン、シクロヘキシ
ルメチルシラン、ｎ−ヘプチルメチルシラン、メチル−
ｎ−オクチルシラン、メチル−ｎ−ノニルシラン、ｎ−
デシルメチルシラン、ｎ−ドデシルメチルシラン、メチ
ルフェニルシラン、ｐ−トリルメチルシラン、メチルメ
シチルシラン、ベンジルメチルシラン、メチルフェネチ
ルシラン、メチル（トリメチルシリルメチル）シラン、
（ｐ−メチルフェネチル）シラン、エチルフェニルシラ
ン、ｔ−ブチルフェニルシランなどが挙げられる。

【００３５】上記の中でアンダラインを付したものが中
でも好ましいヒドロモノシランである。

【００３６】またヒドロジシランとしては、具体的に
は、例えばジシラン、メチルジシラン、エチルジシラ
ン、ｎ−プロピルジシラン、（３,３,３−トリフルオロ
プロピル）ジシラン、ｎ−ブチルジシラン、ｔ−ブチル
ジシラン、（１−メチルプロピル）ジシラン、（２−メ
チルプロピル）ジシラン、アミルジシラン、ｎ−ヘキシ
ルジシラン、シクロヘキシルジシラン、ｎ−ヘプチルジ
シラン、ｎ−オクチルジシラン、ｎ−ノニルジシラン、
ｎ−デシルジシラン、ｎ−ドデシルジシラン、フェニル
ジシラン、ｐ−トリルジシラン、メシチルジシラン、ベ
ンジルジシラン、フェネチルジシラン、（トリメチルシ
リルメチル）ジシラン、１,１−ジメチルジシラン、１,
１−ジエチルジシラン、１,１−ジ−ｎ−プロピルジシ
ラン、１,１−ジ−ｎ−ブチルジシラン、１,１−ジ−ｎ
−アミルジシラン、１,１−ジ−ｎ−ヘキシルジシラ
ン、１,１−ジシクロヘキシルジシラン、１,１−ジフェ
ニルジシラン、１,１−ジメシチルジシラン、１−エチ
ル−１−メチルジシラン、１−メチル−１−ｎ−プロピ
ルジシラン、１−メチル−１−ｉ−プロピルジシラン、
１−ｎ−ブチル−１−メチルジシラン、１−ｔ−ブチル
−１−メチルジシラン、１−ｎ−ヘキシル−１−メチル
ジシラン、１−シクロヘキシル−１−メチルジシラン、
１−ｎ−ヘプチル−１−メチルジシラン、１−メチル−
１−ｎ−オクチルジシラン、１−ｎ−デシル−１−メチ
ルジシラン、１−メチル−１−フェニルジシラン、１−
（ｐ−メチルフェネチル）−１−メチルジシラン、１−
メチル−１−（β−フェネチル）ジシラン、１−ｐ−ト
リル−１−メチルジシラン、１−フェニル−１−エチル
ジシラン、１−ｔ−ブチル−１−フェニルジシラン、１
−（フェニルジメチルシリル）−１−メチルジシラン、
１−（トリメチルシリル）−１−メチルジシラン、１,
２−ジメチルジシラン、１,２−ジエチルジシラン、１,
２−ジ−ｎ−プロピルジシラン、１,２−ジ−ｎ−ブチ
ルジシラン、１,２−ジ−ｎ−アミルジシラン、１,２−
ジ−ｎ−ヘキシルジシラン、１,２−ジシクロヘキシル
ジシラン、１,２−ジフェニルジシラン、１,２−ジメシ
チルジシラン、１−エチル−２−メチルジシラン、１−
メチル−２−ｎ−プロピルジシラン、１−メチル−２−
ｉ−プロピルジシラン、１−ｎ−ブチル−２−メチルジ
シラン、１−ｔ−ブチル−２−メチルジシラン、１−ｎ
−ヘキシル−２−メチルジシラン、１−シクロヘキシル
−２−メチルジシラン、１−ｎ−ヘプチル−２−メチル
ジシラン、１−メチル−２−ｎ−オクチルジシラン、１
−ｎ−デシル−２−メチルジシラン、１−メチル−２−
フェニルジシラン、１−（ｐ−メチルフェネチル）−２
−メチルジシラン、１−メチル−２−（β−フェネチ
ル）ジシラン、１−ｐ−トリル−２−メチルジシラン、
１−フェニル−２−エチルジシラン、１−ｔ−ブチル−
２−フェニルジシラン、１−（フェニルジメチルシリ
ル）−２−メチルジシラン、１−（トリメチルシリル）
−２−メチルジシラン、トリメチルシリルシラン、トリ
フェニルシリルシラン、（ｔ−ブチルジメチルシリル）
シラン、１,１,２−トリメチルジシラン、１,１,２−ト
リエチルジシラン、１,１,２−トリ−ｎ−プロピルジシ
ラン、１,１,２−トリ−ｎ−ブチルジシラン、１,１,２
−トリ−ｎ−アミルジシラン、１,１,２−トリ−ｎ−ヘ
キシルジシラン、１,１,２−トリシクロヘキシルジシラ
ン、１,１,２−トリフェニルジシラン、１,１,２−トリ
メシチルジシラン、１,１−ジエチル−２−メチルジシ
ラン、１,１−ジメチル−２−ｎ−プロピルジシラン、
１,１−ジメチル−２−ｉ−プロピルジシラン、１,１−
ジ−ｎ−ブチル−２−メチルジシラン、１,１−ジ−ｔ
−ブチル−２−メチルジシラン、１,１−ジ−ｎ−ヘキ
シル−２−メチルジシラン、１,１−ジシクロヘキシル
−２−メチルジシラン、１,１−ジ−ｎ−ヘプチル−２
−メチルジシラン、１,１−ジメチル−２−ｎ−オクチ
ルジシラン、１,１−ジ−ｎ−デシル−２−メチルジシ
ラン、１,１−ジメチル−２−フェニルジシラン、１,１
−ジ−（ｐ−メチルフェネチル）−２−メチルジシラ
ン、１,１−ジメチル−２−（β−フェネチル）ジシラ
ン、１,１−ジ−ｐ−トリル−２−メチルジシラン、１,
１−ジフェニル−２−エチルジシラン、１,１−ジ−ｔ
−ブチル−２−フェニルジシラン、１,１−ジ（フェニ
ルジメチルシリル）−２−メチルジシラン、１,１−ビ
ス（トリメチルシリル）−２−メチルジシラン、１−エ
チル−２,２−ジメチルジシラン、１−メチル−２,２−
ジ−ｎ−プロピルジシラン、１−メチル−２,２−ジ−
ｉ−プロピルジシラン、１−ｎ−ブチル−２,２−ジメ
チルジシラン、１−ｔ−ブチル−２,２−ジメチルジシ
ラン、１−ｎ−ヘキシル−２,２−ジメチルジシラン、
１−シクロヘキシル−２,２−ジメチルジシラン、１−
ｎ−ヘプチル−２,２−ジメチルジシラン、１−メチル
−２,２−ジ−ｎ−オクチルジシラン、１−ｎ−デシル
−２,２−ジメチルジシラン、１−メチル−２,２−ジフ
ェニルジシラン、１−（ｐ−メチルフェネチル）−２,
２−ジメチルジシラン、１−メチル−２,２−ジ（β−
フェネチル）ジシラン、１−ｐ−トリル−２,２−ジメ
チルジシラン、１−フェニル−２,２−ジエチルジシラ
ン、１−ｔ−ブチル−２,２−ジフェニルジシラン、１
−（フェニルジメチルシリル）−２,２−ジメチルジシ
ラン、１−（トリメチルシリル）−２,２−ジメチルジ
シラン、１,１,１,２−テトラメチルジシラン、１,１,
１,２−テトラエチルジシラン、１,１,１,２−テトラ−
ｎ−プロピルジシラン、１,１,１,２−テトラ−ｎ−ブ
チルジシラン、１,１,１,２−テトラ−ｎ−アミルジシ
ラン、１,１,１,２−テトラ−ｎ−ヘキシルジシラン、
１,１,１,２−テトラシクロヘキシルジシラン、１,１,
１,２−テトラフェニルジシラン、１,１,１,２−テトラ
メシチルジシラン、１,１,２,２−テトラメチルジシラ
ン、１,１,２,２−テトラエチルジシラン、１,１,２,２
−テトラ−ｎ−プロピルジシラン、１,１,２,２−テト
ラ−ｎ−ブチルジシラン、１,１,２,２−テトラ−ｎ−
アミルジシラン、１,１,２,２−テトラ−ｎ−ヘキシル
ジシラン、１,１,２,２−テトラシクロヘキシルジシラ
ン、１,１,２,２−テトラフェニルジシラン、１,１,２,
２−テトラメシチルジシラン、１,１,１−トリエチル−
２−メチルジシラン、１,１,１−トリメチル−２−ｎ−
プロピルジシラン、１,１,１−トリメチル−２−ｉ−プ
ロピルジシラン、１,１,１−トリ−ｎ−ブチル−２−メ
チルジシラン、１,１,１−トリ−ｔ−ブチル−２−メチ
ルジシラン、１,１,１−トリ−ｎ−ヘキシル−２−メチ
ルジシラン、１,１,１−トリシクロヘキシル−２−メチ
ルジシラン、１,１,１−トリ−ｎ−ヘプチル−２−メチ
ルジシラン、１,１,１−トリメチル−２−ｎ−オクチル
ジシラン、１,１,１−トリ−ｎ−デシル−２−メチルジ
シラン、１,１,１−トリメチル−２−フェニルジシラ
ン、１,１,１−トリ−（ｐ−メチルフェネチル）−２−
メチルジシラン、１,１,１−トリメチル−２−（β−フ
ェネチル）ジシラン、１,１,１−トリ−ｐ−トリル−２
−メチルジシラン、１,１,１−トリフェニル−２−エチ
ルジシラン、１,１,１−トリ−ｔ−ブチル−２−フェニ
ルジシラン、１,１,１−トリ（フェニルジメチルシリ
ル）−２−メチルジシラン、１,１,１−トリ（トリメチ
ルシリル）−２−メチルジシラン、１−エチル−２,２,
２−トリメチルジシラン、１−メチル−２,２,２−トリ
−ｎ−プロピルジシラン、１−メチル−２,２,２−トリ
−ｉ−プロピルジシラン、１−ｎ−ブチル−２,２,２−
トリメチルジシラン、１−ｔ−ブチル−２,２,２−トリ
メチルジシラン、１−ｎ−ヘキシル−２,２,２−トリメ
チルジシラン、１−シクロヘキシル−２,２,２−トリメ
チルジシラン、１−ｎ−ヘプチル−２,２,２−トリメチ
ルジシラン、１−メチル−２,２,２−トリ−ｎ−オクチ
ルジシラン、１−ｎ−デシル−２,２,２−トリメチルジ
シラン、１−メチル−２,２,２−トリフェニルジシラ
ン、１−（ｐ−メチルフェネチル）−２,２,２−トリメ
チルジシラン、１−メチル−２,２,２−トリ（β−フェ
ネチル）ジシラン、１−ｐ−トリル−２,２,２−トリメ
チルジシラン、１−フェニル−２,２,２−トリエチルジ
シラン、１−ｔ−ブチル−２,２,２−トリフェニルジシ
ラン、１−（フェニルジメチルシリル）−２,２,２−ト
リメチルジシラン、１−（トリメチルシリル）−２,２,
２−トリメチルジシラン、１,１−ジエチル−２,２−ジ
メチルジシラン、１,１−ジメチル−２,２−ジ−ｎ−プ
ロピルジシラン、１,１−ジメチル−２,２−ジ−ｉ−プ
ロピルジシラン、１,１−ジ−ｎ−ブチル−２,２−ジメ
チルジシラン、１,１−ジ−ｔ−ブチル−２,２−ジメチ
ルジシラン、１,１−ジ−ｎ−ヘキシル−２,２−ジメチ
ルジシラン、１,１−ジシクロヘキシル−２,２−ジメチ
ルジシラン、１,１−ジ−ｎ−ヘプチル−２,２−ジメチ
ルジシラン、１,１−ジメチル−２,２−ジ−ｎ−オクチ
ルジシラン、１,１−ジ−ｎ−デシル−２,２−ジメチル
ジシラン、１,１−ジメチル−２,２−ジフェニルジシラ
ン、１,１−ジ−（ｐ−メチルフェネチル）−２,２−ジ
メチルジシラン、１,１−ジメチル−２,２−ジ（β−フ
ェネチル）ジシラン、１,１−ジ−ｐ−トリル−２,２−
ジメチルジシラン、１,１−ジフェニル−２,２−ジエチ
ルジシラン、１,１−ジ−ｔ−ブチル−２,２−ジフェニ
ルジシラン、１,１−ジ（フェニルジメチルシリル）−
２,２−ジメチルジシラン、１,１−ビス（トリメチルシ
リル）−２,２−ジメチルジシラン、１,２−ジエチル−
１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジメチル−１,２−
ジ−ｎ−プロピルジシラン、１,２−ジメチル−１,２−
ジ−ｉ−プロピルジシラン、１,２−ジ−ｎ−ブチル−
１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジ−ｔ−ブチル−
１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジ−ｎ−ヘキシル−
１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジシクロヘキシル−
１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジ−ｎ−ヘプチル−
１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジメチル−１,２−
ジ−ｎ−オクチルジシラン、１,２−ジ−ｎ−デシル−
１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジメチル−１,２−
ジフェニルジシラン、１,２−ジ−（ｐ−メチルフェネ
チル）−１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジメチル−
１,２−ジ（β−フェネチル）ジシラン、１,２−ジ−ｐ
−トリル−１,２−ジメチルジシラン、１,２−ジフェニ
ル−１,２−ジエチルジシラン、１,２−ジ−ｔ−ブチル
−１,２−ジフェニルジシラン、１,２−ジ（フェニルジ
メチルシリル）−１,２−ジメチルジシラン、１,２−ビ
ス（トリメチルシリル）−１,２−ジメチルジシランな
どが挙げられる。

【００３７】上記の中でアンダラインを付したものが中
でも好ましいヒドロジシランである。

【００３８】さらにまたヒドロトリシランとしては、具
体的には、例えばトリシラン、１−メチルトリシラン、
１−エチルトリシラン、１−ｎ−プロピルトリシラン、
１−（３,３,３−トリフルオロプロピル）トリシラン、
１−ｎ−ブチルトリシラン、１−ｔ−ブチルトリシラ
ン、１−（１−メチルプロピル）トリシラン、１−（２
−メチルプロピル）トリシラン、１−アミルトリシラ
ン、１−ｎ−ヘキシルトリ シラン、１−シクロヘキシル
トリシラン、１−ｎ−ヘプチルトリシラン、１−ｎ−オ
クチルトリシラン、１−ｎ−ノニルトリシラン、１−ｎ
−デシルトリシラン、１−ｎ−ドデシルトリシラン、１
−フェニルトリシラン、１−ｐ−トリルトリシラン、１
−メシチルトリシラン、１−ベンジルトリシラン、１−
フェネチルトリシラン、１−（トリメチルシリルメチ
ル）トリシラン、２−メチルトリシラン、２−エチルト
リシラン、２−ｎ−プロピルトリシラン、２−（３,３,
３−トリフルオロプロピル）トリシラン、２−ｎ−ブチ
ルトリシラン、２−ｔ−ブチルトリシラン、２−（１−
メチルプロピル）トリシラン、２−（２−メチルプロピ
ル）トリシラン、２−アミルトリシラン、２−ｎ−ヘキ
シルトリシラン、２−シクロヘキシルトリシラン、２−
ｎ−ヘプチルトリシラン、２−ｎ−オクチルトリシラ
ン、２−ｎ−ノニルトリシラン、２−ｎ−デシルトリシ
ラン、２−ｎ−ドデシルトリシラン、２−フェニルトリ
シラン、２−ｐ−トリルトリシラン、２−メシチルトリ
シラン、２−ベンジルトリシラン、２−フェネチルトリ
シラン、２−（トリメチルシリルメチル）トリシラン、
１,１−ジメチルトリシラン、１,１−ジエチルトリシラ
ン、１,１−ジ−ｎ−プロピルトリシラン、ビス（３,
３,３−トリフルオロプロピル）トリシラン、１,１−ジ
−ｎ−ブチルトリシラン、１,１−ジ−ｔ−ブチルトリ
シラン、１,１−ジ（１−メチルプロピル）トリシラ
ン、１,１−ジ（２−メチルプロピル）トリシラン、１,
１−ジアミルトリシラン、１,１−ジ−ｎ−ヘキシルト
リシラン、１,１−ジシクロヘキシルトリシラン、１,１
−ジ−ｎ−ヘプチルトリシラン、１,１−ジ−ｎ−オク
チルトリシラン、１,１−ジ−ｎ−ノニルトリシラン、
１,１−ジ−ｎ−デシルトリシラン、１,１−ジ−ｎ−ド
デシルトリシラン、１,１−ジフェニルトリシラン、１,
１−ジ−ｐ−トリルトリシラン、１,１−ジメシチルト
リシラン、１,１−ジベンジルトリシラン、１,１−ジフ
ェネチルトリシラン、１,１−ビス（トリメチルシリル
メチル）トリシラン、１,２−ジメチルトリシラン、１,
２−ジエチルトリシラン、１,２−ジ−ｎ−プロピルト
リシラン、１,２−ビス（３,３,３−トリフルオロプロ
ピル）トリシラン、１,２−ジ−ｎ−ブチルトリシラ
ン、１,２−ジ−ｔ−ブチルトリシラン、１,２−ジ（１
−メチルプロピル）トリシラン、１,２−ジ（２−メチ
ルプロピル）トリシラン、１,２−ジアミルトリシラ
ン、１,２−ジ−ｎ−ヘキシルト リシラン、１,２−ジシ
クロヘキシルトリシラン、１,２−ジ−ｎ−ヘプチルト
リシラン、１,２−ジ−ｎ−オクチルトリシラン、１,２
−ジ−ｎ−ノニルトリシラン、１,２−ジ−ｎ−デシル
トリシラン、１,２−ジ−ｎ−ドデシルトリシラン、１,
２−ジフェニルトリシラン、１,２−ジ−ｐ−トリルト
リシラン、１,２−ジメシチルトリシラン、１,２−ジベ
ンジルトリシラン、１,２−ジフェネチルトリシラン、
１,２−ビス（トリメチルシリルメチル）トリシラン、
１,３−ジメチルトリシラン、１,３−ジエチルトリシラ
ン、１,３−ジ−ｎ−プロピルトリシラン、ビス（３,
３,３−トリフルオロプロピル）トリシラン、１,３−ジ
−ｎ−ブチルトリシラン、１,３−ジ−ｔ−ブチルトリ
シラン、ジ（１−メチルプロピル）トリシラン、ジ（２
−メチルプロピル）トリシラン、１,３−ジアミルトリ
シラン、１,３−ジ−ｎ−ヘキシルトリシラン、１,３−
ジシクロヘキシルトリシラン、１,３−ジ−ｎ−ヘプチ
ルトリシラン、１,３−ジ−ｎ−オクチルトリシラン、
１,３−ジ−ｎ−ノニルトリシラン、１,３−ジ−ｎ−デ
シルトリシラン、１,３−ジ−ｎ−ドデシルトリシラ
ン、１,３−ジフェニルトリシラン、１,３−ジ−ｐ−ト
リルトリシラン、１,３−ジメシチルトリシラン、１,３
−ジベンジルトリシラン、１,３−ジフェネチルトリシ
ラン、１,３−ビス（トリメチルシリルメチル）トリシ
ラン、１−エチル−１−メチルトリシラン、１−メチル
−１−ｎ−プロピルトリシラン、１−メチル−１−
（３,３,３−トリフルオロプロピル）トリシラン、１−
メチル−１−ｉ−プロピルトリシラン、１−ｎ−ブチル
−１−メチルトリシラン、１−ｔ−ブチル−１−メチル
トリシラン、１−メチル−１−（１−メチルプロピル）
トリシラン、１−メチル−１−（２−メチルプロピル）
トリシラン、１−アミル−１−メチルトリシラン、１−
ｎ−ヘキシル−１−メチルトリシラン、１−シクロヘキ
シル−１−メチルトリシラン、１−ｎ−ヘプチル−１−
メチルトリシラン、１−メチル−１−ｎ−オクチルトリ
シラン、１−メチル−１−ｎ−ノニルトリシラン、１−
ｎ−デシル−１−メチルトリシラン、１−ｎ−ドデシル
−１−メチルトリシラン、１−メチル−１−フェニルト
リシラン、１−ｐ−トリル−１−メチルトリシラン、１
−メチル−１−メシチルトリシラン、１−ベンジル−１
−メチルトリシラン、１−メチル−１−フェネチルトリ
シラン、１−メチル−１−（トリメチルシリルメチル）
トリシラン、１−（ｐ−メチルフェネチル）−１−メチ
ルトリシラン、１−エチル−１−フェニルトリシラン、
１−ｔ−ブチル−１−フェニルトリシラン、１−エチル
−２−メチルトリシラン、１−メチル−２−ｎ−プロピ
ルトリシラン、１−メチル−２−（３,３,３−トリフル
オロプロピル）トリシラン、１−メチル−２−ｉ−プロ
ピルトリシラン、１−ｎ−ブチル−２−メチルトリシラ
ン、１−ｔ−ブチル−２−メチルトリシラン、１−メチ
ル−２−（１−メチルプロピル）トリシラン、１−メチ
ル−２−（２−メチルプロピル）トリシラン、１−アミ
ル−２−メチルトリシラン、１−ｎ−ヘキシル−２−メ
チルトリシラン、１−シクロヘキシル−２−メチルトリ
シラン、１−ｎ−ヘプチル−２−メチルトリシラン、１
−メチル−２−ｎ−オクチルトリシラン、１−メチル−
２−ｎ−ノニルトリシラン、１−ｎ−デシル−２−メチ
ルトリシラン、１−ｎ−ドデシル−２−メチルトリシラ
ン、１−メチル−２−フェニルトリシラン、１−ｐ−ト
リル−２−メチルトリシラン、１−メチル−２−メシチ
ルトリシラン、１−ベンジル−２−メチルトリシラン、
１−メチル−２−フェネチルトリシラン、１−メチル−
２−（トリメチルシリルメチル）トリシラン、１−（ｐ
−メチルフェネチル）−２−メチルトリシラン、１−エ
チル−２−フェニルトリシラン、１−ｔ−ブチル−２−
フェニルトリシラン、１−エチル−３−メチルトリシラ
ン、１−メチル−３−ｎ−プロピルトリシラン、１−メ
チル−３−（３,３,３−トリフルオロプロピル）トリシ
ラン、１−メチル−３−ｉ−プロピルトリシラン、１−
ｎ−ブチル−３−メチルトリシラン、１−ｔ−ブチル−
３−メチルトリシラン、１−メチル−３−（１−メチル
プロピル）トリシラン、１−メチル−３−（２−メチル
プロピル）トリシラン、１−アミル−３−メチルトリシ
ラン、１−ｎ−ヘキシル−３−メチルトリシラン、１−
シクロヘキシル−３−メチルトリシラン、１−ｎ−ヘプ
チル−３−メチルトリシラン、１−メチル−３−ｎ−オ
クチルトリシラン、１−メチル−３−ｎ−ノニルトリシ
ラン、１−ｎ−デシル−３−メチルトリシラン、１−ｎ
−ドデシル−３−メチルトリシラン、１−メチル−３−
フェニルトリシラン、１−ｐ−トリル−３−メチルトリ
シラン、１−メチル−３−メシチルトリシラン、１−ベ
ンジル−３−メチルトリシラン、１−メチル−３−フェ
ネチルトリシラン、１−メチル−３−（トリメチルシリ
ルメチル）トリシラン、１−（ｐ−メチルフェネチル）
−３−メチルトリシラン、１−エチル−３−フェニルト
リシラン、１−ｔ−ブチル−３−フェニルトリシラン、
１,１,１−トリメチルトリシラン、１,１,１−トリエチ
ルトリシラン、１,１,１−トリ−ｎ−プロピルトリシラ
ン、１,１,１−トリス（３,３,３−トリフルオロプロピ
ル）トリシラン、１,１,１−トリ−ｎ−ブチルトリシラ
ン、１,１,１−トリ−ｔ−ブチルトリシラン、１,１,１
−トリ（１−メチルプロピル）トリシラン、１,１,１−
トリ（２−メチルプロピル）トリシラン、１,１,１−ト
リアミルトリシラン、１,１,１−トリ−ｎ−ヘキシルト
リシラン、１,１,１−トリシクロヘキシルトリシラン、
１,１,１−トリ−ｎ−ヘプチルトリシラン、１,１,１−
トリ−ｎ−オクチルトリシラン、１,１,１−トリ−ｎ−
ノニルトリシラン、１,１,１−トリ−ｎ−デシルトリシ
ラン、１,１,１−トリ−ｎ−ドデシルトリシラン、１,
１,１−トリフェニルトリシラン、１,１,１−トリ−ｐ
−トリルトリシラン、１,１,１−トリメシチルトリシラ
ン、１,１,１−トリベンジルトリシラン、１,１,１−ト
リフェネチルトリシラン、１,１,１−トリス（トリメチ
ルシリルメチル）トリシラン、１−エチル−１,１−ジ
メチルトリシラン、１−メチル−１,１−ジ−ｎ−プロ
ピルトリシラン、１−メチル−１,１−ビス（３,３,３
−トリフルオロプロピル）トリシラン、１−メチル−
１,１−ジ−ｉ−プロピルトリシラン、１−ｎ−ブチル
−１,１−ジメチルトリシラン、１−ｔ−ブチル−１,１
−ジメチルトリシラン、１−メチル−１,１−ジ（１−
メチルプロピル）トリシラン、１−メチル−１,１−ジ
（２−メチルプロピル）トリシラン、１−アミル−１,
１−ジメチルトリシラン、１−ｎ−ヘキシル−１,１−
ジメチルトリシラン、１−シクロヘキシル−１,１−ジ
メチルトリシラン、１−ｎ−ヘプチル−１,１−ジメチ
ルトリシラン、１−メチル−１,１−ジ−ｎ−オクチル
トリシラン、１−メチル−１,１−ジ−ｎ−ノニルトリ
シラン、１−ｎ−デシル−１,１−ジメチルトリシラ
ン、１−ｎ−ドデシル−１,１−ジメチルトリシラン、
１−メチル−１,１−ジフェニルトリシラン、１−ｐ−
トリル−１,１−ジメチルトリシラン、１−メチル−１,
１−ジメシチルトリシラン、１−ベンジル−１,１−ジ
メチルトリシラン、１−メチル−１,１−ジフェネチル
トリシラン、１−メチル−１,１−ビス（トリメチルシ
リルメチル）トリシラン、１−（ｐ−メチルフェネチ
ル）−１,１−ジメチルトリシラン、１−エチル−１,１
−ジフェニルトリシラ ン、１−ｔ−ブチル−１,１−ジ
フェニルトリシラン、１,１,２−トリメチルトリシラ
ン、１,１,２−トリエチルトリシラン、１,１,２−トリ
−ｎ−プロピルトリシラン、１,１,２−トリス（３,３,
３−トリフルオロプロピル）トリシラン、１,１,２−ト
リ−ｎ−ブチルトリシラン、１,１,２−トリ−ｔ−ブチ
ルトリシラン、１,１,２−トリ（１−メチルプロピル）
トリシラン、１,１,２−トリ（２−メチルプロピル）ト
リシラン、１,１,２−トリアミルトリシラン、１,１,２
−トリ−ｎ−ヘキシルトリシラン、１,１,２−トリシク
ロヘキシルトリシラン、１,１,２−トリ−ｎ−ヘプチル
トリシラン、１,１,２−トリ−ｎ−オクチルトリシラ
ン、１,１,２−トリ−ｎ−ノニルトリシラン、１,１,２
−トリ−ｎ−デシルトリシラン、１,１,２−トリ−ｎ−
ドデシルトリシラン、１,１,２−トリフェニルトリシラ
ン、１,１,２−トリ−ｐ−トリルトリシラン、１,１,２
−トリメシチルトリシラン、１,１,２−トリベンジルト
リシラン、１,１,２−トリフェネチルトリシラン、１,
１,２−トリス（トリメチルシリルメチル）トリシラ
ン、１,１,３−トリメチルトリシラン、１,１,３−トリ
エチルトリシラン、１,１,３−トリ−ｎ−プロピルトリ
シラン、１,１,３−トリス（３,３,３−トリフルオロプ
ロピル）トリシラン、１,１,３−トリ−ｎ−ブチルトリ
シラン、１,１,３−トリ−ｔ−ブチルトリシラン、１,
１,３−トリ（１−メチルプロピル）トリシラン、１,
１,３−トリ（２−メチルプロピル）トリシラン、１,
１,３−トリアミルトリシラン、１,１,３−トリ−ｎ−
ヘキシルトリシラン、１,１,３−トリシクロヘキシルト
リシラン、１,１,３−トリ−ｎ−ヘプチルトリシラン、
１,１,３−トリ−ｎ−オクチルトリシラン、１,１,３−
トリ−ｎ−ノニルトリシラン、１,１,３−トリ−ｎ−デ
シルトリシラン、１,１,３−トリ−ｎ−ドデシルトリシ
ラン、１,１,３−トリフェニルトリシラン、１,１,３−
トリ−ｐ−トリルトリシラン、１,１,３−トリメシチル
トリシラン、１,１,３−トリベンジルトリシラン、１,
１,３−トリフェネチルトリシラン、１,１,３−トリス
（トリメチルシリルメチル）トリシラン、１,２,３−ト
リメチルトリシラン、１,２,３−トリエチルトリシラ
ン、１,２,３−トリ−ｎ−プロピルトリシラン、１,２,
３−トリス（３,３,３−トリフルオロプロピル）トリシ
ラン、１,２,３−トリ−ｎ−ブチルトリシラン、１,２,
３−トリ−ｔ−ブチルトリシラン、１,２,３−トリ（１
−メチルプロピル）トリシラン、１,２,３−トリ（２−
メチルプロピル）トリシラン、１,２,３−トリアミルト
リシラン、１,２,３−トリ−ｎ−ヘキシルトリシラン、
１,２,３−トリシクロヘキシルトリシラン、１,２,３−
トリ−ｎ−ヘプチルトリシラン、１,２,３−トリ−ｎ−
オクチルトリシラン、１,２,３−トリ−ｎ−ノニルトリ
シラン、１,２,３−トリ−ｎ−デシルトリシラン、１,
２,３−トリ−ｎ−ドデシルトリシラン、１,２,３−ト
リフェニルトリシラン、１,２,３−トリ−ｐ−トリルト
リシラン、１,２,３−トリメシチルトリシラン、１,２,
３−トリベンジルトリシラン、１,２,３−トリフェネチ
ルトリシラン、１,２,３−トリス（トリメチルシリルメ
チル）トリシラン、１,１−ジエチル−２−メチルトリ
シラン、１,１−ジメチル−２−ｎ−プロピルトリシラ
ン、１,１−ジメチル−２−ｉ−プロピルトリシラン、
１,１−ジ−ｎ−ブチル−２−メチルトリシラン、１,１
−ジ−ｔ−ブチル−２−メチルトリシラン、１,１−ジ
−ｎ−ヘキシル−２−メチルトリシラン、１,１−ジシ
クロヘキシル−２−メチルトリシラン、１,１−ジ−ｎ
−ヘプチル−２−メチルトリシラン、１,１−ジメチル
−２−ｎ−オクチルトリシラン、１,１−ジ−ｎ−デシ
ル−２−メチルトリシラン、１,１−ジメチル−２−フ
ェニルトリシラン、１,１−ジ（ｐ−メチルフェネチ
ル）−２−メチルトリシラン、１,１−ジメチル−２−
（β−フェネチル）トリシラン、１,１−ジ−ｐ−トリ
ル−２−メチルトリシラン、１,１−ジフェニル−２−
エチルトリシラン、１,１−ジ−ｔ−ブチル−２−フェ
ニルトリシラン、１,１−ジ（フェニルジメチルシリ
ル）−２−メチルトリシラン、１,１−ビス（トリメチ
ルシリル）−２−メチルトリシラン、１,１−ジエチル
−３−メチルトリシラン、１,１−ジメチル−３−ｎ−
プロピルトリシラン、１,１−ジメチル−３−ｉ−プロ
ピルトリシラン、１,１−ジ−ｎ−ブチル−３−メチル
トリシラン、１,１−ジ−ｔ−ブチル−３−メチルトリ
シラン、１,１−ジ−ｎ−ヘキシル−３−メチルトリシ
ラン、１,１−ジシクロヘキシル−３−メチルトリシラ
ン、１,１−ジ−ｎ−ヘプチル−３−メチルトリシラ
ン、１,１−ジメチル−３−ｎ−オクチルトリシラン、
１,１−ジ−ｎ−デシル−３−メチルトリシラン、１,１
−ジメチル−３−フェニルトリシラン、１,１−ジ−
（ｐ−メチルフェネチル）−３−メチルトリシラン、
１,１−ジメチル−３−（β−フェネチル）トリシラ
ン、１,１−ジ−ｐ−トリル−３−メチルトリシラン、
１,１−ジフェニル−３−エチルトリシラン、１,１−ジ
−ｔ−ブチル−３−フェニルトリシラン、１,１−ジ
（フェニルジメチルシリル）−３−メチルトリシラン、
１,１−ビス（トリメチルシリル）−３−メチルトリシ
ラン、１,２−ジエチル−３−メチルトリシラン、１,２
−ジメチル−３−ｎ−プロピルトリシラン、１,２−ジ
メチル−３−ｉ−プロピルトリシラン、１,２−ジ−ｎ
−ブチル−３−メチルトリシラン、１,２−ジ−ｔ−ブ
チル−３−メチルトリシラン、１,２−ジ−ｎ−ヘキシ
ル−３−メチルトリシラン、１,２−ジシクロヘキシル
−３−メチルトリシラン、１,２−ジ−ｎ−ヘプチル−
３−メチルトリシラン、１,２−ジメチル−３−ｎ−オ
クチルトリシラン、１,２−ジ−ｎ−デシル−３−メチ
ルトリシラン、１,２−ジメチル−３−フェニルトリシ
ラン、１,２−ジ（ｐ−メチルフェネチル）−３−メチ
ルトリシラン、１,２−ジメチル−３−（β−フェネチ
ル）トリシラン、１,２−ジ−ｐ−トリル−３−メチル
トリシラン、１,２−ジフェニル−３−エチルトリシラ
ン、１,２−ジ−ｔ−ブチル−３−フェニルトリシラ
ン、１,２−ジ（フェニルジメチルシリル）−３−メチ
ルトリシラン、１,２−ビス（トリメチルシリル）−３
−メチルトリシランなどが挙げられる。

【００３９】上記の中でアンダラインを付したものが中
でも好ましいヒドロトリシランである。

【００４０】本発明の第１の態様においては上記メタロ
セン化合物およびシリル化合物を含有する混合物を触媒
として、ヒドロシランを反応させるが、該反応は通常脱
水素縮合反応であり、以下の条件で行われる。

【００４１】反応温度は０〜２５０℃、好ましくは２５
〜２１０℃である。

【００４２】該反応温度を上記範囲内で選択もしくは変
化させることにより後述のとおり、得られるポリシラン
の性質を、目的に応じて調節することができる。

【００４３】反応時間は、反応温度や触媒量によって異
なるが、通常５分〜２４時間、好ましくは３０分〜３時
間である。

【００４４】反応は、溶媒の存在下に行ってもよく、ま
たは非存在下に行ってもよい。溶媒を用いる場合は、ト
ルエン、キシレン、ヘプタン、デカン、ドデカンなどの
炭化水素溶媒や、ジエチルエーテル、イソプロピルエー
テル、メチルブチルエーテル、ジメトキシエタン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグリムなどのエーテル
溶媒、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスフオリ
ツクトリアミドなどのアミド溶媒、酢酸エチル、酢酸ブ
チルなどのエステル溶媒、ジメチルスルホキシドなどの
スルホキシド類などが用いられる。

【００４５】反応は、アルゴン、窒素などの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましい。

【００４６】かくして得られるポリシランの構造は繰返
し単位として下記一般式（１５）、（１６）および／ま
たは（１７）

【００４７】

【化２１】

【００４８】

【化２２】

【００４９】

【化２３】

【００５０】（式中、Ｒ¹⁹は水素、アルキル基、置換基
を有するアルキル基、フェニル基または置換基を有する
フェニル基、またはアルキル基やフェニル基を置換基と
するＲＲ′Ｒ″Ｓｉ型シリル基であり、Ｒ²⁰は水素、ア
ルキル基、置換基を有するアルキル基、フェニル基また
は置換基を有するフェニル基、またはアルキル基やフェ
ニル基を置換基とするＲＲ′Ｒ″Ｓｉ型シリル基であ
る。ただし、Ｒ、Ｒ′およびＲ″は水素、炭素数１〜１
２のアルキル基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素
数６〜１２のアリール基より選ばれ、これらは同一であ
っても異なってもよい。）を含む。

【００５１】該生成物の構造は、ＩＲ、¹ＨＮＭＲ、¹³
ＣＮＭＲ、²⁹ＳｉＮＭＲ、ＵＶ、ＧＰＣなどによって確
認される。

【００５２】上記一般式（１５）、（１６）および（１
７）で表される単位の組成割合は反応温度によって異な
る。例えば反応温度が低いとき（０〜６０℃）は、直鎖
構造あるいは単環構造が多くて、枝分かれ構造や橋架け
構造が少ないポリシランが得られる。このとき重合度は
２以上であるが、通常は２０〜１００である。また、ｎ
／ｍは通常０〜１０、好ましくは０〜５、ｏ／ｍは通常
０〜１０、好ましくは０〜５である。

【００５３】また反応温度が高くなるにつれて、ｎおよ
び／またはｏの値が大きくなる傾向があり、１８０〜２
５０℃では、直鎖構造あるいは単環構造が少なくて、枝
分かれ構造や橋架け構造あるいは縮合多環構造が多いポ
リシランが得られる。重合度は２以上であるが、通常は
６〜２０００である。この場合、ｍ、ｎ、ｏはそれぞ
れ、０となる可能性があるために、ｎ／ｍ、ｏ／ｎの値
のとり得る範囲を一概には示せないが、ｎ／ｍは通常０
〜１０００、好ましくは０〜１００、ｏ／ｎは通常０〜
１０００、好ましくは０〜１００程度である。

【００５４】また途中の温度（６０〜１８０℃）では、
重合度は２以上であるが、通常は１０〜１０００であ
り、ｎ／ｍは通常０〜１００、好ましくは０〜２０、ｏ
／ｎは通常０〜１００、好ましくは０〜２０である。

【００５５】また、ｍ、ｎ、ｏの比率は、用いるヒドロ
シランの種類および二種類以上のヒドロシランを用いる
ときはそれらの使用割合によつて調節することができ
る。

【００５６】本発明の第２の態様においては（Ａ）一般
式（１）で表されるメタロセン化合物と（Ｂ）′一般式
（６）で表されるメタルハイドライド［金属（重）水素
化物］を含有する混合物を触媒として用いる。

【００５７】一般式（１）で表されるメタロセン化合物
は、本発明の第１の態様において用いるものと同じであ
る。

【００５８】また一般式（６）で表されるメタルハイド
ライドとしては例えば、ＬｉＨ、ＮａＨ、ＫＨ、ＣａＨ
₂ 、ＡｌＨ₃、ＭｅＡｌＨ₂、ＥｔＡｌＨ₂、ｎ−ＰｒＡｌ
Ｈ₂、ｉ−ＰｒＡｌＨ₂、ｎ−ＢｕＡｌＨ₂、ｉ−ＢｕＡ
ｌＨ₂、ｓｅｃ−ＢｕＡｌＨ₂、ｔ−ＢｕＡｌＨ₂、Ｍｅ₂
ＡｌＨ、Ｅｔ₂ＡｌＨ、ｎ−Ｐｒ₂ＡｌＨ、ｉ−Ｐｒ₂Ａ
ｌＨ、ｎ−Ｂｕ₂ＡｌＨ、ｉ−Ｂｕ ₂ ＡｌＨ、ｓｅｃ−Ｂ
ｕ₂ＡｌＨ、ｔ−Ｂｕ₂ＡｌＨ、ＬｉＡｌＨ ₄ 、ＬｉＡｌ
(Ｅｔ)₂Ｈ₂、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｐｒ)₂Ｈ₂、ＬｉＡｌ(ｉ−
Ｐｒ)₂Ｈ₂、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｂｕ)₂Ｈ₂、ＬｉＡｌ(ｉ−Ｂ
ｕ)₂Ｈ₂、ＬｉＡｌ(ｓｅｃ−Ｂｕ)₂Ｈ₂、ＬｉＡｌ(ｔ−
Ｂｕ)₂Ｈ₂、ＬｉＡｌ(Ｅｔ)₃Ｈ、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｐｒ)₃
Ｈ、ＬｉＡｌ(ｉ−Ｐｒ)₃Ｈ、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｂｕ)₃Ｈ、
ＬｉＡｌ(ｉ−Ｂｕ)₃Ｈ、ＬｉＡｌ(ｓｅｃ−Ｂｕ)₃Ｈ、
ＬｉＡｌ(ＯＭｅ)₃Ｈ、ＬｉＡｌ(ＯＥｔ)₃Ｈ、ＬｉＡｌ
(Ｏ−ｔ−Ｂｕ) ₃ Ｈ、ＮａＡｌ(ＯＣＨ₂ＣＨ₂−ＯＭｅ)₃
Ｈ₂、ＢＨ ₃ 、[(ＣＨ ₃ ) ₂ ＣＨＣＨ(ＣＨ ₃ )] ₂ ＢＨ、ＬｉＢ
Ｈ ₄ 、ＬｉＢ(ｓｅｃ−Ｂｕ) ₃ Ｈ、ＬｉＢ(Ｅｔ) ₃ Ｈ、Ｌ
ｉ(９−ＢＢＮ)Ｈ、ＮａＢＨ ₄ 、ＫＢＨ ₄ 、Ｍｅ ₄ ＮＢ
Ｈ ₄ 、Ｅｔ ₄ ＮＢＨ ₄ 、ＬｉＤ、ＮａＤ、ＫＤ、ＣａＤ₂、
ＡｌＤ₃、ＭｅＡｌＤ₂、ＥｔＡｌＤ₂、ｎ−ＰｒＡｌ
Ｄ₂、ｉ−ＰｒＡｌＤ₂、ｎ−ＢｕＡｌＤ₂、ｉ−ＢｕＡ
ｌＤ₂、ｓｅｃ−ＢｕＡｌＤ₂、ｔ−ＢｕＡｌＤ₂、Ｍｅ₂
ＡｌＤ、Ｅｔ₂ＡｌＤ、ｎ−Ｐｒ₂ＡｌＤ、ｉ−Ｐｒ₂Ａ
ｌＤ、ｎ−Ｂｕ₂ＡｌＤ、ｉ−Ｂｕ₂ＡｌＤ、ｓｅｃ−Ｂ
ｕ₂ＡｌＤ、ｔ−Ｂｕ₂ＡｌＤ、ＬｉＡｌＤ₄、ＬｉＡｌ
(Ｅｔ)₂Ｄ₂、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｐｒ)₂Ｄ₂、ＬｉＡｌ(ｉ−
Ｐｒ)₂Ｄ₂、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｂｕ)₂Ｄ₂、ＬｉＡｌ(ｉ−Ｂ
ｕ)₂Ｄ₂、ＬｉＡｌ(ｓｅｃ−Ｂｕ)₂Ｄ₂、ＬｉＡｌ(ｔ−
Ｂｕ)₂Ｄ₂、ＬｉＡｌ(Ｅｔ)₃Ｄ、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｐｒ)₃
Ｄ、ＬｉＡｌ(ｉ−Ｐｒ)₃Ｄ、ＬｉＡｌ(ｎ−Ｂｕ)₃Ｄ、
ＬｉＡｌ(ｉ−Ｂｕ)₃Ｄ、ＬｉＡｌ(ｓｅｃ−Ｂｕ)₃Ｄ、
ＬｉＡｌ(ＯＭｅ)₃Ｄ、ＬｉＡｌ(ＯＥｔ)₃Ｄ、ＬｉＡｌ
(Ｏ−ｔ−Ｂｕ)₃Ｄ、ＮａＡｌ(ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅ)₃Ｄ
₂、ＢＤ₃、[(ＣＨ₃)₂ＣＨＣＨ(ＣＨ₃)]₂ＢＤ、ＬｉＢＤ
₄、ＬｉＢ(ｓｅｃ−Ｂｕ)₃Ｄ、ＬｉＢ(Ｅｔ)₃Ｄ、Ｌｉ
(９−ＢＢＮ)Ｄ、ＮａＢＤ₄、ＫＢＤ₄、Ｍｅ₄ＮＢＤ₄、
Ｅｔ₄ＮＢＤ₄などが挙げられる。

【００５９】上記の中でアンダラインを付したものが中
でも好ましいメタルハイドライドである。

【００６０】該メタルハイドライドは、上記より選ばれ
る１種類単独もしくは２種類以上を混合して用いること
ができる。

【００６１】上記メタロセン化合物およびメタルハイド
ライドの使用割合は、ヒドロシラン１００ｍｏｌに対
し、メタロセン化合物が通常０.０１〜１０ｍｏｌ、好
ましくは０.１〜５ｍｏｌ、メタルハイドライドが通常
０.００５〜５０ｍｏｌ、好ましくは０.０５〜２０ｍｏ
ｌである。

【００６２】該触媒には添加物として、１２−クラウン
−４、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、ジベ
ンゾ−１２−クラウン−４、ジベンゾ−１５−クラウン
−５、ジベンゾ−１８−クラウン−６などのクラウンエ
ーテル類やテトラメチルエチレンジアミンなどのジアミ
ン類などを加えてもよい。該添加物の使用割合は、ヒド
ロシラン１００ｍｏｌに対し、通常０.００５〜５０ｍ
ｏｌ、好ましくは０.０５〜２０ｍｏｌである。

【００６３】本発明の第２の態様においては上記メタロ
セン化合物およびメタルハイドライドを含有する混合物
を触媒として、ヒドロシランを反応させてポリシランを
製造する。

【００６４】該ヒドロシランには通常、ヒドロモノシラ
ン、ヒドロジシラン、ヒドロトリシラン、もしくはこれ
らのうちの２種以上の混合物を用いる。用いるヒドロモ
ノシラン、ヒドロジシラン及びヒドロトリシランは、本
発明の第１の態様に用いるものと同じである。

【００６５】本発明の第２の態様においては上記メタロ
セン化合物およびメタルハイドライドを含有する混合物
を触媒として、ヒドロシランを反応させるが、該反応は
通常脱水素縮合反応であり、以下の条件で行われる。

【００６６】反応温度は０〜２５０℃、好ましくは２５
〜２１０℃である。

【００６７】該反応温度を上記範囲内で選択もしくは変
化させることにより後述のとおり、得られるポリシラン
の性質を、目的に応じて調節することができる。

【００６８】反応時間は、反応温度や触媒量によって異
なるが、通常５分〜２４時間、好ましくは３０分〜３時
間である。

【００６９】反応は、溶媒の存在下に行ってもよく、ま
たは非存在下に行ってもよい。溶媒を用いる場合は、ト
ルエン、キシレン、ヘプタン、デカン、ドデカンなどの
炭化水素溶媒や、ジエチルエーテル、イソプロピルエー
テル、メチルブチルエーテル、ジメトキシエタン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグリムなどのエーテル
溶媒、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスフォリ
ックトリアミドなどのアミド溶媒、酢酸エチル、酢酸ブ
チルなどのエステル溶媒、ジメチルスルホキシドなどの
スルホキシド類などが用いられる。

【００７０】反応は、アルゴン、窒素などの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましい。

【００７１】かくして得られるポリシランの構造単位と
しては前記一般式（１５）、（１６）および／または
（１７）のものが含まれる。

【００７２】該生成物の構造は、ＩＲ、¹ＨＮＭＲ、¹³
ＣＮＭＲ、²⁹ＳｉＮＭＲ、ＵＶ、ＧＰＣなどによって確
認される。

【００７３】上記一般式（１５）、（１６）および（１
７）で表される単位の組成割合は反応温度によって異な
る。例えば反応温度が低いとき（０〜６０℃）は、直鎖
構造あるいは単環構造が多くて、枝分かれ構造や橋架け
構造が少ないポリシランが得られる。このとき重合度は
２以上であるが、通常は２０〜１００である。また、ｎ
／ｍは通常０〜１０、好ましくは０〜５である。ｏ／ｍ
は通常０〜１０、好ましくは０〜５である。

【００７４】また反応温度が高くなるにつれて、ｎおよ
び／またはｏの値が大きくなる傾向があり、１８０〜２
５０℃では、直鎖構造あるいは単環構造が少なくて、枝
分かれ構造や橋架け構造あるいは縮合多環構造が多いポ
リシランが得られる。重合度は２以上であるが、通常は
６〜２０００である。この場合、ｎ、ｍ、ｏはそれぞ
れ、０となる可能性があるために、ｎ／ｍ、ｏ／ｎの値
のとり得る範囲を一概には示せないが、ｎ／ｍは通常０
〜１０００、好ましくは０〜１００、ｏ／ｎは通常０〜
１０００、好ましくは０〜１００程度である。

【００７５】また途中の温度（６０〜１８０℃）では、
重合度は２以上であるが、通常は１０〜１０００であ
り、ｎ／ｍは通常０〜１００、好ましくは０〜２０、ｏ
／ｍは通常０〜１００、好ましくは０〜２０である。

【００７６】またｍ、ｎ、ｏの比率は、用いるヒドロシ
ランの種類、および２種類以上のヒドロシランを用いる
ときはそれらの使用割合によって調節することができ
る。

【００７７】本発明により、ヒドロシランからポリシラ
ンを製造するに際し、公知の触媒を用いた場合よりも、
より重合度の大きなポリマーを効率良く製造することが
できるので工業的にも極めて有用である。

【００７８】

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【００７９】実施例１ 磁気撹拌機を備えた１００ｍｌガラス製フラスコに、ア
ルゴン雰囲気下で、触媒としてＣｐ₂ＨｆＣｌ₂（１６６
ｍｇ、０.４３７ｍｍｏｌ）と（Ｍｅ₃Ｓｉ)₃ＳｉＬｉ・
ＴＨＦ₃（３６９ｍｇ、０.７８４ｍｍｏｌ）を入れた。
ついで、ＰｈＳｉＨ₃（５.０ｍｌ、４０ｍｍｏｌ）を室
温で加えた。

【００８０】添加直後、激しい気体の発生がみられ、反
応物は黄褐色に変色した。激しい気体の発生は１０分ほ
ど続き、その後は穏やかになった。２３時間後、反応生
成物を、溶媒のトルエン（５００ｍｌ）とともにフロリ
ジル（５５ｇ）のカラムを通過させることにより精製し
た。

【００８１】トルエンを減圧留去したところ、白色固体
状ポリシラン（４.２ｇ）が得られた。収率は９６％
（ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）であった。

【００８２】得られたポリシランの物性を調べたとこ
ろ、下記の結果となった。

【００８３】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝６８００、Ｍｎ＝３９００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１０４ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.１〜５.３（１Ｈ）、６.７〜７.８
（５.５Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５８ｎｍ、２９５ｎｍ（Shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝０.１である
ことがわかった。

【００８４】実施例２ 反応温度を１１０℃にして２時間撹拌した以外は実施例
１と同様にしてポリシランの製造を行ったところ、黄色
粉末状ポリシラン（収率約１００％；ＰｈＳｉＨ₃を基
準とした重量％）が得られた。

【００８５】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝２３００、Ｍｎ＝１５００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１００ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.０〜５.９（１Ｈ）、６.６〜８.０
（６.８Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５４ｎｍ、３０９ｎｍ（shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝２.７８であ
ることがわかった。

【００８６】実施例３ 反応温度を１００℃で１時間、続いて２００℃で２時間
撹拌した以外は実施例１と同様にしてポリシランの製造
を行ったところ、黄色粉末状ポリシラン（収率９６％；
ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）が得られた。

【００８７】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝１１００、Ｍｎ＝１０００ ＩＲ：２１００ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.５〜６.０（１Ｈ）、６.５〜８.１
（１２Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５４ｎｍ（吸収の裾は３７０ｎｍま
で続いた） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝５.１である
ことがわかった。

【００８８】実施例４ 触媒としてＣｐ₂ＺｒＣｌ₂（１８２ｍｇ、０.６２３ｍ
ｍｏｌ）と（Ｍｅ₃Ｓｉ)₃ＳｉＬｉ ＴＨＦ₃（３７２ｍ
ｇ、０.７９０ｍｍｏｌ）を用い、１１０℃で２時間撹
拌した以外は実施例１と同様にしてポリシランの製造を
行ったところ、黄色粉末状ポリシラン（収率９２％；Ｐ
ｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）が得られた。

【００８９】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝１５００、Ｍｎ＝１０００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１００ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ３.９〜５.９（１Ｈ）、６.６〜８.１
（８.７Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５８ｎｍ、３０９ｎｍ（Shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝１.４１であ
ることがわかった。

【００９０】実施例５ 触媒としてＣｐ₂ＺｒＣｌ₂（１７４ｍｇ、０.５９４ｍ
ｍｏｌ）とＰｈ₃ＳｉＫ（２５２ｍｇ、０.８４３ｍｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１と同様にしてポリシランの
製造を行ったところ、無色の粘稠なポリシラン（収率９
３％；ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）が得られた。

【００９１】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝３３００、Ｍｎ＝２５００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１０６ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.１〜５.３（１Ｈ）、６.７〜７.８
（５.５Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５６ｎｍ、２９２ｎｍ（Shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝０.２である
ことがわかった。

【００９２】実施例６ 触媒としてＣｐ₂ＴｉＣｌ₂（１４８ｍｇ、０.５９４ｍ
ｍｏｌ）とＰｈ₃ＳｉＮａ（２３８ｍｇ、０.８４３ｍｍ
ｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にしてポリシラン
の製造を行ったところ、無色の粘稠なポリシラン（収率
９１％；ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）が得られ
た。

【００９３】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝２８００、Ｍｎ＝２２００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１０６ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.２〜５.３（１Ｈ）、６.７〜７.９
（５.９Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５２ｎｍ、２９３ｎｍ（shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝０.１８であ
ることがわかった。

【００９４】実施例７ 磁気撹拌機を備えた１００ｍｌガラス製フラスコに、ア
ルゴン雰囲気下で、触媒としてＣｐ₂ＨｆＣｌ₂（１９５
ｍｇ、０.５１４ｍｍｏｌ）とＫＨ（６０ｍｇ、１.５ｍ
ｍｏｌ）と１８−クラウン−６（６４ｍｇ、０.２４ｍ
ｍｏｌ）を入れた。ここへ、ＰｈＳｉＨ₃（５.０ｍｌ、
４０ｍｍｏｌ）を加え、１００℃に加熱したところ、気
体の発生がみられ、反応物は黄褐色に変色した。

【００９５】６時間後、反応生成物を、溶媒のトルエン
（５００ｍｌ）とともにフロリジル（５５ｇ）のカラム
を通過させることにより精製した。

【００９６】トルエンを減圧留去したところ、淡黄色の
粘稠なポリシラン（３.９ｇ）が得られた。収率は９０
％（ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）であった。

【００９７】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝３５００、Ｍｎ＝２５００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１０４ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.１〜５.４（１Ｈ）、６.６〜７.８
（７.４Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５８ｎｍ、３００ｎｍ（Shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝２.０８であ
ることがわかった。

【００９８】実施例８ 磁気撹拌機を備えた１００ｍｌガラス製フラスコに、ア
ルゴン雰囲気下で、触媒としてＣｐ₂ＨｆＣｌ₂（２１０
ｍｇ、０.５５４ｍｍｏｌ）とＫＨ（６０ｍｇ、１.５ｍ
ｍｏｌ）とＮａＨ（２６ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ）と１８
−クラウン−６（６４ｍｇ、０.２４ｍｍｏｌ）を入れ
た。ここへ、ＰｈＳｉＨ₃（５.０ｍｌ、４０ｍｍｏｌ）
を加え、１００℃で１時間、続いて２００℃で２時間加
熱した。反応生成物に実施例７と同様の精製処理を行っ
たところ、黄色粉末状ポリシラン（収率７３％；ＰｈＳ
ｉＨ₃を基準とした重量％）が得られた。

【００９９】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝９４０、Ｍｎ＝９００ ＩＲ：２１００ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ５.２〜５.９（１Ｈ）、６.４〜８.１
（３３Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５４ｎｍ（吸収の裾は３８０ｎｍま
で続いた） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝５.６である
ことがわかった。

【０１００】実施例９ 触媒としてＣｐ₂ＺｒＣｌ₂（１８２ｍｇ、０.６２３ｍ
ｍｏｌ）とＬｉＡｌＨ₄（９ｍｇ、０.２ｍｍｏｌ）を用
い、ここへ、ＰｈＳｉＨ₃（５.０ｍｌ、４０ｍｍｏｌ）
のＴＨＦ（５.０ｍｌ）溶液を加え、室温で２４時間撹
拌した。

【０１０１】反応生成物に実施例７と同様精製の処理を
行ったところ、白色の粘稠なポリシラン（収率〜１００
％；ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）が得られた。

【０１０２】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝５６００、Ｍｎ＝３５００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１０６ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.１〜５.４（１Ｈ）、６.６〜７.９
（５.６Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５４ｎｍ、２９３ｎｍ（Shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝０.１２であ
ることがわかった。

【０１０３】実施例１０ 触媒としてＣｐ₂ＴｉＣｌ₂（１４８ｍｇ、０.５９４ｍ
ｍｏｌ）を用いた以外は実施例９と同様にしてポリシラ
ンの製造を行ったところ、無色の粘稠なポリシラン（収
率９６％；ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重量％）が得られ
た。

【０１０４】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝２９００、Ｍｎ＝２３００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１０６ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.２〜５.３（１Ｈ）、６.７〜７.９
（５.７Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５２ｎｍ、２９２ｎｍ（Shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝０.１４であ
ることがわかった。

【０１０５】実施例１１ 触媒としてＣｐ₂ＨｆＣｌ₂（２１０ｍｇ、０.５５４ｍ
ｍｏｌ）とＫＤ（６５ｍｇ、１.６ｍｍｏｌ）と１８−
クラウン−６（１９２ｍｇ、０.７２６ｍｍｏｌ）を用
いた以外は実施例７と同様にしてポリシランの製造を行
ったところ、淡黄色の粘稠なポリシラン（３.７ｇ）が
得られた。収率は８５％（ＰｈＳｉＨ₃を基準とした重
量％）であった。

【０１０６】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝３２００、Ｍｎ＝２１００ ＩＲ：９１５ｃｍ^-1、２１０６ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ４.２〜５.５（１Ｈ）、６.６〜７.９
（６.９Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２５４ｎｍ、３０２ｎｍ（Shoulder） 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝２.６３であ
ることがわかった。

【０１０７】実施例１２ 触媒としてＣｐ₂ＨｆＣｌ₂（１４３ｍｇ、０.３７６ｍ
ｍｏｌ）とＫＨ（８４ｍｇ、２.１ｍｍｏｌ）と１８−
クラウン−６（６１８ｍｇ、２.３４ｍｍｏｌ）を用
い、ここへ、ｎ−ＨｅｘＳｉＨ₈（３.６ｇ、３１ｍｍｏ
ｌ）を加え、１００℃で１時間、１５０℃で１時間、２
００℃で２時間加熱した。

【０１０８】反応生成物に実施例７と同様精製の処理を
行ったところ、薄黄色の粘稠なポリシラン（収率８３
％；ｎ−ＨｅｘＳｉＨ₈を基準とした重量％）が得られ
た。

【０１０９】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝１７００、Ｍｎ＝１６００ ＩＲ：２０６４ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ０.８〜２.０（９６Ｈ）、４.９〜５.２
（１Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：２６５ｎｍ 以上の分析結果より、得られたポリシランの構成単位の
組成を求めたところ、前記一般式（１５）および一般式
（１６）で表される単位の比率はｎ／ｍ＝６.３である
ことがわかった。

【０１１０】実施例１３ 触媒としてＣｐ₂ＨｆＣｌ₂（６４ｍｇ、０.１７ｍｍｏ
ｌ）とＫＨ（３０ｍｇ、０.７６ｍｍｏｌ）と１８−ク
ラウン−６（２４９ｍｇ、０.９４２ｍｍｏｌ）を用
い、ここへ、ｎ−ＨｅｘＳｉＨ₂ＳｉＨ₃（２.５ｇ、１
７ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で１時間、１５０℃で１
時間加熱した。

【０１１１】反応生成物に実施例７と同様精製の処理を
行ったところ、暗赤色の粘稠なポリシラン（収率７５
％；ｎ−ＨｅｘＳｉＨ₂ＳｉＨ₃を基準とした重量％）が
得られた。

【０１１２】 ＧＰＣ：Ｍｗ＝１４０００、Ｍｎ＝４６００ ＩＲ：２１０６ｃｍ^{-1 1} ＨＮＭＲ：δ１.０〜２.２（２１Ｈ）、３.６〜５.０
（１Ｈ） ＵＶ（ＴＨＦ）：４２８ｎｍ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−67288（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 77/60

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ヒドロシランを反応させてポリシランを
   製造する方法において、触媒として（Ａ）下記一般式
   （１） 【化１】ＬＬ′ＭＣｌ₂ （１） ［式中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆを表す。Ｌおよ
   びＬ′は、無置換シクロペンタジエニル、炭素数１〜６
   のアルキル基で置換されたシクロペンタジエニル、下記
   一般式（２） 【化２】Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ− （２） ｛式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は水素、炭素数１〜１２のアル
   キル基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１
   ２のアリール基より選ばれ、これらは同一であっても異
   なってもよい。｝で示されるシリル基で置換されたシク
   ロペンタジエニル、 無置換インデニル、炭素数１〜６のアルキル基で置換さ
   れたインデニル、もしくは上記一般式（２）で示される
   シリル基で置換されたインデニルより選ばれ、互いに同
   一であっても異なっていてもよい。またＬとＬ′の間は
   炭素数１〜４のアルキレン、もしくは下記一般式（３） 【化３】 ｛式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素、炭素数１〜１２のアルキル
   基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１２の
   アリール基より選ばれ、これらは同一であっても異なっ
   てもよい。｝で示されるシリレンで架橋されていてもよ
   い］で表されるメタロセン化合物と、（Ｂ）下記一般式
   （４） 【化４】Ｒ⁹Ｒ¹⁰Ｒ¹¹ＳｉＡ （４） ［式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は、それぞれ炭素数１〜１２
   の直鎖または分枝状のアルキル基あるいはアラルキル
   基、炭素数６〜１２のアリール基、もしくは下記一般式
   （５） 【化５】Ｒ¹²Ｒ¹³Ｒ¹⁴Ｓｉ− （５） ｛ただしＲ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は炭素数１〜８のアルキル基
   もしくはアリール基より選ばれ、同一であっても異なっ
   ていてもよい。｝で示されるシリル基より選ばれ、同一
   であっても異なっていてもよい。Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、も
   しくはＫを表す。］で表されるシリル化合物とを含有す
   る混合物を用いることを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 ヒドロシランが、少なくとも、ヒドロモ
   ノシラン、ヒドロジシラン、ヒドロトリシランから選ば
   れる１種以上の化合物であることを特徴とする請求項１
   記載の製造方法。
3. 【請求項３】 ヒドロシランを反応させてポリシランを
   製造する方法において、触媒として、（Ａ）下記一般式
   （１） 【化６】ＬＬ′ＭＣｌ₂ （１） ［式中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆを表す。Ｌおよ
   びＬ′は、無置換シクロペンタジエニル、炭素数１〜６
   のアルキル基で置換されたシクロペンタジエニル、下記
   一般式（２） 【化７】Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ− （２） ｛式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は水素、炭素数１〜１２のアル
   キル基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１
   ２のアリール基より選ばれ、これらは同一であっても異
   なってもよい。｝で示されるシリル基で置換されたシク
   ロペンタジエニル、 無置換インデニル、炭素数１〜６のアルキル基で置換さ
   れたインデニル、もしくは上記一般式（２）で示される
   シリル基で置換されたインデニルより選ばれ、互いに同
   一であっても異なっていてもよい。またＬとＬ′の間は
   炭素数１〜４のアルキレン、もしくは下記一般式（３） 【化８】 ｛式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素、炭素数１〜１２のアルキル
   基、あるいはアラルキル基、もしくは炭素数６〜１２の
   アリール基より選ばれ、これらは同一であっても異なっ
   てもよい。｝で示されるシリレンで架橋されていてもよ
   い］で表されるメタロセン化合物と、（Ｂ）′下記一般
   式（６） 【化９】Ａ′Ｘｎ （６） （式中、Ａ′は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ、Ｒ⁴
   _(3-n)Ａｌ、ＬｉＡｌ、ＬｉＡｌＲ⁵ _(4-n)、ＮａＡｌＲ⁵
   _(4-n)、Ｂ、Ｒ⁴ _(3-n)Ｂ、ＬｉＢ、ＬｉＢＲ⁵、ＮａＢ、
   ＫＢ、又はＲ⁶Ｂを表し、Ｒ⁴は炭素数１〜５のアルキル
   基、Ｒ⁵は炭素数１〜８のアルキルまたはアルコキシル
   基、Ｒ⁶は炭素数１〜４の第４級アンモニウム、をそれ
   ぞれ示す。ただし、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が複数個存在す
   る場合には、それぞれ同一であっても異なっていてもよ
   い。また、ＸはＨ（水素）またはＤ（重水素）であり、
   ｎは１〜４の整数である。）で表されるメタルハイドラ
   イドとを含有する混合物を用いることを特徴とする、ポ
   リシランの製造方法。