JPS6155516B2 - - Google Patents
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- JPS6155516B2 JPS6155516B2 JP54029454A JP2945479A JPS6155516B2 JP S6155516 B2 JPS6155516 B2 JP S6155516B2 JP 54029454 A JP54029454 A JP 54029454A JP 2945479 A JP2945479 A JP 2945479A JP S6155516 B2 JPS6155516 B2 JP S6155516B2
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 claims description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 4
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical group Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 2
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- AZFVLHQDIIJLJG-UHFFFAOYSA-N chloromethylsilane Chemical compound [SiH3]CCl AZFVLHQDIIJLJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001944 continuous distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1884—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by dismutation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明は、一般式
RaSiHb(OR′)4-(a+b) ()
〔ここにRは、7個以下のC原子を有する非置換
または置換アルキル基、アルケニル基またはアリ
ール基を表わし、 R′は1−4個のC原子を有するアルキル基を
表わし、 aおよびbは1、2または3を表わし、ただし
(a+b)の合計値はせいぜい4である〕のシラ
ンを製造する方法において、Si−H基を有する有
機ポリシロキサンと、一般式 RaSi(OR′)4-a (ここにR、R′およびaは前記の意味を有する)
の化合物とを、レドツクス安定型の(redox−
stabl)シロキサン重合触媒の存在下に反応さ
せ、しかして該触媒がそれ自体公知のものであ
り、かつ該触媒が当該交換反応を促進するもので
あることを特徴とする方法に関するものである。 一般式()のシランが、一般に次式 RaSiHbX4-(a+b) (X=Br、Cl) のハロゲノシランとアルコールとを反応させるこ
とにより得られることは公知である〔たとえば
V.バザント編「オーガノシリコン、コンパウン
ズ」(1965年)第125頁参照〕。 しかしながら、この公知反応を行つた場合には
所望生成物の収率が低いことが多い。その主な理
由として次のことがあげられる。すなわち、この
反応で副生した塩化水素が、珪素−アルコキシ基
を分解してアルコ−ルおよびクロロシランを生成
させ、かつまた該塩化水素は(特にアルコ−ル存
在下に)ヒドロシラン結合をも破壊して水素を逸
失させそして
または置換アルキル基、アルケニル基またはアリ
ール基を表わし、 R′は1−4個のC原子を有するアルキル基を
表わし、 aおよびbは1、2または3を表わし、ただし
(a+b)の合計値はせいぜい4である〕のシラ
ンを製造する方法において、Si−H基を有する有
機ポリシロキサンと、一般式 RaSi(OR′)4-a (ここにR、R′およびaは前記の意味を有する)
の化合物とを、レドツクス安定型の(redox−
stabl)シロキサン重合触媒の存在下に反応さ
せ、しかして該触媒がそれ自体公知のものであ
り、かつ該触媒が当該交換反応を促進するもので
あることを特徴とする方法に関するものである。 一般式()のシランが、一般に次式 RaSiHbX4-(a+b) (X=Br、Cl) のハロゲノシランとアルコールとを反応させるこ
とにより得られることは公知である〔たとえば
V.バザント編「オーガノシリコン、コンパウン
ズ」(1965年)第125頁参照〕。 しかしながら、この公知反応を行つた場合には
所望生成物の収率が低いことが多い。その主な理
由として次のことがあげられる。すなわち、この
反応で副生した塩化水素が、珪素−アルコキシ基
を分解してアルコ−ルおよびクロロシランを生成
させ、かつまた該塩化水素は(特にアルコ−ル存
在下に)ヒドロシラン結合をも破壊して水素を逸
失させそして
【式】結合および−Si−Cl結
合を生成させるのである。さらにまた、前記塩化
水素は、ここで使用されたアルカノールと反応し
て、クロロアルカンを生成させ、かつ一時的に水
をも生成させ、そしてこの水がクロロシランおよ
びアルコキシシランを加水分解する。 前記の塩化水素を反応混合物から迅速に除去す
るかまたは塩基で捕捉した場合には、前記の副反
応がかなり充分に防止できる。しかしながらこの
ために、複雑な装置および複雑な手段が必要であ
る。 たとえば、酸受体を使用することが独国特許公
告公報第1162365号および独国特許公告公報第
2304503号に開示されており、低圧の使用が米国
特許第3008975号明細書に開示されており、ペン
タンの使用が米国特許第3806549号明細書に開示
されており、反応を蒸気相中で行うことが独国特
許公開公報第2144748号に開示されており、ジヤ
ケツト付の管の使用が独国特許公開公報第
2033373号に開示されており、不活性ガスおよび
低温の使用が独国特許公告公報第1298972号に開
示されている。 さらに、トリメチルクロロシランを英国特許第
653237号明細書等に記載の変換方法によりトリメ
チルエトキシシランに変換させ、そして後者の化
合物とメチルヒドロゲノジクロロシランとを次の
反応式 2Me3SiOEt+MeHSiCl2→2Me3SiCl +MeHSi(OEt)2 に従つて反応させることにより、前記の副反応を
循環反応にすることができることも公知である。
副生成物として生じたトリメチルクロロシラン
は、同時に行われる連続蒸留により当該平衡系か
ら除去することができる。さらに、日本特許出願
第84094号には、次式 RSiH3+2R′OH→RHSi(OR′)2 +2H2 に従つて水素を調節自在に逸失させる方法が開示
されている。 さらにまた、トリエチルオルトホルメートをメ
チルヒドロゲノジクロロシランと反応させること
からなる方法も公知であるが、これも操業費が高
価である〔たとえばW.ノル著「ヘミー、ウン
ト、テクノロギー、デル、シリコーネ」、ワイン
ハイム、1968年発行、第78頁を参照されたい〕。 しかしながら、前記の種々の公知方法はすべ
て、若干の欠点を有し、そのためにこれらは決し
て工業的に有利に実施できるものではなかつた。 容易に入手し得る前記アルキルヒドロゲノポリ
シロキサンと、容易に入手し得る前記の適当なア
ルコキシシランとを本発明に従つて触媒の存在下
に反応させた場合には、次式 RaSiHb(OR′)4-(a+b) のシランが簡単な操作で高収率で得られるという
意外な事実が此度見出された。 本発明は、一般式 RaSiHb(OR′)4-(a+b) 〔ここに、RはC原子を7個以下有する非置換ま
たは置換アルキル基、アルケニル基またはアリー
ル基を表わし、 R′はC原子を1−4個有するアルキル基を表
わし、 aおよびbの各々は1、2または3であり、 (a+b)はせいぜい4である〕のシランの製
造方法において、Si−Hポリシロキサンと、一般
式 RaSi(OR′)4-a (ここにR、R′およびaは前記の意味を有する)
のアルコキシシランを、レドツクス安定型シロキ
サン重合触媒の存在下に反応させ、しかしてこの
触媒が、アルカリ金属、アルカリ金属アルコレー
ト、アルカリ金属水酸化物、第3アミン、強酸、
漂白土、金属ハライドおよびアルミニウムアセチ
ルアセトネートからなる群から選択された触媒で
あつて、当該交換反応を促進するものであること
を特徴とする方法に関するものである。前記の
種々の公知方法にみられた種々の技術的困難は、
本発明方法の場合には全くみられない。この反応
では、前記のシラン単量体の中の1またはそれ以
上のアルコキシ基が、前記のアルキルヒドロゲノ
ポリシロキサンの中の珪素に直接に結合している
水素原子を置換するのである。そして同時に、Si
−H型水素の全部または一部がアルコキシ基で置
換された形のポリシロキサンが生ずるのである。 本発明方法に有利に使用できるアルキルヒドロ
ゲノポリシロキサンの例には、下記一般式 (ここにRは既述の意味を有し、 xは0−500の数であり得、 yは2−500、好ましくは3−70の数であり得
る)のいずれかを有する化合物があげられる。 前記の市販メチルシロキサンが好ましいが、他
のシロキサンもまた有利に使用でき、その例には
フエニルシロキサン、エチルシロキサン、ビニル
シロキサンおよびそれらの混合物があげられる。 ハロゲンおよび/またはC1-4−アルキル基また
は−アルコキシ基が置換基として存在していても
よく、かかる置換基含有化合物の例にはクロロメ
チルシランがあげられる。 さらにまた、重合体も出発物質として使用で
き、その例には次式 (ここにR、xおよびyの各々は既述の意味を有
し、 zは0−10の数を表わす)の重合体があげられ
る。また、環式化合物も使用でき、その例には次
式 の環式化合物があげられる。 この反応はシロキサン重合反応触媒の存在下に
実施でき、しかしてこの触媒はそれ自体公知のも
のであり、かつこれは所定の反応条件のもとでレ
ドツクス安定型のものである。 適当な触媒の例には次のものがあげられる:ア
ルカリ金属(たとえばナトリウム)およびそのア
ルコレートおよび(水酸化物、たとえばトリウム
メチレート、水酸化カリウム;第3アミンたとえ
ばトリブチルアミン;強酸たとえばC4F9SO3H;
漂白土(ブリーチングアース);金属ハライドた
とえばAlCl3;Al−アセチルアセトネート。 本発明方法は普通の反応器(反応槽)の中で簡
単に実施できる。反応器内の温度は、所望反応生
成物が容易に留出し得るような温度範囲内から適
宜選択すべきである。またこの目的のために低圧
または高圧を用いることもできる。しかしながら
一般に、本製造方法は常圧下に実施される。反応
温度は一般に約30−300℃好ましくは約100−250
℃である。最初にアルコキシシランの一部を触媒
と混合し、残留反応混合物中でメータリング操作
を行い(すなわち、残りの出発物質を其後に導入
し)、そして反応生成物をその生成速度と同じ速
度で留去させることにより本反応を実施するのが
有利であることが判つた。しかしながら、本反応
を他の実施方法に従つて実施することも可能であ
る。触媒の量は所望反応速度値に応じて種種変え
ることができる。しかし触媒の使用量は約0.1−
10重量%(出発化合物重量基準)の範囲内の量で
あることが有利であることが判つた。この使用量
は約0.5−5重量%であることが特に好ましい。 さらに、粘度低下のために、所望生成物の沸点
よりも高い沸点を有する不活性溶媒の中で本反応
を行うのが有利であり、たとえばトルエンまたは
キシレン中で本反応を実施するのが一般に有利で
ある。 本発明をさらに詳細に例示するために、次に実
施例を示す。以下に記載のデータにおいて、
「%」は、特に断わらない限り「重量%」であ
る。記号「Me」および「Et」はそれぞれ「CH3
−」および「C2H5−」を表わす。「M」は
「(CH3)3SiO−基」を表わし、「D」は
水素は、ここで使用されたアルカノールと反応し
て、クロロアルカンを生成させ、かつ一時的に水
をも生成させ、そしてこの水がクロロシランおよ
びアルコキシシランを加水分解する。 前記の塩化水素を反応混合物から迅速に除去す
るかまたは塩基で捕捉した場合には、前記の副反
応がかなり充分に防止できる。しかしながらこの
ために、複雑な装置および複雑な手段が必要であ
る。 たとえば、酸受体を使用することが独国特許公
告公報第1162365号および独国特許公告公報第
2304503号に開示されており、低圧の使用が米国
特許第3008975号明細書に開示されており、ペン
タンの使用が米国特許第3806549号明細書に開示
されており、反応を蒸気相中で行うことが独国特
許公開公報第2144748号に開示されており、ジヤ
ケツト付の管の使用が独国特許公開公報第
2033373号に開示されており、不活性ガスおよび
低温の使用が独国特許公告公報第1298972号に開
示されている。 さらに、トリメチルクロロシランを英国特許第
653237号明細書等に記載の変換方法によりトリメ
チルエトキシシランに変換させ、そして後者の化
合物とメチルヒドロゲノジクロロシランとを次の
反応式 2Me3SiOEt+MeHSiCl2→2Me3SiCl +MeHSi(OEt)2 に従つて反応させることにより、前記の副反応を
循環反応にすることができることも公知である。
副生成物として生じたトリメチルクロロシラン
は、同時に行われる連続蒸留により当該平衡系か
ら除去することができる。さらに、日本特許出願
第84094号には、次式 RSiH3+2R′OH→RHSi(OR′)2 +2H2 に従つて水素を調節自在に逸失させる方法が開示
されている。 さらにまた、トリエチルオルトホルメートをメ
チルヒドロゲノジクロロシランと反応させること
からなる方法も公知であるが、これも操業費が高
価である〔たとえばW.ノル著「ヘミー、ウン
ト、テクノロギー、デル、シリコーネ」、ワイン
ハイム、1968年発行、第78頁を参照されたい〕。 しかしながら、前記の種々の公知方法はすべ
て、若干の欠点を有し、そのためにこれらは決し
て工業的に有利に実施できるものではなかつた。 容易に入手し得る前記アルキルヒドロゲノポリ
シロキサンと、容易に入手し得る前記の適当なア
ルコキシシランとを本発明に従つて触媒の存在下
に反応させた場合には、次式 RaSiHb(OR′)4-(a+b) のシランが簡単な操作で高収率で得られるという
意外な事実が此度見出された。 本発明は、一般式 RaSiHb(OR′)4-(a+b) 〔ここに、RはC原子を7個以下有する非置換ま
たは置換アルキル基、アルケニル基またはアリー
ル基を表わし、 R′はC原子を1−4個有するアルキル基を表
わし、 aおよびbの各々は1、2または3であり、 (a+b)はせいぜい4である〕のシランの製
造方法において、Si−Hポリシロキサンと、一般
式 RaSi(OR′)4-a (ここにR、R′およびaは前記の意味を有する)
のアルコキシシランを、レドツクス安定型シロキ
サン重合触媒の存在下に反応させ、しかしてこの
触媒が、アルカリ金属、アルカリ金属アルコレー
ト、アルカリ金属水酸化物、第3アミン、強酸、
漂白土、金属ハライドおよびアルミニウムアセチ
ルアセトネートからなる群から選択された触媒で
あつて、当該交換反応を促進するものであること
を特徴とする方法に関するものである。前記の
種々の公知方法にみられた種々の技術的困難は、
本発明方法の場合には全くみられない。この反応
では、前記のシラン単量体の中の1またはそれ以
上のアルコキシ基が、前記のアルキルヒドロゲノ
ポリシロキサンの中の珪素に直接に結合している
水素原子を置換するのである。そして同時に、Si
−H型水素の全部または一部がアルコキシ基で置
換された形のポリシロキサンが生ずるのである。 本発明方法に有利に使用できるアルキルヒドロ
ゲノポリシロキサンの例には、下記一般式 (ここにRは既述の意味を有し、 xは0−500の数であり得、 yは2−500、好ましくは3−70の数であり得
る)のいずれかを有する化合物があげられる。 前記の市販メチルシロキサンが好ましいが、他
のシロキサンもまた有利に使用でき、その例には
フエニルシロキサン、エチルシロキサン、ビニル
シロキサンおよびそれらの混合物があげられる。 ハロゲンおよび/またはC1-4−アルキル基また
は−アルコキシ基が置換基として存在していても
よく、かかる置換基含有化合物の例にはクロロメ
チルシランがあげられる。 さらにまた、重合体も出発物質として使用で
き、その例には次式 (ここにR、xおよびyの各々は既述の意味を有
し、 zは0−10の数を表わす)の重合体があげられ
る。また、環式化合物も使用でき、その例には次
式 の環式化合物があげられる。 この反応はシロキサン重合反応触媒の存在下に
実施でき、しかしてこの触媒はそれ自体公知のも
のであり、かつこれは所定の反応条件のもとでレ
ドツクス安定型のものである。 適当な触媒の例には次のものがあげられる:ア
ルカリ金属(たとえばナトリウム)およびそのア
ルコレートおよび(水酸化物、たとえばトリウム
メチレート、水酸化カリウム;第3アミンたとえ
ばトリブチルアミン;強酸たとえばC4F9SO3H;
漂白土(ブリーチングアース);金属ハライドた
とえばAlCl3;Al−アセチルアセトネート。 本発明方法は普通の反応器(反応槽)の中で簡
単に実施できる。反応器内の温度は、所望反応生
成物が容易に留出し得るような温度範囲内から適
宜選択すべきである。またこの目的のために低圧
または高圧を用いることもできる。しかしながら
一般に、本製造方法は常圧下に実施される。反応
温度は一般に約30−300℃好ましくは約100−250
℃である。最初にアルコキシシランの一部を触媒
と混合し、残留反応混合物中でメータリング操作
を行い(すなわち、残りの出発物質を其後に導入
し)、そして反応生成物をその生成速度と同じ速
度で留去させることにより本反応を実施するのが
有利であることが判つた。しかしながら、本反応
を他の実施方法に従つて実施することも可能であ
る。触媒の量は所望反応速度値に応じて種種変え
ることができる。しかし触媒の使用量は約0.1−
10重量%(出発化合物重量基準)の範囲内の量で
あることが有利であることが判つた。この使用量
は約0.5−5重量%であることが特に好ましい。 さらに、粘度低下のために、所望生成物の沸点
よりも高い沸点を有する不活性溶媒の中で本反応
を行うのが有利であり、たとえばトルエンまたは
キシレン中で本反応を実施するのが一般に有利で
ある。 本発明をさらに詳細に例示するために、次に実
施例を示す。以下に記載のデータにおいて、
「%」は、特に断わらない限り「重量%」であ
る。記号「Me」および「Et」はそれぞれ「CH3
−」および「C2H5−」を表わす。「M」は
「(CH3)3SiO−基」を表わし、「D」は
【式】を表わす。
例 1
温度計、磁力撹拌機、滴下漏斗、鏡面被覆コラ
ム(長さ80cm;直径8cm;6mm−ラシヒリングを
充填)、蒸留ヘツドおよびバブルカウンター(こ
の装置の出口に取付けた)を備えた1容量の三
口フラスコに、AlCl310g(1.0%)およびCH3Si
(OC2H5)3100g(0.56モル)を最初に入れた。こ
の装置に、ドライN2を用いて充分にフラツシン
グを行つた。次いでこのフラスコ中の物質を140
℃に加熱し、そして、CH3Si(OC2H5)3606g
(3.4モル)と、次式 (CH3)3Si−O〔HCH3SiO〕30Si (CH3)3 のメチル−ヒドロゲノ−ポリシロキサン307g
(SiH約4.7モル)との混合物を、約5時間を要し
て滴下した。同時に、95−103℃の範囲内の沸点
を有する留出物を、その生成速度と同じ速度で留
去させた。ガスクロマトグラフイ分析によれば、
この留出物はHCH3Si(OC2H5)2を94.4%含むも
のであつた。この留出物が497g得られた〔すな
わち、HCH3Si(OC2H5)2が3.49モル得られた。
CH3Si(OC2H5)3の量を基準とせる収率は88%で
あつた〕。この時間中に底部温度が210℃に上昇し
た。次いでこの装置に、それが冷えるまでN2を
用いてフラツシングを行つた。モビル性液体507
gが残留した。この液体は、NMRスペクトル分
析によれば大体次式の組成を有するものであつ
た。 例 2 例1記載の方法と同様な方法に従つてMeSi
(OEt)3756g(4.24モル)、AlCl320g(1.88%)、
および式MDH 11Mのメチルヒドロゲノポリシロキ
サン307g(SiH4.1モル)を反応させた。 この反応において留出物が得られたが、これ
は、ガスクロマトグラフイによる分析によれば
MeHSi(OEt)289.3%を含むものであつた。この
留出物は590g得られた〔すなわち、MeHSi
(OEt)2が3.92モル得られた。使用されたSiHの量
を基準とせる収率は95.7%であつた〕。 モビル性液体が475g残留したが、NMR−スペ
クトル分析によればこの液体は大体次式の組成を
有するものであつた。 MDOEt 18M 例 3 例1記載の方法と同様な方法に従つてMeSi
(OEt)3626g(2.95モル)、アルミニウムアセチ
ルアセトネート10g(1.3%)および式MDH 11Mの
メチルヒドロゲノポリシロキサン232g(SiH3.1
モル)を反応させた。この反応において留出物が
得られたが、これはガスクロマトグラフイ分析に
よればMeHSi(OEt)2を66.4%含むものであつ
た。この留出物は346g得られた〔MeHSi
(OEt)2のモル量は1.71モル;収率は55.2%(SiH
使用量基準)〕。モビル性液体が409g残留した。
NMR−スペクトル分析によれば、該液は大体式
MDOEt 23Mに相当する組成を有するものであつた。 例 4 例1記載の方法に同様な方法によりMeSi
(OEt)3353g(1.98モル)、KOH2.5g(0.5%)、
および式MDH 11のメチルヒドロゲノポリシロキサ
ン154g(SiH2.06モル)を反応させた。ガスクロ
マトグラフイ分析により測定されたMeHSi
(OEt)2の収率は32.1%であつた(SiH基準)。 例 5 例1の場合と同様な方法によりMeSi
(OEt)3180g(1.01モル)、トリブチルアミン15.2
g(6.1%)、およびMDH 54Mを有するメチルヒド
ロゲノポリシロキサン70g(SiH1.1モル)を反応
させた。ガスクロマトグラフイ分析によれば
MeHSi(OEt)2の収率は13.2%であつた(SiH基
準)。 例 6 例5記載の方法と同様な方法に従つてMeSi
(OEt)3180g(1.01モル)、C4F9SO3H2g(0.8
%)、および式MDH 54Mのメチルヒドロゲノポリシ
ロキサン70g(SiH1.1モル)を反応させた。ガス
クロマトグラフイ分析によれば、MeHSi(OEt)2
の収率は68.4%であつた(SiH基準)。 例 7 MeSi(OEt)3180g(1.01モル)、漂白土25g
(10%)、および式MDH 54Mのメチルヒドロゲノポ
リシロキサン70g(SiH1.1モル)を、例5記載の
方法と同様な方法により反応させた。ガスクロマ
トグラフイ分析によれば、MeHSi(OEt)2の収率
は33.9%であつた(SiH基準)。 例 8 例1の場合と同様な方法によりMe2Si
(OEt)2520g(3.51モル)、AlCl337.5g(5.0
%)、および式MDH 30M230g(SiH3.51モル)を反
応させた。 この反応では、沸点50−60℃の留出物を取出し
た。この留出物は、ガスクロマトグラフイ分析に
よればMe2HSiOEtを73.8%含むものであつた。
この留出物は376g得られた〔すなわち、
Me2HSiOEtの生成量は2.66モルであり、収率は
75.9%であつた〔Me2Si(OEt)2の使用量基準〕。 容易に理解され得るように、本明細書には本発
明の若干の具体例および実施例について詳細に記
載されているが、本発明の範囲は決してこれらの
具体例および実施例の範囲内のみに限定されるも
のではなく、すなわち本発明は、その精神および
範囲を逸脱することなく種々の態様で実施できる
ものである。
ム(長さ80cm;直径8cm;6mm−ラシヒリングを
充填)、蒸留ヘツドおよびバブルカウンター(こ
の装置の出口に取付けた)を備えた1容量の三
口フラスコに、AlCl310g(1.0%)およびCH3Si
(OC2H5)3100g(0.56モル)を最初に入れた。こ
の装置に、ドライN2を用いて充分にフラツシン
グを行つた。次いでこのフラスコ中の物質を140
℃に加熱し、そして、CH3Si(OC2H5)3606g
(3.4モル)と、次式 (CH3)3Si−O〔HCH3SiO〕30Si (CH3)3 のメチル−ヒドロゲノ−ポリシロキサン307g
(SiH約4.7モル)との混合物を、約5時間を要し
て滴下した。同時に、95−103℃の範囲内の沸点
を有する留出物を、その生成速度と同じ速度で留
去させた。ガスクロマトグラフイ分析によれば、
この留出物はHCH3Si(OC2H5)2を94.4%含むも
のであつた。この留出物が497g得られた〔すな
わち、HCH3Si(OC2H5)2が3.49モル得られた。
CH3Si(OC2H5)3の量を基準とせる収率は88%で
あつた〕。この時間中に底部温度が210℃に上昇し
た。次いでこの装置に、それが冷えるまでN2を
用いてフラツシングを行つた。モビル性液体507
gが残留した。この液体は、NMRスペクトル分
析によれば大体次式の組成を有するものであつ
た。 例 2 例1記載の方法と同様な方法に従つてMeSi
(OEt)3756g(4.24モル)、AlCl320g(1.88%)、
および式MDH 11Mのメチルヒドロゲノポリシロキ
サン307g(SiH4.1モル)を反応させた。 この反応において留出物が得られたが、これ
は、ガスクロマトグラフイによる分析によれば
MeHSi(OEt)289.3%を含むものであつた。この
留出物は590g得られた〔すなわち、MeHSi
(OEt)2が3.92モル得られた。使用されたSiHの量
を基準とせる収率は95.7%であつた〕。 モビル性液体が475g残留したが、NMR−スペ
クトル分析によればこの液体は大体次式の組成を
有するものであつた。 MDOEt 18M 例 3 例1記載の方法と同様な方法に従つてMeSi
(OEt)3626g(2.95モル)、アルミニウムアセチ
ルアセトネート10g(1.3%)および式MDH 11Mの
メチルヒドロゲノポリシロキサン232g(SiH3.1
モル)を反応させた。この反応において留出物が
得られたが、これはガスクロマトグラフイ分析に
よればMeHSi(OEt)2を66.4%含むものであつ
た。この留出物は346g得られた〔MeHSi
(OEt)2のモル量は1.71モル;収率は55.2%(SiH
使用量基準)〕。モビル性液体が409g残留した。
NMR−スペクトル分析によれば、該液は大体式
MDOEt 23Mに相当する組成を有するものであつた。 例 4 例1記載の方法に同様な方法によりMeSi
(OEt)3353g(1.98モル)、KOH2.5g(0.5%)、
および式MDH 11のメチルヒドロゲノポリシロキサ
ン154g(SiH2.06モル)を反応させた。ガスクロ
マトグラフイ分析により測定されたMeHSi
(OEt)2の収率は32.1%であつた(SiH基準)。 例 5 例1の場合と同様な方法によりMeSi
(OEt)3180g(1.01モル)、トリブチルアミン15.2
g(6.1%)、およびMDH 54Mを有するメチルヒド
ロゲノポリシロキサン70g(SiH1.1モル)を反応
させた。ガスクロマトグラフイ分析によれば
MeHSi(OEt)2の収率は13.2%であつた(SiH基
準)。 例 6 例5記載の方法と同様な方法に従つてMeSi
(OEt)3180g(1.01モル)、C4F9SO3H2g(0.8
%)、および式MDH 54Mのメチルヒドロゲノポリシ
ロキサン70g(SiH1.1モル)を反応させた。ガス
クロマトグラフイ分析によれば、MeHSi(OEt)2
の収率は68.4%であつた(SiH基準)。 例 7 MeSi(OEt)3180g(1.01モル)、漂白土25g
(10%)、および式MDH 54Mのメチルヒドロゲノポ
リシロキサン70g(SiH1.1モル)を、例5記載の
方法と同様な方法により反応させた。ガスクロマ
トグラフイ分析によれば、MeHSi(OEt)2の収率
は33.9%であつた(SiH基準)。 例 8 例1の場合と同様な方法によりMe2Si
(OEt)2520g(3.51モル)、AlCl337.5g(5.0
%)、および式MDH 30M230g(SiH3.51モル)を反
応させた。 この反応では、沸点50−60℃の留出物を取出し
た。この留出物は、ガスクロマトグラフイ分析に
よればMe2HSiOEtを73.8%含むものであつた。
この留出物は376g得られた〔すなわち、
Me2HSiOEtの生成量は2.66モルであり、収率は
75.9%であつた〔Me2Si(OEt)2の使用量基準〕。 容易に理解され得るように、本明細書には本発
明の若干の具体例および実施例について詳細に記
載されているが、本発明の範囲は決してこれらの
具体例および実施例の範囲内のみに限定されるも
のではなく、すなわち本発明は、その精神および
範囲を逸脱することなく種々の態様で実施できる
ものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 RaSiHb(OR′)4-(a+b) 〔ここに、RはC原子を7個以下有する非置換ま
たは置換アルキル基、アルケニル基またはアリー
ル基を表わし、 R′はC原子を1−4個有するアルキル基を表
わし、 aおよびbの各々は1、2または3であり、 (a+b)はせいぜい4である〕のシランの製
造方法において、Si−Hポリシロキサンと、一般
式 RaSi(OR′)4-a (ここにR、R′およびaは前記の意味を有する)
のアルコキシシランを、レドツクス安定型シロキ
サン重合触媒の存在下に反応させ、しかしてこの
触媒が、アルカリ金属、アルカリ金属アルコレー
ト、アルカリ金属水酸化物、第3アミン、強酸、
漂白土、金属ハライドおよびアルミニウムアセチ
ルアセトネートからなる群から選択された触媒で
あつて、当該交換反応を促進するものであること
を特徴とする方法。 2 前記触媒が三塩化アルミニウムであることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 前記反応を30−300℃の範囲内の温度におい
て実施することを特徴とする特許請求の範囲第1
項または第2項に記載の方法。 4 前記反応を100−250℃の範囲内の温度におい
て実施することを特徴とする特許請求の範囲第3
項記載の方法。 5 最初に前記アルコキシシランの一部を前記触
媒と混合し、次いでこれに、残りのアルコキシラ
ンおよび前記ポリシロキサンを添加することを特
徴とする特許請求の範囲第1項−第4項のいずれ
か一項に記載の方法。 6 前記触媒を0.1−10重量%(反応体重量基
準)使用することを特徴とする特許請求の範囲第
1項−第5項のいずれか一項に記載の方法。 7 前記反応を不活性溶媒の存在下に行い、しか
してこの不活性溶媒が、所望生成物の沸点よりも
高い沸点を有するものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項−第6項のいずれか一項に記
載の方法。 8 前記ポリシロキサンが、下記一般式 (ここにRは特許請求の範囲第1項記載の意味を
有し、 xは0−500の間の数であり、 yは2−500の間の数であり、 zは0−10の間の数であり、 nは3−8の間の数である)のうちのいずれか
の一般式を有する化合物であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項−第7項のいずれか一項に
記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782811854 DE2811854A1 (de) | 1978-03-17 | 1978-03-17 | Verfahren zur herstellung von silanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54128526A JPS54128526A (en) | 1979-10-05 |
JPS6155516B2 true JPS6155516B2 (ja) | 1986-11-28 |
Family
ID=6034809
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2945479A Granted JPS54128526A (en) | 1978-03-17 | 1979-03-15 | Manufacture of silane |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4202831A (ja) |
EP (1) | EP0004310B1 (ja) |
JP (1) | JPS54128526A (ja) |
CA (1) | CA1129432A (ja) |
DE (2) | DE2811854A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5095131A (en) * | 1990-11-19 | 1992-03-10 | Dow Corning Corporation | Metal assisted alkylation of silica |
DE4130790A1 (de) * | 1991-09-16 | 1993-03-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur abtrennung von alkenen bei der methylchlorsilan-destillation |
US5126472A (en) * | 1991-11-12 | 1992-06-30 | Dow Corning Corporation | Thermal disproportionation of organooxysilanes |
US5504235A (en) * | 1994-06-15 | 1996-04-02 | Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd. | Method for decomposing polysiloxane |
DE10044989A1 (de) | 2000-09-11 | 2002-03-21 | Bayer Ag | Flüssige schwefelhaltige Oligosiloxane und ihre Verwendung in Kautschukmischungen |
DE102007037292A1 (de) * | 2007-08-07 | 2009-02-12 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Herstellung von verzweigten Polyorganosiloxanen |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB653237A (en) * | 1948-12-07 | 1951-05-09 | Dow Corning | A process for the manufacture of alkoxy hydrosilanes |
US2745860A (en) * | 1952-10-16 | 1956-05-15 | Union Carbide & Carbon Corp | Disproportionation of alkoxydisilyl hydrocarbons |
US3008975A (en) * | 1958-06-24 | 1961-11-14 | Union Carbide Corp | Process for preparing silicon esters from halosilanes |
DE1162365B (de) * | 1962-05-05 | 1964-02-06 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von Silanen |
US3398177A (en) * | 1965-05-10 | 1968-08-20 | Dow Corning | Redistribution of sih bonds |
FR1579751A (ja) * | 1967-09-06 | 1969-08-29 | ||
BE759495A (fr) * | 1969-11-27 | 1971-05-26 | Rhone Poulenc Sa | Preparation de siloxanes par redistribution |
US3651117A (en) * | 1970-09-08 | 1972-03-21 | Union Carbide Corp | Esterification of halosilanes |
FR2119143A5 (ja) * | 1970-12-22 | 1972-08-04 | Rhone Poulenc Sa | |
US3806549A (en) * | 1971-11-03 | 1974-04-23 | Owens Corning Fiberglass Corp | Method of preparing organooxy silanes |
US4016188A (en) * | 1972-05-30 | 1977-04-05 | Dynamit Nobel Aktiengesellschaft | Process for the preparation of low silanes and silane esters |
DE2304503A1 (de) * | 1973-01-31 | 1974-08-01 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von silanestern tertiaerer alkohole |
US4070386A (en) * | 1973-10-24 | 1978-01-24 | Th. Goldschmidt Ag | Process for the preparation of organopolysiloxane-polyether copolymers with SiOC bonds |
-
1978
- 1978-03-17 DE DE19782811854 patent/DE2811854A1/de not_active Withdrawn
-
1979
- 1979-02-26 US US06/015,375 patent/US4202831A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-03-06 EP EP79100660A patent/EP0004310B1/de not_active Expired
- 1979-03-06 DE DE7979100660T patent/DE2960035D1/de not_active Expired
- 1979-03-15 CA CA323,615A patent/CA1129432A/en not_active Expired
- 1979-03-15 JP JP2945479A patent/JPS54128526A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS54128526A (en) | 1979-10-05 |
US4202831A (en) | 1980-05-13 |
DE2960035D1 (en) | 1981-01-29 |
EP0004310A1 (de) | 1979-10-03 |
CA1129432A (en) | 1982-08-10 |
DE2811854A1 (de) | 1979-09-27 |
EP0004310B1 (de) | 1980-10-29 |
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