JP2644227B2 - 有機オキシクロロシランの製法 - Google Patents
有機オキシクロロシランの製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/025—Silicon compounds without C-silicon linkages
-
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はオルガノオキシクロロシランの製造方法に関
する。これらはHCl及び助触媒から成る触媒系の存在下
で、対応するクロロシランをアルコールと反応させるこ
とにより製造する。
する。これらはHCl及び助触媒から成る触媒系の存在下
で、対応するクロロシランをアルコールと反応させるこ
とにより製造する。
オルガノクロロシランをアルコールと反応する化学量
論比で反応させることによりオルガノーオルガノオキシ
クロロシランを製造することは公知である(U.ワナガッ
ト(Wannagat)及びP.ゲイマイヤー(Geymayer)、化学
月刊誌(Monatschafte fr Chemie)95、1096(196
4)、ドイツ特許明細書第2,065,407号又はドイツ特許明
細書第2,427,085号)。これらの方法は、所望の生成物
に加えて、異なるアルコキシ/塩素比を有する望ましく
ない量のシランも得られ、更なる精製段階を必要とし、
収率を低下させるとという不都合を有する。
論比で反応させることによりオルガノーオルガノオキシ
クロロシランを製造することは公知である(U.ワナガッ
ト(Wannagat)及びP.ゲイマイヤー(Geymayer)、化学
月刊誌(Monatschafte fr Chemie)95、1096(196
4)、ドイツ特許明細書第2,065,407号又はドイツ特許明
細書第2,427,085号)。これらの方法は、所望の生成物
に加えて、異なるアルコキシ/塩素比を有する望ましく
ない量のシランも得られ、更なる精製段階を必要とし、
収率を低下させるとという不都合を有する。
驚くべきことに、反応中に生成する塩化水素と助触媒
から成る触媒系によって望ましくない量のシラン副生成
物を減少させ得ることが今回見出された。酸又は塩基化
合物、例えばスルホン酸類、硫酸又はアミン類が適当な
助触媒である。
から成る触媒系によって望ましくない量のシラン副生成
物を減少させ得ることが今回見出された。酸又は塩基化
合物、例えばスルホン酸類、硫酸又はアミン類が適当な
助触媒である。
また、望ましくない副生成物の生成をもたらす塩化ア
ルキルの分解がみられないことも驚くべきことであった
(W.ノル(No11)、シリコンの化学及び技術(Chemie u
nd Technologie der Silicone)、Chemie GmbH出版、ヴ
インハイム・ベルグストラッセ(Weinheim Bergstraβ
e、)第2版1968、第72頁参照)。
ルキルの分解がみられないことも驚くべきことであった
(W.ノル(No11)、シリコンの化学及び技術(Chemie u
nd Technologie der Silicone)、Chemie GmbH出版、ヴ
インハイム・ベルグストラッセ(Weinheim Bergstraβ
e、)第2版1968、第72頁参照)。
例えば、アルコキシクロロシランの製造にモル量のア
ミンを用いることが記載されているが(ドイツ特許明細
書第2,065,407号及びドイツ特許明細書第2,427,085
号)、生成物の組成に対して何も有利な影響は観られな
いため、本発明に従う製造方法の成功は更に驚くべきも
のである。
ミンを用いることが記載されているが(ドイツ特許明細
書第2,065,407号及びドイツ特許明細書第2,427,085
号)、生成物の組成に対して何も有利な影響は観られな
いため、本発明に従う製造方法の成功は更に驚くべきも
のである。
本発明は、一般式 R1 aSi(OR2)bCl4-a-b 式中、 R1及びR2は互いに独立に1〜4個のC原子をもつアル
キル、ハロアルキルもしくはアルケニル基又は6〜8個
のC原子をもつ任意に置換されていてもよい芳香族基を
表わし、及び aは0、1又は2であり得、及び bは4−a−1であり得る、 のシランを、オルガノクロロシラン又はSiCl4と式 R2OH 式中、 R2は上記の意味を有する、 の化合物の反応により製造するにあたり、反応中の生成
する塩化水素及び助触媒から成る触媒系の存在下で反応
を行なうことを特徴とする方法に関する。
キル、ハロアルキルもしくはアルケニル基又は6〜8個
のC原子をもつ任意に置換されていてもよい芳香族基を
表わし、及び aは0、1又は2であり得、及び bは4−a−1であり得る、 のシランを、オルガノクロロシラン又はSiCl4と式 R2OH 式中、 R2は上記の意味を有する、 の化合物の反応により製造するにあたり、反応中の生成
する塩化水素及び助触媒から成る触媒系の存在下で反応
を行なうことを特徴とする方法に関する。
例えばシランCH3SiCl3、C2H5SiCl3、CH2=CHSiCl3、C
lCH2SiCl3、C4H3SiCl3、C6H5SiCl3、(CH3)2SiCl2又は
SiCl4が適当なクロロシランである。
lCH2SiCl3、C4H3SiCl3、C6H5SiCl3、(CH3)2SiCl2又は
SiCl4が適当なクロロシランである。
アルコールCH3OH、C2H5OH、i−C3H7OH、n−C4H9O
H、i−C4H9OH、CH3OC2H4OHが本発明に従う製造に用い
られる化合物R2OHの例である。
H、i−C4H9OH、CH3OC2H4OHが本発明に従う製造に用い
られる化合物R2OHの例である。
適当な助触媒的に作用するアミン類は、例えば1,5−
ジアサビシクロ(5.4.0)−ウンデス−5−エン及び芳
香族アミンの如き、環形成により結合して環を形成し得
る第一、第二又は第三アミンである。トリエチルアミン
が好ましいアミンである。加えるアミンと塩化水素との
間で予想される反応を考えると、もちろんアミン塩酸塩
を加えることもできよう。
ジアサビシクロ(5.4.0)−ウンデス−5−エン及び芳
香族アミンの如き、環形成により結合して環を形成し得
る第一、第二又は第三アミンである。トリエチルアミン
が好ましいアミンである。加えるアミンと塩化水素との
間で予想される反応を考えると、もちろんアミン塩酸塩
を加えることもできよう。
可能な酸助触媒は例えばFSO3H、ClSO3H及びCF3SO3H、
C4F9SO3H又はC8F17SO3H及びH2SO4である。スルホン酸特
にパーフルオロブタンスルホン酸が特に適している。
C4F9SO3H又はC8F17SO3H及びH2SO4である。スルホン酸特
にパーフルオロブタンスルホン酸が特に適している。
助触媒は好ましくは用いるクロロシランに基づき5分
の1モル部未満の量で用いる。10分の1〜1000分の1モ
ル部が特に好ましい。
の1モル部未満の量で用いる。10分の1〜1000分の1モ
ル部が特に好ましい。
上記のスルホン酸、硫酸又はアミンもしくはその塩酸
塩は、塩化水素が存在する場合、好ましい生成物分布に
関し迅速に有効であるので、生成する塩化水素が反応混
合物に溶解し易い−30℃〜+20℃の反応温度が本方法を
行なうのに有利である。15℃未満の温度が好ましい。よ
り高い温度を用いるときは、必要に応じて圧力下で反応
を行なわねばならない。
塩は、塩化水素が存在する場合、好ましい生成物分布に
関し迅速に有効であるので、生成する塩化水素が反応混
合物に溶解し易い−30℃〜+20℃の反応温度が本方法を
行なうのに有利である。15℃未満の温度が好ましい。よ
り高い温度を用いるときは、必要に応じて圧力下で反応
を行なわねばならない。
本発明に従う方法においては、用いる助触媒が、製造
されるオルガノオキシクロロシランが蒸留により分離さ
れた後の蒸留残液生成物にその活性が保持されるなら
ば、そして新しいクロロシラン及びアルコールを導入す
るときに新しく助触媒を添加しないならば、有利である
ことが見出された。
されるオルガノオキシクロロシランが蒸留により分離さ
れた後の蒸留残液生成物にその活性が保持されるなら
ば、そして新しいクロロシラン及びアルコールを導入す
るときに新しく助触媒を添加しないならば、有利である
ことが見出された。
適当な量の出発物質を用いるときには、HClと上記助
触媒の1つとによってオルガノクロロシラン又はSiCl4
がアルコキシシランと釣り合った変法をも行なうことも
できる。
触媒の1つとによってオルガノクロロシラン又はSiCl4
がアルコキシシランと釣り合った変法をも行なうことも
できる。
アルコールに対するクロロシランのモル比は所望の生
成物の組成に基づく。一方の反応物を過剰に用いること
により平衡を移動することができる。蒸留により分離し
たシランは再循環させることができる。
成物の組成に基づく。一方の反応物を過剰に用いること
により平衡を移動することができる。蒸留により分離し
たシランは再循環させることができる。
本発明に従い製造されるオルガノオキシクロロシラン
は、アルコキシ又は任意のアルキル基に加えて他の官能
基を含有するシランの製造に適する出発生成物である。
かかる官能基の例はアミノ、アミド、オキシミノ及びア
セトキシ基である。上記のシランは室温硬化シリコーン
組成物の製造に用いることができる。
は、アルコキシ又は任意のアルキル基に加えて他の官能
基を含有するシランの製造に適する出発生成物である。
かかる官能基の例はアミノ、アミド、オキシミノ及びア
セトキシ基である。上記のシランは室温硬化シリコーン
組成物の製造に用いることができる。
本発明を以下の実施例により更に詳細に例証する。
実施例1(比較例) 110g(0.74モル)のメチルトリクロロシランを、大気
中の水分の侵入に対して保護した、撹拌器、温度計、還
流冷却器及び滴下漏斗を備えた三ツ首フラスコ(250m
l)中に20℃にて最初に導入し、そして30g(0.65モル)
のエタノール(メチルトリクロロシラン:エタノールの
モル比は1.12:1)を5分の間に撹拌しつつ加えた。塩化
水素が激しく発生し、温度は−5℃に下がった。添加が
終了したときに混合物を還流下にて沸騰するまで(ほぼ
90℃)加熱した。2分後混合物を冷却し、反応生成物を
ガスクロマトグラフィーにより分析した。
中の水分の侵入に対して保護した、撹拌器、温度計、還
流冷却器及び滴下漏斗を備えた三ツ首フラスコ(250m
l)中に20℃にて最初に導入し、そして30g(0.65モル)
のエタノール(メチルトリクロロシラン:エタノールの
モル比は1.12:1)を5分の間に撹拌しつつ加えた。塩化
水素が激しく発生し、温度は−5℃に下がった。添加が
終了したときに混合物を還流下にて沸騰するまで(ほぼ
90℃)加熱した。2分後混合物を冷却し、反応生成物を
ガスクロマトグラフィーにより分析した。
結果: CH3SiCl3 27.6% CH3Si(OC2H5)Cl2 39.3% CH3Si(OC2H5)2Cl 31.5% 実施例2 825g(5.5モル)のメチルトリクロロシラン、10.1g
(0.1モル)のトリエチルアミン及び230g(5モル)の
エタノールを反応させた。
(0.1モル)のトリエチルアミン及び230g(5モル)の
エタノールを反応させた。
ガスクロマトグラフィーによれば以下の生成物組成が
得られた(%)。
得られた(%)。
次いで塩化エチルの生成がみられない間、生成物を沸
点温度まで加熱した。ガスクロマトグラフィーによる分
析と比べて組成はわずかに変化しただけであった。
点温度まで加熱した。ガスクロマトグラフィーによる分
析と比べて組成はわずかに変化しただけであった。
実施例3 0.1モルのトリエチルアミンの代わりに0.01又は0.001
モルのトリエチルアミンを用いたことだけ変えて実施例
2を繰り返した。以下の生成物組成が得られた。
モルのトリエチルアミンを用いたことだけ変えて実施例
2を繰り返した。以下の生成物組成が得られた。
トリエチルアミン0.01/0.001モル 実施例4 トリエチルアミンの代わりにそれぞれ塩基ジアザビシ
クロウンデセン(0.001モル)及び4−ジメチルアミノ
ピリジン(0.001モル)を用いたことだけ変えて実施例
2に従う実験を繰り返した。比較のために塩化アンモニ
ウム(0.5モル)を用いた。ガスクロマトグラフィーに
より各化合物について以下の百分率が得られた。
クロウンデセン(0.001モル)及び4−ジメチルアミノ
ピリジン(0.001モル)を用いたことだけ変えて実施例
2に従う実験を繰り返した。比較のために塩化アンモニ
ウム(0.5モル)を用いた。ガスクロマトグラフィーに
より各化合物について以下の百分率が得られた。
実施例5 1.8gのC4F9SO3Hの存在下であることを除いて実施例1
に記載したと同じ条件下で以下の結果が得られた。
に記載したと同じ条件下で以下の結果が得られた。
CH3SiCl3 17.8% CH3Si(OC2H5)Cl2 63.1% CH3Si(OC2H5)2Cl 17.7% 実施例6 −5℃〜0℃で滞留時間を長くした影響(2時間)は
以下の結果により判る(実施例5と同様の出発物質、パ
ーフルオロブタンスルホン酸使用)。
以下の結果により判る(実施例5と同様の出発物質、パ
ーフルオロブタンスルホン酸使用)。
CH3SiCl3 10.0% CH3Si(OC2H5)Cl2 82.2% CH3Si(OC2H5)2Cl 6.5% 実施例7 メチルトリクロロシランのモル過剰を50%増大させた
影響(出発物質:225gのCH3SiCl3、46gのエタノール、1.
8gのパーフルオロブタンスルホン酸)、0℃にて3時間
の滞留時間、は以下の結果により判る。
影響(出発物質:225gのCH3SiCl3、46gのエタノール、1.
8gのパーフルオロブタンスルホン酸)、0℃にて3時間
の滞留時間、は以下の結果により判る。
CH3SiCl3 33.2% CH3Si(OC2H5)Cl2 64.5% CH3Si(OC2H5)2Cl 1.3% 実施例8 0℃にて3時間の滞留時間での、1mlの硫酸を用いた
メチルトリクロロシランとエタノール(1:1のモル比)
の反応は以下の結果を与える。
メチルトリクロロシランとエタノール(1:1のモル比)
の反応は以下の結果を与える。
CH3SiCl3 9.2% CH3Si(OC2H5)Cl2 78.4% CH3Si(OC2H5)2Cl 9.0% 実施例9 触媒として1mlのHSO3Clを用いたことを除いて実施例
8と同じ方法を用いて以下の結果を得た。
8と同じ方法を用いて以下の結果を得た。
CH3SiCl3 6.1% CH3Si(OC2H5)Cl2 81.4% CH3Si(OC2H5)2Cl 9.9% 実施例10 37.5gのメチルトリクロロシラン(0.25モル)、18.5g
のn−ブタノール(0.25モル)及び0.5mlのC4F9SO3H
を、小規模(100ml反応器)であることを除いて実施例
1で用いたのと同様の装置中で用い、反応混合物を10℃
に1時間保った。結果(カッコ内の数字は非触媒バッチ
の結果): CH3SiCl3 4.5%( 7.0%) CH3Si(OC4H9)Cl2 77.3%(64.4%) CH3Si(OC4H9)2Cl 15.7%(26.1%) 実施例11 149.5g(1.0モル)のメチルトリクロロシラン及び32g
(1.0モル)のメタノールを1mlのクロル硫酸の存在下実
施例1に従う装置中で反応させた。次いで混合物を0℃
に3時間維持した。結果(カッコ内の値は非触媒バッチ
の結果): CH3SiCl3 4.35%(23.0%) CH3Si(OCH3)Cl2 79.6%(47.0%) CH3Si(OCH3)2Cl 15.2%(28.5%) 実施例12 72.36Kg(0.484キロモル)のメチルトリクロロシラン
及び0.463Kgのクロロスルホン酸を、加熱(冷却)ジャ
ケット、温度測定、還流冷却器及び塩化水素吸着剤を備
えた250mlエナメル撹拌反応がまに最初に導入した。20.
27Kg(0.44キロモル)のエタノールを5時間の間に11〜
12℃にて液面下に加えた。エタノールの添加終了後、反
応混合物を更に2時間同じ温度にて撹拌したとき、反応
混合物は2時間の間に70℃に加熱された。
のn−ブタノール(0.25モル)及び0.5mlのC4F9SO3H
を、小規模(100ml反応器)であることを除いて実施例
1で用いたのと同様の装置中で用い、反応混合物を10℃
に1時間保った。結果(カッコ内の数字は非触媒バッチ
の結果): CH3SiCl3 4.5%( 7.0%) CH3Si(OC4H9)Cl2 77.3%(64.4%) CH3Si(OC4H9)2Cl 15.7%(26.1%) 実施例11 149.5g(1.0モル)のメチルトリクロロシラン及び32g
(1.0モル)のメタノールを1mlのクロル硫酸の存在下実
施例1に従う装置中で反応させた。次いで混合物を0℃
に3時間維持した。結果(カッコ内の値は非触媒バッチ
の結果): CH3SiCl3 4.35%(23.0%) CH3Si(OCH3)Cl2 79.6%(47.0%) CH3Si(OCH3)2Cl 15.2%(28.5%) 実施例12 72.36Kg(0.484キロモル)のメチルトリクロロシラン
及び0.463Kgのクロロスルホン酸を、加熱(冷却)ジャ
ケット、温度測定、還流冷却器及び塩化水素吸着剤を備
えた250mlエナメル撹拌反応がまに最初に導入した。20.
27Kg(0.44キロモル)のエタノールを5時間の間に11〜
12℃にて液面下に加えた。エタノールの添加終了後、反
応混合物を更に2時間同じ温度にて撹拌したとき、反応
混合物は2時間の間に70℃に加熱された。
ガスクロマトグラフィーによる分析により以下の結果
が得られた: CH3SiCl3 8.9% CH3Si(OC2H5)Cl2 82.0% CH3Si(OC2H5)2Cl 6.3% 蒸留により72.0kgのCH3Si(OC2H5)Cl2(沸点101℃)
が単離された。
が得られた: CH3SiCl3 8.9% CH3Si(OC2H5)Cl2 82.0% CH3Si(OC2H5)2Cl 6.3% 蒸留により72.0kgのCH3Si(OC2H5)Cl2(沸点101℃)
が単離された。
実施例13 メチルトリクロロシランの代わりに、810gのクロロメ
チルトリクロロシラン(4.4モル)及び185gのエタノー
ル(4.0モル)を反応させたことを除いて実施例2と同
じ方法で実験を行なった。ガスクロマトグラフィーは以
下の値を与えた: 実施例14 0.01モルのトリエチルアミンを加えるか又は加えずし
て、実施例2と同じ手順で、868gのフェニルトリクロロ
シラン(4.1モル)及び132gのメタノール(4.1モル)を
反応させた。ガスクロマトグラフィーによる分析によ
り、本発明に従うこの段階及び比較に対して以下の結果
が示された。
チルトリクロロシラン(4.4モル)及び185gのエタノー
ル(4.0モル)を反応させたことを除いて実施例2と同
じ方法で実験を行なった。ガスクロマトグラフィーは以
下の値を与えた: 実施例14 0.01モルのトリエチルアミンを加えるか又は加えずし
て、実施例2と同じ手順で、868gのフェニルトリクロロ
シラン(4.1モル)及び132gのメタノール(4.1モル)を
反応させた。ガスクロマトグラフィーによる分析によ
り、本発明に従うこの段階及び比較に対して以下の結果
が示された。
実施例15 52g(0.85モル)のテトラエトキシシラン、42.5g(0.
25モル)の四塩化珪素及び0.5mlのパーフルオロブタン
スルホン酸を実施例1と同様の装置中で混合し、塩化水
素を飽和に達成するまで導入した。パーフルオロブタン
スルホン酸を用いずかつ塩化水素を用いずに比較実験を
行なった。
25モル)の四塩化珪素及び0.5mlのパーフルオロブタン
スルホン酸を実施例1と同様の装置中で混合し、塩化水
素を飽和に達成するまで導入した。パーフルオロブタン
スルホン酸を用いずかつ塩化水素を用いずに比較実験を
行なった。
実施例16 SiCl41モル当り0.05モルのトリエチルアミンを加える
か又は加えずに室温にて、四塩化珪素のメタノールとの
反応を1:1のモル比で行なった。以下のガスクロマトグ
ラムが得られた。
か又は加えずに室温にて、四塩化珪素のメタノールとの
反応を1:1のモル比で行なった。以下のガスクロマトグ
ラムが得られた。
実施例17 43g(0.33モル)のジメチルジクロロシラン及び15.3g
(0.33モル)のエタノールを、0.5mlのパーフルオロブ
タンスルホン酸の存在下で5分の間に0℃にて反応させ
た。ガスクロマトグラムは以下の生成物組成を与えた
(%)。
(0.33モル)のエタノールを、0.5mlのパーフルオロブ
タンスルホン酸の存在下で5分の間に0℃にて反応させ
た。ガスクロマトグラムは以下の生成物組成を与えた
(%)。
(CH3)2SiCl2 4.0 (CH3)2Si(OC2H5)Cl 85.1 (CH3)2Si(OC2H5)2 8.9
フロントページの続き (72)発明者 フランツ・ザイコフスキー ドイツ連邦共和国デー5000ケルン80・ア ンドレアス−グリフイウスシユトラーセ 1 (56)参考文献 特公 昭43−20172(JP,B1) 特公 昭45−9735(JP,B1) 特公 昭46−7101(JP,B1)
Claims (2)
- 【請求項1】一般式 R1 aSiCl4-a (式中、R1は1〜4個のC原子をもつアルキル、ハロア
ルキルもしくはアルケニル基表わすか又は6〜8個のC
原子をもつ任意に置換されていてもよい芳香族基を表わ
し、そして aは0、1又は2である) で示される有機シランを、一般式 R2OH (式中、R2は1〜4個のC原子をもつアルキル、ハロア
ルキルもしくはアルケニル基を表わすか又は6〜8個の
C原子をもつ任意に置換されていてもよい芳香族基を表
わす) で示される化合物と、反応により生ずる塩化水素及び使
用される上記の有機シランに基づくモル比で1/5ないし1
/5500の、第一、第二もしくは第三アミン類又はスルホ
ン酸類から選ばれる助触媒から成る触媒系の存在下で反
応させることを特徴とする、一般式 R1 aSi(OR2)bCl4-a-b (式中、R1及びR2は互いに独立に1〜4個のC原子をも
つアルキル、ハロアルキルもしくはアルケニル基を表す
か又は6〜8個のC原子をもつ任意に置換されていても
よい芳香族基を表わし、 aは0、1又は2であり、及び bは1〜3の間の数であるが、但し4−a−bは少なく
とも数1を表わす) で示されるシラン類の製造方法。 - 【請求項2】助触媒が、前記珪素含有化合物に基づき1/
10モル部ないし1/1000モル部で存在する特許請求の範囲
第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3617719.9 | 1986-05-27 | ||
DE36177296 | 1986-05-27 | ||
DE19863617729 DE3617729A1 (de) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | Verfahren zur herstellung von organooxyhalogensilanen |
DE19863617719 DE3617719A1 (de) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | Verfahren zur herstellung von monoorganyloxymonoorganodichlorsilanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62283981A JPS62283981A (ja) | 1987-12-09 |
JP2644227B2 true JP2644227B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=25844108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62125039A Expired - Lifetime JP2644227B2 (ja) | 1986-05-27 | 1987-05-23 | 有機オキシクロロシランの製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4855473A (ja) |
EP (1) | EP0250823B1 (ja) |
JP (1) | JP2644227B2 (ja) |
DE (1) | DE3783662D1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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JP4803395B2 (ja) * | 2007-06-19 | 2011-10-26 | 信越化学工業株式会社 | ヒドロキシル基のシリル化方法 |
EP2805959A1 (en) * | 2012-03-15 | 2014-11-26 | Dow Corning Corporation | Alternative methods for the synthesis of organosilicon compounds |
DE102015009129B4 (de) | 2014-07-22 | 2016-12-15 | Norbert Auner | Verfahren zur Spaltung von Silicium-Silicium-Bindungen und/oder von Silicium-Chlor-Bindungen in Mono-, Poly- und/oder Oligosilanen |
CN107629084A (zh) * | 2017-09-28 | 2018-01-26 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种二(二乙氨基)甲氧基甲基硅烷合成工艺发明 |
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---|---|---|---|---|
US2566956A (en) * | 1942-12-31 | 1951-09-04 | Minnesota Mining & Mfg | Tertiary-alkoxy chlorosilanes |
US3008975A (en) * | 1958-06-24 | 1961-11-14 | Union Carbide Corp | Process for preparing silicon esters from halosilanes |
FR1419143A (fr) * | 1964-12-17 | 1965-11-26 | Thomson Houston Comp Francaise | Silanes substitués |
US3546267A (en) * | 1965-12-07 | 1970-12-08 | Dynamit Nobel Ag | Production of halogenated phenoxysilanes |
DE1518733A1 (de) * | 1965-12-07 | 1969-06-12 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Phenoxysilanen |
DE1543513A1 (de) * | 1965-12-07 | 1969-08-28 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Phenoxysilanen |
US3448138A (en) * | 1966-06-20 | 1969-06-03 | Stauffer Chemical Co | Production of hydrocarbonoxy silanes |
BE758713A (fr) * | 1969-11-12 | 1971-05-10 | Rhone Poulenc Sa | Iminoxyorganoxysilanes |
US3651117A (en) * | 1970-09-08 | 1972-03-21 | Union Carbide Corp | Esterification of halosilanes |
DD120024A5 (ja) * | 1974-06-05 | 1976-05-20 | ||
US4111974A (en) * | 1977-01-28 | 1978-09-05 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of alkoxy-β-halogenoethylsilanes |
-
1987
- 1987-05-08 US US07/047,963 patent/US4855473A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-18 EP EP87107163A patent/EP0250823B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-18 DE DE8787107163T patent/DE3783662D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-23 JP JP62125039A patent/JP2644227B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4855473A (en) | 1989-08-08 |
JPS62283981A (ja) | 1987-12-09 |
DE3783662D1 (de) | 1993-03-04 |
EP0250823A1 (de) | 1988-01-07 |
EP0250823B1 (de) | 1993-01-20 |
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