JPS604193A - アルコキシシランの連続的製法 - Google Patents
アルコキシシランの連続的製法Info
- Publication number
- JPS604193A JPS604193A JP58111294A JP11129483A JPS604193A JP S604193 A JPS604193 A JP S604193A JP 58111294 A JP58111294 A JP 58111294A JP 11129483 A JP11129483 A JP 11129483A JP S604193 A JPS604193 A JP S604193A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chlorosilane
- alcohol
- reaction
- column
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 title 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 30
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 claims 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 abstract description 5
- OLBGECWYBGXCNV-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropanenitrile Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC#N OLBGECWYBGXCNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 abstract description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 abstract 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 24
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 14
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDQXKKFRNOPRDW-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-triethoxyethane Chemical compound CCOC(C)(OCC)OCC NDQXKKFRNOPRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trimethoxyethane Chemical compound COC(C)(OC)OC HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXKPPXIGPAIWDZ-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propanenitrile Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCC#N PXKPPXIGPAIWDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(Cl)Cl QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- OEERIBPGRSLGEK-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;methanol Chemical compound OC.O=C=O OEERIBPGRSLGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- UCJHMXXKIKBHQP-UHFFFAOYSA-N dichloro-(3-chloropropyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCl UCJHMXXKIKBHQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFFDVELHRCMPLY-UHFFFAOYSA-N dimethyldodecyl amine Natural products CC(C)CCCCCCCCCCCN VFFDVELHRCMPLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- -1 jetanolamine Chemical compound 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCXNUWGWUZTCN-UHFFFAOYSA-N trichloro(dodecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl BNCXNUWGWUZTCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N trichloro(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPMVYGAHBSNGHP-UHFFFAOYSA-N trichloro(tetradecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LPMVYGAHBSNGHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、クロロシランをアルコールでエステル化する
ことによりアルコキシシランを連続的に製造する方法に
関するものである。
ことによりアルコキシシランを連続的に製造する方法に
関するものである。
従来アルコキシシランは、液相又は気相で相当するクロ
ロシラン類とアルコールとを接触反応させることにより
得られることが知られている。
ロシラン類とアルコールとを接触反応させることにより
得られることが知られている。
例工ばトリクロロシランのエステル化は、下記反応式に
従って製造することができる。
従って製造することができる。
H5iCff + 8R’OH−+、H5+(OR’)
3. + 3HC6(3)CR7は一価の炭化水素基を
表わす。)この反応並びに類似反応(上式でHの代りに
飽和又は不飽和のアルキル基の場合)の実施は一般に困
難である。それは反応中に多量に生成する塩化水素を直
ちに系外に除去することが困難なことに起因する場合が
多い。
3. + 3HC6(3)CR7は一価の炭化水素基を
表わす。)この反応並びに類似反応(上式でHの代りに
飽和又は不飽和のアルキル基の場合)の実施は一般に困
難である。それは反応中に多量に生成する塩化水素を直
ちに系外に除去することが困難なことに起因する場合が
多い。
この多量に生じる塩化水素は、生成したアルコキシ基を
アルコールとクロロシランに分解し、未反応クロロシラ
ンが残存する原因となる。
アルコールとクロロシランに分解し、未反応クロロシラ
ンが残存する原因となる。
又、式(3)の反応以外に次式
H8+ (OR) B + HC(1→cas s (
OCHa ) 3 十H2(4)CIS 1 (OR’
) a + R’ OH→S 1(OR’ )4+
HC(1(5)のように反応してテトラアルコキシシラ
ンを副生するため収率が低下する。
OCHa ) 3 十H2(4)CIS 1 (OR’
) a + R’ OH→S 1(OR’ )4+
HC(1(5)のように反応してテトラアルコキシシラ
ンを副生するため収率が低下する。
その他、この塩化水素は使用したアルコールと一緒にな
ってクロロアルカン及び水を生成し、この水がクロロシ
ラン及びアルコキシシランを加水分解する。
ってクロロアルカン及び水を生成し、この水がクロロシ
ラン及びアルコキシシランを加水分解する。
このような理由から、前記エステル化反応を液相で行う
従来方法として、減圧下で温度を室温又は室温M7−に
保持しながらあるいは、低沸点溶剤の沸騰還流下で、ク
ロロシラン中にアルコール供給口して反応を行わせ、こ
こで生成する塩化水素を連続的に除去する方法が提案さ
れているが、一般に収率が低く、それと同時に生成液中
に残存する塩化水素およびケイ素原子に結合して残存す
る塩素を中和するために相当量の中和剤が必要であり、
中和剤とこれらの塩素源との反応生成物を除去するため
に濾過、蒸留等の工程を必要とする欠点があった。
従来方法として、減圧下で温度を室温又は室温M7−に
保持しながらあるいは、低沸点溶剤の沸騰還流下で、ク
ロロシラン中にアルコール供給口して反応を行わせ、こ
こで生成する塩化水素を連続的に除去する方法が提案さ
れているが、一般に収率が低く、それと同時に生成液中
に残存する塩化水素およびケイ素原子に結合して残存す
る塩素を中和するために相当量の中和剤が必要であり、
中和剤とこれらの塩素源との反応生成物を除去するため
に濾過、蒸留等の工程を必要とする欠点があった。
さらに、これら従来方法を改善したアルコキシシランの
合成方法として、充填塔を利用した連続的エステル化法
が提案されている。(特公昭51−28621、特開昭
51−13725、特公昭57−48557)Lかしこ
れら方法でも、原料のクロロシラン及び生成物が高沸点
の場合あるいは、原料のクロロシランに沸点の異なる不
純物が含有される場合又は低沸点の副生物が生成する場
合には、実施不可能であったり、工業的に現実的でない
程高い充填塔や過剰のアルコールの使用、溶剤の使用を
必要とする等多くの欠点を有している。
合成方法として、充填塔を利用した連続的エステル化法
が提案されている。(特公昭51−28621、特開昭
51−13725、特公昭57−48557)Lかしこ
れら方法でも、原料のクロロシラン及び生成物が高沸点
の場合あるいは、原料のクロロシランに沸点の異なる不
純物が含有される場合又は低沸点の副生物が生成する場
合には、実施不可能であったり、工業的に現実的でない
程高い充填塔や過剰のアルコールの使用、溶剤の使用を
必要とする等多くの欠点を有している。
更に+M→詳しく述べれば、例えば(3)式の反応を例
にとると、反応の最終段階では、例えば残存塩素量が生
成物の1重量%以下になってくると反応を完結するのが
困難になり、これを数100 ppm〜数10 ppm
の実用的な品質にするには、従来技術の液相反応では
、多量の中和剤を必要とし、結果的には、精製工程を複
雑にするという困難があり、充填塔を利用した連続的エ
ステル化法では、従来技術の液相反応にくらべ改良され
てはいるが、特に、沸点の高いクロロシランを原料とし
て使用する場合や原料のクロロシランや生成物に沸点の
異なる不純物が含有される場合には、実施不可能であっ
たり、工業的に現実的でない程長い充填塔や過剰のアル
コール、溶剤の使用を必要とし、結果的にコスト高にな
る問題がある。
にとると、反応の最終段階では、例えば残存塩素量が生
成物の1重量%以下になってくると反応を完結するのが
困難になり、これを数100 ppm〜数10 ppm
の実用的な品質にするには、従来技術の液相反応では
、多量の中和剤を必要とし、結果的には、精製工程を複
雑にするという困難があり、充填塔を利用した連続的エ
ステル化法では、従来技術の液相反応にくらべ改良され
てはいるが、特に、沸点の高いクロロシランを原料とし
て使用する場合や原料のクロロシランや生成物に沸点の
異なる不純物が含有される場合には、実施不可能であっ
たり、工業的に現実的でない程長い充填塔や過剰のアル
コール、溶剤の使用を必要とし、結果的にコスト高にな
る問題がある。
本発明は従来技術のこのような欠点を改良し、連続的に
アルコキシシランを製造する技術を提供するものである
。
アルコキシシランを製造する技術を提供するものである
。
すなわち本発明では、垂直反応塔上部からクロロシラン
を連続供給し、クロロシランの供給部位より下方に設け
た供給口からアルコールを連続供給して、反応塔の温度
を使用する一般式(2)のアルコールの沸点より高い温
度に維持する。
を連続供給し、クロロシランの供給部位より下方に設け
た供給口からアルコールを連続供給して、反応塔の温度
を使用する一般式(2)のアルコールの沸点より高い温
度に維持する。
従って反応塔上部から流下するクロロシランと蒸留され
て上昇するアルコールが向流接触することになり、上部
から下部のアルコール供給口に下るにつれ、残存塩素量
の濃度が低くなり、反応度が進行し、この際本発明では
残存塩素量濃度の低い生成物が、比較的多量のアルコー
ルと少量の中和剤の存在により効率よく更に反応が進行
し後処理を困難にすることな(、又過大な充填塔設備を
使用することなく、残存塩素量が実用的な品質で、かつ
収率よく連続的なエステル化が可能である。
て上昇するアルコールが向流接触することになり、上部
から下部のアルコール供給口に下るにつれ、残存塩素量
の濃度が低くなり、反応度が進行し、この際本発明では
残存塩素量濃度の低い生成物が、比較的多量のアルコー
ルと少量の中和剤の存在により効率よく更に反応が進行
し後処理を困難にすることな(、又過大な充填塔設備を
使用することなく、残存塩素量が実用的な品質で、かつ
収率よく連続的なエステル化が可能である。
本発明は、一般式(1)
%式%(1)
(式中Rは水素原子又は炭素原子数1以上の置換もしく
は非置換の1価炭化水素基を表わし、nは1〜4の整数
である。) で表わされるクロロシランを垂直反応塔上部から連続供
給し、該クロロシランの供給部位よりも下方に設けた供
給口から中和剤を含有する一般式(2)%式%(2) (式中Rは炭素原子数1〜4の置換もしくは非置換の1
価炭化水素基を表わす。) で表わされるアルコールを連続供給して、反応塔の温度
を、使用する一般式(2)で示すアルコールの沸点より
高い温度に維持しながら、前記クロロシランと接触させ
ることを特徴とするアルコキシシランの連続的製造方法
に関するものである。
は非置換の1価炭化水素基を表わし、nは1〜4の整数
である。) で表わされるクロロシランを垂直反応塔上部から連続供
給し、該クロロシランの供給部位よりも下方に設けた供
給口から中和剤を含有する一般式(2)%式%(2) (式中Rは炭素原子数1〜4の置換もしくは非置換の1
価炭化水素基を表わす。) で表わされるアルコールを連続供給して、反応塔の温度
を、使用する一般式(2)で示すアルコールの沸点より
高い温度に維持しながら、前記クロロシランと接触させ
ることを特徴とするアルコキシシランの連続的製造方法
に関するものである。
以下本発明について更に詳細に説明する。
本発明に使用されるクロロシランは、一般式(1)で示
されるものであり、式中nは1〜4の整数を示し、Rは
水素原子又は炭素原子数1以上の置換もしくは非置換の
1価炭化水素基を表わし、具体的にはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ステアリル基
等のアルキル基、ビニル基、アリル基、等のアルケニル
基、その他フェニル基、ベンジル基等の芳香族基、もし
くは本発明の実施条件下で不活性の原子又は基によって
置換された上記の1価炭化水素基等をあげることができ
る。
されるものであり、式中nは1〜4の整数を示し、Rは
水素原子又は炭素原子数1以上の置換もしくは非置換の
1価炭化水素基を表わし、具体的にはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ステアリル基
等のアルキル基、ビニル基、アリル基、等のアルケニル
基、その他フェニル基、ベンジル基等の芳香族基、もし
くは本発明の実施条件下で不活性の原子又は基によって
置換された上記の1価炭化水素基等をあげることができ
る。
以下に具体的化合物を例示すれば次の通りであるが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
トリクロロシラン、テトラクロロシラン、メチルジクロ
ロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン、ジメチルクロロシラン、プロピルトリクロロシ
ラン、オクチルトリクロロシラン、ドデシルトリクロロ
シラン、テトラデシルトリクロロシラン、ビニルトリク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルメチ
ルジクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリク
ロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジクロ
ロシラン、γ−アクリロキシプロピルトリクロロシラン
、3−クロロプロピルトリクロロシラン、3−クロロプ
ロピルメチルジクロロシラン、2−シアノエチルトリク
ロロシラン、2−シアンエチルメチルジクロロシラン、
3,3,3トリフルオロプロピルトリクロロシラン等が
例示される。
ロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン、ジメチルクロロシラン、プロピルトリクロロシ
ラン、オクチルトリクロロシラン、ドデシルトリクロロ
シラン、テトラデシルトリクロロシラン、ビニルトリク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルメチ
ルジクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリク
ロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジクロ
ロシラン、γ−アクリロキシプロピルトリクロロシラン
、3−クロロプロピルトリクロロシラン、3−クロロプ
ロピルメチルジクロロシラン、2−シアノエチルトリク
ロロシラン、2−シアンエチルメチルジクロロシラン、
3,3,3トリフルオロプロピルトリクロロシラン等が
例示される。
本発明で使用されるアルコールは一般式(2)で示され
るものであり、式中Rは炭素原子数1〜4の置換もしく
は非置換の1価炭化水素基を表わし、具体的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、アリ
ル基、等もしくは本発明の実施条件下で不活性の原子又
は基によって置換された上記の1価炭化水素基等をあげ
ることができる。具体的にはメチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、
アリルアルコール等が例示される。
るものであり、式中Rは炭素原子数1〜4の置換もしく
は非置換の1価炭化水素基を表わし、具体的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、アリ
ル基、等もしくは本発明の実施条件下で不活性の原子又
は基によって置換された上記の1価炭化水素基等をあげ
ることができる。具体的にはメチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、
アリルアルコール等が例示される。
アルコールとともに使用される中和剤としては、乾燥ア
ンモニア、アミン類、ナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウム等のアルカリ金属を有する塩基、酸化
アルキレン、オルトエステル類等があげられる。
ンモニア、アミン類、ナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウム等のアルカリ金属を有する塩基、酸化
アルキレン、オルトエステル類等があげられる。
具体的にはアミン類としては、3級アミン、2級アミン
、1級アミンがいずれも使用でき、トリエチルアミン、
トリブチルアミン、トリオクチルアミン、NNジメチル
ドデシルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、プ
ロピルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン、ステア
リルアミン、アニリン、ピリジン、ジフェニルアミン、
キノリン、エタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン等が例示できるが、これらに限定さ
れるものではない。アルカリ金属を有する塩基としては
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシ
ウム、ナトリウムメチラート、酸化マグネシウム、炭酸
ナトリウム、炭酸マグネシウム等があげられる。
、1級アミンがいずれも使用でき、トリエチルアミン、
トリブチルアミン、トリオクチルアミン、NNジメチル
ドデシルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、プ
ロピルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン、ステア
リルアミン、アニリン、ピリジン、ジフェニルアミン、
キノリン、エタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン等が例示できるが、これらに限定さ
れるものではない。アルカリ金属を有する塩基としては
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシ
ウム、ナトリウムメチラート、酸化マグネシウム、炭酸
ナトリウム、炭酸マグネシウム等があげられる。
酸化アルキレンとしては、酸化エチレン、酸化プロピレ
ン、酸化ブチレン等があげられる。
ン、酸化ブチレン等があげられる。
オルトエステルとしては、オルトギ酸トリメチル、オル
トギ酸トリエチル、オルト酢酸トリメチル、オルト酢酸
トリエチル等があげられる。これら中和剤のうち、副反
応の点からは、塩基性の強くないものがより望ましく、
アミン類、酸化アルキレン類、オルトエステル類が望ま
しい。
トギ酸トリエチル、オルト酢酸トリメチル、オルト酢酸
トリエチル等があげられる。これら中和剤のうち、副反
応の点からは、塩基性の強くないものがより望ましく、
アミン類、酸化アルキレン類、オルトエステル類が望ま
しい。
本発明を実施するにあたっては、垂直反応塔の上部から
一般式(1)で示されるクロロシランを連続的に供給し
中和剤を含有するアルコールはクロロシランの供給部位
よりも下方の供給口から連続的に供給される。アルコー
ルの供給部位は、具体的には、クロロシランの供給口と
反応塔の下端部の間に設けられるが、実際には、所望と
する反応度、使用する反応塔の長さ、中和剤量等により
、最適の結果が得られるように決定することは容易であ
る。一般的にはクロロシランの供給口と反応塔の下端部
の間の中央部より下方に設けるのが望ましい。上記した
クロロシランとm個アルコールの供給割合は、反応を完
結させるために必要とされる化学量論比もしくは若干過
剰量のアルコールを供給するのが望ましい。
一般式(1)で示されるクロロシランを連続的に供給し
中和剤を含有するアルコールはクロロシランの供給部位
よりも下方の供給口から連続的に供給される。アルコー
ルの供給部位は、具体的には、クロロシランの供給口と
反応塔の下端部の間に設けられるが、実際には、所望と
する反応度、使用する反応塔の長さ、中和剤量等により
、最適の結果が得られるように決定することは容易であ
る。一般的にはクロロシランの供給口と反応塔の下端部
の間の中央部より下方に設けるのが望ましい。上記した
クロロシランとm個アルコールの供給割合は、反応を完
結させるために必要とされる化学量論比もしくは若干過
剰量のアルコールを供給するのが望ましい。
中和剤量は必要に応じて自由に選択することができるが
、望ましくは生成物のアルコキシシランの1重量%以下
、より望ましくは0.1重量%以下使用するのがよい。
、望ましくは生成物のアルコキシシランの1重量%以下
、より望ましくは0.1重量%以下使用するのがよい。
又使用するクロロシランとアルコールは反応塔内断面に
ついてできるだけ均一に分布するように供給されること
が望ましい。
ついてできるだけ均一に分布するように供給されること
が望ましい。
反応塔の温度は使用するアルコールの沸点以上生成する
アルコキシシランの沸点以下の範囲内で選択されるが、
好ましくは、塔頂の温度が塔底の温度より低くなるよう
に設定し、塔頂の温度が最も低く、塔底の温度が最も高
くなるように温度勾配を有するのが望ましい。
アルコキシシランの沸点以下の範囲内で選択されるが、
好ましくは、塔頂の温度が塔底の温度より低くなるよう
に設定し、塔頂の温度が最も低く、塔底の温度が最も高
くなるように温度勾配を有するのが望ましい。
本発明に使用される反応塔の構造に特に制限はなく、蒸
留に用いられるような任意の蒸留塔でよい。通常反応塔
は、陶器、ガラス、プラスチック製のラツシピリング、
ベルサドル、ヘリックス等の気液の接触を良好にするた
めの充填物を内部に有するか、多孔板、濡壁等の構造を
有するのがよい。
留に用いられるような任意の蒸留塔でよい。通常反応塔
は、陶器、ガラス、プラスチック製のラツシピリング、
ベルサドル、ヘリックス等の気液の接触を良好にするた
めの充填物を内部に有するか、多孔板、濡壁等の構造を
有するのがよい。
つぎに本発明の実施例および比較例をあげるが、本発明
はこれに限定されるものではない。
はこれに限定されるものではない。
参考例1
γ−メタクリロキシプロピルトリクロロシランの合成
撹拌機、ドライアイス−メタノールで冷却できる還流冷
却器、2つの滴下ロート、及び熱媒の循還できるジャケ
ットのついた51反応器により実施した。
却器、2つの滴下ロート、及び熱媒の循還できるジャケ
ットのついた51反応器により実施した。
アリルメタクリレート1512f、2.5ジーL−ブチ
ルハイドロキノンa、oy、トリクロロシラン178’
lfをあらかじめ混合した反応原料と、塩化白金酸(u
2ptcAi6・6H20)のイソプロピルアルコール
溶液をトルエンで希釈した触媒溶液をそれぞれの滴下ロ
ートから10時間かけて滴下した。反応温度は55°C
に維持し、更に2時間後反応を行った。
ルハイドロキノンa、oy、トリクロロシラン178’
lfをあらかじめ混合した反応原料と、塩化白金酸(u
2ptcAi6・6H20)のイソプロピルアルコール
溶液をトルエンで希釈した触媒溶液をそれぞれの滴下ロ
ートから10時間かけて滴下した。反応温度は55°C
に維持し、更に2時間後反応を行った。
ガスクロマトグラフィー分析により、γ−メタクリロキ
シプロピルトリクロロシランの純度は91%、理論収率
は95%であった。
シプロピルトリクロロシランの純度は91%、理論収率
は95%であった。
実施例1
5間×5πmの磁製ラツシピリングを内部に有する内径
25朋のガラス筒、その外側に加熱を目的として巻かれ
た電気抵抗型加熱テープを有する内径45闘のカラス製
中筒、さらに放熱防止用の内径60闘のガラス製外筒か
らなる長さ500關の充填筒4本、反応液温測定用温度
計、充填塔間の反応液採取用サンプリング口、及び原料
供給口を有するガラス製接手5本を組み合わせた垂直反
応塔を使用する。塔頂には水冷却型還流器、塔底には生
成物の受器としてガラス製フラスコを接続する。
25朋のガラス筒、その外側に加熱を目的として巻かれ
た電気抵抗型加熱テープを有する内径45闘のカラス製
中筒、さらに放熱防止用の内径60闘のガラス製外筒か
らなる長さ500關の充填筒4本、反応液温測定用温度
計、充填塔間の反応液採取用サンプリング口、及び原料
供給口を有するガラス製接手5本を組み合わせた垂直反
応塔を使用する。塔頂には水冷却型還流器、塔底には生
成物の受器としてガラス製フラスコを接続する。
4本の充填塔の温度は上から90°C,130°C11
30°(,16,、OoCにコントロールする。
30°(,16,、OoCにコントロールする。
まず塔底から50αの位置の接手から1000ppm
のトリエチルアミンを含有する無水メタノールを液状で
0.20 k(jl h r連続的に導入する。
のトリエチルアミンを含有する無水メタノールを液状で
0.20 k(jl h r連続的に導入する。
塔頂にメタノールが還流を始めると同時に還流器の冷却
水を停止し、塔頂から参考例1のクロロシランを0.1
6kQ/hr連続的に導入する。メタノール対クロロシ
ランの比はケイ素に結合した塩素1グラム原子につきア
ルコールが1.4モルの比率である還流冷却器上部から
低沸点の副生物、メタノール、塩化水素ガスを除去しな
がら、塔底から受器に生成物であるr−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシランを得る。
水を停止し、塔頂から参考例1のクロロシランを0.1
6kQ/hr連続的に導入する。メタノール対クロロシ
ランの比はケイ素に結合した塩素1グラム原子につきア
ルコールが1.4モルの比率である還流冷却器上部から
低沸点の副生物、メタノール、塩化水素ガスを除去しな
がら、塔底から受器に生成物であるr−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシランを得る。
6時間後の生成物のガスクロマトグラフィー分析により
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの純度
は94%、理論収率95%であった。
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの純度
は94%、理論収率95%であった。
又生成物中の残存塩素量は30ppm であった。
比較例1
実施例1と同一装置、同一条件での中和剤不在下の例を
示す。
示す。
メタノールを0.40 kg/ b r % クロロシ
ランを0、16 kq’/ h r連続的に導入した。
ランを0、16 kq’/ h r連続的に導入した。
この場合メタノール対クロロシランの比はケイ素に結合
した塩素1グラム原子につき、アルコールが2.8モル
の比率である。6時間後生酸物γ−メククリ口キシプ口
ピルトリメトキシシランの純度は91%、理論収率92
%であった。又生成物中の残存塩素量は300 ppm
であった。
した塩素1グラム原子につき、アルコールが2.8モル
の比率である。6時間後生酸物γ−メククリ口キシプ口
ピルトリメトキシシランの純度は91%、理論収率92
%であった。又生成物中の残存塩素量は300 ppm
であった。
比較例2
電磁撹拌式スターラー及び水冷式の還流冷却器のついた
ガラス製フラスコに参考例1のγ−メタクリロキシプロ
ピルトリクロロシラン126 f。
ガラス製フラスコに参考例1のγ−メタクリロキシプロ
ピルトリクロロシラン126 f。
塩化メチレン107fを加え、加熱浴の温度を60〜7
0°Cに加熱し塩化メチレンの沸騰還流下に2時間かけ
てメタノールを47.59滴下し、更に3.5時間還流
下に反応を継続した。この時点での反応液の残存塩素量
は0.57重量%であった。
0°Cに加熱し塩化メチレンの沸騰還流下に2時間かけ
てメタノールを47.59滴下し、更に3.5時間還流
下に反応を継続した。この時点での反応液の残存塩素量
は0.57重量%であった。
次に中和剤としてトリエチルアミンを38g滴下したと
ころ多量の塩を析出した。この塩を口過後塩化メチレン
を留去し分析したところ、理論収率74%、残存塩素量
2800 ppm であった。
ころ多量の塩を析出した。この塩を口過後塩化メチレン
を留去し分析したところ、理論収率74%、残存塩素量
2800 ppm であった。
実施例2
中和剤として酸化プロピレンを11000pp含有する
メタノールを使用した以外は、実施例1と同一の装置、
同一の条件で反応を繰り返した。
メタノールを使用した以外は、実施例1と同一の装置、
同一の条件で反応を繰り返した。
純度93%、理論収率94%であり、実施例1の生成物
に比べ1%高沸不純物が多い以外は、はぼ同様の結果で
あった。
に比べ1%高沸不純物が多い以外は、はぼ同様の結果で
あった。
残存塩素量は100 ppmであった。
実施例3
参考例1と同様にして、塩化アリルとトリクロロシラン
からγ−クロロプロピルトリクロロシランを合成した。
からγ−クロロプロピルトリクロロシランを合成した。
γ−クロロプロピルトリクロロシランを使用した以外は
実施例1と同一の装置、同一の条件で反応を繰り返した
。97%の純度と収率でγ−クロロプロピルトリメトキ
シシランが得られ、このものの残存塩素量は20ppm
であった。
実施例1と同一の装置、同一の条件で反応を繰り返した
。97%の純度と収率でγ−クロロプロピルトリメトキ
シシランが得られ、このものの残存塩素量は20ppm
であった。
特許出願人 鐘淵化学工業株式会社
代理人 弁理士浅野真−
Claims (2)
- (1)一般式(1) %式%(1) (式中、Rは水素原子又は炭素原子数1以上の置換もし
くは非置換の1価炭化水素基を表わし、nは1〜4の整
数である。)で表わされるクロロシランを垂直反応塔上
部から連続供給し、クロロシランの供給部位よりも下方
に設けた供給口から中和剤を含有する、一般式(2) %式%(2) (式中、Rは炭素原子数1〜4の置換もしくは非置換の
1価炭化水素基を表わす。)で表わされるアルコールを
連続供給して、反応塔の温度を使用する該アルコールの
沸点より高い温度に維持しながら前記クロロシランと接
触させることを特徴とするアルコキシシランの連続的製
法。 - (2)中和剤がアミンである特許請求の範囲第1項記載
の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58111294A JPS604193A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | アルコキシシランの連続的製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58111294A JPS604193A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | アルコキシシランの連続的製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS604193A true JPS604193A (ja) | 1985-01-10 |
Family
ID=14557569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58111294A Pending JPS604193A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | アルコキシシランの連続的製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS604193A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5103034A (en) * | 1990-03-23 | 1992-04-07 | Tama Chemicals Co., Ltd. | Process for preparing alkoxysilanes |
JP2014509321A (ja) * | 2011-03-15 | 2014-04-17 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | SiOC含有化合物の連続製法 |
CN109320541A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-02-12 | 江西宏柏新材料股份有限公司 | 塔式缚酸剂法连续生产氰乙基三乙氧基硅烷的方法 |
US10399997B2 (en) | 2014-07-11 | 2019-09-03 | Geo Specialty Chemicals Uk Limited | Process for preparation of 3-methacryloxypropyldimethylchlorosilane in continuous flow reactor |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5444619A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Continuous preparation of alkoxysilane |
-
1983
- 1983-06-21 JP JP58111294A patent/JPS604193A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5444619A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Continuous preparation of alkoxysilane |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5103034A (en) * | 1990-03-23 | 1992-04-07 | Tama Chemicals Co., Ltd. | Process for preparing alkoxysilanes |
JP2014509321A (ja) * | 2011-03-15 | 2014-04-17 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | SiOC含有化合物の連続製法 |
US10399997B2 (en) | 2014-07-11 | 2019-09-03 | Geo Specialty Chemicals Uk Limited | Process for preparation of 3-methacryloxypropyldimethylchlorosilane in continuous flow reactor |
CN109320541A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-02-12 | 江西宏柏新材料股份有限公司 | 塔式缚酸剂法连续生产氰乙基三乙氧基硅烷的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0549675B2 (ja) | ||
JPS6035351B2 (ja) | アルコキシシランの連続的製法 | |
KR950002860B1 (ko) | 클로로알켄닐실란들과그제조방법 | |
US5075477A (en) | Direct synthesis of methylchlorosilaakanes | |
JPH05255354A (ja) | ビスシリルメタンの製造方法 | |
JPH05255355A (ja) | ビスシリルアルカンの製造方法 | |
JP2804202B2 (ja) | 3−クロルプロピルシランの製造方法 | |
JP2021520335A (ja) | ハロシラン化合物を生成するための方法 | |
JP2000063390A (ja) | アセトキシシランの製法 | |
US5420323A (en) | Allylalkylsilanes and their preparation methods | |
JPS604193A (ja) | アルコキシシランの連続的製法 | |
JP2003532734A (ja) | 第二級アミノイソブチルアルコキシシラン類の調製 | |
JP4263288B2 (ja) | アルコキシシランの製造方法 | |
JP4338348B2 (ja) | 3−位で官能化されたプロピルシランの製法 | |
EP0460589B1 (en) | Method for the preparation of cyclopentyl Trichlorosilane | |
JPS606696A (ja) | アルコキシシランの連続的製造方法 | |
JP2644227B2 (ja) | 有機オキシクロロシランの製法 | |
JP2511244B2 (ja) | トリス(シリル)アルカンとその製造方法 | |
US4762938A (en) | Process for the preparation of alkoxysilanes | |
JP2797881B2 (ja) | 3−[n−(2−アミノエチル)]アミノプロピルアルコキシシランの連続的製造方法及びその製造装置 | |
JPH0717660B2 (ja) | 1,1―ジクロロ―1,2,2―トリメチル―2―フェニルジシランの製造方法 | |
JPS5949228B2 (ja) | ハロゲンシランのエステル化法 | |
KR100469945B1 (ko) | 비닐클로로실란의제조방법 | |
KR950004175B1 (ko) | 트리스실릴알칸들과 그 제조방법 | |
KR950002861B1 (ko) | 트리스실릴메탄들과 그 제조방법 |