DE1518733A1 - Verfahren zur Herstellung von halogenierten Phenoxysilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von halogenierten PhenoxysilanenInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- RBCYCMNKVQPXDR-UHFFFAOYSA-N phenoxysilane Chemical class [SiH3]OC1=CC=CC=C1 RBCYCMNKVQPXDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 claims description 3
- XYZWMVYYUIMRIZ-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-n,n-dimethylaniline Chemical group CN(C)C1=CC=C(Br)C=C1 XYZWMVYYUIMRIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N pentachlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- -1 - pyridine Chemical class 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- XBNGYFFABRKICK-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentafluorophenol Chemical compound OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F XBNGYFFABRKICK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYZSFZRRZVYDDA-UHFFFAOYSA-N 1,5-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-amine Chemical compound CC1(N)CC(=CC=C1)C KYZSFZRRZVYDDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6-tetrachlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=C(Cl)C(Cl)=C1Cl VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LINPIYWFGCPVIE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=C(Cl)C=C1Cl LINPIYWFGCPVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPOMSPZBQMDLTM-UHFFFAOYSA-N 3,5-dichlorophenol Chemical compound OC1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1 VPOMSPZBQMDLTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZFGOTFRPZRKDS-UHFFFAOYSA-N 4-bromophenol Chemical compound OC1=CC=C(Br)C=C1 GZFGOTFRPZRKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHMPLDJJXGPMEX-UHFFFAOYSA-N 4-fluorophenol Chemical compound OC1=CC=C(F)C=C1 RHMPLDJJXGPMEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUDRVAHLXDBKSR-UHFFFAOYSA-N [CH]1CCCCC1 Chemical compound [CH]1CCCCC1 YUDRVAHLXDBKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N allyl radical Chemical compound [CH2]C=C RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- UZBDLHYCYNXFRF-UHFFFAOYSA-N chloro(prop-1-enyl)silane Chemical compound C(=CC)[SiH2]Cl UZBDLHYCYNXFRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 230000000749 insecticidal effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- HJFZYZBHIAWDEO-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2,4-dinitroaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O HJFZYZBHIAWDEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYOOGWWGECJQPI-NSHDSACASA-N n-[(1s)-1-(5-fluoropyrimidin-2-yl)ethyl]-3-(3-propan-2-yloxy-1h-pyrazol-5-yl)imidazo[4,5-b]pyridin-5-amine Chemical compound N1C(OC(C)C)=CC(N2C3=NC(N[C@@H](C)C=4N=CC(F)=CN=4)=CC=C3N=C2)=N1 AYOOGWWGECJQPI-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- SVHOVVJFOWGYJO-UHFFFAOYSA-N pentabromophenol Chemical compound OC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br SVHOVVJFOWGYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004707 phenolate Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 231100000208 phytotoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000000885 phytotoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethenyl)silane Chemical compound Br[Si](Br)(Br)C=C BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N trichloro(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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DYHAMIT HOBEL AKTISHÖESELLSGHAM ;
Troisdorf / Bez. Köln
Dr. Expl.
Vorfahre* ^Herstellung von nalogenierten P,enoXyailanene
der Erfindun
g ist ^n Verfanren ,ur Herstellu^
halogeniden .Pnencvsilanen der alpinen ,or.el
ln der H1
Ep ein Alkyl-, Coxoal^-, Ar7I-,
i = nuor, Chlor oder Brom, η eine gan»e «™ 1 - 5 und
1 sein kann. :
' istsr
,orden, ,aXogenier.e ^enox^lane du«,
ββΓ U^nto mtri^enolate m« Halogeneilanen xn .
Xylol,erstellen. Auf dies, Weise galan? es ersteig, daß
«e l^o^ilane des Pentachlorphenol, und deS 2,4,6-1'rxoviorphenol«
in Ausbeuten von etwa 60 * herstellen. Dxe
eile dieses Verfahrens sind neben der gerinSen Ausbeute
Hatri^phenolate i, eMorderliahen ho.en Hein-
und der Anfall größerer Hengen. von Mebenproduicten^
909-824/1322 BAD
darunter anorganische Salze, wodurch die Alitrennung der reinen halogenierten Phenoxysilane, vor allem wegen deren. Schwerlöslichkeit
und durch die Hydrolyseneigung beträchtlich erschwert wird. I1Ur eine industrielle Herstellung kommt dieses Verfahren
daher nicht in Frage«
Es sind noch andere allgemeine'Verfahren bekannt, um.Phenoxysilane
darzustellen. So z.B. ist es üblich, spezielle"Phenoxysilane aus leicht zugängigen Estern, z.B. aus Ä'thoxysilanen,
auf dem Wege der Umesterung, gegebenenfalls in Gegenwart
saurer oder alkalischer Katalysatoren, wie p-Tolu-olsulfonsrure,
herzustellene
Es hat sich jedoch gezeigt,- daß sich dieses Verfahren auf die Herstellung
von Organo-halogenphenoxysilanen halogenierter Phenole nicht anwenden"läßt· Versucht man beispielsweise derartige
Phenole mit Örgan,o-organoxysilanen in Schmelze oder in Lösung
mit oder ohne Katalysator umzusetzen, so beobachtet man, daß die Kondensation zunächst sehr langsam beginnt und schließlich zum
Stillstand kommt, ohne daß die gewünschten Phenoxysilane quantitativ entstanden sind.
Ein weiteres Verfahren zur Synthese von Phenoxysilanen ist die
direkte Kondensation von Halogensilan mit Phenolen mit oder ohne lösungsmittel unter Austritt von gasförmigem HOl· Versucht
man jedoch nach diesem Verfahren halogenierte Phenole umzusetzen, so zeigt sich, daß auch hierbei die Kondensation
sehr langsam und unvollständig abläuft und zum Stillstand
S08824/1322 ^ ' <
BAD ORIGINAL
kommt, ohne daß die gew'lnschten Pheiioxysilane entstanden
sind« Diese .Reaktion kann in G-egenwart überschüssiger oder ...
stQohioHetr-isGher Mengen von. Aminen drirohgeführt werden,,
wobei -diese Amine als JiGl-lTänger " fungi er en-, Außerdem wird
den. Aminen eine gewisse ke.tal.yt.isohe Wirkung zugeschrieben,
die-darin besteht, daß die Amine mit "dem Halogensilan liewis-Saure-Komplexe
bilden, Halögenierte Phenole reagieren jedoch auch-in G-egeiiwart überschüssiger oder s töchi ome tr i sch er Mengen
Amin, zvB.-_;Pyridin, nicht unter Bildung,von Phenoxysilanen, .
sondern --bilden ;infolge, ihrer meist licheren Acidität Ammonium'-salze,
--die-.dann nicht mehr zur- Phenoxysilanbildung befähigt :
Es wurde nun überraschenderweise gefunden, daß man die früher
geschilderten,Schwierigkeiten bei der Herstellung von halo- .
, genier ten. Phenoxy silanen der allgemeinen Formel
R.
"?1
in der R^' ein'Alkenyl-, Alkyl-, Cycloalkyl- oder Arylrest,
Rg ein'Alkyi'-,' Oycloalkyl-, Aryl-, Alkoxy- oder Aryloxyrest,
X = ]?.luor, Chlor oder Brom, η eine ganze Zähl von 1 - '5 und
M"'O oder 1 sein'kann-, vermeiden kann-., wenn man halögenierte
Phenole der allgeiiieinen formel ' ".''''"■ -■■--■ ,-.
mit Halogensilane!! der allgemeinen Formel
- m
(Ro)
2 'm
in denen R1, Rp, X? m und η die obige Bedeutung besitzen in
Gegenwart von tertiären Aminen bzw. von Hydrochloriden der vorgenannten, deren Dihydrochloride eine-HCl-Tension bei der
Reaktionstemperatur besitzen, die kleiner ist als der Reaktionsdruck, bei einer. Temperatur von 4o - 15o O, vorzugsweise
55 - 1oo° O, gegebenenfalls unter Verwendung von
Lösungsmitteln, kondensiert«
Die Umsetzung gemäß der vorstehenden Erfindung wird vorzugsweise
bei Normaldruck durchgeführt, jedoch kann auch · ein Überdruck bis zu 12 atü angewendet werden, der jedoch
im Vergleich zu der drucklosen Arbeitsweise in Gegenwart von
tertiären Aminen etc., deren HCl-Tension kleiner ist als
76o mm Hg, keine wesentlichen Vorteile besitzt«
Diese Reaktion kann sowohl in der Schmelze als auch in Gegenwart von Lösungsmitteln durchgeführt werden. Geeignete
00082 4/1322 ^5.*
BAD ORIGINAL
!Lösungsmittel im Sinne der vorliegenden Erfindung sind sowohl
aliphatische als auoh aromatische Kohlenwasserstoffe sowie
einfache und cyclische Äther. Als aliphatisehe Kohlenwasserstoffe
sind sowohl einheitliche Verbindungen als auch Gemische
derselben zu nennen, wie Isooctan und Benzinfraktionen, "beispielsweise
solche mit einem Siedebereich von 12o - 18o° 0,
Benzol, Toluol und Xylol sind Beispiele für geeignete aromatische Kohlenwasserstoffe. Als Äther, die zur Durchführung der
Reaktion geeignet sind, wären zu nennen: Diisopropyläther, Diisoamylather,
Diphenyläther, 1,4-Dioxan u.a. Die vorstehende
AufStellung geeigneter Äther zeigt, daß sowohl aliphatisehe als
auch aromatische offenkettige Äther verwendet werden können*
Als Ausgangsprodukte zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens
eignen sich halogenierte Phenole der früher genannten Formel. Geeignete Phenole sind "beispielsweise die fluorierten,
wie 4-Fluorphenol, Pentafluorphenol, die chlorierten, wie 2-,
3-, 4,-Chlorphenol, 2 , 3-x2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4-, 3,5-Dichlorphenol,
2,3»5-, 2,4,5- und 2,4,6-Trichlorphenol, 2,3,4,6-Tetrachlorphenol
sowie Pentachlorphenol, und die "bromierten, wie 2-,3-J
4-Bromphenol, 2,4-12,6-DiIDrOmPhOnPl1 2,4,6-Tri"bromphenol und
Pentabromphenol. Selbstverständlich können auch Gemische der
vorgenannten halogenierten Phenole und auch mit anderen Hydroxyverbindungen
(Alkohole bzw. halogenfreie phenolische Verbindungen)
zur Herstellung der Phenoxysilane erfindungsgemäß eingesetzt werden. ■
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BAD ORIGINAL
BAD ORIGINAL
Die erfindungsgeinäß ala zweites Ausgangsprodukt verwendbaren
Halogensilane entsprechend der folgenden allgemeinen Formel
R1
m
(Ro)
In dieser Formel "bedeuten ]L· ein Alkenyl-(z.B. Vinyl-,
Allylrest u.ä·), gerader oder verzweigter Alkyl-(z.B· Methyl-, Äthyl-, i-Propyl-, n-Propyl-, n-Dodeeyl-, n-Octadecylrest,
etc.), Cycloalkyl- (wie Cyclopentyl-, Cyclohexylrest, usw.). oder Arylrest^v/ie Phenyl-, Eaphthylrest, usw., R2
ein Alkyl«, Cycloalkyl- oder Arylrest im vorstehenden Umfang, sowie ein Alkoxy·· (z#B. Benzyloxyrest u.a.), so.wie ein
gegebenenfalls alkylsubstituierter Arylöxyrest (z.B. Phenoxy-,
dwund jS^lIaphthoxy- und p-tert.-Butylphenoxyrest u.ä·),
X.a fluor, Chlor oder Brom und m O oder 1.
Typische Vertreter der vorgenannten Stoffklassen sind beispielsweise«
Vinyltrichlorsilan, Vinyltribromsilan, Allyltriohlorsilan,
Allyltribromsilan, Methylvinylchlorsilan,
n-'Deoyltrichlorsilan, Phenyltrichlorsilan, Diphenyldichlorsilan,
usw.
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BADORIdINAL
Zur Herstellung der halogenierten Phenoxysilane werden
Halogensilane und halogenierte Phenole, vorzugsweise im
stöchiometrischen Verhältnis eingesetzt, d«h. pro' Mol Halogen des Silans wird 1 Mol halogeiiiertes Phenol verwendet.
Die Ausbeuten an halogenierten Phenoxysilanen können durch Verwendung eines Übernchusses an phenolischer
Verbindung verbessert werden.
Zur erfindungsgemäßen Durchführung des Verfahrens sind einheitliche und gemischte tertiäre Amine mit aliphatischen,
cycloaliphatische» und aromatischen Resten bzw. deren Gemische geeignet« Als Maß für die Eignung eines tertiären
Amins hat sich die HCl-Tension der Dihydrochloride bei der
Reaktionstemperatur erwiesen, und zwar muß die Höl-Tension
des DihydroChlorids kleiner sein als der Reaktionsdruck. Bei
Normaldruck finden daher solche Amine Verwendung, dferen
Höl-Tension im Temperaturbereich des Verfahrens kleiner als
76o mm Hg ist. Bei Formaldruck werden vorzugsweise solche Amine verwendet, deren HCl-Partialdruckebei 5o - 22o° C im
Bereich, von 80 - 7oo mm Hg liegen, d.h· daß die Dihydrochloride
der erfindungsgemäß verwendbaren tertiären Amine im Reaktionsbereich thermisch instabil sein müssen»
Geeignete tertiäre Amine mit aliphatischen Resten sind beispielsweise» Triaethylainin, Triethylamin, Triieopropylamin» Triiö0l!utylamin>
Monoäthylaiieopropylamini Monoäthyl-di-nbutylamin
u.a« Aus der.Reihe der Amine mit cyoloaliphatisohen
BAD OBlGlNAL
Resten wäre das Dimethylcyclohexylamin als Beispiel zu
nennen* Schließlich sind noch geeignete Amine mit aromatischen
Resten 011 nennen, wie z.B« If ^H-Di alkyl anil in,
U, !-«Dimethyl anil in und N,.l-Diäthylanilin uoao, p-BrompHenyl
dime thy lamin, 2 ,4—Dinitrophenyldime thylamin und
Benzyldimethylamin. Die- zuletzt genannten aliphatischaroinatischen
Amine sind speziell bei .Durchführung des Verfahrens unter Iormaldruck geeignet«,
Die als Katalysatoren verwendeten tertiären Amine bzw, deren Hydrochloride werden in Mengen von o,1 - 2ο Mol;»,
vorzugsweise o,1 - 2 Mol$, bezogen auf die Menge HaIogensilan,
eingesetzt»
Unter den erfiaioungsgemäßen Bedingungen läuft die Kondensation rasch und unter Abscheidung stöchiometrischer Mengen
an gasförmigem HCl abo Es entstehen auf diese v/eise
leicht isolierbare halogenierte. Phenoxirsilane in guten
Ausbeuten und von hoher H-einheite
Die vorstehenden Silane können als Hydrophobierungsmittel,
Trennmittel,' Schlichtungsmittel'für Glasfasergewebe und
zur Oberfläehenveredlung infolge ihrer feuerhemmenden,
fungiciden, phytotozischeh, baktericiden und zum Teil auch
insekticiden Digenschaften Verwendung finden«
Die nachstehenden Beispiele sollen das erfiiidüngsgcraäße
Verfahren illustrieren^ :' "-·"-■
BAD
In einen Dreihalskolben, mit Kühler, Rührer und Einleitungsrohr fir Ii0, vmrden 79,95.3 (o, 3 Mol») Pentachlorphenol in
3oo ml-..-Bonzol bei 8o 0 gelöst mid anschließend wurden 16,5 g
■z
(o, 1-Mo.l) Yinyltrichlorsilari und o,4 cm !,F-Dimethylanilin
augegeben« Es setste sofort eine starke HCl-Entwicklung ein.
Da? entstehende HOl-Gas ...wurde mit Np aus den Reaktionsmedium
herausfcespült. Die Reaktion war "nach ca. 8 Stunden beendet«
An G c hü et. end wurde das -Benzol abgezogen und das Endprodukt
aus Toluol unkristallisiert 0 Ausbeute ca. 8o '/O. Das weiße
kristalline Produkt polymerisiert beim Erhitzen.
Th.
Si; 3,1556 · 3,299s
Si; 3,1556 · 3,299s
Beis;;'iel 2:
In einjm Dreihalskolben, mit Kühler, Rührer und Einleitungsrohr für N0, wurden 25,3 g (o,2 Mol) Pentachiorphenol in 2oo ml
Benzol bei 8o° G gelöst und anschließend 14.1 g (o,1 WIoI)
Mctnylvinyldichlorsilan und 0,5 cm NjIT-Dimethylanilin zuge-
gc-beno Es setzte sofort eine starke HOl-Entwioklung ein. Das
entstehende HGl-Gas wurde mit U0 aus dem Reaktion.jmedium heraue-.
Die Reaktion war nach ca. 8 Stunden beendet. An-
9 09 82Λ/ 13 2 2
- io - ■ .
BAD ORtGlMAL
schließend wurde das Benzol abgezogen und das Endprodukt unter Vakuum abdestilliert. Ausbeute ca, 80 fo0
Siedepunkt: 2o4 -210 G bei 1,o mm Hg,
In einem Dreihalskolben, mit Kühler., Rührer und Einleitungsrohr für ET2, wurden 53»3 g (o,2 Mol) Pentachlorphenol in
2oo ml Benzol bei 8o° G gelöst« Danach wurden 14,1 g (o,1 Mol)
Methylvinyldichlorsilan und 0,4 cm Ν,Β-Dimethylanilin zugegeben.
Eine starke HOl-Entwicklung setzte darauf ein» Daa entstehende
HOl-Oas wurde mit Np aus dem Reaktionsmedium hermisgespült«
Die Reaktion war nach ca, 8 Stunden beendet« Anschließend
wurde das Benzol abgezogen und das. Endprodukt aus Toluol umkristallisiert. Ausbeute ca» 80 fo. Das weiße kristalline
Rohprodukt hat einen-Fp von 111 - 127° C, nach Umkristallisation
von 128 C, ". .
In einem Dreihalskolben, mit Kühler, Rührer und Einleitungsrohr für Ν«» wurden 79»95 g (o,3 Mol) Pentachlorphenol in
35o ml Toluol bei 12o° C gelöst. Danach wurden 27,5 g (o,1 Mol) n-Decyltrichlorsilan und 0,4 cm N,F-Dimethylanilin
zugegeben, sofort setzte starke HCl-Entwieklung ein. Das
009824/1322.
BAD ORfGfISlAl
-■ 11
eatRteilende HGl-Qas wurde mit N2 aus den Reaktion.-jmedium
herausgespült« Die Jieaktioii war nach ca.. 18-24 Stunden
beendet. Anschließendwurde das Toluol abdestilliert und
das Endprodukt, aus Toluol umkristallisiert.. Auch Essigester ist zur Umkristallisation geeignet» Ausbeute über-■
9o 4, Fp, 94 - 96° C,
' v gef. Th,
Sii ' 2,8 io ' ■'. 2,9
Beispiel 3: -
In einem Dreilialskolbens mit-Ktililer, Rührer und Einleitungsrohr
für K"2, wurden-53,3 g Pentachlorpiienol in 25ο 'ml Toluol
bei."1:1 ο ' O gelöst.. Danach wurden 25»3 g Oiphenyldiehlorsilan
■z · '' . - ■ .■--.-■■
und o,6 cm N.,F-Dimethylanilin zugegeben« Sofort setzte
starke HCl-Entwicklung ein« Das entstehende Höl-Gas wurde mit
ITp aus dem Reaktionsgei'iisch herausgespülto Die Reaktion .war ":.-■
nach ca» 12 Stunden beendet. Eb wurde aus Toluol uralcristallisiert«.
Ausbeute über 9o ^5, ϊρ- 2ο·2- - 2ο5°· C, . ·"■"'■" -.
"'■ " V Gef». ' " Th* ■■■■.". ■ ' /
Oi 4o,.21 io 4.0,4 $
aii. . 49-if.8. ψ .. 49,8 Y
Sii 4,2>
3,.93?6-
' :'■■■.'■' BAD ORIGINAL ~ 12 ""
Beispiel -6:;
Dimeth^rl— dl-!"Een^aphlor^lienoX^i-silan!
In einem Dreih'-lskolben, mit Kahler, Rührer und Einleitun^srohr
i'är U0, wurden 53,3 g Pentachlorphenol in 25o ml Toluol
hoi 11o° O sei*int und danach 12,9 g <o,1 Mol) Dirnethyldichlorsilan
und o,6 cm ]1,N—Diijothylanilin aive;-el)eue Sofort
setzte starke IiCl-Ent\vie-klung ein. Dps ent.ste!u:-n<:u· HCl-Ga.?
wurde rait lip "1I-" den Rea].:tlonr:;;&mir;ch hcraiia^espi'lto Die
Reaktion war r<r,ch ca» 12 Stunden "beendet. Anschuß and vurde
das Toluol abdeijtilliert und das Endprodukt aus Toluol umkri
s tall IRi er to Jt üb beute über 9 ο °/o.f Fp» I5o - 153 C«.
Analyse i_
O: | 28,31 |
Hi | 1,o1 |
Cl: | 58,2 |
Si: | 5,1 |
Beispiel 7 J |
28,5
58,6
4,76
4,76
In einem Dreihai skolben, mit Kühler, Rührer und Einl vl tun; ■;;..;-rohr
für Ef2* wurden 18,4 g Pentaflxiorphenol in 8o ml Bensol
gelöst.» Danach v/t-i:rden 6,45 g Dimethyldichlornilan und o,4 cm''
¥,M-Dimethylanilin auge3eben« Sofort setKte starke HCl-Entwicklung
ein. Das entstehende HOl-Gas wurde mit En aaic dem
Reaktionsmedium lierauö^espült» Die Reaktion war nncii cn- 4 St
®ÜB82U 1,321 , _ -ν: -
- -■■-. " v;:; ■ .- 13 _
BAD ORIGINAL
"beendet,, Anschließend wurde das Benzol abgezogen«
Das Sndi-rodukt destilliert als farblose Flüssigkeit bei
1o9 - 11o° O über (o,6 mm Hg^iAo i 1,4366,
9 0Θ82Λ/1322
BAD ORIGINAL
Claims (1)
- Patentansprüche:Verfahren zur Herstellung von halogenierten Phenoxysilanen der allgemeinen Formel ■{R2)m - Si ( - 0 -in der R- ein Alkenyl-, Alkyl-, Cycloalkyl- oder Aryirest, Ro sin Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl-, Alkoxy- oder Aryl o>:yr ent, X = Fluor, Chlor oder Brom, η eine ganze Zahl von 1-5 und m 0 oder 1 sein kann, dadurch gekennzeichnet, clai.i man halogenierte Phenole der allgemeinen FormelHO -mit -Halogen -' ailanen der allgemeinen Formel_ min denen R/? R2» X» m unt3· n die obige Bedeutung besitzen in Gegenwart von tertiären Aminen bzw» von Hydrochloriden der vorgenannten, deren Dihydrochloride eine HOl-Tension bei der90982 4/1322 BADORIGiNAL1515733besitzen, · äie "kleiner ist als derIteaktionsäaick, hei einer Temperatur von 4o - 15o° Of vorzugsweise 55 — 1oo° G, gegebenenfalls unter Yer— Wendung von lösungsmitteln, kondensiert·2* ferfahrer nacn Ansprußli 1, dadurch !gekennzeichnet, daß man tie Katalysatoren in Mengen γόη o,1 - 2o Mol$3 -yorzmgsweise o,1— 2 MpI^f bezogen auf das H'X'-ö :cjj-,aULan» "Verwendet.5« Tierfahren nach Ansprucn 1 - 5» dadurch gekennzeichnet, daß man ale tertiäre Amine aliphatinch—aromatieehe Amine verwendet.4· Υerfahren nach Anspruch 3# dadurch gekennzeichnet, daß man als tertiäres aliphatisch-aromatisches Amin p-Bromphenyldimethylamin verwendet*5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,, daß man als tertiäres aliphatisch-aromatisches Amin JT,2i-J)imethylanilin verwendet·BAD ORIGINAL
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED0048847 | 1965-12-07 | ||
DED0048848 | 1965-12-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1518733A1 true DE1518733A1 (de) | 1969-06-12 |
Family
ID=25972279
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19651493612 Pending DE1493612A1 (de) | 1965-12-07 | 1965-12-07 | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Tetraphenoxysilanen |
DE19651518733 Pending DE1518733A1 (de) | 1965-12-07 | 1965-12-07 | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Phenoxysilanen |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19651493612 Pending DE1493612A1 (de) | 1965-12-07 | 1965-12-07 | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Tetraphenoxysilanen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3492328A (de) |
BE (1) | BE690819A (de) |
DE (2) | DE1493612A1 (de) |
FR (1) | FR1503372A (de) |
GB (1) | GB1170930A (de) |
NL (1) | NL6617134A (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2190364B1 (de) * | 1972-07-04 | 1975-06-13 | Patru Marcel | |
US4476267A (en) * | 1983-11-02 | 1984-10-09 | Ethyl Corporation | High impact polystyrene containing halophenoxyalkylsilane flame retardant |
US4476268A (en) * | 1983-11-02 | 1984-10-09 | Ethyl Corporation | Acrylonitrile-butadiene-styrene composition containing halophenoxyalkylsilane flame retardant |
US4855473A (en) * | 1986-05-27 | 1989-08-08 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the preparation of organooxychlorosilanes |
DE69631470T2 (de) | 1995-02-20 | 2004-12-23 | Daikin Industries, Ltd. | Verwendung eines fluorsilicats als schmutzabweisendes mittel |
US5885924A (en) * | 1995-06-07 | 1999-03-23 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Halogenated supports and supported activators |
CN103333196B (zh) * | 2013-07-16 | 2015-10-21 | 苏州科技学院 | 一种阻燃剂三溴苯氧基三卤丙氧基硅烷化合物及其制备方法 |
CN103342713B (zh) * | 2013-07-16 | 2015-09-02 | 苏州科技学院 | 一种阻燃剂硅酸三(二溴丙基)三溴苯酯化合物及其制备方法 |
CN103333191B (zh) * | 2013-07-16 | 2015-12-23 | 苏州科技学院 | 一种阻燃剂三(三溴苯氧基)二氯丙氧基硅烷化合物及其制备方法 |
CN103342714B (zh) * | 2013-07-16 | 2015-09-16 | 苏州科技学院 | 一种阻燃剂硅酸四(三溴苯)酯化合物及其制备方法 |
CN103319516B (zh) * | 2013-07-16 | 2015-09-16 | 苏州科技学院 | 一种阻燃剂三溴苯氧基三(二氯丙氧基)硅烷化合物及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2182208A (en) * | 1937-06-09 | 1939-12-05 | Anderson Stolz Corp | Silicon modified phenolic resins and process for producing same |
US2335012A (en) * | 1941-04-12 | 1943-11-23 | Little Inc A | High boiling compounds and method of preparing them |
-
1965
- 1965-12-07 DE DE19651493612 patent/DE1493612A1/de active Pending
- 1965-12-07 DE DE19651518733 patent/DE1518733A1/de active Pending
-
1966
- 1966-12-06 NL NL6617134A patent/NL6617134A/xx unknown
- 1966-12-07 US US601290A patent/US3492328A/en not_active Expired - Lifetime
- 1966-12-07 GB GB54880/66A patent/GB1170930A/en not_active Expired
- 1966-12-07 FR FR86468A patent/FR1503372A/fr not_active Expired
- 1966-12-07 BE BE690819D patent/BE690819A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3492328A (en) | 1970-01-27 |
GB1170930A (en) | 1969-11-19 |
FR1503372A (fr) | 1967-11-24 |
BE690819A (de) | 1967-05-16 |
NL6617134A (de) | 1967-06-08 |
DE1493612A1 (de) | 1969-01-16 |
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