JP2560172B2 - アルケニルアルキルシラン - Google Patents
アルケニルアルキルシランInfo
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- JP2560172B2 JP2560172B2 JP4105457A JP10545792A JP2560172B2 JP 2560172 B2 JP2560172 B2 JP 2560172B2 JP 4105457 A JP4105457 A JP 4105457A JP 10545792 A JP10545792 A JP 10545792A JP 2560172 B2 JP2560172 B2 JP 2560172B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は有機珪素化合物に関し、
特に新規なアルケニルアルキルシランに関する。
特に新規なアルケニルアルキルシランに関する。
【０００２】
【従来技術】ヒドロゲノシリル基（ＨＳｉ基）を有する
アルケニルシランは、該ヒドロゲノシリル基が反応性に
富むために、例えば白金系触媒下で不飽和結合に付加し
てＳｉＣＨ2 ＣＨ2 結合を形成したり、アルコール等の
活性水素を有する化合物と脱水素反応をしてＳｉＯＣ結
合を形成したりする等の性質を有するので、この性質を
利用したシランカップリング剤、シリル化剤又はシリコ
ーン撥水剤として、或いは分子内に二重結合を有してい
るために、シリル基を有するポリマー用の重合性モノマ
ーとして極めて有用である。このようなアルケニルシラ
ンとして、従来から、ＳｉＨ3 のような３個の水素を有
するアルケニルシランは知られていた（例えば、特開平
１−２２１３８３号公報）。
アルケニルシランは、該ヒドロゲノシリル基が反応性に
富むために、例えば白金系触媒下で不飽和結合に付加し
てＳｉＣＨ2 ＣＨ2 結合を形成したり、アルコール等の
活性水素を有する化合物と脱水素反応をしてＳｉＯＣ結
合を形成したりする等の性質を有するので、この性質を
利用したシランカップリング剤、シリル化剤又はシリコ
ーン撥水剤として、或いは分子内に二重結合を有してい
るために、シリル基を有するポリマー用の重合性モノマ
ーとして極めて有用である。このようなアルケニルシラ
ンとして、従来から、ＳｉＨ3 のような３個の水素を有
するアルケニルシランは知られていた（例えば、特開平
１−２２１３８３号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
アルケニルシランは、自然発火性や爆発性等があって取
扱が困難であるガス状のモノシラン（ＳｉＨ4 ）を原料
とするので、製造上の安全性に欠けるという欠点があっ
た。また、モノアルケニルシランを製造する場合には、
モノシランを１回のハイドロサイレーションによって効
率良く合成することができるものの、アルケニルアルキ
ルシランを合成する場合には更にアルキル基を導入する
必要がある上、１個のアルキル基のみを導入することは
困難であるので、純粋なアルケニルアルキルシランを製
造することは困難であるという欠点があった。
アルケニルシランは、自然発火性や爆発性等があって取
扱が困難であるガス状のモノシラン（ＳｉＨ4 ）を原料
とするので、製造上の安全性に欠けるという欠点があっ
た。また、モノアルケニルシランを製造する場合には、
モノシランを１回のハイドロサイレーションによって効
率良く合成することができるものの、アルケニルアルキ
ルシランを合成する場合には更にアルキル基を導入する
必要がある上、１個のアルキル基のみを導入することは
困難であるので、純粋なアルケニルアルキルシランを製
造することは困難であるという欠点があった。
【０００４】そこで、本発明者等は上記の欠点を解決す
べく鋭意研究した結果、特定のクロロシランを原料とし
た場合には、純粋で且つ新規なアルケニルメチルシラン
を合成することができることを見出し、本発明に到達し
た。従って、本発明の第１の目的は、新規なアルケニル
メチルシランを提供することにある。本発明の第２の目
的は、純粋なアルケニルメチルシランを提供することに
ある。
べく鋭意研究した結果、特定のクロロシランを原料とし
た場合には、純粋で且つ新規なアルケニルメチルシラン
を合成することができることを見出し、本発明に到達し
た。従って、本発明の第１の目的は、新規なアルケニル
メチルシランを提供することにある。本発明の第２の目
的は、純粋なアルケニルメチルシランを提供することに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
一般式ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ ３ ）Ｈ
２で表されるアルケニルメチルシランによって達成され
た。上式中、ｎは４〜８の整数である。
一般式ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ ３ ）Ｈ
２で表されるアルケニルメチルシランによって達成され
た。上式中、ｎは４〜８の整数である。
【０００６】上記のアルケニルメチルシランは、一般式
ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ ３ ）Ｃｌ２で
表されるジクロロシラン（単にジクロロシランという）
を、還元することによって容易に製造することができ
る。本発明のアルケニルメチルシランを製造するに際し
ては、還元剤を添加して縣濁させた溶媒中に、ジクロロ
シランを溶媒で希釈或いは希釈せずにそのまま滴下し、
還元反応させることが好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ ３ ）Ｃｌ２で
表されるジクロロシラン（単にジクロロシランという）
を、還元することによって容易に製造することができ
る。本発明のアルケニルメチルシランを製造するに際し
ては、還元剤を添加して縣濁させた溶媒中に、ジクロロ
シランを溶媒で希釈或いは希釈せずにそのまま滴下し、
還元反応させることが好ましい。
【０００７】用いることのできる溶媒としては、脂肪族
系炭化水素及び芳香族系炭化水素溶媒が挙げられるが、
エチルエーテル、ブチルエーテル及びテトラヒドロフラ
ン等のエーテル系溶媒を使用することが好ましい。還元
剤は特に限定されるものではなく、通常市販されている
各種の還元剤を用いることができるが、特に、水素化ア
ルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム及び水素
化ホウ素カリウム等の金属水素錯化合物を用いることが
好ましい。
系炭化水素及び芳香族系炭化水素溶媒が挙げられるが、
エチルエーテル、ブチルエーテル及びテトラヒドロフラ
ン等のエーテル系溶媒を使用することが好ましい。還元
剤は特に限定されるものではなく、通常市販されている
各種の還元剤を用いることができるが、特に、水素化ア
ルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム及び水素
化ホウ素カリウム等の金属水素錯化合物を用いることが
好ましい。
【０００８】用いる還元剤の量は、用いるジクロロシラ
ンの量１モルに対して１．０〜２．０モルの範囲が好ま
しく、特に１．１〜１．３モルの範囲が好ましい。還元
反応は、−６０℃〜＋６０℃の温度範囲で行わせること
が好ましく、特に−２０℃〜＋２０℃の範囲で行わせる
ことが好ましい。生成物であるアルケニルメチルシラン
は、反応溶液を、反応終了後酢酸エチル或いは希塩酸等
で過剰の還元剤を処理した後蒸留すること等によって容
易に単離することができる。
ンの量１モルに対して１．０〜２．０モルの範囲が好ま
しく、特に１．１〜１．３モルの範囲が好ましい。還元
反応は、−６０℃〜＋６０℃の温度範囲で行わせること
が好ましく、特に−２０℃〜＋２０℃の範囲で行わせる
ことが好ましい。生成物であるアルケニルメチルシラン
は、反応溶液を、反応終了後酢酸エチル或いは希塩酸等
で過剰の還元剤を処理した後蒸留すること等によって容
易に単離することができる。
【０００９】
【発明の効果】本発明のアルケニルメチルシランは、液
体状のジクロロシランを原料として製造されるので、製
造に際する安全性に優れる上、純度の高いアルケニルメ
チルシランである。また、本発明のアルケニルメチルシ
ランは、二重結合及び反応性に富むＳｉＨ基を有してい
るので、エチレン、プロピレン等のオレフィン類と共重
合させることができる上、ＳｉＨ基に基ずく架橋性によ
って種々の機能を共重合ポリマーに付与することができ
る他、シリル化剤やシランカップリング剤としても有用
である。
体状のジクロロシランを原料として製造されるので、製
造に際する安全性に優れる上、純度の高いアルケニルメ
チルシランである。また、本発明のアルケニルメチルシ
ランは、二重結合及び反応性に富むＳｉＨ基を有してい
るので、エチレン、プロピレン等のオレフィン類と共重
合させることができる上、ＳｉＨ基に基ずく架橋性によ
って種々の機能を共重合ポリマーに付与することができ
る他、シリル化剤やシランカップリング剤としても有用
である。
【００１０】
【実施例】以下本発明を実施例に従って更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００１１】実施例１．攪拌機、還流器、滴下ロート及
び温度計を備えた５００ｍｌのフラスコに、ＬｉＡｌＨ
4 ８．８ｇ及び乾燥させたテトラヒドロフラン１００ｍ
ｌを仕込み、−２０℃〜−３０℃に冷却した後、乾燥さ
せたテトラヒドロフラン５０ｍｌに５─ヘキセニルメチ
ルジクロロシランを溶解させた溶液を２〜３時間かけて
滴下した。
び温度計を備えた５００ｍｌのフラスコに、ＬｉＡｌＨ
4 ８．８ｇ及び乾燥させたテトラヒドロフラン１００ｍ
ｌを仕込み、−２０℃〜−３０℃に冷却した後、乾燥さ
せたテトラヒドロフラン５０ｍｌに５─ヘキセニルメチ
ルジクロロシランを溶解させた溶液を２〜３時間かけて
滴下した。
【００１２】滴下終了後、２０〜２５℃で２〜３時間か
けて還元反応を行い、生成物を含む混合溶液を得た。次
いで、得られた溶液にＨＣl の１０重量％水溶液１００
ｍｌを１時間かけて滴下し、過剰のＬｉＡｌＨ4 を処理
した後数回水洗を行い、反応溶液中のテトラヒドロフラ
ンを水層に移行させて有機相を分取した。得られた有機
相を６３ｍｍＨｇの圧力下で蒸留し、沸点が６１℃で無
色透明な液体３３．１ｇを得た。得られた液体の屈折率
は１．４２７５（２５℃）、比重は０．７４６（２５
℃）であった。
けて還元反応を行い、生成物を含む混合溶液を得た。次
いで、得られた溶液にＨＣl の１０重量％水溶液１００
ｍｌを１時間かけて滴下し、過剰のＬｉＡｌＨ4 を処理
した後数回水洗を行い、反応溶液中のテトラヒドロフラ
ンを水層に移行させて有機相を分取した。得られた有機
相を６３ｍｍＨｇの圧力下で蒸留し、沸点が６１℃で無
色透明な液体３３．１ｇを得た。得られた液体の屈折率
は１．４２７５（２５℃）、比重は０．７４６（２５
℃）であった。
【００１３】得られた液体は、ガスクロマトグラフィー
分析から、単一成分であることが確認された。ガスクロ
マトグラフィー質量分析、1 Ｈ−ＮＭＲ及び、赤外線吸
収スペクトルを用いて分析した結果は、表１及び図１に
示した通りである。これらの分析結果から、得られた化
合物がＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2 ）4 −Ｓｉ（ＣＨ3 ）Ｈ2
で表される５─ヘキセニルメチルシランであることが確
認された。尚、単離収率は６１％であった。
分析から、単一成分であることが確認された。ガスクロ
マトグラフィー質量分析、1 Ｈ−ＮＭＲ及び、赤外線吸
収スペクトルを用いて分析した結果は、表１及び図１に
示した通りである。これらの分析結果から、得られた化
合物がＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2 ）4 −Ｓｉ（ＣＨ3 ）Ｈ2
で表される５─ヘキセニルメチルシランであることが確
認された。尚、単離収率は６１％であった。
【００１４】
【表１】
【００１５】実施例２．５─ヘキセニルメチルジクロロ
シランに代えて、７─オクテニルメチルジクロロシラン
を使用した他は、実施例１と全く同様にして合成を行っ
たところ、４ｍｍＨｇの圧力下での沸点が４５℃で無色
透明な液体３９ｇを得た。得られた液体の屈折率は１．
４３４２（２５℃）、比重は０．７６２（２５℃）であ
った。
シランに代えて、７─オクテニルメチルジクロロシラン
を使用した他は、実施例１と全く同様にして合成を行っ
たところ、４ｍｍＨｇの圧力下での沸点が４５℃で無色
透明な液体３９ｇを得た。得られた液体の屈折率は１．
４３４２（２５℃）、比重は０．７６２（２５℃）であ
った。
【００１６】得られた液体を、実施例１と全く同様にし
て分析した結果は表２及び図２に示した通りである。こ
れらの結果から、得られた化合物がＣＨ2 ＝ＣＨ─（Ｃ
Ｈ2 ）6 ─Ｓｉ（ＣＨ3 ）Ｈ2 で表される７─オクテニ
ルメチルシランであることが確認された。尚、単離収率
は９０％であった。
て分析した結果は表２及び図２に示した通りである。こ
れらの結果から、得られた化合物がＣＨ2 ＝ＣＨ─（Ｃ
Ｈ2 ）6 ─Ｓｉ（ＣＨ3 ）Ｈ2 で表される７─オクテニ
ルメチルシランであることが確認された。尚、単離収率
は９０％であった。
【００１７】
【表２】
【００１８】実施例３．５─ヘキセニルメチルジクロロ
シランに代えて、９─デセニルメチルジクロロシランを
使用した他は、実施例１と全く同様にして合成を行った
ところ、４ｍｍＨｇの圧力下での沸点が４５℃で無色透
明な液体５９ｇを得た。得られた液体の屈折率は１．４
４０３（２５℃）、比重は０．７７５（２５℃）であっ
た。
シランに代えて、９─デセニルメチルジクロロシランを
使用した他は、実施例１と全く同様にして合成を行った
ところ、４ｍｍＨｇの圧力下での沸点が４５℃で無色透
明な液体５９ｇを得た。得られた液体の屈折率は１．４
４０３（２５℃）、比重は０．７７５（２５℃）であっ
た。
【００１９】得られた液体を、実施例１と全く同様にし
て分折した結果は表３及び図３に示した通りである。こ
れらの結果から、得られた化合物がＣＨ２＝ＣＨ−（Ｃ
Ｈ２）８−Ｓｉ（ＣＨ３）Ｈ２で表される９−デセニル
メチルシランであることが確認された。尚、単離収率は
８１％であった。
て分折した結果は表３及び図３に示した通りである。こ
れらの結果から、得られた化合物がＣＨ２＝ＣＨ−（Ｃ
Ｈ２）８−Ｓｉ（ＣＨ３）Ｈ２で表される９−デセニル
メチルシランであることが確認された。尚、単離収率は
８１％であった。
【００２０】
【表３】
【図１】実施例１で合成した、５−ヘキセニルメチルシ
ランの赤外線吸収スペクトルである。
ランの赤外線吸収スペクトルである。
【図２】実施例２で合成した、７−オクテニルメチルシ
ランの赤外線吸収スペクトルである。
ランの赤外線吸収スペクトルである。
【図３】実施例３で合成した、９−デセニルメチルシラ
ンの赤外線吸収スペクトルである。
ンの赤外線吸収スペクトルである。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−Ｓ
ｉ（ＣＨ ３ ）Ｈ２で表されるアルケニルメチルシラン；
式中、ｎは４〜８の整数である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4105457A JP2560172B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | アルケニルアルキルシラン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4105457A JP2560172B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | アルケニルアルキルシラン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05271242A JPH05271242A (ja) | 1993-10-19 |
| JP2560172B2 true JP2560172B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=14408120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4105457A Expired - Fee Related JP2560172B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | アルケニルアルキルシラン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2560172B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5015624A (en) | 1990-04-30 | 1991-05-14 | Dow Corning Corporation | Process for reduction of organohalosilanes |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02160793A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
-
1992
- 1992-03-30 JP JP4105457A patent/JP2560172B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5015624A (en) | 1990-04-30 | 1991-05-14 | Dow Corning Corporation | Process for reduction of organohalosilanes |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05271242A (ja) | 1993-10-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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