JPH01221383A - 有機ケイ素化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 （ＣＨｌ）−５ｉｎＨｔ、１４＋ （ただし、ｍは５乃至２０の正の整数、ｎは１．２もし
くは３）で表される有機ケイ素化合物およびその製造方
法に関する。

従来の技術 有機ケイ素化合物とは、一般に５ｉ−Ｃ結合を有する化
合物の総称であり、現在シリコーン（ポリオルガノシロ
キサン）に代表されるように、有機ケイ素化学工業の発
展はすさまじい、有機ケイ素化合物の製造法はいくつか
知られ、代表的なもの七して以下の方法があげられる。

（１）　Ｓｉ＋ＲＣ１−＊　Ｒｘ５ｉＣ１ｔ、Ｒａ５ｉ
ＣＩ、　Ｒ５１Ｃ１ｓ、Ｒ５１Ｃ１ｓ （２）　ｎＲＭｇＸ　＋５ｉＣ１４−＋　Ｒｎ５ｉＣ１
ａ−、＋ｎＭｇＸＣ１（３）　Ｎａ＋ＲＣ１＋ミ５ｉ−
ＣＩ　　４５ｔ−Ｒ＋ＮａＣ１（４）　Ｃ）ＩｘＳｔ）
ＩＣ１ｔ　＋ＲＣＨ−ＣＨｔ−４Ｒ−Ｃ８意ＣＨ＊Ｓｉ
（ＣＨｓ）Ｃ１ｉ（１）は、Ｒｏｃｈｏ−の直接法で、
金属ケイ素とハロゲン化炭化水素とから直接有機ケイ素
化合物を製造するもので、現在の有機ケイ素工業におい
て最も重要な基幹原料であるアルキルクロロシランを製
造する方法である。ハロゲン化炭化水素ＲＣＩ　として
は、メチルクロライドやクロルベンゼンが工業化されて
いて、これ以外のハロゲン化炭化水素は収率も低く工業
的ではない。

一方、（２）はグリニヤール法、（３）は金属ナトリウ
ムによる脱塩素反応であり、任意のアルキル基を導入で
きるが、グリニヤール試薬、金属ナトリウムが高価で経
済的でない。

しかして、（４）は本発明に類似する方法であるが、原
料はＨ３ｉＣ１ｓや直接法で副生するＣＨｓＳｉＨＣＩ
□などに限定されるという大きな問題点がある。

その他、（５）、（６）はいずれも高温反応で、原料も
やＣＨｚＳｉＨＣＩｚ等のごく限られたものに限定され
る。

以上述べたように現在の有機ケイ素工業の基礎原料はメ
チルもしくはフェニルクロロシラン類が大部分であり、
これらのケイ素化合物を出発原料に用いて、種々のシリ
コーン、シランカップリング剤、シリル化剤などの機能
性物質が開発されてきた。

しかしながら、クロロシラン類を基礎原料とする従来の
有機ケイ素工業プロセスの問題点は、概して■塩化水素
の発生を伴うなどクロル系であるためプロセス腐食が大
きいこと、■反応工程が多く複雑であること、■原料的
制約からメチル系が中心で、アルキル基の少なくとも一
個はメチル基を含むものであること、等である。

一方、シリル基類（−ＳｔｎＨｚ＊＋＋）を含有する化
合物は、従来トリクロロシリル基を有する化合物を還元
することで合成は可能であったが、還元剤が高価なこと
もあり、その利用が考えられることは殆どなかった。　
ＳｉＨ，とアルケンまたはアルキンとのヒドロシリル化
反応（付加反応）により、アルキルシランやアルケニル
シランを合成することは可能であるが、従来ＳｉＨ４の
入手が困難で高価であったことからその研究も少なかっ
た。わずかにツァイトシュリフト　フェア　ナチュール
フォルシュンク（Ｚ、　　Ｎａｔｕｒｆｏｒｓｃｈ、）
、ｎ、　　４４４（１９５０）　；同、７６、　２０７
（１９５２）　；ツァイトシュリフト　フェア　アノル
ガニッシエ　ラント　アルゲマイネヘミ−（Ｚ、Ａｎｏ
ｒｇ、Ａｌｌｇｅｍ、Ｃｈｅｍ、）２７３　、２７５（
１９５３）　　；ジャーナル　オブ　アメリカン　ケミ
カル　ソサイアテＩ　（Ｊ、ｌｌｓ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ
、）　ｌｆｉ、　３８９７（１９５４）　ｉＵ、Ｓ、Ｐ
ａｔ、２７８６８６２（１９５７）等に報告例が散見さ
れるに過ぎない、これらの報告によれば、この反応は反
応温度が４００乃至５００℃と高く、無触媒、熱分解反
応であり、かつ収率も低く、生成するシラン化合物の選
択性のコントロールも不十分であった。

ＳＩＪ＆、ＳｉＪ＠に関しては報告例はない。

発明が解決しようとする課題 本発明の目的は、かかる問題点のない、機能性にすぐれ
た新しい有機ケイ素化合物およびその製造法を提供する
ものである。

課題を解決するための手段および作用 本発明者らは、有機ケイ素工業用原料としてのＳｉｇｎ
に着目、ＳｉＨ４から有機ケイ素化合物を合成する工業
的ルートの開発に鋭意努力し、特定の原料を使用するこ
とによって本発明の目的が達成されることを見出し、本
発明を完成させるに至った。

すなわち本発明は、 一最大〇〇、−Ｃ１（ 暑 （ＣＨｔ）、　５ｉｎＨｔ−、＋ （ただし、ｍは５乃至２０の正の整数、ｎは１．２もし
くは３）で表される有機ケイ素化合物であり、更に、 一般式　ＣＨ＝ＣＨｚ−’（ＣＨｌ）ａ−ｚ−ＣＨ＝Ｃ
Ｈｔ　（ただし、ｍは５乃至２０の正の整数）で表され
る不飽和炭化水素を、−最大５ｔＪｔｓ＊ｚ　　（ただ
し、ｎは１．２もしくは３）で表される水素化ケイ素化
合物でヒドロシリル化することを特徴とする一般式％式
％） （ただし、ｍは５乃至２０の正の整数、ｎは１．２もし
くは３）で表される有機ケイ素化合物の製造方法である
。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明は、一般弐ＣＨｘ＝ＣＨ（ＣＨｚ）　ｍ　Ｓｉｎ
Ｈｇｎ＊＋で示される新規な有機ケイ素化合物を提供す
るものである。具体的には、 ＣＨｚ＝ＣＨ−（ＣＨｚ）　５ｓｉＨｚ、ＣＨｚ＝ＣＩ
（−（ＣＨｚ）　ｈｓｉＨｚ、ＣＨｚ＝ＣＩ−（ＣＨｚ
）　ｔｓｉＨｚ、ＣＨ２＝ＣＨ−（Ｃｔｌｉ）　ａｓｉ
Ｈｓ、ＣＨｚ＝ＣＨ−（Ｃ１ｂ）　ＩｏｓｉＨｚ、ｃｏ
、＝ｃｎ−（ＣＨｚ）　＋　ｚｓｉＨ３、ＣＬ・ＣＩ（
−（ＣＬ）　ｒ　４ｓｉＨｓ、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＬ）
　＋　ｓｓｉ！ｂ、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨｚ）　５Ｓｉ
Ｊｓ、ＣＨｚ＝ＣＨ−（ＣＬ）　１ｓｉｚＨｓ、ＣＨ２
＝ＣＨ−（ＣＨｚ）　５Ｓｉ２Ｈｓ、ＣＨ２＝ＣＨ−（
ＣＨｉ）　ｘｓｉＪｔ、ＣＨｚ＝（Ｈ−（（：ｔｈ）ｓ
ｓｉＪｔなどである。

類似の化合物としては、古い過去にアリルシラン（ＣＨ
ｚ＝ＣＨ−ＣＨｚ−３ｔ）Ｉｓ）のチーグラー型触媒の
重合例が見られるに過ぎない（ジャーナル　オブボリマ
ー　サイエンス（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅ
ｒＳｃｉｅｎｃｅ）、　Ｖｏｌ　３１．　　ｋ１２２．
１８１（１９５Ｂ）、イタリア特許６０６０１８）。

これらの化合物に含まれるシリル基類は反応性に冨み、
ｃ＝ｃ　、ｃ＝ｃ　、ｃ＝ｏ、Ｃ＝Ｎ、Ｎ＝Ｃ＝Ｏ１Ｃ
ミＮ、Ｃ＝ＣＩ。

ハ Ｃ−Ｃ，Ｏ−Ｈなどの種々の結合と反応し得る。これら
の化合物はこの反応性を利用してシランカップリング剤
、シリル化剤、擾水剤等に用いられ、また分子内の二重
結合の重合性を利用してシリ、ル基頚を有するポリマー
の重合用七ツマ−として用いられる。シリル基類を含有
するポリマーは更にコーティング剤、架橋剤、ハードコ
ート剤、ＴＰＮなど種々の機能性材料として利用できる
。更に本発明にかかわる化合物は非クロル系であり、腐
食等のプロセス上の問題は全くない。

次に本発明にかかわる化合物の製造方法について述べる
。製造方法はいくつかあり、例えば下式（Ｈに示すよう
に還元剤ＬｉＡ［４を用いてクロコシラン化合物を還元
する方法がある。

ＣＨｚ・ＣＨ−（ＣＨｚ）−５ｉｎＣ１ｚ、ｌ−＋　＋
　（（２ｎ＋１）／４）ＬｉＡＩＨｎ→ＣＨｚ−ＣＩ−
（ＣＨｇ）−５ｉｎＨｚ−、＋＋（（２ｎ＋１）／４）
　　ＬｉＣｌ　　＋（（２ｎ＋１）／４）ＡＩＣＬｓ　
　（ｒ）しかしこの方法は、還元剤が高価であること、
原料とするクロロシランが得がたいことから望ましい方
法とは言えない。

経済的な方法は下式（ＩＩ）に示すように、ＳｉＨ４，
５ｉＪｉ　、５ｉＪａによるジエンのヒドロシリル化で
ある。

ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）−ｚ−ＣＨ＝ＣＬ　＋　５１
）１４→ＣＨｚ＝ＣＨ−（ＣＨｚ）ａ−＊−ＣＨｚ−Ｃ
Ｈｚ−３ｉｎｓ　（Ｉ［）ＳｉＪ＊　、５ｉＪｓの場合
も同様である。

原料として用いられるＳｉｇｎ、５ｉｚＨｉ　、５ｉｓ
Ｈａは、近年の半導体産業の著しい発展に伴い、半導体
用ガスとして大量生産され、最近、工業的に安価に人手
できるようになったものである。　５ＨＩａの製造方法
としては、例えば、ケイ素のマグネシウム合金（Ｍｇｔ
ｓｔ等）をハロゲン化水素酸の水溶液と反応させる方法
、四塩化ケイ素を水素化リチウム等の還元剤で還元する
方法、トリクロロシランの不均化反応による方法等が公
知であるが、例えば、本発明においては、この何れの方
法で生産されたものも好適に使用することが可能である
。一方のα、ω−ジエン頻も近年、種々不飽和化合物の
二重結合の異性化、もしくは不均化反応の開発により様
々のものが工業的に製造されるようになってきている。

ヒドロシリル化反応は前述のように熱、光などの方法に
よっても行い得るが、好ましく本発明者らが別に提案し
ているように（特願昭６２−８８８７１、同６２−８９
８８８、同６２−３０７４９２　）触媒を用いる方法が
好ましい、触媒としては、周期律表（新実験化学講座、
丸善株式会社発行（１９７７）　）における第■族、第
ＶＩＡ族、第■Ａ族、第ＶＡ族、第１ＶＡ族、第■Ａ族
の金属からなる触媒またはこれらの金属の化合物を触媒
構成成分に含む触媒である０例えば、Ｆｅ、　Ｃｏ、　
Ｎｉ、　Ｒｕ、　Ｒｈ、　Ｐｄ、　Ｏｓ、　Ｉｒ、　Ｐ
ｔ、　Ｃｒ、　Ｍｏ、Ｗ　、Ｍｎ、　Ｔｃ５Ｒｅ、　Ｓ
ｃ、　Ｔｉ５Ｖ　、　Ｙ　、　Ｚｒ、　Ｎｂ、　Ｈｆも
しくはＴａまたはＬａやＣｅなどのランタン系列の金属
、ＡｃやＴｈなどのアクチニウム系列の金属などの金属
； Ｆｅ（Ｃｏ）ｓ　、Ｃ０ｚ（Ｃｏ）ｓ、ＬｚＮｉ（オレ
フィン）、ＬＪｉＣｌｚ　、ＲｕＣ１５、ＬＪｈＣｌ、
　Ｌ４Ｐｄ、　ＬｘＰｄＣｌｚ、夏ｒｃ１ｚ　、ＬａＰ
ｔ、　　（（オレフィン）　ＰｔＣ１ｚ　）　意、Ｈｚ
ＰｔＣｌｉ　　・　６ＨｚＯ１Ｒｕ（Ｃｏ）ｚ　　、　
ＲｕＣｌ＊（Ｐφ　コ）コ　　、Ｃｒ（Ｃｏ）ｉ　、Ｍ
ｎ１（Ｃｏ）＋ｏ　　（ただしφはフェニル、ＬはＰＲ
ｈ３もしくはＰＲ，）、 （ＣｓＨｓ）　ｘＴｉｃｌｇ、（ＣｓＨｓ）　ｚＴｉ　
（ＣＨ３）　ｚ、（ＣｓＨｓ）ｚＴｉ（ＣＨｚＣＪｓ）
ｉ　、　ＴｉＣ１ｎ　、Ｔｉ（ＯＣＪｓ）４、ＴｉＴｏ
、Ｔｉ（ＯＣＪｗ）ｉ（ＣＨｚＣＯＣＨＣＯＣＨｓ）ｉ
　、ＴｉＣ１ｓ、Ｔｉ０（ＣＨｓＣＯＣＨＣＯＣｔｈ）
　ｔ、Ｔ　ｉ　（ＯＣＲ（Ｃｌ　ｘ）　ｔ）　４、（Ｃ
ｓＨｓ）ｚＺｒＣｈ、（ＣｓＨｓ）ｘＺｒ（ＣＩ（ｚ）
ｚ　、ＺｒＨａ、ＺｒＣ１ａ、Ｚｒ（ＯＣＪｓ）４、Ｚ
ｒ（ＣＨｚＣＯＣＨＣＯＣＩ（ｓ）ａ　、（ＣｓＨｓ）
ｔＺｒＨｚ、（ＣｓＨｓ）ｘＺｒＨｃｌ、　（Ｃｓｌ（
ｓ）２ｖＣ１ｚ　、（ＣｓＨｓ）ｚＶ（ＣＨｓ）ｉ−Ｖ
　（ＣＨｓＣＯＣｌ（ＣＯＣＨｚ）　ｓ、（Ｃ，Ｈｓ）
Ｖ（Ｃｏ）４、Ｖ（Ｃｏ）ｉ、ＶＣｔ、、ＶＯ（ＣＨｓ
ＣＯＣＨＣＯＣＨｓ）ｘ　、Ｎａ（ＣＪ＋ａＯｓ）ｔＶ
（Ｃｏ）＆、ＶＯＣｌ２　、↑ａｃＩＢ　、ＴａＨ、Ｔ
ａ（ＯＣＨｘ）ａ、５Ｌｌ（ＯＯＣＣＨｓ）ｓ　　・ｘ
ＨｘＯ１Ｓ＋ｍ　（ＣＨ５ｃＯｃｌｌｃＯｃＨｓ）　ｓ
、Ｓ＋ａＣ１ｓ　、（ＣＪｓ）ｔＨｆｃｌｚ、ＣｅＣ１
５、Ｃｅ（ＯＯＣＣＩＩｓ）ｓ、Ｃｅ（ＣＨｓＣＯＣＨ
ＣＯＣＨｓ）ｓ　　・ｘＨｌｏ、　Ｙ（ＣＩＩＩＣＯＣ
ＨＣＯＣＨ３）ｉ、ＹＣＩ　２、Ｙ　（ＯＯＣＣｌ。Ｈ
？）５、Ｓｃ　（ＯＯＣＣＨコ）、・ｘＨｔｏ。

５ｃＣ１ｚ　、Ｓｃ（ＯＣＲ（ＣＨｓ）ｇ）ｓ、ＮｂＣ
ｌ５　、Ｎｂ（ＯＣＪｓ）ｓ、ＮｂＨｓ−Ｔｈ（ＣＨｓ
ＣＯＣ１ｌＣＯＣＨ３）ａ　　、ＴｈＣ１４などの金属
錯体、または活性炭やシリカ、アルミナなどの金属酸化
物に担持させた金属もしくは過酸化ベンゾイル、アゾビ
スイソブチルニトリル等の過酸化物などがあげられる。

触媒は均−系または不均一系のものであり、これらは大
部分は市販されていて容易に入手可能である。もちろん
、これらは容易に合成することもでき、る０本発明は上
述の金属またはその化合物を触媒の必須成分とするもの
で、これ以外の触媒成分を同時に含むことは勿論可能で
ある。

本発明において、５ｉＨａと上述の炭化水素との反応は
上記のような触媒の存在下に０〜４００°Ｃで行われる
。

この反応は、上記の反応温度と触媒を使用することを除
くと特に制限はなく、気相、液相のいずれでも行い得る
。

反応温度は０〜４００°Ｃで、好ましくは５０〜２００
゛Ｃの範囲であり、触媒は均一、不均一のいずれでも良
い。

反応を気相で行う場合には、５ｉＨａとガス状アルケン
、アルキン等の炭化水素化合物を固体触媒表面に導入し
反応させる方法、液相で行う場合には、例えば触媒を含
む液状の炭化水素化合物にＳｉＨ４を吹き込むなどの方
法が採用できる。後者の場合には、ベンゼン、ヘプタン
、ヘキサン、トルエンなどの５ｉＨａまたはアルケン、
アルキン化合物と反応しない存機化合物を溶媒に用いる
ことができる。

反応圧には特に制限はないが、平衡上高圧であることが
望ましく、また水素、アルゴン、窒素、ヘリウムなどの
ガス共存下で行うこともできる。

反応温度は上記したように０〜４００℃、反応圧力は反
応の平衡上、高圧であることが望ましいが、通常０〜１
０００気圧、好ましくは０〜１００気圧である。また仕
込モル比は目的とする生成物の種類により、任意に変更
することが可能であり、特に臨界的に制限するものでは
ないが、通常、（不飽和炭化水素／　Ｓ　ｉ　Ｈａ　）
・０．０１〜１００の範囲である。また反応時間は、数
分〜数十時間の範囲で任意に選択することが可能である
。

５ｉＪｉ、５ｉｉＨｓの場合もこれに順する。

実施例 以下、本発明を実施例によって説明する。

実施例１ ５００　ｍのオートクレーブに、ＳｉＨ４を７０５ｍｍ
ｏｌ、１．７−オクタジエンを１３５０ｍｓ＋ｏｌ　、
触媒としてＰｔ（ＰΦ、）４を０．２３ａｍｏｌ仕込み
、撹拌しながら反応温度８０℃で２０時間反応させた。

この時の反応圧は４０Ｋｇ／ｃｄであった０反応終了後
、生成物をガスクロマトグラフで分析したところ、主生
成物はＣＨｇ＝ＣＩ（ＣＨｉ）　１−３ｉＨｓで、収量
は２９５＋ｓｍｏｌ　（Ｓｉベースでの収率４２％）で
あった。

分離後のＣ１，・ＣＨ（ＣＨｚ）ｉ−５ｉＨ＊に関し以
下の結果を得た。

元素分析Ｃ６７，４９，Ｈ１２，８４，Ｓｉ　１９．６
３　ｗｔ％理論値Ｃ６７，５２，Ｈ１２，７５，Ｓｉ　
１９．７３　ｗｔ％ＩＲ２１５０ＣＩ−’　（シ５ｉ−
Ｈ）　　９９０ｃｍ−’　（δＣ−１Ｃ−１１）９２０
’　（δＳｉ−Ｈ） ＮＭＲ０，８ｐｐｍ　（−Ｃｊｊｌ−５ｉＨｚ）、ｉ、
４ｏｐｐ曙（−（印、）　、−）、２．１０ｐｐ＋ｍ（
＝（Ｈ−印ｚ−）　、３．５０ｐｐ＋ｎ（−５ｉＨ２）
、４６９０〜５．３０ｐｐｍ（Ｋｃ−ｃｔ＋−）Ｍａｓ
ｓ　　１４２　　（Ｍ”　） 上記化合物３０ｓｕ＋＋ｏｌをＬｔＯＣＪｓを含むｃｚ
ｕｓｏｕ溶液で分解させ、水素ガス発生量を定量したと
ころ１９６３ａ＋１（理論値１９７１　ｄ、”）であっ
た。

実施例２ 実施例１において、１．７−オクタジエンのかわりに１
．９−デカジエン７１５ｍ＋ａｏｌを用いた以外は実施
例１と同様に実験を行った。得られた主生成物はＣＨｚ
＝ＣＨ（ＣＨｚ）　５−５ｉＨｓで、収量は３１７ｍｍ
ｏｌ　（Ｓｉベースでの収率４４％）であった。

元素分析Ｃ７０，１１，ＨＬ３．２２．　Ｓｉ　１６．
３３　ｗｔ％理論値Ｃ７０，５０，Ｈ１３，０２，Ｓｉ
　１６．４９　ｗｔ％ＩＲ２１５０ｃｍ−’　（シ５ｉ
−Ｈ）　　９９０Ｃ１１−’　（δＣ−Ｈ）９２０Ｃ１
１−’　（δＳｉ−Ｈ） ＮＭＲＯ，８ｐｐｍ　　（−Ｃｈ−５ｉＨｓ）、　１．
４０ｐｐｍ（−ＣＨｚ−）　　、２．１０ｐｐｍ（−Ｃ
Ｉ−ＣＨｘ−）　　、　３．５０ｐｐｍ（−５ｉ且、）
、４．９０〜５．３０ｐｐ−（ｊｊｌＧ−旦且−）Ｍａ
ｓｓ　　１７０　（Ｍ”　） 上記化合物３〇−園ｏ１をＬｉ０Ｃ，Ｈ５を含むＣｔＨ
ｓＯＨ溶液で分解させ、水素ガス発生量を定量したとこ
ろ１９５４ＩＩｄｌ（理論値１９７１　ｄ）であった。

実施例３ 実施例１において、１．７−オクタジエンのかわりに１
．１３−テトラデカジエン７２３ｍｍｏｌを用いた以外
は実施例１と同様に実験を行った。得られた主生成物は
ＣＵｔ・ＣＨ（ＣＨｚ）　＋ｚ−５ｉＨ３で、収量は２
９８ｍ＋ｎｏｌ　（Ｓｉベースでの収率４１％）であっ
た。

元素分析Ｃ７４，０４，Ｈ１３，４４，Ｓｉ　１２．３
２　ｗｔ％理論値Ｃ７４，２５，Ｈ１３，３５，Ｓｔ　
１２．４０賀ｔ％ＩＲ２１５０ＣＩ１１−’　（シ５ｉ
−Ｈ）　　９９０ｃ＋ａ−’　（δＣ−Ｈ）９２０ｃｍ
−’　（δＳｉ−Ｈ） ＮＭＲ０，８ｐｐｍ　　（−Ｃ３ｊｌ−５ｉＨｓ）、　
１．４０ｐｐｍ（−ＣＨｔ−）　　、２．１０ｐｐ−（
−ＣＨ−旦旦！−）　　、　３．５０ｐｐｍ＋（−３ｉ
旦、）、４．９０〜５．３０ｐｐｍ（ＬＬＣ−用一）Ｍ
ａｓｓ　　２２６　（Ｍ”　） 上記化合物３０ｍ＊ｏｌをＬｉ０ＣＪ５を含むＣ，Ｈ，
Ｏ１！溶液で分解させ、水素ガス発生量を定量したとこ
ろ１９５５ａＮ　（理論値１９７１　ｍ）であった。

実施例４ 実施例１において、ＳｉＨ４のかわりに５ｉＪａ　７１
３ｍ＋−０１％触媒に活性炭にｐｔを５ｗｔ％担持させ
たものを０．４２＠ｍｏｌ　（Ｐｔのモル数）を用いた
以外は実施例１と同様に実験を行った。得られた主生成
物はＣＨｚｇＣＨ（ＣＨｘ）　１−５ｉＪｉで、収量は
９３騙■ｏｌ　（Ｓｉベースでの収率１３％）であった
。

元素分析Ｃ１１，４７，Ｈ５５，８１，Ｓｉ　３２．３
９　ｗｔ％理論値Ｃ１１，６９，Ｈ５５，７３，Ｓｉ　
３２．５８　ｗｔ％ＩＲ２１５０Ｃ１−’　（シ５ｉ−
Ｈ）　　９９０ｃｍ−’　（δＣ−Ｈ）９２０Ｃ１１−
’　（δＳｉ−Ｈ） ＮＭＲ０，８ｐｐｍ　（−Ｃｊｊｌ−３ｉＨｓ）、１．
４０ｐｐｍ（−聾、−）、２．１０ｐｐｍ（＝ＣＨ−Ｃ
Ｈｔ−）　　、　３．５０ｐｐｍ（−３ｉｔ且１）　　
、４．９０〜５．３０ＰＰａ（ＨＣ−ＣＨ−）Ｍａｓｓ
　　１？３　（Ｍ”　） 上記化合物３０ｍｍｏｌをＬｉ０Ｃ，Ｈ５を含むＣＪｓ
ＯＨ溶液で分解させ、水素ガス発生量を定量したところ
３３３８ｄ　（理論値３３６０　ｍ）であった。

発明の効果 本発明の方法によれば、近年の半導体産業の発展に伴い
大量生産され、安価に入手できるようになったＳｉＨ４
を出発原料に用い、新たな有機ケイ素工業用原料として
期待されるアルケニルシラン類およびその経済的で新規
な合成ルートを提供することができる０本発明にかかわ
るシラン類は、従来のアルキルクロロシラン系の基礎原
料に好適に代替え可能なものであり、５ｉ−Ｈ結合の高
い反応性に起因して高機能性の付与が可能であり、また
非クロル系で腐食の心配がないなど多くの利点を有する
有機ケイ素工業プロセスの開発を実現させるものである
。

特許出願人　　三井東圧化学株式会社

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式ＣＨ＿２＝ＣＨ （ＣＨ＿２）＿ｍＳｉｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１（ただし、
   ｍは５乃至２０の正の整数、ｎは１、２もしくは３）で
   表される有機ケイ素化合物。
2. （２）一般式ＣＨ＝ＣＨ＿２−（ＣＨ＿２）＿ｍ＿−＿
   ２−ＣＨ＝ＣＨ＿２（ただし、ｍは５乃至２０の正の整
   数）で表される不飽和炭化水素を、一般式ＳｉｎＨ＿２
   ＿ｎ＿＋＿２（ただし、ｎは１、２もしくは３）で表さ
   れる水素化ケイ素化合物でヒドロシリル化することを特
   徴とする一般式 ＣＨ＿２＝ＣＨ （ＣＨ＿２）＿ｍ−ＳｉｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１（ただし
   、ｍは５乃至２０の正の整数、ｎは１、２もしくは３）
   で表される有機ケイ素化合物の製造方法。