JPH0813822B2 - 有機ケイ素化合物 - Google Patents
有機ケイ素化合物Info
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- JPH0813822B2 JPH0813822B2 JP4462288A JP4462288A JPH0813822B2 JP H0813822 B2 JPH0813822 B2 JP H0813822B2 JP 4462288 A JP4462288 A JP 4462288A JP 4462288 A JP4462288 A JP 4462288A JP H0813822 B2 JPH0813822 B2 JP H0813822B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、一般式（１） （ただし、ｍは５乃至20の正の整数、ｎは１、２もしく
は３）で表される有機ケイ素化合物およびその製造方法
に関する。
は３）で表される有機ケイ素化合物およびその製造方法
に関する。
有機ケイ素化合物とは、一般にSi−Ｃ結合を有する化
合物の総称であり、現在シリコーン（ポリオルガノシロ
キサン）に代表されるように、有機ケイ素化学工業の発
展はすさまじい。有機ケイ素化合物の製造法はいくつか
知られ、代表的なものとして以下の方法があげられる。
合物の総称であり、現在シリコーン（ポリオルガノシロ
キサン）に代表されるように、有機ケイ素化学工業の発
展はすさまじい。有機ケイ素化合物の製造法はいくつか
知られ、代表的なものとして以下の方法があげられる。
（１）Si＋RCl→R2SiCl2、R3SiCl、RSiCl3、RSiHCl2 （２）nRMgX＋SiCl4→RnSiCl4-n＋nMgXCl（Ｘはハロゲ
ン原子） （３）Na＋RCl＋≡Si−Cl→Si−Ｒ＋NaCl （４）CH3SiHCl2＋RCH＝CH2→Ｒ−CH2CH2Si(CH3)Cl2 （１）は、Rochowの直接法で、金属ケイ素とハロゲン化
炭化水素とから直接有機ケイ素化合物を製造するもの
で、現在の有機ケイ素工業において最も重要な基幹原料
であるアルキルクロロシランを製造する方法である。ハ
ロゲン化炭化水素RClとしては、メチルクロライドやク
ロルベンゼンが工業化されていて、これ以外のハロゲン
化炭化水素は収率も低く工業的ではない。
ン原子） （３）Na＋RCl＋≡Si−Cl→Si−Ｒ＋NaCl （４）CH3SiHCl2＋RCH＝CH2→Ｒ−CH2CH2Si(CH3)Cl2 （１）は、Rochowの直接法で、金属ケイ素とハロゲン化
炭化水素とから直接有機ケイ素化合物を製造するもの
で、現在の有機ケイ素工業において最も重要な基幹原料
であるアルキルクロロシランを製造する方法である。ハ
ロゲン化炭化水素RClとしては、メチルクロライドやク
ロルベンゼンが工業化されていて、これ以外のハロゲン
化炭化水素は収率も低く工業的ではない。
一方、（２）はグリニャール法、（３）は金属ナトリ
ウムによる脱塩素反応であり、任意のアルキル基を導入
できるが、グリニャール試薬、金属ナトリウムが高価で
経済的でない。
ウムによる脱塩素反応であり、任意のアルキル基を導入
できるが、グリニャール試薬、金属ナトリウムが高価で
経済的でない。
しかして、（４）は本発明に類似する方法であるが、
原料はHSiCl3や直接法で副生するCH3SiHCl2などに限定
されるという大きな問題点がある。
原料はHSiCl3や直接法で副生するCH3SiHCl2などに限定
されるという大きな問題点がある。
その他、（５）、（６）はいずれも高温反応で、原料
も CH2＝CHCl、HSiCl3やCH3SiHCl2等のごく限られたものに
限定される。
も CH2＝CHCl、HSiCl3やCH3SiHCl2等のごく限られたものに
限定される。
以上述べたように現在の有機ケイ素工業の基礎原料はメ
チルもしくはフェニルクロロシラン類が大部分であり、
れらのケイ素化合物を出発原料に用いて、種々のシリコ
ーン、シランカップリング剤、シリル化剤などの機能性
物質が開発されてきた。
チルもしくはフェニルクロロシラン類が大部分であり、
れらのケイ素化合物を出発原料に用いて、種々のシリコ
ーン、シランカップリング剤、シリル化剤などの機能性
物質が開発されてきた。
しかしながら、クロロシラン類を基礎原料とする従来
の有機ケイ素工業プロセスの問題点は、概して塩化水
素の発生を伴うなどクロル系であるためプロセス腐食が
大きいこと、反応工程が多く複雑であること、原料
的制約からメチル系が中心で、アルキル基の少なくとも
１個はメチル基を含むものであること、等である。
の有機ケイ素工業プロセスの問題点は、概して塩化水
素の発生を伴うなどクロル系であるためプロセス腐食が
大きいこと、反応工程が多く複雑であること、原料
的制約からメチル系が中心で、アルキル基の少なくとも
１個はメチル基を含むものであること、等である。
一方、シリル基類（−SinH2n+1）を含有する化合物
は、従来トリクロロシリル基を有する化合物を還元する
ことで合成は可能であったが、還元剤が高価なこともあ
り、その利用が考えられることは殆どなかった。SiH4と
アルケンまたはアルキンとのヒドロシリル化反応（付加
反応）により、アルキルシランやアルケニルシランを合
成することは可能であるが、従来SiH4の入手が困難で高
価であったことからその研究も少なかった。わずかにツ
ァイトシュリフト フュア ナチュールフォルシュンク
（Z,Naturforsch.），56,444（1950）；同，76,207（19
52）；ツァイトシュリフト フュア アノルガニッシェ
ウント アルゲマイネ ヘミー（Z.Anorg.Allgem,Che
m.）273,275（1953）；ジャーナル オブ アメリカン
ケミカル ソサイアティ（J.Am.Chem.Soc.）76,3897
（1954）;U,S.Pat.2786862（1957）等に報告例が散見さ
れるに過ぎない。これらの報告によれば、この反応は反
応温度が400乃至500℃と高く、無触媒、熱分解反応であ
り、かつ収率も低く、生成するシラン化合物の選択性の
コントロールも不充分であった。
は、従来トリクロロシリル基を有する化合物を還元する
ことで合成は可能であったが、還元剤が高価なこともあ
り、その利用が考えられることは殆どなかった。SiH4と
アルケンまたはアルキンとのヒドロシリル化反応（付加
反応）により、アルキルシランやアルケニルシランを合
成することは可能であるが、従来SiH4の入手が困難で高
価であったことからその研究も少なかった。わずかにツ
ァイトシュリフト フュア ナチュールフォルシュンク
（Z,Naturforsch.），56,444（1950）；同，76,207（19
52）；ツァイトシュリフト フュア アノルガニッシェ
ウント アルゲマイネ ヘミー（Z.Anorg.Allgem,Che
m.）273,275（1953）；ジャーナル オブ アメリカン
ケミカル ソサイアティ（J.Am.Chem.Soc.）76,3897
（1954）;U,S.Pat.2786862（1957）等に報告例が散見さ
れるに過ぎない。これらの報告によれば、この反応は反
応温度が400乃至500℃と高く、無触媒、熱分解反応であ
り、かつ収率も低く、生成するシラン化合物の選択性の
コントロールも不充分であった。
しかしながら、Si2H6、Si3H3に関しては報告例はな
い。
い。
本発明の目的は、かかる問題点のない、機能性に優れ
た新しい有機ケイ素化合物およびその製造法を提供する
ものである。
た新しい有機ケイ素化合物およびその製造法を提供する
ものである。
本発明者らは、有機ケイ素工業用原料としてのSiH4に
着目、SiH4から有機ケイ素化合物を合成する工業的ルー
トの開発に鋭意努力し、特定の原料を使用することによ
って本発明の目的が達成されることを見出し、本発明を
完成させるに至った。
着目、SiH4から有機ケイ素化合物を合成する工業的ルー
トの開発に鋭意努力し、特定の原料を使用することによ
って本発明の目的が達成されることを見出し、本発明を
完成させるに至った。
すなわち本発明は、一般式（１） （ただし、ｍは５乃至20の正の整数、ｎは１、２もしく
は３）で表される有機ケイ素化合物であり、更に、一般
式CH＝CH−(CH2)m-2−CH＝CH2（ただし、ｍは５乃至20
の正の整数）で表される不飽和炭化水素を、一般式SinH
2n+2（ただし、ｎは１、２もしくは３）で表される水素
化ケイ素化合物でヒドロシリル化することを特徴とする
一般式（１） （ただし、ｍは５乃至20の正の整数、ｎは１、２もしく
は３）で表される有機ケイ素化合物の製造方法である。
は３）で表される有機ケイ素化合物であり、更に、一般
式CH＝CH−(CH2)m-2−CH＝CH2（ただし、ｍは５乃至20
の正の整数）で表される不飽和炭化水素を、一般式SinH
2n+2（ただし、ｎは１、２もしくは３）で表される水素
化ケイ素化合物でヒドロシリル化することを特徴とする
一般式（１） （ただし、ｍは５乃至20の正の整数、ｎは１、２もしく
は３）で表される有機ケイ素化合物の製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、一般式CH2＝CH−(CH2)mSinH2n+1で示され
る新規な有機ケイ素化合物を提供するものである。具体
的には、 CH2＝CH−(CH2)5SiH3、CH2＝CH−(CH2)6SiH3、CH2＝CH
−(CH2)7SiH3、 CH2＝CH−(CH2)8SiH3、CH2＝CH−(CH2)10SiH3、CH2＝CH
−(CH2)12SiH3、 CH2＝CH−(CH2)14SiH3、CH2＝CH−(CH2)18SiH3、CH2＝C
H−(CH2)5Si2H5、 CH2＝CH−(CH2)6Si2H5、CH2＝CH−(CH2)8Si2H5、CH2＝C
H−(CH2)6Si6H7、 CH2＝CH−(CH2)8Si3H7などである。
る新規な有機ケイ素化合物を提供するものである。具体
的には、 CH2＝CH−(CH2)5SiH3、CH2＝CH−(CH2)6SiH3、CH2＝CH
−(CH2)7SiH3、 CH2＝CH−(CH2)8SiH3、CH2＝CH−(CH2)10SiH3、CH2＝CH
−(CH2)12SiH3、 CH2＝CH−(CH2)14SiH3、CH2＝CH−(CH2)18SiH3、CH2＝C
H−(CH2)5Si2H5、 CH2＝CH−(CH2)6Si2H5、CH2＝CH−(CH2)8Si2H5、CH2＝C
H−(CH2)6Si6H7、 CH2＝CH−(CH2)8Si3H7などである。
類似の化合物としては、古い過去にアリルシラン（CH
2＝CH−CH2−SiH3）のチーグラー型触媒の重合例が見ら
れるに過ぎない（ジャーナル オブ ポリマー サイエ
ンス（Journal Polymer Science）,Vol31,No.122,181
（1958），イタリア特許606018）。
2＝CH−CH2−SiH3）のチーグラー型触媒の重合例が見ら
れるに過ぎない（ジャーナル オブ ポリマー サイエ
ンス（Journal Polymer Science）,Vol31,No.122,181
（1958），イタリア特許606018）。
これらの化合物に含まれるシリル基類は反応性に富
み、Ｃ＝Ｃ、Ｃ≡Ｃ、Ｃ＝０、 Ｃ＝Ｎ、Ｎ＝Ｃ＝０、Ｃ≡Ｎ、Ｃ＝Cl、 Ｏ−Ｈなどの種々の結合と反応し得る。これらの化合物
はこの反応性を利用してシランカップリング剤、シリル
化剤、撥水剤等に用いられ、また分子内の二重結合の重
合性を利用してシリル基類を有するポリマーの重合用モ
ノマーとして用いられる。
み、Ｃ＝Ｃ、Ｃ≡Ｃ、Ｃ＝０、 Ｃ＝Ｎ、Ｎ＝Ｃ＝０、Ｃ≡Ｎ、Ｃ＝Cl、 Ｏ−Ｈなどの種々の結合と反応し得る。これらの化合物
はこの反応性を利用してシランカップリング剤、シリル
化剤、撥水剤等に用いられ、また分子内の二重結合の重
合性を利用してシリル基類を有するポリマーの重合用モ
ノマーとして用いられる。
シリル基類を含有するポリマーは更にコーティング
剤、架橋剤、ハードコート剤、IPNなど種々の機能性材
料として利用できる。
剤、架橋剤、ハードコート剤、IPNなど種々の機能性材
料として利用できる。
更に本発明にかかわる化合物は非クロル系であり、腐
食等のプロセス上に問題は全くない。
食等のプロセス上に問題は全くない。
次に本発明にかかわる化合物の製造方法について述べ
る。製造方法はいくつかあり、例えば下式（２）に示す
ように還元剤LiAlH4を用いてクロロシラン化合物を還元
する方法がある。
る。製造方法はいくつかあり、例えば下式（２）に示す
ように還元剤LiAlH4を用いてクロロシラン化合物を還元
する方法がある。
CH2＝CH−(CH2)mSinCl2n+1＋（（2n＋１）/4）LiAlH4 →CH2＝CH−(CH2)mSinCl2n+1＋（（2n＋１）/4）LiCl＋
（（2n＋１）/4）AlCl3 （２） しかしこの方法は、還元剤が高価であること、原料と
するクロロシランが得がたいことから望ましい方法とは
言えない。
（（2n＋１）/4）AlCl3 （２） しかしこの方法は、還元剤が高価であること、原料と
するクロロシランが得がたいことから望ましい方法とは
言えない。
経済的な方法は下式（３）に示すように、SiH4、Si2H
6、Si3H8によるジエンのヒドロシリル化である。
6、Si3H8によるジエンのヒドロシリル化である。
CH2＝CH−(CH2)m-2−CH＝CH2＋SiH4 →CH2＝CH−(CH2)m-2−CH2−CH2−SiH3 （３） 更に、Si2H6、Si3H8の場合も同様な反応性を示す。
原料として用いられるSiH4、Si2H6、Si3H8は、近年の半
導体産業の著しい発展に伴い、半導体用ガスとして大量
生産され、最近、工業的に安価に入手できるようになっ
たものである。SiH4の製造方法としては、例えば、ケイ
素のマグネシウム合金（Mg2Si等）をハロゲン化水素の
水溶液と反応させる方法、四塩化ケイ素を水素化リチウ
ム等の還元剤で還元する方法、トリクロロシランの不均
化反応による方法等が公知であるが、例えば、本発明に
おいては、この何れの方法で生産されたものも好適に使
用することが可能である。一方のa,ω−ジエン類も近
年、種々不飽和化合物の二重結合の異性化、もしく不均
化反応の開発により様々のものが工業的に製造されるよ
うになってきている。
導体産業の著しい発展に伴い、半導体用ガスとして大量
生産され、最近、工業的に安価に入手できるようになっ
たものである。SiH4の製造方法としては、例えば、ケイ
素のマグネシウム合金（Mg2Si等）をハロゲン化水素の
水溶液と反応させる方法、四塩化ケイ素を水素化リチウ
ム等の還元剤で還元する方法、トリクロロシランの不均
化反応による方法等が公知であるが、例えば、本発明に
おいては、この何れの方法で生産されたものも好適に使
用することが可能である。一方のa,ω−ジエン類も近
年、種々不飽和化合物の二重結合の異性化、もしく不均
化反応の開発により様々のものが工業的に製造されるよ
うになってきている。
ヒドロシリル化反応は前述のように熱、光などの方法
によっても行い得るが、好ましくは本発明者らが別に提
案しているように（特願昭62−88871、同62−89888、同
62−307429）触媒を用いる方法が好ましい。触媒として
は、周期律表（新実験化学講座、丸善株式会社発行（19
77）における第VIII族、第VIA族、第VIIA族、第Ｖ族、
第IVA族、第IIIA族の金属からなる触媒またはこれらの
金属の化合物を触媒構成成分に含む触媒である。例え
ば、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd,Os、Ir、Pt,Cr、No、Ｗ、
Mn、Tc、Re、Sc、Ti、Ｖ、Ｙ、Zr、Nb、HfもしくはTaま
たはLaやCeなどのランタン系列の金属、AcやThなどのア
クチニウム系列の金属などの金属;Fe(CO)5、Co2(CO)3、
L2Ni（オレフィン）、L2NiCl2、RuCl3、L3RhCl、L4Pd、
L2PdCl2、IrCl2、L4Pt、〔（オレフィン）PtCl2〕2、H2
PtCl6・6H2O、Ru(CO)2、RuCl3（Ｐφ3)3、Cr(CO)6、Mn2
(CO)10（ただしφはフェニル、ＬはPPh3もしくはP
R3）、(C5H5)2TiCl2、(C5H5)2Ti(CH3)2、(C5H5)2、Ti(C
H2C6H5)2、TiCl4、Ti(OC2H5)4、TiH2、Ti(OC4H9)2(CH3C
OCHCHCH3)2、TiCl3、TiO(CH3COCHCOCH3)2、Ti(OCH(CH3)
2)4、(C5H5)2ZrCl2、(C5H5)2Zr(CH3)2、ZrH4、ZrCl4、Z
r(OC2H5)4、Zr(CH3COCHCOCH3)4、(C5H5)2ZrH2、(C5H5)2
ZrHCl、(C5H5)2VCl2、(C5H5)2V(CH3)2、V(CH3COCHCOC
H3)3、(C5H5)V(CO)4、V(CO)6、VCl3、VO(CH3COCHCOCH3)
2、Na(C6H14O3)2V(CO)6、VOCl3、TaCl5、TaH、Ta(OCH3)
4、Sm(OOCCH3)3・xH2O、Sm(CH3COCHCOCH3)3、SmCl3、(C
5H5)2HfCl2、CeCl3、Ce(OOCCH3)3、Ce(CH3COCHCOCH3)3
・xH2O、Y(CH3COCHCOCH3)3、YCl3、Y(OOCC10H7)3、Sc(O
OCCH3)3・xH2O、ScCl3、Sc(OCH(CH3)2)3、NbCl5、Nb(OC
2H5)5、NbH5、Th(CH3COCHCOCH3)4、ThCl4などの金属錯
体、または活性炭やシリカ、アルミナなどの金属酸化物
に担持させた金属もしくは過酸化ベンゾイル、アゾビス
イソブチルニトリル等のラジカル開始剤などがあげられ
る。
によっても行い得るが、好ましくは本発明者らが別に提
案しているように（特願昭62−88871、同62−89888、同
62−307429）触媒を用いる方法が好ましい。触媒として
は、周期律表（新実験化学講座、丸善株式会社発行（19
77）における第VIII族、第VIA族、第VIIA族、第Ｖ族、
第IVA族、第IIIA族の金属からなる触媒またはこれらの
金属の化合物を触媒構成成分に含む触媒である。例え
ば、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd,Os、Ir、Pt,Cr、No、Ｗ、
Mn、Tc、Re、Sc、Ti、Ｖ、Ｙ、Zr、Nb、HfもしくはTaま
たはLaやCeなどのランタン系列の金属、AcやThなどのア
クチニウム系列の金属などの金属;Fe(CO)5、Co2(CO)3、
L2Ni（オレフィン）、L2NiCl2、RuCl3、L3RhCl、L4Pd、
L2PdCl2、IrCl2、L4Pt、〔（オレフィン）PtCl2〕2、H2
PtCl6・6H2O、Ru(CO)2、RuCl3（Ｐφ3)3、Cr(CO)6、Mn2
(CO)10（ただしφはフェニル、ＬはPPh3もしくはP
R3）、(C5H5)2TiCl2、(C5H5)2Ti(CH3)2、(C5H5)2、Ti(C
H2C6H5)2、TiCl4、Ti(OC2H5)4、TiH2、Ti(OC4H9)2(CH3C
OCHCHCH3)2、TiCl3、TiO(CH3COCHCOCH3)2、Ti(OCH(CH3)
2)4、(C5H5)2ZrCl2、(C5H5)2Zr(CH3)2、ZrH4、ZrCl4、Z
r(OC2H5)4、Zr(CH3COCHCOCH3)4、(C5H5)2ZrH2、(C5H5)2
ZrHCl、(C5H5)2VCl2、(C5H5)2V(CH3)2、V(CH3COCHCOC
H3)3、(C5H5)V(CO)4、V(CO)6、VCl3、VO(CH3COCHCOCH3)
2、Na(C6H14O3)2V(CO)6、VOCl3、TaCl5、TaH、Ta(OCH3)
4、Sm(OOCCH3)3・xH2O、Sm(CH3COCHCOCH3)3、SmCl3、(C
5H5)2HfCl2、CeCl3、Ce(OOCCH3)3、Ce(CH3COCHCOCH3)3
・xH2O、Y(CH3COCHCOCH3)3、YCl3、Y(OOCC10H7)3、Sc(O
OCCH3)3・xH2O、ScCl3、Sc(OCH(CH3)2)3、NbCl5、Nb(OC
2H5)5、NbH5、Th(CH3COCHCOCH3)4、ThCl4などの金属錯
体、または活性炭やシリカ、アルミナなどの金属酸化物
に担持させた金属もしくは過酸化ベンゾイル、アゾビス
イソブチルニトリル等のラジカル開始剤などがあげられ
る。
触媒は均一系または不均一系のものであり、これらは
大部分は市販されていて容易に入手可能である。もちろ
ん、これらは容易に合成することもできる。本発明は上
述の金属またはその化合物を触媒の必須成分とするもの
で、これ以外の触媒成分を同時に含むことは勿論可能で
ある。
大部分は市販されていて容易に入手可能である。もちろ
ん、これらは容易に合成することもできる。本発明は上
述の金属またはその化合物を触媒の必須成分とするもの
で、これ以外の触媒成分を同時に含むことは勿論可能で
ある。
本発明において、SiH4と上述の炭化水素との反応は上
記のような触媒の存在下に０〜400℃で行われる。
記のような触媒の存在下に０〜400℃で行われる。
この反応は、上記の反応温度と触媒を使用することを
除くと特に制限はなく、気相、液相のいずれでも行い得
る。
除くと特に制限はなく、気相、液相のいずれでも行い得
る。
反応温度は０〜400℃で、好ましくは50〜200℃の範囲
であり、触媒は均一、不均一のいずれでも良い。
であり、触媒は均一、不均一のいずれでも良い。
反応を気相で行う場合には、SiH4とガス状アルケン、
アルキン等の炭化水素化合物を固体触媒表面に導入し反
応させる方法、液相で行う場合には、例えば触媒を含む
液状の炭化水素化合物にSiH4を吹き込むなどの方法が採
用できる。後者の場合には、ベンゼン、ヘプタン、ヘキ
サン、トルエンなどのSiH4またはアルケン、アルキン化
合物と反応しない有機化合物を溶媒に用いることができ
る。
アルキン等の炭化水素化合物を固体触媒表面に導入し反
応させる方法、液相で行う場合には、例えば触媒を含む
液状の炭化水素化合物にSiH4を吹き込むなどの方法が採
用できる。後者の場合には、ベンゼン、ヘプタン、ヘキ
サン、トルエンなどのSiH4またはアルケン、アルキン化
合物と反応しない有機化合物を溶媒に用いることができ
る。
反応圧には特に制限はないが、平衡上高圧であること
が望ましく、また水素、アルゴン、窒素、ヘリウムなど
のガス共存下で行うこともできる。
が望ましく、また水素、アルゴン、窒素、ヘリウムなど
のガス共存下で行うこともできる。
反応温度は上記したように０〜400℃、反応圧力は反
応の平衡上、高圧であることが望ましいが、通常０〜10
00気圧、好ましくは０〜100気圧である。また仕込モル
比は目的とする生成物の種類により、任意に変更するこ
とが可能であり、特に臨界的に制限するものではない
が、通常、（不飽和炭化水素／SiH4）＝0.01〜100の範
囲である。また反応時間は、数分〜数十時間の範囲で任
意に選択することが可能である。
応の平衡上、高圧であることが望ましいが、通常０〜10
00気圧、好ましくは０〜100気圧である。また仕込モル
比は目的とする生成物の種類により、任意に変更するこ
とが可能であり、特に臨界的に制限するものではない
が、通常、（不飽和炭化水素／SiH4）＝0.01〜100の範
囲である。また反応時間は、数分〜数十時間の範囲で任
意に選択することが可能である。
また、Si2H6、Si3H8の場合もこれに順ずる。
以下、本発明を実施例によって説明する。
実施例１ 500mlのオートクレーブに、SiH4を705mmol、1,7−オ
クタジエンを1350mmol、触媒としてPt（Ｐφ３）４を0.
23mmol仕込み、攪拌しながら反応温度80℃で20時間反応
させた。この時の反応圧は40kg/cm2であった。反応終了
後、生成物をガスクロマトグラフで分析したところ、主
生成物はCH2＝CH(CH2)6−SiH3で、収量は295mmol（Siベ
ースでの収率42％）であった。
クタジエンを1350mmol、触媒としてPt（Ｐφ３）４を0.
23mmol仕込み、攪拌しながら反応温度80℃で20時間反応
させた。この時の反応圧は40kg/cm2であった。反応終了
後、生成物をガスクロマトグラフで分析したところ、主
生成物はCH2＝CH(CH2)6−SiH3で、収量は295mmol（Siベ
ースでの収率42％）であった。
分離後のCH2＝CH(CH2)6−SiH3に関し以下の結果を得
た。
た。
元素分析 C67.49, H12.84 Si19.63 wt％ 理論値 C67.52, H12.75 Si19.73 wt％ IR 2150cm-1（νSi−Ｈ） 990cm-1（δＣ−Ｈ） 920
cm-1（δSi−Ｈ）NMR0.8ppm（CH 2−SiH3）、1.40ppm
（−(CH 2)6−）、2.10ppm（＝CH−CH 2−）、3.50ppm
（−SiH 3）、4.90〜5.70ppm(H 2C＝CH−） Mass 142（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解
させ、水素ガス発生量を定量したところ1963ml（理論値
1971ml）であった。
cm-1（δSi−Ｈ）NMR0.8ppm（CH 2−SiH3）、1.40ppm
（−(CH 2)6−）、2.10ppm（＝CH−CH 2−）、3.50ppm
（−SiH 3）、4.90〜5.70ppm(H 2C＝CH−） Mass 142（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解
させ、水素ガス発生量を定量したところ1963ml（理論値
1971ml）であった。
実施例２ 実施例１において、1,7−オクタジエンのかわりに1,9
−デカジエン715mmolを用いた以外は実施例１と同様に
実験を行った。得られた主生成物はCH2＝CH(CH2)8−SiH
3で、収量は317mmol（Siベースでの収率44％）であっ
た。
−デカジエン715mmolを用いた以外は実施例１と同様に
実験を行った。得られた主生成物はCH2＝CH(CH2)8−SiH
3で、収量は317mmol（Siベースでの収率44％）であっ
た。
元素分析 C70.11, H13.22, Si16.33 wt％ 理論値 C70.50, H13.02, Si16.49 wt％ IR 2150cm-1（νSi−Ｈ）990cm1（δＣ−Ｈ） 920cm
-1（δSi−Ｈ） NMR 0.8ppm（−CH2−SiH3）、1.40ppm（−CH 2）、2.10
ppm（＝CH−CH 2−）、 3.50ppm（−SiH 3）、4.90〜5.30ppm（H 2C＝CH−） Mass 170（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解
させ、水素ガス発生量を定量したところ1954ml（理論値
1971ml）であった。
-1（δSi−Ｈ） NMR 0.8ppm（−CH2−SiH3）、1.40ppm（−CH 2）、2.10
ppm（＝CH−CH 2−）、 3.50ppm（−SiH 3）、4.90〜5.30ppm（H 2C＝CH−） Mass 170（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解
させ、水素ガス発生量を定量したところ1954ml（理論値
1971ml）であった。
実施例３ 実施例１において、1,7−オクタジエンのかわりに1,1
3−テトラデカジエン723mmolを用いた以外は実施例１と
同様に実験を行った。得られた主生成物はCH2＝CH(CH2)
12−SiH3で、収量は298mmol（Siベースでの収率41％）
であった。
3−テトラデカジエン723mmolを用いた以外は実施例１と
同様に実験を行った。得られた主生成物はCH2＝CH(CH2)
12−SiH3で、収量は298mmol（Siベースでの収率41％）
であった。
元素分析 C74.04, H13.44, Si12.32 wt％ 理論値 C74.25, H13.35, Si12.40 wt％ IR 2150cm-1（νSi−Ｈ）990cm-1（δＣ−Ｈ）920cm-1
（δSi−Ｈ） NMR 0.8ppm（−CH 2−SiH3）、1.40ppm（−CH 2−）、2.
10ppm（＝CH−CH 2−） 3.50ppm（−SiH 3）、4.90〜5.30ppm（H 2C＝CH−） Mass 226（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解さ
せ、水素ガス発生量を定量したところ1955ml（理論値19
71ml）であった。
（δSi−Ｈ） NMR 0.8ppm（−CH 2−SiH3）、1.40ppm（−CH 2−）、2.
10ppm（＝CH−CH 2−） 3.50ppm（−SiH 3）、4.90〜5.30ppm（H 2C＝CH−） Mass 226（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解さ
せ、水素ガス発生量を定量したところ1955ml（理論値19
71ml）であった。
実施例４ 実施例１において、SiH4のかわりにSi2H6713mmol、触
媒に活性炭にPtを5wt％担持させたものを0.42mmol（Pt
のモル数）を用い反応温度を250℃とした以外は実施例
１と同様に実験を行った。得られた主生成物はCH2＝CH
(CH2)6−Si2H5で、収量は93mmol（Siベースでの収率13
％）であった。
媒に活性炭にPtを5wt％担持させたものを0.42mmol（Pt
のモル数）を用い反応温度を250℃とした以外は実施例
１と同様に実験を行った。得られた主生成物はCH2＝CH
(CH2)6−Si2H5で、収量は93mmol（Siベースでの収率13
％）であった。
元素分析 C11.47, H55.81, Si32.39 wt％ 理論値 C11.69, H55.73, Si32.58 wt％ IR 2125cm-1（νSi−Ｈ） 990cm-1（δＣ−Ｈ） 930
cm-1（δSi−Ｈ） NMR 0.8ppm （−CH 2−SiH3）、1.40ppm（−CH 2−）、
2.10ppm（＝CH−CH 2−）、 3.20ppm（−SiH3）、3.65ppm（−SiH2）、4.90〜5.30pp
m（H 2C＝CH−） Mass 173（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解
させ、水素ガス発生量を定量したところ3338ml（理論値
3360ml）であった。
cm-1（δSi−Ｈ） NMR 0.8ppm （−CH 2−SiH3）、1.40ppm（−CH 2−）、
2.10ppm（＝CH−CH 2−）、 3.20ppm（−SiH3）、3.65ppm（−SiH2）、4.90〜5.30pp
m（H 2C＝CH−） Mass 173（M+） 上記化合物30mmolをLiOC2H5を含むC2H5OH溶液で分解
させ、水素ガス発生量を定量したところ3338ml（理論値
3360ml）であった。
本発明の方法によれば、近年の半導体産業の発展に伴
い大量生産され、安価に入手できるようになったSiH4を
出発原料に用い、新たな有機ケイ素工業用原料として期
待されるアルケニルシラン類およびその経済的で新規な
合成ルートを提供することができる。本発明にかかわる
シラン類は、従来のアルキルクロロシラン系の基礎原料
に好適に代替え可能なものであり、Si−Ｈ結合の高い反
応性に起因して高機能性の付与が可能であり、また非ク
ロル系で腐食の心配がないなど多くの利点を有する有機
ケイ素工業プロセスの開発を実現させるものである。
い大量生産され、安価に入手できるようになったSiH4を
出発原料に用い、新たな有機ケイ素工業用原料として期
待されるアルケニルシラン類およびその経済的で新規な
合成ルートを提供することができる。本発明にかかわる
シラン類は、従来のアルキルクロロシラン系の基礎原料
に好適に代替え可能なものであり、Si−Ｈ結合の高い反
応性に起因して高機能性の付与が可能であり、また非ク
ロル系で腐食の心配がないなど多くの利点を有する有機
ケイ素工業プロセスの開発を実現させるものである。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（１） （ただし、ｍは５乃至20の正の整数、ｎは１、２もしく
は３）で表される有機ケイ素化合物。 - 【請求項２】一般式 CH＝CH2−(CH2)m-2−CH＝CH2 （ただし、ｍは５乃至20の正の整数）で表される不飽和
炭化水素を、一般式Si n H2+2（ただし、ｎは１、２もし
くは３）で表される水素化ケイ素化合物でヒドロシリル
化することを特徴とする一般式（１） （ただし、ｍは５乃至20の正の整数、ｎは１、２もしく
は３）で表される有機ケイ素化合物およびその製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4462288A JPH0813822B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 有機ケイ素化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4462288A JPH0813822B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 有機ケイ素化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01221383A JPH01221383A (ja) | 1989-09-04 |
| JPH0813822B2 true JPH0813822B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=12696533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4462288A Expired - Lifetime JPH0813822B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 有機ケイ素化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0813822B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5048510A (en) * | 1988-08-29 | 1991-09-17 | American Medical Systems, Inc. | Inflatable penile prosthesis with satellite reservoir |
| US20070287848A1 (en) * | 2004-03-12 | 2007-12-13 | Masatoshi Nakagawa | Silicon Compound Containi-Electron Conjugated-System Molecule and Process for Producing the Same |
| US20080207864A1 (en) * | 2004-03-18 | 2008-08-28 | Masatoshi Nakagawa | Organosilanes, Process For Production of the Same, and Use Thereof |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP4462288A patent/JPH0813822B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01221383A (ja) | 1989-09-04 |
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