JP3615655B2 - ジメチルモノクロロシランの製造方法 - Google Patents
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- YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N chlorodimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)Cl YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 18
- 229910012375 magnesium hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- -1 alkyl aromatic compound Chemical class 0.000 claims description 10
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 7
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 5
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 4
- 238000005844 autocatalytic reaction Methods 0.000 description 4
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 2
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010007269 Carcinogenicity Diseases 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical class [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQSLRIXPNFGAQR-UHFFFAOYSA-N [SiH4].Cl Chemical compound [SiH4].Cl HQSLRIXPNFGAQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 231100000260 carcinogenicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000007670 carcinogenicity Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical compound [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910000048 titanium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/126—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-Y linkages, where Y is not a carbon or halogen atom
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水素化マグネシウムおよび塩化アルミニウムからなる反応系および有機溶剤中で絶えず粉砕してジメチルジクロロシラン（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２を部分的に水素化することにより得られるジメチルモノクロロシラン（ＣＨ３）２Ｓｉ（Ｈ）Ｃｌの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アルキル水素クロロシランは技術的有機珪素化学における出発物質として大いに注目されている。ヒドロシリル化工程および加水分解工程の組み合わせにより種々の商業的に重要な官能化シリコーンが開示されている。
【０００３】
ジメチルモノクロロシラン（ＤＭＭＣＳ）およびメチルジクロロシランはＲｏｃｈｏｗ合成の副生成物として生じ、主要生成物ジメチルジクロロシラン（ＤＤＳ）から分離することができる（Ｋ．Ｓｃｈｎｕｒｒｂｕｓｃｈ、Ｕｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ Ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、１５巻、Ｕｒｂａｎ ｕｎｄ Ｓｃｈｗａｒｚｅｎｂｅｒｇ−Ｖｅｒｌａｇ、７４８−７６９（１９６４））。しかしながら高いＤＤＳ収率に最適な直接合成は要求される塩化水素シランの供給源としてきわめて制限されてのみ利用可能である。
【０００４】
ジメチルモノクロロシランのほかの製造方法は、直接合成の残留物中に存在するオルガノクロロジシランの触媒による分離から生じる（Ｍ．Ｗｉｃｋ、Ｇ．Ｋｒｅｉｓ、Ｆ．−Ｈ．Ｋｒｅｕｚｅｒ、Ｕｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ Ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、２巻、第４版、Ｖｅｒｌａｇ Ｃｈｅｍｉｅ、４８５−５０８頁（１９８２））。
【０００５】
金属水素化物を用いてＤＤＳをＤＭＭＣＳに変換するいくつかの方法は文献に記載されている。特開平１−１５８９３８号には、３５５〜４７０℃の温度で、ＬｉＣｌ／ＫＣｌ溶融物中で水素化リチウムを用いてＤＤＳを部分的に水素化する方法が記載され、この場合にＤＭＭＣＳ８〜１７％の収率が得られる。エネルギー節約の観点からこの方法は魅力に乏しい。
【０００６】
米国特許第４１１５４２６号明細書には４０〜８０℃の温度でヘキサメチル燐酸トリアミド（ＨＭＰＴＡ）中でＮａＨ／ＮａＢＨ４の還元系を使用することが記載され、この場合にジメチルモノクロロシランが７１％の収率で生じる。きわめて高い発ガン性（ＨＭＰＴＡ）がこの方法の広い工業的利用を制限している。
【０００７】
ＤＤＳを部分的に水素化するために、水素化カルシウムＣａＨ２および塩化アルミニウムまたは水素化チタンＴｉＨ２および塩化アルミニウムからなる組合せが記載され、これからオートクレーブ中２５０〜３００℃で、ＤＤＳ、ＤＭＭＣＳ、トリメチルクロロシランおよびメチルクロロシランからなる変動する混合物およびガス状副生成物が生じる（Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．２０６（３）２７９−２８６頁（１９８１））。この高温工程の反応時間はきわめて長く、１７〜９０時間である。
【０００８】
Ｈｅｎｇｇｅ等により、トリアルキル塩化スズ／水素化ナトリウムからなる系中で、溶剤としてジエチレングリコールジアルキルエーテルを用いて部分的に水素化された有機珪素−ハロゲン化合物を製造する可能性が記載されている。室温ですでに進行する反応はビピリジルまたはλ３−燐化合物の触媒添加を必要とし、例えばメチルトリクロロシランを使用する場合はメチルシランおよびメチルジクロロシランのほかにメチルクロロシランが５５％の収率で得られる。
【０００９】
ドイツ特許出願公開第４４４２７５３号明細書には、加圧下、１００〜６００℃の温度で気相中で適当なアルキルクロロシランＲ（ ４ −ｐ）ＳｉＣｌｐを水素と接触反応することにより得られる、Ｒ（ ４ −ｎ−ｍ）ＳｉＣｌｎＨｍの種類のアルキル水素クロロシランが記載され、この場合に触媒として、ニッケルおよび／またはルテニウムおよび／またはロジウムおよび／またはパラジウムおよび／または白金の金属がそのままでまたは担体に固定された形で使用される。この方法は、ＤＤＳを使用する場合にジメチルモノクロロシラン、メチルジクロロシランおよびトリメチルクロロシランからなる混合物を生じ、この場合にきわめて低いＤＤＳ転化率（３．９％〜１４．８％）および２７．２〜４０．８％の選択率でジメチルモノクロロシラン４．０％の最大収率が達成される。この理由から、単離可能の量の目的生成物を得る方法は、装置的に費用のかかる循環工程を必要とし、この場合に反応マトリックス中で貫流する際にすでに形成されるＤＭＭＣＳの選択的排出はきわめて困難な取り扱いの問題を有する。
【００１０】
従って、技術水準に対して、経済性、作業安全性および収率の見地から改善された、ジメチルジクロロシランを部分的に水素化する方法を開発するという課題が存在する。
【００１１】
ドイツ特許第４３１３１３０号明細書には、液体の反応媒体中で、水素化マグネシウムを用いて還元することによりシランまたは有機珪素水素化物を製造する方法が記載され、この方法は、以下の特徴の組み合わせを特徴とする。
【００１２】
非発火性水素化マグネシウムの使用、反応媒体として常用のエーテルの使用、機械的エネルギーまたは超音波の作用による、反応中に水素化マグネシウム粒子表面に析出するハロゲン化マグネシウムの連続的除去、この場合に有利な特徴として自触媒作用により製造される水素化マグネシウムを使用する。
【００１３】
脂肪族または脂環式炭化水素のような非極性反応媒体は、この特徴づけられた方法によるシランまたは有機珪素水素化物の製造には適していない（比較例１、ジメチルジクロロシランを還元する試験を参照）。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は、上記の欠点を有しないジメチルモノクロロシランの製造方法を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
意想外にも、非極性反応媒体中で、粉砕エネルギーを作用させてジメチルジクロロシランをＭｇＨ２と反応させ、反応系に適当な量のハロゲン化アルミニウムを添加する場合に、高い分量のジメチルモノクロロシランを有するシラン混合物を生じることが判明した。
【００１６】
有利には、ドイツ特許出願公開第４０３９２７８号明細書により微粒のマグネシウムから水素化により製造される、非発火性の、自触媒作用により製造される水素化マグネシウムを使用し、この場合に触媒として、４００μｍ以下の粒度の水素化マグネシウムを水素化すべきマグネシウムに対して少なくとも１．２重量％の量で添加し、水素化を２５０℃以上の温度および０．５〜５．０ＭＰａの圧力で反応材料を撹拌して実施する。
【００１７】
本発明の方法により、反応成分ＤＤＳおよびＭｇＨ２をモル比１：０．５〜１：１．５で反応させる。有利には１：０．８〜１：１の範囲の化学量論を選択し、これにより一方で高い水素化物濃度により反応が促進されて進行し、他方で反応混合物中の高すぎる固形物含量が回避される。
【００１８】
本発明の方法により、添加される塩化アルミニウムの量は、使用されるジメチルジクロロシランの量に対して１〜３０モル％、有利には５〜１５モル％である。本発明により、ＡｌＣｌ３の下限濃度は５モル％を下回ってはいけない、それというのもそうでなければアルミニウム成分の失活により反応がすでに早い段階で停止し、再び塩で処理しなければならないからである。
【００１９】
反応媒体として、アルカン、シクロアルカン、芳香族化合物およびアルキル芳香族化合物が適している。有利には、不活性の、毒性の問題のない溶剤としてデカリンを使用し、それというのもデカリンの高い沸点（Ｋｐ１９０℃）により反応の実施が広い範囲にわたり行われるからである。
【００２０】
ジメチルジクロロシランの還元は５０〜２００℃の温度で実施し、この場合に揮発性反応生成物の引き続く凝縮により反応に特徴的な温度の経過が得られる。
【００２１】
すべての反応成分を反応開始前に装入することが有利であると判明した。選択的に、ジメチルジクロロシランを、ＭｇＨ２／ＡｌＣｌ３からなる、すでに加熱した反応成分混合物中に滴加する方法を選択する場合に、反応器内壁へのアルミニウム表面の早期の析出が認められる。
【００２２】
水素化物還元から得られるシラン混合物を蒸留により分離することができ、従って費用に応じてジメチルモノクロロシランを任意の純度で単離することができる。
【００２３】
ジメチルモノクロロシランを物質の形で単離することが必ずしも必要でない場合は、例えばシラン混合物の加水分解による後処理を行い、この場合に場合によりシラン混合物に含まれているジメチルジクロロシランをＨＣｌの脱離下に、およびα，ω−ビス−ヒドロキシ−ポリジメチルシロキサンとジメチルモノクロロシランの縮合によりＨＣｌの遊離下にテトラメチルジシロキサンが形成される。ジメチルシランは中性から強酸性までの媒体中で反応せず、従って別々に集めることができる。
【００２４】
【実施例】
例１
（比較例）
ジメチルジクロロシラン１２９ｇ（１．０モル）および水素化マグネシウム２７．７ｇ（１．０モル）（自触媒作用により製造される水素化マグネシウム、水素化物含量９５％）をデカリン３００ｇ中に懸濁させ、５００ｍｌ実験用ボールミル中で約１０００ｒｐｍで粉砕した。
【００２５】
反応混合物を加熱し、還流下で４．５時間保った。
【００２６】
後続した低温冷却トラップ中でガス状反応生成物を集められなかった。
【００２７】
例２
（冷却器のない装置）
ジメチルジクロロシラン１２９ｇ（１．０モル）、水不含の塩化アルミニウム１３．３ｇ（０．１モル）および水素化マグネシウム２２．２ｇ（０．８モル）（自触媒作用により製造される水素化マグネシウム、水素化物含量９５％）をデカリン２５０ｇ中で懸濁させ、５００ｍｌ実験用ボールミル中で約１０００ｒｐｍで粉砕した。
【００２８】
更に絶えず粉砕して迅速に８０℃に加熱し、この場合に後続した冷却トラップ（−７８℃）中に発生するガスの凝縮が認められた。
【００２９】
約１．５時間の反応時間後、凝縮速度のかなりの低下が認められた（凝縮液９５ｍｌ）。
【００３０】
残りのシランを排出するために、更に３０分後および最終温度１２０℃で反応が終了するまで反応温度を高めた。
【００３１】
得られた凝縮液（８４ｇ、９５ｍｌ）は、１Ｈ−ＮＭＲおよび２９Ｓｉ−ＮＭＲ分析によりジメチルシラン３０％およびジメチルジクロロシラン１７％のほかにジメチルモノクロロシラン５３％の組成を有していた。
【００３２】
従ってジメチルモノクロロシラン収率は４７モル％であり、ジメチルジクロロシラン転化率は８９％であった。
【００３３】
例３
ジメチルジクロロシラン１２９ｇ（１．０モル）、水不含の塩化アルミニウム１３．３ｇ（０．１モル）および水素化マグネシウム２２．２ｇ（０．８モル）（自触媒作用により製造される水素化マグネシウム、水素化物含量９５％）をデカリン２５０ｇ中で懸濁させ、５００ｍｌ実験用ボールミル中で約１０００ｒｐｍで粉砕した。
【００３４】
更に絶えず粉砕して迅速に９０℃に加熱し、この場合に後続した冷却トラップ（−７８℃）中で発生するガスの凝縮が認められた。
【００３５】
反応時間約３時間後および最終温度１２０℃で反応が終了した。
【００３６】
得られた凝縮液（７４ｇ、８５ｍｌ）は、１Ｈ−ＮＭＲおよび２９Ｓｉ−ＮＭＲ分析によりジメチルシラン３５％およびジメチルジクロロシラン３％のほかにジメチルモノクロロシラン６２％の組成を有していた。
【００３７】
従ってジメチルモノクロロシラン収率は４９モル％であり、ジメチルジクロロシラン転化率は９２％であった。
【発明の属する技術分野】
本発明は、水素化マグネシウムおよび塩化アルミニウムからなる反応系および有機溶剤中で絶えず粉砕してジメチルジクロロシラン（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２を部分的に水素化することにより得られるジメチルモノクロロシラン（ＣＨ３）２Ｓｉ（Ｈ）Ｃｌの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アルキル水素クロロシランは技術的有機珪素化学における出発物質として大いに注目されている。ヒドロシリル化工程および加水分解工程の組み合わせにより種々の商業的に重要な官能化シリコーンが開示されている。
【０００３】
ジメチルモノクロロシラン（ＤＭＭＣＳ）およびメチルジクロロシランはＲｏｃｈｏｗ合成の副生成物として生じ、主要生成物ジメチルジクロロシラン（ＤＤＳ）から分離することができる（Ｋ．Ｓｃｈｎｕｒｒｂｕｓｃｈ、Ｕｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ Ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、１５巻、Ｕｒｂａｎ ｕｎｄ Ｓｃｈｗａｒｚｅｎｂｅｒｇ−Ｖｅｒｌａｇ、７４８−７６９（１９６４））。しかしながら高いＤＤＳ収率に最適な直接合成は要求される塩化水素シランの供給源としてきわめて制限されてのみ利用可能である。
【０００４】
ジメチルモノクロロシランのほかの製造方法は、直接合成の残留物中に存在するオルガノクロロジシランの触媒による分離から生じる（Ｍ．Ｗｉｃｋ、Ｇ．Ｋｒｅｉｓ、Ｆ．−Ｈ．Ｋｒｅｕｚｅｒ、Ｕｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ Ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、２巻、第４版、Ｖｅｒｌａｇ Ｃｈｅｍｉｅ、４８５−５０８頁（１９８２））。
【０００５】
金属水素化物を用いてＤＤＳをＤＭＭＣＳに変換するいくつかの方法は文献に記載されている。特開平１−１５８９３８号には、３５５〜４７０℃の温度で、ＬｉＣｌ／ＫＣｌ溶融物中で水素化リチウムを用いてＤＤＳを部分的に水素化する方法が記載され、この場合にＤＭＭＣＳ８〜１７％の収率が得られる。エネルギー節約の観点からこの方法は魅力に乏しい。
【０００６】
米国特許第４１１５４２６号明細書には４０〜８０℃の温度でヘキサメチル燐酸トリアミド（ＨＭＰＴＡ）中でＮａＨ／ＮａＢＨ４の還元系を使用することが記載され、この場合にジメチルモノクロロシランが７１％の収率で生じる。きわめて高い発ガン性（ＨＭＰＴＡ）がこの方法の広い工業的利用を制限している。
【０００７】
ＤＤＳを部分的に水素化するために、水素化カルシウムＣａＨ２および塩化アルミニウムまたは水素化チタンＴｉＨ２および塩化アルミニウムからなる組合せが記載され、これからオートクレーブ中２５０〜３００℃で、ＤＤＳ、ＤＭＭＣＳ、トリメチルクロロシランおよびメチルクロロシランからなる変動する混合物およびガス状副生成物が生じる（Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．２０６（３）２７９−２８６頁（１９８１））。この高温工程の反応時間はきわめて長く、１７〜９０時間である。
【０００８】
Ｈｅｎｇｇｅ等により、トリアルキル塩化スズ／水素化ナトリウムからなる系中で、溶剤としてジエチレングリコールジアルキルエーテルを用いて部分的に水素化された有機珪素−ハロゲン化合物を製造する可能性が記載されている。室温ですでに進行する反応はビピリジルまたはλ３−燐化合物の触媒添加を必要とし、例えばメチルトリクロロシランを使用する場合はメチルシランおよびメチルジクロロシランのほかにメチルクロロシランが５５％の収率で得られる。
【０００９】
ドイツ特許出願公開第４４４２７５３号明細書には、加圧下、１００〜６００℃の温度で気相中で適当なアルキルクロロシランＲ（ ４ −ｐ）ＳｉＣｌｐを水素と接触反応することにより得られる、Ｒ（ ４ −ｎ−ｍ）ＳｉＣｌｎＨｍの種類のアルキル水素クロロシランが記載され、この場合に触媒として、ニッケルおよび／またはルテニウムおよび／またはロジウムおよび／またはパラジウムおよび／または白金の金属がそのままでまたは担体に固定された形で使用される。この方法は、ＤＤＳを使用する場合にジメチルモノクロロシラン、メチルジクロロシランおよびトリメチルクロロシランからなる混合物を生じ、この場合にきわめて低いＤＤＳ転化率（３．９％〜１４．８％）および２７．２〜４０．８％の選択率でジメチルモノクロロシラン４．０％の最大収率が達成される。この理由から、単離可能の量の目的生成物を得る方法は、装置的に費用のかかる循環工程を必要とし、この場合に反応マトリックス中で貫流する際にすでに形成されるＤＭＭＣＳの選択的排出はきわめて困難な取り扱いの問題を有する。
【００１０】
従って、技術水準に対して、経済性、作業安全性および収率の見地から改善された、ジメチルジクロロシランを部分的に水素化する方法を開発するという課題が存在する。
【００１１】
ドイツ特許第４３１３１３０号明細書には、液体の反応媒体中で、水素化マグネシウムを用いて還元することによりシランまたは有機珪素水素化物を製造する方法が記載され、この方法は、以下の特徴の組み合わせを特徴とする。
【００１２】
非発火性水素化マグネシウムの使用、反応媒体として常用のエーテルの使用、機械的エネルギーまたは超音波の作用による、反応中に水素化マグネシウム粒子表面に析出するハロゲン化マグネシウムの連続的除去、この場合に有利な特徴として自触媒作用により製造される水素化マグネシウムを使用する。
【００１３】
脂肪族または脂環式炭化水素のような非極性反応媒体は、この特徴づけられた方法によるシランまたは有機珪素水素化物の製造には適していない（比較例１、ジメチルジクロロシランを還元する試験を参照）。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は、上記の欠点を有しないジメチルモノクロロシランの製造方法を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
意想外にも、非極性反応媒体中で、粉砕エネルギーを作用させてジメチルジクロロシランをＭｇＨ２と反応させ、反応系に適当な量のハロゲン化アルミニウムを添加する場合に、高い分量のジメチルモノクロロシランを有するシラン混合物を生じることが判明した。
【００１６】
有利には、ドイツ特許出願公開第４０３９２７８号明細書により微粒のマグネシウムから水素化により製造される、非発火性の、自触媒作用により製造される水素化マグネシウムを使用し、この場合に触媒として、４００μｍ以下の粒度の水素化マグネシウムを水素化すべきマグネシウムに対して少なくとも１．２重量％の量で添加し、水素化を２５０℃以上の温度および０．５〜５．０ＭＰａの圧力で反応材料を撹拌して実施する。
【００１７】
本発明の方法により、反応成分ＤＤＳおよびＭｇＨ２をモル比１：０．５〜１：１．５で反応させる。有利には１：０．８〜１：１の範囲の化学量論を選択し、これにより一方で高い水素化物濃度により反応が促進されて進行し、他方で反応混合物中の高すぎる固形物含量が回避される。
【００１８】
本発明の方法により、添加される塩化アルミニウムの量は、使用されるジメチルジクロロシランの量に対して１〜３０モル％、有利には５〜１５モル％である。本発明により、ＡｌＣｌ３の下限濃度は５モル％を下回ってはいけない、それというのもそうでなければアルミニウム成分の失活により反応がすでに早い段階で停止し、再び塩で処理しなければならないからである。
【００１９】
反応媒体として、アルカン、シクロアルカン、芳香族化合物およびアルキル芳香族化合物が適している。有利には、不活性の、毒性の問題のない溶剤としてデカリンを使用し、それというのもデカリンの高い沸点（Ｋｐ１９０℃）により反応の実施が広い範囲にわたり行われるからである。
【００２０】
ジメチルジクロロシランの還元は５０〜２００℃の温度で実施し、この場合に揮発性反応生成物の引き続く凝縮により反応に特徴的な温度の経過が得られる。
【００２１】
すべての反応成分を反応開始前に装入することが有利であると判明した。選択的に、ジメチルジクロロシランを、ＭｇＨ２／ＡｌＣｌ３からなる、すでに加熱した反応成分混合物中に滴加する方法を選択する場合に、反応器内壁へのアルミニウム表面の早期の析出が認められる。
【００２２】
水素化物還元から得られるシラン混合物を蒸留により分離することができ、従って費用に応じてジメチルモノクロロシランを任意の純度で単離することができる。
【００２３】
ジメチルモノクロロシランを物質の形で単離することが必ずしも必要でない場合は、例えばシラン混合物の加水分解による後処理を行い、この場合に場合によりシラン混合物に含まれているジメチルジクロロシランをＨＣｌの脱離下に、およびα，ω−ビス−ヒドロキシ−ポリジメチルシロキサンとジメチルモノクロロシランの縮合によりＨＣｌの遊離下にテトラメチルジシロキサンが形成される。ジメチルシランは中性から強酸性までの媒体中で反応せず、従って別々に集めることができる。
【００２４】
【実施例】
例１
（比較例）
ジメチルジクロロシラン１２９ｇ（１．０モル）および水素化マグネシウム２７．７ｇ（１．０モル）（自触媒作用により製造される水素化マグネシウム、水素化物含量９５％）をデカリン３００ｇ中に懸濁させ、５００ｍｌ実験用ボールミル中で約１０００ｒｐｍで粉砕した。
【００２５】
反応混合物を加熱し、還流下で４．５時間保った。
【００２６】
後続した低温冷却トラップ中でガス状反応生成物を集められなかった。
【００２７】
例２
（冷却器のない装置）
ジメチルジクロロシラン１２９ｇ（１．０モル）、水不含の塩化アルミニウム１３．３ｇ（０．１モル）および水素化マグネシウム２２．２ｇ（０．８モル）（自触媒作用により製造される水素化マグネシウム、水素化物含量９５％）をデカリン２５０ｇ中で懸濁させ、５００ｍｌ実験用ボールミル中で約１０００ｒｐｍで粉砕した。
【００２８】
更に絶えず粉砕して迅速に８０℃に加熱し、この場合に後続した冷却トラップ（−７８℃）中に発生するガスの凝縮が認められた。
【００２９】
約１．５時間の反応時間後、凝縮速度のかなりの低下が認められた（凝縮液９５ｍｌ）。
【００３０】
残りのシランを排出するために、更に３０分後および最終温度１２０℃で反応が終了するまで反応温度を高めた。
【００３１】
得られた凝縮液（８４ｇ、９５ｍｌ）は、１Ｈ−ＮＭＲおよび２９Ｓｉ−ＮＭＲ分析によりジメチルシラン３０％およびジメチルジクロロシラン１７％のほかにジメチルモノクロロシラン５３％の組成を有していた。
【００３２】
従ってジメチルモノクロロシラン収率は４７モル％であり、ジメチルジクロロシラン転化率は８９％であった。
【００３３】
例３
ジメチルジクロロシラン１２９ｇ（１．０モル）、水不含の塩化アルミニウム１３．３ｇ（０．１モル）および水素化マグネシウム２２．２ｇ（０．８モル）（自触媒作用により製造される水素化マグネシウム、水素化物含量９５％）をデカリン２５０ｇ中で懸濁させ、５００ｍｌ実験用ボールミル中で約１０００ｒｐｍで粉砕した。
【００３４】
更に絶えず粉砕して迅速に９０℃に加熱し、この場合に後続した冷却トラップ（−７８℃）中で発生するガスの凝縮が認められた。
【００３５】
反応時間約３時間後および最終温度１２０℃で反応が終了した。
【００３６】
得られた凝縮液（７４ｇ、８５ｍｌ）は、１Ｈ−ＮＭＲおよび２９Ｓｉ−ＮＭＲ分析によりジメチルシラン３５％およびジメチルジクロロシラン３％のほかにジメチルモノクロロシラン６２％の組成を有していた。
【００３７】
従ってジメチルモノクロロシラン収率は４９モル％であり、ジメチルジクロロシラン転化率は９２％であった。
Claims (6)
- 非極性有機溶剤中で、絶えず粉砕して水素化マグネシウムおよび塩化アルミニウムを用いてジメチルジクロロシラン（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２を部分的に水素化することによりジメチルモノクロロシラン（ＣＨ３）２Ｓｉ（Ｈ）Ｃｌを製造する方法。
- 使用される水素化マグネシウムが非発火性の、自触媒作用により製造される水素化マグネシウムである請求項１記載の方法。
- 塩化アルミニウムの量が使用されるジメチルジクロロシランの量に対して、１〜３０モル％である請求項１または２記載の方法。
- 有機溶剤として、アルカン、シクロアルカン、芳香族化合物およびアルキル芳香族化合物を使用する請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
- 有機溶剤としてデカリンを使用する請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
- ジメチルジクロロシランの反応を５０〜２００℃の温度で実施する請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19720890 | 1997-05-17 | ||
| DE19720890.8 | 1997-05-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10316692A JPH10316692A (ja) | 1998-12-02 |
| JP3615655B2 true JP3615655B2 (ja) | 2005-02-02 |
Family
ID=7829876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13179698A Expired - Fee Related JP3615655B2 (ja) | 1997-05-17 | 1998-05-14 | ジメチルモノクロロシランの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5856548A (ja) |
| EP (1) | EP0878476B1 (ja) |
| JP (1) | JP3615655B2 (ja) |
| AT (1) | ATE244251T1 (ja) |
| CA (1) | CA2237275C (ja) |
| DE (1) | DE59808869D1 (ja) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2787791B1 (fr) * | 1998-12-28 | 2001-05-11 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation d'alkylhydrogenohalosilanes (ahhs) par hydrogenation catalytique d'alkylhalosilanes (ahs) en presence d'un catalyseur metallique |
| DE102010001350A1 (de) | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Evonik Goldschmidt GmbH, 45127 | Neuartige lineare Polydimethylsiloxan-Polyether-Copolymere mit Amino- und/oder quaternären Ammoniumgruppen und deren Verwendung |
| DE102011076019A1 (de) | 2011-05-18 | 2012-11-22 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Alkoxylierungsprodukte und Verfahren zu ihrer Herstellung mittels DMC-Katalysatoren |
| DE102014209408A1 (de) | 2014-05-19 | 2015-11-19 | Evonik Degussa Gmbh | Ethoxylatherstellung unter Verwendung hoch aktiver Doppelmetallcyanid-Katalysatoren |
| EP3020749B1 (de) | 2014-11-12 | 2020-09-30 | Evonik Operations GmbH | Verfahren zur herstellung von platin enthaltenden zusammensetzungen |
| PL3168273T3 (pl) | 2015-11-11 | 2018-10-31 | Evonik Degussa Gmbh | Polimery utwardzalne |
| PL3321304T3 (pl) | 2016-11-15 | 2019-11-29 | Evonik Degussa Gmbh | Mieszaniny cyklicznych, rozgałęzionych siloksanów typu D/T i ich dalszych produktów |
| EP3415548B1 (de) | 2017-06-13 | 2020-03-25 | Evonik Operations GmbH | Verfahren zur herstellung sic-verknüpfter polyethersiloxane |
| EP3415547B1 (de) | 2017-06-13 | 2020-03-25 | Evonik Operations GmbH | Verfahren zur herstellung sic-verknüpfter polyethersiloxane |
| EP3438158B1 (de) | 2017-08-01 | 2020-11-25 | Evonik Operations GmbH | Herstellung von sioc-verknüpften polyethersiloxanen |
| CN111132985B (zh) | 2017-09-20 | 2024-01-02 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 用于制造甲基氯氢单硅烷的集成工艺 |
| EP3853235A1 (en) | 2017-09-20 | 2021-07-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Process for the production of organohydridochlorosilanes |
| JP2020534325A (ja) | 2017-09-20 | 2020-11-26 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッドＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ． | オルガノヒドリドクロロシランの製造方法 |
| EP3467006B1 (de) | 2017-10-09 | 2022-11-30 | Evonik Operations GmbH | Mischungen zyklischer-verzweigter siloxane vom d/t-typ und deren folgeprodukte |
| EP3587348B1 (en) * | 2018-06-29 | 2021-08-11 | Evonik Operations GmbH | Partially hydrogenated chlorosilanes and methods for preparing same by selective hydrogenation |
| EP3611214A1 (de) | 2018-08-15 | 2020-02-19 | Evonik Operations GmbH | Sioc-verknüpfte, lineare polydimethylsiloxan-polyoxyalkylen-blockcopolymere |
| ES2970332T3 (es) | 2018-12-04 | 2024-05-28 | Evonik Operations Gmbh | Siloxanos reactivos |
| EP3744763B1 (de) | 2019-05-28 | 2024-08-14 | Evonik Operations GmbH | Massgeschneiderte sioc basierte polyethersiloxane |
| EP3885096B1 (de) | 2020-03-27 | 2024-02-14 | Evonik Operations GmbH | Stoffliche wiederverwertung silikonisierter flächengebilde |
| US11732092B2 (en) | 2020-10-19 | 2023-08-22 | Evonik Operations Gmbh | Upcycling process for processing silicone wastes |
| US12060460B2 (en) | 2021-04-29 | 2024-08-13 | Evonik Operations Gmbh | Process for producing endcapped, liquid siloxanes from silicone wastes |
| CN113651844B (zh) * | 2021-08-20 | 2023-09-12 | 唐山偶联硅业有限公司 | 连续法制备二甲基氢氯硅烷的工艺 |
| WO2024110270A1 (en) | 2022-11-22 | 2024-05-30 | Momentive Performance Materials Gmbh | Process for the production of hydridosilanes |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5395922A (en) * | 1977-02-02 | 1978-08-22 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | Preparation of dialkylchlorosilane |
| US5015624A (en) * | 1990-04-30 | 1991-05-14 | Dow Corning Corporation | Process for reduction of organohalosilanes |
| DE4239246C1 (de) * | 1992-11-21 | 1993-12-16 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen aufweisenden Organopolysiloxanen |
| DE4313130C1 (de) * | 1993-04-22 | 1994-05-26 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von Silanen bzw. Organosiliciumhydriden durch Reduktion der entsprechenden Siliciumhalogenide bzw. Organosiliciumhalogenide |
| JP2864973B2 (ja) * | 1993-11-05 | 1999-03-08 | 信越化学工業株式会社 | ジメチルクロロシランとトリオルガノクロロシランの併産方法 |
| DE4442753C2 (de) * | 1994-12-01 | 2002-04-25 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Alkylhydrogenchlorsilane |
-
1998
- 1998-04-29 US US09/069,634 patent/US5856548A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-05-02 EP EP98108033A patent/EP0878476B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-05-02 AT AT98108033T patent/ATE244251T1/de not_active IP Right Cessation
- 1998-05-02 DE DE59808869T patent/DE59808869D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-05-11 CA CA002237275A patent/CA2237275C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-05-14 JP JP13179698A patent/JP3615655B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10316692A (ja) | 1998-12-02 |
| EP0878476A1 (de) | 1998-11-18 |
| US5856548A (en) | 1999-01-05 |
| CA2237275C (en) | 2002-05-07 |
| ATE244251T1 (de) | 2003-07-15 |
| DE59808869D1 (de) | 2003-08-07 |
| EP0878476B1 (de) | 2003-07-02 |
| CA2237275A1 (en) | 1998-11-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040609 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040617 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040907 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041001 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041101 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| S533 | Written request for registration of change of name |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101112 Year of fee payment: 6 |
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