JP2009170800A - 気化原料供給装置、成膜装置及び気化原料供給方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】気化室内部の圧力を調整する、調整バルブVT1、若しくは流量調整部M3、M4が設けられており、気化室内部の圧力が許容範囲から外れた場合、調整バルブVT1、若しくは流量調整部M3、M4により、処理ガス、溶剤、及びキャリアガスの流量制御を行って気化室内部の圧力を許容範囲の中に入るように調整できる。従って、成膜工程を停止させることなく気化室内部の圧力が低下した状態を解消してノズル50の先端の閉塞を防止し、スプレー異常、気化効率の悪化、残渣物の増加等を抑えパーティクル汚染を低減することができ、液体原料の気化を安定して行い、成膜工程を中断せずに安定した成膜プロセスを行う。
【選択図】図1
Description
液体原料を気化するための気化室を形成する気化器本体と、
液体原料をキャリアガスにより霧化して、前記気化室内に供給するノズルと、
前記霧化された液体原料を気化するために前記気化室内を加熱する加熱手段と、
前記気化室内で気化された液体原料を消費装置に供給するための気体供給路と、
前記気化室内の圧力を検出可能な圧力検出部と、
前記気体供給路に設けられ、前記気化室内の圧力を調整するための圧力調整部と、
前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記圧力調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴としている。
尚、「前記気化室の圧力を検出可能」とは、気化室内の圧力を検出することに限られず、気体供給路における圧力調整部の上流側の空間の圧力を検出する場合を含む。
液体原料供給路に分岐して接続され、液体原料に溶剤を供給する溶剤供給路と、
前記液体原料を気化するための気化室を形成する気化器本体と、
前記液体原料を当該キャリアガスにより霧化して、前記気化室内に供給するノズルと、
記霧化された液体原料を気化するために前記気化室内を加熱する加熱手段と、
前記気化室内で気化された液体原料を消費装置に供給するための気体供給路と、
前記気化室内の圧力を検出可能な圧力検出部と、
前記溶剤供給路に設けられ、前記溶剤の流量を調整するための流量調整部と、
前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記流量調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴としている。
液体原料を気化するための気化室を形成する気化器本体と、
液体原料をキャリアガスにより霧化して、前記気化室内に供給するノズルと、
前記霧化された液体原料を気化するために前記気化室内を加熱する加熱手段と、
前記気化室内で、気化された液体原料を消費装置に供給するための気体供給路と、
前記気化室内の圧力を検出可能な圧力検出部と、
前記キャリアガス流路に設けられ、前記キャリアガスの流量を調整するための流量調整部と、
前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記流量調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴としている。
前記液体原料を気化して処理ガスを得る請求項1〜5の何れか一項に記載の気化原料供給装置と、
この気化原料供給装置の下流に設けられ、前記気化原料供給装置から送られた気化原料を用いて基板に成膜処理を行う成膜処理部と、を備えたことを特徴としている。
ノズルから、液体原料をキャリアガスにより霧化して気化室内に供給する工程と、
前記気化室内を加熱手段により加熱し、霧化された液体原料を気化する工程と、
気化された液体原料を気体供給路から消費装置に供給する工程と、
圧力検出部によって前記気化室内部の圧力を監視し、前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記気体供給路に設けられた圧力調整部を制御する工程と、を含むことを特徴としている。
ノズルから、液体原料をキャリアガスにより霧化して気化室内に供給する工程と、
前記気化室内を加熱手段により加熱し、霧化された液体原料を気化する工程と、
気化された液体原料を気体供給路から消費装置に供給する工程と、
圧力検出部によって前記気化室内部の圧力を監視し、前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように、液体原料供給路から分岐された溶剤供給路に設けられた流量調整部により溶剤の流量を制御する工程と、を含むことを特徴としている。
ノズルから、液体原料をキャリアガスにより霧化して気化室内に供給する工程と、
前記気化室内を加熱手段により加熱し、霧化された液体原料を気化する工程と、
気化された液体原料を気体供給路から消費装置に供給する工程と、
圧力検出部によって前記気化室内部の圧力を監視し、前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように、キャリアガス供給路に設けられた流量調整部によりキャリアガスの流量を制御する工程と、を含むことを特徴としている。
図1は、本実施形態の成膜装置1の概略を示す構成図であり、図2は、本実施形態の成膜装置1におけるガス供給系(気化原料供給装置)20の気化装置200とその周辺を示す図である。図1に示すように、本実施形態の成膜装置1は、例えば半導体ウェハ(以下、ウェハという)等の基板に対して所定の成膜処理を行うための成膜処理部10と、この成膜処理部10に所定の処理ガスを供給するためのガス供給系20とを備えている。
図4は、本発明の第2の実施形態における成膜装置101の概略を示す構成図である。第2の実施形態の成膜装置101は、第1の実施形態の処理ガス供給管30に配設されていた調整バルブVT1を用いて圧力制御する代わりに、溶剤供給管22cを介して液体原料供給管23に溶剤を供給することとし、且つ当該溶剤供給管22cに配設された流量調整部(圧力調整部)M3を用いて溶剤の流量調整を行うことにより、第1の実施形態の成膜装置1と同等の作用・効果を奏するものである。そして、成膜装置101は、通常の処理を行う際には、第1の実施形態の成膜装置1と同様の動きをする。そのため、第2の実施形態の説明では、第1の実施形態と重複する部材については同一番号を付し、第1の実施形態と重複する点については説明を省略する。
図5は、本発明の第3の実施形態における成膜装置1001の概略を示す構成図である。第3の実施形態の成膜装置1001は、第1の実施形態の処理ガス供給管30に配設されていた調整バルブVT1を用いて圧力制御する代わりに、キャリアガス供給管26を介して供給されるキャリアガスの供給量を気化室内部の圧力が許容範囲の間にある間は抑制し、且つ当該キャリアガス供給管26に配設された流量調整部(圧力調整部)M4を用いてキャリアガスの流量調整を行うことにより、第1の実施形態の成膜装置1と同等の作用・効果を奏するものである。そして、成膜装置1001は、通常の処理を行う際には、第1の実施形態の成膜装置1と同様の動きをする。そのため、第2の実施形態の説明では、第1の実施形態と重複する部材については同一番号を付し、第1の実施形態と重複する点については説明を省略する。
10 成膜処理部
11 反応管
12 排気管
20 ガス供給系(気化原料供給装置)
21 貯留部
21a 第1貯留槽
21b 第2貯留槽
21c 第3貯留槽
22a 第1原料供給管
22b 第2原料供給間
22c 溶剤供給管
23 集合配管(液体原料供給管)
24 接続配管
25 加圧気体供給管
26 キャリアガス供給管(キャリアガス流路)
27 ミスト排出管
28 排出管
30 処理ガス供給管(気体供給路)
40 冷却ブロック
50 ノズル
60 キャリアガス供給部
70 圧力検出部
80 排出ポンプ
90、190、1090 制御部
200 気化装置、
201 本体(気化器本体)
202 取出口
203 ドレインポート
204 加熱手段
205 下部熱交換部
206 温度検出部
207 電源部
V1〜V16 バルブ
VT1 調整バルブ
M1〜M4 流量調整部
Claims (11)
- 液体原料を気化するための気化室を形成する気化器本体と、
液体原料をキャリアガスにより霧化して、前記気化室内に供給するノズルと、
前記霧化された液体原料を気化するために前記気化室内を加熱する加熱手段と、
前記気化室内で気化された液体原料を消費装置に供給するための気体供給路と、
前記気化室内の圧力を検出可能な圧力検出部と、
前記気体供給路に設けられ、前記気化室内の圧力を調整するための圧力調整部と、
前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記圧力調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする気化原料供給装置。 - 液体原料供給路に分岐して接続され、液体原料に溶剤を供給する溶剤供給路と、
前記液体原料を気化するための気化室を形成する気化器本体と、
前記液体原料を当該キャリアガスにより霧化して、前記気化室内に供給するノズルと、 前記霧化された液体原料を気化するために前記気化室内を加熱する加熱手段と、
前記気化室内で気化された液体原料を消費装置に供給するための気体供給路と、
前記気化室内の圧力を検出可能な圧力検出部と、
前記溶剤供給路に設けられ、前記溶剤の流量を調整するための流量調整部と、
前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記流量調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする気化原料供給装置。 - 液体原料を気化するための気化室を形成する気化器本体と、
液体原料をキャリアガスにより霧化して、前記気化室内に供給するノズルと、
前記霧化された液体原料を気化するために前記気化室内を加熱する加熱手段と、
前記気化室内で、気化された液体原料を消費装置に供給するための気体供給路と、
前記気化室内の圧力を検出可能な圧力検出部と、
前記キャリアガス流路に設けられ、前記キャリアガスの流量を調整するための流量調整部と、
前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記流量調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする気化原料供給装置。 - 前記設定圧力は、前記液体原料の気化が不安定であるため圧力検出値がハンチングを起こす圧力よりも高い圧力であることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の気化原料供給装置。
- 前記液体原料は、固体材料を溶剤に溶解したものであることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の気化原料供給装置。
- 前記液体原料を気化して処理ガスを得る請求項1〜5の何れか一項に記載の気化原料供給装置と、
この気化原料供給装置の下流に設けられ、前記気化原料供給装置から送られた気化原料を用いて基板に成膜処理を行う成膜処理部と、を備えたことを特徴とする成膜装置。 - ノズルから、液体原料をキャリアガスにより霧化して気化室内に供給する工程と、
前記気化室内を加熱手段により加熱し、霧化された液体原料を気化する工程と、
気化された液体原料を気体供給路から消費装置に供給する工程と、
圧力検出部によって前記気化室内部の圧力を監視し、前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように前記気体供給路に設けられた圧力調整部を制御する工程と、を含むことを特徴とする気化原料供給方法。 - ノズルから、液体原料をキャリアガスにより霧化して気化室内に供給する工程と、
前記気化室内を加熱手段により加熱し、霧化された液体原料を気化する工程と、
気化された液体原料を気体供給路から消費装置に供給する工程と、
圧力検出部によって前記気化室内部の圧力を監視し、前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように、液体原料供給路から分岐された溶剤供給路に設けられた流量調整部により溶剤の流量を制御する工程と、を含むことを特徴とする気化原料供給方法。 - ノズルから、液体原料をキャリアガスにより霧化して気化室内に供給する工程と、
前記気化室内を加熱手段により加熱し、霧化された液体原料を気化する工程と、
気化された液体原料を気体供給路から消費装置に供給する工程と、
圧力検出部によって前記気化室内部の圧力を監視し、前記圧力検出部の圧力検出値が予め設定された設定圧力よりも低くなったときに、液体原料が気化できる圧力範囲内において、前記気化室内の圧力を高くするように、キャリアガス供給路に設けられた流量調整部によりキャリアガスの流量を制御する工程と、を含むことを特徴とする気化原料供給方法。 - 前記設定圧力は、前記液体原料の気化が不安定であるため圧力検出値がハンチングを起こす圧力よりも高い圧力であることを特徴とする請求項7〜9の何れか一項に記載の気化原料供給方法。
- 前記液体原料は、固体材料を溶剤に溶解したものであることを特徴とする請求項7〜10の何れか一項に記載の気化原料供給方法。
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