DE3771737D1 - Lichtempfindliche zusammensetzung. - Google Patents

Lichtempfindliche zusammensetzung.

Info

Publication number
DE3771737D1
DE3771737D1 DE8787100940T DE3771737T DE3771737D1 DE 3771737 D1 DE3771737 D1 DE 3771737D1 DE 8787100940 T DE8787100940 T DE 8787100940T DE 3771737 T DE3771737 T DE 3771737T DE 3771737 D1 DE3771737 D1 DE 3771737D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
light sensitive
sensitive composition
composition
light
sensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE8787100940T
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Nishioka
Masayuki Kamei
Toshihiko Umaba
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of DE3771737D1 publication Critical patent/DE3771737D1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/108—Polyolefin or halogen containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
DE8787100940T 1986-01-23 1987-01-23 Lichtempfindliche zusammensetzung. Expired - Lifetime DE3771737D1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61012804A JPH083630B2 (ja) 1986-01-23 1986-01-23 感光性組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3771737D1 true DE3771737D1 (de) 1991-09-05

Family

ID=11815576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8787100940T Expired - Lifetime DE3771737D1 (de) 1986-01-23 1987-01-23 Lichtempfindliche zusammensetzung.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4822713A (de)
EP (1) EP0230995B1 (de)
JP (1) JPH083630B2 (de)
DE (1) DE3771737D1 (de)

Families Citing this family (250)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06105351B2 (ja) * 1986-03-27 1994-12-21 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH06105350B2 (ja) * 1987-07-13 1994-12-21 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用感光性組成物
JP2779936B2 (ja) * 1988-06-13 1998-07-23 コニカ株式会社 感光性平版印刷版
DE3903736A1 (de) * 1989-02-09 1990-08-23 Bayer Ag Mikrostrukturierung von polymer-metallverbundschichten
US5279922A (en) * 1989-08-07 1994-01-18 Konica Corporation Light-sensitive coating liquid
JPH03170931A (ja) * 1989-08-07 1991-07-24 Konica Corp 感光性塗布液
DE3938788A1 (de) * 1989-11-23 1991-05-29 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform
US5279917A (en) * 1991-05-09 1994-01-18 Konica Corporation Light-sensitive composition comprising a fluorine copolymer surfactant
JP2879390B2 (ja) * 1992-04-03 1999-04-05 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
GB9225724D0 (en) 1992-12-09 1993-02-03 Minnesota Mining & Mfg Transfer imaging elements
US6461787B2 (en) 1993-12-02 2002-10-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Transfer imaging elements
JP3290316B2 (ja) 1994-11-18 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US5853947A (en) * 1995-12-21 1998-12-29 Clariant Finance (Bvi) Limited Quinonediazide positive photoresist utilizing mixed solvent consisting essentially of 3-methyl-3-methoxy butanol and propylene glycol alkyl ether acetate
DE69738464T2 (de) * 1996-11-14 2008-05-21 Fujifilm Corp. Photoempfindliche Zusammensetzung
DE69941227D1 (de) 1998-04-06 2009-09-17 Fujifilm Corp Photoempfindliche Harzzusammensetzung
JP2000098576A (ja) 1998-09-21 2000-04-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置
DE60037951T2 (de) 1999-05-21 2009-02-05 Fujifilm Corp. Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
JP4458389B2 (ja) 2000-05-01 2010-04-28 コダック株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP2001337460A (ja) 2000-03-21 2001-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
US6511790B2 (en) 2000-08-25 2003-01-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
JP2002072474A (ja) 2000-08-29 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
EP2036721B1 (de) 2000-11-30 2011-02-09 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer
EP1235106B1 (de) 2001-02-08 2011-12-07 FUJIFILM Corporation Vorläufer für eine lithographische Druckplatte
JP2002296774A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
ATE342800T1 (de) 2001-04-09 2006-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd Flachdruckplattenvorläufer
DE60202240T2 (de) 2001-05-21 2005-12-15 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Vorrichtung zur Durchführung biochemischer Analysen und Verfahren zu ihrer Herstellung
US7192681B2 (en) 2001-07-05 2007-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
EP1275498A3 (de) 2001-07-09 2005-05-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Flachdruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
JP4141120B2 (ja) * 2001-08-16 2008-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP4216494B2 (ja) 2001-09-21 2009-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1333285B1 (de) 2002-01-31 2005-03-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Vorrichtung zur Durchführung biochemischer Analysen und Verfahren zu ihrer Herstellung
KR100969209B1 (ko) 2002-01-31 2010-07-09 후지필름 가부시키가이샤 생화학분석용 유니트의 제조방법
US7105270B2 (en) * 2002-01-31 2006-09-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Fluoroaliphatic group-containing copolymer
US6958206B2 (en) 2002-02-08 2005-10-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material and lithographic printing plate precursor
US7521168B2 (en) 2002-02-13 2009-04-21 Fujifilm Corporation Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
JP4068892B2 (ja) * 2002-05-20 2008-03-26 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US6939662B2 (en) 2002-05-31 2005-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-working resist composition
JP4054237B2 (ja) 2002-09-10 2008-02-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7081330B2 (en) 2002-09-20 2006-07-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of making lithographic printing plate
DE602004021525D1 (de) 2003-03-26 2009-07-30 Fujifilm Corp Flachdruckverfahren und vorsensibilisierte Platte
JP2005059446A (ja) 2003-08-15 2005-03-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2005096201A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4612999B2 (ja) 2003-10-08 2011-01-12 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP4448705B2 (ja) 2004-02-05 2010-04-14 富士フイルム株式会社 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
US20070144384A1 (en) 2004-05-19 2007-06-28 Fuji Photo Film Co., Ltd Image recording method
EP2618215B1 (de) 2004-05-31 2017-07-05 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte
JP2006021396A (ja) 2004-07-07 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4551704B2 (ja) 2004-07-08 2010-09-29 富士フイルム株式会社 液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US7146909B2 (en) 2004-07-20 2006-12-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US20060032390A1 (en) 2004-07-30 2006-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4621451B2 (ja) 2004-08-11 2011-01-26 富士フイルム株式会社 液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4524154B2 (ja) 2004-08-18 2010-08-11 富士フイルム株式会社 化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2006058430A (ja) 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
DE602005005403T2 (de) 2004-08-24 2009-04-23 Fujifilm Corp. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP2006062188A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
EP1637927A1 (de) 2004-09-02 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitende Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP4469692B2 (ja) 2004-09-14 2010-05-26 富士フイルム株式会社 感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
JP4474256B2 (ja) 2004-09-30 2010-06-02 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4452632B2 (ja) 2005-01-24 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
TWI530759B (zh) 2005-01-24 2016-04-21 富士軟片股份有限公司 適用於浸漬曝光之正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法
US7910286B2 (en) 2005-01-26 2011-03-22 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
JP4562537B2 (ja) 2005-01-28 2010-10-13 富士フイルム株式会社 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
JP4439409B2 (ja) 2005-02-02 2010-03-24 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7858291B2 (en) 2005-02-28 2010-12-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method for preparation of lithographic printing plate precursor, and lithographic printing method
EP1698937B1 (de) 2005-03-04 2015-12-23 FUJIFILM Corporation Positiv arbeitende Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung
US7960087B2 (en) 2005-03-11 2011-06-14 Fujifilm Corporation Positive photosensitive composition and pattern-forming method using the same
JP4579019B2 (ja) 2005-03-17 2010-11-10 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法
JP2006274200A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物、並びに、これを用いた画像形成方法および記録物
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP1720072B1 (de) 2005-05-01 2019-06-05 Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. Zusammensetzungen und Verfahren für Immersionslithografie
JP4724465B2 (ja) 2005-05-23 2011-07-13 富士フイルム株式会社 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4861767B2 (ja) 2005-07-26 2012-01-25 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
JP4580841B2 (ja) 2005-08-16 2010-11-17 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
JP4695941B2 (ja) 2005-08-19 2011-06-08 富士フイルム株式会社 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
TWI403843B (zh) 2005-09-13 2013-08-01 Fujifilm Corp 正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法
US20070098920A1 (en) * 2005-09-30 2007-05-03 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate and liquid crystal display
TWI443461B (zh) 2005-12-09 2014-07-01 Fujifilm Corp 正型光阻組成物、用於正型光阻組成物之樹脂、用於合成該樹脂之化合物及使用該正型光阻組成物之圖案形成方法
WO2007136005A1 (ja) 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corporation 被乾燥物の乾燥方法及び装置
JP4911456B2 (ja) 2006-11-21 2012-04-04 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
JP4554665B2 (ja) 2006-12-25 2010-09-29 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
US8771924B2 (en) 2006-12-26 2014-07-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4945432B2 (ja) 2006-12-28 2012-06-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2447780B1 (de) 2007-01-17 2013-08-28 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
JP4881756B2 (ja) 2007-02-06 2012-02-22 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
JP4905786B2 (ja) 2007-02-14 2012-03-28 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
EP1962139A1 (de) 2007-02-23 2008-08-27 FUJIFILM Corporation Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit
EP1970196A3 (de) 2007-03-13 2010-01-27 FUJIFILM Corporation Hydrophiles Element und Herstellungsverfahren dafür
ATE471812T1 (de) 2007-03-23 2010-07-15 Fujifilm Corp Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit
JP5162290B2 (ja) 2007-03-23 2013-03-13 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US8088566B2 (en) 2007-03-26 2012-01-03 Fujifilm Corporation Surface-treating agent for pattern formation and pattern-forming method using the surface-treating agent
US7592118B2 (en) 2007-03-27 2009-09-22 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern forming method using the same
US7635554B2 (en) 2007-03-28 2009-12-22 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern forming method
EP1975714A1 (de) 2007-03-28 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung
JP2008238711A (ja) 2007-03-28 2008-10-09 Fujifilm Corp 親水性部材及び下塗り組成物
US8182975B2 (en) 2007-03-28 2012-05-22 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern forming method using the same
EP1974914B1 (de) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
EP1975710B1 (de) 2007-03-30 2013-10-23 FUJIFILM Corporation Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers
JP5039622B2 (ja) 2007-03-30 2012-10-03 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
EP1975706A3 (de) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer
JP4982228B2 (ja) 2007-03-30 2012-07-25 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP4562784B2 (ja) 2007-04-13 2010-10-13 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液
EP1980911A3 (de) 2007-04-13 2009-06-24 FUJIFILM Corporation Strukturformungsverfahren, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Harzzusammensetzung, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende negative Entwicklungslösung und in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Spüllösung
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP4617337B2 (ja) 2007-06-12 2011-01-26 富士フイルム株式会社 パターン形成方法
EP2159641A1 (de) 2007-06-15 2010-03-03 Fujifilm Corporation Oberflächenbehandlungsmittel zur strukturformung und strukturformungsverfahren unter verwendung des behandlungsmittels
JP2008311474A (ja) 2007-06-15 2008-12-25 Fujifilm Corp パターン形成方法
EP2006738B1 (de) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer
US8426102B2 (en) 2007-06-22 2013-04-23 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
DE602008002963D1 (de) 2007-07-02 2010-11-25 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren damit
US8088550B2 (en) 2007-07-30 2012-01-03 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern forming method
JP5066405B2 (ja) 2007-08-02 2012-11-07 富士フイルム株式会社 電子線、ｘ線又はｅｕｖ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
US8110333B2 (en) 2007-08-03 2012-02-07 Fujifilm Corporation Resist composition containing novel sulfonium compound, pattern-forming method using the resist composition, and novel sulfonium compound
US7923196B2 (en) 2007-08-10 2011-04-12 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern forming method using the same
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP2009074133A (ja) 2007-09-20 2009-04-09 Fujifilm Corp 微細構造体
JP5449675B2 (ja) 2007-09-21 2014-03-19 富士フイルム株式会社 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
JP2009256564A (ja) 2007-09-26 2009-11-05 Fujifilm Corp 親水性膜形成用組成物および親水性部材
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009083106A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
EP2042311A1 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckverfahren
JP4951454B2 (ja) 2007-09-28 2012-06-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作成方法
JP5244518B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5002399B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理方法
JP5055077B2 (ja) 2007-09-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 画像形成方法および平版印刷版原版
JP4911469B2 (ja) 2007-09-28 2012-04-04 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009122325A (ja) 2007-11-14 2009-06-04 Fujifilm Corp トップコート組成物、それを用いたアルカリ現像液可溶性トップコート膜及びそれを用いたパターン形成方法
JP2009139852A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2009186997A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP2009256571A (ja) 2008-01-25 2009-11-05 Fujifilm Corp 防かび作用を有する親水性組成物及び親水性部材
JP5124496B2 (ja) 2008-02-01 2013-01-23 富士フイルム株式会社 親水性部材
JP2009184188A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
JP5150287B2 (ja) 2008-02-06 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5150296B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 電子線、ｘ線またはｅｕｖ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP5175582B2 (ja) 2008-03-10 2013-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2009214428A (ja) 2008-03-11 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5427382B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-26 富士フイルム株式会社 親水性部材、フィン材、アルミニウム製フィン材、熱交換器およびエアコン
JP2009236942A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2009258705A (ja) 2008-03-25 2009-11-05 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP5422146B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
US9046773B2 (en) 2008-03-26 2015-06-02 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound
EP2105298B1 (de) 2008-03-28 2014-03-19 FUJIFILM Corporation Negativ arbeitender Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit
JP4914864B2 (ja) 2008-03-31 2012-04-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2110261B1 (de) 2008-04-18 2018-03-28 FUJIFILM Corporation Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte, lithographische Druckplattenträger, Druckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplatteträgers
JP5244711B2 (ja) 2008-06-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5997873B2 (ja) 2008-06-30 2016-09-28 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5746818B2 (ja) 2008-07-09 2015-07-08 富士フイルム株式会社 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP5106285B2 (ja) 2008-07-16 2012-12-26 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法
JP5444933B2 (ja) 2008-08-29 2014-03-19 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法
JP5466462B2 (ja) 2008-09-18 2014-04-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法及び平版印刷版
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
US8151705B2 (en) 2008-09-24 2012-04-10 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
JP5277128B2 (ja) 2008-09-26 2013-08-28 富士フイルム株式会社 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
JP5660268B2 (ja) 2008-09-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
EP2196462B1 (de) 2008-12-12 2011-09-28 Fujifilm Corporation Polymerisierbare Verbindung, lactonhaltige Verbindung, Verfahren zur Herstellung der lactonhaltigen Verbindung und durch Polymerisierung der polymerisierbaren Verbindung erhaltene Polymerverbindung
KR20110094054A (ko) 2008-12-12 2011-08-19 후지필름 가부시키가이샤 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 및 그 조성물을 이용한 패턴 형성 방법
CN102365340B (zh) 2009-03-25 2016-05-04 大金工业株式会社 包含含氟聚合物的表面活性剂
JP5377172B2 (ja) 2009-03-31 2013-12-25 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
EP2420871B1 (de) 2009-04-16 2014-08-20 FUJIFILM Corporation Polymerisierbare zusammensetzung für einen farbfilter, farbfilter und festkörperabbildungselement
EP2481603A4 (de) 2009-09-24 2015-11-18 Fujifilm Corp Lithografische originaldruckplatte
US8373553B2 (en) * 2009-10-27 2013-02-12 Tyco Safety Products Canada Ltd System and method for automatic enrollment of two-way wireless sensors in a security system
US8828648B2 (en) 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
JP5253433B2 (ja) 2010-02-19 2013-07-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2365389B1 (de) 2010-03-08 2013-01-16 Fujifilm Corporation Positiv arbeitender Lithographiedruckplattenvorläufer für einen Infrarotlaser und Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
EP2366546B1 (de) 2010-03-18 2013-11-06 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckplatte
EP2555054B1 (de) 2010-03-31 2018-06-20 FUJIFILM Corporation Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte und druckverfahren
JP5662832B2 (ja) 2010-08-31 2015-02-04 富士フイルム株式会社 画像形成材料、平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
EP2447773B1 (de) 2010-11-02 2013-07-10 Fujifilm Corporation Musterherstellungsverfahren, Verfahren zur Herstellung einer MEMS-Struktur, Verwendung eines gehärteten Films aus lichtempfindlicher Harzzusammensetzung als Opferschicht oder als Komponente einer MEMS-Struktur
JP5705584B2 (ja) 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5635449B2 (ja) 2011-03-11 2014-12-03 富士フイルム株式会社 樹脂パターン及びその製造方法、ｍｅｍｓ構造体の製造方法、半導体素子の製造方法、並びに、メッキパターン製造方法
JP5241871B2 (ja) 2011-03-11 2013-07-17 富士フイルム株式会社 サーマルポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
EP2693270B1 (de) 2011-03-28 2015-12-09 FUJIFILM Corporation Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
EP2796928B1 (de) 2011-03-31 2015-12-30 Fujifilm Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung davon
EP2796929B1 (de) 2011-03-31 2015-12-30 Fujifilm Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung davon
CN103493149B (zh) 2011-04-28 2015-11-25 富士胶片株式会社 含有金属纳米线的分散液以及导电膜
JP5301015B2 (ja) 2011-07-25 2013-09-25 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5743783B2 (ja) 2011-07-27 2015-07-01 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン
EP3051350B1 (de) 2011-08-12 2018-10-24 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Alkoholische verbindung und verfahren zur herstellung einer alkoholischen verbindung
DE102011052991B4 (de) * 2011-08-25 2013-12-24 Gert Sieger Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Offsetdruck
CN103827749B (zh) 2011-09-26 2018-06-15 富士胶片株式会社 平版印刷版的制版方法
BR112014007169A2 (pt) 2011-09-26 2017-04-04 Fujifilm Corp processo para fazer placa de impressão litográfica
WO2013073583A1 (ja) 2011-11-18 2013-05-23 三菱瓦斯化学株式会社 環状化合物、その製造方法、感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
US9182666B2 (en) 2011-11-18 2015-11-10 Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. Cyclic compound, method for producing the same, radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5554362B2 (ja) 2012-03-30 2014-07-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2878452B1 (de) 2012-07-27 2018-11-28 Fujifilm Corporation Träger für eine lithografiedruckplatte und herstellungsverfahren dafür
CN104737073B (zh) 2012-10-17 2019-03-08 三菱瓦斯化学株式会社 抗蚀剂组合物
JP5764589B2 (ja) 2012-10-31 2015-08-19 富士フイルム株式会社 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の収容容器、並びに、これらを使用したパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
KR102159234B1 (ko) 2013-02-08 2020-09-23 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성방법 및 이것에 이용하는 폴리페놀 유도체
EP2975461B1 (de) 2013-03-14 2017-08-16 Fujifilm Corporation Konzentrationsverfahren für fluidabfälle aus einer druckformherstellung und recyclingverfahren
EP3007004B1 (de) 2013-06-07 2019-04-17 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Resistzusammensetzung
JP6284849B2 (ja) 2013-08-23 2018-02-28 富士フイルム株式会社 積層体
JP6167016B2 (ja) 2013-10-31 2017-07-19 富士フイルム株式会社 積層体、有機半導体製造用キットおよび有機半導体製造用レジスト組成物
EP3101475B1 (de) 2014-01-31 2018-03-21 FUJIFILM Corporation Infrarotempfindliche farbentwicklungszusammensetzung, lithographische druckoriginalplatte, plattenherstellungsverfahren für lithographische druckplatte, infrarotempfindlicher farbentwickler
JP6467433B2 (ja) 2014-01-31 2019-02-13 フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー．エス．エー．， インコーポレイテッド 新規ポリイミド組成物
WO2016121759A1 (ja) 2015-01-29 2016-08-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、その製造方法、及びそれを用いる印刷方法
US20160313641A1 (en) 2015-04-21 2016-10-27 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Photosensitive polyimide compositions
EP3331978A4 (de) 2015-08-03 2018-07-11 Fujifilm Electronic Materials USA, Inc. Reinigungszusammensetzung
WO2017149918A1 (ja) 2016-02-29 2017-09-08 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
TW201821280A (zh) 2016-09-30 2018-06-16 日商富士軟片股份有限公司 積層體以及半導體元件的製造方法
EP3417010B1 (de) 2016-10-25 2020-08-19 FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. Polyimide
KR102546332B1 (ko) 2016-11-17 2023-06-21 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨. 스트리핑 공정
JPWO2018147468A1 (ja) 2017-02-13 2019-12-19 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、記録物、及び画像記録方法
JPWO2018147469A1 (ja) 2017-02-13 2019-07-18 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、画像記録方法、及び記録物
WO2018155495A1 (ja) 2017-02-23 2018-08-30 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、樹脂、組成物、パターン形成方法及び精製方法
EP3838594B1 (de) 2017-03-31 2023-11-22 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer, verfahren zur herstellung davon, lithografiedruckplattenvorläuferlaminat und lithografiedruckverfahren
EP3854591A1 (de) 2017-03-31 2021-07-28 FUJIFILM Corporation Lithographischer druckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
EP3647869A4 (de) 2017-06-28 2020-09-02 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Filmbildendes material, lithografische filmbildende zusammensetzung, optisches komponentenbildendes material, resistzusammensetzung, resiststrukturerzeugungsverfahren, resistdauerfilm, strahlungsempfindliche zusammensetzung, verfahren zur formung eines amorphen films, material zur bildung eines lithografischen unterschichtfilms, verfahren zur herstellung eines lithografischen unterschichtfilms und verfahren zur schaltungsmusterbildung
JP6978504B2 (ja) 2017-08-31 2021-12-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
EP3656575B1 (de) 2017-08-31 2022-09-07 FUJIFILM Corporation Lithographische druckplattenoriginalplatte, verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte und lithographisches druckverfahren
CN111065525B (zh) 2017-08-31 2022-03-29 富士胶片株式会社 印刷用原版及印刷用原版层叠体
CN109789644B (zh) 2017-09-11 2023-01-31 富士胶片电子材料美国有限公司 形成介电膜的组合物
EP3674096B1 (de) 2017-09-29 2023-03-01 FUJIFILM Corporation Lithographischer druckplattenvorläufer und verfahren zur herstellung von lithographischen druckplatten
JP7297256B2 (ja) 2017-09-29 2023-06-26 学校法人 関西大学 リソグラフィー用組成物、パターン形成方法、及び化合物
CN109863034B (zh) 2017-09-29 2020-11-27 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
JP7235207B2 (ja) 2017-11-20 2023-03-08 三菱瓦斯化学株式会社 リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用膜、レジストパターン形成方法、及び回路パターン形成方法
KR20200111698A (ko) 2018-01-22 2020-09-29 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 화합물, 수지, 조성물 및 패턴 형성방법
JPWO2019150788A1 (ja) 2018-01-31 2021-01-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
CN111655662B (zh) 2018-01-31 2023-09-26 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法
CN111630111A (zh) 2018-01-31 2020-09-04 三菱瓦斯化学株式会社 组合物、以及抗蚀剂图案的形成方法和绝缘膜的形成方法
JP6896112B2 (ja) 2018-01-31 2021-06-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
EP3831613B1 (de) 2018-07-31 2023-09-06 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer
CN112654507B (zh) 2018-07-31 2023-05-02 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及废弃版原版
CN112639021A (zh) 2018-08-24 2021-04-09 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、和包含其的组合物、以及抗蚀图案的形成方法和绝缘膜的形成方法
JPWO2020067373A1 (ja) 2018-09-28 2021-09-02 富士フイルム株式会社 印刷用原版、及び印刷版の製版方法
EP3858629A4 (de) 2018-09-28 2021-09-29 FUJIFILM Corporation Originalplatte zum drucken, laminat aus originalplatte zum drucken, verfahren zur herstellung einer druckplatte und druckverfahren
CN114450631A (zh) 2019-09-30 2022-05-06 富士胶片株式会社 感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
CN114787240A (zh) 2019-10-04 2022-07-22 富士胶片电子材料美国有限公司 平坦化方法及组合物
JP7398551B2 (ja) 2020-03-30 2023-12-14 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、フォトマスク製造用感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びフォトマスクの製造方法
KR20220146536A (ko) 2020-03-31 2022-11-01 후지필름 가부시키가이샤 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 패턴 형성 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법
TW202209548A (zh) 2020-08-27 2022-03-01 日商富士軟片股份有限公司 經加工的基材的製造方法、半導體元件的製造方法、及暫時黏合劑層形成用組成物
WO2022050313A1 (ja) 2020-09-04 2022-03-10 富士フイルム株式会社 有機層パターンの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2803615A (en) * 1956-01-23 1957-08-20 Minnesota Mining & Mfg Fluorocarbon acrylate and methacrylate esters and polymers
GB1215861A (en) * 1967-02-09 1970-12-16 Minnesota Mining & Mfg Cleanable stain-resistant fabrics or fibers and polymers therefor
US3790382A (en) * 1971-04-16 1974-02-05 Minnesota Mining & Mfg Fluorinated polyamide-diazo resin coating composition
US3787351A (en) * 1972-02-28 1974-01-22 Minnesota Mining & Mfg Use of soluble fluoroaliphatic oligomers in resin composite articles
US3944527A (en) * 1974-07-11 1976-03-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoroaliphatic copolymers
US3995085A (en) * 1974-07-11 1976-11-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fabrics treated with hybrid tetracopolymers and process
JPS54135004A (en) * 1978-04-10 1979-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive flat printing plate
DE3022362A1 (de) * 1980-06-14 1981-12-24 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung
GB2080559B (en) * 1980-06-25 1983-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic materials
JPS57178242A (en) * 1981-04-27 1982-11-02 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive lithographic plate
JPS589146A (ja) * 1981-07-09 1983-01-19 Nippon Paint Co Ltd 水不要平版用版材
CA1207099A (en) * 1981-12-19 1986-07-02 Tsuneo Fujii Resist material and process for forming fine resist pattern
US4508764A (en) * 1982-12-14 1985-04-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Coating process employs surfactants
JPS59137943A (ja) * 1983-01-28 1984-08-08 W R Gureesu:Kk 感光性樹脂組成物
JPS60179742A (ja) * 1984-02-28 1985-09-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版用処理用具
JPS60208749A (ja) * 1984-04-02 1985-10-21 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ホトレジスト組成物
DE3421526A1 (de) * 1984-06-08 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Perfluoralkylgruppen aufweisende copolymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck
JPH0721626B2 (ja) * 1985-08-10 1995-03-08 日本合成ゴム株式会社 半導体微細加工用レジスト組成物

Also Published As

Publication number Publication date
US4822713A (en) 1989-04-18
EP0230995B1 (de) 1991-07-31
EP0230995A3 (en) 1988-10-26
JPH083630B2 (ja) 1996-01-17
JPS62170950A (ja) 1987-07-28
EP0230995A2 (de) 1987-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3771737D1 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung.
DE3751555T2 (de) Photoempfindliche Zusammensetzung.
DE3761146D1 (de) Detergens-zusammensetzung.
DE3788103D1 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung.
DE3773631D1 (de) Polyaethylen-zusammensetzung.
NO875493D0 (no) Beskyttede optiske lysgjoeringsmidler.
DE3776319D1 (de) Lichtempfindliche harzzusammensetzung.
DE3779948T2 (de) Sauerstoff entziehende zusammensetzung.
DE3751765D1 (de) Fotometer
ATE74920T1 (de) Substituierte indolochinoxaline.
DE3768663D1 (de) Lichtempfindliche kunststoffzusammensetzung.
DE3762782D1 (de) Lichtempfindliche kunststoffzusammensetzung.
FI875517A0 (fi) Optiska blekningsmedel innehaollande pappersbestrykningsmassor.
DE3751547D1 (de) Verlegbare Brücke.
DE3779951T2 (de) Klebrigmachende zusammensetzung.
DE3786668T2 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung.
DE3785616D1 (de) Asphaerische einzellinse.
FI874483A (fi) Herbicid komposition.
NO872717D0 (no) Transparent saape.
DE68903911T2 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung.
DE3785019D1 (de) Lichtempfindliche lackzusammensetzung.
DE3773805D1 (de) Zusammensetzung.
DE3789719D1 (de) Lichtempfangselement.
DE3784246D1 (de) Lichtempfindliche haertbare zusammensetzungen.
DE3773298D1 (de) Anaesthesierende zusammensetzung.

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition