DE2931449C2 - - Google Patents

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Hidetoshi Fuchu Tokio/Tokyo Jp Mochizuki
Akira Ohme Tokio/Tokyo Jp Suzuki
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Hideki Kodaira Tokio/Tokyo Jp Kosaka
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Description

Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 angegebenen Gattung sowie einen Leitungsrahmen aus Metallfolie zur Herstellung einer solchen Halbleitervorrichtung.
Eine derartige Halbleitervorrichtung und ein derartiger Leitungsrahmen sind aus FR-A-20 20 723 bekannt. Bei dem dort gezeigten Leitungsrahmen ist das rechteckige Trägerelement, das zur Aufnahme von Halbleiterbauelementen dient, mit einem Rahmenteil über vier Halteleitungen verbunden, die jeweils mittig an den vier Seiten des Trägerelements ansetzen und zur Mitte des jeweils betreffenden der vier Stege des rechteckigen Rahmenteils verlaufen.
Bei steigender Anzahl der aus der gleichen Metallfolie geformten Anschlußleitungen müssen sowohl diese selbst wie auch die Halteleitungen schmäler ausgeführt werden, falls nicht eine Vergrößerung der Gesamtabmessungen der fertigen Halbleitervorrichtung in Kauf genommen werden soll. Um eine Verschmälerung der Leitungen (auf beispielsweise 0,3 mm) zu erzielen, muß aus stanztechnischen Gründen die Dicke der Me­ tallfolie (beispielsweise auf 0,15 mm) reduziert werden. In­ folgedessen wird das Trägerelement gegen die Einwirkung äuße­ rer Kräfte empfindlich. Derartige Kräfte treten vor allem beim Anbringen der Halbleiterbauelemente und beim Einbetten in Kunstharz auf. Beide Vorgänge können zu Verformungen des Trä­ gerelements führen, die vor allem beim Vergießen mit dem Kunstharz zu einem Bruch der die inneren Enden der Anschlußleitun­ gen mit den Halbleiterbauelementen verbindenden Drähte führen können. Außerdem können beim Einfließen des Kunstharzes Wirbel und Luftblasen entstehen, die nicht nur den optischen Eindruck der fertigen Halbleitervorrichtung, sondern auch deren Feuch­ tigkeitsbeständigkeit beeinträchtigen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Halblei­ tervorrichtung sowie einen Leitungsrahmen dafür anzugeben, bei der bzw. bei dem das Trägerelement während der Montage siche­ rer und weniger beweglich gehalten ist.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im Kenn­ zeichenteil des Anspruchs 1 bzw. dem des Anspruchs 5 angege­ ben. Dadurch, daß die Halteleitungen an den vier Ecken des rechteckigen Trägerelements ansetzen, werden diesem am wei­ testen herausragenden Bereiche unmittelbar gehalten, so daß das Trägerelement auch dann, wenn es zur Erzielung schmälerer Leitungen aus einer dünnen Metallfolie geformt ist, bei Ein­ wirken von Kräften weniger stark zu Form- und Lageänderungen neigt.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend an­ hand der Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen zeigt
Fig. 1 eine Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel eines Leitungsrahmens,
Fig. 2 den Leitungsrahmen nach Fig. 1 mit weiteren Tei­ len der fertigen Halbleitervorrichtung,
Fig. 3 und 4 vergrößerte Teilansichten der Halbleitervor­ richtung nach Fig. 2,
Fig. 5 eine Draufsicht auf einen Leitungsrahmen gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel,
Fig. 6 eine vergrößerte perspektivische Teildarstellung einer Halteleitung in dem Leitungsrahmen nach Fig. 5,
Fig. 7 und 8 schematische Ansichten zur Erläuterung der Trennung von einer in den in Fig. 5 gezeigten Leitungs­ rahmen verwendenden Halbleitervorrichtung und einem Rahmenteil des Leitungsrahmens,
Fig. 9 eine vergrößerte Draufsicht eines Harzspritzteils des in Fig. 5 gezeigten Leitungsrahmens, und
Fig. 10 ein Schnitt längs Ebene A-A in Fig. 9.
Fig. 1 ist eine Draufsicht einer Ausführungsform des Leitungsrahmens gemäß der Erfindung. Der Leitungsrahmen wird durch Stanzen oder Ätzen eines dünnen Blechs aus einer Fe-Ni-Co- Legierung oder einer Fe-Ni-Legierung und einer Stärke von 0,15 mm hergestellt. Die Form des Leitungsrahmens ist derart gestaltet, daß ein rechteckiges Trägerelement 12 zur Aufnahme eines Halblei­ terbauelements in der Mitte eines Rahmenteils 10 enthalten ist, der insgesamt rechteckig ist. Das Trägerelement 12 ist an seinen vier Ecken durch vier feine, radial verlaufende Halteleitungen 13 mit dem Rahmenteil 10 verbunden. Eine Anzahl von Leitungen 14 erstreckt sich zum Rand des Trägerelements 12, d. h. zu seinen vier Seiten. In Fig. 1 sind nur zwei zum Trägerelement 12 verlaufende Leitungen 14 gezeigt, um die Darstellung übersichtlich zu halten. Die Leitungen 14 enden mit ihrem einen Ende in der Umgebung der Umfangskante des Trägerelements 12. Das andere Ende der Leitungen 14 ist mit dem Rahmenteil 10 verbunden. Um ein Überlaufen des während des Formungsvorganges flüssigen Harzes zu vermeiden, sind Damm­ stücke 15 zwischen aneinander angrenzenden Leitungen vorge­ sehen. Ferner ist der Rahmenteil 10 mit Führungslöchern 16 versehen. L-förmige Öffnungen L 1, L 2 und L 3 sind in Teilen des Rahmenteils 10 vorgesehen, die in der Nähe der Halteleitungen 13 liegen. Langlöcher M 1, M 2, M 3 und M 4 sind in der Nähe der anderen Enden der Leitungen 14 vorgesehen. Die Funktion der Öffnungen und Löcher L 1 bis L 3 und M 1 bis M 4 wird später beschrieben. In Fig. 1 ist das Muster eines Leitungsrahmens in einem Be­ reich für die Ausbildung einer einzigen Halbleitervorrichtung darin dargestellt. Tatsächlich jedoch werden solche Muster kontinuierlich in langer und schmaler Form ausgebildet.
Die Halbleitervorrichtung, die den beschriebenen Lei­ tungsrahmen verwendet, wird in der folgenden Reihenfolge zusammengebaut:
Zuerst wird, wie in Fig. 2 dargestellt, das Halbleiterbau­ element 11 direkt auf das Trägerelement 12 des Leitungs­ rahmens gebondet. Dieses Halbleiterbauelement 11 besteht aus Silizium und enthält eine Reihe von Transistoren. In den Randteilen des Halbleiterbauelements 11 sind Anschlußfelder P 1, P 2, . . . aus Aluminium zur Verbindung mit den Leitungen 14 des Leitungsrahmens durch Golddrähte in im wesentlichen der gleichen Zahl wie die Leitungen 14 vorgesehen.
Zum Bonden des Halbleiterbauelements 11 auf das Trägerelement 12 wird folgendes Verfahren verwendet. Die Seite des Halbleiterbauele­ ments, auf der die Anschlußflecken angeordnet sind, wird durch eine das Halbleiterbauelement festhaltende Auf­ spannvorrichtung festgehalten. Während die Aufspannvorrichtung in Schwingungen versetzt ist, wird das Halbleiterbauelement 11 auf die erwähnte Oberfläche des Trägerelements 12, auf der eine Goldfolie 30 angeordnet ist, gebondet. Da das Halbleiterbauelement aus Silizium besteht, bildet es mit der Goldfolie eine eutektische Legierung aus und wird in perfekter Weise auf die Oberfläche des Trägerelements 12 gebondet.
Nachfolgend werden die Aluminium-Anschlußfelder P 1, P 2 . . . des Halbleiterbauelements und die dem Trägerelement 12 näher liegenden Enden der Leitungen 14 jeweils durch Golddrähte w 1, w 2 . . . miteinander verbunden.
Danach wird Harz, beispielsweise Epoxyharz, in Richtung eines Pfeiles C gegossen. Dadurch werden die Leitungen 14, das Trägerelement 12, die Halteleitungen 13, die Golddrähte w 1, w 2, . . . und das Halbleiterbauelement 11, die innerhalb des Dammstückes 15 vorliegen, durch das Harz vollkommen geschützt. Eine strichpunktierte Linie 17 gibt einen durch das Harz gebildeten Formgießteil an. Wie aus Fig. 3 deutlich ersichtlich, wird die Ecke des Formgießteils 17, die sich mit der Halteleitung 13 schneidet, so gegossen, daß sie eine Abschneidfläche 18 aufweist, die die Halteleitung 13 in rechtem Winkel schnei­ det. Dies geschieht, um zu verhindern, daß die Eckteile des Formgießteils mit abgeschnitten werden, wenn später die Halteleitungen an ihren Fußpunkten abgeschnitten werden.
Entsprechend der Schraffierung in Fig. 2 werden die Dammstücke 15 und die entfernt vom Trägerelement 12 liegenden End­ teile 31 der Leitungen 14 abgeschnitten. Da die Haltelei­ tungen 13 nicht vom Rahmenteil 10 getrennt werden, wird die Halbleitervorrichtung, die den Gießteil 17 und die Anzahl von getrennten Leitungen 14 umfaßt, über die Halteleitungen 13 durch den Rahmenteil 10 gehalten.
In diesem Zustand der Halbleitervorrichtung werden ihre elektrischen Eigenschaften geprüft und auf der Oberseite des Gießteils 17 Qualitätskennzeichnungen usw. aufgedruckt.
Danach wird die Halbleitervorrichtung vom Rahmenteil 10 des Leitungsrahmens durch Abschneiden der Halteleitungen 13 an den Ecken 18 des Gießteils getrennt.
Auf diese Weise erhält man eine Halbleitervorrichtung mit flachen Zuleitungen 14 aus dem in Fig. 1 gezeigten Lei­ tungsrahmen. Im Falle der Herstellung von Dual-in-line-Halb­ leitervorrichtungen durch Abbiegen der aus dem Gießteil 17 lang hervorragenden Leitungen 14 nach unten erfolgt das Biegen der Leitungen 14 gleichzeitig mit dem Abschneiden der Halte­ leitungen 13.
Mit dem Leitungsrahmen obiger Ausführungsform sind fol­ gende Wirkungen zu erwarten:
  • (A) Das rechteckige Trägerelement 12 zur Aufnahme des Halbleiterbauele­ ments 11 wird durch die vier Halteleitungen 13 gehal­ ten, die sich längs der Diagonalen des Trägerelements 12 erstrecken. Da­ her ist dieses Trägerelement 12 nur schwierig zu bewegen oder zu neigen und zeigt eine ausgezeichnete Starrheit. Dementsprechend ergeben sich folgende Vorteile.
    • 1. Beim automatischen Anbringen des Halbleiterbauelements 11 auf dem Trägerelement 12 läßt sich die gewünschte räumliche Anord­ nung des Halbleiterbauelements 11 bezüglich des Trägerelements 12 zuver­ lässig durchführen. Deshalb geschieht auch das Bonden der Drähte w 1, w 2, . . . zum Verbinden der Bondfelder P 1, P 2, . . . des Halbleiterbauelements 11 mit den Leitungen 14 zuverlässig. Das heißt, selbst in Fällen von Halbleitervorrichtungen, die viele nahe beieinanderliegende Leitungen aufweisen, ist die Automatisierung des Anbringens des Halbleiterbauelements 11 sowie das Drahtbonden mit der Leitungsrahmenstruktur sehr einfach.
    • 2. Beim Anbringen des Halbleiterbauelements 11 am Trägerelement 12 durch Reiben mit dem das Halbleiterbauelement festhaltenden Spannstück schwingt das Trägerelement nicht. Infolgedessen erfolgt eine vollkommene Verbindung von Halbleiterbauelement 11 und Trägerelement 12. Dies löst das Problem des Auftretens von Rissen im Halbleiterbauelement.
    • 3. Da das Harz aus dem Bereich eines der Halteleitungen 13, wie durch den Pfeil C in Fig. 2 angedeutet, gegossen wird, neigt sich das Trägerelement 12 nicht. Deshalb kommt es nicht vor, daß starke Kräfte auf die Drähte wirken, die zu einem Drahtbruch führen oder die Drähte miteinander in Berührung bringen könnten.
    • 4. Während des Harzgießens neigt sich das Trägerelement nicht un­ ter der Wirkung des einströmenden Harzes, und ebensowenig entstehen Wirbel als Folge eines Strömungsschattens. Deshalb treten weder im Inneren des Gießteils 17 noch an seiner Ober­ fläche Luftblasen auf. Infolgedessen entsteht selbst bei dünn gehaltenem Harz eine ausgezeichnete Halbleitervorrich­ tung, bei welcher weder die Feuchtigkeitsbeständigkeit noch der optische Eindruck verschlechtert ist.
  • (B) Im Bereich der vom Trägerelement 12 entfernten Enden der Halte­ leitungen 13 und Leitungen 14 sind die Öffnungen und Löcher L 1, L 2, L 3, M 1, M 2, M 3 und M 4 vorgesehen. Dementsprechend ergeben sich die folgenden Vorteile.
  • Während des Aushärtens des Harzes kann verhindert werden, daß der Rahmenteil 10 des Leitungsrahmens zum Trägerelement 12, der im Mittelteil des Leitungsrahmens vorliegt, gezogen wird. Deshalb entstehen keine Verkrümmungen oder Verziehungen des Leitungsrahmens, und das Anordnen oder Umsetzen mit den Füh­ rungslöchern 16 des Leitungsrahmens wird nicht erschwert.
  • (C) Nach dem Abschneiden der Dammstücke 15 und der anderen Endteile 31 der Leitungen 14 wird die Halbleitervorrichtung über die Halteleitungen 13 durch den Rahmenteil 10 gehal­ ten. Dementsprechend ergeben sich die folgenden Vorteile.
    • 1. Bei der Prüfung der elektrischen Eigenschaften und bei der Markierung der einzelnen Halbleitervorrichtungen ist das Umsetzen mit den Führungslöchern 16 des Leitungsrahmens mög­ lich. Das heißt, das Prüfen und Markieren der Halbleitervor­ richtungen kann kontinuierlich geschehen, was die Akkord­ leistung erheblich erhöht.
    • 2. Die Handhabung der einzelnen Halbleitervorrichtungen geschieht in einem Zustand regelmäßiger Anordnung auf einer einzigen Bahn von Leitungsrahmen. Daher können sich die Halbleitervorrichtungen nicht ineinander verhängen. Ein Brechen von Leitungen usw. tritt ebenfalls nicht auf.
    • 3. Die einzelnen Halbleitervorrichtungen können durch Tra­ gen am Rahmenteil 10 des Leitungsrahmens transportiert werden. Daher werden die Leitungen nicht direkt berührt. Infolgedessen tritt ein Brechen der Leitungen usw. nicht auf. Insbesondere wenn das eingegossene Halbleiterbauelement aus mehreren MOS-Transistoren aufgebaut ist, bei denen die Ge­ fahr eines elektrostatischen Durchbruchs besteht, ist ein solcher vermeidbar.
Im folgenden werden Abwandlungen von Ausführungsbeispielen der Erfindung beschrie­ ben.
  • (a) Wie in Fig. 3 gezeigt, ist eine V-förmige Nut 20 in der Halteleitung 13 vorgesehen.
  • Durch Vorsehen dieser Nut 20 läßt sich die Haltelei­ tung in dieser Nut im Durchtrennungsschritt leicht ab­ schneiden.
  • Ferner kann durch diese Nut 20 verhindert werden, daß die Halteleitung beim Kappen herauskommt. Das heißt, die Halteleitung 13 kann an der Nut 20 leicht durchtrennt werden, ohne daß an der Leitung beim Abschneiden stark gezogen wird.
  • Fehlt eine solche Nut 20, besteht die Gefahr, daß die Halteleitung beim Abschneiden abfällt, so daß sich eine Halbleitervorrichtung hoher Zuverlässigkeit wegen einer ver­ schlechterten Feuchtigkeitsbeständigkeit nicht erzielen läßt. Wie aus Fig. 1 ersichtlich, erstreckt sich die Haltelei­ tung 13 nämlich gerade vom Trägerelement 12 weg, wobei ihre Breite im Verbindungspunkt zwischen Trägerelement 12 und Halteleitung 13 sehr klein ist. Wenn daher beim Abschneiden an der Halte­ leitung 13 gezogen wird, besteht die Möglichkeit, daß der Verbindungspunkt hochschnellt, was das Abfallen der Haltelei­ tung bewirkt und die Feuchtigkeitsbeständigkeit verschlech­ tert. Selbst wenn der Verbindungspunkt nicht hochschnellt, wird an der Halteleitung 13 in erheblichem Maße gezogen, so daß die Möglichkeit der Bildung eines freien Raumes zwischen der Halteleitung und dem Harz besteht, was die Feuchtigkeits­ beständigkeit verschlechtert.
  • (b) Wenigstens eine der Halteleitungen kann als Erdleitung verwendet werden. Wie in Fig. 4 dargestellt, setzt sich eine Halteleitung 13 parallel zu den Leitungen 14 fort. Diese Halteleitung 13 wird als Erdleitung verwen­ det.
  • (c) Bei vorstehender Ausführungsform hat die Ecke des Gieß­ teils 17, wie in Fig. 3 gezeigt, eine abgeschnittene Fläche 18. Zur Erzielung einer solchen abgefasten Struktur muß eine entsprechende Form für das Harz verwendet werden. Die Form ist teuer, weil das Ausbilden der Form außerordentlich schwie­ rig ist.
Es ist wünschenswert, die Gießform durch Verwendung einer Form zu ermöglichen, die billig ist.
Ein Leitungsrahmen, wie er in Fig. 5 gezeigt ist, ist als ein Aufbau geeignet, bei welchem die Ecken des Gießteils nicht abgefast sind. Diese Abwandlung ist derart, daß jede der Halteleitungen 13 mit zwei sich im Bereich des Rahmenteils 10 Y-förmig verzweigenden Zweigleitungen 19 versehen ist. Fig. 6 zeigt eine vergrößerte perspektivische Ansicht der Halteleitung 13, die die zwei Zweigleitungen 19 aufweist. Gemäß den Fig. 5 und 6 in den Zweigleitungen 19 vorgesehene V-förmige Nuten 20 dienen zur Erleichterung der Trennung der Halteleitung 13 vom Rahmenteil 10 in ähnlicher Weise wie die weiter obenerwähnten Nuten.
Bei diesem Leitungsrahmen wird das Gießteil entsprechend der strichpunktierten Linie 17 in Fig. 5 ausgebildet. Die Zweigleitungen 19 werden entsprechend den strichpunktierten Linien 32 in Fig. 7 abgeschnitten. Das heißt, die Zweig­ leitungen 19 werden vom Rahmenteil 10 in ihren V-förmigen Nuten 20 abgetrennt. In Fig. 5 sind das Halbleiterbauelement und die Drähte nicht gezeigt, sie sind aber wie in Fig. 2 auf dem Leitungsrahmen angeordnet.
Demzufolge werden bei dem Leitungsrahmen mit solchen Halteleitungen die Eckteile des Gießteils beim Abschneiden der Halteleitungen nicht ab­ geschnitten.
Gemäß dieser abgewandelten Ausführungsform der Erfindung mit den Zweigleitungen 19 ist in noch stärkerem Maße zu er­ warten, daß ein Abfallen der Halteleitungen verhindert ist. Wie im einzelnen in Fig. 8 gezeigt, liegt zwischen den bei­ den Zweigleitungen 19 ein Stück 17′ des Gießteils 17 vor. Dieses Stück 17′ verhindert, daß die Halteleitungen 13 beim Abschneiden der Zweigleitungen 19 zum Rahmenteil 10 hin (in Richtung des Pfeiles D) gezogen werden. Infolgedessen ist ein Abfallen der Halteleitungen in vollkommener Weise verhindert. Somit läßt sich eine Halbleitervorrichtung hoher Feuchtigkeits­ beständigkeit herstellen.
Insbesondere ist bei diesem Leitungsrahmen der Abschnitt der Harzgießöffnung verbessert.
Gemäß Fig. 5 strömt das Harz durch einen Harzgießabschnitt 21 auf das Trägerelement 12 zu. Der Raum in dem Harzgießabschnitt 21, der von den Zweigleitungen 19 und dem Rahmenteil 10 um­ schlossen ist, ist größer ausgebildet als die anderen Räume 40, 41 und 42. Dementsprechend strömt das Harz in ausreichendem Maße zum Trägerelement 12. Dies löst das Problem einer Freilegung des Halbleiterbauelements oder der Drähte usw. infolge eines ungenügenden Einströmens des Harzes. Dieser Punkt wird nun unter Bezugnahme auf Fig. 9, die eine vergrößerte Drauf­ sicht des Harzgießabschnitts 21 ist, und auf Fig. 10, die ein Schnitt längs A-A in Fig. 9 ist, erläutert.
Wie in den Fig. 9 und 10 gezeigt, weisen bei 50 und 50′ angegebene Harzgießformen einen Teil 51, der in engem Kontakt mit dem Leitungsrahmen liegt, und einen Raum 52 auf, der nicht in engem Kontakt mit dem Leitungsrahmen liegt. Das Harz strömt durch den Harzgießabschnitt 21 in den Raum 52 ein und bildet das Gießteil der Halbleitervorrichtung. Der Grund, warum das Harz in ausreichendem Maße in den Raum 52 ein­ strömt, liegt darin, daß, wie in Fig. 10 zu sehen, der Rah­ menteil 10 des Leitungsrahmens in einer Harzgießöffnung 54 der Formen 50 und 50′ nicht vorhanden ist. Das heißt, der Leitungsrahmen wird zwischen den Formen 50 und 50′ so gehal­ ten, daß die Harzgießöffnung 54 am Harzgießabschnitt 21 des Leitungsrahmens liegt.
Wenn der Rahmenteil des Leitungsrahmens an der Harzgieß­ öffnung 54 liegt, wie durch gestrichelte Linien 10′ angedeutet, wird die Breite w 1 der Harzgießöffnung 54 um die Dicke des Leitungsrahmens kleiner. Infolgedessen fließt das Harz (17) nicht in ausreichendem Maße in den Raum 52. Um ein ausreichen­ des Strömen des Harzes (17) in den Raum 52 zu bewirken, können die Breite w 1 der Harzgießöffnung 54 im Hinblick auf die Dicke des Leitungsrahmens größer gemacht werden. Dann ist es jedoch schwierig, eine Halbleitervorrichtung mit dünnem Gießteil herzustellen.
Ferner ist in einem Angußkanal 22, wie in Fig. 10 dar­ gestellt, eine Stufe 60 ausgebildet. Beim Trennen des Gießteils vom Angußkanal wirkt daher ein Zug konzen­ triert an der Stufe 60. Daher werden das Gießteil und der Angußkanal 22 an der Stufe 60 getrennt. Als Folge davon werden die Formen der Angußnasen bei Guß­ artikeln gleichförmig, so daß der Nachteil unregelmäßiger Trennteile vermeidbar ist.
Bei den oben beschriebenen Ausführungsformen der Erfindung erstrecken sich die vier Halteleitungen strahlenförmig vom Trägerelement zum Rahmenteil des Leitungsrahmens. Dies ist so, weil das Träger­ element rechteckig geformt ist.

Claims (14)

1. Halbleitervorrichtung mit
einem aus einer Metallfolie geformten rechteckigen Trä­ gerelement (12), auf dem ein Halbleiterbauelement (11) ange­ ordnet ist,
vier mit jeweils einem Ende an das Trägerelement (12) an­ geformten Halteleitungen (13),
einer Vielzahl von ebenfalls aus der Metallfolie geform­ ten Anschlußleitungen (14), die sich jeweils mit einem Ende in Richtung des Randes des Trägerelements (12) erstrecken und über Drähte (W 1, W 2 . . .) mit dem Halbleiterbauelement (11) verbunden sind, und
einem das Trägerelement (12), das Halbleiterbauelement (11), die Drähte (W 1, W 2 . . .) und die dem Trägerelement (12) zugewandten Enden der Halte- und der Anschlußleitungen (13, 14) umschließenden Kunstharz-Gießteil (17),
dadurch gekennzeichnet, daß die Halteleitungen (13) an den vier Ecken des Trägerelements (12) ansetzen und sich strahlenförmig weg erstrecken.
2. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Gießteil (17) senkrecht zu den Halteleitun­ gen (13) verlaufende Außenflächen (18) aufweist.
3. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Gießteil (17) rechteckig ist, und daß die vier Halteleitungen (13) in Richtung der vier Ecken des Gieß­ teils (17) verlaufen und sich innerhalb desselben jeweils in zwei senkrecht zu den Außenflächen des Gießteils (17) verlau­ fende Arme (19) verzweigen.
4. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß Anschlußleitungen (14) auf alle vier Seiten des Trägerelements (12) zu verlaufen.
5. Leitungsrahmen aus Metallfolie zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, mit
einem rechteckigen Trägerelement (12) für ein Halbleiter­ bauelement (11),
vier Halteleitungen (13), die an ihren einen Enden das Trägerelement (12) halten,
einer Vielzahl von Anschlußleitungen (14), die sich je­ weils mit einem Ende in Richtung des Randes des Trägerelements (12) erstrecken, und
einem Rahmenteil (10), das die anderen Enden der Halte- und der Anschlußleitungen (13, 14) hält,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halteleitungen (13) die vier Ecken des Trägerelements (12) mit dem Rahmenteil (10) verbinden und strahlenförmig verlaufen.
6. Leitungsrahmen nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die vier Halteleitungen (13) in Verlängerung der Diagonalen des Träger­ elements (12) verlaufen.
7. Leitungsrahmen nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekenn­ zeichnet, daß Anschlußleitungen (14) auf alle vier Seiten des Trägerelements (12) zu verlaufen.
8. Leitungsrahmen nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die auf jede Seite des Trägerelements (12) zu verlaufenden Anschlußleitungen (14) an ihren dem Trägerelement (12) zuge­ wandten Enden durch ein erstes Band (15) gehalten sind.
9. Leitungsrahmen nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die auf jede Seite des Trägerelements (12) zu verlaufenden Anschlußleitungen (14) an ihren dem Rahmenteil (10) zugewandten Enden durch ein zweites Band (31) gehalten sind.
10. Leitungsrahmen nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß jede Halteleitung (13) an ihrem vom Trä­ gerelement (12) abgewandten Ende eine Nut (20) aufweist.
11. Leitungsrahmen nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß sich jede Halteleitung (13) an ihrem dem Rahmenteil (10) zugewandten Ende verzweigt und mit diesem über zwei Arme (19) verbunden ist.
12. Leitungsrahmen nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß jeder Arm (19) eine Nut (20) aufweist.
13. Leitungsrahmen nach Anspruch 10 oder 12, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Nut (20) V-förmig ist.
14. Leitungsrahmen nach einem der Ansprüche 5 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Rahmenteil (10) im Bereich der ihm zu­ gewandten Enden der Halteleitungen (13) jeweils eine L-förmige Öffnung (L 1, L 2, L 3) aufweist.
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MY (1) MY8400254A (de)
SG (1) SG29183G (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4213411A1 (de) * 1991-04-26 1992-10-29 Mitsubishi Electric Corp Anschlussdraht-rahmen

Families Citing this family (169)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4400714A (en) * 1980-11-06 1983-08-23 Jade Corporation Lead frame for semiconductor chip
FR2498377A1 (fr) * 1981-01-16 1982-07-23 Thomson Csf Mat Tel Procede de fabrication de dispositifs semiconducteurs sur bande metallique
US4477827A (en) * 1981-02-02 1984-10-16 Northern Telecom Limited Lead frame for leaded semiconductor chip carriers
US4445271A (en) * 1981-08-14 1984-05-01 Amp Incorporated Ceramic chip carrier with removable lead frame support and preforated ground pad
US4408218A (en) * 1981-03-27 1983-10-04 Amp Incorporated Ceramic chip carrier with lead frame having removable rim
US4451973A (en) * 1981-04-28 1984-06-05 Matsushita Electronics Corporation Method for manufacturing a plastic encapsulated semiconductor device and a lead frame therefor
JPS5861654A (ja) * 1981-10-09 1983-04-12 Toshiba Corp 半導体装置
DE3378092D1 (en) * 1982-03-08 1988-10-27 Motorola Inc Integrated circuit lead frame
JPS58165358A (ja) * 1982-03-26 1983-09-30 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法およびそれに用いるリ−ドフレ−ム
US4490902A (en) * 1982-09-03 1985-01-01 General Motors Corporation Lead frame for molded integrated circuit package
US4706105A (en) * 1983-02-02 1987-11-10 Hitachi, Ltd. Semiconductor device and method of producing the same
JPS6068639A (ja) * 1983-08-31 1985-04-19 Toshiba Corp 樹脂封止型半導体装置
US4558345A (en) * 1983-10-27 1985-12-10 Rca Corporation Multiple connection bond pad for an integrated circuit device and method of making same
JPS60176552U (ja) * 1984-04-28 1985-11-22 凸版印刷株式会社 エツチング部品
DE3575497D1 (de) * 1984-05-02 1990-02-22 Gte Prod Corp Verfahren zum herstellen eines gekapselten ic-plaettchens.
DE3566476D1 (en) * 1984-05-02 1988-12-29 Gte Prod Corp Packaged integrated circuit chip
JPS6123351A (ja) * 1984-07-11 1986-01-31 Nec Corp リ−ドフレ−ム
JPS60121748A (ja) * 1984-07-25 1985-06-29 Hitachi Ltd 半導体装置
JPS60121749A (ja) * 1984-07-25 1985-06-29 Hitachi Ltd リ−ドフレ−ム
JPS60121747A (ja) * 1984-07-25 1985-06-29 Hitachi Ltd 半導体装置
JPS6139558A (ja) * 1984-07-31 1986-02-25 Toshiba Glass Co Ltd 半導体回路基板
JPS62500338A (ja) * 1984-09-27 1987-02-05 モトロ−ラ・インコ−ポレ−テッド 支持リ−ドの改良された構造をもつリ−ドフレ−ムおよびこれを用いる半導体装置
JPS6281738A (ja) * 1985-10-07 1987-04-15 Hitachi Micro Comput Eng Ltd リ−ドフレ−ムおよびそれを用いた半導体装置
US4721993A (en) * 1986-01-31 1988-01-26 Olin Corporation Interconnect tape for use in tape automated bonding
JPS62232948A (ja) * 1986-04-03 1987-10-13 Sumitomo Metal Mining Co Ltd リ−ドフレ−ム
JPS62254456A (ja) * 1986-04-26 1987-11-06 Yamada Seisakusho:Kk リ−ドフレ−ム
US4721992A (en) * 1986-06-26 1988-01-26 National Semiconductor Corporation Hinge tape
US4803540A (en) * 1986-11-24 1989-02-07 American Telephone And Telegraph Co., At&T Bell Labs Semiconductor integrated circuit packages
USRE34269E (en) * 1986-11-24 1993-06-01 At&T Bell Laboratories Semiconductor integrated circuit packages
US4800419A (en) * 1987-01-28 1989-01-24 Lsi Logic Corporation Support assembly for integrated circuits
JPH0831556B2 (ja) * 1987-02-20 1996-03-27 株式会社東芝 半導体装置用リードフレーム
JP2534251B2 (ja) * 1987-02-20 1996-09-11 日東電工株式会社 半導体装置
US4859632A (en) * 1987-12-28 1989-08-22 Siemens Corporate Research And Support, Inc. Method for manufacturing the same
JP2632528B2 (ja) * 1988-02-08 1997-07-23 新光電気工業株式会社 リードフレーム
JPH0828455B2 (ja) * 1988-02-24 1996-03-21 富士通株式会社 リードフレーム及びそれを用いた電子部品の製造方法
JPH0220740A (ja) * 1988-07-07 1990-01-24 Ngk Insulators Ltd グレーティング
JPH0247437A (ja) * 1988-08-06 1990-02-16 Shuichi Ito 溝蓋
JPH0252459A (ja) * 1988-08-17 1990-02-22 Nec Kyushu Ltd 樹脂封止型半導体装置
JPH07105469B2 (ja) * 1989-05-19 1995-11-13 三洋電機株式会社 リードフレームとその加工方法、および半導体装置の製法
DE4021871C2 (de) * 1990-07-09 1994-07-28 Lsi Logic Products Gmbh Hochintegriertes elektronisches Bauteil
JPH0446175U (de) * 1990-08-20 1992-04-20
KR920018907A (ko) * 1991-03-23 1992-10-22 김광호 반도체 리드 프레임
JPH079960B2 (ja) * 1991-08-09 1995-02-01 株式会社日立製作所 半導体装置
US5289032A (en) * 1991-08-16 1994-02-22 Motorola, Inc. Tape automated bonding(tab)semiconductor device and method for making the same
JPH05243455A (ja) * 1992-03-02 1993-09-21 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法
NL195026C (nl) * 1992-04-22 2003-06-18 Yamaha Corporation Werkwijze voor het bewerken van een raam van elektrische geleiders voor een halfgeleiderelement.
US5541447A (en) * 1992-04-22 1996-07-30 Yamaha Corporation Lead frame
JP3016661B2 (ja) * 1992-08-10 2000-03-06 ローム株式会社 リードフレーム
US5293065A (en) * 1992-08-27 1994-03-08 Texas Instruments, Incorporated Lead frame having an outlet with a larger cross sectional area than the inlet
US5367124A (en) * 1993-06-28 1994-11-22 International Business Machines Corporation Compliant lead for surface mounting a chip package to a substrate
US5517056A (en) * 1993-09-30 1996-05-14 Motorola, Inc. Molded carrier ring leadframe having a particular resin injecting area design for gate removal and semiconductor device employing the same
US5665296A (en) * 1994-03-24 1997-09-09 Intel Corporation Molding technique for molding plastic packages
JP2687946B2 (ja) * 1995-08-16 1997-12-08 日本電気株式会社 リードフレーム
DE19736895A1 (de) * 1996-09-05 1998-04-16 Int Rectifier Corp Gehäuse für Halbleiterbauteile
US5886397A (en) * 1996-09-05 1999-03-23 International Rectifier Corporation Crushable bead on lead finger side surface to improve moldability
US7112474B1 (en) 1998-06-24 2006-09-26 Amkor Technology, Inc. Method of making an integrated circuit package
US7005326B1 (en) 1998-06-24 2006-02-28 Amkor Technology, Inc. Method of making an integrated circuit package
US7332375B1 (en) 1998-06-24 2008-02-19 Amkor Technology, Inc. Method of making an integrated circuit package
US6143981A (en) 1998-06-24 2000-11-07 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
US7071541B1 (en) 1998-06-24 2006-07-04 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
US6893900B1 (en) 1998-06-24 2005-05-17 Amkor Technology, Inc. Method of making an integrated circuit package
US7030474B1 (en) 1998-06-24 2006-04-18 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
US6448633B1 (en) * 1998-11-20 2002-09-10 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package and method of making using leadframe having lead locks to secure leads to encapsulant
KR200309906Y1 (ko) * 1999-06-30 2003-04-14 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 제조용 리드프레임
KR100379089B1 (ko) 1999-10-15 2003-04-08 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지
KR100403142B1 (ko) * 1999-10-15 2003-10-30 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지
KR100526844B1 (ko) * 1999-10-15 2005-11-08 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지 및 그 제조방법
KR20010037247A (ko) 1999-10-15 2001-05-07 마이클 디. 오브라이언 반도체패키지
US6580159B1 (en) 1999-11-05 2003-06-17 Amkor Technology, Inc. Integrated circuit device packages and substrates for making the packages
US20070176287A1 (en) * 1999-11-05 2007-08-02 Crowley Sean T Thin integrated circuit device packages for improved radio frequency performance
US6847103B1 (en) 1999-11-09 2005-01-25 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with exposed die pad and body-locking leadframe
KR100421774B1 (ko) 1999-12-16 2004-03-10 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지 및 그 제조 방법
US6639308B1 (en) * 1999-12-16 2003-10-28 Amkor Technology, Inc. Near chip size semiconductor package
KR100583494B1 (ko) * 2000-03-25 2006-05-24 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지
US7042068B2 (en) * 2000-04-27 2006-05-09 Amkor Technology, Inc. Leadframe and semiconductor package made using the leadframe
JP4669166B2 (ja) * 2000-08-31 2011-04-13 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置
JP4523138B2 (ja) * 2000-10-06 2010-08-11 ローム株式会社 半導体装置およびそれに用いるリードフレーム
KR20020058209A (ko) * 2000-12-29 2002-07-12 마이클 디. 오브라이언 반도체패키지
KR100731007B1 (ko) * 2001-01-15 2007-06-22 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 적층형 반도체 패키지
US6545345B1 (en) 2001-03-20 2003-04-08 Amkor Technology, Inc. Mounting for a package containing a chip
US6967395B1 (en) 2001-03-20 2005-11-22 Amkor Technology, Inc. Mounting for a package containing a chip
KR100369393B1 (ko) 2001-03-27 2003-02-05 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지와 그 제조 방법
KR100393448B1 (ko) 2001-03-27 2003-08-02 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US7045883B1 (en) 2001-04-04 2006-05-16 Amkor Technology, Inc. Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package and method of making same
US7064009B1 (en) 2001-04-04 2006-06-20 Amkor Technology, Inc. Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package and method of making same
US6597059B1 (en) 2001-04-04 2003-07-22 Amkor Technology, Inc. Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package
US6900527B1 (en) 2001-09-19 2005-05-31 Amkor Technology, Inc. Lead-frame method and assembly for interconnecting circuits within a circuit module
US7485952B1 (en) 2001-09-19 2009-02-03 Amkor Technology, Inc. Drop resistant bumpers for fully molded memory cards
US6630726B1 (en) 2001-11-07 2003-10-07 Amkor Technology, Inc. Power semiconductor package with strap
US7446423B2 (en) * 2002-04-17 2008-11-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device and method for assembling the same
US6818973B1 (en) * 2002-09-09 2004-11-16 Amkor Technology, Inc. Exposed lead QFP package fabricated through the use of a partial saw process
US6919620B1 (en) 2002-09-17 2005-07-19 Amkor Technology, Inc. Compact flash memory card with clamshell leadframe
US7723210B2 (en) 2002-11-08 2010-05-25 Amkor Technology, Inc. Direct-write wafer level chip scale package
US7190062B1 (en) 2004-06-15 2007-03-13 Amkor Technology, Inc. Embedded leadframe semiconductor package
US7361533B1 (en) 2002-11-08 2008-04-22 Amkor Technology, Inc. Stacked embedded leadframe
US6905914B1 (en) 2002-11-08 2005-06-14 Amkor Technology, Inc. Wafer level package and fabrication method
US6798047B1 (en) 2002-12-26 2004-09-28 Amkor Technology, Inc. Pre-molded leadframe
US6847099B1 (en) 2003-02-05 2005-01-25 Amkor Technology Inc. Offset etched corner leads for semiconductor package
US6750545B1 (en) 2003-02-28 2004-06-15 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package capable of die stacking
US6794740B1 (en) 2003-03-13 2004-09-21 Amkor Technology, Inc. Leadframe package for semiconductor devices
US7001799B1 (en) 2003-03-13 2006-02-21 Amkor Technology, Inc. Method of making a leadframe for semiconductor devices
US7095103B1 (en) 2003-05-01 2006-08-22 Amkor Technology, Inc. Leadframe based memory card
US7008825B1 (en) 2003-05-27 2006-03-07 Amkor Technology, Inc. Leadframe strip having enhanced testability
US6897550B1 (en) 2003-06-11 2005-05-24 Amkor Technology, Inc. Fully-molded leadframe stand-off feature
US7245007B1 (en) 2003-09-18 2007-07-17 Amkor Technology, Inc. Exposed lead interposer leadframe package
US6921967B2 (en) * 2003-09-24 2005-07-26 Amkor Technology, Inc. Reinforced die pad support structure
US7138707B1 (en) 2003-10-21 2006-11-21 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package including leads and conductive posts for providing increased functionality
US7144517B1 (en) 2003-11-07 2006-12-05 Amkor Technology, Inc. Manufacturing method for leadframe and for semiconductor package using the leadframe
US7211879B1 (en) 2003-11-12 2007-05-01 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with chamfered corners and method of manufacturing the same
US7057268B1 (en) 2004-01-27 2006-06-06 Amkor Technology, Inc. Cavity case with clip/plug for use on multi-media card
US7091594B1 (en) 2004-01-28 2006-08-15 Amkor Technology, Inc. Leadframe type semiconductor package having reduced inductance and its manufacturing method
US20080003722A1 (en) * 2004-04-15 2008-01-03 Chun David D Transfer mold solution for molded multi-media card
US7202554B1 (en) 2004-08-19 2007-04-10 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package and its manufacturing method
US7217991B1 (en) 2004-10-22 2007-05-15 Amkor Technology, Inc. Fan-in leadframe semiconductor package
US7507603B1 (en) 2005-12-02 2009-03-24 Amkor Technology, Inc. Etch singulated semiconductor package
US7572681B1 (en) 2005-12-08 2009-08-11 Amkor Technology, Inc. Embedded electronic component package
JP2007194421A (ja) * 2006-01-19 2007-08-02 Rohm Co Ltd リードフレーム
US7902660B1 (en) 2006-05-24 2011-03-08 Amkor Technology, Inc. Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof
US7968998B1 (en) 2006-06-21 2011-06-28 Amkor Technology, Inc. Side leaded, bottom exposed pad and bottom exposed lead fusion quad flat semiconductor package
US7687893B2 (en) 2006-12-27 2010-03-30 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package having leadframe with exposed anchor pads
US7829990B1 (en) 2007-01-18 2010-11-09 Amkor Technology, Inc. Stackable semiconductor package including laminate interposer
US7982297B1 (en) 2007-03-06 2011-07-19 Amkor Technology, Inc. Stackable semiconductor package having partially exposed semiconductor die and method of fabricating the same
US7977774B2 (en) * 2007-07-10 2011-07-12 Amkor Technology, Inc. Fusion quad flat semiconductor package
US7687899B1 (en) 2007-08-07 2010-03-30 Amkor Technology, Inc. Dual laminate package structure with embedded elements
US7777351B1 (en) 2007-10-01 2010-08-17 Amkor Technology, Inc. Thin stacked interposer package
US8089159B1 (en) 2007-10-03 2012-01-03 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with increased I/O density and method of making the same
US7847386B1 (en) 2007-11-05 2010-12-07 Amkor Technology, Inc. Reduced size stacked semiconductor package and method of making the same
US7956453B1 (en) 2008-01-16 2011-06-07 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with patterning layer and method of making same
US7723852B1 (en) 2008-01-21 2010-05-25 Amkor Technology, Inc. Stacked semiconductor package and method of making same
US8067821B1 (en) 2008-04-10 2011-11-29 Amkor Technology, Inc. Flat semiconductor package with half package molding
US7768135B1 (en) 2008-04-17 2010-08-03 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with fast power-up cycle and method of making same
US7808084B1 (en) 2008-05-06 2010-10-05 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with half-etched locking features
US8125064B1 (en) 2008-07-28 2012-02-28 Amkor Technology, Inc. Increased I/O semiconductor package and method of making same
US8184453B1 (en) 2008-07-31 2012-05-22 Amkor Technology, Inc. Increased capacity semiconductor package
US7847392B1 (en) 2008-09-30 2010-12-07 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including leadframe with increased I/O
US7989933B1 (en) 2008-10-06 2011-08-02 Amkor Technology, Inc. Increased I/O leadframe and semiconductor device including same
US8008758B1 (en) 2008-10-27 2011-08-30 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with increased I/O leadframe
US8089145B1 (en) 2008-11-17 2012-01-03 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including increased capacity leadframe
US8072050B1 (en) 2008-11-18 2011-12-06 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with increased I/O leadframe including passive device
US7875963B1 (en) 2008-11-21 2011-01-25 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including leadframe having power bars and increased I/O
US7982298B1 (en) 2008-12-03 2011-07-19 Amkor Technology, Inc. Package in package semiconductor device
US8487420B1 (en) 2008-12-08 2013-07-16 Amkor Technology, Inc. Package in package semiconductor device with film over wire
US20170117214A1 (en) 2009-01-05 2017-04-27 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with through-mold via
US8680656B1 (en) 2009-01-05 2014-03-25 Amkor Technology, Inc. Leadframe structure for concentrated photovoltaic receiver package
US8058715B1 (en) 2009-01-09 2011-11-15 Amkor Technology, Inc. Package in package device for RF transceiver module
US8026589B1 (en) 2009-02-23 2011-09-27 Amkor Technology, Inc. Reduced profile stackable semiconductor package
US7960818B1 (en) 2009-03-04 2011-06-14 Amkor Technology, Inc. Conformal shield on punch QFN semiconductor package
US8575742B1 (en) 2009-04-06 2013-11-05 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with increased I/O leadframe including power bars
US8796561B1 (en) 2009-10-05 2014-08-05 Amkor Technology, Inc. Fan out build up substrate stackable package and method
US8937381B1 (en) 2009-12-03 2015-01-20 Amkor Technology, Inc. Thin stackable package and method
US9691734B1 (en) 2009-12-07 2017-06-27 Amkor Technology, Inc. Method of forming a plurality of electronic component packages
US8324511B1 (en) 2010-04-06 2012-12-04 Amkor Technology, Inc. Through via nub reveal method and structure
JP2011233811A (ja) * 2010-04-30 2011-11-17 Renesas Electronics Corp リードフレーム及びそれを用いた半導体装置の製造方法
US8294276B1 (en) 2010-05-27 2012-10-23 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device and fabricating method thereof
US8440554B1 (en) 2010-08-02 2013-05-14 Amkor Technology, Inc. Through via connected backside embedded circuit features structure and method
US8487445B1 (en) 2010-10-05 2013-07-16 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device having through electrodes protruding from dielectric layer
US8791501B1 (en) 2010-12-03 2014-07-29 Amkor Technology, Inc. Integrated passive device structure and method
US8674485B1 (en) 2010-12-08 2014-03-18 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including leadframe with downsets
US8390130B1 (en) 2011-01-06 2013-03-05 Amkor Technology, Inc. Through via recessed reveal structure and method
TWI557183B (zh) 2015-12-16 2016-11-11 財團法人工業技術研究院 矽氧烷組成物、以及包含其之光電裝置
US8648450B1 (en) 2011-01-27 2014-02-11 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including leadframe with a combination of leads and lands
US8552548B1 (en) 2011-11-29 2013-10-08 Amkor Technology, Inc. Conductive pad on protruding through electrode semiconductor device
US9704725B1 (en) 2012-03-06 2017-07-11 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with leadframe configured to facilitate reduced burr formation
US9129943B1 (en) 2012-03-29 2015-09-08 Amkor Technology, Inc. Embedded component package and fabrication method
US9048298B1 (en) 2012-03-29 2015-06-02 Amkor Technology, Inc. Backside warpage control structure and fabrication method
KR101486790B1 (ko) 2013-05-02 2015-01-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 강성보강부를 갖는 마이크로 리드프레임
KR101563911B1 (ko) 2013-10-24 2015-10-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지
US9673122B2 (en) 2014-05-02 2017-06-06 Amkor Technology, Inc. Micro lead frame structure having reinforcing portions and method
US9659843B2 (en) 2014-11-05 2017-05-23 Infineon Technologies Ag Lead frame strip with molding compound channels

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3665256A (en) * 1968-10-15 1972-05-23 Rca Corp Heat dissipation for power integrated circuits
NL7018378A (de) * 1970-12-17 1972-06-20
GB1383297A (en) * 1972-02-23 1974-02-12 Plessey Co Ltd Electrical integrated circuit package
DE2328798A1 (de) * 1972-06-23 1974-01-17 Philips Nv Halbleiteranordnung
US3926746A (en) * 1973-10-04 1975-12-16 Minnesota Mining & Mfg Electrical interconnection for metallized ceramic arrays
US4023053A (en) * 1974-12-16 1977-05-10 Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. Variable capacity diode device
FR2299724A1 (fr) * 1975-01-29 1976-08-27 Honeywell Bull Soc Ind Perfectionnements aux supports de conditionnement de micro-plaquettes de circuits integres
US4138691A (en) * 1977-06-07 1979-02-06 Nippon Electric Co., Ltd. Framed lead assembly for a semiconductor device comprising insulator reinforcing strips supported by a frame and made integral with lead strips
JPS6034268A (ja) * 1983-08-03 1985-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 被研摩加工物の保持方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4213411A1 (de) * 1991-04-26 1992-10-29 Mitsubishi Electric Corp Anschlussdraht-rahmen

Also Published As

Publication number Publication date
JPS639378B2 (de) 1988-02-29
JPS5521128A (en) 1980-02-15
US4301464A (en) 1981-11-17
DE2931449A1 (de) 1980-02-21
BR7904797A (pt) 1980-04-29
SG29183G (en) 1984-04-19
GB2027990B (en) 1983-01-19
HK53183A (en) 1983-11-18
MY8400254A (en) 1984-12-31
GB2027990A (en) 1980-02-27

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