DE2931449C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE2931449C2 DE2931449C2 DE2931449A DE2931449A DE2931449C2 DE 2931449 C2 DE2931449 C2 DE 2931449C2 DE 2931449 A DE2931449 A DE 2931449A DE 2931449 A DE2931449 A DE 2931449A DE 2931449 C2 DE2931449 C2 DE 2931449C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- lines
- lead frame
- carrier element
- holding
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49548—Cross section geometry
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01039—Yttrium [Y]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Description
Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung der im
Oberbegriff des Patentanspruchs 1 angegebenen Gattung sowie
einen Leitungsrahmen aus Metallfolie zur Herstellung einer
solchen Halbleitervorrichtung.
Eine derartige Halbleitervorrichtung und ein derartiger
Leitungsrahmen sind aus FR-A-20 20 723 bekannt. Bei dem dort
gezeigten Leitungsrahmen ist das rechteckige Trägerelement,
das zur Aufnahme von Halbleiterbauelementen dient, mit einem
Rahmenteil über vier Halteleitungen verbunden, die jeweils
mittig an den vier Seiten des Trägerelements ansetzen und zur
Mitte des jeweils betreffenden der vier Stege des rechteckigen
Rahmenteils verlaufen.
Bei steigender Anzahl der aus der gleichen Metallfolie
geformten Anschlußleitungen müssen sowohl diese selbst wie
auch die Halteleitungen schmäler ausgeführt werden, falls
nicht eine Vergrößerung der Gesamtabmessungen der fertigen
Halbleitervorrichtung in Kauf genommen werden soll. Um eine
Verschmälerung der Leitungen (auf beispielsweise 0,3 mm) zu
erzielen, muß aus stanztechnischen Gründen die Dicke der Me
tallfolie (beispielsweise auf 0,15 mm) reduziert werden. In
folgedessen wird das Trägerelement gegen die Einwirkung äuße
rer Kräfte empfindlich. Derartige Kräfte treten vor allem beim
Anbringen der Halbleiterbauelemente und beim Einbetten in
Kunstharz auf. Beide Vorgänge können zu Verformungen des Trä
gerelements führen, die vor allem beim Vergießen mit dem
Kunstharz zu einem Bruch der die inneren Enden der Anschlußleitun
gen mit den Halbleiterbauelementen verbindenden Drähte führen
können. Außerdem können beim Einfließen des Kunstharzes Wirbel
und Luftblasen entstehen, die nicht nur den optischen Eindruck
der fertigen Halbleitervorrichtung, sondern auch deren Feuch
tigkeitsbeständigkeit beeinträchtigen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Halblei
tervorrichtung sowie einen Leitungsrahmen dafür anzugeben, bei
der bzw. bei dem das Trägerelement während der Montage siche
rer und weniger beweglich gehalten ist.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im Kenn
zeichenteil des Anspruchs 1 bzw. dem des Anspruchs 5 angege
ben. Dadurch, daß die Halteleitungen an den vier Ecken
des rechteckigen Trägerelements ansetzen, werden diesem am wei
testen herausragenden Bereiche unmittelbar gehalten, so daß
das Trägerelement auch dann, wenn es zur Erzielung schmälerer
Leitungen aus einer dünnen Metallfolie geformt ist, bei Ein
wirken von Kräften weniger stark zu Form- und Lageänderungen
neigt.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen gekennzeichnet.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend an
hand der Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen zeigt
Fig. 1 eine Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel
eines Leitungsrahmens,
Fig. 2 den Leitungsrahmen nach Fig. 1 mit weiteren Tei
len der fertigen Halbleitervorrichtung,
Fig. 3 und 4 vergrößerte Teilansichten der Halbleitervor
richtung nach Fig. 2,
Fig. 5 eine Draufsicht auf einen Leitungsrahmen gemäß
einem weiteren Ausführungsbeispiel,
Fig. 6 eine vergrößerte perspektivische Teildarstellung
einer Halteleitung in dem Leitungsrahmen nach Fig. 5,
Fig. 7 und 8 schematische Ansichten zur Erläuterung der
Trennung von einer in den in Fig. 5 gezeigten Leitungs
rahmen verwendenden Halbleitervorrichtung und einem
Rahmenteil des Leitungsrahmens,
Fig. 9 eine vergrößerte Draufsicht eines Harzspritzteils
des in Fig. 5 gezeigten Leitungsrahmens, und
Fig. 10 ein Schnitt längs Ebene A-A in Fig. 9.
Fig. 1 ist eine Draufsicht einer Ausführungsform des
Leitungsrahmens gemäß der Erfindung. Der Leitungsrahmen wird
durch Stanzen oder Ätzen eines dünnen Blechs aus einer Fe-Ni-Co-
Legierung oder einer Fe-Ni-Legierung und einer Stärke von 0,15 mm
hergestellt. Die Form des Leitungsrahmens ist derart gestaltet,
daß ein rechteckiges Trägerelement 12 zur Aufnahme eines Halblei
terbauelements in der Mitte eines Rahmenteils
10 enthalten ist, der insgesamt rechteckig
ist. Das Trägerelement 12 ist an seinen vier Ecken durch vier feine,
radial verlaufende Halteleitungen 13 mit dem Rahmenteil 10
verbunden. Eine Anzahl von Leitungen 14 erstreckt sich zum Rand
des Trägerelements 12, d. h. zu seinen vier Seiten. In Fig. 1 sind
nur zwei zum Trägerelement 12 verlaufende Leitungen 14 gezeigt, um
die Darstellung übersichtlich zu halten. Die Leitungen 14
enden mit ihrem einen Ende in der Umgebung der Umfangskante
des Trägerelements 12. Das andere Ende der Leitungen 14 ist mit
dem Rahmenteil 10 verbunden. Um ein Überlaufen des während
des Formungsvorganges flüssigen Harzes zu vermeiden, sind Damm
stücke 15 zwischen aneinander angrenzenden Leitungen vorge
sehen. Ferner ist der Rahmenteil 10 mit Führungslöchern 16
versehen. L-förmige Öffnungen L 1, L 2 und L 3 sind in Teilen des
Rahmenteils 10 vorgesehen, die in der Nähe der Halteleitungen
13 liegen. Langlöcher M 1, M 2, M 3 und M 4 sind in der Nähe
der anderen Enden der Leitungen 14 vorgesehen. Die Funktion
der Öffnungen und Löcher L 1 bis L 3 und M 1 bis M 4 wird später beschrieben.
In Fig. 1 ist das Muster eines Leitungsrahmens in einem Be
reich für die Ausbildung einer einzigen Halbleitervorrichtung
darin dargestellt. Tatsächlich jedoch werden solche Muster
kontinuierlich in langer und schmaler Form ausgebildet.
Die Halbleitervorrichtung, die den beschriebenen Lei
tungsrahmen verwendet, wird in der folgenden Reihenfolge
zusammengebaut:
Zuerst wird, wie in Fig. 2 dargestellt, das Halbleiterbau
element 11 direkt auf das Trägerelement 12 des Leitungs
rahmens gebondet. Dieses Halbleiterbauelement 11 besteht aus
Silizium und enthält eine Reihe von Transistoren. In den
Randteilen des Halbleiterbauelements 11 sind Anschlußfelder
P 1, P 2, . . . aus Aluminium zur Verbindung mit den Leitungen
14 des Leitungsrahmens durch Golddrähte in im wesentlichen
der gleichen Zahl wie die Leitungen 14 vorgesehen.
Zum Bonden des Halbleiterbauelements 11 auf das Trägerelement 12
wird folgendes Verfahren verwendet. Die Seite des Halbleiterbauele
ments, auf der die Anschlußflecken angeordnet sind, wird durch
eine das Halbleiterbauelement festhaltende Auf
spannvorrichtung
festgehalten. Während die Aufspannvorrichtung in Schwingungen versetzt ist,
wird das Halbleiterbauelement 11 auf die erwähnte Oberfläche des Trägerelements
12, auf der eine Goldfolie 30 angeordnet ist, gebondet. Da
das Halbleiterbauelement aus Silizium besteht, bildet es mit der
Goldfolie eine eutektische Legierung aus und wird in perfekter
Weise auf die Oberfläche des Trägerelements 12 gebondet.
Nachfolgend werden die Aluminium-Anschlußfelder P 1, P 2 . . .
des Halbleiterbauelements und die dem Trägerelement 12 näher liegenden
Enden der Leitungen 14 jeweils durch Golddrähte w 1, w 2 . . .
miteinander verbunden.
Danach wird Harz, beispielsweise Epoxyharz, in Richtung
eines Pfeiles C gegossen. Dadurch werden die Leitungen 14,
das Trägerelement 12, die Halteleitungen 13, die Golddrähte w 1, w 2, . . .
und das Halbleiterbauelement 11, die innerhalb des Dammstückes
15 vorliegen, durch das Harz vollkommen geschützt. Eine
strichpunktierte Linie 17 gibt einen durch das Harz gebildeten
Formgießteil an. Wie aus Fig. 3 deutlich ersichtlich, wird
die Ecke des Formgießteils 17, die sich mit der Halteleitung
13 schneidet, so gegossen, daß sie eine Abschneidfläche 18
aufweist, die die Halteleitung 13 in rechtem Winkel schnei
det. Dies geschieht, um zu verhindern, daß die Eckteile des
Formgießteils mit abgeschnitten
werden, wenn später die Halteleitungen an ihren Fußpunkten
abgeschnitten werden.
Entsprechend der Schraffierung in Fig. 2 werden die
Dammstücke 15 und die entfernt vom Trägerelement 12 liegenden End
teile 31 der Leitungen 14 abgeschnitten. Da die Haltelei
tungen 13 nicht vom Rahmenteil 10 getrennt werden, wird die
Halbleitervorrichtung, die den Gießteil 17 und die Anzahl von
getrennten Leitungen 14 umfaßt, über die Halteleitungen 13
durch den Rahmenteil 10 gehalten.
In diesem Zustand der Halbleitervorrichtung werden ihre
elektrischen Eigenschaften geprüft und auf der Oberseite des
Gießteils 17 Qualitätskennzeichnungen usw. aufgedruckt.
Danach wird die Halbleitervorrichtung vom Rahmenteil 10
des Leitungsrahmens durch Abschneiden der Halteleitungen
13 an den Ecken 18 des Gießteils getrennt.
Auf diese Weise erhält man eine Halbleitervorrichtung
mit flachen Zuleitungen 14 aus dem in Fig. 1 gezeigten Lei
tungsrahmen. Im Falle der Herstellung von Dual-in-line-Halb
leitervorrichtungen durch Abbiegen der aus dem Gießteil 17 lang
hervorragenden Leitungen 14 nach unten erfolgt das Biegen
der Leitungen 14 gleichzeitig mit dem Abschneiden der Halte
leitungen 13.
Mit dem Leitungsrahmen obiger Ausführungsform sind fol
gende Wirkungen zu erwarten:
- (A) Das rechteckige Trägerelement 12 zur Aufnahme des Halbleiterbauele
ments 11 wird durch die vier Halteleitungen 13 gehal
ten, die sich längs der Diagonalen des Trägerelements 12 erstrecken. Da
her ist dieses Trägerelement 12 nur schwierig zu bewegen oder zu
neigen und zeigt eine ausgezeichnete Starrheit. Dementsprechend
ergeben sich folgende Vorteile.
- 1. Beim automatischen Anbringen des Halbleiterbauelements 11 auf dem Trägerelement 12 läßt sich die gewünschte räumliche Anord nung des Halbleiterbauelements 11 bezüglich des Trägerelements 12 zuver lässig durchführen. Deshalb geschieht auch das Bonden der Drähte w 1, w 2, . . . zum Verbinden der Bondfelder P 1, P 2, . . . des Halbleiterbauelements 11 mit den Leitungen 14 zuverlässig. Das heißt, selbst in Fällen von Halbleitervorrichtungen, die viele nahe beieinanderliegende Leitungen aufweisen, ist die Automatisierung des Anbringens des Halbleiterbauelements 11 sowie das Drahtbonden mit der Leitungsrahmenstruktur sehr einfach.
- 2. Beim Anbringen des Halbleiterbauelements 11 am Trägerelement 12 durch Reiben mit dem das Halbleiterbauelement festhaltenden Spannstück schwingt das Trägerelement nicht. Infolgedessen erfolgt eine vollkommene Verbindung von Halbleiterbauelement 11 und Trägerelement 12. Dies löst das Problem des Auftretens von Rissen im Halbleiterbauelement.
- 3. Da das Harz aus dem Bereich eines der Halteleitungen 13, wie durch den Pfeil C in Fig. 2 angedeutet, gegossen wird, neigt sich das Trägerelement 12 nicht. Deshalb kommt es nicht vor, daß starke Kräfte auf die Drähte wirken, die zu einem Drahtbruch führen oder die Drähte miteinander in Berührung bringen könnten.
- 4. Während des Harzgießens neigt sich das Trägerelement nicht un ter der Wirkung des einströmenden Harzes, und ebensowenig entstehen Wirbel als Folge eines Strömungsschattens. Deshalb treten weder im Inneren des Gießteils 17 noch an seiner Ober fläche Luftblasen auf. Infolgedessen entsteht selbst bei dünn gehaltenem Harz eine ausgezeichnete Halbleitervorrich tung, bei welcher weder die Feuchtigkeitsbeständigkeit noch der optische Eindruck verschlechtert ist.
- (B) Im Bereich der vom Trägerelement 12 entfernten Enden der Halte leitungen 13 und Leitungen 14 sind die Öffnungen und Löcher L 1, L 2, L 3, M 1, M 2, M 3 und M 4 vorgesehen. Dementsprechend ergeben sich die folgenden Vorteile.
- Während des Aushärtens des Harzes kann verhindert werden, daß der Rahmenteil 10 des Leitungsrahmens zum Trägerelement 12, der im Mittelteil des Leitungsrahmens vorliegt, gezogen wird. Deshalb entstehen keine Verkrümmungen oder Verziehungen des Leitungsrahmens, und das Anordnen oder Umsetzen mit den Füh rungslöchern 16 des Leitungsrahmens wird nicht erschwert.
- (C) Nach dem Abschneiden der Dammstücke 15 und der anderen
Endteile 31 der Leitungen 14 wird die Halbleitervorrichtung
über die Halteleitungen 13 durch den Rahmenteil 10 gehal
ten. Dementsprechend ergeben sich die folgenden Vorteile.
- 1. Bei der Prüfung der elektrischen Eigenschaften und bei der Markierung der einzelnen Halbleitervorrichtungen ist das Umsetzen mit den Führungslöchern 16 des Leitungsrahmens mög lich. Das heißt, das Prüfen und Markieren der Halbleitervor richtungen kann kontinuierlich geschehen, was die Akkord leistung erheblich erhöht.
- 2. Die Handhabung der einzelnen Halbleitervorrichtungen geschieht in einem Zustand regelmäßiger Anordnung auf einer einzigen Bahn von Leitungsrahmen. Daher können sich die Halbleitervorrichtungen nicht ineinander verhängen. Ein Brechen von Leitungen usw. tritt ebenfalls nicht auf.
- 3. Die einzelnen Halbleitervorrichtungen können durch Tra gen am Rahmenteil 10 des Leitungsrahmens transportiert werden. Daher werden die Leitungen nicht direkt berührt. Infolgedessen tritt ein Brechen der Leitungen usw. nicht auf. Insbesondere wenn das eingegossene Halbleiterbauelement aus mehreren MOS-Transistoren aufgebaut ist, bei denen die Ge fahr eines elektrostatischen Durchbruchs besteht, ist ein solcher vermeidbar.
Im folgenden werden Abwandlungen von Ausführungsbeispielen der Erfindung beschrie
ben.
- (a) Wie in Fig. 3 gezeigt, ist eine V-förmige Nut 20 in der Halteleitung 13 vorgesehen.
- Durch Vorsehen dieser Nut 20 läßt sich die Haltelei tung in dieser Nut im Durchtrennungsschritt leicht ab schneiden.
- Ferner kann durch diese Nut 20 verhindert werden, daß die Halteleitung beim Kappen herauskommt. Das heißt, die Halteleitung 13 kann an der Nut 20 leicht durchtrennt werden, ohne daß an der Leitung beim Abschneiden stark gezogen wird.
- Fehlt eine solche Nut 20, besteht die Gefahr, daß die Halteleitung beim Abschneiden abfällt, so daß sich eine Halbleitervorrichtung hoher Zuverlässigkeit wegen einer ver schlechterten Feuchtigkeitsbeständigkeit nicht erzielen läßt. Wie aus Fig. 1 ersichtlich, erstreckt sich die Haltelei tung 13 nämlich gerade vom Trägerelement 12 weg, wobei ihre Breite im Verbindungspunkt zwischen Trägerelement 12 und Halteleitung 13 sehr klein ist. Wenn daher beim Abschneiden an der Halte leitung 13 gezogen wird, besteht die Möglichkeit, daß der Verbindungspunkt hochschnellt, was das Abfallen der Haltelei tung bewirkt und die Feuchtigkeitsbeständigkeit verschlech tert. Selbst wenn der Verbindungspunkt nicht hochschnellt, wird an der Halteleitung 13 in erheblichem Maße gezogen, so daß die Möglichkeit der Bildung eines freien Raumes zwischen der Halteleitung und dem Harz besteht, was die Feuchtigkeits beständigkeit verschlechtert.
- (b) Wenigstens eine der Halteleitungen kann als Erdleitung verwendet werden. Wie in Fig. 4 dargestellt, setzt sich eine Halteleitung 13 parallel zu den Leitungen 14 fort. Diese Halteleitung 13 wird als Erdleitung verwen det.
- (c) Bei vorstehender Ausführungsform hat die Ecke des Gieß teils 17, wie in Fig. 3 gezeigt, eine abgeschnittene Fläche 18. Zur Erzielung einer solchen abgefasten Struktur muß eine entsprechende Form für das Harz verwendet werden. Die Form ist teuer, weil das Ausbilden der Form außerordentlich schwie rig ist.
Es ist wünschenswert, die Gießform durch Verwendung
einer Form zu ermöglichen, die billig ist.
Ein Leitungsrahmen, wie er in Fig. 5 gezeigt ist, ist als
ein Aufbau geeignet, bei welchem die Ecken des Gießteils nicht
abgefast sind. Diese Abwandlung ist derart, daß jede der
Halteleitungen 13 mit zwei sich im Bereich des Rahmenteils
10 Y-förmig verzweigenden Zweigleitungen 19 versehen ist.
Fig. 6 zeigt eine vergrößerte perspektivische Ansicht der
Halteleitung 13, die die zwei Zweigleitungen 19 aufweist. Gemäß
den Fig. 5 und 6 in den Zweigleitungen 19 vorgesehene
V-förmige Nuten 20 dienen zur Erleichterung der Trennung der
Halteleitung 13 vom Rahmenteil 10 in ähnlicher Weise wie
die weiter obenerwähnten Nuten.
Bei diesem Leitungsrahmen wird das Gießteil entsprechend
der strichpunktierten Linie 17 in Fig. 5 ausgebildet. Die
Zweigleitungen 19 werden entsprechend den strichpunktierten
Linien 32 in Fig. 7 abgeschnitten. Das heißt, die Zweig
leitungen 19 werden vom Rahmenteil 10 in ihren V-förmigen
Nuten 20 abgetrennt. In Fig. 5 sind das Halbleiterbauelement
und die Drähte nicht gezeigt, sie sind aber wie in Fig. 2
auf dem Leitungsrahmen angeordnet.
Demzufolge werden bei dem Leitungsrahmen mit solchen
Halteleitungen die Eckteile des Gießteils beim Abschneiden
der Halteleitungen nicht ab
geschnitten.
Gemäß dieser abgewandelten Ausführungsform der Erfindung
mit den Zweigleitungen 19 ist in noch stärkerem Maße zu er
warten, daß ein Abfallen der Halteleitungen verhindert ist.
Wie im einzelnen in Fig. 8 gezeigt, liegt zwischen den bei
den Zweigleitungen 19 ein Stück 17′ des Gießteils 17 vor. Dieses
Stück 17′ verhindert, daß die Halteleitungen 13 beim Abschneiden
der Zweigleitungen 19 zum Rahmenteil 10 hin (in Richtung des
Pfeiles D) gezogen werden. Infolgedessen ist ein Abfallen
der Halteleitungen in vollkommener Weise verhindert. Somit
läßt sich eine Halbleitervorrichtung hoher Feuchtigkeits
beständigkeit herstellen.
Insbesondere ist bei diesem Leitungsrahmen der Abschnitt
der Harzgießöffnung verbessert.
Gemäß Fig. 5 strömt das Harz durch einen Harzgießabschnitt 21
auf das Trägerelement 12 zu. Der Raum in dem Harzgießabschnitt
21, der von den Zweigleitungen 19 und dem Rahmenteil 10 um
schlossen ist, ist größer ausgebildet als die anderen Räume
40, 41 und 42. Dementsprechend strömt das Harz in
ausreichendem Maße zum Trägerelement 12. Dies löst das Problem einer
Freilegung des Halbleiterbauelements oder der Drähte usw. infolge
eines ungenügenden Einströmens des Harzes. Dieser Punkt wird
nun unter Bezugnahme auf Fig. 9, die eine vergrößerte Drauf
sicht des Harzgießabschnitts 21 ist, und auf Fig. 10, die ein
Schnitt längs A-A in Fig. 9 ist, erläutert.
Wie in den Fig. 9 und 10 gezeigt, weisen bei 50 und 50′
angegebene Harzgießformen einen Teil 51, der in engem Kontakt
mit dem Leitungsrahmen liegt, und einen Raum 52 auf, der
nicht in engem Kontakt mit dem Leitungsrahmen liegt. Das
Harz strömt durch den Harzgießabschnitt 21 in den Raum 52 ein und
bildet das Gießteil der Halbleitervorrichtung. Der Grund,
warum das Harz in ausreichendem Maße in den Raum 52 ein
strömt, liegt darin, daß, wie in Fig. 10 zu sehen, der Rah
menteil 10 des Leitungsrahmens in einer Harzgießöffnung 54
der Formen 50 und 50′ nicht vorhanden ist. Das heißt, der
Leitungsrahmen wird zwischen den Formen 50 und 50′ so gehal
ten, daß die Harzgießöffnung 54 am Harzgießabschnitt 21
des Leitungsrahmens liegt.
Wenn der Rahmenteil des Leitungsrahmens an der Harzgieß
öffnung 54 liegt, wie durch gestrichelte Linien 10′ angedeutet,
wird die Breite w 1 der Harzgießöffnung 54 um die Dicke des
Leitungsrahmens kleiner. Infolgedessen fließt das Harz (17)
nicht in ausreichendem Maße in den Raum 52. Um ein ausreichen
des Strömen des Harzes (17) in den Raum 52 zu bewirken, können
die Breite w 1 der Harzgießöffnung 54 im Hinblick auf die Dicke
des Leitungsrahmens größer gemacht werden. Dann
ist es jedoch schwierig, eine Halbleitervorrichtung mit dünnem
Gießteil herzustellen.
Ferner ist in einem Angußkanal 22, wie in Fig. 10 dar
gestellt, eine Stufe 60 ausgebildet. Beim Trennen
des Gießteils vom Angußkanal wirkt daher ein Zug konzen
triert an der Stufe 60. Daher werden das Gießteil
und der Angußkanal 22 an der Stufe 60 getrennt. Als Folge
davon werden die Formen der Angußnasen bei Guß
artikeln gleichförmig, so daß der Nachteil unregelmäßiger
Trennteile vermeidbar ist.
Bei den oben beschriebenen Ausführungsformen der Erfindung
erstrecken sich die vier Halteleitungen strahlenförmig vom Trägerelement
zum Rahmenteil des Leitungsrahmens. Dies ist so, weil das Träger
element rechteckig geformt ist.
Claims (14)
1. Halbleitervorrichtung mit
einem aus einer Metallfolie geformten rechteckigen Trä gerelement (12), auf dem ein Halbleiterbauelement (11) ange ordnet ist,
vier mit jeweils einem Ende an das Trägerelement (12) an geformten Halteleitungen (13),
einer Vielzahl von ebenfalls aus der Metallfolie geform ten Anschlußleitungen (14), die sich jeweils mit einem Ende in Richtung des Randes des Trägerelements (12) erstrecken und über Drähte (W 1, W 2 . . .) mit dem Halbleiterbauelement (11) verbunden sind, und
einem das Trägerelement (12), das Halbleiterbauelement (11), die Drähte (W 1, W 2 . . .) und die dem Trägerelement (12) zugewandten Enden der Halte- und der Anschlußleitungen (13, 14) umschließenden Kunstharz-Gießteil (17),
dadurch gekennzeichnet, daß die Halteleitungen (13) an den vier Ecken des Trägerelements (12) ansetzen und sich strahlenförmig weg erstrecken.
einem aus einer Metallfolie geformten rechteckigen Trä gerelement (12), auf dem ein Halbleiterbauelement (11) ange ordnet ist,
vier mit jeweils einem Ende an das Trägerelement (12) an geformten Halteleitungen (13),
einer Vielzahl von ebenfalls aus der Metallfolie geform ten Anschlußleitungen (14), die sich jeweils mit einem Ende in Richtung des Randes des Trägerelements (12) erstrecken und über Drähte (W 1, W 2 . . .) mit dem Halbleiterbauelement (11) verbunden sind, und
einem das Trägerelement (12), das Halbleiterbauelement (11), die Drähte (W 1, W 2 . . .) und die dem Trägerelement (12) zugewandten Enden der Halte- und der Anschlußleitungen (13, 14) umschließenden Kunstharz-Gießteil (17),
dadurch gekennzeichnet, daß die Halteleitungen (13) an den vier Ecken des Trägerelements (12) ansetzen und sich strahlenförmig weg erstrecken.
2. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Gießteil (17) senkrecht zu den Halteleitun
gen (13) verlaufende Außenflächen (18) aufweist.
3. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Gießteil (17) rechteckig ist, und daß die
vier Halteleitungen (13) in Richtung der vier Ecken des Gieß
teils (17) verlaufen und sich innerhalb desselben jeweils in
zwei senkrecht zu den Außenflächen des Gießteils (17) verlau
fende Arme (19) verzweigen.
4. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß Anschlußleitungen (14) auf alle
vier Seiten des Trägerelements (12) zu verlaufen.
5. Leitungsrahmen aus Metallfolie zur Herstellung einer
Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, mit
einem rechteckigen Trägerelement (12) für ein Halbleiter bauelement (11),
vier Halteleitungen (13), die an ihren einen Enden das Trägerelement (12) halten,
einer Vielzahl von Anschlußleitungen (14), die sich je weils mit einem Ende in Richtung des Randes des Trägerelements (12) erstrecken, und
einem Rahmenteil (10), das die anderen Enden der Halte- und der Anschlußleitungen (13, 14) hält,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halteleitungen (13) die vier Ecken des Trägerelements (12) mit dem Rahmenteil (10) verbinden und strahlenförmig verlaufen.
einem rechteckigen Trägerelement (12) für ein Halbleiter bauelement (11),
vier Halteleitungen (13), die an ihren einen Enden das Trägerelement (12) halten,
einer Vielzahl von Anschlußleitungen (14), die sich je weils mit einem Ende in Richtung des Randes des Trägerelements (12) erstrecken, und
einem Rahmenteil (10), das die anderen Enden der Halte- und der Anschlußleitungen (13, 14) hält,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halteleitungen (13) die vier Ecken des Trägerelements (12) mit dem Rahmenteil (10) verbinden und strahlenförmig verlaufen.
6. Leitungsrahmen nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die vier Halteleitungen (13) in Verlängerung der Diagonalen des Träger
elements (12) verlaufen.
7. Leitungsrahmen nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß Anschlußleitungen (14) auf alle vier Seiten des
Trägerelements (12) zu verlaufen.
8. Leitungsrahmen nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die auf jede Seite des Trägerelements (12) zu verlaufenden
Anschlußleitungen (14) an ihren dem Trägerelement (12) zuge
wandten Enden durch ein erstes Band (15) gehalten sind.
9. Leitungsrahmen nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekenn
zeichnet, daß die auf jede Seite des Trägerelements (12) zu
verlaufenden Anschlußleitungen (14) an ihren dem Rahmenteil
(10) zugewandten Enden durch ein zweites Band (31) gehalten
sind.
10. Leitungsrahmen nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß jede Halteleitung (13) an ihrem vom Trä
gerelement (12) abgewandten Ende eine Nut (20) aufweist.
11. Leitungsrahmen nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß sich jede Halteleitung (13) an ihrem dem
Rahmenteil (10) zugewandten Ende verzweigt und mit diesem über
zwei Arme (19) verbunden ist.
12. Leitungsrahmen nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß jeder Arm (19) eine Nut (20) aufweist.
13. Leitungsrahmen nach Anspruch 10 oder 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Nut (20) V-förmig ist.
14. Leitungsrahmen nach einem der Ansprüche 5 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß der Rahmenteil (10) im Bereich der ihm zu
gewandten Enden der Halteleitungen (13) jeweils eine L-förmige Öffnung (L 1,
L 2, L 3) aufweist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9360778A JPS5521128A (en) | 1978-08-02 | 1978-08-02 | Lead frame used for semiconductor device and its assembling |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2931449A1 DE2931449A1 (de) | 1980-02-21 |
DE2931449C2 true DE2931449C2 (de) | 1990-09-13 |
Family
ID=14087008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19792931449 Granted DE2931449A1 (de) | 1978-08-02 | 1979-08-02 | Leitungsrahmen und denselben verwendende halbleitervorrichtung |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4301464A (de) |
JP (1) | JPS5521128A (de) |
BR (1) | BR7904797A (de) |
DE (1) | DE2931449A1 (de) |
GB (1) | GB2027990B (de) |
HK (1) | HK53183A (de) |
MY (1) | MY8400254A (de) |
SG (1) | SG29183G (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4213411A1 (de) * | 1991-04-26 | 1992-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | Anschlussdraht-rahmen |
Families Citing this family (169)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4400714A (en) * | 1980-11-06 | 1983-08-23 | Jade Corporation | Lead frame for semiconductor chip |
FR2498377A1 (fr) * | 1981-01-16 | 1982-07-23 | Thomson Csf Mat Tel | Procede de fabrication de dispositifs semiconducteurs sur bande metallique |
US4477827A (en) * | 1981-02-02 | 1984-10-16 | Northern Telecom Limited | Lead frame for leaded semiconductor chip carriers |
US4445271A (en) * | 1981-08-14 | 1984-05-01 | Amp Incorporated | Ceramic chip carrier with removable lead frame support and preforated ground pad |
US4408218A (en) * | 1981-03-27 | 1983-10-04 | Amp Incorporated | Ceramic chip carrier with lead frame having removable rim |
US4451973A (en) * | 1981-04-28 | 1984-06-05 | Matsushita Electronics Corporation | Method for manufacturing a plastic encapsulated semiconductor device and a lead frame therefor |
JPS5861654A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-12 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
DE3378092D1 (en) * | 1982-03-08 | 1988-10-27 | Motorola Inc | Integrated circuit lead frame |
JPS58165358A (ja) * | 1982-03-26 | 1983-09-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法およびそれに用いるリ−ドフレ−ム |
US4490902A (en) * | 1982-09-03 | 1985-01-01 | General Motors Corporation | Lead frame for molded integrated circuit package |
US4706105A (en) * | 1983-02-02 | 1987-11-10 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device and method of producing the same |
JPS6068639A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-04-19 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
US4558345A (en) * | 1983-10-27 | 1985-12-10 | Rca Corporation | Multiple connection bond pad for an integrated circuit device and method of making same |
JPS60176552U (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-22 | 凸版印刷株式会社 | エツチング部品 |
DE3575497D1 (de) * | 1984-05-02 | 1990-02-22 | Gte Prod Corp | Verfahren zum herstellen eines gekapselten ic-plaettchens. |
DE3566476D1 (en) * | 1984-05-02 | 1988-12-29 | Gte Prod Corp | Packaged integrated circuit chip |
JPS6123351A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-01-31 | Nec Corp | リ−ドフレ−ム |
JPS60121748A (ja) * | 1984-07-25 | 1985-06-29 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPS60121749A (ja) * | 1984-07-25 | 1985-06-29 | Hitachi Ltd | リ−ドフレ−ム |
JPS60121747A (ja) * | 1984-07-25 | 1985-06-29 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPS6139558A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-25 | Toshiba Glass Co Ltd | 半導体回路基板 |
JPS62500338A (ja) * | 1984-09-27 | 1987-02-05 | モトロ−ラ・インコ−ポレ−テッド | 支持リ−ドの改良された構造をもつリ−ドフレ−ムおよびこれを用いる半導体装置 |
JPS6281738A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-15 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | リ−ドフレ−ムおよびそれを用いた半導体装置 |
US4721993A (en) * | 1986-01-31 | 1988-01-26 | Olin Corporation | Interconnect tape for use in tape automated bonding |
JPS62232948A (ja) * | 1986-04-03 | 1987-10-13 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | リ−ドフレ−ム |
JPS62254456A (ja) * | 1986-04-26 | 1987-11-06 | Yamada Seisakusho:Kk | リ−ドフレ−ム |
US4721992A (en) * | 1986-06-26 | 1988-01-26 | National Semiconductor Corporation | Hinge tape |
US4803540A (en) * | 1986-11-24 | 1989-02-07 | American Telephone And Telegraph Co., At&T Bell Labs | Semiconductor integrated circuit packages |
USRE34269E (en) * | 1986-11-24 | 1993-06-01 | At&T Bell Laboratories | Semiconductor integrated circuit packages |
US4800419A (en) * | 1987-01-28 | 1989-01-24 | Lsi Logic Corporation | Support assembly for integrated circuits |
JPH0831556B2 (ja) * | 1987-02-20 | 1996-03-27 | 株式会社東芝 | 半導体装置用リードフレーム |
JP2534251B2 (ja) * | 1987-02-20 | 1996-09-11 | 日東電工株式会社 | 半導体装置 |
US4859632A (en) * | 1987-12-28 | 1989-08-22 | Siemens Corporate Research And Support, Inc. | Method for manufacturing the same |
JP2632528B2 (ja) * | 1988-02-08 | 1997-07-23 | 新光電気工業株式会社 | リードフレーム |
JPH0828455B2 (ja) * | 1988-02-24 | 1996-03-21 | 富士通株式会社 | リードフレーム及びそれを用いた電子部品の製造方法 |
JPH0220740A (ja) * | 1988-07-07 | 1990-01-24 | Ngk Insulators Ltd | グレーティング |
JPH0247437A (ja) * | 1988-08-06 | 1990-02-16 | Shuichi Ito | 溝蓋 |
JPH0252459A (ja) * | 1988-08-17 | 1990-02-22 | Nec Kyushu Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
JPH07105469B2 (ja) * | 1989-05-19 | 1995-11-13 | 三洋電機株式会社 | リードフレームとその加工方法、および半導体装置の製法 |
DE4021871C2 (de) * | 1990-07-09 | 1994-07-28 | Lsi Logic Products Gmbh | Hochintegriertes elektronisches Bauteil |
JPH0446175U (de) * | 1990-08-20 | 1992-04-20 | ||
KR920018907A (ko) * | 1991-03-23 | 1992-10-22 | 김광호 | 반도체 리드 프레임 |
JPH079960B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1995-02-01 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
US5289032A (en) * | 1991-08-16 | 1994-02-22 | Motorola, Inc. | Tape automated bonding(tab)semiconductor device and method for making the same |
JPH05243455A (ja) * | 1992-03-02 | 1993-09-21 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
NL195026C (nl) * | 1992-04-22 | 2003-06-18 | Yamaha Corporation | Werkwijze voor het bewerken van een raam van elektrische geleiders voor een halfgeleiderelement. |
US5541447A (en) * | 1992-04-22 | 1996-07-30 | Yamaha Corporation | Lead frame |
JP3016661B2 (ja) * | 1992-08-10 | 2000-03-06 | ローム株式会社 | リードフレーム |
US5293065A (en) * | 1992-08-27 | 1994-03-08 | Texas Instruments, Incorporated | Lead frame having an outlet with a larger cross sectional area than the inlet |
US5367124A (en) * | 1993-06-28 | 1994-11-22 | International Business Machines Corporation | Compliant lead for surface mounting a chip package to a substrate |
US5517056A (en) * | 1993-09-30 | 1996-05-14 | Motorola, Inc. | Molded carrier ring leadframe having a particular resin injecting area design for gate removal and semiconductor device employing the same |
US5665296A (en) * | 1994-03-24 | 1997-09-09 | Intel Corporation | Molding technique for molding plastic packages |
JP2687946B2 (ja) * | 1995-08-16 | 1997-12-08 | 日本電気株式会社 | リードフレーム |
DE19736895A1 (de) * | 1996-09-05 | 1998-04-16 | Int Rectifier Corp | Gehäuse für Halbleiterbauteile |
US5886397A (en) * | 1996-09-05 | 1999-03-23 | International Rectifier Corporation | Crushable bead on lead finger side surface to improve moldability |
US7112474B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-09-26 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US7005326B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-02-28 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US7332375B1 (en) | 1998-06-24 | 2008-02-19 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US6143981A (en) | 1998-06-24 | 2000-11-07 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package |
US7071541B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-07-04 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package |
US6893900B1 (en) | 1998-06-24 | 2005-05-17 | Amkor Technology, Inc. | Method of making an integrated circuit package |
US7030474B1 (en) | 1998-06-24 | 2006-04-18 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package |
US6448633B1 (en) * | 1998-11-20 | 2002-09-10 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package and method of making using leadframe having lead locks to secure leads to encapsulant |
KR200309906Y1 (ko) * | 1999-06-30 | 2003-04-14 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 제조용 리드프레임 |
KR100379089B1 (ko) | 1999-10-15 | 2003-04-08 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지 |
KR100403142B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2003-10-30 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
KR100526844B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2005-11-08 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 및 그 제조방법 |
KR20010037247A (ko) | 1999-10-15 | 2001-05-07 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지 |
US6580159B1 (en) | 1999-11-05 | 2003-06-17 | Amkor Technology, Inc. | Integrated circuit device packages and substrates for making the packages |
US20070176287A1 (en) * | 1999-11-05 | 2007-08-02 | Crowley Sean T | Thin integrated circuit device packages for improved radio frequency performance |
US6847103B1 (en) | 1999-11-09 | 2005-01-25 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with exposed die pad and body-locking leadframe |
KR100421774B1 (ko) | 1999-12-16 | 2004-03-10 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 및 그 제조 방법 |
US6639308B1 (en) * | 1999-12-16 | 2003-10-28 | Amkor Technology, Inc. | Near chip size semiconductor package |
KR100583494B1 (ko) * | 2000-03-25 | 2006-05-24 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
US7042068B2 (en) * | 2000-04-27 | 2006-05-09 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe and semiconductor package made using the leadframe |
JP4669166B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2011-04-13 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置 |
JP4523138B2 (ja) * | 2000-10-06 | 2010-08-11 | ローム株式会社 | 半導体装置およびそれに用いるリードフレーム |
KR20020058209A (ko) * | 2000-12-29 | 2002-07-12 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지 |
KR100731007B1 (ko) * | 2001-01-15 | 2007-06-22 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 적층형 반도체 패키지 |
US6545345B1 (en) | 2001-03-20 | 2003-04-08 | Amkor Technology, Inc. | Mounting for a package containing a chip |
US6967395B1 (en) | 2001-03-20 | 2005-11-22 | Amkor Technology, Inc. | Mounting for a package containing a chip |
KR100369393B1 (ko) | 2001-03-27 | 2003-02-05 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지와 그 제조 방법 |
KR100393448B1 (ko) | 2001-03-27 | 2003-08-02 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 및 그 제조 방법 |
US7045883B1 (en) | 2001-04-04 | 2006-05-16 | Amkor Technology, Inc. | Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package and method of making same |
US7064009B1 (en) | 2001-04-04 | 2006-06-20 | Amkor Technology, Inc. | Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package and method of making same |
US6597059B1 (en) | 2001-04-04 | 2003-07-22 | Amkor Technology, Inc. | Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package |
US6900527B1 (en) | 2001-09-19 | 2005-05-31 | Amkor Technology, Inc. | Lead-frame method and assembly for interconnecting circuits within a circuit module |
US7485952B1 (en) | 2001-09-19 | 2009-02-03 | Amkor Technology, Inc. | Drop resistant bumpers for fully molded memory cards |
US6630726B1 (en) | 2001-11-07 | 2003-10-07 | Amkor Technology, Inc. | Power semiconductor package with strap |
US7446423B2 (en) * | 2002-04-17 | 2008-11-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device and method for assembling the same |
US6818973B1 (en) * | 2002-09-09 | 2004-11-16 | Amkor Technology, Inc. | Exposed lead QFP package fabricated through the use of a partial saw process |
US6919620B1 (en) | 2002-09-17 | 2005-07-19 | Amkor Technology, Inc. | Compact flash memory card with clamshell leadframe |
US7723210B2 (en) | 2002-11-08 | 2010-05-25 | Amkor Technology, Inc. | Direct-write wafer level chip scale package |
US7190062B1 (en) | 2004-06-15 | 2007-03-13 | Amkor Technology, Inc. | Embedded leadframe semiconductor package |
US7361533B1 (en) | 2002-11-08 | 2008-04-22 | Amkor Technology, Inc. | Stacked embedded leadframe |
US6905914B1 (en) | 2002-11-08 | 2005-06-14 | Amkor Technology, Inc. | Wafer level package and fabrication method |
US6798047B1 (en) | 2002-12-26 | 2004-09-28 | Amkor Technology, Inc. | Pre-molded leadframe |
US6847099B1 (en) | 2003-02-05 | 2005-01-25 | Amkor Technology Inc. | Offset etched corner leads for semiconductor package |
US6750545B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-06-15 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package capable of die stacking |
US6794740B1 (en) | 2003-03-13 | 2004-09-21 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe package for semiconductor devices |
US7001799B1 (en) | 2003-03-13 | 2006-02-21 | Amkor Technology, Inc. | Method of making a leadframe for semiconductor devices |
US7095103B1 (en) | 2003-05-01 | 2006-08-22 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe based memory card |
US7008825B1 (en) | 2003-05-27 | 2006-03-07 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe strip having enhanced testability |
US6897550B1 (en) | 2003-06-11 | 2005-05-24 | Amkor Technology, Inc. | Fully-molded leadframe stand-off feature |
US7245007B1 (en) | 2003-09-18 | 2007-07-17 | Amkor Technology, Inc. | Exposed lead interposer leadframe package |
US6921967B2 (en) * | 2003-09-24 | 2005-07-26 | Amkor Technology, Inc. | Reinforced die pad support structure |
US7138707B1 (en) | 2003-10-21 | 2006-11-21 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package including leads and conductive posts for providing increased functionality |
US7144517B1 (en) | 2003-11-07 | 2006-12-05 | Amkor Technology, Inc. | Manufacturing method for leadframe and for semiconductor package using the leadframe |
US7211879B1 (en) | 2003-11-12 | 2007-05-01 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with chamfered corners and method of manufacturing the same |
US7057268B1 (en) | 2004-01-27 | 2006-06-06 | Amkor Technology, Inc. | Cavity case with clip/plug for use on multi-media card |
US7091594B1 (en) | 2004-01-28 | 2006-08-15 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe type semiconductor package having reduced inductance and its manufacturing method |
US20080003722A1 (en) * | 2004-04-15 | 2008-01-03 | Chun David D | Transfer mold solution for molded multi-media card |
US7202554B1 (en) | 2004-08-19 | 2007-04-10 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package and its manufacturing method |
US7217991B1 (en) | 2004-10-22 | 2007-05-15 | Amkor Technology, Inc. | Fan-in leadframe semiconductor package |
US7507603B1 (en) | 2005-12-02 | 2009-03-24 | Amkor Technology, Inc. | Etch singulated semiconductor package |
US7572681B1 (en) | 2005-12-08 | 2009-08-11 | Amkor Technology, Inc. | Embedded electronic component package |
JP2007194421A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Rohm Co Ltd | リードフレーム |
US7902660B1 (en) | 2006-05-24 | 2011-03-08 | Amkor Technology, Inc. | Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof |
US7968998B1 (en) | 2006-06-21 | 2011-06-28 | Amkor Technology, Inc. | Side leaded, bottom exposed pad and bottom exposed lead fusion quad flat semiconductor package |
US7687893B2 (en) | 2006-12-27 | 2010-03-30 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package having leadframe with exposed anchor pads |
US7829990B1 (en) | 2007-01-18 | 2010-11-09 | Amkor Technology, Inc. | Stackable semiconductor package including laminate interposer |
US7982297B1 (en) | 2007-03-06 | 2011-07-19 | Amkor Technology, Inc. | Stackable semiconductor package having partially exposed semiconductor die and method of fabricating the same |
US7977774B2 (en) * | 2007-07-10 | 2011-07-12 | Amkor Technology, Inc. | Fusion quad flat semiconductor package |
US7687899B1 (en) | 2007-08-07 | 2010-03-30 | Amkor Technology, Inc. | Dual laminate package structure with embedded elements |
US7777351B1 (en) | 2007-10-01 | 2010-08-17 | Amkor Technology, Inc. | Thin stacked interposer package |
US8089159B1 (en) | 2007-10-03 | 2012-01-03 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with increased I/O density and method of making the same |
US7847386B1 (en) | 2007-11-05 | 2010-12-07 | Amkor Technology, Inc. | Reduced size stacked semiconductor package and method of making the same |
US7956453B1 (en) | 2008-01-16 | 2011-06-07 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with patterning layer and method of making same |
US7723852B1 (en) | 2008-01-21 | 2010-05-25 | Amkor Technology, Inc. | Stacked semiconductor package and method of making same |
US8067821B1 (en) | 2008-04-10 | 2011-11-29 | Amkor Technology, Inc. | Flat semiconductor package with half package molding |
US7768135B1 (en) | 2008-04-17 | 2010-08-03 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with fast power-up cycle and method of making same |
US7808084B1 (en) | 2008-05-06 | 2010-10-05 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with half-etched locking features |
US8125064B1 (en) | 2008-07-28 | 2012-02-28 | Amkor Technology, Inc. | Increased I/O semiconductor package and method of making same |
US8184453B1 (en) | 2008-07-31 | 2012-05-22 | Amkor Technology, Inc. | Increased capacity semiconductor package |
US7847392B1 (en) | 2008-09-30 | 2010-12-07 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe with increased I/O |
US7989933B1 (en) | 2008-10-06 | 2011-08-02 | Amkor Technology, Inc. | Increased I/O leadframe and semiconductor device including same |
US8008758B1 (en) | 2008-10-27 | 2011-08-30 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with increased I/O leadframe |
US8089145B1 (en) | 2008-11-17 | 2012-01-03 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including increased capacity leadframe |
US8072050B1 (en) | 2008-11-18 | 2011-12-06 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with increased I/O leadframe including passive device |
US7875963B1 (en) | 2008-11-21 | 2011-01-25 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe having power bars and increased I/O |
US7982298B1 (en) | 2008-12-03 | 2011-07-19 | Amkor Technology, Inc. | Package in package semiconductor device |
US8487420B1 (en) | 2008-12-08 | 2013-07-16 | Amkor Technology, Inc. | Package in package semiconductor device with film over wire |
US20170117214A1 (en) | 2009-01-05 | 2017-04-27 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with through-mold via |
US8680656B1 (en) | 2009-01-05 | 2014-03-25 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe structure for concentrated photovoltaic receiver package |
US8058715B1 (en) | 2009-01-09 | 2011-11-15 | Amkor Technology, Inc. | Package in package device for RF transceiver module |
US8026589B1 (en) | 2009-02-23 | 2011-09-27 | Amkor Technology, Inc. | Reduced profile stackable semiconductor package |
US7960818B1 (en) | 2009-03-04 | 2011-06-14 | Amkor Technology, Inc. | Conformal shield on punch QFN semiconductor package |
US8575742B1 (en) | 2009-04-06 | 2013-11-05 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with increased I/O leadframe including power bars |
US8796561B1 (en) | 2009-10-05 | 2014-08-05 | Amkor Technology, Inc. | Fan out build up substrate stackable package and method |
US8937381B1 (en) | 2009-12-03 | 2015-01-20 | Amkor Technology, Inc. | Thin stackable package and method |
US9691734B1 (en) | 2009-12-07 | 2017-06-27 | Amkor Technology, Inc. | Method of forming a plurality of electronic component packages |
US8324511B1 (en) | 2010-04-06 | 2012-12-04 | Amkor Technology, Inc. | Through via nub reveal method and structure |
JP2011233811A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Renesas Electronics Corp | リードフレーム及びそれを用いた半導体装置の製造方法 |
US8294276B1 (en) | 2010-05-27 | 2012-10-23 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device and fabricating method thereof |
US8440554B1 (en) | 2010-08-02 | 2013-05-14 | Amkor Technology, Inc. | Through via connected backside embedded circuit features structure and method |
US8487445B1 (en) | 2010-10-05 | 2013-07-16 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device having through electrodes protruding from dielectric layer |
US8791501B1 (en) | 2010-12-03 | 2014-07-29 | Amkor Technology, Inc. | Integrated passive device structure and method |
US8674485B1 (en) | 2010-12-08 | 2014-03-18 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe with downsets |
US8390130B1 (en) | 2011-01-06 | 2013-03-05 | Amkor Technology, Inc. | Through via recessed reveal structure and method |
TWI557183B (zh) | 2015-12-16 | 2016-11-11 | 財團法人工業技術研究院 | 矽氧烷組成物、以及包含其之光電裝置 |
US8648450B1 (en) | 2011-01-27 | 2014-02-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe with a combination of leads and lands |
US8552548B1 (en) | 2011-11-29 | 2013-10-08 | Amkor Technology, Inc. | Conductive pad on protruding through electrode semiconductor device |
US9704725B1 (en) | 2012-03-06 | 2017-07-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device with leadframe configured to facilitate reduced burr formation |
US9129943B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-09-08 | Amkor Technology, Inc. | Embedded component package and fabrication method |
US9048298B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-06-02 | Amkor Technology, Inc. | Backside warpage control structure and fabrication method |
KR101486790B1 (ko) | 2013-05-02 | 2015-01-28 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 강성보강부를 갖는 마이크로 리드프레임 |
KR101563911B1 (ko) | 2013-10-24 | 2015-10-28 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 |
US9673122B2 (en) | 2014-05-02 | 2017-06-06 | Amkor Technology, Inc. | Micro lead frame structure having reinforcing portions and method |
US9659843B2 (en) | 2014-11-05 | 2017-05-23 | Infineon Technologies Ag | Lead frame strip with molding compound channels |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3665256A (en) * | 1968-10-15 | 1972-05-23 | Rca Corp | Heat dissipation for power integrated circuits |
NL7018378A (de) * | 1970-12-17 | 1972-06-20 | ||
GB1383297A (en) * | 1972-02-23 | 1974-02-12 | Plessey Co Ltd | Electrical integrated circuit package |
DE2328798A1 (de) * | 1972-06-23 | 1974-01-17 | Philips Nv | Halbleiteranordnung |
US3926746A (en) * | 1973-10-04 | 1975-12-16 | Minnesota Mining & Mfg | Electrical interconnection for metallized ceramic arrays |
US4023053A (en) * | 1974-12-16 | 1977-05-10 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Variable capacity diode device |
FR2299724A1 (fr) * | 1975-01-29 | 1976-08-27 | Honeywell Bull Soc Ind | Perfectionnements aux supports de conditionnement de micro-plaquettes de circuits integres |
US4138691A (en) * | 1977-06-07 | 1979-02-06 | Nippon Electric Co., Ltd. | Framed lead assembly for a semiconductor device comprising insulator reinforcing strips supported by a frame and made integral with lead strips |
JPS6034268A (ja) * | 1983-08-03 | 1985-02-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 被研摩加工物の保持方法 |
-
1978
- 1978-08-02 JP JP9360778A patent/JPS5521128A/ja active Granted
-
1979
- 1979-07-05 US US06/055,070 patent/US4301464A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-26 BR BR7904797A patent/BR7904797A/pt not_active IP Right Cessation
- 1979-08-01 GB GB7926820A patent/GB2027990B/en not_active Expired
- 1979-08-02 DE DE19792931449 patent/DE2931449A1/de active Granted
-
1983
- 1983-05-25 SG SG291/83A patent/SG29183G/en unknown
- 1983-11-10 HK HK531/83A patent/HK53183A/xx not_active IP Right Cessation
-
1984
- 1984-12-30 MY MY254/84A patent/MY8400254A/xx unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4213411A1 (de) * | 1991-04-26 | 1992-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | Anschlussdraht-rahmen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS639378B2 (de) | 1988-02-29 |
JPS5521128A (en) | 1980-02-15 |
US4301464A (en) | 1981-11-17 |
DE2931449A1 (de) | 1980-02-21 |
BR7904797A (pt) | 1980-04-29 |
SG29183G (en) | 1984-04-19 |
GB2027990B (en) | 1983-01-19 |
HK53183A (en) | 1983-11-18 |
MY8400254A (en) | 1984-12-31 |
GB2027990A (en) | 1980-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2931449C2 (de) | ||
DE69737588T2 (de) | Halbleiteranordnung und Herstellungsverfahren dafür | |
DE19716668C2 (de) | Halbleiterchip-Stapelgehäuse mit untenliegenden Zuleitungen | |
DE19712551B4 (de) | Zuleitungsrahmen und darauf angewendetes Herstellungsverfahren für Halbleitergehäuse in Chipgröße | |
CH686325A5 (de) | Elektronikmodul und Chip-Karte. | |
DE3913221A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE2611531A1 (de) | In kunststoff eingekapselter integrierter schaltungsbaustein | |
DE19708002A1 (de) | Halbleiterbauelement und Anschlußrahmen dafür | |
DE112006003372T5 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Montage eines oben und unten freiliegenden eingehausten Halbleiters | |
DE3022840A1 (de) | Gekapselte schaltungsanordnung und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE4230187A1 (de) | Baueinheit mit speicher-ic, sowie verfahren zum herstellen einer solchen baueinheit | |
DE102014117337B4 (de) | Halbleitergehäuse | |
DE102014104399A1 (de) | Leadframe, Halbleiterchipgehäuse umfassend einen Leadframe und ein Verfahren zur Herstellung eines Leadframe | |
DE19808193A1 (de) | Leadframevorrichtung und entsprechendes Herstellungsverfahren | |
DE202011051190U1 (de) | Sensorbaustein | |
DE102015115824A1 (de) | Optoelektronisches Bauelement | |
DE102018130965A1 (de) | Gehäuse-in-gehäuse struktur für halbleitervorrichtungen und verfahren zur herstellung | |
DE4321592B4 (de) | Halbleitervorrichtungen sowie ein Chipauflage-Trägerteil und ein Tape-Carrier-Gehäuse hierfür | |
DE102015118631B4 (de) | Verfahren zur Ausbildung und zur Verarbeitung von Leiterrahmenstreifen mit Formmassekanälen und Gehäuseanordnungen diese umfassend | |
DE19503823A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung | |
DE102020106247A1 (de) | Leadframe-stabilisator für verbesserte leiterplanarität | |
DE102019127007A1 (de) | Stapel elektrischer bauelemente und verfahren zur herstellung desselben | |
DE102020200817B3 (de) | Montageverfahren für eine integrierte Halbleiter-Waver-Vorrichtung und dafür verwendbare Montagevorrichtung | |
DE102016224586A1 (de) | Halbleiter-Package-System und damit verbundene Verfahren | |
DE102020117341A1 (de) | Gehäuse-leiter-design mit rillen für verbesserte dammbalkentrennung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAR | Request for search filed | ||
OC | Search report available | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: STREHL, P., DIPL.-ING. DIPL.-WIRTSCH.-ING. SCHUEBE |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8365 | Fully valid after opposition proceedings |