DE2243621C2 - - Google Patents
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Description
Jodoform und Tetrabromkohlenstoff erzeugen bei Belichtung
halogenhaltige freie Radikale, sie besitzen jedoch eine
ziemlich begrenzte Spaktralempfindlichkeit, d. h. bei Wellenlängen
in der Ultraviolettregion. Daher können sie nicht
die emittierte Strahlungsenergie der hohen Ultraviolett-
und sichtbaren Region wirksam ausnutzen, wodurch ihre Fähigkeit
oder die Ausbeute zur Erzeugung freier Radikale herabgesetzt
ist. Deswegen werden mit den freien Radikale erzeugenden
Verbindungen andere Verbindungen kombiniert, die gewissermaßen
zur Ausweitung ihrer Spektralansprechbarkeit dienen.
Die zusätzliche Verbindung zeigt eine breite spektrale Ansprechbarkeit und transmittiert vermutlich nach Absorption
der Strahlung in teils ungeklärter Weise die absorbierte Energie
zu der freie Radikale erzeugenden Verbindung, welche dann
freie Radikale erzeugt. Diese bildformenden Massen sind wegen
der Anwesenheit von zwei Bestandteilen, der halogenierten
Quelle für freie Radikale und des Farbstoffes,
gegenüber sichtbaren Licht empfindlich; sie müssen außerdem
hinsichtlich der Verträglichkeit miteinander und mit
den Bestandteilen der sie enthaltenden Masse sorgfältig ausgewählt
werden. Oft ist es schwierig, ein inniges Mischen
und die richtige Gewichtsausgewogenheit zwischen den beiden
Komponenten zu erreichen.
Aufgabe der Erfindung sind Verbindungen, die bei
Bestrahlung freie Radikale erzeugen und eine breite Spektralansprechbarkeit, vorzugsweise im Bereich des sichtbaren
Lichtes, aufweisen und diese enthaltende photopolymerisierbare Massen.
Die Erfindung stellt mit einem Chromophor substituierte
Vinyltrihalogenmethyl-s-triazin-Verbindungen der
Formel
bereit, in der die Reste Q, P, W und n die in Anspruch 1
angegebene Bedeutung haben.
Die erfindungsgemäßen s-Triazin-Verbindungen erzeugen freie
Radikale, wenn sie mit aktinischer Strahlung einer Wellenlänge
von etwa 330 bis etwa 700 nm berstrahlt werden. Aus diesem
Grunde sind die Verbindungen als Photoinitiatoren in lichtempfindlichen
Massen geeignet. So können sie polymerisierbaren,
vernetzbaren und Abdruck-Massen einverleibt werden
zur Herstellung von Reliefdruckplatten, Photoätzgründen und
photographischen Elementen, die beim Drucken, Duplizieren,
Kopieren und anderen bildformenden Systemen verwendbar sind.
Die neuen s-Triazin-Verbindungen, die durch eine Trihalogenmethylgruppe
substituiert sind und eine chromophore, mit
dem Triazinring durch äthylenisch ungesättigte Gruppen konjugierte
Gruppierung aufweisen, erzeugen freie Radikale bei
Anregung durch aktinische Strahlung einer Wellenlänge von
etwa 330 bis etwa 700 nm; in ihnen ist eine lichtinstabile
halogenhaltige Gruppierung und eine chromophore Gruppe innerhalb
eines Moleküls enthalten, so daß die Notwendigkeit zu
einer Kombination mehrerer Verbindungen entfällt.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen sind die Kondensationsreaktionsprodukte
bestimmter Methylhalogenmethyl-s-triazine
und bestimmter Aldehyde oder Aldehyd-Derivate. Zu ihrer Herstellung
verwendete Methylhalogenmethyl-s-triazine haben
die Struktur:
worin Q und P die gleiche Bedeutung wie in Anspruch 1 haben.
Das bevorzugte Methylhalogenmethyl-s-triazin zur Herstellung
der erfindungsgemäßen Verbindungen ist 2,4-Bis(trichlormethyl)-
6-methyl-s-triazin, welches Chromophor-haltige Vinylbis(trichlormethyl)-s-triazine
ergibt, die die bevorzugten Chromophor-
haltigen Vinylhalogenmethyl-s-triazine der Erfindung darstellen.
Allgemein können die Methylhalogenmethyl-s-triazine durch die
Cotrimerisation organischer Nitrile und Halogenacetonitrile
(s. Wakabayashi et al., Bulletin of the Chemical Society of
Japan, 42, 2924-30 [1969]) hergestellt werden.
Geeignete aromatische und heterocyclische Aldehyde, welche
mit den Methylhalogenmethyl-s-triazinen zur Synthese der erfindungsgemäßen
Verbindungen verwendet werden, haben die Formel
O = CH - (CH = CH) n-1 - W (IV)
worin n und W die gleiche Bedeutung wie in Anspruch 1 haben.
Zu geeigneten Aldehyden zählen: Aromatische Aldehyde, z. B.
Benzaldehyd, 4-Chlorbenzaldehyd, 3-Nitrobenzaldehyd,
Benzaldehyd-4-sulfonsäure, Benzaldehyd-4-dimethylsulfonamid,
Benzaldehyd-2-carbonsäure, Benzaldehyd-2-carbonsäuremethylester,
Zimtaldehyd, Anisaldehyd, 3,4-Diphenoxybenzaldehyd,
4[2′-Nitrophenyl]benzaldehyd, 4-Phenylazobenzaldehyd;
aromatische Polyaldehyde, z. B. Terephthaldehyd; heterocyclische
Aldehyde, z. B. 3-Pyrrolaldehyd, 2-Phenyl-4-oxazolcarboxaldehyd,
3-Benzopyrrolaldehyd, Benzoxazol-2-carboxaldehyd,
Benzthiazol-2-carboxaldehyd, Benzoxazolylidenacetaldehyd;
und heterocyclische Polymethinaldehyde, die zur Synthese von
Cyanin-Farbstoffen verwendet werden, wie nach Hamer "Cyanine
Dyes and Related Compounds", Interscience Publishers, 1964,
insbesondere S. 116-147, vorgeschlagen wurde.
Viele der Aldehyde der Formel IV stehen im Handel zur Verfügung.
Andere geeignete Aldehyde können nach dem für die Herstellung
von Imidazol-2-carboxaldehyden von Pyman, J. Chem.
Soc., 101, 542 (1912) gelehrten Verfahren und dem Verfahren
zur Herstellung heterocyclischer Aldehyde aus den entsprechenden
Oximen (US-PS 31 50 125) hergestellt werden.
Andere geeignete Aldehyd-Derivate, die mit den Methylhalogenmethyl-
s-triazin zu den erfindungsgemäßen Verbindungen reagieren,
haben die Formel
worin R¹, Z und n die gleiche Bedeutung haben wie in Anspruch 1;
D eine Gruppe ist, die mit reaktionsfähigen Methylengruppen
reagiert, eingeschlossen solche Gruppen wie Arylamino,
z. B. -NH(C₆H₅); Acetarylamino, z. B. -N(C₆H₅)-COCH₃;
Alkoxy, z. B. -OC₂H₅; und Alkylthio, z. B. -SCH₃; und X ein
Anion ist, wie zum Beispiel Chlorid, Bromid, Jodid, Sulfat,
Toluolsulfonat, Äthoxyäthylsulfat. Diese Aldehyd-Derivate
sind quaternäre Salze mit -NH(C₆H₅), -N(C₆H₅)COCH₃, -OC₂H₅
und -SC₂H₅-Gruppen, die durch ein oder mehrere Vinylen-Segmente
an eine heterocyclische Verbindung mit einem quaternisierten
Stickstoff gebunden sind. Solche Verbindungen finden ausgedehnte
Verwendung in der photographischen Industrie als
Zwischenprodukte für die Herstellung von Sensibilisierungsfarbstoffen.
Beispiele für solche Zwischenprodukte, die zur
Herstellung der Vinylhalogenmethyl-s-triazin-Verbindungen der
Erfindung verwendbar sind, sind 2-(2′-Acetanilidovinyl)benzoxazoläthyljodid,
2-(2′-Acetanilidovinyl)-benzthiazoläthyljodid,
2-(4′-Acetanilidobutadienyl)-benzoxazoläthyljodid, und Zwischenprodukte wie
Ein Verfahren, nach welchem Photoinitiator-Verbindungen der
Erfindung hergestellt werden, besteht in der Kondensation
der Methylhalogenmethyl-s-triazine mit den Aldehyden unter
Bedingungen der Knoevenagel-Reaktion. Die Herstellung von
2,4-Bis(trichlormethyl)-6-styryl-s-triazin in Piperidiniumacetat
als Katalysator enthaltendem Toluol unter Rückfluß ist
ein Beispiel. Die Reaktion kann in Gegenwart anderer Lösungsmittel,
wie Pyridin, Benzol, Äthylacetat, Methanol, Äthanol,
tert.-Butanol, Xylol, Essigsäure, Acetanhydrid, Tetrahydrofuran,
und von Lösungsmittelgemischen durchgeführt werden.
Da während der Reaktion Wasser gebildet wird, ist es vorteilhaft,
zu dessen Entfernung zum Beispiel eine gemeinsame Destillation
mit dem Lösungsmittel oder eine Reaktion mit dem Lösungsmittel
vorzusehen. Zeit und Temperatur des Erhitzens zur
Kondensationsreaktion hängen von den speziellen Verbindungen
und dem für die Reaktion gewählten Katalysator ab. Allgemein
reichen Temperaturen von etwa 25 bis 150°C innerhalb 1 bis
etwa 24 Stunden aus. Zweckmäßigerweise wird die Reaktion bei
Temperaturen von etwa 50 bis 130°C während etwa 3 bis 12 Stunden
durchgeführt. Die Kondensationsreaktion kann auch in Abwesenheit
von Lösungsmitteln einfach durch Erhitzen der beiden
Reaktionspartner zusammen mit einem Katalysator bei Temperaturen
von 100 bis etwa 140°C durchgeführt werden.
Wegen der reaktiven Natur der Halogenmethylgruppe gegenüber
Nukleophilen sind die bevorzugten Katalysatoren für die
Kondensationsreaktion der Methylhalogenmethyl-s-triazine mit
Aldehyden und Aldehyd-Derivaten Salze, wie Piperidiniumacetat.
Bei einem anderen Verfahren zur Synthese der Photoinitiatoren
der Erfindung werden Methylhalogenmethyl-s-triazine mit
verschiedenen β-Anilino-, β-Acetoxy-anilino- und b-Alkylthio-
Zwischenverbindungen kondensiert, die bei der Herstellung von
Cyanin-Farbstoffen verwendbar sind. Bedingungen zur Durchführung
dieser Kondensationen sind die gleichen, wie zur
Kondensation der Methylhalogenmethyl-s-triazine mit Aldehyden
oben beschrieben.
Besonders wertvoll sind die Photoinitiatoren der Erfindung
mit der in Tabelle 1 wiedergegebenen Struktur.
Die Photoinitiatoren der Erfindung sind insbesondere in
lichtempfindlichen Massen anwendbar, die in verschiedenen
bildformenden Systemen zur Anwendung kommen, wo eine erhöhte
Lichtempfindlichkeit erwünscht ist. So sind die die erfindungsgemäßen
Photoinitiatoren enthaltenden photopolymerisierbaren
Massen von Bedeutung für die Herstellung von Elementen,
die auf dem Gebiet des Bürokopierens eingesetzt werden, und
besonders für die Herstellung von geeigneten Elementen für
das Reflexkopieren. Sie sind ebenfalls von Bedeutung für
Elemente, die bei der Herstellung lithographischer Photopolymerisatplatten
verwendet werden. Die Photoinitiatoren können
auch in lichtempfindlichen Nichtsilber-Massen zugegen sein,
die in Photoreproduktionssystemen verwendet werden, die auf
der Freisetzung von Säure basieren, wie in den Systemen der
US-PS 35 12 975 und 35 25 616 und in Systemen, bei welchen
Farbabdrucke oder Bleichbilder gebildet werden.
Die photopolymerisierbaren Massen setzen sich gewöhnlich aus
einer äthylenisch ungesättigten, durch freie Radikale initiierten,
kettenwachsenden (additionspolymerisierbaren) Verbindung,
einem Photoinitiator der Erfindung und wahlweise einem oder
mehreren Füllstoffen, Bindern, Farbstoffen, Polymerisationsinhibitoren,
Farbvorläufern und Sauerstoffgängern zusammen.
Die s-Triazin-Verbindungen dieser Erfindung sind in einer ausreichenden
Menge zugegen, um die Polymeriation besagter polymerisierbarer
Verbindung zu bewirken. Zu geeigneten Bestandteilsverhältnissen
zählen folgende: je 100 Teile polymerisierbare
Verbindung können 0,0005 bis 10 Teile Photoinitiator,
0 bis 200 Teile Füllstoff, 0 bis 200 Teile Binder und 0 bis
10 oder mehr Teile Farbstoffe, Polymerisationsinhibitoren,
Farbvorläufer, Sauerstoffänger usw., wie sie für eine spezielle
Verwendung der photopolymerisierbaren Masse benötigt werden,
zugegen sein. Vorzugsweise werden je 100 Teile polymerisierbare
Verbindungen 1 bis 7,5 Teile Photoinitiator und 25 bis
150 Teile Binder verwendet.
Geeignete äthylenisch ungesättigte, durch freie Radikale initiierte,
kettenwachsende (additionspolymerisierbare) Verbindungen
sind Alkylen- oder Polyalkylenglykoldiacrylate, z. B.
Äthylenglykoldiacrylat, Diäthylenglykoldiacrylat, Glycerindiacrylat,
Glycerintriacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat,
1,3-Propandioldimethacrylat, 1,2,4-Butantrioltrimethacrylat,
1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Pentaerythritoltetramethacrylat,
Pentaerythritoltriacrylat, Sorbitolhexacrylat; Bis[1-(3-acryloxy-2-
hydroxy)]-p-propoxyphenyldimethylmethan, Bis[1-(2-acryloxy)]-p-
äthoxyphenyldimethylmethan, Trishydroxyäthylisocyanurattrimethacrylat,
die Bisacrylate und Bismethacrylate von
Polyäthylenglykolen eines Molekulargewichts von 200-500; ungesättigter
Amide, z. B. Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid,
1,6-Hexamethylenbisacrylamid, Diäthylentriamintrisacrylamid,
b-Methacrylaminoäthylmethacrylat; Vinylester, wie Divinylsuccinat,
Divinyladipat, Divinylphthalat, wobei die bevorzugten
äthylenisch ungesättigten Verbindungen Pentaerythritoltetraacrylat,
Bis[p-(3-acryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]-
dimethylmethan und Bis[p-(2-acryloxyäthoxy)phenyl]dimethylmethan
sind. Gemische dieser Ester können ebenfalls verwendet
werden, wie auch Gemische dieser Ester mit Alkylestern der
Acrylsäure und Methacrylsäure, wie Methylacrylat, Methylmethacrylat,
Äthylacrylat, Isopropylmethacrylat, n-Hexylacrylat, Stearylacrylat,
Allylacrylat; Styrol- und Diallylphthalat.
Bei der Herstellung der lichtempfindlichen Massen werden die
Komponenten in beliebiger Reihenfolge zusammengemischt und
gerüht oder gemahlen, um eine Lösung oder gleichmäßige Dispersion
zu bilden. Die lichtempfindlichen Elemente werden durch
Aufziehen einer geeigneten lichtempfindlichen Masse auf eine
geeignete Grundlage oder einen Träger mit einer Trockendicke
von etwa 0,000127 cm bis 0,1905 cm und Trocken des Überzugs
hergestellt.
Zu geeigneten Grundlagen oder Trägern für die lichtempfindlichen
Massen zählen Metalle, z. B. Stahl- und Aluminiumplatten,
Blattmaterialien und Folien, und aus verschiedenen filmbildenden
synthetischen oder Hochpolymeren zusammengesetzte Filme
oder Platten, eingeschlossen Additionspolymerisate, z. B.
Vinylidenchlorid, Vinylchlorid-, Vinylacetat-, Styrol-, Isobutylen-Polymerisate
und -Copolymerisate; lineare Kondensationspolymerisate,
z. B. Polyäthylenterephthalat, Polyhexamethylenadipat,
Polyhexamethylenadipamid/-adipat.
Ein Element zum Reflexkopieren wird zum Beispiel durch Überziehen
eines Polyester-Filmes mit einer lichtempfindlichen
Masse unter Dunkelkammerbedingungen angefertigt, welche durch
gründliches Mischen von 100 Teilen Trimethylolpropantrimethacrylat,
166 Teilen Polyvinylbutyral und 6,6 Teilen eines erfindungsgemäßen
Photoinitiators, wie 2,4-Bis(trichlormethyl)-
6-p-methoxy-styryl-s-triazin in 3 300 Teilen eines Lösungsmittels,
wie Äthylendichlorid, hergestellt wurde. Der Überzug
wird getrocknet, auf der klebrigen Oberfläche mit einem anderen
Polyester-Film beschichtet und zu Elementen geeigneter Abmessung
geschnitten. Die erhaltenen Elemente werden zum Kopieren
von Originalen verwendet, die schwarz und weiß oder verschiedenfarbig
sein können, indem man das Element auf das
Original legt und durch das Element einer Strahlung aussetzt.
Nach dem Belichten wird der aufgeschichtete Polyester-Film
entfernt und das belichtete Element entwickelt, um ein Negativ
des Originals durch Bestäuben mit einem Tonerpulver, das an
den klebrigen nichtbelichteten Bereichen, jedoch nicht an den
photopolymerisierten belichteten Bereichen haftet, zu erhalten.
Zu einem Gemisch aus 330 Teilen 2,4-Bis(trichlormethyl)-
6-methyl-s-triazin und 149,6 Teilen p-Anisaldehyd in 1 Liter
Toluol werden 45 Teile Piperidiniumacetat als Kondensationskatalysator
hinzugegeben. Das Gemisch wird unter Rückfluß erhitzt
und das freigesetzte Wasser in einem Dean-Stark-Extraktor
gesammelt. Nach Auffangen der theoretischen Menge Wasser
wird das meiste Toluol durch Destillation entfernt und das
erhaltene Gemisch abgekühlt. Der ausgefallene Festkörper wird
abfiltriert und mehrere Male mit Petroläther und dreimal mit
kaltem Äthanol gewaschen. Es wird eine 77%ige Ausbeute verzeichnet.
Eine Analysenprobe, Schmelzpunkt 190-192°C, wird
durch Umkristallisieren des Produktes aus einem Gemisch aus
Äthanol-Äthylacetat erhalten.
Die Reaktion kann in Abwesenheit von Lösungsmittel durch
thermisches Schmelzen des Triazins und des Aldehyds in Gegenwart
von Piperidiniumacetat durchgeführt werden. Das geschmolzene
Gemisch wird auf 140°C (Ölbadtemperatur) 60 Minuten
erhitzt. Umkristallisieren liefert reines Produkt,
Schmp. 190-192°C (Verbindung 4 der Tabelle 1).
Ein Gemisch, das 16,6 Teile 2,4-Bis(trichlormethyl)-6-methyl-s-triazin,
9,6 Teile p-Dimethylaminozimtaldehyd und 3,6 Teile
Piperidiniumacetat in 65 Teilen Toluol enthielt, wurde unter
Rückfluß erhitzt (etwa 1 Std.), bis die theoretische Menge
Wasser in einer Dean-Stark-Falle aufgefangen war. Beim Abkühlen
trennten sich glänzend schwarze Nadeln ab, welche dann
durch Filtration gesammelt wurden. Diese Kristalle wurden
in heißem Äthanol aufgeschlämmt, und es wurden 14 Teile
Produkt (Verbindung 7 der Tabelle 1) in Form blauschwarzer
glänzender Nadeln vom Schmelzpunkt 218-220°C (Kofler Heizblock)
isoliert.
Ein Gemisch aus 9,78 Teilen 2-(N′-Acetoxyanilinovinyliden)
-N-äthylbenzoxazolium-p-toluolsulfonat, 9,90 Teilen
2,4-Bis(trichlormethyl)-6-methyl-s-triazin und 50 Teilen
Pyridin wurde 0,5 Stunden unter Rückfluß erhitzt. 16 Teile
Methanol wurden zugegeben, und es wurde weitere 15 Minuten
unter Rückfluß erhitzt. Die Reaktionsmasse wurde dann in
200 Teile Wasser, das 20 Teile 30%iges Ammoniumhydroxid
enthielt, gegossen und mit Benzol extrahiert. Die Extrakte
wurden mit verdünntem HCl gewaschen, über wasserfreiem MgSO₄
getrocknet und konzentriert; das rote glasartige Material
wurde nach Zugabe von Hexan fest. Es wurden 3,6 Teile Rohprodukt
(Verbindung 11 in Tabelle 1) gesammelt, Schmp. 125-130°C.
Säulenchromatographie unter Verwendung neutraler Tonerde
und Benzol als Lösungsmittel ergab annähernd 2,0 Teile
des gewünschten Produktes, Schmp. 155-157°C, welches nach
der NMR-Analyse eine kleinere Verunreinigung enthielt.
Zu einer 5 Teile 2,4-Bis(trichlormethyl)-6-p-methoxy-
styryl-s-triazin in 57 Teilen Dioxan enthaltenden Lösung
wurden 9 Teile 30%iges Ammoniumhydroxid gegeben. Nach 5 Minuten
bei Raumtemperatur begann sich ein Niederschlag zu bilden.
Nach 1 Stunde wurde dieser Festkörper durch Filtration gesammelt,
mit 2 : 1 Dioxan/Methanol gewaschen und getrocknet, um
3,8 Teile Produkt (Verbindung 13 der Tabelle 1) als schwach-
gelben Feststoff zu ergeben, Schmp. 248-249°C.
Eine 5,0 Teile Polyvinylbutyral-Harz, 3,0 Teile Trimethylolpropantrimethacrylat
und 0,2 Teile 2,4-Bis(trichlormethyl)-6-p-
methoxystyryl-s-triazin in 100 Teilen Äthylendichlorid enthaltende
Lösung wurde zu 0,05 mm mit einem Messer naß auf
Polyester-Film aufgezogen. Nachdem das Lösungsmittel verdampft
war, wurde der klebrige Überzug mit einem anderen Polyester-Film
überschichtet und die Sandwich-Anordnung dann
10 Sekunden mit einer Wolframjodid-Lampe durch einen photographischen
Stufenkeil belichtet. Die Filme wurden abgezogen
und der Überzug unter Verwendung eines schmelzbaren Tonerpulvers
bestäubt, welches an den klebrigen nichtbelichteten
Bereichen, jedoch nicht an den photopolymerisierten Regionen
haftete. Ein dauerhaftes, nichtschmierendes Positiv wurde
entsprechend den 4 offenen Stufen auf dem Keil hergestellt.
Ähnliche Konstruktionen wurden unter Verwendung derselben
Mengen (0,2 Teile) der in Tabelle 2 angeführten Photoinitiatoren
hergestellt und ihr Wirkungsspektrum einzeln
unter Benutzung eines für Laborzwecke konstruierten Keilspektrographen
gemessen. Die angeführten beobachteten Ansprechbarkeiten stimmten innerhalb der Experimentalfehler
mit dem Absorptionsspektrum und -maximum dieser Materialien
überein.
Eine Reihe von Gußüberzügen wurde auf anodisierten Aluminiumplatten
unter Verwendung homogener Lösungen in Äthylendichlorid hergestellt:
Polyvinylformal-Harz7,38
Vinylacetat/Vinylchlorid/Maleinsäureanhydrid-
Copolymerisat2,46
Trimethylolpropantrimethacrylat6,00
Trismethacrylat des Trishydroxyäthylisocyanurats2,00
Phthalocaynin-Pigment1,22
Initiator (siehe Tabelle 3)0,40
Die Platten wurden alle 70 Sekunden durch einen Stufenkeil
in einem Vakuumrahmen unter Verwendung einer reflektorisierten
135 Amp. starken hochintensiven Kohlebogenstab-Lichtquelle
in einem Abstand von 137,2 cm belichtet. Zur Entwicklung
wurden sie mit einer Lösung, die 35% n-Propylalkohol,
60% destilliertes Wasser, 1,5% Ammoniumsulfat und
1,5% Ammoniumdihydrogenphosphat enthielt, bestrichen. Die
nichtbelichteten Bereiche wurden unter Verwendung eines
Entwickler-Kissens unter gleichmäßiger leichter bis mäßiger
Scheuerwirkung entfernt. Tabelle 3 gibt die relativen Wirksamkeiten
der verschiedenen Photoinitiatoren wieder, und zwar
anhand der Anzahl Stufen, die entwickelt wurden. Es ist erkennbar,
daß 11 Stufen auf Platten entwickelt wurden, die
unter Verwendung der Chromophor-haltigen Photoinitiatoren
der Erfindung hergestellt waren, während nicht mehr als
7 Stufen auf Platten entwickelt wurden, bei denen bekannte
Photoinitiatoren verwendet wurden.
Eine lichtempfindliche Masse, diePolyvinylbutyral-Harz2,5 Teile
p-Dimethylaminophenyl-1-bis-(2-methylindolyl)methan1,0 Teile
Verbindung 4 der Tabelle 10,5 Teile
Methanol/Äthylendichlorid3,0 Teile
enthielt, wurde zu 0,075 mm naß auf Polyester-Film aufgezogen.
Nach Belichtung bildete sich eine tiefe Fuchsin-Farbe, die
für die oxidierte Form des Leukofarbstoffs kennzeichnend
ist.
In ähnlicher Weise gaben auch die Leukobase 2-p-Dimethylstyrylchinolin
und der Leukofarbstoff Leukokristallviolett
Abdruck-Bilder, die auf der photolytischen Säurebildung und
auf Photooxidationsprozessen basierten, wenn sie anstelle des
p-Dimethylaminophenyl-bis-(2-methylindoly)methans eingesetzt
wurden.
Claims (3)
1. Vinyltrihalogenmethyl-s-triazin-Verbindungen der
allgemeinen Formel
worinQBrom oder Chlor,
Pder Rest CQ₃, NH₂, NHR, NR₂ oder OR
und darin R Phenyl oder Alkyl mit nicht
mehr als 6 Kohlenstoffatomen,
neine ganze Zahl von 1 bis 3, und
Wein aromatischer oder ein mit dem Triazinring
über die (CH=CH) n -Gruppe konjugierter heterocyclischer
Rest, ggf. noch substituiert durch
Chlor, Brom, Phenyl, Alkyl mit nicht mehr als
6 Kohlenstoffatomen, Nitro, Phenoxy, Alkoxy,
Acetoxy, Acetyl, Amino oder Alkylamino, oder ein
Rest der allgemeinen Formel
ist, in der Z für Sauerstoff oder Schwefel und
R¹ für niederes Alkyl oder Phenyl steht.
2. Verbindung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß Q=Cl und P=CCl₃ ist.
3. Photopolymerisierbare Masse, bestehend aus einer
Verbindung gemäß den Ansprüchen 1 oder 2 und einer äthylenisch
ungesättigten, durch freie Radikale initiierbaren
kettenwachsenden Verbindung.
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Families Citing this family (319)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2641100C2 (de) * | 1976-09-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
JPS5363506A (en) * | 1976-11-19 | 1978-06-07 | Toyo Electric Mfg Co Ltd | Method of manufacturing vvshaped insulation of commutator |
US4189323A (en) * | 1977-04-25 | 1980-02-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | Radiation-sensitive copying composition |
US4212970A (en) * | 1977-11-28 | 1980-07-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 2-Halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds |
JPS5474728A (en) * | 1977-11-28 | 1979-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
CA1116915A (en) * | 1977-12-28 | 1982-01-26 | Anthony Adin | Inhibition of image formation utilizing cobalt(iii) complexes |
JPS5495687A (en) * | 1978-01-11 | 1979-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS6053300B2 (ja) * | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JPS5555335A (en) * | 1978-10-19 | 1980-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS5577742A (en) * | 1978-12-08 | 1980-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS55126235A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS5651735A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Photoreactive composition |
US4330590A (en) * | 1980-02-14 | 1982-05-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-2-triazine |
US4391687A (en) * | 1980-02-14 | 1983-07-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-1-triazine |
US4337303A (en) * | 1980-08-11 | 1982-06-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Transfer, encapsulating, and fixing of toner images |
US4413108A (en) * | 1980-11-03 | 1983-11-01 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Anaerobically-curing compositions |
US4500608A (en) * | 1980-11-03 | 1985-02-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Anaerobically-curing compositions |
US4447588A (en) * | 1980-11-03 | 1984-05-08 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Anaerobically-curing compositions |
JPS57200683A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-08 | Hitachi Ltd | Self-priming pump assembly |
US4404345A (en) * | 1981-09-16 | 1983-09-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Novel adhesive compositions |
JPS58190946A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-08 | Sharp Corp | ホトレジスト |
US4459350A (en) * | 1982-09-29 | 1984-07-10 | Eastman Kodak Company | Photothermographic material and processing comprising a substituted triazine |
JPS5989303A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
DE3327811A1 (de) * | 1983-08-02 | 1985-02-21 | Kali-Chemie Pharma Gmbh, 3000 Hannover | Neue valepotriathydrinhaltige arzneimittel |
JPS59148784A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-25 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 5―置換―2―ハロメチル―1,3,4―オキサジアゾール化合物及び該化合物を含有する光反応開始剤 |
GB8321813D0 (en) * | 1983-08-12 | 1983-09-14 | Vickers Plc | Radiation sensitive compounds |
DE3333450A1 (de) * | 1983-09-16 | 1985-04-11 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Trihalogenmethylgruppen enthaltende carbonylmethylenheterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
DE3337024A1 (de) * | 1983-10-12 | 1985-04-25 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch |
JPS60103343A (ja) * | 1983-11-10 | 1985-06-07 | Shikoku Chem Corp | 光硬化性樹脂組成物 |
US4476215A (en) * | 1983-11-25 | 1984-10-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Negative-acting photoresist composition |
US4559401A (en) * | 1984-06-04 | 1985-12-17 | Polychrome Corporation | Process for preparing chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines |
US4946373A (en) * | 1985-02-28 | 1990-08-07 | Hoechst Celanese Corporation | Radiation-polymerizable composition |
US4851319A (en) * | 1985-02-28 | 1989-07-25 | Hoechst Celanese Corporation | Radiation polymerizable composition, photographic element, and method of making element with diazonium salt, and monofunctional and polyfunctional acrylic monomers |
US4737426A (en) * | 1985-05-15 | 1988-04-12 | Ciba-Geigy Corporation | Cyclic acetals or ketals of beta-keto esters or amides |
JPH0766186B2 (ja) * | 1985-07-02 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
US5120772A (en) * | 1985-08-02 | 1992-06-09 | Walls John E | Radiation-polymerizable composition and element containing a photopolymerizable mixture |
DE3606155A1 (de) * | 1986-02-26 | 1987-08-27 | Basf Ag | Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes lichtempfindliches aufzeichnungselement sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckform mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungselements |
EP0243159A3 (de) * | 1986-04-22 | 1988-11-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerisierbare Zusammensetzungen |
DE3613632A1 (de) * | 1986-04-23 | 1987-10-29 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
JPH0642074B2 (ja) * | 1986-09-10 | 1994-06-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3716848A1 (de) * | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials |
DE3717933A1 (de) * | 1987-05-27 | 1988-12-08 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von hochwaermebestaendigen reliefstrukturen |
JPH07120036B2 (ja) * | 1987-07-06 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
DE3725741A1 (de) * | 1987-08-04 | 1989-02-16 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
DE3725949A1 (de) * | 1987-08-05 | 1989-02-16 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von negativen reliefkopien |
JPS6442645A (en) * | 1987-08-11 | 1989-02-14 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Optical coloring composition |
DE3821585A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung |
DE3807381A1 (de) * | 1988-03-07 | 1989-09-21 | Hoechst Ag | 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindung enthaelt |
US5262276A (en) * | 1988-05-11 | 1993-11-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive compositions |
JPH0820734B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
US5153323A (en) * | 1988-09-07 | 1992-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a photoinitiator moiety |
US5187045A (en) * | 1988-09-07 | 1993-02-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety |
US5034526A (en) * | 1988-09-07 | 1991-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety |
US4985562A (en) * | 1988-09-07 | 1991-01-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing an amine-containing moiety |
US5387682A (en) * | 1988-09-07 | 1995-02-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a monomeric moiety |
US5116977A (en) * | 1988-09-07 | 1992-05-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing an amine-containing moiety |
DE3912652A1 (de) * | 1989-04-18 | 1990-10-25 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche bis-trichlormethyl-s-triazine, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch |
EP0412570B1 (de) * | 1989-08-11 | 1996-07-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Licht- und wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
DE3930086A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-21 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3930087A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-14 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE4006190A1 (de) * | 1990-02-28 | 1991-08-29 | Hoechst Ag | Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
US5091287A (en) * | 1990-04-10 | 1992-02-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoreactive oligomer composition and printing plate |
US5108859A (en) * | 1990-04-16 | 1992-04-28 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic elements and imaging method |
TW207009B (de) * | 1991-01-31 | 1993-06-01 | Sumitomo Chemical Co | |
DE69225990T2 (de) * | 1991-03-15 | 1998-10-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Bistrihalomethyl-s-triazin-Verbindung und photopolymerisierbare Zusammensetzung, dieselbe enthaltend |
DE4120174A1 (de) * | 1991-06-19 | 1992-12-24 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliche sulfonsaeureester und deren verwendung |
US5298361A (en) * | 1991-08-30 | 1994-03-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light-sensitive article containing migration-resistant halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiator |
JP3070184B2 (ja) * | 1991-10-18 | 2000-07-24 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物及び感光材料 |
CA2085868A1 (en) * | 1991-12-25 | 1993-06-26 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition |
DE4204949A1 (de) * | 1992-02-19 | 1993-09-09 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung eines mehrfarbenbilds und lichtempfindliches material zur durchfuehrung dieses verfahrens |
US5219709A (en) * | 1992-02-26 | 1993-06-15 | Mitsubishi Kasei Corporation | Photopolymerizable composition |
JP2566098B2 (ja) * | 1992-05-01 | 1996-12-25 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型放射線感応性レジスト組成物 |
AU674518B2 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
US5374501A (en) * | 1992-08-17 | 1994-12-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkali soluble photopolymer in color proofing constructions |
US6010824A (en) * | 1992-11-10 | 2000-01-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same |
GB2273101B (en) * | 1992-11-10 | 1997-03-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPH06308729A (ja) * | 1993-04-19 | 1994-11-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性樹脂組成物 |
EP0621508B1 (de) * | 1993-04-20 | 1996-09-25 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung |
US5529885A (en) * | 1993-06-04 | 1996-06-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Negative photosensitive composition and method for forming patterns using the composition |
DE4438137A1 (de) * | 1993-10-26 | 1995-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Trihalogenmethyl-s-Triazin-Verbindung und photopolymerisierbare Zusammensetzung unter Verwendung derselben |
JPH07311462A (ja) | 1994-05-16 | 1995-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物および画像形成方法 |
US5631307A (en) | 1994-06-28 | 1997-05-20 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Photopolymerization initiator composition and photopolymerizable composition |
DE69506970T2 (de) * | 1994-09-06 | 1999-06-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Lichtempfindliche Bis(halogenmethyloxadiazol)-Verbindung und lichtempfindliches Übertragungsblatt, das diese Verbindung verwendet |
US5460918A (en) * | 1994-10-11 | 1995-10-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal transfer donor and receptor with silicated surface for lithographic printing applications |
US5882843A (en) * | 1994-11-15 | 1999-03-16 | Hoechst Japan Limited | Photosensitive resin composition for color filter production |
DE4444669A1 (de) | 1994-12-15 | 1996-06-20 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch |
JP3474196B2 (ja) * | 1994-12-28 | 2003-12-08 | クラリアント インターナショナル リミテッド | 放射性感応性組成物及びそれを用いた記録媒体 |
US5885746A (en) * | 1994-12-29 | 1999-03-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive printing plate using the same and method of manufacturing printing master plate |
JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US5660968A (en) * | 1995-05-05 | 1997-08-26 | Bayer Corporation | Negative working, peel developeable, single sheet color proofing system with improved background color |
JPH0954437A (ja) | 1995-06-05 | 1997-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化学増幅型ポジレジスト組成物 |
EP0771796B1 (de) | 1995-11-02 | 2002-06-19 | Agfa-Gevaert | Substituierte s-Triazine und Verfahren zu ihrer Herstellung |
TW466256B (en) | 1995-11-24 | 2001-12-01 | Ciba Sc Holding Ag | Borate photoinitiator compounds and compositions comprising the same |
US5814431A (en) | 1996-01-10 | 1998-09-29 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
US5962189A (en) * | 1996-12-19 | 1999-10-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Photosensitive composition containing photosensitive polyamide and thiazoline photoinitiator and negative working photosensitive element |
US5879858A (en) * | 1996-12-19 | 1999-03-09 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Photosensitive polymer composition containing photosensitive polyamide and negative working photosensitive element |
US5821032A (en) * | 1996-12-19 | 1998-10-13 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Photosensitive polymer composition and negative working photosensitive element containing three photocrosslinkable polymers |
US5837586A (en) * | 1997-02-14 | 1998-11-17 | Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. | 4-(alkoxyhydroxy)styryl triazine photinitiators and photo sensitive composition |
US6010821A (en) | 1997-05-23 | 2000-01-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aqueous developable color proofing elements |
US5847133A (en) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators |
US5925498A (en) * | 1997-06-16 | 1999-07-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Photosensitive polymer composition and element containing photosensitive polyamide and mixture of acrylates |
JPH1124252A (ja) * | 1997-06-26 | 1999-01-29 | Agfa Gevaert Nv | 同じ材料を用いてポジテイブ又はネガテイブカラープルーフを作製するための方法 |
JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
US7005229B2 (en) * | 2002-10-02 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization method |
DE60138930D1 (de) * | 2000-06-15 | 2009-07-16 | 3M Innovative Properties Co | Mikroherstellungsverfahren für organische optische Bauteile |
US6852766B1 (en) | 2000-06-15 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
JP2004503928A (ja) * | 2000-06-15 | 2004-02-05 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多方向光反応吸収方法 |
US7381516B2 (en) * | 2002-10-02 | 2008-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
US7026103B2 (en) * | 2000-06-15 | 2006-04-11 | 3M Innovative Properties Company | Multicolor imaging using multiphoton photochemical processes |
US7014988B2 (en) * | 2000-06-15 | 2006-03-21 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton curing to provide encapsulated optical elements |
ATE440308T1 (de) * | 2000-06-15 | 2009-09-15 | 3M Innovative Properties Co | Methode und gerät zur erzielung wiederholter multiphotonabsorption |
US7265161B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-09-04 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures |
WO2001096958A2 (en) * | 2000-06-15 | 2001-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Process for producing microfluidic articles |
US7118845B2 (en) * | 2000-06-15 | 2006-10-10 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photochemical process and articles preparable thereby |
JP2005502074A (ja) | 2001-09-04 | 2005-01-20 | コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー | ハイブリッド校正法 |
US6750266B2 (en) * | 2001-12-28 | 2004-06-15 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
US6808657B2 (en) * | 2002-02-12 | 2004-10-26 | 3M Innovative Properties Company | Process for preparing a K-type polarizer |
US7521168B2 (en) | 2002-02-13 | 2009-04-21 | Fujifilm Corporation | Resist composition for electron beam, EUV or X-ray |
US7087194B2 (en) * | 2002-04-04 | 2006-08-08 | 3M Innovative Properties Company | K-type polarizer and preparation thereof |
US6949207B2 (en) * | 2002-04-04 | 2005-09-27 | 3M Innovative Properties Company | K-type polarizer and preparation thereof |
JP4382364B2 (ja) | 2002-04-24 | 2009-12-09 | 株式会社東芝 | 液体インク |
US6939662B2 (en) | 2002-05-31 | 2005-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive-working resist composition |
US7232650B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Planar inorganic device |
US7771915B2 (en) | 2003-06-27 | 2010-08-10 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording and reproducing method |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
EP1528087B1 (de) * | 2003-10-28 | 2007-11-21 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Tinte für Tintenstrahlaufzeichnung |
US20050153239A1 (en) | 2004-01-09 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
JP2005309359A (ja) | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法、光記録媒体、3次元ディスプレイホログラムおよびホログラフィック光学素子。 |
JP2005300908A (ja) | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料 |
US7553670B2 (en) * | 2004-04-28 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample |
EP2246741A1 (de) | 2004-05-19 | 2010-11-03 | Fujifilm Corporation | Bildaufzeichnungsverfahren |
EP2618215B1 (de) | 2004-05-31 | 2017-07-05 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte |
JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
JP2006021396A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
US7146909B2 (en) | 2004-07-20 | 2006-12-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
US7425406B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1621339B1 (de) | 2004-07-29 | 2008-09-10 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten |
US20060032390A1 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
WO2006013697A1 (ja) | 2004-08-02 | 2006-02-09 | Fujifilm Corporation | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP4396443B2 (ja) | 2004-08-18 | 2010-01-13 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法 |
US7745090B2 (en) | 2004-08-24 | 2010-06-29 | Fujifilm Corporation | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
JP2006062188A (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色画像形成材料及び平版印刷版原版 |
JP2006068963A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
JP4715752B2 (ja) | 2004-12-09 | 2011-07-06 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 光硬化性インクを用いたインクセット、インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置 |
US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
US7199192B2 (en) | 2004-12-21 | 2007-04-03 | Callaway Golf Company | Golf ball |
JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
EP1798031A3 (de) | 2005-01-26 | 2007-07-04 | FUJIFILM Corporation | Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren |
JP4439409B2 (ja) | 2005-02-02 | 2010-03-24 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
US7858291B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-12-28 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method for preparation of lithographic printing plate precursor, and lithographic printing method |
EP1701213A3 (de) | 2005-03-08 | 2006-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
US20060204732A1 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
CN101248189B (zh) * | 2005-05-26 | 2013-05-01 | 通信改革公司 | 通过核酸模板化学生物检测的相关应用 |
JP2006335826A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP4815270B2 (ja) | 2005-08-18 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び作製装置 |
JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
US20070049651A1 (en) | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, planographic printing plate, and oxcetane compound |
JP4757574B2 (ja) | 2005-09-07 | 2011-08-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版 |
ATE494341T1 (de) | 2005-11-04 | 2011-01-15 | Fujifilm Corp | Härtbare tintenzusammensetzung und oxetanverbindung |
KR100763744B1 (ko) * | 2005-11-07 | 2007-10-04 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물 |
EP1829684B1 (de) | 2006-03-03 | 2011-01-26 | FUJIFILM Corporation | Härtbare Zusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Flachdruckplatte |
JP2007241144A (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
JP5171005B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤 |
JP4698470B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
CA2664649A1 (en) * | 2006-09-28 | 2008-05-08 | Ensemble Discovery Corporation | Compositions and methods for biodetection by nucleic acid-templated chemistry |
JP4777226B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料、及び新規化合物 |
US8771924B2 (en) | 2006-12-26 | 2014-07-08 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
JP2008163081A (ja) | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Fujifilm Corp | レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料ならびにレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版 |
EP1952998B1 (de) | 2007-02-01 | 2011-04-06 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung |
JP2008189776A (ja) | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Fujifilm Corp | 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版 |
EP1955858B1 (de) | 2007-02-06 | 2014-06-18 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Vorrichtung |
JP4881756B2 (ja) | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
US8240808B2 (en) | 2007-02-07 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
WO2008096618A1 (ja) | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | インクジェットヘッド、インクジェットプリンタ、インクジェット記録方法 |
JP2008203573A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Fujifilm Corp | 感光性組成物および2光子吸収光記録媒体 |
JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
JP2008208266A (ja) | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版 |
JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
JP2008233660A (ja) | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
JP5238292B2 (ja) | 2007-03-23 | 2013-07-17 | 三菱製紙株式会社 | 水現像可能な感光性平版印刷版材料 |
ATE471812T1 (de) | 2007-03-23 | 2010-07-15 | Fujifilm Corp | Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit |
JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
EP1975702B1 (de) | 2007-03-29 | 2013-07-24 | FUJIFILM Corporation | Farbige lichthärtbare Zusammensetzung für eine Festkörperbildaufnahmevorrichtung, Farbfilter und Verfahren zur Herstellung davon, sowie Festkörperbildaufnahmevorrichtung |
EP1974914B1 (de) | 2007-03-29 | 2014-02-26 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte |
JP5030638B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
EP1975706A3 (de) | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithografiedruckplattenvorläufer |
JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
EP1975710B1 (de) | 2007-03-30 | 2013-10-23 | FUJIFILM Corporation | Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers |
JP5159141B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版 |
JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
US7651830B2 (en) * | 2007-06-01 | 2010-01-26 | 3M Innovative Properties Company | Patterned photoacid etching and articles therefrom |
ATE484386T1 (de) | 2007-07-02 | 2010-10-15 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer und flachdruckverfahren damit |
JP5213375B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 |
TW200925214A (en) | 2007-09-06 | 2009-06-16 | Fujifilm Corp | Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element |
JP5247093B2 (ja) | 2007-09-14 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | アゾ化合物、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2009091555A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版 |
US9442372B2 (en) | 2007-09-26 | 2016-09-13 | Fujifilm Corporation | Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter |
JP5111039B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物 |
US7955781B2 (en) | 2007-09-28 | 2011-06-07 | Fujifilm Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
JP5002399B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の処理方法 |
JP4951454B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作成方法 |
JP5055077B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-10-24 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法および平版印刷版原版 |
JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
EP2042311A1 (de) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographiedruckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckverfahren |
JP5244518B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
CN101842444B (zh) | 2007-11-01 | 2013-06-05 | 富士胶片株式会社 | 颜料分散组合物、着色固化性组合物、滤色器及其制造方法 |
JP5408967B2 (ja) | 2007-11-08 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用樹脂印刷版原版、レリーフ印刷版およびレリーフ印刷版の製造方法 |
US8240838B2 (en) | 2007-11-29 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material |
JP2009139852A (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
JP5068640B2 (ja) | 2007-12-28 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5066452B2 (ja) | 2008-01-09 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用現像処理方法 |
JP2009186997A (ja) | 2008-01-11 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法 |
JP5500831B2 (ja) | 2008-01-25 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版 |
JP5241252B2 (ja) | 2008-01-29 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法 |
JP5371449B2 (ja) | 2008-01-31 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5052360B2 (ja) | 2008-01-31 | 2012-10-17 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2009184188A (ja) | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および印刷方法 |
JP5150287B2 (ja) | 2008-02-06 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
JP5147499B2 (ja) | 2008-02-13 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法 |
US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
JP5137618B2 (ja) | 2008-02-28 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法 |
JP5409045B2 (ja) | 2008-02-29 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用樹脂印刷版原版、レリーフ印刷版およびレリーフ印刷版の製造方法 |
JP5175582B2 (ja) | 2008-03-10 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5448352B2 (ja) | 2008-03-10 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
JP2009214428A (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
KR101671249B1 (ko) | 2008-03-17 | 2016-11-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 감광성 조성물, 컬러필터, 액정표시소자, 및 고체촬상소자 |
JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
KR20090100262A (ko) | 2008-03-18 | 2009-09-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
JP2009229771A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用自動現像方法 |
JP4940174B2 (ja) | 2008-03-21 | 2012-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用自動現像装置 |
JP5473239B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 金属フタロシアニン染料混合物、硬化性組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP5020871B2 (ja) | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
JP5422146B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法 |
JP2009236942A (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
EP2105298B1 (de) | 2008-03-28 | 2014-03-19 | FUJIFILM Corporation | Negativ arbeitender Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit |
JP5322575B2 (ja) | 2008-03-28 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法 |
JP5173528B2 (ja) | 2008-03-28 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5305793B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法 |
JP5137662B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5155920B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター |
JP5528677B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法 |
EP2110261B1 (de) | 2008-04-18 | 2018-03-28 | FUJIFILM Corporation | Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte, lithographische Druckplattenträger, Druckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplatteträgers |
KR101441998B1 (ko) | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
JP5222624B2 (ja) | 2008-05-12 | 2013-06-26 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法 |
JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
US8454152B2 (en) | 2008-06-23 | 2013-06-04 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Ink jet recording device and ink jet recording method |
JP5296434B2 (ja) | 2008-07-16 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
JP2010044273A (ja) | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子 |
JP5274151B2 (ja) | 2008-08-21 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
EP2168767A1 (de) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte |
JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
EP2169018B1 (de) | 2008-09-26 | 2012-01-18 | Fujifilm Corporation | Tintenzusammensetzung und Tintenaufzeichnungsverfahren |
JP5079653B2 (ja) | 2008-09-29 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5461809B2 (ja) | 2008-09-29 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5171514B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP5393092B2 (ja) | 2008-09-30 | 2014-01-22 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5660268B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
JP5127651B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5340102B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット |
US8888262B2 (en) | 2008-11-07 | 2014-11-18 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Actinic energy radiation curable inkjet ink and inkjet recording method |
JP2010115791A (ja) | 2008-11-11 | 2010-05-27 | Konica Minolta Ij Technologies Inc | 画像形成装置 |
JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP2010198735A (ja) | 2009-02-20 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | 光学部材及び該光学部材を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP5340198B2 (ja) | 2009-02-26 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物 |
JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5315267B2 (ja) | 2009-03-26 | 2013-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、キノフタロン色素 |
JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
JP5657267B2 (ja) | 2009-04-16 | 2015-01-21 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子 |
JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5701576B2 (ja) | 2009-11-20 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子 |
JP5791874B2 (ja) | 2010-03-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置 |
CN102336081A (zh) | 2010-05-19 | 2012-02-01 | 富士胶片株式会社 | 印刷方法、套印物的制作方法、层压加工方法、发光二极管固化性涂布组合物及墨液组合物 |
JP5638285B2 (ja) | 2010-05-31 | 2014-12-10 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子 |
JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
US9016846B2 (en) | 2010-08-19 | 2015-04-28 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Actinic energy radiation curable inkjet ink and actinic energy radiation curable inkjet recording method |
CN103249568B (zh) | 2010-12-10 | 2015-05-06 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷墨记录装置 |
EP2472330B1 (de) | 2010-12-28 | 2017-01-25 | Fujifilm Corporation | Schwarze strahlungsempfindliche Zusammensetzung, schwarzer gehärteter Film, Festkörperabbildungselement und Verfahren zum Herstellen eines schwarzen gehärteten Films |
JP5417364B2 (ja) | 2011-03-08 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 |
WO2012133432A1 (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | オルガノポリシロキサン、その製造方法、及びオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物 |
JP2014517856A (ja) | 2011-04-22 | 2014-07-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 改善された多光子撮像解像方法 |
US20140049590A1 (en) | 2011-04-27 | 2014-02-20 | Konica Minolta, Inc. | Inkjet recording device |
WO2013038974A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Fujifilm Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
JP5976523B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
JP5922013B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
CN104144788B (zh) | 2012-03-01 | 2016-06-29 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷墨记录方法 |
JP5934664B2 (ja) | 2012-03-19 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
JP5775479B2 (ja) | 2012-03-21 | 2015-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
EP2644664B1 (de) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel |
US9090080B2 (en) | 2012-05-01 | 2015-07-28 | Konica Minolta, Inc. | Image formation device |
JP5894943B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子 |
JP5909468B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-04-26 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
JP5934682B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法 |
CN104769059A (zh) | 2012-11-08 | 2015-07-08 | 3M创新有限公司 | 可紫外线固化的有机硅防粘组合物 |
JP6170673B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
CN104884537A (zh) | 2012-12-28 | 2015-09-02 | 富士胶片株式会社 | 硬化性树脂组合物、红外线截止滤波器及使用其的固体摄影元件 |
CN105102560A (zh) | 2012-12-28 | 2015-11-25 | 富士胶片株式会社 | 红外线反射膜形成用的硬化性树脂组合物、红外线反射膜及其制造方法、以及红外线截止滤波器及使用其的固体摄影元件 |
JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
CN105050817B (zh) | 2013-03-29 | 2017-06-23 | 柯尼卡美能达株式会社 | 图像形成装置 |
WO2015008777A1 (ja) | 2013-07-16 | 2015-01-22 | 株式会社カネカ | 有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
JP6162084B2 (ja) | 2013-09-06 | 2017-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
TWI634135B (zh) | 2015-12-25 | 2018-09-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件 |
EP3431513B1 (de) | 2016-03-14 | 2020-12-23 | FUJIFILM Corporation | Zusammensetzung, film, gehärteter film, optischer sensor und verfahren zur herstellung eines films |
KR102509769B1 (ko) | 2017-03-06 | 2023-03-14 | 가부시키가이샤 리코 | 박막 전극, 수지층 형성 잉크, 무기층 형성 잉크, 및 전극 인쇄 장치 |
JP7228707B2 (ja) | 2019-09-26 | 2023-02-24 | 富士フイルム株式会社 | 導熱層の製造方法、積層体の製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2461943A (en) * | 1949-02-15 | Alpba | ||
US3163647A (en) * | 1960-11-10 | 1964-12-29 | American Cyanamid Co | Vinyl s-triazines, method of preparing the same and polymers derived therefrom |
US3198633A (en) * | 1961-12-01 | 1965-08-03 | Du Pont | Photopolymerizable elements and transfer processes |
US3617288A (en) * | 1969-09-12 | 1971-11-02 | Minnesota Mining & Mfg | Propenone sensitizers for the photolysis of organic halogen compounds |
-
1971
- 1971-09-03 US US05/177,851 patent/US3987037A/en not_active Expired - Lifetime
-
1972
- 1972-08-14 NL NLAANVRAGE7211076,A patent/NL172155C/xx not_active IP Right Cessation
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-
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- 1980-10-15 JP JP14424380A patent/JPS5685746A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3987037A (en) | 1976-10-19 |
GB1388492A (en) | 1975-03-26 |
DE2243621A1 (de) | 1973-03-08 |
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BE788295A (fr) | 1973-03-01 |
NL7211076A (de) | 1973-03-06 |
JPS591281B2 (ja) | 1984-01-11 |
CA986512A (en) | 1976-03-30 |
IT965195B (it) | 1974-01-31 |
JPS5685746A (en) | 1981-07-13 |
BR7206066D0 (pt) | 1973-07-24 |
JPS571819B2 (de) | 1982-01-13 |
NL172155B (nl) | 1983-02-16 |
CH576967A5 (de) | 1976-06-30 |
NL172155C (nl) | 1983-07-18 |
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