DE68921019T2

DE68921019T2 - Lichtempfindliche Zusammensetzungen.

Info

Publication number: DE68921019T2
Application number: DE68921019T
Authority: DE
Inventors: Kouichi C O Fuji Phot Kawamura
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1988-05-11
Filing date: 1989-05-11
Publication date: 1995-06-01
Anticipated expiration: 2009-05-12
Also published as: US5262276A; EP0341720A2; JPH0263054A; DE68921019D1; JP2720195B2; EP0341720A3; EP0341720B1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft lichtempfindliche Zusammensetzungen, die eine neue Verbindung enthalten, die bei Bestrahlung mit Licht freie Radikale erzeugt (nachstehend als "Erzeuger freier Radikaler mittels Licht" bezeichnet) und insbesondere lichtempfindliche Zusammensetzungen, die einen neuen Erzeuger freier Radikaler mittels Licht enthalten, bei dem ein Teil, der imstande ist, Licht zu absorbieren (nachstehend als "lichtabsorbierender Teil" bezeichnet) und ein aktiver Teil, der imstande ist, freie Radikale zu erzeugen (nachstehend als "freie Radikale erzeugender Teil" bezeichnet) durch ein Zusammenwirken mit dem lichtabsorbierenden Teil, wenn der letztere Licht absorbiert und erregt wird, chemisch miteinander verbunden werden.
Auf dem Gebiet der graphischen Technik sind Verbindungen wohlbekannt, die sich bei Aussetzung an Licht zur Erzeugung freier Radikaler zersetzen. Diese Verbindungen wurden weit verbreitet als Photopolymerisations-Initiatoren bei photopolymerisierbaren Zusammensetzungen, Photoaktivatoren bei radikalischen, photographischen Zusammensetzungen und Photoinitiatoren für Reaktionen verwendet, die durch eine durch die Wirkung von Licht erzeugte Säure katalysiert werden. Es wurden verschiedene Arten von lichtempfindlichen Materialien hergestellt, die bei Bilderzeugungssystemen wie Druck-, Replikations- und Kopiersystemen, bei denen solche Erzeuger freier Radikaler verwendet werden, brauchbar sind.
Bis heute sind beispielsweise Arylalkylketone wie Benzoinether, Diethylacetophenon, Oximester, Acylphosphinoxide, Diarylketone wie Benzophenon, Benzochinone und Bisimidazole allgemein als Erzeuger freier Radikaler in verschiedenen Industriezweigen verwendet worden.
Diese Erzeuger freier Radikaler sind im Journal of Radiation Curing, 1987, Juli, Seiten 6 bis 16 und 18 bis 31 detailliert angegeben.
Typische Beispiele der Erzeuger freier Radikaler, die freie Halogenradikale erzeugen, Kohlenstofftetrabromid, Iodoform und Tribromacetophenon, und diese Erzeuger wurden weit verbreitet verwendet. Außerdem wurden mit Trichlormethylgruppen substituierte s-Triazinverbindungen, wie in der US-A- 4 619 998 und GB-A-1 388 492 offenbart, auch weit verbreitet verwendet.
Diese Erzeuger freier Radikaler können jedoch durch die Bestrahlung mit Licht mit einer Wellenlänge innerhalb eines im wesentlichen beschränkten Bereichs zersetzt werden. Insbesondere sind sie Licht gegenüber empfindlich, das eine Wellenlänge aufweist, die kürzer ist als die der Hauptstrahlen der allgemein verwendeten Lichtquellen, d.h. solcher, die in den ultravioletten Bereich fallen. Mit anderen Worten, können diese Verbindungen Licht mit einer Wellenlänge nicht wirksam ausnützen, das in der Nähe des ultravioletten Bereichs bis zu dem sichtbaren Bereich liegt, und so ist ihre Fähigkeit, freie Radikale zu erzeugen, sehr gering.
Kürzlich ist versucht worden, Laser im sichtbaren Bereich oder Laser in der Nähe des Infrarotbereichs zusätzlich zu den herkömmlicherweise verwendeten ultravioletten Strahlen zu benutzen. In einem solchen Fall müssen die Erzeuger freier Radikaler diesen verschiedenen Laserstrahlen gegenüber empfindlich sein.
Außerdem sind ein Verfahren zur wesentlichen Erhöhung der Empfindlichkeit von lichtempfindlichen Materialien und ein Verfahren zur Erzeugung von Bildern unter Verwendung eines Lasers untersucht worden, und einige Verfahren, wie die UV- Projektionsbelichtungsverfahren, Verfahren der direkten Plattenherstellung, bei denen ein Laser verwendet wird, Laser- Facsimileverfahren und Holographie wurden bereits praktisch verwendet. So wurden lichtempfindliche Materialien mit einer hohen Empfindlichkeit entsprechend entwickelt. Um solche hoch empfindlichen, lichtempfindlichen Materialien zu entwickeln, ist es wichtig, Verbindungen zu finden oder synthetisch herzustellen, die wirksam freie Radikale erzeugen können, wenn sie mit Licht mit einer Wellenlänge bestrahlt werden, das von einem Bereich in der Nähe des ultravioletten Bereichs zu dem sichtbaren Bereich oder weiter bis zu einem Bereich in der Nähe des Infrarotbereichs reicht. Viele Versuche waren auf die Erzeugung freier Radikaler mit Licht einer Wellenlänge gerichtet, die von einem Bereich in der Nähe des ultravioletten Bereichs zum sichtbaren Bereich oder weiter zu einem Bereich in der Nähe des Infrarotbereichs reicht. All diese Versuche umfassen die Zugabe einer Kombination eines Aktivators, der freie Radikale erzeugen kann, und einer bestimmten Art von Lichtabsorptionsmittel zu den lichtempfindlichen Materialien.
In der US-A-3 652 275 werden Verbindungen des Chalcontyps oder Dibenzylacetontyps als Lichtabsorptionsmittel verwendet, und Bisimidazolverbindungen werden als Aktivatoren verwendet, die freie Radikale erzeugen können. Außerdem werden in der GB-A-2 020 297 Merocyaninverbindungen als Lichtabsorptionsmittel und Diphenyliodoniumsalze als Aktivatoren verwendet.
In der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (nachstehend als "J.P. KOKAI" bezeichnet) Nr. Sho 58-40302 werden Thiopyryliumsalze als Lichtabsorptionsmittel und mit Trichlormethyl substituierte s-Triazinverbindungen als Aktivatoren verwendet, die J.P. KOKAI Nr. Sho 57-21401 offenbart eine Kombination von Dialkylaminostilbenverbindungen als Lichtabsorptionsmittel und Bisimidazolverbindungen als Aktivatoren und in der J.P. KOKAI Nr. Sho 54-95687 und Sho 54- 151024 und US-A-4 481 276 werden Merocyaninverbindungen als Lichtabsorptionsmittel und mit Trichlormethyl substituierte s-Triazinverbindungen als Aktivatoren verwendet.
Außerdem wird in "Polymer Engineering and Science", 1983, 23, Seite 1022, Ketocumarin als Lichtabsorptionsmittel und N- Phenylglycin als Aktivator verwendet.
Andere Beispiele solcher Lichtabsorptionsmittel und Aktivatoren sind in D.F. Eaton "Advances in Photochemistry", 1987, 13, Seiten 427 bis 487 offenbart. Spezifische Beispiele der Lichtabsorptionsmittel sind Acridiniumfarbstoffe wie Acriflavin, Xanthenfarbstoffe wie Diodeosin und Thiazinfarbstoffe wie Thionin und Methylenblau, und spezifische Beispiele der Aktivatoren sind Amine wie Triethanolamin, Hydrazin und Triphenylamin; Phosphorverbindungen wie Triphenylphosphin und Tri-n-butylphosphin, Sulfinsäuren wie Natrium-p-toluolsulfinat, Sulfonsäureester wie Methyl-p-Toluolsulfonat, heterocyclische Verbindungen wie Oxazol und Imidazol, Enolatverbindungen wie Dimedon, Zinnverbindungen wie Tributylbenzylzinn, Arylthioharnstoff und N-Phenylglycin.
Andere Beispiele solcher Lichtabsorptionsmittel und Aktivatoren sind in den US-A-4 743 529 und US-A-4 743 530 offenbart.
Die US-A-3 674 495 offenbart eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die eine Verbindung umfaßt, die aus einem lichtabsorbierenden Teil, einem freie Radikale erzeugenden Teil und einem Kopplungsteil besteht, dargestellt durch die nachfolgende allgemeine Formel
worin R einen Benzol- oder Naphthalinkern darstellt, der einen Rest, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Hydroxyl, Halogen, Nitro, Alkyl und Alkoxy, enthält, R' einen Benzolkern darstellt, der einen Rest, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Hydroxyl, Halogen, Nitro, Alkyl und Alkoxy, enthält, und X und Y einzeln einen Alkyl-, Alkylalkohol- oder Alkoxyrest darstellen und N&sub2; und O auf dem Naphthalinkern miteinander die Stellung wechseln können.
Eine eine solche Verbindung enthaltende Sensibilisierungsschicht weist eine bemerkenswerte Änderung des Farbtons bei Belichtung mit einer Bogenlampe auf, welche die Unterscheidung zwischen belichteten und nichtbelichteten Bereichen erleichtert.
Aus der EP-A-0 125 140 ist eine weitere lichtempfindliche Verbindung bekannt, bei der ein freie Radikale erzeugender Teil über eine Gruppe mit einem lichtabsorbierenden Teil für eine strahlungsempfindliche Platte verbunden ist.
Die US-A-4 189 323 betrifft strahlungsempfindliche Zusammensetzungen, die als strahlungsempfindliche Verbindung ein s- Triazin der Formel
enthalten, worin X Brom oder Chlor ist und m und n ganze Zahlen von 0 bis 3 sind, die zusammengenommen 5 nicht überschreiten, R eine substituierte oder unsubstituierte, zweikernige oder dreikernige, aromatische oder heterocyclische, aromatische Gruppe ist, die teilweise hydriert sein kann und die über ein ungesättigtes Kernkohlenstoffatom verbunden ist.
Die US-A-3 987 037 sieht mit Chromophor substituierte Vinylhalomethyl-s-triazine vor, die freie Radikale bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer Wellenlänge von etwa 330 bis 700 nm erzeugen.
Systeme, die viele Aktivatoren des Stands der Technik umfassen, denen Lichtabsorptionsmittel zugegeben werden, machen es möglich, freie Radikale zu erzeugen, wenn sie mit Licht mit einer Wellenlänge bestrahlt werden, die länger ist als die des herkömmlicherweise verwendeten Lichts, und es wurde versucht, lichtempfindliche Zusammensetzungen, die diese Verbindungen enthalten, in einer Vielfalt von Gebieten zu verwenden. Die Fähigkeit, dieser herkömmlicherweise vorgeschlagenen Verbindungen, freie Radikale zu erzeugen, ist jedoch noch nicht ausreichend, und es ist erforderlich, lichtempfindliche Zusammensetzungen zu entwickeln, die eine verbesserte Fähigkeit aufweisen, freie Radikale zu erzeugen.
Entsprechend ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung die Schaffung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die Erzeuger freier Radikaler enthalten, die Licht gegenüber mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 300 nm hoch empfindlich sind und so eine hohe Empfindlichkeit solchem Licht gegenüber aufweisen, und die Schaffung einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die Erzeuger freier Radikaler enthält, die Licht gegenüber mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 300 nm hoch empfindlich sind.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe gelöst mit einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, umfassend mindestens eine Verbindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I) als Erzeuger eines freien Radikals mittels Licht:
S-L-A (I)
worin S, welches Licht mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 300 nm mit einem Absorptionskoeffizienten von nicht weniger als 1000 absorbiert, von einer Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Chalcon- und Dibenzylacetonderivaten, Merocyaninfarbstoffen, Thiopyrylium- oder Pyryliumfarbstoffen, Dialkylaminostilbenen, Acridinfarbstoffen, Xanthenfarbstoffen, Thiazenfarbstoffen, Cyaninfarbstoffen, Squaryliumfarbstoffen, Thioxanthon, polynuklearen, aromatischen Verbindungen und polynuklearen heteroaromatischen Verbindungen, abgeleitet ist;
A einen aktiven Teil darstellt, der mit dem lichtabsorbierenden Teil S in einem angeregten Zustand wechselwirkt, um freie Radikale zu bilden;
und L, welches die Teile S und A verbindet, ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus einer Esterbindug, einer Amidbindung, einer Sulfamidbindung, einer Etherbindung, einer Thioetherbindung, einer Aminobindung und irgendeiner Kombination davon.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird diese Aufgabe weiterhin gelöst mit einer photopolymerisierbaren Verbindung, umfassend
mindestens eine radikalische, polymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Gruppe,
mindestens eine Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) wie vorstehend definiert, als Erzeuger freier Radikaler mittels Licht,
und gegebenenfalls mindestens ein lineares, organisches, Polymer mit hohem Molekulargewicht.
Bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung wird nachstehend detaillierter erklärt.
Verbindungen mit dem lichtabsorbierenden Teil S, der Licht mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 300 nm mit einem Absorptionskoeffizienten von nicht weniger als 1000 absorbiert, die erfindungsgemäß verwendet werden, sind Lichtabsorptionsmittel, die herkömmlicherweise in Kombination mit Aktivatoren verwendet werden, und sie umfassen die vorstehend erwähnten Chalcon- und Dibenzylacetonverbindungen, Merocyaninfarbstoffe, Thiopyrylium- oder Pyryliumfarbstoffe, Dialkylaminostilbene, Acridinfarbstoffe, Xanthenfarbstoffe, Thiazenfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe und Thioxanthon, polynukleare, aromatische Verbindungen und polynukleare, heteroaromatische Verbindungen, wie Anthracen, Phenanthren, Pyren, Acridin, Carbazol, Phenothiazin und ihre Derivate.
Beispiele der Verbindungen mit einem aktiven Teil, der mit dem erregten Teil S zur Bildung freier Radikale wechselwirkt, umfassen die vorstehend erwähnten Bisimidazolverbindungen, Oniumverbindungen wie Diphenyliodonium- und Triphenylsulfoniumsalze, mit Trichlormethyl substituierte s-Triazinverbindungen, N-Phenylglycin, Amine wie Triethanolamin und Hydrazin, Phosphorverbindungen wie Triphenylphosphin und Tri-n- butylphosphin, Sulfinsäuren wie Natrium-p-toluolsulfinat, Sulfonsäureester wie Methyl-p-Toluolsulfonat, heterocyclische Verbindungen wie Oxazol und Imidazol, Enolatverbindungen wie Dimedon, Zinnverbindungen wie Tributylbenzylzinn, Allylthioharnstoff, Oximester und Boranverbindungen wie Triphenyl-n- butylborat. Reste dieser Verbindungen können als aktive Teile der neuen erfindungsgemäß verwendeten Erzeuger freier Radikaler verwendet werden.
Bevorzugte Beispiele der Gruppe L zum Verbinden der Teile S und A sind durch die nachstehenden Formel (a) und (b) dargestellte Esterbindungen:
-CO-O- (a); -O-CO-O- (b)
durch die nachstehenden allgemeinen Formeln (c) bis (f) dargestellte Amidobindungen:
-CO-NR- (c); NR-CO-NR- (d) -CO-NR-SO&sub2;- (e); -CO-CONR- (f)
(worin R ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellt), durch die nachfolgende allgemeine Formel (g) dargestellte Sulfonamidobindungen:
-SO&sub2;-NR- (g)
(worin R wie vorstehend definiert ist), Etherbindungen, Thioetherbindungen und Aminobindungen. Weitere Beispiele der Verbindungen mit einem aktiven Teil sind Pyridiniumverbindungen, die in "Research Disclosure", Band 200, Dezember 1980, Punkt 20036 offenbart sind.
Unter den durch die allgemeine Formel (I) dargestellten Verbindungen sind jene besonders bevorzugt, bei denen der lichtabsorbierende Teil S ein Rest eines Merocyaninfarbstoffs, der aktive Teil A ein s-Triazinrest mit einer Trichlormethylgruppe und die Verbindungsgruppe L eine Esterbindung, eine Amidobindung oder eine Sulfonamidobindung ist.
Die bei der Herstellung der durch die Formel (I) dargestellten Verbindungen verwendeten Merocyaninfarbstoffe sind allgemein bekannte Merocyaninfarbstoffe mit funktionellen Gruppen, die für die Verbindung des aktiven Teils A damit erforderlich sind. Solche Merocyaninfarbstoffe sind beispielsweise offenbart in F.M. Hamer et al. "THE CYANINE DYES AND RELATED COMPOUNDS", 1964, Seiten 511 bis 611. Typische Beispiele solcher Merocyaninfarbstoffe können durch die nachfolgende allgemeine Formel (II) dargestellt sein:
In der Formel (II) stellen R¹ bis R³ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Allylgruppe dar, Y stellt ein bivalentes Atom oder eine Gruppe dar, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus -O-, -S-, -NR¹- (worin R¹ wie vorstehend definiert ist), -Se-, - C(CH&sub3;)&sub2;- oder -CH=CH-, mit der Maßgabe, daß R¹ und R² zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen Ring bilden können, n eine ganze Zahl von 0, 1 oder 2 ist, und G¹ und G² gleich oder verschieden sein können und jeweils ein Wasserstoffatom, eine Cyanogruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Alkoxycarbonylgruppe, eine unsubstituierte oder substituierte Aryloxycarbonylgruppe, eine unsubstituierte oder substituierte Acylgruppe, eine unsubstituierte oder substituierte Arylcarbonylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe oder eine Fluoralkylsulfonylgruppe darstellen, mit der Maßgabe, daß G¹ und G² nicht gleichzeitig Wasserstoffatome darstellen können und daß G¹ und G² einen Ring, umfassend nichtmetallische Atome, zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, bilden können.
Falls G¹ und G² einen Ring, umfassend nichtmetallische Atome, zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, bilden, sind die Ringe jene, die üblicherweise als saure Kerne in den Merocyaninfarbstoffen verwendet werden und Beispiele davon sind folgende:
(a) 1,3-Dicarbonylkerne wie 1,3-Indandion, 1,3-Cyclohexandion, 5,5-Dimethyl-1,3-cyclohexandion und 1,3-Dioxan-4,6- dion;
(b) Pyrazolinonkerne wie 3-Methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-on, 1-Phenyl-2-pyrazolin-5-on und 1-(2-Benzothiazolyl)-3-methyl- 2-pyrazolin-5-on;
(c) Isoxazolinonkerne wie 3-Phenyl-2-isoxazolin-5-on und 3- Methyl-2-isoxazolin-5-on;
(d) Oxyindolkerne wie 1-Alkyl-2,3-dihydro-2-oxyindol;
(e) 2,4,6-Triketohexahydropyrimidinkerne wie Barbitursäure und deren Derivate, beispielsweise 1-Alkylderivate wie 1-Methyl- und 1-Ethylderivate; 1,3-Dialkylderivate wie 1,3- Diethyl- und 1,3-Dibutylderivate, 1,3-Diarylderivate wie 1,3- Diphenyl-, 1,3-di-(p-Chlorphenyl)- und 1,3-di-(p-Ethoxycarbonylphenyl)-Derivate und 1-Alkyl-3-aryl-Derivate wie 1- Ethyl-3-phenyl-Derivate,
(f) 2-Thio-2,4-thiazolidindionkerne wie Rhodanin und dessen Derivate, beispielsweise 3-Alkylrhodanin wie 3-Ethylrhodanin und 3-Allylrhodanin, 3-Arylrhodanin wie 3-Phenylrhodanin,
(g) 2-Thio-2,4-oxazolidindion-(2-thio-2,4-(3H, 5H)-oxazoldion)-Kerne wie 2-Ethyl-2-thio-2,4-oxazolidindion,
h) Thianaphthenonkerne wie 3(2H)-Thianaphthenon und 3(2H)- Thianaphthenon-1,1-dioxid,
(i) 2-Thio-2,5-thiazolidindionkerne wie 3-Ethyl-2-thio-2,5- thiazolidindion,
(j) 2,4-Thiazolidindionkerne wie 2,4-Thiazolidindion, 3- Ethyl-2,4-thiazolidindion und 3-Phenyl-2,4-Thiazolidindion,
(k) Thiazolidinonkerne wie 4-Thiazolidinon und 3-Ethyl-4- Thiazolidinon,
(l) 4-Thiazolinonkerne wie 2-Ethylmercapto-5-thiazolin-4-on und 2-Alkylphenylamino-5-thiazolin-4-on,
(m) 2-Imino-2-ozozolin-4-on- (Pseudohydantoin-) Kerne,
(n) 2,4-Imidazolidindion- (Hydantoin-) Kerne wie 2,4-Imidazolidindion und 3-Ethyl-2,4-imidazolidindion,
(o) 2-Thio-2,4-imidazolidindion- (2-Thiohydantoin-) Kerne wie 2-Thio-2,4-imidazolidindion und 3-Ethyl-2-thio-2,4-imidazolidindion,
(p) 2-Imidazolin-5-on-Kerne wie 2-n-Propylmercapto-2-imidazolin-5-on, und
(g) Furan-5-on-Kerne.
In dieser Hinsicht müssen Merocyaninfarbstoffe an irgendeinem von R¹ bis R³ und G¹ und G² mindestens eine funktionelle Gruppe aufweisen, die mit einer Verbindung reagiert, die einen aktiven Teil aufweist, um so eine Kopplungsgruppe L, beispielsweise eine Carboxylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Aminogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Isocyanatgruppe und eine Thiolgruppe zu bilden.
Die s-Triazinverbindungen mit einer Trichlormethylgruppe, die die aktiven Teile der Verbindungen (I) sein können, sind durch die nachfolgende allgemeine Formel (III) dargestellt:
In der Formel (III) stellen R&sup4; und R&sup5; jeweils ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine substituierte Alkenylgruppe dar, mit der Maßgabe, daß einer von R&sup4; und R&sup5; mindestens eine funktionelle Gruppe aufweisen muß, die mit einer Verbindung, die einen lichtabsorbierenden Teil S aufweist, reagiert, um so eine Kopplungsgruppe L zu bilden.
Beispiele der durch R&sup4; und R&sup5; dargestellten, substituierten Alyklgruppen umfassen Trichlormethyl- und Trifluormethylgruppen, Beispiele der substituierten Arylgruppe umfassen 4-Styrylphenyl und 4-(substituierte) Styrylphenylgruppen, Beispiele der substituierten Alkenylgruupen sind Styryl- und substituierte Styrylgruppen und Beispiele der Arylgruppen sind Reste von polynuklearen, aromatischen Verbindungen wie eine Naphthylgruppe und Reste von heteroaromatischen Verbindungen wie Thiofuran. Außerdem umfassen Beispiele funktioneller Gruppen, die für die Kopplung mit dem lichtabsorbierenden Teil S erforderlich sind, jene, die vorstehend in Verbindung mit den Verbindungen (II) angegeben sind.
Typische Beispiele neuer Verbindungen, die freie Radikale mittels Licht erzeugen und die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind folgende (bei den nachfolgenden Beispielen bedeutet "Ph" eine Phenylgruppe):
Die durch die Formel (I) dargestellten Erzeuger freier Radikaler sind besonders nützlich, wenn sie in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen als Photopolymerisationsinitiatoren verwendet werden.
Wenn der Erzeuger freier Radikaler der Formel (I) in einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung verwendet wird, umfaßt die photopolymerisierbare Zusammensetzung mindestens eine polymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Bindung, mindestens einen Photopolymerisationsinitiator und gegebenenfalls mindestens ein lineares, organisches Polymer hohen Molekulargewichts und ist insbesondere nützlich zur Bildung lichtempfindlicher Schichten von vorsensibilisierten Platten zur Verwendung bei der Herstellung von beispielsweise lithographischen Druckplatten (nachstehend als "PS-Platten" bezeichnet) oder Photoresisten.
Die Menge des der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Zusammensetzung zugegebenen Erzeugers freier Radikaler liegt im Bereich von 0,01 bis 60 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindung und dem gegebenenfalls der Zusammensetzung zugegebenen linearen, organischen Polymers hohen Molekulargewichts. Mehr bevorzugte Ergebnisse können erhalten werden, falls sie im Bereich von 1 bis 30 Gew.-% liegt.
Die erfindungsgemäß verwendeten, polymerisierbaren Verbindungen mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Bindung sind beispielsweise jene, die eine chemische Form wie Monomer, Prepolymer (d.h. Dimere, Trimere und Oligomere) oder deren Mischungen und auch deren Copolymere haben. Beispiele solcher Monomere und deren Copolymere sind Ester ungesättigter Carbonsäuren und aliphatische, mehrwertige Alkohole, und Amide ungesättigter Carbonsäuren und aliphatische, mehrwertige Amine.
Typische Beispiele solcher Estermonomere ungesättigter Carbonsäuren und aliphatischer, mehrwertiger Alkohole umfassen solche Acrylate wie Ethylenglycoldiacrylat, Triethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglycoldiacrylat, Propylenglycoldiacrylat, Neopentylglycoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)-ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglycoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacrylat, Dipentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat, Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat, Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)- isocyanurat und Polyesteracrylatoligomer.
Typische Beispiele solcher Estermonomere ungesättigter Carbonsäuren und aliphatischer, mehrwertiger Alkohole umfassen weiterhin solche Methacrylate wie Tetramethylenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Neopentylglycoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglycoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, Pentaerythrittetramethacrylat, Dipentaerytritdimethacrylat, Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat, Sorbittetramethacrylat, Bis(p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)-phenyl)- dimethylmethan und Bis(p-(acryloxyethoxy)-phenyl)-dimethylmethan.
Außerdem umfassen Beispiele der Amidmonomere aliphatischer, mehrwertiger Amine und ungesättiger Carbonsäuren Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid und Xylylenbismethacrylamid.
Diese Ester und Amide werden in einer Menge von nicht weniger als 5 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 99,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, verwendet.
Die linearen, organischen Polymere hohen Molekulargewichts, die erfindungsgemäß verwendbar sind, sind nicht auf spezifische beschränkt, solange sie lineare, organische Polymere hohen Molekulargewichts sind, die mit den vorstehenden photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindungen kompatibel sind. Es ist jedoch wünschenswert, lineare, organische Polymere mit hohen Molekulargewicht, die wasserlöslich oder schwach alkalilöslich oder quellbar sind, auszuwählen, um die sich ergebende Zusammensetzung mit Wasser oder schwach alkalischer, wässeriger Lösung entwickelbar zu machen. Falls beispielsweise wasserlösliche, organische Polymere hohen Molekulargewichts verwendet werden, kann die sich ergebende Zusammensetzung mit Wasser entwickelt werden. Beispiele solcher linearen, organischen Polymere mit hohen Molekulargewicht umfassen Additionspolymere mit Carboxylgruppen an deren Seitenketten wie Methacrylsäure-Copolymere, Acrylsäure-Copolymere, Itaconsäure-Copolymere, Crotonsäure-Copolymere, Maleinsäure-Copolymere und teilweise veresterte Maleinsäure-Copolymere wie offenbart in J.P. KOKAI Nr. Sho 59-44615, Sho 54- 92723, Sho 59-53836 und Sho 59-71048 und die japanische Patentveröffentlichung für Einspruchszwecke (nachstehend als "J.P. KOKOKU" bezeichnet) Nr. Sho 54-34327, Sho 58-12577 und Sho 54-25957. Außerdem umfassen weitere Beispiele davon saure Cellulosederivate mit Carboxylgruppen an den Seitenketten. Außerdem sind solche, die erhalten werden durch die Zugabe cyclischer Säureanhydride zu Additionspolymeren mit Hydroxylgruppen auch brauchbar. Insbesondere bevorzugt sind Copolymere von Benzyl(meth)acrylat/(meth)acrylsäure/andere gegebenenfalls additionspolymerisierbare Vinylmonomere und Copolymere von Allyl(meth)acrylat/(meth)acrylsäure/andere gegebenenfalls additionspolymerisierbare Vinylmonomere.
Diese linearen, organischen Polymere hohen Molekulargewichts werden allein oder in Kombination in der photopolymerisierbaren Zusammensetzung der Erfindung verwendet, und diese Polymere können der lichtempfindlichen Zusammensetzung in jeder Menge einverleibt werden. Falls sie jedoch 90 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, überschreitet, ist die Festigkeit der erzeugten Bilder möglicherweise beeinträchtigt.
Jedoch kann ein höheres aliphatisches Säurederivat wie beispielsweise Behensäure oder Behensäureamid gegebenenfalls der photopolymerisierbaren Zusammensetzung zugegeben werden, um sie an die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht kommen zu lassen, um so die polymerisationshemmende Wirkung von Sauerstoff zu verhindern. Die Menge der höheren aliphatischen Säurederivate liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Außerdem können der photopolymerisierbaren Zusammensetzungen Farbstoffe oder Pigmente zugegeben werden, um die lichtempfindliche Schicht zu färben. Deren Menge liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Außerdem kann die photopolymerisierbare Zusammensetzung weiterhin anorganische Füllstoffe zum Zwecke der Verbesserung der physikalischen Eigenschaften von gehärteten Filmen und/oder andere bekannte Zusätze enthalten.
Wenn die photopolymerisierbare Zusammensetzung auf ein geeignetes Substrat aufgetragen wird, um dies als lichtempfindliche Schichten von beispielsweise PS-Platten zu verwenden, wird als ein solches Substrat ein plattenähnliches Material mit Formbeständigkeit verwendet. Beispiele solcher formbeständigen, plattenartigen Materialien umfassen Papier, mit einer Kunststoffolie wie einer Polyethylen-, Polypropylen- oder Polystyrolfolie laminiertes Papier, Metallplatten wie Aluminium- (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplatten, Kunststoffolien wie Cellulosediacetat-, Cellulosetriacetat-, Cellulosepropionat-, Cellulosebutyrat-, Cellulosebutyratacetat-, Cellulosenitrat-, Polyethylenterephthalat-, Polyethylen-, Polystyrol-, Polypropylen-, Polycarbonat- und Polyvinylacetalfolien, Papier oder Kunststoffolien, die mit einer Folie des vorstehenden Metalls laminiert sind oder auf denen eine Schicht des vorstehenden Metalls abgeschieden ist.
Unter diesen Substraten sind Aluminiumplatten aufgrund ihrer hohen Formbeständigkeit und niedrigen Kosten bei der Herstellung von PS-Platten besonders bevorzugt. Außerdem umfassen bevorzugte Beispiele der Substrate auch Verbundplatten, beispielsweise bestehend aus einem Polyethylenterephthalatfolie und einer damit verbundenen Aluminiumplatte wie in J.P. KOKOKU Nr. Sho 48-18327 offenbart.
Falls das Substrat eine Metalloberfläche, insbesondere eine Aluminiumoberfläche aufweist, wird das Substrat vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung wie einer Körnung, einer Tauchbehandlung in einer wässerigen Lösung von Natriumsilicat, Kaliumfluorzirconat oder einer Phosphat- oder anodischen Behandlung unterzogen.
Eine Schutzschicht kann auf der Schicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung ausgebildet werden, die auf die Oberfläche eines Substrats aufgetragen wird, um die polymerisationshemmende Wirkung von Sauerstoff in der Luft zu eliminieren. Eine solche Schutzschicht kann von Polymeren erhalten werden, die ausgezeichnete Sauerstoffsperrschichteigenschaften aufweisen wie Polyvinylalkohol und saure Cellulosen. Verfahren zum Auftragen einer solchen Schutzschicht sind beispielsweise in US-A-3 458 311 und J.P. KOKOKU Nr. Sho 55- 69729 detailliert angegeben.
Die lichtempfindlichen Materialien, bei denen die photopolymerisierbare Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung verwendet wird, werden bildweise mit Licht belichtet und mit einem Entwickler zur Entfernung nichtbelichteter Bereiche der lichtempfindlichen Schicht zur Erzeugung von Bildern entwickelt. Beispiele der bevorzugten Entwickler, die verwendet werden, wenn diese photopolymerisierbaren Zusammensetzungen zur Herstellung von PS-Platten und folglich lithographischen Druckplatten verwendet werden, umfassen jene, die offenbart sind in J.P. KOKOKU Nr. Sho 57-7427, mit anderen Worten eine wässerige Lösung eines anorganischen, alkalischen Mittels wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriummetasilicat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat oder wässeriges Ammoniak oder eines organischen alkalischen Mittels wie Monoethanolamin oder Diethanolamin. Die Konzentration dieser alkalischen Mittel liegt im allgemeinen im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%.
Die alkalische, wässerige Lösung kann gegebenenfalls eine geringe Menge eines oberflächenaktiven Mittels oder eines organischen Lösungsmittel wie Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol oder 2-Butoxyethanol enthalten. Beispiele hiervon umfassen jene die in US-A-3 375 171 und US-A-3 615 480 offenbart sind.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung oder die photopolymerisierbare Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung, die neue Verbindungen, die freie Radikale mittels Licht erzeugen, enthält, weist eine hohe Empfindlichkeit gegenüber aktinischen Strahlen mit einer Wellenlänge im Bereich von dem Bereich nahe des ultravioletten Bereichs bis zum sichtbaren Bereich oder weiter bis zu dem Bereich nahe dem Infrarotbereich auf. Deshalb kann die Zusammensetzung bildweise mit Licht von verschiedenen Lichtquellen wie Hochdruck-, Mitteldruck- und Niederdruckquecksilberlampen, einer chemischen Lampe, einer Kohlebogenlampe, einer Xenonlampe, einer Metallhalogenidlampe, verschiedenen Laserlampen, beispielsweise einem sichtbaren Laser, einem ultravioletten Laser und einem Laser nahe dem Infrarotbereich, einer Fluoreszenzlampe und Sonnenstrahlen belichtet werden.
Die lichtempfindliche oder photopolymerisierbare Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung wird nachstehend detaillierter mit Bezug auf die nachfolgenden Arbeitsbeispiele und Herstellungsbeispiele beschrieben, und die in der Praxis erfindungsgemäß erzielten Wirkungen werden auch detailliert im Vergleich zu Vergleichsbeispielen erörtert.

Herstellungsbeispiel: Herstellung der Verbindung (1)

Die Verbindung (1) kann aus einer Verbindung (1-S) mit einem lichtabsorbierenden Teil und einer Verbindung (1-A) mit einem durch die nachfolgenden Formeln dargestellten, aktiven Teil hergestellt werden: Verbindung
Die Methodologie ist wie folgt:
3,9 g der Verbindung (1-A) und 6 ml Thionylchlorid wurden miteinander gemischt, und die Mischung wurde unter Rückfluß 30 Minuten erhitzt. Dann wurden nach Herausdestillieren von überschüssigem Thionylchlorid im Vakuum 2,8 g der Verbindung (1-S) und 500 ml wasserfreies Tetrahydrofuran zugegeben, wonach die Mischung unter Rückfluß erhitzt und die sich ergebende Lösung mit Eis zugegeben gekühlt wurde.
Dieser Lösung wurden 2,2 g N,N-di-Methylaminopyridin zugegeben, und die Lösung wurde bei Raumtemperatur während 1 Stunde gerührt. Die Reaktionslösung wurde in 2 l Wasser, denen 1 ml konzentrierte HCl zugegeben wurde, gegossen, und der sich ergebende Feststoff wurde abgefiltert. Der Feststoff wurde aus Ethylacetat rekristallisiert, um 1,45 g Kristalle zu erhalten.
Schmelzpunkt = 229 - 230ºC
UV-Spektrum (in Acetonitril)
429 nm (&epsi;: 6,29 X 10&sup4;)
281 nm (&epsi;: 3,55 X 10&sup4;)
Elementaranalyse: für C&sub2;&sub7;H&sub1;&sub9;N&sub5;S&sub3;O&sub3;Cl
Berechnet (%): C: 42,10; H: 2,49; N: 9,90; Cl: 27,61
Gefunden (%): C: 41,98; H: 2,40; N: 9,13; Cl: 27,40

Beispiele 1 und 2

Eine Lösung der lichtempfindlichen Zusammensetzung (nachstehend als "lichtempfindliche Lösung" bezeichnet) mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche einer Polyethylenterephthalatfolie einer Dicke von 100 um mit einer Spinndüse aufgetragen und bei 100ºC während 2 Minuten getrocknet, um eine lichtempfindliche Schicht zu bilden. Hierbei betrug die Drehzahl der Spinndüse 100 UpM. Komponente Menge (g) Pentaerythrittetraacrylat Copolymer von Benzylmethacrylat und Methacrylsäure (Molverhältnis = 73:27) Erzeuger freier Radikaler mittels Licht Methylethylketon Propylenglycolmonomethyletheracetat
Eine 3 gew.-%-ige wässerige Lösung von Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad = 86,5 bis 89 Mol-%; Polymerisationsgrad = 1000) wurde auf die lichtempfindliche Schicht aufgetragen und bei 100ºC während 2 Minuten getrocknet.
Die Untersuchung der Lichtempfindlichkeit der sich ergebenden lichtempfindlichen Schicht wurde wie folgt durchgeführt:
Die lichtempfindliche Schicht wurde mit Licht aus einer 500 W Xenonlampe durch einen Filter (431,5 ± 15 nm; T 45,5%; im Handel erhältlich), der Licht mit 430 nm durchlassen kann, belichtet. Bei der Empfindlichkeitsmessung wurde ein PS Step Guide (im Handel erhältlich; ein Stufentablett mit insgesamat 15 Stufen, wobei der Dichteunterschied zwischen den benachbarten zwei Stufen 0,15 war und die optische Durchlaßdichte der ersten Stufe 0,05 war) verwendet.
Die Menge an Licht, die durch die erste Stufe dieser Stufenführung durchgelassen wurde, betrug 33,92 mj/cm² bei einer 1000 s Belichtung.
Die Entwicklung wurde durchgeführt, indem das lichtempfindliche Material in einen Entwickler mit der folgenden Zusammensetzung bei 25ºC während 1 min. getaucht wurde. Komponente Menge (g) Natriumcarbonat Butylcellosolve Wasser
Die Bewertung der Empfindlichkeit kann durchgeführt werden, indem die Stufenzahl mit der maximalen optischen Dichte unter den verbleibenden Stufenbildern abgelesen wird. Insbesondere wurde das UV-Absorptionsspektrum jeder Stufe der sich ergebenden Stufenbilder bestimmt, um einen Wert der optischen Dichte (OD) des Stufenbilds zu erhalten, welches unter der sich ergebenden Absorption der Stufenbilder die maximale Absorption aufwies und wobei die Werte von OD auf die Menge des bestrahlten Lichts bezogen aufgezeichnet wurden. So konnte die Empfindlichkeit E (D 10), wenn der Wert von OD auf 10% desjenigen verringert war, der bei einem unbelichteten Material beobachtet wurde und die Empfindlichkeit E (D 90), wenn er auf 90% desjenigen verringert war, der bei einem unbelichteten Material beobachtet wurde, erhalten werden. Die beobachteten Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle I angegeben. Tabelle I Abs. des lichtempfindlichen Materials vor Belichtung Empfindlichkeit¹ Beisp. Nr. Erzeuger freier Radikaler Anzahl der Stufen 1) Die Empfindlichkeit ist ausgedrückt in der Einheit von mj/cm²

Vergleichsbeispiele 1 und 2

Ein Vergleichserzeuger freier Radikaler mittels Licht, der aus einer einfachen Mischung der Verbindungen (1-S') und (1- A') (jeweils 0,13 mM) bestand, wurde statt der freie Radikale mittels Licht erzeugenden Verbindung (1), die in Beispiel 1 verwendet wurde, verwendet.
Außerdem wurde ein Vergleichserzeuger freier Radikaler mittels Licht, der aus einer einfachen Mischung der Verbindungen (5-S') und (1-A') (jeweils 0,13 mM) statt der freie Radikale mittels Licht erzeugenden Verbindung (5), die in Beispiel 2 verwendet wurde, verwendet.
Die so erhaltenen Ergebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle II zusammengefaßt. Tabelle II Abs. des lichtempfindlichen Materials vor Belichtung Empfindlichkeit¹ Vergleichsbeisp. Nr. Erzeuger freier Radikaler Anzahl der Stufen 1) Die Empfindlichkeit ist ausgedrückt in der Einheit von mj/cm²
Wie aus den in den Tabellen I und II angegebenen Ergebnissen ersichtlich ist, machen die erfindungsgemäß verwendeten Erzeuger freier Radikaler mittels Licht, die einen lichtabsorbierenden Teil und einen aktiven Teil in einem Molekül aufweisen (siehe Beispiele 1 und 2), die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen (oder photopolymerisierbaren) Zusammensetzung höher im Vergleich zu derjenigen, die beobachtet wird, wenn eine einfache Kombination einer Verbindung mit einem lichtabsorbierenden Teil und einer Verbindung mit einem aktiven Teil wie bei den Vergleichsbeispielen 1 und 2 verwendet wurde.

Beispiel 3

Unter Verwendung der freie Radikale erzeugenden Verbindung (11) wurden lichtempfindliche Beschichtungen gemäß den Beispielen 1 und 2 hergestellt, und die Lichtempfindlichkeit wurde getestet. In diesem Fall wurde die lichtempfindliche Schicht durch einen Filter (490 nm ± 12 nm) belichtet, der Licht von 490 nm durchlassen kann. Die Gesamtmenge der Belichtung betrug 36,2 uwcm² bei 1000 s. Als Vergleichsbeispiel wurden die nachfolgenden Verbindungen verwendet (0,13 mM wurden jeweils zugegeben).
Die beobachteten Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle II angegeben. Tabelle II Empfindlichkeit (mj/cm²) Erzeuger freier Radikaler

Beispiel 4

Unter Verwendung der freie Radikale erzeugenden Verbindung (13), wurden lichtempfindliche Überzüge gemäß den Beispielen 1 und 2 hergestellt, und die Lichtempfindlichkeit wurde getestet. In diesem Fall wurde die lichtempfindliche Schicht durch einen Filter (350 nm), der Licht mit 350 nm durchlassen kann, belichtet. Die Belichtungszeit betrug 1000 s. Als Vergleichsbeispiel wurden die nachfolgenden Verbindungen verwendet (0,13 mM wurden jeweils zugegeben).
Die beobachteten Ergebnisse sind in Tabelle III angegeben. Tabelle III Erzeuger freier Radikaler Empfindlichkeit Anzahl der Stufen

Claims

1. Lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend mindestens eine Verbindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I) als Erzeuger eines freien Radikals mittels Licht:

S-L-A (I)

worin S, welches Licht mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 300 nm mit einem Absorptionskoeffizienten von nicht weniger als 1000 absorbiert, von einer Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Chalcon- und Dibenzylacetonderivaten; Merocyaninfarbstoffen; Thiopyrylium- oder Pyryliumfarbstoffen; Dialkylaminostilbenen; Acridinfarbstoffen; Xanthenfarbstoffen; Thiazenfarbstoffen; Cyaninfarbstoffen; Squarliliumfarbstoffen; Thioxanthon, polynuklearen aromatischen Verbindungen und polynuklearen heteroaromatischen Verbindungen, abgeleitet ist;

A einen aktiven Teil darstellt, der mit dem lichtabsorbierenden Teil S in einem angeregten Zustand wechselwirkt, um freie Radikale zu bilden;

und L, welches die Teile S und A verbindet, ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus einer Esterbindung, einer Amidbindung, einer Sulfonamidbindung, einer Etherbindung, einer Thioetherbindung, einer Aminobindung und irgendeiner Kombination daraus.

2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei der aktive Teil A, der mit dem Teil S in einem erregten Zustand wechselwirkt, um freie Radikale zu bilden, abgeleitet ist von einer Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Bisimidazolverbindungen, Oniumverbindungen, Trichlormethyl-substituierten s-Triazinverbindungen, N-phenylglycin, Aminen, Phosphorverbindungen, Sulfinsäuren, Sulfonsäureestern, heterocyclischen Verbindungen, Enolatverbindungen, Zinnverbindungen, Allylthioharnstoff, Oximestern, Pyridiniumverbindungen und Boranverbindungen.

3. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 2, wobei der aktive Teil A, der mit dem Teil S in einem erregten Zustand wechselwirkt, um freie Radikale zu bilden, abgeleitet ist von einer Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Bisimidazolverbindungen, Diphenyliodonium- und Triphenylsulfoniumsalzen, Trichlormethyl-substituierten s-Triazinverbindungen, N-Phenylglycin, Triethanolamin, Hydrazin, Triphenylphosphin, Tri-n-butylphosphin, Natrium-p-toluolsulfinat, Methyl-p-toluolsulfonat, Oxazol, Imidazol, Dimedon, Tributylbenzylzinn, Allylthioharnstoff, 1-Methoxypyridinium und Triphenyl-n-butylborat.

4. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Gruppe L zum Verbinden der Teile S und A eine Esterbindung, dargestellt durch die folgende Formel (a) oder (b) ist:

-CO-O- (a); -C-CO-O- (b)

eine Amidobindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (c), (d), (e) oder (f) ist:

-CO-NR- (c); -NR-CO-NR- (d)

-CO-NR-SO&sub2;- (e); -OCONR- (f);

worin R ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellt;

eine Sulfonamidobindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (g) ist:

-SO&sub2;-NR- (g)

worin R wie vorstehend definiert ist;

eine Etherbindung, eine Thioetherbindung oder eine Aminobindung ist.

5. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus denjenigen Verbindungen, worin der lichtabsorbierende Teil S ein Rest eines Merocyaninfarbstoffs ist, der aktive Teil A ein s-Triazinrest mit einer Trichlormethylgruppe ist, und die Verbindungsgruppe L eine Esterbindung, eine Amidobindung oder eine Sulfonamidobindung ist.

6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 5, wobei der Merocyaninfarbstoff ausgewählt ist aus Verbindungen, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (II):

worin R¹ bis R³ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Allylgruppe darstellen; Y ein bivalentes Atom oder eine Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus -O-, -S-, -NR¹-, worin R¹ die vorstehende Bedeutung hat, -Se-, -C(CH&sub3;)&sub2;- oder -CH=CH-, darstellt, mit der Maßgabe, daß R¹ und R² zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen Ring bilden können; n eine ganze Zahl von 0, 1 oder 2 ist; G¹ und G², die gleich oder verschieden sein können, jeweils ein Wasserstoffatom, eine Cyanogruppe, eine unsubstituierte oder substituierte Alkoxycarbonylgruppe, eine unsubstituierte oder substituierte Aryloxycarbonylgruppe, eine unsubstituierte oder substituierte Acylgruppe, eine unsubstituierte oder substituierte Arylcarbonylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe oder eine Fluoralkyl-Sulfonylgruppe darstellen, mit der Maßgabe, daß G¹ und G² nicht gleichzeitig Wasserstoffatome sind; G¹ und G² einen Ring, umfassend nicht-metallische Atome, zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, bilden können; und

eines von R¹ bis R³ und G¹ und G² mindestens eine funktionelle Gruppe aufweist, die mit einer Verbindung mit einem aktiven Teil reagiert, um somit eine Verbindungsgruppe L, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer Carboxylgruppe, einer Hydroxygruppe, einer Aminogruppe, einer Sulfonylgruppe, einer Isocyanatgruppe und einer Thiolgruppe, zu bilden.

7. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 2, wobei der aktive Teil A abgeleitet ist von einer s-Triazinverbindung mit einer Trichlormethylgruppe, ausgewählt aus den Verbindungen, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (III):

worin R&sup4; und R&sup5; jeweils ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine substituierte Alkenylgruppe darstellen, mit der Maßgabe, daß eines von R&sup4; und R5 mindestens eine funktionelle Gruppe aufweist, die mit einer Verbindung mit einem lichtabsorbierenden Teil S reagiert, um somit die Verbindungsgruppe L zu bilden.

8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 7, wobei die substituierte Alkylgruppe, dargestellt durch R&sup4; und R&sup5;, eine Trichlormethyl- oder Trifluormethylgruppe ist; die substituierte Arylgruppe eine 4-Styrylphenyl- oder 4-(substituierte)-Styrylphenylgruppe ist; die substituierte Alkenylgruppe eine Styryl- oder substituierte Styrylgruppe ist; und die Arylgruppe ein Rest einer Naphthylgruppe oder ein Rest von Thiofuran ist, und die funktionelle Gruppe, die erforderlich ist zum Kuppeln mit dem lichtabsorbierenden Teil S, ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus einer Carboxylgruppe, einer Hydroxygruppe, einer Aminogruppe, einer Sulfonylgruppe, einer Isocyanatgruppe und einer Thiolgruppe.

9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, umfassend

mindestens eine radikal-polymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch-ungesättigten Gruppe,

mindestens eine Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), wie in Anspruch 1 definiert, als Erzeuger freier Radikale mittels Licht, und

gegebenenfalls mindestens ein lineares, organisches Hochpolymer.

10. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 9, wobei die Menge des Erzeugers freier Radikale mittels Licht von 0,01 bis 60 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindung und des linearen, organischen Hochpolymers, reicht.

11. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 10, wobei die Menge des Erzeugers freier Radikale mittels Licht von 1 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindung und des linearen, organischen Hochpolymers, reicht.

12. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 9, wobei die radikal-polymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Gruppe ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Estern ungesättigter Carbonsäuren und aliphatischer, mehrere Hydroxylgruppen aufweisender Alkoholverbindungen und Amiden ungesättigter Carbonsäuren und aliphatischer polyvalenter Amine.

13. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 12, wobei die Menge der radikal-polymerisierbaren Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Gruppe nicht weniger als 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, beträgt.

14. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 13, wobei die Menge der radikal polymerisierbaren Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Gruppe von 10 bis 99,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, reicht.

15. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 9, wobei das lineare, organische Hochpolymer ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wasser- oder wäßrigen schwach alkalilöslichen oder -quellbaren linearen, organischen Hochpolymeren.

16. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 15, wobei die Menge des linearen, organischen Hochpolymers nicht mehr als 90 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, ist.

17. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 9, die weiterhin etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-% eines Derivats einer höheren aliphatischen Säure und/oder etwa 0,5 bis etwa 5 Gew.-% eines Farbstoffs oder eines Pigments, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, umfaßt.