DE69612687T2 - Sensibilisierte fotopolymerisierbare Zusammensetzungen und ihre Verwendung in lithographischen Druckplatten - Google Patents
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- DE69612687T2 DE69612687T2 DE69612687T DE69612687T DE69612687T2 DE 69612687 T2 DE69612687 T2 DE 69612687T2 DE 69612687 T DE69612687 T DE 69612687T DE 69612687 T DE69612687 T DE 69612687T DE 69612687 T2 DE69612687 T2 DE 69612687T2
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 77
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 75
- -1 sulpho group Chemical group 0.000 claims description 114
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 51
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 27
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- GQBWTAGIANQVGB-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)anilino]acetic acid Chemical group OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=CC=C1 GQBWTAGIANQVGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 claims description 9
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical group C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 6
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 claims description 6
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical group C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N Riboflavin Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)CN1C=2C=C(C)C(C)=CC=2N=C2C1=NC(=O)NC2=O AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N 0.000 claims 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N fluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(O)C=C1OC1=CC(O)=CC=C21 GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FRIPRWYKBIOZJU-UHFFFAOYSA-N fluorone Chemical compound C1=CC=C2OC3=CC(=O)C=CC3=CC2=C1 FRIPRWYKBIOZJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 claims 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 61
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 61
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 14
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 13
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 10
- HIIJOGIBQXHFKE-HHKYUTTNSA-N Ala-Thr-Ala-Pro Chemical compound C[C@H](N)C(=O)N[C@@H]([C@H](O)C)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N1CCC[C@H]1C(O)=O HIIJOGIBQXHFKE-HHKYUTTNSA-N 0.000 description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 8
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 7
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 6
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC)C=C1 OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 4
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 4
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-[7-(diethylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]chromen-2-one Chemical compound C1=C(N(CC)CC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=CC2=C1 SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GMBZSYUPMWCDGK-UHFFFAOYSA-N 2-(carboxymethylsulfanyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)CSC1=CC=CC=C1C(O)=O GMBZSYUPMWCDGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZVMAGJJPTALGQB-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(carboxymethoxy)phenoxy]acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC(OCC(O)=O)=C1 ZVMAGJJPTALGQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWUUECRQSVEIFO-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl(methyl)amino]benzoic acid Chemical compound OC(=O)CN(C)C1=CC=CC=C1C(O)=O TWUUECRQSVEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMBYHFQQLOEIHJ-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-4-chloroanilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 WMBYHFQQLOEIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJMDIBINSUKPEB-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(4-ethoxyphenyl)prop-2-enoyl]-7-methoxychromen-2-one Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC2=CC=C(OC)C=C2OC1=O NJMDIBINSUKPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJRFKKRMCGZIOA-UHFFFAOYSA-N 3-acetyl-7-methoxy-1-benzopyran-2-one Chemical compound C1=C(C(C)=O)C(=O)OC2=CC(OC)=CC=C21 HJRFKKRMCGZIOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical group CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N acetoacetic acid Chemical group CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002820 allylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000011534 incubation Methods 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- RRFHOFMFWAZHPN-UHFFFAOYSA-N (3-benzoyl-2-oxochromen-7-yl) acetate Chemical compound O=C1OC2=CC(OC(=O)C)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RRFHOFMFWAZHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUSDTBJACCAARX-UHFFFAOYSA-M (4-butoxyphenyl)-phenyliodanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C1=CC(OCCCC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 DUSDTBJACCAARX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIIFEFZIKVSLL-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-4-(2-octoxyphenyl)benzene 4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1.CCCCCCCCOC1=CC=CC=C1C1=CC=C(I)C=C1 BNIIFEFZIKVSLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJUXPMVQAZLJEX-UHFFFAOYSA-N 2-(carboxymethylamino)benzoic acid Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1C(O)=O PJUXPMVQAZLJEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGOHYHCCVKWGIB-UHFFFAOYSA-N 2-[(carboxymethyl)(methyl)amino]-5-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(N(C)CC(O)=O)C(C(O)=O)=C1 HGOHYHCCVKWGIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBKYXHDUYXDDMX-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(carboxymethylamino)anilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC(NCC(O)=O)=C1 BBKYXHDUYXDDMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBTDHCQNAQRHCE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethoxy)cyclohexyl]oxyethanol Chemical compound OCCOC1CCC(OCCO)CC1 LBTDHCQNAQRHCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXOCFKTVLHUMU-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(carboxymethoxy)phenoxy]acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(OCC(O)=O)C=C1 DNXOCFKTVLHUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYGPJSLWIIMUMO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-(carboxymethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]acetic acid Chemical compound C=1C=C(OCC(O)=O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)=O)C=C1 ZYGPJSLWIIMUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEUJXZKDYPXQFT-UHFFFAOYSA-N 2-[4-acetamido-n-(carboxymethyl)anilino]acetic acid Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(N(CC(O)=O)CC(O)=O)C=C1 XEUJXZKDYPXQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAYHZKHRQFQHMY-UHFFFAOYSA-N 2-[4-amino-n-(carboxymethyl)anilino]acetic acid Chemical compound NC1=CC=C(N(CC(O)=O)CC(O)=O)C=C1 GAYHZKHRQFQHMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYFFIIKGANROHS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-bromo-n-(carboxymethyl)anilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=C(Br)C=C1 OYFFIIKGANROHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXPDXWQABFJKPM-UHFFFAOYSA-N 2-[8-(carboxymethoxy)dibenzofuran-2-yl]oxyacetic acid Chemical compound C1=C(OCC(O)=O)C=C2C3=CC(OCC(=O)O)=CC=C3OC2=C1 XXPDXWQABFJKPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWURWIWEIFEWDZ-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl(ethyl)amino]benzoic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC)C1=CC=CC=C1C(O)=O HWURWIWEIFEWDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJKMQXNJCUJLMX-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl(propyl)amino]benzoic acid Chemical compound CCCN(CC(O)=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O MJKMQXNJCUJLMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUXJWPZTNNYPIJ-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-2,3-dimethylanilino]acetic acid Chemical compound CC1=CC=CC(N(CC(O)=O)CC(O)=O)=C1C PUXJWPZTNNYPIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBTIEFNBFDDQIC-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-2,4-dimethylanilino]acetic acid Chemical compound CC1=CC=C(N(CC(O)=O)CC(O)=O)C(C)=C1 KBTIEFNBFDDQIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUUZQGWCVPETLJ-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-2,6-dimethylanilino]acetic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1N(CC(O)=O)CC(O)=O WUUZQGWCVPETLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFJCCLIHOOOFSS-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-2-chloroanilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=CC=C1Cl RFJCCLIHOOOFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEKYHROBMPMGOM-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-3,4-dimethylanilino]acetic acid Chemical compound CC1=CC=C(N(CC(O)=O)CC(O)=O)C=C1C KEKYHROBMPMGOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVMJSWWXTQKQNL-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-3,5-dimethylanilino]acetic acid Chemical compound CC1=CC(C)=CC(N(CC(O)=O)CC(O)=O)=C1 IVMJSWWXTQKQNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWFBOZWDQWDDLK-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-3-chloroanilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IWFBOZWDQWDDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMGPFFYFTJFYOF-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-3-hydroxyanilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=CC(O)=C1 YMGPFFYFTJFYOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNVWVUCRGDETAF-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-3-methoxyanilino]acetic acid Chemical compound COC1=CC=CC(N(CC(O)=O)CC(O)=O)=C1 FNVWVUCRGDETAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHAFWXPMGGKFPT-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-4-ethylanilino]acetic acid Chemical compound CCC1=CC=C(N(CC(O)=O)CC(O)=O)C=C1 JHAFWXPMGGKFPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCZSZSQVWHQGBO-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-4-formylanilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=C(C=O)C=C1 WCZSZSQVWHQGBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTEFUVAUCUCFIK-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-4-methoxyanilino]acetic acid Chemical compound COC1=CC=C(N(CC(O)=O)CC(O)=O)C=C1 FTEFUVAUCUCFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSERUHHPRWEKSG-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)anilino]benzoic acid Chemical compound C=1C=CC=C(C(O)=O)C=1N(CC(=O)O)C1=CC=CC=C1 SSERUHHPRWEKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAMPJVJAALGMNG-UHFFFAOYSA-N 2-acetylbenzo[f]chromen-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(C=C(C(O3)=O)C(=O)C)=C3C=CC2=C1 UAMPJVJAALGMNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPPGTVYDWHSNLJ-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzo[f]chromen-3-one Chemical compound C=1C(C2=CC=CC=C2C=C2)=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 JPPGTVYDWHSNLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTEVZRQIBGJEHG-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-1-yl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)=N1 ZTEVZRQIBGJEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACMLKANOGIVEPB-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-2H-chromene-3-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 ACMLKANOGIVEPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodo-3h-spiro[2-benzofuran-1,9'-xanthene]-3-one Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFCNRGGEZCQAER-UHFFFAOYSA-N 3,6-dibenzoylchromen-2-one Chemical compound C=1C=C2OC(=O)C(C(=O)C=3C=CC=CC=3)=CC2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 YFCNRGGEZCQAER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOPJDUKVDLSBPL-UHFFFAOYSA-N 3-(1-benzofuran-2-carbonyl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=CC2=C1 DOPJDUKVDLSBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIDZMBOZBNAOHH-UHFFFAOYSA-N 3-(1-benzofuran-2-carbonyl)-7-methoxychromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)OC)=CC2=C1 KIDZMBOZBNAOHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIDWMFRRBVCKKT-UHFFFAOYSA-N 3-(1-benzofuran-2-carbonyl)-7-pyrrolidin-1-ylchromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC=CC=C2OC=1C(=O)C(C(OC1=C2)=O)=CC1=CC=C2N1CCCC1 MIDWMFRRBVCKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POTFCSBOXWLDJQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-oxo-5,7-dipropoxychromene-3-carbonyl)-5,7-dipropoxychromen-2-one Chemical compound C1=C(OCCC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=C(OCCC)C=C(C=C4OC3=O)OCCC)=CC2=C1OCCC POTFCSBOXWLDJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXCJXYYYOPFEDH-UHFFFAOYSA-N 3-(2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(C(C=3C(OC4=CC=CC=C4C=3)=O)=O)=CC2=C1 LXCJXYYYOPFEDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZHUWERFNUBSKH-UHFFFAOYSA-N 3-(4-nitrobenzoyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C(=O)C1=CC2=CC=CC=C2OC1=O UZHUWERFNUBSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWCSYAMFXMQIAP-UHFFFAOYSA-N 3-(5,7-diethoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)-5,7-diethoxychromen-2-one Chemical compound C1=C(OCC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=C(OCC)C=C(C=C4OC3=O)OCC)=CC2=C1OCC TWCSYAMFXMQIAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXXVLPQYEGDPBJ-UHFFFAOYSA-M 3-(7-methoxy-3-coumarinoyl)-1-methyl pyridinium fluorosulfate Chemical compound [O-]S(F)(=O)=O.O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=C[N+](C)=C1 LXXVLPQYEGDPBJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YZVGZFMXEWCBIO-UHFFFAOYSA-N 3-(adamantane-1-carbonyl)-7-methoxychromen-2-one Chemical compound C1C(C2)CC(C3)CC2CC13C(=O)C1=CC2=CC=C(OC)C=C2OC1=O YZVGZFMXEWCBIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMHYINOMJIXGIY-UHFFFAOYSA-N 3-(benzenesulfinyl)-7-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1S(=O)C1=CC=CC=C1 ZMHYINOMJIXGIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBWRKQBHONFQPB-UHFFFAOYSA-N 3-(benzenesulfonyl)-7-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 BBWRKQBHONFQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COODLTPEOVQSDP-UHFFFAOYSA-N 3-(carboxymethylsulfanyl)naphthalene-2-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=O)C(SCC(=O)O)=CC2=C1 COODLTPEOVQSDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRGLVCRHOQQAKG-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(1-methylbenzo[e][1,3]benzothiazol-2-ylidene)acetyl]chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)C=C3N(C4=C5C=CC=CC5=CC=C4S3)C)=CC2=C1 JRGLVCRHOQQAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASQBJZWLFXZEJQ-UHFFFAOYSA-N 3-[2-oxo-5,7-bis(2-phenylethoxy)chromene-3-carbonyl]-5,7-bis(2-phenylethoxy)chromen-2-one Chemical compound C=1C2=C(OCCC=3C=CC=CC=3)C=C(OCCC=3C=CC=CC=3)C=C2OC(=O)C=1C(=O)C(C(OC1=CC(OCCC=2C=CC=CC=2)=C2)=O)=CC1=C2OCCC1=CC=CC=C1 ASQBJZWLFXZEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACLDKLWVHIJSGJ-UHFFFAOYSA-N 3-[2-oxo-5,7-di(propan-2-yloxy)chromene-3-carbonyl]-5,7-di(propan-2-yloxy)chromen-2-one Chemical compound C1=C(OC(C)C)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=C(OC(C)C)C=C(C=C4OC3=O)OC(C)C)=CC2=C1OC(C)C ACLDKLWVHIJSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXAFTEQUCQIHOC-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[4-(dimethylamino)phenyl]prop-2-enoyl]chromen-2-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC2=CC=CC=C2OC1=O YXAFTEQUCQIHOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBORZFZRIFDGV-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[4-(n-phenylanilino)phenyl]prop-2-enoyl]chromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C=CC(C=C1)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CDBORZFZRIFDGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRYGAHKVVJRXNT-UHFFFAOYSA-N 3-[5,7-bis(2-chloroethoxy)-2-oxochromene-3-carbonyl]-5,7-bis(2-chloroethoxy)chromen-2-one Chemical compound C1=C(OCCCl)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=C(OCCCl)C=C(C=C4OC3=O)OCCCl)=CC2=C1OCCCl HRYGAHKVVJRXNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZASAYJPZFDDHB-UHFFFAOYSA-N 3-[7-(diethylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]-5,7-dimethoxychromen-2-one Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=CC2=C1OC NZASAYJPZFDDHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSTPGJJFBSOEPY-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(carboxymethyl)amino]benzoic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 FSTPGJJFBSOEPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITJVTQLTIZXPEQ-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-5,7-dimethoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC(OC)=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ITJVTQLTIZXPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXSWLSMWLZZECK-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-6-bromochromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC(Br)=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 OXSWLSMWLZZECK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZFUZACPHSNNEC-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-6-nitrochromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC([N+](=O)[O-])=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 FZFUZACPHSNNEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPVJWBWVJUAOMV-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPVJWBWVJUAOMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWDONSBFIIUPQS-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-(dimethylamino)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(C)C)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DWDONSBFIIUPQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWQPLMCCTUJLSP-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-hydroxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(O)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UWQPLMCCTUJLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASIDOSYHBCQXRT-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-pyrrolidin-1-ylchromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC=C(N3CCCC3)C=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 ASIDOSYHBCQXRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPQPZERLJITUNE-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-8-ethoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC=2C(OCC)=CC=CC=2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DPQPZERLJITUNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPBMPRKJYKSRLL-UHFFFAOYSA-N 3-benzoylchromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LPBMPRKJYKSRLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LABJFIBQJFPXHZ-UHFFFAOYSA-N 4-(carboxymethoxy)benzoic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LABJFIBQJFPXHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASLSBECRIAGZBX-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(carboxymethyl)amino]benzoic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ASLSBECRIAGZBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDSRDVDEPKEARF-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;(4-octoxyphenyl)-phenyliodanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 LDSRDVDEPKEARF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NXKSGKFXYONXHS-UHFFFAOYSA-N 5,7-dibutoxy-3-(5,7-dibutoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=C(OCCCC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=C(OCCCC)C=C(C=C4OC3=O)OCCCC)=CC2=C1OCCCC NXKSGKFXYONXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCECKVVEIBERCS-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethoxy-3-(6-methoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C=3C(=O)OC4=CC=C(C=C4C=3)OC)=CC2=C1OC XCECKVVEIBERCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVWFQAZJYRJAJT-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethoxy-3-(7-methoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)OC)=CC2=C1OC VVWFQAZJYRJAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEVBCOFFMNIYBB-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2-(carboxymethylsulfanyl)benzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(SCC(O)=O)C(C(O)=O)=C1 FEVBCOFFMNIYBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGTZRRAYYJFRDA-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2-(carboxymethylamino)benzoic acid Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=C(Br)C=C1C(O)=O NGTZRRAYYJFRDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVVHOFPYWCEQBM-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-2-oxochromene-3-carbonitrile Chemical compound O1C(=O)C(C#N)=CC2=CC(OC)=CC=C21 BVVHOFPYWCEQBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBHSRYKMANGQQS-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-3-(6-methoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound COC1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)C=3C(=O)OC4=CC=C(C=C4C=3)OC)=CC2=C1 YBHSRYKMANGQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDPLUJZAURLYAE-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-(4-iodobenzoyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=C(I)C=C1 NDPLUJZAURLYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFFXTBRRTYQHKM-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-(6-methoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound COC1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=CC2=C1 SFFXTBRRTYQHKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEVSDQITSACBSJ-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-(furan-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C(=O)C=1C=COC=1 FEVSDQITSACBSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDRWYGWOZQAYRI-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-(thiophene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C(=O)C=1C=CSC=1 GDRWYGWOZQAYRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPZOKYTXVDEFMM-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-[4-(dimethylamino)benzoyl]chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VPZOKYTXVDEFMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHROYFNIWOPJAZ-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)-3-(4-iodobenzoyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(C)C)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=C(I)C=C1 RHROYFNIWOPJAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAWCXEOGKCDMKT-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)-3-(thiophene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(C)C)=CC=C2C=C1C(=O)C=1C=CSC=1 WAWCXEOGKCDMKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVCQMFUJJMHLHQ-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)-3-[7-(dimethylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]chromen-2-one Chemical compound C1=C(N(C)C)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(C)C)=CC2=C1 RVCQMFUJJMHLHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFVXBZXJKTVGL-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-2-oxo-1-benzopyran-3-carboxylic acid ethyl ester Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)OCC)=CC2=C1 FWFVXBZXJKTVGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGAFPIBJPYCFGR-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-2-oxochromene-3-carbonitrile Chemical compound C1=C(C#N)C(=O)OC2=CC(OC)=CC=C21 GGAFPIBJPYCFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEEGNDSSWAOLFN-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-2-oxochromene-3-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(=O)OC2=CC(OC)=CC=C21 VEEGNDSSWAOLFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVCIHKGIZNLIMB-UHFFFAOYSA-M 7-methoxy-3-(2-pyridin-1-ium-1-ylacetyl)chromen-2-one;bromide Chemical compound [Br-].O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C[N+]1=CC=CC=C1 YVCIHKGIZNLIMB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YAIJOSLAACTSGD-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-3-(4-methoxybenzoyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC2=CC=C(OC)C=C2OC1=O YAIJOSLAACTSGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDBCQMMJSRPXFW-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-3-(4-nitrobenzoyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 FDBCQMMJSRPXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCURVNYQRJVWPY-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-3-(7-methoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)OC)=CC2=C1 KCURVNYQRJVWPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYOBLTRDLVLPIG-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-3-(pyridine-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CN=C1 SYOBLTRDLVLPIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCXMXRATUVXMKZ-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-3-(pyridine-4-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=NC=C1 YCXMXRATUVXMKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYSFQYJJVHQOI-UHFFFAOYSA-N 7-pyrrolidin-1-yl-3-(thiophene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC=C(N3CCCC3)C=C2OC(=O)C=1C(=O)C=1C=CSC=1 OWYSFQYJJVHQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FTEDXVNDVHYDQW-UHFFFAOYSA-N BAPTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=CC=C1OCCOC1=CC=CC=C1N(CC(O)=O)CC(O)=O FTEDXVNDVHYDQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920013683 Celanese Polymers 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002858 MOWIOL ® 4-88 Polymers 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003202 NH4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910018828 PO3H2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910006067 SO3−M Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYJKIEGXKNWFJY-UHFFFAOYSA-N [3-(7-acetyloxy-2-oxochromene-3-carbonyl)-2-oxochromen-7-yl] acetate Chemical compound C1=C(OC(C)=O)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)OC(=O)C)=CC2=C1 TYJKIEGXKNWFJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFIMLDVVRXOXSK-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)cyclohexyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCC(OC(=O)C(C)=C)CC1 OFIMLDVVRXOXSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- JWEXHQAEWHKGCW-UHFFFAOYSA-N bis[2-(6-fluoro-3,4-dihydro-2h-chromen-2-yl)-2-hydroxyethyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C1CC2=CC(F)=CC=C2OC1C(O)CNCC(O)C1OC2=CC=C(F)C=C2CC1 JWEXHQAEWHKGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001142 dicarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- UYCKKJWMEXKVCE-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1.C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 UYCKKJWMEXKVCE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- QYGWZBFQWUBYAT-WGDLNXRISA-N ethyl (e)-3-[4-[(e)-3-ethoxy-3-oxoprop-1-enyl]phenyl]prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C1=CC=C(\C=C\C(=O)OCC)C=C1 QYGWZBFQWUBYAT-WGDLNXRISA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGHIIBLLAKLTBT-UHFFFAOYSA-N ethyl 6-methoxy-2-oxochromene-3-carboxylate Chemical compound COC1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)OCC)=CC2=C1 YGHIIBLLAKLTBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- UKZQEOHHLOYJLY-UHFFFAOYSA-M ethyl eosin Chemical compound [K+].CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C([O-])=C(Br)C=C21 UKZQEOHHLOYJLY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 150000008377 fluorones Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMKHCHDPKJZSL-UHFFFAOYSA-N methyl 6-methoxy-2-oxochromene-3-carboxylate Chemical compound COC1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)OC)=CC2=C1 IZMKHCHDPKJZSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBWOOVZVWJRMBL-UHFFFAOYSA-N methyl 7-methoxy-2-oxochromene-3-carboxylate Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)OC)=CC2=C1 LBWOOVZVWJRMBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKXPBRWAFTBOD-UHFFFAOYSA-N n-[2-(7-methoxy-2-oxochromen-3-yl)-2-oxoethyl]-n-phenylacetamide Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)CN(C(C)=O)C1=CC=CC=C1 PCKXPBRWAFTBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229960003424 phenylacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000003279 phenylacetic acid Substances 0.000 description 1
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004014 thioethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003732 xanthenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
- Diese Erfindung betrifft allgemein photopolymerisierbare Zusammensetzungen und insbesondere photopolymerisierbare Zusammensetzungen des Typs, der für die direkte digitale Belichtung geeignet ist. Genauer gesagt, diese Erfindung betrifft neuartige, besonders zur Herstellung lithographischer Druckplatten geeignete, photopolymerisierbare Zusammensetzungen und aus ihnen hergestellte lithographische Druckplatten, die bildweise mit Lasern, die ultraviolettes oder sichtbares Licht emittieren, belichtet werden können.
- Die Verwendung einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung als bilderzeugende Schicht ist auf dem Fachgebiet, das sich mit der Herstellung lithographischer Druckplatten beschäftigt, bekannt. Typische photopolymerisierbare Zusammensetzungen für diesen Zweck umfassen eine oder mehrere additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindungen und ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation. Die additionspolymerisierbaren Verbindungen können Monomere, Oligomere oder Polymere oder Gemische davon sein und häufig enthält die photopolymerisierbare Zusammensetzung auch ein filmbildendes polymeres Bindemittel.
- Von wachsender Bedeutung für die Druckindustrie sind photopolymerisierbare Zusammensetzungen des Typs, der für die direkte digitale Belichtung geeignet ist. Solche Zusammensetzungen finden besonders in sogenannten "Direct-to-Plate"- oder "Computer-to- Plate"-Systemen, welche Belichtungseinheiten verwenden, Verwendung. Praktische Überlegungen haben ergeben, daß Laser, die sichtbares Licht emittieren, wie Argon-Ionenlaser mit kleiner Leistung, für die Verwendung mit plattenfähigen Belichtungseinheiten bevorzugt sind. Die Notwendigkeit, hohe Schreibgeschwindigkeiten bereitzustellen, in Verbindung mit der Einschränkung, daß in der Industrie Laser mit kleiner Leistung bevorzugt sind, führte zu der Forderung nach Druckplatten, die sehr hohe Lichtempfindlichkeiten aufweisen. Eine hohe Lichtempfindlichkeit allein ist jedoch nicht genug, da es wesentlich ist, daß die photopolymerisierbare Zusammensetzung auch eine gute Lagerfähigkeit aufweist.
- In dem Bestreben, das Doppelziel, hohe Lichtempfindlichkeit und gute Lagerstabilität, zu erreichen, hat der Stand der Technik die Verwendung einer großen Vielzahl unterschiedlicher Initiatorsysteme für die Photopolymerisation vorgeschlagen, war jedoch nicht ganz erfolgreich darin, die zwei Ziele gleichzeitigen zu erreichen. Unter den wirksamsten Initiatorsystemen für die Photopolymerisation des Standes der Technik sind diejenigen, die einen spektral sensibilisierenden Farbstoff und eine N-Aryl-α-aminosäure, wie N-Phenylglycin (NPG) oder ein Derivat davon, als Coinitiator umfassen. So beschreibt US-Patent Nr. 4,278,751 z. B. ein Initiatorsystem, das NPG und ein amin-substituiertes Ketocumarin enthält; beschreiben die US-Patente Nr. 4,868,092 und 4,965,171 ein Initiatorsystem, in welchem der spektral sensibilisierende Farbstoff ein Xanthen, Cumann oder Merocyanin ist und welches sowohl NPG, oder bestimmte Derivate davon, als auch ein Diaryliodoniumsalz einschließt; und beschreibt US-Patent Nr. 5,153,236 ein Initiatorsystem, welches eine N-Aryl-α-aminosäure, wie NPG, einschließt und in welchem der spektral sensibilisierende Farbstoff ein Thioxanthon, ein Isoalloxanin oder ein Cumann ist. Photopolymisierbare Zusammensetzungen, die ein Initiatorsystem enthalten, das ein Cumann, ein Iodoniumsalz und NPG umfaßt, werden auch in J. P. Fouassier et al., "A New Three-Component System In Visible Laser Light Photo-Induced Polymerization", Journal of Imaging Science and Technology, 37, Nr. 2 (März/April 1993) beschrieben.
- Außer der Verwendung von N-Aryl-α-aminosäuren als Coinitiatoren ist auch die Verwendung von O-Aryl- und S-Aryl-Verbindungen bekannt, wie z. B. in US-Patent Nr. 4,939,069, veröffentlicht am 3. Juli 1990, beschrieben.
- Photoinitiierungssysteme vom bimolekularen Typ bestehen aus einem Radikalbildner und einem sensibilisierenden Farbstoff und Mechanismen, von denen angenommen wird, daß sie dadurch wirken, sind in Yamaoka et al., "N-Phenylglycin-(Thio)xanthen Dye Photoinitiating System and Application to Photopolymer for Visible Laser Exposure", Journal of Applied Polymer Science 38 (1989), 1271-1285 beschrieben. Wie von Yamaoka et al. aufgezeigt, zeigen Photoinitiatoren vom bimolekularen Typ, die aus N-Phenylglycin und einem Xanthen- oder Thioxanthenfarbstoff bestehen, eine hohe Initiierungswirksamkeit. Was die Lagerfähigkeit betrifft, sind solche Systeme jedoch unzulänglich.
- In einem Artikel von Thomas L. Marino et al. mit der Überschrift "Chemistry and Properties of Novel Fluoron Visible Light Photoinitiators", veröffentlicht von Radtech International North America im Konferenzbericht der Radtech '94 Konferenz 1 (1994), S. 1691 wird gezeigt, daß Fluoronfarbstoffe in Kombination mit NPG und Iodoniumsalzen als Photoinitiatoren für sichtbares Licht gut arbeiten. Die beschriebenen Fluoronfarbstoffe stellen über den gesamten sichtbaren Bereich des Spektrums eine panchromatische Absorption bereit.
- Die Verwendung von NPG als Coinitiator in einem Initiatorsystem für die Photopolymerisation stellt eine ausgezeichnete Lichtempfindlichkeit bereit, die Zusammensetzung neigt aber dazu, ihre Lichtempfindlichkeit beim Altern schnell zu verlieren, d. h. ihre Lagerfähigkeit ist schlecht. So hat D. F. Eaton z. B. angemerkt, daß die durch Amin- Aktivatoren allgemein und durch NPG im besonderen bereitgestellten Verbesserungen in der Lichtempfindlichkeit innerhalb von Tagen nach der Herstellung lichtempfindlicher Filme, die solche Materialien enthalten, verloren gehen. Siehe D. F. Eaton "Dye Sensitized Photopolymerization", Advances in Photochemistry 13, D. Vollmann, K. Gollnick und G. S. Hammond, Herausgeber, WILEYINTERSCIENCE (1986).
- EP-A-0 497 552, veröffentlicht am 5. August 1992, beschreibt eine Photoinitiatorzusammensetzung, die eine Titanocenverbindung und N-Phenylglycin oder ein Derivat davon umfaßt.
- EP-A-0 522 568, veröffentlicht am 13. Januar 1993, beschreibt eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, in welcher der NPG-Coinitiator in dem Bestreben, die Lagerfähigkeit zu verbessern, mit einer Verbindung, wie Glycidylmethacrylat, derivatisiert wurde. Eine solche Verwendung von Glycidylmethacrylat ist jedoch, vom ökologischen Standpunkt aus gesehen, wegen der Toxizität sehr unerwünscht und die Verbesserung der Lagerfähigkeit ist bestenfalls marginal.
- Die internationale Offenlegungsschrift Nr. WO 95/09383, veröffentlicht am 6. April 1995, beschreibt eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, umfassend:
- (1) ein polymeres Bindemittel
- (2) mindestens eine radikalisch polymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung,
- (3) eine Metallocenverbindung
- (4) N-Phenylglycin oder ein substituiertes N-Phenylglycin oder ein N-Phenylglycinderivat und
- (5) eine Verbindung, welche eine spektrale Empfindlichkeit für eine gewünschte Lichtquelle bereitstellt.
- Weitere Dokumente, die Verwendung von Iodoniumsalzen in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen betreffend, schließen das japanische Patent Nr. 1,660,964 (Patentanmeldung Nr. 58-198085, angemeldet am 21. Oktober 1983, KOKAI Nr. 60-88005, veröffentlicht am 17. Mai 1985, KOKOKU Nr. 3-62162, veröffentlicht am 25. September 1991), welches ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation beschreibt, das ein 3-Ketocumarin und ein Diaryliodoniumsalz umfaßt; US-Patent Nr. 4,921,827, veröffentlicht am 1. Mai 1990, welches ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation beschreibt, das mindestens einen Merocyanin-Sensibilisator, der einen gehinderten Alkylaminorest enthält, und einen Initiator, der aus lichtempfindlichen Iodoniumsalzen, Sulforziumsalzen und Halogenmethyl-s-triazinen ausgewählt ist, umfaßt; und EP-A-0 290 133, welche ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation beschreibt, das ein Aryliodoniumsalz, einen Sensibilisator und einen Elektronendonor mit einem Oxidationspotential, das größer als 0 und kleiner als das oder gleich dem von p-Dimethoxybenzol ist, ein.
- Auch wenn die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen des Standes der Technik viele der Bedürfnisse der Lithographieplattenindustrie erfüllen, erfüllen sie die Doppelforderungen nach hoher Lichtempfindlichkeit und guter Lagerfähigkeit, die dringend notwendig sind, nicht voll und ganz. Das, worauf die vorliegende Erfindung gerichtet ist, geht in Richtung des Zieles der besseren Erfüllung dieser Doppelforderung.
- Gemäß dieser Erfindung umfaßt eine neuartige photoplymerisierbare Zusammensetzung, die zur Herstellung lithographischer Druckplatten geeignet ist:
- (1) mindestens eine additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung und
- (2) ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation, umfassend
- (A) einen Spektralsensibilisator, wie er in Anspruch 1 definiert ist, der für den ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, und
- (B) eine Polycarbonsäure, die einen aromatischen Rest, der mit einem Heteroatom, ausgewählt aus Stickstoff, Sauerstoff und Schwefel, substituiert ist, und mindestens zwei Carboxylgruppen umfaßt, wobei mindestens eine der Carboxylgruppen mit dem Heteroatom verknüpft ist.
- Die in dieser Erfindung als Coinitiatoren verwendeten Polycarbonsäuren umfassen eine aromatische Einheit. Der hier verwendete Begriff "aromatische Einheit" steht für einen mono- oder polycyclischen Kohlenwasserstoffrest, wie eine Benzol-, Biphenyl-, Naphthalen- oder Anthracengruppe. Die aromatische Einheit ist mit einem Stickstoff-, Sauerstoff- oder Schwefelatom substituiert, so daß die Verbindungen als N-Aryl-, O-Aryl- oder S-Arylpolycarbonsäuren bezeichnet werden können. Die aromatische Einheit kann, zusätzlich dazu, daß sie mit einem Stickstoff-, Sauerstoff- oder Schwefelatom substituiert ist, gegebenenfalls einen oder mehrere weitere Substituenten einschließen.
- Die N-Arylpolycarbonsäuren umfassen einen N-Arylring, welcher durch die Formel:
- wiedergegeben werden kann, wobei Ar ein substituierter oder unsubstituierter Arylrest ist. Ebenso umfassen die O-Arylpolycarbonsäuren einen O-Arylring, welcher durch die Formel:
- Ar-O-
- wiedergegeben werden kann und die S-Arylpolycarbonsäuren umfassen einen S-Arylring, welcher durch die Formel:
- Ar-S-
- wiedergegeben werden kann.
- Die Struktur der in dieser Erfindung verwendeten Polycarbonsäuren schließt mindestens zwei Carboxylgruppen ein, wobei mindestens eine der Carboxylgruppen mit dem Heteroatom verknüft ist. So weisen die O-Aryl- und S-Arylpolycarbonsäuren eine mit dem Sauerstoffatom bzw. Schwefelatom verknüpfte Carboxylgruppe und eine oder mehrere mit dem Arylrest verknüpfte Carboxylgruppen auf.
- Die N-Arylpolycarbonsäuren können eine mit dem Stickstoffatom verknüpfte und eine oder mehrere mit dem Arylrest verknüpfte Carboxylgruppen aufweisen oder sie können zwei mit dem Stickstoffatom verknüpfte Carboxylgruppen und keine mit dem Arylrest verknüpfte Carboxylgruppen aufweisen oder sie können zwei mit dem Stickstoffatom verknüpfte Carboxylgruppen und eine oder mehrere mit dem Arylrest verknüpfte Carboxylgruppen aufweisen. Ist das Stickstoffatom mit nur einer Carboxylgruppe substituiert, kann der andere Substituent an dem Stickstoffatom ein Wasserstoffatom oder ein einwertiger organischer Rest, wie ein Alkylrest, sein.
- Ob sie N-Aryl-, O-Aryl- oder S-Arylverbindungen sind, die Coinitiatoren dieser Erfindung sind Polycarbonsäuren. Dagegen sind die N-Aryl-α-aminocarbonsäuren, wie NPG, welche bisher als Coinitiatoren verwendet wurden, Monocarbonsäuren.
- In der vorliegenden Erfindung ist das Heteroatom bevorzugt ein Stickstoffatom und folglich die Polycarbonsäure eine N-Arylpolycarbonsäure und besonders bevorzugt wird eine N-Arylpolycarbonsäure verwendet, in welcher mindestens eine Carboxylgruppe durch eine Methylen(-CH&sub2;-)-Verknüpfungsgruppe mit dem Stickstoffatom des N-Arylrings verknüpft ist.
- In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Coinitiator eine Polycarbonsäure der Formel:
- wobei Ar ein substituierter oder unsubstituierter Arylrest ist und n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist.
- In einer zweiten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Coinitiator eine Polycarbonsäure der Formel:
- wobei n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist, m eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist und R ein Wasserstoffatom oder ein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist.
- In einer dritten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Coinitiator eine Dicarbonsäure der Formel:
- wobei n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist.
- In einer vierten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Coinitiator eine Diessigsäure der Formel:
- wobei Ar ein substituierter oder unsubstituierter Arylrest ist.
- In einer fünften bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Coinitiator eine Diessigsäure der Formel:
- wobei Q¹ und Q² unabhängig voneinander Wasserstoffatome, Alkyl-, Alkoxy-, Thioalkyl-, Aryl-, Aryloxyreste oder Halogenatome sind.
- In der am meisten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Coinitiator eine Anilindiessigsäure, welche die Formel:
- aufweist. Diese Verbindung kann auch als N-Phenyliminodiessigsäure oder als N-(Carboxymethyl)-N-phenylessigsäure bezeichnet werden.
- Der Begriff "Photopolymerisation" wird hier in weitem Sinne verwendet, um sowohl die Photovernetzung und Photodimerisierung von Makromolekülen einzuschließen, als auch die photoinduzierte Initiierung der Vinylpolymerisation zu beschreiben. Daher können die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen, in welchen das neuartige Initiatorsystem für die Photopolymerisation dieser Erfindung verwendbar ist, in der Zusammensetzung und den Eigenschaften stark variieren.
- Wie vorstehend beschrieben, ist die Verwendung der Verbindung N-Phenylglycin (NPG), welche die Formel:
- aufweist, als Coinitiator in einem Initiatorsystem für die Photopolymerisation, das einen Spektralsensibilisator umfaßt, der für den ultravioletten und sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, auf dem Fachgebiet bekannt. Die Coinitiatoren dieser Erfindung sind · für die Erreichung des Doppelzieles, hohe Photoempfindlichkeit und gute Lagerfähigkeit, jedoch viel wirksamer als N-Phenylglycin.
- N-Aryl-α-aminocarbonsäuren, wie NPG, welche bisher zur Verwendung als Coinitiatoren in Initiatorsystemen für die Photopolymerisation vorgeschlagen wurden, sind Monocarbonsäuren. In deutlichem Gegensatz dazu sind die Coinitiatoren dieser Erfindung Polycarbonsäuren, welche zwei oder mehr Carboxylgruppen umfassen. Es wurde gefunden, ganz unerwartet, daß die Anwesenheit der zusätzlichen Carboxylsubstitution sehr dazu beiträgt, die Doppelforderung nach hoher Photoempfindlichkeit und guter Lagerfähigkeit zu erfüllen. Auch wenn sich die Anmelder nicht auf irgendeine theoretische Erklärung der Art und Weise, in welcher ihre Erfindung funktioniert, festlegen wollen, wird angenommen, daß die verbesserte Leistung darauf zurückgeführt werden kann, daß der Polycarbonsäure-Coinitiator der thermischen Decarboxylierung widerstehen kann.
- In einer besonderen Ausführungsform ist die vorliegende Erfindung auf ein neuartiges Initiatorsystem für die Photopolymerisation gerichtet, das (A) einen Spektralsensibilisator, wie er in Anspruch 1 definiert ist, der für den ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, und (B) einen Polycarbonsäure-Coinitiator, wie er hier beschrieben ist, umfaßt.
- In einer weiteren besonderen Ausführungsform ist die vorliegende Erfindung auf eine neuartige photopolymerisierbare Zusammensetzung gerichtet, die (1) mindestens eine additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung und (2) ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation, umfassend (A) einen Spektralsensibilisator, wie er in Anspruch 1 definiert ist, der für den ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, und (B) einen Polycarbonsäure-Coinitiator, wie er hier beschrieben ist, umfaßt.
- In einer weiteren Ausführungsform ist die vorliegenden Erfindung auf eine neuartige lithographische Druckplatte gerichtet, umfassend einen Träger mit einer strahlungsempfindlichen Schicht darauf, die dafür ausgelegt ist, daß sie eine Oberfläche für den lithographischen Druck bildet, bei welcher die strahlungsempfindliche Schicht die vorstehende neuartige photopolymerisierbare Zusammensetzung umfaßt.
- In einer weiteren Ausführungsform ist die vorliegende Erfindung auf ein neuartiges Verfahren zur Erzeugung einer Oberfläche für den lithographischen Druck gerichtet, umfassend die Schritte:
- (I) Bereitstellen einer lithographischen Druckplatte, umfassend einen Träger mit einer strahlungsempfindlichen Schicht darauf, die die votstehende neuartige photopolymerisierbare Zusammensetzung umfaßt.
- (II) bildweise Belichtung der strahlungsempfindlichen Schicht einer solchen lithographischen Druckplatte mit einem Laser, der ultraviolettes oder sichtbares Licht emittiert.
- (III) Entwickeln der bildweise belichteten lithographischen Druckplatte, um die nicht belichteten Bereiche der strahlungsempfindlichen Schicht zu entfernen und den darunterliegenden Träger freizulegen.
- Die verbesserten photopolymerisierbaren Zusammensetzungen dieser Erfindung umfassen mindestens drei wesentliche Komponenten, und zwar eine additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung, einen Spektralsensibilisator, wie er in Anspruch 1 definiert ist, der für den ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, und einen Polycarbonsäure-Coinitiator, wie er hier beschrieben ist. Um ihre Leistung zu verbessern, kann gegebenenfalls eine große Vielfalt anderer Bestandteile in der Zusammensetzung enthalten sein.
- In dieser Erfindung kann eine beliebige aus einem sehr breiten Bereich von additionspolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Verbindungen verwendet werden. Beispiele schließen Acrylate, Methacrylate, Acrylamide, Methacrylamide, Allylverbindungen, Vinylether, Vinylester, N-Vinylverbindungen, Styrole, Itaconate, Crotonate, Maleate und dergleichen ein. Die additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung kann ein Monomer, ein Vorpolymer, wie ein Dimer, Trimer oder anderes Oligomer, ein Homopolymer, ein Copolymer oder ein Gemisch davon sein.
- Acrylverbindungen sind als die additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung besonders geeignet. Geeignete Acrylverbindungen schließen monofunktionelle Monomere und polyfunktionelle Monomere ein. Beispiele für monofunktionelle Acrylmonomere, die in den Zusammensetzungen dieser Erfindung verwendbar sind, schließen Acryl- und Methacrylester, wie Ethylacrylat, Butylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, Cyclohexylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat und dergleichen ein. Beispiele für polyfunktionelle Acrylmonomere, die verwendbar sind, schließen:
- Neopentylglycoldiacrylat
- Pentaerythrittriacrylat
- 1,6-Hexandioldiacrylat
- Trimethylolpropantriacrylat
- Tetraethylenglycoldiacrylat
- 1,3-Butylenglycoldiacrylat
- Trimethylolpropantrimethacrylat
- 1,3-Butylenglycoldimethacrylat
- Ethylenglycoldimethacrylat
- Pentaerythrittetraacrylat
- Tetraethylenglycoldimethacrylat
- 1,6-Hexandioldimethacrylat
- Ethylenglycoldiacrylat
- Diethylenglycoldiacrylat
- Glyceroldiacrylat
- Glyceroltriacrylat
- 1,3-Propandioldiacrylat
- 1,3-Propandioldimethacrylat
- 1,2,4-Butantrioltrimethacrylat
- 1,4-Cyclohexandioldiacrylat
- 1,4-Cyclohexandioldimethacrylat
- Pentaerythritdiacrylat
- 1,5-Pentandioldimethacrylat und dergleichen ein.
- Bevorzugte polyfunktionelle Acrylmonomere sind diejenigen der Formel:
- wobei jedes R¹ unabhängig voneinander aus einem Wasserstoffatom und einem Alkylrest mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen ausgewählt ist und jedes R² unabhängig voneinander aus einem Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen und einem Rest der Formel:
- bei welchem R³ ein Wasserstoffatom oder ein Alkylrest mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen ist, ausgewählt ist.
- Besonders geeignet in der vorliegenden Erfindung als additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung sind auch Poly(alkylenglycol)diacrylate. Beispiele sind Verbindungen der folgenden Formel:
- wobei R ein Alkylenrest mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen ist, R&sub1; und R&sub2; unabhängig voneinander H oder CH&sub3; sind und x eine ganze Zahl mit einem Wert von 3 bis 50 ist.
- Geeignete Poly(alkylenglycol)diacrylate schließen diejenigen ein, die Ethylenoxy-, Propylenoxy- oder Butylenoxygruppen umfassen. Wie durch die vorstehende Formel angezeigt, können die terminalen Gruppen Acrylat- oder Methacrylatgruppen sein.
- Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen dieser Erfindung können ein photovernetzbares Polymer einschließen. Typische solcher photovernetzbaren Polymere sind diejenigen, die die lichtempfindliche Gruppe -CH=CH-CO- als einen integrierten Teil der Hauptkette enthalten, insbesondere die p-Phenylendiacrylatpolyester. Diese Polymere sind z. B. in den US-Patenten Nr. 3,030,208, 3,622,320, 3,702,765 und 3,929,489 beschrieben. Ein typisches Beispiel für ein solches photovernetzbares Polymer ist der aus Diethyl-pphenylendiacrylat und 1,4-Bis(β-hydroxyethoxy)cyclohexan hergestellte Polyester.
- Eine wesentliche Komponente der photopolymerisierbaren Zusammensetzungen dieser Erfindung ist ein Spektralsensibilisator, wie er in Anspruch 1 definiert ist, der für den ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert. Für diesen Zweck kann ein beliebiger eines sehr breiten Bereiches von Spektralsensibilisatoren verwendet werden. Beispiele für bevorzugte Spektralsensibilisatoren sind Cumarine, Fluoresceine, Fluorone, Xanthene, Merocyanine, Thioxanthone, Isoalloxanine und dergleichen.
- Spektralsensibilisatoren, die in dieser Erfindung besonders bevorzugt verwendet werden, sind 3-substituierte Cumarine, wie sie in US-Patent Nr. 4,147,552 (Specht et al.), veröffentlicht am 3. April 1979, beschrieben sind. Diese Cumarine weisen ein Absorptionsmaximum zwischen etwa 250 und etwa 550 nm auf. Wie in dem '552 Patent beschrieben, können sie durch die allgemeine Formel:
- wiedergegeben werden, wobei
- Q -CN oder -Z-R¹ ist; Z ein Carbonyl-, Sulfonyl- Sulfinyl- oder Arylendicarbonylrest ist;
- R¹ ein Alkenylrest, ein Alkylrest mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, ein Arylrest mit 6 bis 10 Ringkohlenstoffatomen, ein carbocyclischer Rest mit 5 bis 12 Kohlenstoffatomen oder ein heterocyclischer Rest mit 5 bis 15 Kohlenstoff- und Heteroatomen im Ring ist;
- R², R³, R&sup4; und R&sup5; unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, ein Alkoxyrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, ein Dialkylaminorest, wobei jeder Alkylrest des Dialkylaminorestes 1 bis 4 Kohlenstoffatome hat, ein Halogenatom, ein Acyloxyrest, eine Nitrogruppe, ein 5- oder 6-gliedriger heterocyclischer Rest oder ein Rest der Formel:
- wobei R&sup9; ein Alkylenrest mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen ist, sind;
- R&sup6; ein Wasserstoffatom, ein Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder ein Arylrest mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen ist; und
- wobei zwei oder drei von R²-R&sup5; und die Ringkohlenstoffatome, an die sie gebunden sind, zusammen einen kondensierten Ring oder ein kondensiertes Ringsystem bilden können, wobei jeder Ring ein 5- bis 6-gliedriger Ring ist.
- Typische Beispiele für geeignete 3-substituierte Cumarine schließen ein:
- 3-Benzoyl-5,7-dimethoxycumarin
- 3-Benzoyl-7-methoxycumarin
- 3-Benzoyl-b-methoxycumarin
- 3-Benzoyl-8-ethoxycumarin
- 7-Methoxy-3-(p-nitrobenzoyl)cumarin
- 3-Benzoylcumarin
- 3-(p-Nitrobenzoyl)cumärin
- 3-Benzoylbenzo[f]cumarin
- 3,3'-Carbonylbis(7-methoxycumarin)
- 3-Acetyl-7-methoxycumarin
- 3-Benzoyl-6-bromcumarin
- 3,3'-Carbonylbiscumarin
- 3-Benzoyl-7-dimethylaminocumarin
- 3,3'-Carbonylbis(7-diethylaminocumarin)
- 3-Carboxycumarin
- 3-Carboxy-7-methoxycumarin
- 3-Methoxycarbonyl-6-methoxycumarin
- 3-Ethoxycarbonyl-6-methoxycumarin
- 3-Ethoxycarbonyl-7-methoxycumarin
- 3-Methoxycarbonyl-7-methoxycumarin
- 3-Acetylbenzo[f]cumarin
- 3-Acetyl-7-methoxycumarin
- 3-(1-Adamantoyl)-7-methoxycumarin
- 3-Benzoyl-7-hydroxycumarin
- 3-Benzoyl-6-nitrocumarin
- 3-Benzoyl-7-acetoxycumarin
- 3-[3-(p-Ethoxyphenyl)acryloyl]-7-methoxycumarin
- 3-Benzoyl-7-diethylaminocumarin
- 7-Dimethylamino-3-(4-iodbenzoyl)cumarin
- 7-Diethylamino-3-(4-iodbenzoyl)cumarin
- 3,3'-Carbonylbis(5,7-diethoxycumarin)
- 3-(2-Benzofuroyl)-7-(1-pyrrolidinyl)cumarin
- 7-Diethylamino-3-(4-dimethylaminobenzoyl)cumarin
- 7-Methoxy-3-(4-methoxybenzoyl)cumarin
- 3-(4-Nitrobenzoyl)benzo[f]cumarin
- 3-(4-Ethoxycinnamoyl)-7-methoxycumarin
- 3-(4-Dimethylaminocinnamoyl)cumarin
- 3-(4-Diphenylaminocinnamoyl)cumarin
- 3-[(3-Methylbenzothiaz]-2-yliden)acetyl]cumarin
- 3-[(1-Methylnaphtho[1,2-d]thiazol-2-yliden)acetyl]cumarin
- 3,3'-Carbonylbis(6-methoxycumarin)
- 3,3'-Carbonylbis(7-acetoxycumarin)
- 3,3'-Carbonylbis(7-dimethylaminocumarin)
- 3,3'-Carbonylbis(5,7-diisopropoxycumarin)
- 3,3'-Carbonylbis(5,7-di-n-propoxycumarin)
- 3,3'-Carbonylbis(5,7-di-n-butoxycumarin)
- 3,3'-Carbonylbis[5,7-di-(2-phenylethoxy)cumarin]
- 3,3'-Carbonylbis[5,7-di-(2-chlorethoxy)cumarin]
- 3-Cyano-6-methoxycumarin
- 3-Cyano-7-methoxycumarin
- 7-Methoxy-3-phenylsulfonylcumarin
- 7-Methoxy-3-phenylsulfinylcumarin
- 1,4-Bis(7-diethylamino-3-cumarylcarbonyl)benzol
- 7-Diethylamino-5',7'-dimethoxy-3,3'-carbonylbiscumarin
- 7-Dimethylamino-3-thenoylcumarin
- 7-Diethylamino-3-furoylcumarin
- 7-Diethylamino-3-thenoylcumarin
- 3-Benzoyl-7-(1-pyrrolidinyl)cumarin
- 3-(4-Fluorsulfonyl)benzoyl-7-methoxycumarin
- 3-(3-Fluorsulfonyl)benzoyl-7-methoxycumarin
- 5,7,6'-Trimethoxy-3,3'-carbonylbiscumarin
- 5,7,7'-Trimethoxy-3,3'-carbonylbiscumarin
- 7-Diethylamino-6'-methoxy-3,3'-carbonylbiscumarin
- 3-Nicotinoyl-7-methoxycumarin
- 3-(2-Benzofuroyl)-7-methoxycumarin
- 3-(7-Methoxy-3-cumarinoyl)-1-methylpyridiniumfluorosulfat
- 3-(5,7-Diethoxy-3-cumarinoyl)-1-methylpyridiniumfluoroborat
- N-(7-Methoxy-3-cumarinoylmethyl)pyridiniumbromid
- 3-(2-Benzofuroyl)-7-diethylaminocumarin
- 7-(1-Pyrrolidinyl)-3-thenoylcumarin
- 7-Methoxy-3-(4-pyridinoyl)cumarin
- 3,6-Dibenzoylcumarin
- N-(7-Methoxy-3-cumarinoylmethyl)-N-phenylacetamid und
- 9-(7-Diethylamino-3-cumarinoyl)-1,2,4,5-tetrahydro-3H,6H,10H[1]benzopyrano[9,9a,1-gh]chinolazin-10-on.
- Von den Cumarin-Sensibilisatoren werden die 3-Ketocumarine in dieser Erfindung besonders bevorzugt verwendet.
- Von der großen Vielzahl von Sensibilisatoren, die für die Verwendung in dieser Erfindung verwendbar sind, sind Merocyanin-Sensibilisatoren, die einen gehinderten Alkylaminorest enthalten, besonders bevorzugt, da sie eine hohe Lichtempfindlichkeit bereitstellen können. Solche Sensibilisatoren sind z. B. in US-Patent Nr. 4,921,827 beschrieben, welches einen gehinderten Alkylaminorest als eine gesättigte heterocyclische Struktur, die mindestens ein direkt an einen vorhandenen aromatischen Ring des Merocyanins gebundenes Stickstoffatom enthält, definiert.
- Ein in der vorliegenden Erfindung bevorzugt verwendeter Sensibilisator ist 10-(3-(4- Diethylamino)phenyl)-1-oxo-2-propenyl)-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H,11H-(1)benzopyrano(6,7,8-ij)chinolizin-11-on, das die Formel:
- hat. Dieser Sensibilisator ist in den US-Patenten Nr. 4,289,844 und 4,366,228 beschrieben, wird in US-Patent Nr. 4,921,827 als "Sensibilisator A" gekennzeichnet und wird nachstehend als Sensibilisator A bezeichnet.
- Ein weiterer in der vorliegenden Erfindung bevorzugt verwendeter Sensibilisator ist 3,3'-Carbonylbis(7-diethylaminocumarin), das die Formel:
- hat. Dieser Sensibilisator und seine Synthese sind in US-Patent Nr. 4,147,552 beschrieben. Er wird nachstehend als Sensibilisator B bezeichnet.
- Es ist vorteilhaft in dieser Erfindung, Gemische aus Spektralsensibilisatoren zu verwenden und ein besonders geeignetes Gemisch ist ein Gemisch aus Sensibilisator A und Sensibilisator B. Der Sensibilisator B ist besonders effektiv, wenn mit einem Argon-Ionenlaser, der bei 488 nm emittiert, belichtet werden soll, ist aber uneffektiv für die Verwendung mit einem Nd : YAG-Laser mit Frequenzverdopplung, der bei 532 nm emittiert. Der Sensibilisator A ist bei 488 nm ebenso wirksam wie bei 532 nm, seine Wirksamkeit ist aber deutlich geringer als die des Sensibilisators B. Durch Verwendung eines Gemisches aus Sensibilisator A und Sensibilisator B werden optimale Ergebnisse erhalten, ob die gewählte Belichtungsquelle ein Argon-Jonenlaser oder ein Nd :YAG-Laser mit Frequenzverdopplung ist.
- Wie vorstehend beschrieben, schließt das Initiatorsystem für die Photopolymerisation dieser Erfindung einen Spektralsensibilisator, der für den ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, und einen Polycarbonsäure-Coinitiator, der eine aromatische Einheit, die mit einem Heteroatom, ausgewählt aus Stickstoff, Sauerstoff und Schwefel, substituiert ist, und mindestens zwei Carboxylgruppen umfaßt, wobei mindestens eine der Carboxylgruppen mit dem Heteroatom verknüpft ist, ein. N-Aryl-polycarbonsäure- Coinitiatoren sind in dieser Erfindung besonders wirksam und Beispiele für bevorzugte N-Aryl-polycarbonsäure-Coinitiatoren schließen die der folgenden Formeln I, II, III, IV und V ein:
- wobei Ar ein substituierter oder unsubstituierter Arylrest ist und n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist.
- wobei n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist, m eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist und R ein Wasserstoffatom oder ein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist.
- wobei n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 5 ist.
- wobei Ar ein substituierter oder unsubstituierter Arylrest ist.
- wobei Q¹ und Q² unabhängig voneinander Wasserstoffatome, Alkyl-, Alkoxy-, Thioalkyl-, Aryl-, Aryloxyreste oder Halogenatome sind.
- Bevorzugt werden Q¹ und Q² unabhängig voneinander aus Wasserstoffatomen, Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Butyl-, Methoxy-, Ethoxy-, Propoxy-, Butoxy-, Thiomethyl-, Thioethylgruppen und Chloratomen ausgewählt.
- Spezielle Beispiele für N-Aryl-, O-Aryl- und S-Arylpolycarbonsäuren, die in dieser Erfindung als Coinitiatoren verwendet werden können, schließen ein:
- Anilindiessigsäure
- (p-Acetamidophenylimino)diessigsäure
- 3-(Bis(carboxymethyl)amino)benzoesäure
- 4-(Bis(carboxymethyl)amino)benzoesäure
- 2-[(Carboxymethyl)phenylamino]benzoesäure
- 2-[(Carboxymethyl)methylamino]benzoesäure
- 2-[(Carboxymethyl)methylamino]-5-methoxybenzoesäure
- 4-[Bis(carboxymethyl)amino]-2-naphthalencarbonsäure
- N-(4-Aminophenyl)-N-(carboxymethyl)glycin
- N,N'-1,3-Phenylenbisglycin
- N,N'-1,3-Phenylenbis[N-(carboxymethyl)]glycin
- N,N'-1,2-Phenylenbis[N-(carboxymethyl)]glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(4-methoxyphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(3-methoxyphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(3-hydroxyphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(3-chlorphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(4-bromphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(4-chlorphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(2-chlorphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(4-ethylphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(2,3-dimethylphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(3,4-dimethylphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(3,5-dimethylphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(2,4-dimethylphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(2,6-dimethylphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-(4-formylphenyl)glycin
- N-(Carboxymethyl)-N-ethylanthranilsäure
- N-(Carboxymethyl)-N-propylanthranilsäure
- 5-Brom-N-(carboxymethyl)-anthranilsäure
- N-(2-Carboxyphenyl)glycin
- O-Dianisidin-N,N,N',N'-tetraessigsäure
- N,N'-[1,2-Ethandiylbis(oxy-2,1-phenylen)]bis[N-(carboxymethyl)glycin]
- 4-Carboxyphenoxyessigsäure
- Catechin-O,O'-diessigsäure
- 4-Methylcatechin-O,O'-diessigsäure
- Resorcin-O,O'-diessigsäure
- Hydrochinon-O,O'-diessigsäure
- α-Carboxy-o-anissäure
- 4,4'-Isopropylidendiphenoxyessigsäure
- 2,2'-(Dibenzofuran-2,8-diyldioxy)diessigsäure
- 2-(Carboxymethylthio)benzoesäure
- 5-Amino-2-(carboxymethylthio)benzoesäure
- 3-[(Carboxymethyl)thio]-2-naphthalencarbonsäure.
- Es ist besonders bevorzugt, außer dem Spektralsensibilisator und dem Polycarbonsäure- Coinitiator einen zweiten Coinitiator, ausgewählt aus (1) Iodoniumsalzen, (2) Tinanocenen, (3) halogenalkyl-substituierten s-Triazinen, (4) Hexaarylbisimidazolen, (5) Photooxidantien, die ein heterocyclisches Stickstoffatom, das entweder durch einen Alkoxyrest oder einen Acyloxyrest substituiert ist, enthalten, wie z. B. N-Alkoxypyridiniumsalze, und (6) Alkyltriarylboratsalzen, in das Initiatorsystem für die Photopolymerisation dieser Erfindung einzuschließen. Die Verwendung eines oder mehrerer der vorstehenden zweiten Coinitiatoren verbessert die Leistung der photopolymerisierbaren Zusammensetzung unter dem Aspekt der Erfüllung der Doppelforderung nach hoher Lichtempfindlichkeit und guter Lagerfähigkeit.
- In dieser Erfindung bevorzugt verwendete Iodoniumsalze sind Iodoniumsalze der Formel
- wobei Ar¹ und Ar² unabhängig voneinander substituierte oder unsubstituierte aromatische Reste sind und X&supmin; ein Anion ist.
- In dieser Erfindung besonders bevorzugt verwendete Iodoniumsalze sind Iodoniumsalze der Formel:
- wobei R unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, ein Alkylrest, ein Alkoxyrest oder eine Nitrogruppe ist und X&supmin; ein Anion, wie Cl&supmin;, BF&sub4;&supmin;, PF&sub6;&supmin;, AsF&sub6;&supmin; oder SbF&sub6;&supmin;, ist.
- Spezielle Beispiele für Iodoniumsalze, die in dieser Erfindung verwendbar sind, schließen:
- Diphenyliodoniumhexafluorophosphat
- 4-Octyloxyphenylphenyliodoniumhexafluorophosphat
- Bis(dodecylphenyl)iodoniumhexafluorantimonat
- 4-Isooctyloxyphenylphenyliodoniumhexafluorophosphat
- Diphenyliodoniumtrifluormethansulfonat
- 4-Octyloxyphenylphenyliodoniumtosylat
- 4,4'-Di-t-butyl-diphenyliodoniumhexafluorophosphat
- 4-Butoxyphenylphenyliodoniumtrifluoracetat ·
- Diphenyliodoniumnaphthalensulfonat
- 3,3'-Dinitrodiphenyliodoniumhexafluorophosphat
- 4,4'-Dichlordiphenyliodoniumtosylat
- 4-Methoxyphenylphenyliodoniumtetrafluoroborat
- und dergleichen ein.
- Die Verwendung von Iodoniumsalzen in Kombination mit Spektralsensibilisatoren zum Herstellen eines Initiatorsystems für die Photopolymerisation ist auf dem Fachgebiet bekannt. Dokumente, die solche Kombinationen offenbaren, werden hier in dem Abschnitt mit der Überschrift "Hintergrund der Erfindung" behandelt. Solche Dokumente schließen das auf die Agency for Industrial Science and Technology übertragene japanische Patent Nr. 1,660,964 (KOKOKU 3-62162), welches Initiatorsysteme für die Photopolymerisation beschreibt, die ein 3-Ketocumarin und ein Diaryliodoniumsalz umfassen; die europäische Patentanmeldung Nr. 0 290 133, veröffentlicht am 9. November 1988, welche Initiatorsysteme für die Photopolymerisation beschreibt, die einen Spektralsensibilisator, ein Aryliodoniumsalz und einen Elektronendonor mit einem Oxidationspotential, das größer als 0 und kleiner als das oder gleich dem von p-Dimethoxybenzol ist, umfassen; und US-Patent Nr. 4,921,827, welches Initiatorsysteme für die Photopolymerisation beschreibt, die einen Meroeyanin-Sensibilisator, der einen gehinderten Alkylaminorest enthält, und einen Coinitiator, der aus Diaryliodoniumsalzen, halogenierten Triazinen und Triarylsulfoniumsalzen ausgewählt ist, umfassen, ein. Eine N-Aryl-, O-Aryl- oder S-Arylpolycarbonsäure als Coinitiator in ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation, das sowohl einen Spektralsensibilisator als auch ein Iodoniumsalz enthält, einzuschließen, war jedoch bisher nicht bekannt.
- In deutlichem Gegensatz zum Nutzen, den die Verwendung von Iodoniumsalzen als zweiter Coinitiator in dieser Erfindung bringt, wurde gefunden, daß die Verwendung von Sulfonium- oder Diazoniumsalzen für diesen Zweck keine Veränderung in der Lichtempfindlichkeit oder eine Verringerung in der Lichtempfindlichkeit bewirkt.
- Titanocene, die als zweiter Coinitiator in dem Initiatorsystem für die Photopolymerisation dieser Erfindung besonders geeignet sind, schließen die in US-Patent Nr. 5,306,600 beschriebenen ein. Von besonderem Interesse ist die Titanocenverbindung Bis(η&sup5;-2,4- cyclopentadien-1-yl)-bis{2,6-difluor-3-(1H-pyrrol-1-yl)phenyl}titan, die die folgende Formel aufweist:
- Eine weitere Klasse von Verbindungen, die in der vorliegenden Erfindung als zweiter Coinitiator verwendbar ist, sind die im US-Reissue-Patent Nr. 28,240 beschriebenen Photooxidantien. Dies sind Photooxidantien, welche ein heterocyclisches Stickstoffatom, das entweder durch einen Alkoxyrest oder einen Acyloxyrest substituiert ist, enthalten. Wie im US-Reissue-Patent Nr. 28,240 beschrieben, werden typische Photooxidantien dieser Klasse durch eine der Formeln:
- wiedergegeben, wobei
- R&sub1; ein beliebiges der folgenden sein kann:
- a. eine Methinverknüpfung, die durch einen heterocyclischen Ring, von dem Typ, der in Cyanin-Farbstoffen, z. B. jenen, die in Mees und James, "The Theory of the Photographic Process ", 3. Auflage, McMILLAN, S. 198-232 dargestellt sind, enthalten ist, terminiert ist; wobei die Methinverknüpfung substituiert oder unsubstituiert sein kann, z. B. -CH=, -C(CH&sub3;)= , -C(C&sub6;H&sub5;)= , -CH=CH-, -CH=CH-CH= usw.;
- b. ein Alkylrest, der bevorzugt 1 bis 8 Kohlenstoffatome enthält, einschließlich eines substituierten Alkylrestes;
- c. ein Arylrest, einschließlich eines substituierten Arylrestes, wie eine Phenyl-, Naphthyl-, Tolylgruppe usw.;
- d. ein Wasserstoffatom
- e. ein Acylrest der Formel:
- wobei R&sub9; ein Wasserstoffatom oder ein Alkylrest, bevorzugt mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, ist;
- f. ein Anilinovinylrest, wie ein Rest der Formel:
- wobei R&sub3; ein Wasserstoffatom, ein Acyl- oder Alkylrest ist, oder
- g. ein Styrylrest, einschließlich substituierter Styrylreste, z. B.
- wobei R&sub9; ein Wasserstoffatom, ein Alkyl-, Aryl-, Aminorest, einschließlich eines Dialkylaminorestes, wie einer Dimethylaminogruppe, ist;
- R&sub8; eines der beiden folgenden sein kann:
- a. eine Methinverknüpfung, die durch einen heterocyclischen Ring, von dem Typ, der in Merocyanin-Farbstoffen, z. B. jenen, die in Mees und James (vorstehend zitiert) dargestellt sind, enthalten ist, terminiert ist; wobei die Methinverknüpfung substituiert oder unsubstituiert sein kann; oder
- b. ein Allylidenrest, einschließlich eines substituierten Allylidenrestes, wie ein Cyanoallylidenrest, ein Alkylcarboxyallylidenrest oder ein Alkylsulfonylallylidenrest;
- R entweder
- a. ein Alkylrest, bevorzugt mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, wie eine Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Butylgruppe usw., einschließlich eines substituierten Alkylrestes, wie ein Sulfoalkylrest, z. B. -(CH&sub2;)&sub3;SO&sub3;-, ein Aralkyrest, z. B. ein Benzyl- oder Pyridinatooxyalkylsalz, z. B. -(CH&sub2;)&sub3;-O-Y, wobei Y ein substituiertes oder unsubstituiertes Pyridiniumsalz ist; usw., oder
- b. ein Acylrest, z. B.
- ist, wobei R&sub4; ein Alkylrest, bevorzugt mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, oder ein Arylrest, z. B. eine Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Butyl-, Phenyl-, Naphthylgruppe usw., ist.
- Z die Atome bedeutet, die zum Vervollständigen eines 5- oder 6-gliedrigen heterocyclischen Ringes notwendig sind, wobei der Ring mindestens ein zusätzliches Heteroatom, wie ein Sauerstoff-, Schwefel-, Seien- oder Stickstoffatom, enthalten kann, z. B. ein Pyridinring, ein Chinolinring usw.; und
- X ein Säureanion, z. B. ein Chlorid-, Bromid-, Iodid-, Perchlorat-, Sulfamat-, Thiocyanat-, p-Toluolsulfonat-, Methylsulfat-, Tetrafluoroboratanion usw., ist. Beispiele für Photooxidantien der im US-Reissue-Patent Nr. 28,240 beschriebenen Klasse, welche in dieser Erfindung bevorzugt verwendet werden, schließen ein:
- N-Methyl-4-phenylpytidiniumtetrafluoroborat
- N-4-Dimethoxypyridiniumtetrafluoroborat
- N-Methoxy-4-methylpyridiniumtetrafluoroborat
- N-Ethoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluoroborat
- N-Ethoxyphenanthridiniumtetrafluoroborat
- Von den Photooxidantien des US-Reissue-Patents Nr. 28,240 sind die N-Alkoxypyridiniumsalze diejenigen, die in der vorliegenden Erfindung am meisten bevorzugt verwendet werden.
- Als zweiter Coinitiator in der vorliegenden Erfindung sind auch Halogenalkyl-substituierte s-Triazine geeignet. In dieser Erfindung bevorzugt verwendete halogenalkyl-substituierte s-Triazine sind Verbindungen der Formel:
- wobei R¹ ein substituierter oder unsubstituierter aliphatischer oder aromatischer Rest ist und R&sub2; und R&sub3; unabhängig voneinander Halogenalkylreste sind.
- Es ist besonders bevorzugt, daß R&sub2; und R&sub3; in der vorstehenden Formel Halogenalkylreste mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen sind.
- In dieser Erfindung besonders bevorzugt verwendete halogenalkyl-substituierte s-Triazine sind Verbindungen der Formel:
- wobei R¹ ein substituierter oder unsubstituierter aliphatischer oder aromatischer Rest ist und X unabhängig voneinander jeweils ein Halogenatom ist.
- Ein spezielles Beispiel für ein in dieser Erfindung bevorzugt verwendetes halogenalkyl-substituiertes s-Triazin ist 2,4,6-Tris(trichlormethyl-s-triazin.
- Eine weitere Klasse von Verbindungen, die als zweiter Coinitiator in der vorliegenden Erfindung verwendbar ist, sind Hexaarylbisimidazole. Ein Beispiel für ein geeignetes Hexaarylbisimidazol ist die Verbindung 2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbisimidazolyl, welches die Formel:
- hat, wobei Ph eine Phenylgruppe ist.
- Eine weitere Klasse von Verbindungen, die als zweiter Coinitiator in der vorliegenden Erfindung verwendbar ist, sind Alkyltriarylboratsalze. Die Alkyltriarylboratsalze, welche besonders geeignet sind, sind Salze der Formel:
- wobei R¹, R² und R³ unabhängig voneinander jeweils ein Arylrest mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen sind, R&sup4; ein Alkylrest mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen ist und Y ein Gegenion, wie ein Ammonium-, Tetramethylammonium- oder ein Alkalimetallion, ist. Die drei Arylreste sind bevorzugt Phenyl- oder niederalkyl-substituierte Phenylreste, wie Tolyl- und Xylylgruppen. Der Alkylrest ist bevorzugt ein Niederalkylrest, wie eine Methyl-, Ethyl- oder n-Butylgruppe.
- Da sie sowohl die Lichtempfindlichkeit als auch die Lagerfähigkeit wesentlich verbessern können, sind Iodoniumsalze in dieser Erfindung besonders geeignet. Deshalb ist eine Zusammensetzung, die sowohl eine N-Aryl-, O-Aryl- oder S-Arylpolycarbonsäure als auch ein Iodoniumsalz enthält, eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung. Wird in die Zusammensetzung, zusätzlich zu dem Iodoniumsalz und der Polycarbonsäure, ein Titanocen eingeschlossen, bringt dies zusätzliche Lichtempfindlichkeit, welche durch einfache Erhöhung der Konzentration entweder des Iodoniumsalzes oder der Polycarbonsäure nicht erhältlich ist.
- Iodoniumsalze, die in dieser Erfindung bevorzugt verwendet werden, sind die ungiftigen alkoxy-substituierten Salze, die in den US-Patenten Nr. 4,882,201, 4,981,881, 5,010,118, 5,082,686 und 5,144,051 beschrieben sind. Wird bei der lithographischen Druckplatte ein Aluminiumträger verwendet, werden diese Verbindungen bevorzugt lieber in Form des Hexafluorophosphatsalzes als in Form des Hexafluorantimonatsalzes verwendet. Der Grund für eine solche Bevorzugung ist der, daß die Unverträglichkeit des Hexafluorantimonat-Gegenions mit dem Aluminiumsubstrat der Lagerfähigkeit der Platte schadet.
- In den photopolymerisierbaren Zusammensetzungen dieser Erfindung wird der Spektralsensibilisator typischerweise in einer Menge von etwa 0,001 bis etwa 0,1 Teilen pro Gewichtsteil der additionspolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Verbindung verwendet, während der Polycarbonsäure-Coinitiator typischerweise in einer Menge von etwa 0,05 bis etwa 0,5 Teilen pro Gewichtsteil der additionspolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Verbindung verwendet wird. Wird ein zweiter Coinitiator verwendet, wird er typischerweise in einer Menge von etwa 0,05 bis etwa 0,5 Teilen pro Gewichtsteil der additionspolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Verbindung verwendet.
- Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen dieser Erfindung können gegebenenfalls ein filmbildendes Bindemittel enthalten. Eine solche Verwendung von filmbildenden Bindemitteln kann besonders für die Verbesserung der Verschleißfestigkeit der daraus hergestellten Schicht vorteilhaft sein. Geeignete filmbildende Bindemittel schließen Styrol- Butadien-Copolymere; Siliconharze; Styrol-Alkydharze; Silicon-Alkydharze; Soja-Alkydharze; Polyvinylchlorid; Polyvinylidenchlorid; Vinylidenchlorid-Acrylnitril-Copolymere; Polyvinylacetat; Vinylacetat-Vinylchlorid-Copolymere; Polyvinylacetale, wie Polyvinylbutyral; Polyacryl- und -methacrylsäureester, wie Polymethylmethacrylat, Poly-n-butylmethacrylat und Polyisobutylmethacrylat; Polystyrol; nitriertes Polystyrol, Polymethylstyrol; Isobutylenpolymere, Polyester, wie Poly(ethylen-co-alkaryloxyalkylenterephthalat); Phenolformaldehydharz; Ketonharze; Polyamide; Polycarbonate; Polythiocarbonate; Polyethylen-4,4'-isopropylidendiphenylenterephthalat; Vinylacetat-Copolymere, wie Poly(vinyl-m-brombenzoat-co-vinylacetat); Ethylcellulose; Polyvinylalkohol; Celluloseacetat; Cellulosenitrat, chlorierter Kautschuk und Gelatine ein.
- Besondere Vorteile werden durch Verwendung von Acetalpolymeren als filmbildendes Bindemittel erzielt. Beispiele für geeignete Acetalpolymere sind die in den US-Patenten Nr. 4,652,604, 4,741,985, 4,940,646, 5,169,897 und 5,169,898 beschriebenen.
- In US-Patent Nr. 4,652,604 enthält das Acetalpolymer drei Typen von Acetalgruppen, nämlich 6-gliedrige cyclische Acetale, 5-gliedrige cyclische Acetale und intermolekulare Acetale. In US-Patent Nr. 4,741,985 ist das Acetalpolymer ein Monoacetal, das eine 6-gliedrige cyclische Acetalgruppe enthält. In US-Patent Nr. 4,940,646 enthält das Acetalpolymer Vinylacetaleinheiten, die von einem Aldehyd, der Hydroxygruppen enthält, abgeleitet sind. In US-Patent Nr. 5, 169,8ß7 ist das Acetalpolymer ein binäres Acetalpolymer, bestehend aus sich wiederholenden Einheiten, welche zwei 6-gliedrige cyclische Acetalgruppen, von denen eine unsubstituiert oder mit einem Alkyl- oder Hydroxyalkylrest substituiert ist und die andere mit einer aromatischen oder heterocyclischen Einheit substituiert ist, einschließen. In US-Patent Nr. 5, 169,898 ist das Acetalpolymer ein ternäres Acetalpolymer, bestehend aus sich wiederholenden Einheiten, welche drei 6-gliedrige cyclische Acetalgruppen, von denen eine unsubstituiert oder mit einem Alkyl- oder Hydroxyalkylrest substituiert ist, eine weitere mit einer aromatischen oder heterocyclischen Einheit substituiert ist und eine dritte mit einem Säurerest, einem säure-substituierten Alkylrest oder einem säure-substituierten Arylrest substituiert ist, einschließen.
- Die säure-substituierten ternären Acetalpolymere von US-Patent Nr. 5,169,898 sind in dieser Erfindung besonders geeignet. Wie in US-Patent Nr. 5,169,898 beschrieben ist, weisen diese säure-substituierten ternären Acetalpolymere sich wiederholende Einheiten der Formel:
- auf, wobei
- R&sub1; -H, CnH2n+1 oder -CnH2n-OH ist, wobei n = 1-12 ist.
- wobei R&sub3; -(-CH&sub2;-)x- oder
- ist.
- und x = 0 - 8
- m = 0 - 8
- y = 0 - 8
- p = 0 - 8
- R&sub4; -H, -R&sub5;,
- oder
- ist,
- wobei Y = -O-, -S-,
- -CH&sub2;-, NH- oder
- R&sub5; -OH, -CH&sub2;OH, -OCH&sub3;, -COOH oder -SO&sub3;H ist,
- z 1 bis 3 ist,
- R&sub6; -(CH&sub2;)a-COOH, -(CH&sub2;)a-COO M oder
- ist,
- wobei
- R&sub7; = COOH, -COO&supmin;M&spplus;, -(CH&sub2;)aCOOH, -O-(CH&sub2;)aCOOH, -SO&sub3;H, -SO&sub3;&supmin;M&spplus;, -PO&sub3;H&sub2;, -PO&sub3;&supmin;M&sub2;&spplus;, -PO&sub4;H&sub2; oder -PO&sub4;&supmin;M&sub2;&spplus;,
- a = 0 bis 8
- M = Na, K, Li oder NH&sub4;
- und n&sub1; = 0 - 25 Mol-%, bevorzugt 3 - 15 Mol-%,
- n&sub2; = 2 - 25 Mol-%, bevorzugt 5 - 15 Mol-%,
- n&sub3; = 10 - 70 Mol-%, bevorzugt 15 - 50 Mol-%,
- n&sub4; = 10 - 60 Mol-%, bevorzugt 12 - 45 Mol-%,
- n&sub5; = 10 - 45 Mol-%, bevorzugt 15 - 30 Mol-%.
- Wie die vorstehende Strukturformel zeigt, können die säure-substituierten ternären Acetalpolymere Tetramere sein, in welchen die sich wiederholende Einheit eine Vinylacetateinheit und die erste, zweite und dritte cyclische Acetalgruppe umfaßt, oder Pentamere, in welchen die sich wiederholende Einheit eine Vinylalkoholeinheit, eine Vinylacetateinheit und die erste, zweite und dritte cyclische Acetalgruppe umfaßt.
- Alle drei Acetalgruppen sind 6-gliedrige cyclische Acetalgruppen, von denen eine unsubstituiert oder mit einem Alkyl- oder Hydroxyalkylrest substituiert ist, eine weitere mit einer aromatischen oder heterocyclischen Einheit substituiert ist und eine dritte mit einem Säurerest, einem säure-substituierten Alkylrest oder einem säure-substituierten Arylrest substituiert ist.
- Die säure-substituierten ternären Acetalpolymere stellen im Vergleich zu anderen Acetalpolymeren lithographische Druckplatten bereit, die durch eine verbesserte Abriebfestigkeit, eine verbesserte Beständigkeit gegen chemische Angriffe, langen Druckmaschinengebrauch und verbesserte Anfahreigenschaften charakterisiert sind. Lithographische Druckplatten, bei denen die säure-substituierten ternären Acetalpolymere als polymere Bindemittel verwendet werden, haben auch den erheblichen Vorteil, daß sie in wäßrigen Alkalientwicklungslösungen, die sehr geringe Konzentrationen an organischen Lösungsmitteln enthalten, entwickelt werden können. Dies ist angesichts der hohen Kosten und der Umweltprobleme, die mit der Verwendung von organischen Lösungsmitteln verbunden sind, sehr vorteilhaft. Da die säure-substituierten ternären Acetalpolymere in wäßrigen Alkalientwicklungslösungen vollständig löslich sind, vermeiden sie die Probleme, die mit Bindemitteln, die dazu führen, daß die Beschichtung in Teile aufbricht, auftreten.
- Ein in dieser Erfindung besonders bevorzugt verwendetes Bindemittel ist das in Beispiel 1 von US-Patent Nr. 5,169,898 beschriebene säure-substituierte ternäre Acetalpolymer, welches nachstehend als Bindemittel ATAP bezeichnet wird.
- In der vorliegenden Erfindung ergibt die Kombination aus einem Diaryliodoniumsalz und einer N-Aryl-, O-Aryl- oder S-Arylpolycarbonsäure eine ausgezeichnete Kombination von hoher Lichtempfindlichkeit und langer Lagerfähigkeit und ist deshalb eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung. Die Kombination aus einem Diphenyliodoniumsalz und Anilindiessigsäure ist eine besonders bevorzugte Ausführungsform. Eine optimale Formulierung schließt das Diphenyliodoniumsalz, die Anilindiessigsäure und das Bindemittel ATAP ein.
- Lithographische Druckplatten, die mit Lasern, die ultraviolettes oder sichtbares Licht emittieren, bildweise belichtet werden können, können durch Auftragen der hier beschriebenen photopolymerisierbaren Zusammensetzungen auf einen geeigneten Träger und Entfernen des Lösungsmittels durch Trocknen bei Umgebungs- oder erhöhter Temperatur hergestellt werden. Es kann jedes beliebige von einer Vielzahl von herkömmlichen Beschichtungsverfahren angewendet werden, wie Extrusionsbeschichtung, Rakelbeschichtung, Sprühbeschichtung, Tauchbeschichtung, Wirbelbeschichtung, Schleuderbeschichtung, Walzenbeschichtung usw.
- Die Beschichtungszusammensetzungen können hergestellt werden, indem die Komponenten in einem geeigneten Lösungsmittel oder einer Kombination von Lösungsmitteln dispergiert oder aufgelöst werden. Die Lösungsmittel werden so ausgewählt, daß sie gegenüber den Komponenten im wesentlichen reaktionsunfähig sind, und werden so ausgewählt, daß sie mit dem zum Beschichten verwendeten Substrat verträglich sind. Auch wenn die beste Wahl des Lösungsmittels mit der im einzelnen in Betracht gezogenen Anwendung variiert, schließen beispielhafte bevorzugte Lösungsmittel Alkohole, wie Butanol und Benzylalkohol; Ketone, wie Aceton, 2-Butanon und Cyclohexanon; Ether, wie Tetrahydrofuran und Dioxan; 2-Methoxyethylacetat; N,N'-Dimethylformamid; chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie Chloroform, Trichlorethan, 1,2-Dichlorethan, 1,1-Dichlorethan, 1,1,2- Trichlorethan, Dichlormethan, Tetrachlorethan, Chlorbenzol und Gemische davon ein.
- Geeignete Träger können aus einer Vielzahl von Materialien, die mit der Beschichtungszusammensetzung nicht direkt chemisch reagieren, ausgewählt werden. Solche Träger schließen Materialien auf Faserbasis, wie Papier, polyethylen-beschichtetes Papier, polypropylen-beschichtetes Papier, Pergament, Stoff usw.; Blätter und Folien aus Materialien, wie Aluminium, Kupfer, Magnesium, Zink usw.; Glas und mit Metallen, wie Chrom, Legierungen, Stahl, Silber, Gold, Platin usw. beschichtetes Glas; Kunstharze und polymere Materialien, wie Polyalkylacrylate, z. B. Polymethylmethacrylat, Polyester-Schichtträger, z. B. Polyethylenterephthalat, Polyvinylacetale, Polyamide, z. B. Nylon, und Celluloseester-Schichtträger, z. B. Cellulosenitrat, Celluloseacetat, Celluloseacetatpropionat, Celluloseacetatbutyrat und dergleichen ein.
- Bevorzugte Trägermaterialien schließen Zink, anodisiertes Aluminium, aufgerauhtes Aluminium und Aluminium, das aufgerauht und anodisiert wurde, ein.
- Der Träger kann vorher, d. h. bevor er die strahlungsempfindliche Beschichtung erhält, mit bekannten Grundierschichten, wie Copolymeren von Vinylidenchlorid und Acrylmonomeren, z. B. Acrylnitril, Methylacrylat usw., und ungesättigten Dicarbonsäuren, wie Itaconsäure usw.; Carboxymethylcellulose, Gelatine; Polyacrylamid und ähnlichen Polymermaterialien beschichtet werden.
- Die optimale Beschichtungsdicke der strahlungsempfindlichen Schicht hängt von Faktoren, wie der Anwendung, für die die Druckplatte im einzelnen bestimmt ist, und der Natur der anderen Komponenten, die in der Beschichtung vorhanden sein können, ab. Typische Beschichtungsdicken können im Bereich von etwa 0,05 bis etwa 10,0 um oder mehr liegen, wobei Dicken von 0,1 bis 2,5 um bevorzugt sind.
- Aluminium wurde viele Jahre als Träger für lithographische Druckplatten verwendet und ist für die Verwendung mit den Druckplatten dieser Erfindung besonders bevorzugt. Um das Aluminium für einen solchen Verwendungszweck vorzubereiten, wird es typischerweise sowohl einem Aufrauhverfahren als auch einem anschließenden Anodisierungsverfahren unterzogen. Das Aufrauhverfahren dient dazu, die Haftung der anschließend aufgebrachten strahlungsempfindlichen Beschichtung zu verbessern und die Wasserannahmeeigenschaften der Hintergrundbereiche der Druckplatte zu verbessern. Das Aufrauhen beeinflußt sowohl die Leistung als auch die Haltbarkeit der Druckplatte, und die Qualität des Aufrauhens ist ein kritischer Faktor, der die Gesamtqualität der Druckplatte bestimmt. Eine feine, gleichmäßige, grübchenfreie Rauhigkeit ist für die Bereitstellung der höchsten Qualitätsleistung wesentlich.
- Es sind sowohl mechanische als auch elektrolytische Aufrauhverfahren bekannt und finden breite Verwendung bei der Herstellung lithographischer Druckplatten. Optimale Ergebnisse werden für gewöhnlich durch die Verwendung des elektrolytischen Aufrauhens, welches auf dem Fachgebiet auch als elektrochemisches Körnigmachen oder elektrochemisches Aufrauhen bezeichnet wird, erzielt, wobei sehr viele unterschiedliche Verfahren des elektrolytischen Aufrauhens zur Verwendung bei der Herstellung lithographischer Druckplatten vorgeschlagen wurden. Verfahren zum elektrolytischen Aufrauhen sind z. B. in den US-Patenten Nr. 3,755,116, 3,887,447, 3,935,080, 4,087,341, 4,201,836, 4,272,342, 4,294,672, 4,301,229, 4,396,468, 4,427,500, 4,468,295, 4,476,006, 4,482,434, 4,545,875, 4,538,683, 4,564,429, 4,582,996, 4,618,405, 4,735,696, 4,897,168 und 4,919,774 beschrieben.
- Bei der Herstellung lithographischer Druckplatten schließt sich an das Aufrauhverfahren typischerweise ein Anodisierungsverfahren an" bei dem eine Säure, wie Schwefel- oder Phosphorsäure verwendet wird, und an das Anodisierungsverfahren schließt sich typischerweise ein Verfahren an, welches die Oberfläche hydrophil macht, wie ein Verfahren der thermischen Silicierung oder Elektrosilicierung. Der Anodisierungsschritt dient dazu, eine anodische Oxidschicht bereitzustellen, und wird bevorzugt so gesteuert, daß eine Schicht von mindestens 0,3 g/m² erzeugt wird. Verfahren zum Anodisieren von Aluminium, um eine anodische Oxidbeschichtung zu erzeugen, und dann Hydrophilieren der anodisierten Oberfläche durch Techniken, wie Silicierung, sind auf dem Fachgebiet gut bekannt und müssen hier nicht weiter beschreiben werden.
- Die vielen Patente, die Verfahren zur Anodisierung lithographischer Druckplatten betreffen, schließen die US-Patente Nr. 2,594,289, 2,703,781, 3,227,639, 3,511,661, 3,804,731, 3,915,811, 3,988,217, 4,022,670, 4,115,211, 4,229,266 und 4,647,346 ein. Veranschaulichende Beispiele für die vielen Materialien, die zur Erzeugung hydrophiler Sperrschichten geeignet sind, sind Polyvinylphosphonsäure, Polyacrylsäure, Polyacrylamid, Silikate, Zirconate und Titanate. Die vielen Patente, die hydrophile Sperrschichten, die bei lithographischen Druckplatten verwendet werden, beareffen, schließen die US-Patente Nr. 2,714,066, 3,181,461, 3,220,832, 3,265,504, 3,276,868, 3,549,365, 4,090,880, 4,153,461, 4,376,914, 4,383,987, 4,399,021, 4,427,765, 4,427,766, 4,448,647, 4,452,674, 4,458,005, 4,492,616, 4,578,156, 4,689,272, 4,935,332 und EP-Patent Nr. 190,643 ein.
- Die strahlungsempfindlichen Schichten von lithographischen Druckplatten dieser Erfindung können eine Vielzahl von gegebenenfalls vorhandenen Bestandteilen, wie Antioxidantien, grenzflächenaktive Mittel, Mittel zum Verhindern des Tonens und dergleichen, enthalten.
- Die strahlungsempfindliche Schicht kann Pigmente, die bevorzugt eine maximale mittlere Teilchengröße von weniger als etwa 3 um aufweisen, enthalten. Diese Pigmente können einem Bild vor oder nach der Entwicklung der Platte eine sichtbare Färbung geben. Geeignete Pigmente sind auf dem Fachgebiet bekannt und schließen Titandioxid, Zinkoxid, Kupferphthalocyanine, halogenierte Kupferphthalocyanine, Chinacridin und Farbmittel, wie diejenigen, die im Handel unter dem Handelnamen Hostaperm erhältlich sind, ein. Die Pigmente sind in der Zusammensetzung im allgemeinen in einer Menge im Bereich von 0 bis etwa 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamttrockengewicht der Zusammensetzung, vorhanden. Bevorzugte Mengen liegen im Bereich von etwa 5 bis etwa 20 Gew.-%.
- Die belichtete Druckplatte kann durch Spülen, Einweichen, Abstreichen oder anderweitige Behandlung der strahlungsempfindlichen Schicht mit einer Lösung (nachstehend als Entwickler bezeichnet), welche die unbelichteten Bereiche der strahlungsempfindlichen Schicht selektiv anlöst (d. h. entfernt), entwickelt werden. Der Entwickler ist bevorzugt eine wäßrige Lösung mit einem pH-Wert, der so nahe wie möglich am Neutralpunkt liegt.
- In einer bevorzugten Form schließt der Entwickler eine Kombination aus Wasser und einem Alkohol, der mit Wasser mischbar ist oder durch Verwendung eines Colösungsmittels oder grenzflächenaktiven Mittels mischbar gemacht werden kann, als ein Lösungsmittelsystem ein. Die Verhältnisse von Wasser und Alkohol können stark variieren, liegen aber typischerweise im Bereich von 40 bis 99 Vol.-% Wasser und von 1 bis 60 Vol.-% Alkohol. Am meisten bevorzugt wird der Wassergehalt im Bereich von 60 bis 90 Vol.-% gehalten. Es kann ein beliebiger Alkohol oder eine Kombination von Alkoholen, die die strahlungsempfindliche Schicht bei der Entwicklung nicht nachteilig chemisch angreifen und die mit Wasser in den für den Verwendungszweck gewählten Verhältnissen mischbar sind, verwendet werden. Beispielhaft für geeignete Alkohole sind Glycerol, Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol, 1,2-Propandiol, s-Butylalkohol und Ether, die von Alkylenglycolen abgeleitet sind, d. h. Dihydroxypolyalkylenoxide, z. B. Dihydroxypolyethylenoxid, Dihydroxypolypropylenoxid usw.
- Üblicherweise kann der Entwickler gegebenenfalls weitere Zusätze enthalten. Der Entwickler kann z. B. Farbstoffe und/oder Pigmente enthalten. Es kann vorteilhaft sein, Mittel zum Verhindern des Tonens und/oder Mittel zum Verhindern des Blindwerdens in den Entwickler aufzunehmen, was auf dem Fachgebiet recht üblich ist.
- Nach der Entwicklung kann die Druckplatte in einer beliebigen bekannten Art und Weise, die mit ihrer beabsichtigten Verwendung vereinbar ist, behandelt werden. Lithographische Druckplatten werden z. B. typischerweise desensibilisierenden Ätzbehandlungen unterzogen.
- In den photopolymerisierbaren Zusammensetzungen dieser Erfindung wird der hohe Empfindlichkeitgrad, der in der Größenordnung von 0,1 mJ/cm² liegt, durch die chemischen Verstärkungseffekte erreicht, die durch radikalische Polymerisation additionspolymerisierbarer ethylenisch ungesättigter Verbindungen erzielt werden. Die Fortpflanzung radikalischer Reaktionen wird durch Sauerstoff gelöscht, so daß es notwendig ist, eine photopolymerisierbare Beschichtung mit einer Sauerstoffsperrschicht bereitzustellen.
- Deshalb schließen die lithographischen Druckplatten dieser Erfindung bevorzugt eine über der strahlungsempfindlichen Schicht liegende Sauerstoffsperrschicht ein. Diese Sauerstoffsperrschicht dient dazu, das Auslöschen startender und wachsender Radikale, die das Photopolymerisationsverfahren mit sich bringt, zu verhindern. Besonders wirksame Sauerstoffsperrschichten sind diejenigen, die aus Polyvinylalkohol bestehen.
- Polyvinylalkohole, die zur Verwendung als Sauerstoffsperrschichten geeignet sind, sind bekannte, im Handel erhältliche Materialien. Sie weisen bevorzugt ein mittleres Molekulargewicht im Bereich von etwa 3.000 bis etwa 120.000 auf. Beispiele für geeignete Polyvinylalkohole schließen diejenigen ein, die in einem Bereich von Molekulargewichten von der Am. PRODUCTS CORPORATION unter den Handelsmarken AIRVOL 107, AIRVOL 203, AIRVOL 205, AIRVOL 523 und AIRVOL 540 erhältlich sind. Andere geeignete Polyvinylalkohole schließen diejenigen ein, die von HOECHST-CELANESE unter den Handelsmarken MOWIOL 4-88, MOWIOL 4-98, MOWIOL 5-88, MOWIOL 18-88, MOWIOL 26-88 und MOWIOL 40-88 erhältlich sind. Polyvinylalkohole, die in dieser Erfindung bevorzugt verwendet werden, sind diejenigen, die im wesentlichen vollständig hydrolysiert, z. B. zu etwa 98% hydrolisiert, sind, wie AIRWOL 107 oder MOWION 4-98. Die Verwendung vollständig hydrolisierter Polyvinylalkohole als Sauerstoffbarriere ist gegenüber der Verwendung teilweise hydrolysierter Polyvinylakohole bevorzugt, da sie einen besseren Schutz und folglich eine bessere Lichtempfindlichkeit und eine bessere Zwischenschichthaftung bereitstellen.
- Um eine wirksame Sauerstoffsperrschicht zu erzeugen, wird der Polyvinylalkohol bevorzugt in einer Menge von etwa 0,5 bis etwa 5 g/m² und stärker bevorzugt etwa 1 bis etwa 3 g/m² aufgetragen.
- Die lithographischen Druckplatten dieser Erfindung weisen eine hohe Empfindlichkeit, z. B. eine Empfindlichkeit im Bereich von etwa 517 bis etwa 500 uJ/cm², auf. Sie sind vorteilhafterweise so gestaltet, daß sie bei etwa 488 nm eine Höchstempfindlichkeit aufweisen, wodurch sie für die Belichtung mit einem Argon-Jonenlaser ausgelegt sind, oder daß sie bei etwa 532 nm eine Höchstempfindlichkeit aufweisen, wodurch sie für die Belichtung mit einem Nd : YAG-Laser mit Frequenzverdopplung ausgelegt sind. Wie vorstehend beschrieben, können sie so gestaltet werden, daß sie sowohl bei 488 als auch bei 532 nm sehr hohe Empfindlichkeiten aufweisen, wodurch sie vielseitiger verwendbar gemacht werden.
- Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele ihrer Ausführung, die mit den Vergleichsbeispielen in Verbindung gebracht werden, welche die verbesserte Leistung, die mit den Polycarbonsäure-Coinitiatoren dieser Erfindung erreicht wird, veranschaulichen, genauer veranschaulicht. In Vergleichsbeispiel A ist NPG der Coinitiator, während es in Vergleichsbeispiel B eine N-Aryl-α-aminocarbonsäure ist, die durch Derivatisierung von NPG mit Glycidylmethacrylat, wodurch eine Verbindung der Formel:
- erhalten wurde, erhalten wurde, wie in der EP-Patentanmeldung Nr. 0 522 568 beschrieben. Dieser Coinitiator wird nachstehend als Coinitiator NPG/GM bezeichnet.
- Durch Mischen von 3,60 Gewichtsteilen einer Dispersion, die das Bindemittel ATAP und 20 Gew.-% des Pigments Kupferphthalocyanin enthielt, 21,57 Gewichtsteilen einer 10 gew.-%igen Lösung des Bindemittels ATAP in 1-Methoxy-2-propanol, 2,16 Gewichtsteilen Pentaerythrittriacrylat, 0,05 Gewichtsteilen 3,3'-Carbonylbis(7-diethylaminocumarin), 0,22 Gewichtsteilen Diphenyliodoniumhexafluorophosphat, 14,16 Gewichtsteilen 2-Butanon, 23,59 Gewichtsteilen Toluol und 34,33 Gewichtsteilen 1-Methoxy-2-propanol wurde eine Stammlösung hergestellt.
- Durch Zugeben von 0,31 Gewichtsteilen Anilindiessigsäure zu 100 Gewichtsteilen der vorstehend beschriebenen Stammlösung wurde eine Beschichtungszusammensetzung, bezeichnet als Zusammensetzung 1, hergestellt. Die Zusammensetzung 1 wurde zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von 1,2 g/m² auf einen aufgerauhten und anodisierten Aluminiumträger aufgetragen, wodurch eine lithographische Druckplatte hergestellt wurde. Die Druckplatte wurde dann zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von 2,2 g/m² mit einer wäßrigen Lösung von zu 88% hydrolysiertem Polyvinylalkohol beschichtet. Die Druckplatte wurde durch ein 20-Stufentablett auf einem OLEC Vakuumrahmen belichtet, 1 min auf 100ºC erwärmt, mit Wasser abgespült und mit der in Beispiel 1 der gleichzeitig anhängigen übertragenen US-Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 268,100, angemeldet am 29. Juni 1994, "Aqueous Developer for Lithographic Printing Plates, which exhibits reduced Sludge Formation" von Gary R. Miller, John 3. Walls und Melanie A. Felker, beschriebenen Entwicklungszusammensetzung entwickelt.
- Durch Zugeben von 0,23 Gewichtsteilen NPG zu 100 Gewichtsteilen der Stammlösung wurde eine Beschichtungszusammensetzung, bezeichnet als Zusammensetzung A, hergestellt. Durch Zugeben von 0,44 Gewichtsteilen NPG/GM zu 100 Gewichtsteilen der Stammlösung wurde eine Beschichtungszusammensetzung, bezeichnet als Zusammensetzung B, hergestellt. Die verwendeten Mengen an NPG und NPG/GM wurden so gewählt, daß sie mit denen der in Zusammensetzung 1 verwendeten Anilindiessigsäure äquimolar waren. Die Zusammensetzungen A und B wurden, in genau derselben Art und Weise wie Zusammensetzung 1, zur Herstellung lithographischer Druckplatten verwendet, und die Platten wurden in genau derselben Art und Weise belichtet und entwickelt.
- Die optischen Dichten des Bildes des Stufentabletts wurden in Kontrollbewertungseinheiten umgerechnet, wobei eine Differenz von 30 Einheiten einem Faktor von 2 im Unterschied in der Lichtempfindlichkeit entsprach. Die Platten wurden einer beschleunigten Alterung bei einer Temperatur von 50ºC unterworfen und in bestimmten Zeitintervallen wurden die Lichtempfindlichkeiten bestimmt. Die erhaltenen Ergebnisse sind nachstehend in Tabelle 1 zusammengefaßt. Tabelle 1
- Wie die Daten in Tabelle 1 zeigen, verringerten 14 Tage Inkubation bei 50ºC die Lichtempfindlichkeit von Beispiel 1 nur um den Faktor 1,7, während sie die Lichtempfindlichkeit von Vergleichsbeispiel A um den Faktor 23 und die Lichtempfindlichkeit von Vergleichsbeispiel B um den Faktor 50 verringerten. Deshalb weist die Druckplatte von Beispiel 1 eine viel bessere Lagerfähigkeit auf. Auch wenn die Platten der Vergleichsbeispiele A und B hohe Anfangslichtempfindlichkeiten aufweisen, verlieren sie schnell an Empfindlichkeit und sind deshalb unter dem Aspekt einer geeigneten Lichtempfindlichkeit weit unterlegen.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 1, hergestellt, bei welcher der aufgerauhte und anodisierte Aluminiumträger mit einer strahlungsempfindlichen Schicht, umfassend 140 mg/m² der Kupferphthalocyaninpigmentdispersion, 410 mg/m² des Bindemittels ATAP, 210 mg/m² Pentaerythrittriacrylat, 150 mg/m eines alkoxylierten Triacrylates (erhältlich von der SARTOMER CORPORATION unter der Handelsmarke SARTOMER 9008), 30 mg/m² des Bis-(2-hydroxyethylmethacrylat)esters der Phosphorsäure (erhältlich von der CHUGAI BOYEKI CORPORATION unter der Handelsmarke KAYAMER PM-2 difunktionelles Monomer), 10 mg/m² des Sensibilisators A, 10 mg/m² des Sensibilisators B, 70 mg/m² Anilindiessigsäure, 50 mg/m² Diphenyliodoniumhexafluorophosphat und 40 mg/m² Bis-(η&sup5;-2,4-cyclopentadien-1-yl)bis[2,6-difluor-3-(1Hpyrrol-1-yl)phenyl]titan (erhältlich von der CIBA-GEIGY CORPORATION unter der Handelsmarke CGI-784), beschichtet wurde. Die Druckplatte wurde dann zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von 2,2 g/m² mit einer wäßrigen Lösung von zu 98% hydrolysiertem Polyvinylalkohol beschichtet.
- Die lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet. Der Wert für die Anfangslichtempfindlichkeit, umgerechnet in Kontrollbewertungseinheiten, betrug 306, was anzeigte, daß die Platte eine hohe Lichtempfindlichkeit aufwies.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 1, hergestellt, bei welcher der aufgerauhte und anodisierte Aluminiumträger mit einer strahlungsempfindlichen Schicht, umfassend 140 mg/m² der Kupferphthalocyaninpigmentdispersion, 480 mg/m² des Bindemittels ATAP, 480 mg/m² Pentaerythrittriacrylat, 10 mg/m² des Sensibilisators A und 69 mg/m² Anilindiessigsäure, beschichtet wurde.
- Die lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet und die Anfangslichtempfindlichkeit, umgerechnet in Kontrollbewertungseinheiten, wurde zu 211 bestimmt.
- Eine lithographische Druckplatte wurde hergestellt wie in Beispiel 3, außer daß sie zusätzlich 48 mg/m² Diphenyliodoniumhexafluorophosphat enthielt. Die Werte für die Kontrollbewertungseinheiten betrugen für die Anfangslichtempfindlichkeit 272 und für die Lichtempfindlichkeit nach 14 Tagen bei 50ºC 246, was anzeigte, daß die Zugabe eines Iodoniumsalzes zu der Zusammensetzung von Beispiel 3 die Lichtempfindlichkeit wesentlich erhöhte.
- Eine lithographische Druckplatte wurde hergestellt wie in Beispiel 3, außer daß sie zusätzlich 45 mg/m² des Diazoniumsalzes 4-Diazo-3-methoxydiphenylaminhexafluorophosphat enthielt. Der Wert für die Kontrollbewertungseinheiten für die Anfangslichtempfindlichkeit wurde zu 115 bestimmt, was anzeigte, daß die Zugabe dieses Diazoniumsalzes eine bedeutende Verringerung der Lichtempfindlichkeit der Zusammensetzung von Beispiel 3 bewirkte.
- Eine lithographische Druckplatte wurde hergestellt wie in Beispiel 3, außer daß sie zusätzlich 59 mg/m² eines Gemisches aus Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat und Diphenyl[phenylthiophenyl]sulfoniumhexafluorophosphat (erhältlich von der MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY unter der Handelsmarke FX-512) enthielt. Der Wert für die Kontrollbewertungseinheiten wurde für die Anfangslichtempfindlichkeit zu 210 bestimmt, was anzeigte, daß die Zugabe dieses Sulfoniumsalzes die Lichtempfindlichkeit der Zusammensetzung von Beispiel 3 nicht erhöhte.
- Eine lithographische Druckplatte wurde hergestellt wie in Beispiel 3, außer daß sie zusätzlich 53 mg/m² 2,4,6-Tris(trichlormethyl)-s-triazin enthielt. Die Werte für die Kontrollbewertungseinheiten betrugen 249 für die Anfangslichtempfindlichkeit und 233 für die Lichtempfindlichkeit nach 14 Tagen bei 50ºC, was anzeigte, daß die Zugabe eines Triazins zu der Zusammensetzung von Beispiel 3 die Lichtempfindlichkeit wesentlich erhöhte.
- Eine lithographische Druckplatte wurde hergestellt wie in Beispiel 3, außer daß sie zusätzlich 33 mg/m² N-Methoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluoroborat enthielt. Die Werte für die Kontrollbewertungseinheiten betrugen 246 für die Anfangslichtempfindlichkeit und 209 für die Lichtempfindlichkeit nach 14 Tagen bei 50ºC, was anzeigte, daß die Zugabe eines N-Alkoxypridiniumsalzes zu der Zusammensetzung von Beispiel 3 die Lichtempfindlichkeit wesentlich erhöhte.
- Eine lithographische Druckplatte wurde hergestellt wie in Beispiel 3, außer daß sie zusätzlich 81 mg/m² 2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,5,4',5'-tetraphenyl-1,2'-bisimidazol enthielt. Die Werte für die Kontrollbewertungseinheiten betrugen 242 für die Anfangslichtempfindlichkeit und 192 für die Lichtempfindlichkeit nach 14 Tagen bei 50ºC, was anzeigte, daß die Zugabe eines Hexaarylbisimidazols zu der Zusammensetzung von Beispiel 3 die Lichtempfindlichkeit wesentlich erhöhte.
- Es wurden die nachstehend in Tabelle 2 beschriebenen Beschichtungszusammensetzungen hergestellt und auf aufgerauhte und anodisierte Aluminiumträger aufgetragen, wodurch Druckplatten hergestellt wurden. Die Druckplatten wurden in dergleichen Art und Weise, wie in Beispiel 1 beschrieben, belichtet, entwickelt und bewertet. Tabelle 2
- (1) Dispersion, die das Bindemittel ATAP und 20 Gew.-% Kupferphthalocyanin enthielt
- (2) 10 gew.-%ige Lösung des Bindemittels ATAP in 1-Methoxy-2 propanol
- Für alle Druckplatten wurden die optischen Dichten des Bildes des Stufentabletts in Kontrollbewertungseinheiten umgerechnet und die erhaltenen Ergebnisse sind nachstehend in Tabelle 3 zusammengefaßt. Tabelle 3
- Die in Tabelle 3 angeführten Ergebnisse zeigen an, daß Ethyleosin, ein Xanthenfarbstoff, in der vorliegenden Erfindung als Sensibilisator wirksam ist. In Beispiel 8 wurde Anilindiessigsäure als erster Coinitiator und Diphenyliodoniumhexafluorophosphat wurde als zweiter Coinitiator verwendet und es wurden sowohl eine hohe Lichtempfindlichkeit als auch eine gute Lagerfähigkeit erhalten. Beispiel 9 unterschied sich von Beispiel 8 dadurch, daß das Diphenyliodoniumhexafluorophosphat weggelassen wurde und dadurch die Lichtempfindlichkeit wesentlich geringer war. Vergleichsbeispiel E unterschied sich von Beispiel 8 dadurch, daß die Anilindiessigsäure weggelassen wurde und dadurch sowohl die Lichtempfindlichkeit als auch die Lagerfähigkeit wesentlich geringer waren. Vergleichsbeispiel F unterschied sich von Beispiel 8 dadurch, daß der Sensibilisator weggelassen wurde, mit dem Ergebnis, daß unter den verwendeten Belichtungsbedingungen kein Bild erhalten wurde.
- Die Daten in Tabelle 3 zeigen an, daß sowohl Anilindiessigsäure als auch Diphenyliodoniumhexafluorophosphat bei der Erfüllung der Doppelforderung nach hoher Lichtempfindlichkeit und guter Lagerstabilität recht wirksam sind, daß aber viel bessere Ergebnisse erzielt werden, wenn sie, wie in Beispiel 8, in Kombination verwendet werden.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 1, hergestellt, bei welcher der aufgerauhte und anodisierte Aluminiumträger mit einer strahlungsempfindlichen Schicht, umfassend 140 mg/m² der Kupferphthalocyaninpigmentdispersion, 410 mg/m² des Bindemittels ATAP, 325 mg/m² Pentaerythrittriacrylat, lau mg/m² eines alkoxylierten Triacrylates (erhältlich von der SARTOMER CORPORATION unter der Handelsmarke SARTOMER 9008), 25 mg/m² des Bis-(2-hydroxyethylmethacrylat)esters der Phosphorsäure (erhältlich von der CHUGAI BOYEKI CORPORATION unter der Handelsmarke KAYAMER PM-2 difunktionelles Monomer), 10 mg/m² des Sensibilisators A, 33 mg/m² N-Methoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluoroborat, 70 mg/m² Anilindiessigsäure und 40 mg/m² Bis-(η&sup5;-2,4-cyclopentadien-1-yl)bis[2,6-difluor-3-(1H-pyrrol-1-yl)phenyl]titan, beschichtet wurde. Die Druckplatte wurde dann zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von 2,2 g/m² mit einer wäßrigen Lösung von zu 98% hydrolysiertem Polyvinylalkohol beschichtet.
- Die lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet. Für jede Probe der Druckplatte wurden die optischen Dichten des Bildes des Stufentabletts in Kontrollbewertungseinheiten umgerechnet und die erhaltenen Ergebnisse sind nachstehend in Tabelle 4 zusammengefaßt. Tabelle 4
- Die in Tabelle 4 angeführten Ergebnisse zeigen an, daß die Formulierung von Beispiel 10 sowohl eine hohe Lichtempfindlichkeit als auch eine hohe Lagerfähigkeit bereitstellt.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 10, hergestellt, bei welcher die 33 mg/m² N-Methoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluoroborat durch 36 mg/m² 1-Methoxy-3-(methoxycarbonyl)pyridiniumhexafluorophosphat ersetzt wurden. Der Wert für die Kontrollbewertungseinheiten betrug 271 für die Anfangslichtempfindlichkeit.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 10, hergestellt, bei welcher die 33 mg/m² N-Methoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluoroborat durch 46 mg/m² 1-Methoxy-3-(2-phenyl-1-ethoxycarbonyl)pyridiniumhexafluorophosphat ersetzt wurden. Der Wert für die Kontrollbewertungseinheiten betrug 278 für die Anfangslichtempfindlichkeit.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 10, hergestellt, bei welcher die 33 mg/m² N-Methoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluoroborat durch 36 mg/m² 1-Methoxy-4-cyanopyridiniumtetrafluoroborat ersetzt wurden. Der Wert für die Kontrollbewertungseinheiten betrug 298 für die Anfangslichtempfindlichkeit.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 10, hergestellt, bei welcher die 33 mg/m² N-Methoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluoroborat durch 30 mg/m² 1-Methoxypyridiniumhexafluorophosphat ersetzt wurden. Der Wert für die Kontrollbewertungseinheiten betrug 299 für die Anfangslichtempfindlichkeit.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 2, hergestellt, bei welcher die 70 mg/m² Anilindiessigsäure durch 70 mg/m² 2-[(Carboxymethyl)methylamino]benzoesäure ersetzt wurden.
- Die lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet. Die Werte für die Anfangslichtempfindlichkeit und die Lichtempfindlichkeit nach 14 Tagen bei 50ºC, umgerechnet in Kontrollbewertungseinheiten, betrugen 281 bzw. 283, was anzeigte, daß die Platte sowohl eine hohe Lichtempfindlichkeit als auch eine gute Lagerfähigkeit aufwies.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der Zusammensetzung 1 von Beispiel 1, hergestellt, bei welcher die 0,31 Gewichtsteile Anilindiessigsäure durch eine äquimolare Menge p-Chlorphenyliminodiessigsäure ersetzt wurden.
- Die lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel I beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet. Der Wert für die Anfangslichtempfindlichkeit, umgerechnet in Kontrollbewertungseinheiten, betrug 268.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der von Beispiel 2, hergestellt, bei welcher die 50 mg/m² Diphenyliodoniumhexafluorophosphat durch 70 mg/m² 4-(Octyloxyphenyl)phenyliodoniumtosylat ersetzt wurden.
- Die lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet. Die Werte für die Anfangslichtempfindlichkeit und die Lichtempfindlichkeit nach 14 Tagen bei 50ºC, umgerechnet in Kontrollbewertungseinheiten, betrugen 309 bzw. 287, was anzeigte, daß die Platte sowohl eine hohe Lichtempfindlichkeit als auch eine gute Lagerfähigkeit aufwies.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte, ähnlich der Zusammensetzung 1 von Beispiel 1, hergestellt, bei welcher das Pentaerythrittriacrylat durch eine gleiche Menge des Produktes aus der Umsetzung von Hexamethylendiisocyanat mit zwei Äquivalenten 2-Hydroxyethylmethacrylat ersetzt wurde.
- Die lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet. Der Wert für die Anfangslichtempfindlichkeit, umgerechnet in Kontrollbewertungseinheiten, betrug 301.
- Es wurde eine lithographische Druckplatte wie in Beispiel 3 hergestellt, außer daß sie zusätzlich 70 mg/m² Tetramethylammonium-n-butyltriphenylborat und 50 mg/m² 2-(1- Naphthalenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-1,3,5-triazin enthielt. Der Wert für die Kontrollbewertungseinheiten betrug 249 für die Anfangslichtempfindlichkeit und 173 für die Lichtempfindlichkeit nach 7 Tagen Inkubation bei 50ºC.
- Es wurden lithographische Druckplatten, ähnlich der von Beispiel 1 hergestellt, bei welchen die aufgerauten und anodisierten Aluminiumträger zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von etwa 1,1 g/m² mit den nachstehend in Tabelle 5 beschriebenen strahlungsempfindlichen Formulierungen beschichtet wurden. Jede Platte wurde auch zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von 2,2 g/m² mit einer wäßrigen Lösung von zu 98% hydrolysiertem Polyvinylalkohol beschichtet. Tabelle 5
- Die Kontrollformulierung A enthielt keinen Coinitiator, für die formulierung B war Resorcinol-O,O'-diessigsäure der Coinitiator, für die Formulierung C war 4-Methylcatechin-O,O'-diessigsäure der Coinitiator und für die Formulierung D war 2-(Carboxymethylthio)benzoesäure der Coinitiator.
- Jede lithographische Druckplatte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Art und Weise belichtet, entwickelt und bewertet. Der Wert für die Anfangslichtempfindlichkeiten, umgerechnet in Kontrollbewertungseinheiten, ist nachstehend in der Tabelle aufgeführt.
- Die vorstehenden Ergebnisse zeigen, daß die Beschichtungen mit dem zugegebenen Coinitiator höhere Lichtempfindlichkeiten aufweisen als die Vergleichsbeschichtung A, die keinerlei Coinitiator enthielt.
Claims (18)
1. Initiatorsystem für die Photopolymerisation, umfassend
(A) einen Spektralsensibilisator, der für den ultravioletten oder sichtbaren Bereich des
Spektrums sensibilisiert, und
(B) einen Polycarbonsäure-Coinitiator, wobei der Polycarbonsäure-Coinitiator eine
aromatische Einheit, die mit einem Heteroatom, ausgewählt aus Stickstoff, Sauerstoff und
Schwefel, substituiert ist, und mindestens zwei Carboxylgruppen, wobei mindestens eine
der Carboxylgruppen mit dem Heteroatom verknüpft ist, umfaßt, mit der Maßgabe, daß der
Sensibilisator kein Triazoliumsalz der Formel I
ist, wobei
R&sub1; ein Wasserstoffatom oder eine Sulfogruppe, welche gegebenenfalls in Form eines
Anions vorliegt, ist,
R&sub2; ein Alkyl-, Aralkyl- oder Arylrest, einschließlich substituierter Arylreste, ist,
R&sub3; und R&sub4;
gleiche oder verschiedene Substituenten sind und Wasserstoffatome, Alkylreste,
Alkoxyreste, Arylreste, Styrylgruppen, Halogenatome, -CN, -CF&sub3;, -NO&sub2;, -SO&sub3;H, oder
heterocyclische Reste sind, oder
R&sub3; und R&sub4;
zusammen einen Benzolring bilden und
X ein Anion ist, wobei auf ein extra Anion verzichtet werden kann, wenn R&sub1;, R&sub3; oder R&sub4;
in anionischer Form vorliegen oder einen anionischen Rest enthalten, so daß ein
intramolekulares Salz vorliegt.
2. Initiatorsystem für die Photopolymerisation, umfassend
(A) einen Spektralsensibilisator, wie er in Anspruch 1 definiert ist, der für den
ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, und
(B) einen Polycarbonsäure-Coinitiator, wobei der Polycarbonsäure-Coinitiator eine
aromatische Einheit, die mit einem Heteroatom, ausgewählt aus Stickstoff, Sauerstoff und
Schwefel, substituiert ist, und mindestens zwei Carboxylgruppen, wobei mindestens eine
der Carboxylgruppen mit dem Heteroatom verknüpft ist, umfaßt, und zusätzlich einen
zweiten Coinitiator, der aus Iodoniumsalzen, Titanocenen, halogenalkyl-substituierten
s-Triazinen, Hexaarylbisimidazolen, Alkyltriarylboratsalzen und Photooxidantien, die ein
heterocyclisches Stickstoffatom, das entweder durch einen Alkoxyrest oder einen Acyloxyrest
substituiert ist, enthalten, ausgewählt ist.
3. Initiatorsystem für die Photopolymerisation gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der
Spektralsensibilisator ein Cumann, Fluorescein, Fluoron, Xanthen, Merocyanin,
Thioxanthon oder Isoalloxazin ist.
4. Initiatorsystem für die Photopolymerisation gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der
Spektralsensibilisator ein 3-Ketocumarin ist.
5. Initiatorsystem für die Photopolymerisation, umfassend
(A) einen Spektralsensibilisator, wie er in einem der Ansprüche 1 bis 4 definiert ist, und
(B) einen Polycarbonsäure-Coinitiator der Formel
wobei Ar ein substituierter oder unsubstituierter Arylrest ist und n eine ganze Zahl mit
einem Wert von 1 bis 5 ist.
6. Initiatorsystem für die Photopolymerisation gemäß Anspruch 5, wobei der
Polycarbonsäure-Coinitiator die Formel
aufweist, wobei Q¹ und Q² unabhängig voneinander Wasserstoff- oder Halogenatome sind.
7. Initiatorsystem für die Photopolymerisation, umfassend
(A) einen Spektralsensibilisator, wie er in einem der Ansprüche 1 bis 4 definiert ist, und
(B) einen Polycarbonsäure-Coinitiator der Formel
wobei n eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist, m eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist und R ein
Wasserstoffatom oder ein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist.
8. Initiatorsystem für die Photopolymerisation gemäß einem der Ansprüche 5 bis 7,
zusätzlich umfassend einen zweiten Coinitiator, der aus Iodoniumsalzen, Titanocenen,
halogenalkyl-substituierten s-Triazinen, Hexaarylbisimidazolen. Alkyltriarylboratsalzen
und Photooxidantien, die ein heterocyclisches Stickstoffatom enthalten, das entweder durch
einen Alkoxyrest oder einen Acyloxyrest substituiert ist, ausgewählt ist.
9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, umfassend
(1) mindestens eine additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung und
(2) ein Initiatorsystem für die Photopolymerisation, umfassend
(A) einen Spektralsensibilisator, wie er in Anspruch 1 definiert ist, der für den
ultravioletten oder sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert, und
(B) einen Polycarbonsäure-Coinitiator, wobei der Polycarbonsäure-Coinitiator eine
aromatische Einheit, die mit einem Heteroatom, ausgewählt aus Stickstoff, Sauerstoff und
Schwefel, substituiert ist, und mindestens zwei Carboxylgruppen, wobei mindestens eine
der Carboxylgruppen mit dem Heteroatom verknüpft ist, umfaßt.
10. Photopolymerisierbare Zusammensetzung gemäß Anspruch 9, wobei der
Polycarbonsäure-Coinitiator wie in einem der Ansprüche 5 bis 7 definiert ist.
11. Photopolymerisierbare Zusammensetzung gemäß Anspruch 9, wobei der
Polycarbonsäure-Coinitiator Anilindiessigsäure ist.
12. Photopolymerisierbare Zusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 9 bis 11,
wobei das Initiatorsystem für die Photopolymerisation zusätzlich einen zweiten Coinitiator,
wie er in Anspruch 8 definiert ist, umfaßt.
13. Photopolymerisierbare Zusammensetzung gemäß Anspruch 12, wobei der zweite
Coinitiator ein Iodoniumsalz oder ein N-Alkoxypyridiniumsalz ist.
14. Photopolymerisierbare Zusammensetzung gemäß Anspruch 13, wobei die mindestens
eine additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung Pentaerythrittriacrylat
ist, der Sensibilisator ein 3-Ketocumarin der Formel
ist, der Polycarbonsäure-Coinitiator Anilindiessigsäure ist und der zweite Coinitiator
Diphenyliodoniumhexafluorphosphat oder N-Methoxy-4-phenylpyridiniumtetrafluorborat ist.
15. Lithographische Druckplatte, umfassend einen Träger mit einer
strahlungsempfindlichen Schicht darauf, welche eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, wie sie in
einem der Ansprüche 9 bis 14 definiert ist, umfaßt.
16. Lithographische Druckplatte gemäß Anspruch 15, wobei die strahlungsempfindliche
Schicht zusätzlich ein filmbildendes Polymerbindemittel umfaßt.
17. Lithographische Druckplatte gemäß Anspruch 15 oder 16, wobei der Träger aus
körniggemachtem und anodisch behandeltem Aluminium besteht.
18. Verfahren zur Erzeugung einer lithographischen Druckfläche, umfassend die Schritte:
(I) Bereitstellen einer lithographischen Druckplatte, wie sie in einem der Ansprüche 15
bis 17 definiert ist,
(II) bildweise Belichtung der strahlungsempfindlichen Schicht mit einem Laser, der
ultraviolettes oder sichtbares Licht emittiert, und
(III) Entwickeln der bildweise belichteten lithographischen Druckplatte, um die
unbelichteten Bereiche der strahlungsempfindlichen Schicht zu entfernen und den
darunterliegenden Träger offenzulegen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/395,352 US5629354A (en) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69612687D1 DE69612687D1 (de) | 2001-06-13 |
DE69612687T2 true DE69612687T2 (de) | 2001-10-31 |
Family
ID=23562681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69612687T Expired - Fee Related DE69612687T2 (de) | 1995-02-28 | 1996-02-26 | Sensibilisierte fotopolymerisierbare Zusammensetzungen und ihre Verwendung in lithographischen Druckplatten |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5629354A (de) |
EP (1) | EP0730201B1 (de) |
JP (1) | JP3647960B2 (de) |
DE (1) | DE69612687T2 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN115697708A (zh) | 2020-06-24 | 2023-02-03 | 爱克发胶印有限公司 | 平版印刷版前体 |
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EP3960455A1 (de) | 2020-08-31 | 2022-03-02 | Agfa Offset Bv | Lithografiedruckplattenvorläufer |
WO2022073849A1 (en) | 2020-10-09 | 2022-04-14 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
EP4035897A1 (de) | 2021-01-28 | 2022-08-03 | Agfa Offset Bv | Lithografiedruckplattenvorläufer |
EP4129682A1 (de) | 2021-08-05 | 2023-02-08 | Agfa Offset Bv | Lithografiedruckplattenvorläufer |
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EP4223534A1 (de) | 2022-02-07 | 2023-08-09 | Agfa Offset Bv | Lithografiedruckplattenvorläufer |
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---|---|---|---|---|
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-
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- 1995-02-28 US US08/395,352 patent/US5629354A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-02-26 DE DE69612687T patent/DE69612687T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-26 EP EP96200485A patent/EP0730201B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-28 JP JP04163096A patent/JP3647960B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-19 US US08/752,342 patent/US5942372A/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-08-14 US US08/911,288 patent/US5914215A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0730201B1 (de) | 2001-05-09 |
US5914215A (en) | 1999-06-22 |
JP3647960B2 (ja) | 2005-05-18 |
US5942372A (en) | 1999-08-24 |
DE69612687D1 (de) | 2001-06-13 |
US5629354A (en) | 1997-05-13 |
EP0730201A1 (de) | 1996-09-04 |
JPH08254821A (ja) | 1996-10-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |