DE10103964A1 - Lichtempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes unter Verwendung dieser Zusammensetzung - Google Patents
Lichtempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes unter Verwendung dieser ZusammensetzungInfo
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Abstract
Es wird eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die (A) ein Polymer mit einer Phenyl-Gruppe, das durch eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers substituiert ist, (B) einen Photopolymerisationsinitiator und (C) einen Sensibilisator, der den Photopolymerisationsinitiator sensibilisiert umfaßt, oder eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die (A') ein Polymer, (D) ein Monomer mit zumindest zwei Phenyl-Gruppen, von denen jede durch eine Vinyl-Gruppe im Molekül des Monomers substituiert ist, (B) einen Photopolymerisationsinitiator und (C) einen Sensibilisator umfaßt, der den Photopolymerisationsinitiator sensibilisiert, und ein Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes, umfassend das Schichten der lichtempfindlichen Zusammensetzung auf einen Träger, Belichten der Zusammensetzung durch Belichtung oder Abtastbelichtung und Entwickeln dieser unter Bildung eines Relief-Bildes auf dem Träger offenbart.
Description
Diese Erfindung betrifft eine lichtempfindliche
Zusammensetzung und ein Verfahren zur Bildung eines Relief-
Bildes unter Verwendung der lichtempfindlichen
Zusammensetzung. Mehr spezifisch betrifft sie eine
lichtempfindliche Zusammensetzung, die zur Bildung eines
Bildes unter Verwendung einer Abtastbelichtungseinheit wie
Laser, etc. fähig ist. Ebenso betrifft sie eine
lichtempfindliche Zusammensetzung, die zur Bildung einer
lithographischen Druckplatte geeignet ist, einen Resist zur
Bildung einer gedruckten Schaltung, eines Farbfilters oder
eines Phosphor-Musters.
In einer lichtempfindlichen Zusammensetzung verursacht die
molekulare Struktur chemische Änderungen durch eine
Photoreaktion, und als Ergebnis treten Änderungen bei den
physikalischen Eigenschaften auf. Im Hinblick auf die
chemischen Änderungen aufgrund von Licht gibt es Vernetzung,
Polymerisation, Zersetzung, Depolymerisation, Austausch der
funktionellen Gruppe, etc., wodurch verschiedene Änderungen
wie Änderungen in der Löslichkeit, Adhäsionseigenschaft,
Refraktionsindex, Substanzpermeabilität, Phasentransfer, etc.
auftreten. Eine solche lichtempfindliche Zusammensetzung wird
praktisch auf verschiedenen Gebieten einschließlich einer
Druckplatte, Resist, Farbe, Beschichtungsmittel, Farbfilter,
etc. verwendet. Darüber hinaus wird sie auf dem Gebiet eines
Photoresists unter Anwendung eines photomechanischen
Verfahrens (Photolithographie) verwendet und entwickelt. Der
Photoresist ist eine Technik unter Anwendung der
Löslichkeitsänderung durch Photoreaktion, und eine genaue
Materialkonstruktion ist aufgrund des Erfordernisses der
hohen Auflösung immer mehr erwünscht.
Eine im großen Umfang verwendete Art von lithographischen
Druckplatten weist einen lichtempfindlichen Beschichtungsfilm
auf, der auf einem Aluminium-Träger geschichtet ist. Dieser
Beschichtungsfilm härtet durch Belichtung mit Licht, und der
nicht-belichtete Bereich wird durch eine
Entwicklungsbehandlung aufgelöst. Diese Art Platte wird als
negative Druckplatte bezeichnet. Eine lithographische
Druckplatte wendet Oberflächeneigenschaften eines Musters an,
das auf der Oberfläche der lithographischen Druckplatte und
einem Hintergrundbereich mit lipophiler Eigenschaft bzw.
hydrophiler Eigenschaft gebildet ist. Bei der Durchführung
des lithographischen Drucks werden Tinte und Dämpfungswasser
gleichzeitig auf die Druckoberfläche einer Druckpresse
aufgetragen, und die Tinte wird auf das Muster mit lipophiler
Eigenschaft selektiv übertragen. Die auf das Muster
übertragene Tinte wird dann auf ein Zwischenmaterial,
Drucktuch genannt, und weiterhin auf ein Druckpapier
übertragen, wodurch ein Druck ausgeführt wird.
Viele Forschungen wurden im Hinblick auf lichtempfindliche
Zusammensetzungen zur Bildung eines Relief-Bildes unter
Anwendung der Löslichkeit bei der oben erwähnten
Photoreaktion konventionell durchgeführt, und praktisch
anwendbare Materialien wurden erhalten. Z. B. wird in den
japanischen Patentveröffentlichungen 34041/1974 und
105353/1994 und dem US-Patent 5 153 095, etc. eine
lichtempfindliche Zusammensetzung beschrieben, die
hauptsächlich ein Polymer mit einer ethylenisch ungesättigten
Bindung an der Seitenkette, ein Vernetzungsmittel und einen
Photopolymerisationsinitiator enthält. Eine solche
Zusammensetzung hat eine lichtempfindliche Eigenschaft für
Licht mit einer kurzen Wellenlänge hauptsächlich im Bereich
der UV-Strahlen von 400 nm oder weniger.
Auf der anderen Seite ist es in den letzten Jahren erwünscht,
ein lichtempfindliches Material mit hoher Empfindlichkeit für
sichtbare Strahlen zusammen mit dem Fortschritt der
Bildformtechnik zu entwickeln. Z. B. wurden Forschungen bei
einem lichtempfindlichen Material und einer
lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte durchgeführt,
die einer Ausstoßmaschine entspricht, wobei ein Argon-Laser,
Heliumneon-Laser, Rotfarbe LED, etc., verwendet wurde.
Darüber hinaus kann im Zusammenhang mit dem beachtlichen
Fortschritt der Halbleiter-Laser eine nahe Infrarot-
Laserlichtquelle mit 700 bis 1300 nm leicht verwendet werden,
wobei ein lichtempfindliches Material und eine
lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die dem
Laserlicht entspricht, Aufmerksamkeit erregt haben.
Als photopolymerisierbare Zusammensetzung mit einer
lichtempfindlichen Eigenschaft bei den erwähnten sichtbaren
Strahlen bis zu den nahen Infrarotstrahlen werden eine
lithographische Druckplatte mit einer radikalisch
polymerisierbaren Verbindung mit einer ethylenisch
ungesättigten Bindung, einem photosensibilisierenden
Farbstoff mit einem Absorptionspeak bei 400 bis 500 nm und
einem Polymerisationsinitiator in der japanischen vorläufigen
Patentveröffentlichung 134007/1997; eine Kombination aus
einem organischen Bor-Anion und einem Farbstoff in den
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen 143044/1987,
150242/1987, 5988/1993, 194619/1993, 197069/1997 und
2000-98603; eine Kombination aus einem Farbstoff und einer
s-Triazin-Verbindung in den vorläufigen japanischen
Patentveröffentlichungen 31863/1992 und 43633/1994; eine
Kombination aus einem Resolharz, einem Novolackharz, einem
Infrarotstrahlenabsorber und einem Photosäuren-Erzeuger in
den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen
20629/1995 und 271029/1995; und eine Kombination aus einem
spezifischen Polymer, einem Photosäuren-Erzeuger und einem
nahen Infrarot-sensibilisierenden Farbstoff in den
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen 212252/1999
und 231535/1999 beschrieben.
Jedoch ist es bei den erwähnten polymerisierbaren
Zusammensetzungen unter Verwendung des
Photopolymerisationsinitiators oder des Photosäure-Generators
schwierig, eine ausreichend hohe Lichtempfindlichkeit im
Bereich der sichtbaren Strahlen des nahen Infrarots zu
schaffen, und die Lichtempfindlichkeit war insbesondere für
die Anwendung bei der Abtastbelichtung unter Verwendung von
verschiedenen Arten von Laserstrahlen unzureichend.
Bei den erwähnten polymerisierbaren Zusammensetzungen gibt es
weiterhin das Problem, daß sich ein latentes Bild nach der
Belichtung zurückbildet. D. h., ein Bereich, der belichtet
ist, bildet nach der Entwicklung ein Bild. Jedoch gibt es in
Abhängigkeit von der Zeit von der Belichtung bis zur
Entwicklungsbehandlung das Problem, daß ein Bild nicht
ausreichend gebildet werden kann, d. h. die Schleierbildung
eines latenten Bildes. Dieses Phänomen tritt zwischen
mehreren 10 min und mehreren Stunden nach der Belichtung in
Abhängigkeit von der Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingung
ebenso wie von der Belichtungsdosis, etc. auf.
Bei den oben erwähnten lichtempfindlichen Zusammensetzungen
gibt es weiterhin das Problem, daß es schwierig ist, die
Stabilität und langdauernde Konservierungsfähigkeit der
Empfindlichkeit, etc. sicherzustellen. Somit wurde im
allgemeinen durchgeführt, eine Überschicht mit
Polyvinylalkohol, etc. auf der lichtempfindlichen Schicht
vorzusehen, um die Sauerstoff-Sperreigenschaft zu erhöhen und
um Mängel an der Oberfläche des Materials zu verhindern. Je
nach Vorhandensein einer derartigen Überschicht gibt es
Probleme im Hinblick auf die Erniedrigung der Bildqualität
aufgrund der Lichtstreuung bei der Laserstrahlbelichtung, was
einen Vorwaschschritt zur Entfernung der Überschicht vor der
Alkali-Entwicklung und einen Schritt der weiteren
Beschichtung einer Überschicht nach der Beschichtung der
lichtempfindlichen Schicht zur Herstellung des Materials
erforderlich macht. Bei der Polymerisation unter Verwendung
eines Photopolymerisationsinitiators oder eines Photosäure-
Erzeugers läuft weiterhin die Polymerisation nicht
ausreichend nur durch Belichtung mit Licht in vielen Fällen
ab, so daß es notwendig ist, eine Wärmebehandlung nach der
Belichtung oder eine Entwicklungsbehandlung durchzuführen, um
die Polymerisation zu fördern und zu vollenden. Insbesondere
bei einem Material für eine lichtempfindliche lithographische
Druckplatte, das eine lichtempfindliche Eigenschaft bei dem
Wellenlängenbereich von sichtbaren Strahlen bis zu Infrarot-
Strahlen erhalten soll, ist eine Wärmebehandlung ein
wichtiger Herstellungsschritt. Jedoch bedeutet die
Wärmebehandlung nicht nur die Erniedrigung der
Produktionseffizienz sondern enthält ebenfalls einen Faktor,
der die Produktqualität instabil macht. Z. B. ist es
schwierig, den Unterschied der Löslichkeit zwischen dem
belichteten Bereich/unbelichteten Bereich konstant zu halten.
Wenn somit eine unzureichende Erwärmung durchgeführt wird,
gibt es das Problem, daß der belichtete Bereich ebenfalls
durch einen Entwickler aufgelöst wird, oder daß bei einer zu
hohen Erwärmungstemperatur das Problem auftritt, daß der
nicht-belichtete Bereich teilweise unlöslich gemacht wird,
wodurch die Entwicklung nicht ausreichend durchgeführt werden
kann.
Ein Ziel dieser Erfindung liegt darin, eine lichtempfindliche
Zusammensetzung mit hoher Empfindlichkeit anzugeben,
insbesondere eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit
ausreichend hoher Empfindlichkeit in einem breiten Bereich
von sichtbaren Strahlen bis zu Ultraviolettstrahlen
anzugeben. Ein anderes Ziel dieser Erfindung liegt darin,
eine lichtempfindliche Zusammensetzung anzugeben, mit der
eine Abtastbelichtung ohne Wärmebehandlung durchgeführt
werden kann. Ein weiteres Ziel dieser Erfindung liegt darin,
eine lichtempfindliche Zusammensetzung anzugeben, die kein
Verblassen eines latenten Bildes verursacht. Ein noch
weiteres Ziel dieser Erfindung liegt darin, ein Verfahren zur
Bildung eines Relief-Bildes unter Verwendung der erwähnten
lichtempfindlichen Zusammensetzungen anzugeben.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung und das Verfahren zur
Bildung eines Relief-Bildes, die Ziele dieser Erfindung sind,
sind zur Bildung einer lithographischen Druckplatte, eines
Resists zur Bildung einer gedruckten Schaltung, eines
Farbfilters oder eines Phosphormusters geeignet. Insbesondere
kann die lichtempfindliche Zusammensetzung dieser Erfindung
bevorzugt für eine lithographische Druckplatte mit hoher
Empfindlichkeit angewandt werden, die für die Durchführung
einer Abtastbelichtung unter Verwendung beispielsweise eines
nahen Infrarot-Lasers, etc. geeignet ist.
Die erwähnten Ziele dieser Erfindung können unter Verwendung
folgenden lichtempfindlichen Zusammensetzungen vollendet
werden.
- 1. Lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend (A) ein Polymer mit einer Phenyl-Gruppe, das durch eine Vinyl-Gruppe an einer Seitenkette des Polymers substituiert ist, (B) einen Photopolymerisationsinitiator und (C) einen Sensibilisator, der den Photopolymerisationsinitiator sensibilisiert.
- 2. Lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassen (D) ein Monomer mit zumindest zwei Phenyl-Gruppen, die jeweils durch eine Vinyl-Gruppe in dem Molekül des Monomers substituiert sind, (A') ein Polymer, (B) einen Photopolymerisationsinitiator und (C) einen Sensibilisator, der den Photopolymerisationsinitiator sensibilisiert.
- 3. Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes, umfassend die Beschichtung der lichtempfindlichen Zusammensetzung (1) oder (2) wie oben erwähnt auf einem Träger, Belichten der Zusammensetzung durch Belichtung und Entwicklung dieser unter Bildung eines Relief-Bildes auf dem Träger.
Nachfolgend werden die Merkmale dieser Erfindung detailliert
erläutert. Das Polymer mit einer Phenyl-Gruppe, die durch
eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers
substituiert ist, das erfindungsgemäß verwendet wird, ist ein
Polymer, bei dem die Phenyl-Gruppe an eine Hauptkette des
Polymers direkt oder durch eine Bindungsgruppe gebunden ist.
Die Bindungsgruppe ist nicht besonders beschränkt und kann
eine oder mehrere wahlweise Gruppen, Atome oder Komplexgruppe
der Gruppen und der Atome enthalten. Die Phenyl-Gruppe kann
durch eine oder mehrere substituierbare Gruppen oder Atome
substituiert sein, und die Vinyl-Gruppe kann durch zumindest
eines substituiert sein, ausgewählt aus einem Halogenatom,
einer Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe, Nitro-Gruppe, Cyano-
Gruppe, Amid-Gruppe, Amino-Gruppe, Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe,
Alkoxy-Gruppe und Aryloxy-Gruppe. Als oben erwähntes Polymer
mit einer Phenyl-Gruppe, die durch eine Vinyl-Gruppe an einer
Seitenkette des Polymers substituiert ist, können spezifisch
solche mit einer Gruppe mit der folgenden Formel (I) an der
Seitenkette des Polymers erwähnt werden:
worin Z1 eine Bindegruppe, R1, R2 und R3 jeweils ein
Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Carboxy-Gruppe, Sulfo-
Gruppe, Nitro-Gruppe, Cyano-Gruppe, Amid-Gruppe, Amino-
Gruppe, Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkoxy-Gruppe oder
Aryloxy-Gruppe, die jeweils durch zumindest eine von einer
Alkyl-Gruppe, Amino-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe,
Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe und Hydroxy-Gruppe substituiert
sein können; R4 eine substituierbare Gruppe oder Atom, n 0
oder 1, m1 eine ganze Zahl von 0 bis 4 und k1 eine ganze Zahl
von 1 bis 4 sind.
Die Gruppe mit der Formel (I) wird detailliert erläutert. Als
Bindegruppe Z1 können ein Sauerstoffatom, Schwefelatom,
Alkylen-Gruppe, Alkenylen-Gruppe, Arylen-Gruppe, -N(R5)-,
-C(O)-O-, -C(R6)=N-, -C(O)-, Sulfonyl-Gruppe, heterocyclische
Gruppe und eine Gruppe mit der folgenden Formel (III) erwähnt
werden, die alleine oder in Form einer komplexen Gruppe von
zwei oder mehreren der genannten vorliegen können. Hierin
bedeuten R5 und R6 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-
Gruppe oder Aryl-Gruppe. Darüber hinaus können an die
erwähnten Bindegruppen zumindest eine aus einer Alkyl-Gruppe,
Aryl-Gruppe und einem Halogenatom substituiert sein.
Als erwähnte heterocyclische Gruppe können z. B. ein
stickstoffhaltiger heterocyclischer Ring wie Pyrrol-Ring,
Pyrazol-Ring, Imidazol-Ring, Triazol-Ring, Tetrazol-Ring,
Isoxazol-Ring, Oxazol-Ring, Oxadiazol-Ring, Isothiazol-Ring,
Thiazol-Ring, Thiadiazol-Ring, Thiatriazol-Ring, Indol-Ring,
Indazol-Ring, Benzimidazol-Ring, Benzotriazol-Ring,
Benzoxazol-Ring, Benzothiazol-Ring, Benzoselenazol-Ring,
Benzothiadiazol-Ring, Pyridin-Ring, Pyridazin-Ring,
Pyrimidin-Ring, Pyrazin-Ring, Triazin-Ring, Chinolin-Ring und
Chinoxalin-Ring; und ein Furan-Ring und Thiophen-Ring erwähnt
werden, die jeweils durch zumindest einen Substituenten
substituiert sein können.
Beispiele der Gruppe mit der Formel (I) werden nachfolgend
erläutert, aber diese Erfindung ist durch diese Beispiele
nicht beschränkt.
In der Gruppe mit der Formel (I) gibt es bevorzugte Gruppen.
D. h. die Gruppe, worin R1 und R2 jeweils Wasserstoffatome
sind, R3 ein Wasserstoffatom oder eine Niedrigalkyl-Gruppe
mit 4 oder weniger Kohlenstoffatomen ist, wie eine Methyl-
Gruppe, Ethyl-Gruppe, etc. ist bevorzugt. Darüber hinaus sind
solche mit einer heterocyclischen Gruppe als Bindegruppe Z1
bevorzugt und k1 ist bevorzugt 1 oder 2.
Es ist bevorzugt, daß das Polymer mit der Gruppe, die durch
das oben erwähnte Beispiele gezeigt ist, eine Löslichkeit in
einer wäßrigen alkalischen Lösung aufweist, und insbesondere
bevorzugt ist es ein Polymer mit einem Monomer mit einer
Carboxyl-Gruppe als copolymerisierbare Komponente. In diesem
Fall ist es bevorzugt, daß das Verhältnis der Gruppe mit der
Formel (I) in der Copolymerzusammensetzung 1 bis 95 Gew.-%,
mehr bevorzugt 5 bis 80 Gew.-% ist, bezogen auf das
Gesamtgewicht des Copolymers. Wenn die Menge der Gruppe mit
der Formel (I) weniger als 1 Gew.-% ist, kann die Wirkung zur
Einfügung der Gruppe in einigen Fällen nicht entfaltet
werden, während dann, wenn sie 95 Gew.-% übersteigt, das
Copolymer sich in manchen Fällen nicht in einer wäßrigen
alkalischen Lösung auflöst. Darüber hinaus ist es bevorzugt,
daß das Monomer mit einer Carboxyl-Gruppe in dem Copolymer in
einer Menge von 5 bis 99 Gew.-% vorhanden ist, bezogen auf
das Gesamtgewicht des Copolymers. Wenn die Menge des Monomers
weniger als 1 Gew.-% ist, löst sich das Copolymer in einigen
Fällen nicht in einer wäßrigen alkalischen Lösung auf.
Als Monomer mit einer Carboxyl-Gruppe können z. B. Acrylsäure,
Methacrylsäure, 2-Carboxyethylacrylat,
2-Carboxyethylmethacrylat, Crotonsäure, Maleinsäure,
Fumarsäure, Monoalkylmaleat, Monoalkylfumarat,
4-Carboxystyrol, etc. erwähnt werden.
Es ist ebenfalls möglich, ein Copolymer durch Einfügen eines
anderen Monomers als das Monomer mit einer Carboxyl-Gruppe in
das Copolymer herzustellen unter Bildung eines
Multikomponenten-Copolymers. Als solches Monomer, das in das
Copolymer eingefügt wird, können z. B. erwähnt werden: ein
Styrol-Derivat wie Styrol, 4-Methylstyrol, 4-Hydroxystyrol,
4-Acetoxystyrol, 4-Carboxystyrol, 4-Aminostyrol,
Chlormethylstyrol, 4-Methoxystyrol, etc.; Alkylmethacrylat
wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Butylmethacrylat,
Hexylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat,
Cyclohexylmethacrylat, Dodecylmethacrylat, etc.;
Arylmethacrylat oder Aralkylmethacrylat wie
Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat, etc.; ein
Methacrylsäureester mit einer Hydroxyalkyl-Gruppe wie
2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, etc.;
ein Methacrylsäureester mit einer Alkylenoxy-Gruppe wie
Methacrylsäuremethoxydiethylenglycolmonoester,
Methacrylsäuremethoxypolyethylenglycolmonoester,
Methacrylsäurepolypropylenglycolmonoester, etc., Methacrylat
mit einer Amino-Gruppe wie 2-Dimethylaminoethylmethacrylat,
2-Diethylaminoethylmethacrylat, etc.; oder Acrylate, die den
erwähnten Methacrylaten entsprechen; ein Monomer mit einer
Phosphat-Gruppe wie Vinylphosphonsäure, etc.; ein Monomer mit
einer Amino-Gruppe wie Allylamin, Diallylamin, etc.; ein
Monomer mit einer Sulfonsäure-Gruppe wie Vinylsulfonsäure
oder ein Salz davon, Allylsulfonsäure oder ein Salz davon,
Methallylsulfonsäure oder ein Salz davon, Styrolsulfonsäure
oder ein Salz davon, 2-Acrylamid-2-methylpropansulfonsäure
oder ein Salz davon, etc.; ein Monomer mit einem Stickstoff
haltigen heterocyclischen Ring wie 4-Vinylpyrrolidin,
2-Vinylpyrrolidin, N-Vinylimidazol, N-Vinylcarbazol, etc.;
ein Monomer mit einer quaternären Ammoniumsalz-Gruppe wie
4-Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid,
Acryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid,
Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, ein
quaternisiertes Produkt von Dimethylaminopropylacrylamid
durch Methylchlorid, ein quaternisiertes Produkt von
N-Vinylimidazol durch Methylchlorid,
4-Vinylbenzylpyridiniumchlorid, etc.; Acetonitril,
Methacrylnitril, etc.; ein Acrylamid- oder Methacrylamid-
Derivat wie Acrylamid, Methacrylamid, Dimethylacrylamid,
Diethylacrylamid, N-Isopropylacrylamid, Diacetonacrylamid,
N-Methylolacrylamid, N-Methoxyethylacrylamid,
4-Hydroxyphenylacrylamid, etc.; Phenylmaleimid,
Hydroxyphenylmaleimid; ein Vinylester wie Vinylacetat,
Vinylchloracetat, Vinylpropionat, Vinylbutyrat, Vinylstearat,
Vinylbenzoat, etc.; ein Vinylether wie Methylvinylether,
Butylvinylether, etc.; und andere Monomere wie
N-Vinylpyrrolidon, Acryloylmorpholin,
Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Vinylchlorid,
Vinylidenchlorid, Allylalkohol, Vinyltrimethoxysilan,
Glycidylmethacrylat und dgl. Diese Monomere ohne Carboxyl-
Gruppe in der Copolymer-Zusammensetzung können wahlweise in
die Zusammensetzung mit irgendeinem Verhältnis eingefügt
werden, solange die Verhältnisse der Gruppe mit der Formel
(I) und des Monomers mit einer Carboxyl-Gruppe in den
bevorzugten Bereichen erhalten werden.
Das Molekulargewicht des erwähnten Copolymers ist bevorzugt
in dem Bereich von 1000 bis 1 000 000, mehr bevorzugt 10 000
bis 300 000, ausgedrückt als Molekulargewicht im
Gewichtmittel (Mw).
Beispiele des Monomers mit einer Gruppe mit der Formel (I)
gemäß dieser Erfindung werden nachfolgend gezeigt. In den
Formeln bedeuten die Zahlen Gew.-% der jeweiligen
Wiederholungseinheiten in dem Copolymer, bezogen auf das
Gesamtgewicht als 100 Gew.-%.
In der lichtempfindlichen Zusammensetzung dieser Erfindung
sind zusätzlich zu dem erwähnten Polymer, ein
Photopolymerisationsinitiator und ein Sensibilisator
enthalten, der den Photopolymerisationsinitiator
sensibilisiert. Als Sensibilisator können bevorzugt z. B. ein
Sensibilisierungsfarbstoff mit einer Absorption beim
Wellenlängenbereich von sichtbaren Strahlen bis zu
Infrarotstrahlen erwähnt werden. Ebenfalls kann ein
Sensibilisierungsfarbstoff verwendet werden, den
Photoradikal-Polymerisationsinitiator mit
Ultraviolettstrahlen sensibilisiert. Als
Photopolymerisationsinitiator, der erfindungsgemäß verwendet
wird, wird bevorzugt ein Photoradikal-
Polymerisationsinitiator verwendet, der die Polymerisation
durch Erzeugung eines Radikals durch Licht initiiert. Der
erfindungsgemäß zu verwendende Photoradikal-
Polymerisationsinitiator kann irgendeine Verbindung sein,
solange er ein Radikal durch Belichtung mit Licht erzeugen
kann. Als Verbindung können z. B. ein organisches Borsalz,
eine Verbindung, die durch Trihaloalkyl substituiert ist
(z. B. als eine Stickstoff-haltige heterocyclische Verbindung,
die durch Trihaloalkyl substituiert ist, eine s-Triazin-
Verbindung und ein Oxadiazol-Derivat und eine
Trihaloalkylsulfonyl-Verbindung erwähnt werden),
Hexaarylbisimidazol, eine Titanocen-Verbindung, Ketoxim-
Verbindung, Thio-Verbindung, ein organisches Peroxid, etc.
erwähnt werden. Unter diesen Photoradikal-
Polymerisationsinitiatoren wird zumindest eine Verbindung aus
einem organischen Borsalz und einer Verbindung, die durch
Trihaloalkyl substituiert ist, bevorzugt verwendet. Mehr
bevorzugt werden das organische Borsalz und die Trihaloalkyl
substituierte Verbindung in Kombination verwendet.
Das organische Bor-Anion, das das organische Borsalz
ausmacht, wird durch die folgende Formel (IV) dargestellt:
worin R11, R12, R13 und R14 gleich oder verschieden
voneinander sind und jeweils eine Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe,
Aralkyl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe, Alkinyl-Gruppe, Cycloalkyl-
Gruppe oder heterocyclische Gruppe sind.
In der Verbindung mit der erwähnten Formel (IV) ist eine
Verbindung insbesondere bevorzugt, worin eines von R11, R12,
R13 und R14 eine Alkyl-Gruppe und die verbleibenden anderen
Aryl-Gruppen sind.
Bei dem erwähnten organischen Boran-Anion existiert
gleichzeitig ein Kation, das mit dem Anion ein Salz bildet.
Als Kation können z. B. ein Alkali-Metallion, Onium-Ion und
ein kationischer Sensibilisierungsfarbstoff erwähnt werden.
Als Oniumsalz können z. B. eine Ammonium-, Sulfonium-,
Jodonium- und Phosphonium-Verbindung erwähnt werden. Wenn ein
Salz des Alkalimetall-Ions der Onium-Verbindung mit dem
organischen Bor-Anion verwendet wird, wird ein
Sensibilisierungsfarbstoff separat zugegeben, unter Erhalt
einer Lichtempfindlichkeit bei dem Wellenlängenbereich von
Licht, bei dem der Farbstoff absorbiert wird. Wenn ein
organisches Bor-Anion als Ionenpaar des kationischen
Sensibilisierungsfarbstoffes enthalten ist, wird eine
Lichtempfindlichkeit in Abhängigkeit von der
Absorptionswellenlänge des Sensibilisierungsfarbstoffes
erhalten. Im zuletztgenannten Fall ist es jedoch bevorzugt,
ein organisches Bor-Anion weiter als ein Paar Ionen aus dem
Alkalimetall oder dem Oniumsalz zu verwenden.
Ein bevorzugtes Merkmal dieser Erfindung ist eine
lichtempfindliche Zusammensetzung, die sowohl das organische
Borsalz als auch einen Sensibilisierungsfarbstoff, der dieses
sensibilisiert, enthält. Das organische Borsalz ist zu dieser
Zeit eine Verbindung, die gegenüber Licht mit einer
Wellenlänge innerhalb des Bereiches von sichtbaren Strahlen
zu Infrarotstrahlen keine Lichtempfindlichkeit und eine
Lichtempfindlichkeit gegenüber Licht mit solchen Wellenlängen
durch Zugabe des Sensibilisierungsfarbstoffes zeigt.
Als organisches Borsalz, das erfindungsgemäß verwendet wird,
kann ein Salz mit einem organischen Bor-Anion mit der oben
erwähnten Formel (IV) erwähnt werden. Als Kation zur Bildung
des Salzes werden ein Alkalimetall-Ion und eine Onium-
Verbindung bevorzugt verwendet. Insbesondere bevorzugte
Beispiele können als Oniumsalz mit dem organischen Bor-Anion
ein Ammoniumsalz wie Tetraalkylammoniumsalz, etc. ein
Sulfoniumsalz wie Triarylsulfoniumsalz, etc. und ein
Phosphoniumsalz wie Triarylalkylphosphoniumsalz, etc.
enthalten. Insbesondere bevorzugte Beispiele der organischen
Borsalze werden nachfolgend erwähnt.
Erfindungsgemäß können als anderer bevorzugter Photoradikal-
Polymerisationsinitiator eine Trihaloalkyl-substituierte
Verbindung erwähnt werden. Die Trihaloalkyl-substituierte
Verbindung bedeutet eine Verbindung mit zumindest einer
Gruppe aus einer Trihaloalkyl-Gruppe wie Trichlormethyl-
Gruppe, Tribrommethyl-Gruppe, etc. im Molekül. Bevorzugte
Beispiele davon können ein s-Triazin-Derivat als Verbindung,
bei der die Trihaloalkyl-Gruppe an eine Stickstoff-haltige
heterocyclische Gruppe gebunden ist, und ein Oxadiazol-
Derivat enthalten. Ebenfalls kann eine Trihaloalkylsulfonyl-
Verbindung erwähnt werden, bei der die Trihaloalkyl-Gruppe an
einen aromatischen Ring oder einen Stickstoff-haltigen
heterocyclischen Ring durch eine Sulfonyl-Gruppe gebunden ist.
Insbesondere bevorzugte Beispiele der Trihaloalkyl-
substituierten, Stickstoff-haltigen heterocyclischen
Verbindung oder Trihaloalkylsulfonyl-Gruppe werden
nachfolgend erwähnt.
Als anderer Photoradikal-Polymerisationsinitiator, der
erfindungsgemäß verwendet wird, gibt es ein organisches
Peroxid. Z. B. können Cumenhydroperoxid,
tert-Butylhydroperoxid, Dichlorperoxid, Di-tert-butylperoxid,
Benzoylperoxid, Acetylperoxid, Lauroylperoxid und die
Verbindung mit der folgenden Formel erwähnt werden:
Die Menge des erwähnten Photoradikal-
Polymerisationsinitiators ist bevorzugt in dem Bereich von 1
bis 100 Gew.-%, mehr bevorzugt in dem Bereich von 1 bis
40 Gew.-%, bezogen auf die Menge des Polymers mit einer
Phenyl-Gruppe, die durch eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette
des Polymers substituiert ist.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung umfaßt
einen Sensibilisator, der eine Absorption bei einem
Wellenlängenbereich von sichtbaren Strahlen bis zu
Infrarotstrahlen aufweist und den erwähnten Photoradikal-
Polymerisationsinitiator sensibilisiert, so daß er
verschiedenen Arten von Lichtquellen von sichtbaren Strahlen
bis zu Infrarotstrahlen entspricht. Als Sensibilisator können
verschiedene Arten von Sensibilisierungsfarbstoffen bevorzugt
verwendet werden. Solche Sensibilisierungsfarbstoffe können
z. B. Cyanin, Phthalocyanin, Merocyanin, Coumann, Porphyrin,
eine Spiro-Verbindung, Ferrocen, Fluoren, Fulgid, Imidazol,
Perylen, Phenazin, Phenothiazin, Polyen, eine Azo-Verbindung,
Diphenylmethan, Triphenylmethan, Polymethinacridin,
Ketocoumann, Chinacridon, Indigo, Styryl, eine Squarylium-
Verbindung, Pyrilium-Verbindung, Thiopyrilium-Verbindung,
etc. und weiterhin können Verbindungen, die in dem EP-Patent
0 568 993, den US-Patenten 4 508 811 und 5 227 227 offenbart
sind, verwendet werden.
Spezifische Beispiele von Sensibilisierungsfarbstoffen mit
einer Absorption für sichtbare Strahlen (400 bis 700 nm)
werden nachfolgend gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht
durch diese beschränkt.
In den letzten Jahren wurde eine Ausstoßmaschine, die darauf
eine Violett-Laserdiode mit einer Oszillations-Wellenlänge
von 400 bis 430 nm hat, entwickelt. Diese Ausstoßmaschine hat
eine maximale Belichtungsenergiedosis von mehreren zehn
µJ/cm2 oder so ähnlich, und ein zu verwendendes
lichtempfindliches Material muß eine hohe Empfindlichkeit
haben. Erfindungsgemäß kann es realisiert werden, die
lichtempfindliche Zusammensetzung dieser Erfindung in dieser
Ausstoßmaschine unter Verwendung der erwähnten
Sensibilisierungsfarbstoffes in Kombination zu verwenden.
Unter den erwähnten Sensibilisierungsfarbstoffen ist die
Pyrilium-Verbindung oder Thiopyrilium-Verbindung für die
Violett-Laserdiode bevorzugt. Ebenfalls wirken die erwähnte
Pyrilium-Verbindung und Thiopyrilium-Verbindung als
Sensibilisierungsmittel.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung kann
extrem geeignet für Licht mit nahen Infrarotstrahlen bis
Infrarotstrahlen, d. h. 700 nm oder länger, weiterhin zur
Abtastbelichtung unter Verwendung von Laserlicht mit einem
Wellenlängenbereich von 750 bis 1100 nm verwendet werden.
Spezifische Beispiele von Sensibilisierungsfarbstoffen, die
zur Sensibilisierung der Zusammensetzung gegenüber nahen
Infrarotstrahlen verwendet werden, werden nachfolgend
gezeigt.
Das Anion der veranschaulichten Sensibilisierungsfarbstoffe,
die oben erwähnt sind, wird durch das erwähnte organische
Bor-Anion substituiert und kann erfindungsgemäß gleichermaßen
verwendet werden. Die Menge des Sensibilisierungsfarbstoffes
ist bevorzugt 3 bis 300 mg pro 1 m2 der lichtempfindlichen
Zusammensetzung, mehr bevorzugt 10 bis 200 mg/m2.
Erfindungsgemäß kann als anderes bevorzugtes Element, das die
lichtempfindliche Zusammensetzung ausmacht, eine
polymerisierbare Verbindung mit zwei oder mehreren
polymerisierbaren Doppelbindungen im Molekül erwähnt werden,
die ein Monomer oder Oligomer mit einem Molekulargewicht (Mw:
Molekulargewicht im Gewichtsmittel) von 10 000 oder weniger,
bevorzugt 5000 oder weniger ist. Bevorzugte Beispiele der
polymerisierbaren Verbindung können z. B. ein
polyfunktionelles Acryl-Monomer wie 1,4-Butandioldiacrylat,
1,6-Hexandioldiacrylat, Neopentylglycoldiacrylat,
Tetraethylenglycoldiacrylat, Trisacryloyloxyethylisocyanurat,
Tripropylenglycoldiacrylat, Ethylenglycoltriacrylat,
Glycerolepoxytriacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat und
Methacrylate, die den erwähnten Acrylaten entsprechen, etc.
umfassen.
Anstelle der erwähnten polymeren Verbindungen kann ebenfalls
ein Oligomer mit einer radikalischen Polymerisationsfähigkeit
bevorzugt verwendet werden. Beispiele solcher Oligomere
können Polyesteracrylat, Urethanacrylat, Epoxyacrylat und
Methacrylate umfassen, die den erwähnten Acrylaten
entsprechen, wobei in jede Verbindung eine Acryloyl-Gruppe
oder Methacryloyl-Gruppe, etc. eingefügt sein kann, und sie
können gleichermaßen wie die polymerisierbare Verbindung
verwendet werden.
Im Hinblick auf das Verhältnis der erwähnten
polymerisierbaren Verbindung und des Polymers mit einer
Phenyl-Gruppe, die durch eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette
des Polymers substituiert ist, gibt es einen bevorzugten
Bereich. Die polymerisierbare Verbindung ist bevorzugt in
einer Menge im Bereich von 0,01 Gew.-Teilen bis 10 Gew.-
Teilen, mehr bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 1 Gew.-Teil,
bezogen auf 1 Gew.-Teil des Polymers enthalten.
Wenn die konventionelle Photoradikal-Polymerisation zur
Herstellung eines gehärteten Produktes angewandt wird, wird
diese gleichermaßen durch Sauerstoff an Luft beeinflußt, so
daß es erforderlich ist, eine Überschicht auf der Oberfläche
einer lichtempfindlichen Schicht wie Polyvinylalkohol
vorzusehen, die eine Sauerstoff-Sperreigenschaft aufweist.
Ebenfalls ist es bei der konventionellen Technik
erforderlich, eine Wärmebehandlung bei einer Temperatur von
etwa 100°C für mehrere Minuten durchzuführen, um die
Polymerisationsreaktion nach der Belichtung durchzuführen
oder zu vollenden.
Wenn im Gegensatz dazu das Polymer mit einer Phenyl-Gruppe,
die durch eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers
substituiert ist, verwendet wird, liegen die
charakteristischen Merkmale darin, daß die Zusammensetzung
ein ausreichend photohärtbares System ohne Versehen
irgendeiner Überschicht ergibt, es ist nicht notwendig, eine
Wärmebehandlung nach der Belichtung durchzuführen, und eine
lichtempfindliche Zusammensetzung mit hoher Empfindlichkeit
kann unter Verwendung eines Photoradikal-
Polymerisationsinitiators und eines
Sensibilisierungsfarbstoffes in Kombination erhalten werden.
Ebenso weist die erfindungsgemäße lichtempfindliche
Zusammensetzung die Eigenschaft auf, daß das Verblassen eines
latenten Bildes äußerst gering ist.
Nachfolgend wird ein anderes Merkmal dieser Erfindung, d. h.
eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend ein
Polymer, ein Monomer mit zumindest zwei Phenyl-Gruppen, von
denen jede durch eine Vinyl-Gruppe substituiert ist, im
Molekül des Monomers, einen Photopolymerisationsinitiator und
einen Sensibilisator erläutert. Als erwähnter
Photopolymerisationsinitiator wird ein Photoradikal-
Polymerisationsinitiator bevorzugt verwendet.
Wenn das Monomer mit zumindest zwei Phenyl-Gruppen, die
jeweils durch eine Vinyl-Gruppe im Molekül des Monomers
substituiert sind (nachfolgend als Monomer dieser Erfindung
bezeichnet) verwendet wird, wird eine Vernetzung effektiv
durchgeführt, indem Styryl-Radikale, die durch erzeugte
Radikale gebildet werden, rekombiniert werden, so daß ein
negatives lichtempfindliches Material, das eine hohe
Lichtempfindlichkeit aufweist und keine Wärmeempfindlichkeit
erfordert, hergestellt werden kann. Das Monomer dieser
Erfindung wird repräsentativ durch die folgende Formel (II)
dargestellt:
worin Z2 eine Bindegruppe, R21, R22 und R23 jeweils ein
Wasserstoffatom, Halogenatom, eine Carboxy-Gruppe, Sulfo-
Gruppe, Nitro-Gruppe, Cyano-Gruppe, Amid-Gruppe, Amino-
Gruppe, Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkoxy-Gruppe oder
Aryloxy-Gruppe, die jeweils durch zumindest eine aus einer
Alkyl-Gruppe, Amino-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe,
Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe und Hydroxy-Gruppe substituiert
sein kann; R24 eine substituierbare Gruppe oder Atom, m2 eine
ganze Zahl von 0 bis 4 und k2 eine ganze Zahl von 2 oder mehr
bedeuten.
Die Verbindung der Formel (II) wird nachfolgend detailliert
erläutert. Als Bindegruppe Z2 können z. B. ein Sauerstoffatom,
Schwefelatom, eine Alkylen-Gruppe, Alkenylen-Gruppe, Arylen-
Gruppe, -N(R5)-, -C(O)-O-, -C(R6)=N-, -C(O)-, eine Sulfonyl-
Gruppe und heterocyclische Gruppe erwähnt werden, die alleine
oder in Form einer komplexen Gruppe aus zwei oder mehreren
von diesen vorliegen können. R5 und R6 bedeuten jeweils ein
Wasserstoffatom, eine Alkyl-Gruppe oder Aryl-Gruppe. Darüber
hinaus kann an die erwähnte Bindegruppe zumindest eine von
einer Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe und einem Halogenatom
substituiert sein.
Als erwähnte heterocyclische Gruppe können z. B. ein
Stickstoffhaltiger, heterocyclischer Ring wie Pyrrol-Ring,
Pyrazol-Ring, Imidazol-Ring, Triazol-Ring, Tetrazol-Ring,
Ixoxazol-Ring, ein Oxazol-Ring, Oyadiazol-Ring, Isothiazol-
Ring, Thiazol-Ring, Thiadiazol-Ring, Thiatriazol-Ring, Indol-
Ring, Indazol-Ring, Benzimidazol-Ring, Benzotriazol-Ring,
Benzoxazol-Ring, Benzothiazol-Ring, Benzoselenazol-Ring,
Benzothiadiazol-Ring, Pyridin-Ring, Pyridazin-Ring,
Pyrimidin-Ring, Pyrazin-Ring, Triazin-Ring, Chinolin-Ring und
ein Chinoxalin-Ring; und Furan-Ring und Thiophen-Ring, die
jeweils durch zumindest einen Substituenten substituiert sein
können, erwähnt werden.
In den Verbindungen mit der Formel (II) gibt es bevorzugte
Verbindungen. D. h., die Verbindung, worin R21 und R22 jeweils
Wasserstoffatom sind, R23 ein Wasserstoffatom oder eine
Niedrigalkyl-Gruppe mit 4 oder weniger Kohlenstoffatomen ist
wie eine Methyl-Gruppe, Ethyl-Gruppe, etc., und k2 2 bis 10
ist, ist bevorzugt. Nachfolgend werden spezifische Beispiele
der Verbindungen mit der Formel (II) gezeigt, aber diese
Erfindung ist nicht durch diese beschränkt.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung, die das Monomer dieser
Erfindung wie oben erwähnt enthält, umfaßt bevorzugt in
Kombination ein Bindemittelharz. Eine Menge des Monomers
dieser Erfindung liegt bevorzugt in dem Bereich von 0,01 bis
10 Gew.-Teilen, mehr bevorzugt im Bereich von 0,05 bis
1 Gew.-Teil, bezogen auf 1 Gew.-Teil Bindemittelharz.
Das Bindemittelharz, das in Kombination mit dem Monomer
dieser Erfindung wie oben erwähnt verwendet wird, ist nicht
spezifisch beschränkt, und konventionell bekannte
verschiedene Arten von Bindemittelharzen können verwendet
werden. Mehr spezifisch können z. B. ein Homopolymer oder
Copolymer, umfassend verschiedene Arten von Monomeren in
einer wahlweisen Kombination erwähnt werden, einschließlich
einem Styrol-Derivat wie Styrol, 4-Methylstyrol,
4-Hydroxystyrol, 4-Acetoxystyrol, 4-Carboxystyrol,
4-Aminostyrol, Chlormethylstyrol, 4-Methoxystyrol, etc.;
Alkylmethacrylat wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat,
Butylmethacrylat, Hexylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat,
Cyclohexylmethacrylat, Dodecylmethacrylat, etc.;
Arylmethacrylat oder Aralkylmethacrylat wie
Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat, etc.; ein
Methacrylsäureester mit einer Alkylenoxy-Gruppe wie
2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat,
Methacrylsäuremethoxydiethylenglycolmonoester,
Methacrylsäuremethoxypolyethylenglycolmonoester,
Methacrylsäurepolypropylenglycolmonoester, etc.; Methacrylat
mit einer Amino-Gruppe wie 2-Dimethylaminoethylmethacrylat,
2-Diethylaminoethylmethacrylat, etc.; oder Acrylate, die den
erwähnten Methacrylaten entsprechen; ein Monomer mit einer
Phosphat-Gruppe wie Vinylphosphonsäure, etc.; ein Monomer mit
einer Amino-Gruppe wie Allylamin, Diallylamin, etc.; ein
Monomer mit einer Sulfonsäure-Gruppe wie Vinylsulfonsäure
oder ein Salz davon, Allylsulfonsäure oder ein Salz davon,
Methallylsulfonsäure oder ein Salz davon, Styrolsulfonsäure
oder ein Salz davon, 2-Acrylamid-2-methylpropansulfonsäure
oder ein Salz davon, etc.; ein Monomer mit einem Stickstoff
haltigen heterocyclischen Ring wie 4-Vinylpyrrolidin,
2-Vinylpyrrolidin, N-Vinylimidazol, N-Vinylcarbazol, etc.;
ein Monomer mit einer quaternären Ammoniumsalz-Gruppe wie
4-Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid,
Acryloxyethyltrimethylammoniumchlorid,
Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, ein
quaternisiertes Produkt aus Dimethylaminopropylacrylamid und
Methylchlorid, ein quaternisiertes Produkt von
N-Vinylimidazol und Methylchlorid,
4-Vinylbenzylpyridiniumchlorid, etc.; Acrylnitril,
Methacrylnitril, etc.; ein Acrylamid oder Methacrylamid-
Derivat wie Acrylamid, Methacrylamid, Dimethylacrylamid,
Diethylacrylamid, N-Isopropylacrylamid, Diacetonacrylamid,
N-Methylolacrylamid, N-Methoxyethylacrylamid,
4-Hydroxyphenylacrylamid, etc.; Phenylmaleimid,
Hydroxyphenylmaleimid; ein Vinylester wie Vinylacetat,
Vinylchloracetat, Vinylpropionat, Benzylbutyrat,
Vinylstearat, Vinylbenzoat, etc.; ein Vinylether wie
Methylvinylether, Butylvinylether, etc.; und andere Monomere
wie N-Vinylpyrrolidon, Acryloylmorpholin,
Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Vinylchlorid,
Vinylidenchlorid, Allylalkohol, Vinyltrimethoxysilan,
Glycidylmethacrylat und dgl.
Darüber hinaus ist es bevorzugt, daß das Bindemittelharz eine
Komponente enthält, die in einer wäßrigen alkalischen Lösung
löslich ist, so daß insbesondere bevorzugt dies ein Polymer
ist, das ein Carboxylgruppen-haltiges Monomer als Copolymer-
Komponente umfaßt. In diesem Fall ist die Menge des
Carboxylgruppen-haltigen Monomers in der
Copolymerzusammensetzung bevorzugt 5 bis 99 Gew.-%, mehr
bevorzugt 10 bis 70 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der
Monomerzusammensetzung als 100 Gew.-%.
Als Monomer mit einer Carboxyl-Gruppe können z. B. Acrylsäure,
Methacrylsäure, 2-Carboxyethylacrylat,
2-Carboxyethylmethacrylat, Crotonsäure, Maleinsäure,
Fumarsäure, Monoalkylmaleat, Monoalkylfumarat,
4-Carboxystyrol, usw. erwähnt werden.
Als Beispiel des anderen Bindemittelharzes als die erwähnten
Beispiele können ein Polymer mit einer phenolischen Hydroxyl-
Gruppe erwähnt werden, und Polyvinylalkohol, ein Phenolharz,
Polyhydroxybenzyl, etc. können ebenfalls verwendet werden.
Unter den Bindemittelharzen, die in Kombination mit dem
Monomer dieser Erfindung verwendet werden, ist insbesondere
das Polymer mit einer Phenyl-Gruppe bevorzugt, das durch eine
Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers substituiert
ist, wie oben erwähnt. Durch Verwendung des Monomers dieser
Erfindung und des Polymers mit einer Phenyl-Gruppe, die durch
eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers in
Kombination substituiert ist, kann ein Relief-Bild mit
höherer Empfindlichkeit und höherer Druckdauerhaftigkeit
erhalten werden, ohne daß eine Wärmebehandlung bewirkt wird.
Darüber hinaus kann das Verblassen eines latenten Bildes
beachtlich verhindert werden.
Als Photoradikal-Polymerisationsinitiator, der in Kombination
mit dem erfindungsgemäßen Monomer und dem Bindemittelharz
verwendet werden soll, kann der oben erwähnte Photoradikal-
Polymerisationsinitiator verwendet werden. Bevorzugt sind das
erwähnte organische Borsalz und die Trihaloalkyl
substituierte Verbindung, mehr bevorzugt werden beide
genannten in Kombination verwendet.
Durch Verwendung der erwähnten Sensibilisierungsfarbstoffe
gleichermaßen in Kombination, kann eine lichtempfindliche
Zusammensetzung mit einer hohen Empfindlichkeit gegenüber
Licht mit einem Wellenlängenbereich von sichtbaren Strahlen
bis zu nahen Infrarotstrahlen erhalten werden.
Zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung dieser Erfindung
können andere Komponenten zu der Zusammensetzung zusätzlich
zu den erwähnten Komponenten für andere verschiedene Zwecke
gegeben werden. Insbesondere können verschiedene Arten an
Polymerisationsinhibitoren bevorzugt zu der Zusammensetzung
gegeben werden, um eine thermische Polymerisation oder
thermische Vernetzung der Styryl-Gruppen zu verhindern oder
die Konservierungsfähigkeit für eine lange Zeit zu
verbessern. Als Polymerisationsinhibitor kann zu dieser Zeit
bevorzugt eine Verbindung mit verschiedenen Arten von
phenolischen Hydroxyl-Gruppen wie Hydrochinone, Cathechole,
Naphthole, Cresole, etc. oder Chinon-Verbindungen, etc.,
insbesondere bevorzugt Hydrochinon erwähnt werden. Die Menge
des zu dieser Zeit zugegebenen Polymerisationsinhibitors ist
bevorzugt in dem Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-Teilen, bezogen
auf 100 Gew.-Teile Polymer.
Es ist bevorzugt, als Element zum Aufbau der
lichtempfindlichen Zusammensetzung verschiedene Arten von
Farbstoffen oder Pigmenten zu Verstärkung der Erkennbarkeit
eines Bildes mit dem Auge oder anorganische feine Teilchen
oder organische feine Teilchen zu Verhinderung des
Blockierens der lichtempfindlichen Zusammensetzung zuzugeben.
Die lichtempfindliche erfindungsgemäße Zusammensetzung kann
für verschiedene Verwendungszwecke durch Beschichten auf
einen Träger eingesetzt werden. Z. B. kann sie auf eine
lichtempfindliche lithographische Druckplatte, eine gedruckte
Schaltung, einen Farbfilter, einem Phosphormuster, etc. wie
oben erwähnt verwendet werden. Als Träger können eine
Aluminiumplatte für die lichtempfindliche lithographische
Druckplatte, eine Platte für eine gedruckte Schaltung, bei
der eine Kupferfolie laminiert wird, ein Silicon-Wafer eine
Halbleitermaterials oder ein Kunststoffharzfilm wie ein
Polyesterharz, etc. erwähnt werden.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung dieser Erfindung ist
insbesondere für eine lichtempfindliche lithographische
Druckplatte geeignet. Die Dicke einer lichtempfindlichen
Schicht selbst, wenn sie als lichtempfindliche
lithographische Druckplatte verwendet wird, liegt bevorzugt
im Bereich von 0,5 bis 10 µm als trockene Filmdicke, mehr
bevorzugt im Bereich von 1 bis 5 µm, wodurch die
Druckdauerhaftigkeit deutlich verbessert wird. Die
lichtempfindliche Schicht wird durch Herstellung einer
Lösung, in der die erwähnten Bestandteile vermischt werden,
Beschichten der Lösung auf einen Träger unter Verwendung von
konventionell bekannten verschiedenen Beschichtungssystemen
und Trocknen hergestellt. Im Hinblick auf den Träger ist die
erwähnte Aluminiumplatte am meisten bevorzugt, aber ein
Kunststoffharzfilm oder ein Polyethylenharz-beschichtetes
Papier können verwendet werden. Als Aluminiumplatte ist eine
Aluminiumplatte, die gekörnt ist und einen anodisierten Film
aufweist, bevorzugt.
Zur Verwendung des lichtempfindlichen Materials mit einer
lichtempfindlichen Schicht auf dem Träger für eine
Druckplatte oder die anderen erwähnten Verwendungen wird das
lichtempfindliche Material einer Kontaktbelichtung oder
Abtastbelichtung unter Verwendung von Laser, etc.
unterworfen, wodurch die Löslichkeit des belichteten
Bereiches gegenüber dem alkalischen Entwickler aufgrund der
Vernetzung erniedrigt wird, wodurch die Bildung eines Musters
(Relief-Bild) durch Auflösen des nicht-belichteten Bereiches
in dem alkalischen Entwickler durchgeführt werden kann.
Der alkalische Entwickler ist nicht spezifisch beschränkt,
solange er das Polymer oder das Bindemittelharz gemäß dieser
Erfindung auflösen kann, und insbesondere bevorzugt ist ein
wäßriger Entwickler, in dem eine Alkali-Verbindung wie
Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumsilicat,
Kaliumsilicat, Natriummetasilicat, Kaliummetasilicat,
Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin,
Triethylammoniumhydroxid, etc. in Wasser aufgelöst wird, weil
er selektiv den nicht-belichteten Bereich auflösen und die
Oberfläche des Trägers darunter freilegen kann. Darüber
hinaus ist es bevorzugt, zumindest eine Art von verschiedenen
Arten von Alkoholen wie Ethanol, Propanol, Isopropanol,
Ethylenglycol, Diethylenglycol, Triethylenglycol, Glycerin,
Benzylalkohol, etc. zum alkalischen Entwickler zu geben. Nach
der Durchführung der Entwicklungsbehandlung unter Verwendung
des erwähnten alkalischen Entwicklers wird die konventionelle
Gummibeschichtung unter Verwendung von Gummi arabicum, etc.
bevorzugt durchgeführt.
Nachfolgend werden Synthesebeispiele des Polymers mit einer
Phenyl-Gruppe, die durch eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette
des Polymers substituiert ist, und die repräsentative
Verbindung aus dem Monomer mit zwei oder mehreren Phenyl-
Gruppen, die jeweils durch eine Vinyl-Gruppe im Molekül
substituiert sind, gezeigt.
In 600 ml Methanol wurden 150 g Bismuthiol (2,5-Dimercapto-
1,3,4-thiadiazol) und 101 g Triethylamin graduell zu der
Suspension unter Kühlen gegeben, unter Erhalt einer
gleichmäßigen Lösung. Unter Beibehaltung der Temperatur der
Lösung bei Raumtemperatur wurden 152,6 g p-Chlormethylstyrol
(erhältlich von Seimi Chemical Col., CMS-14, Warenname)
tropfenweise über 10 min gegeben, und die Mischung wurde für
weitere 3 h gerührt. Das Reaktionsprodukt wurde graduell
ausgefällt und nach dem Rühren wurde das Reaktionsprodukt auf
10°C durch ein Eisbad gekühlt und durch Saugfiltration
getrennt. Das Reaktionsprodukt wurde mit Methanol gewaschen
und in einem Vakuumtrockner über einen Tag und Nacht
getrocknet, unter Erhalt der unten gezeigten Verbindung in
einer Ausbeute von 75%.
Das erwähnte Monomer (40 g) wurde in einen 1 l-Vierhalskolben
gegeben, der mit einem Rührer, einem Stickstoffgaseinlaß,
einem Thermometer und einem Rückflußkondensator ausgerüstet
war, dann wurden 70 g Methacrylsäure, 200 ml Triethylamin und
50 ml destilliertes Wasser zum Monomer gegeben und 110 g
Triethylamin wurden unter Rühren auf einem Wasserbad
zugegeben. Unter Stickstoffgasatmosphäre wurde die Mischung
auf 70°C erwärmt und 1 g Azobisisobutyronitril (AIBN) wurde
zu der Mischung bei der gleichen Temperatur zur Initiierung
der Polymerisation gegeben. Das Rühren wurde für 6 h unter
Erwärmen fortgesetzt, und die Reaktionsmischung wurde dann
auf Raumtemperatur gekühlt. Ein Teil der Reaktionsmischung
wurde herausgenommen und der pH der Reaktionsmischung auf
etwa 3 unter Verwendung von verdünnter Salzsäure eingestellt,
und das resultierende Material wurde in Wasser gegossen,
unter Erhalt eines Polymers mit der unten gezeigten
chemischen Struktur.
Zur verbleibenden Polymerlösung, aus der der erwähnte Teil
herausgenommen war, wurden 100 g 1,4-Dioxan und 23 g
p-Chlormethylstyrol gegeben und die Mischung bei
Raumtemperatur 15 h lang gerührt. Dann wurden 80 bis 90 g
konzentrierte Salzsäure (35 bis 37%ige wäßrige Lösung) zu der
Mischung gegeben und nach der Bestätigung, daß der pH des
Reaktionssystems 4 oder weniger war, wurde die gesamte
Reaktionsmischung in 3 l destilliertes Wasser gegeben. Das
ausgefällte Polymer wurde durch Filtration getrennt, mit
destilliertem Wasser wiederholt gewaschen und in einem
Vakuumtrockner über einen Tag und eine Nacht getrocknet. Als
Ergebnis konnte das Zielpolymer mit einer Ausbeute von 90%
erhalten werden. Als das Molekulargewicht des resultierenden
Polymers durch Gel-Permeationschromatographie gemessen war,
ergab sich ein Molekulargewicht im Gewichtsmittel von 90 000
(ausgedrückt als Standard-Polystyrol). Darüber hinaus stützte
das Ergebnis des Protonen-NMR die Struktur des Polymers P-1.
In 1,5 l Methanol wurden 89 g Thiocyanursäure suspendiert,
und eine 30%ige wäßrige Natriumhydroxid-Lösung, in der 84 g
NaOH aufgelöst waren, wurde graduell zu der Lösung unter
Kühlen gegeben, unter Erhalt einer gleichmäßigen Lösung. Zu
der Lösung wurden graduell tropfenweise 230 g
p-Chlormethylstyrol bei Raumtemperatur gegeben, so daß die
Temperatur der Mischung 40°C nicht überstieg. Während das
Reaktionsprodukt anfing, nach der Zugabe des Monomers
auszufallen, wurde das Rühren 3 h fortgesetzt, und dann wurde
das Produkt durch Saugfiltration getrennt. Das Produkt wurde
mit Methanol gewaschen und in einem Vakuumtrockner über Tag
und Nacht getrocknet, unter Erhalt der Verbindung (Monomer)
mit der Formel C-5 in einer Ausbeute von 90%.
Nachfolgend wird diese Erfindung detaillierter unter
Bezugnahme auf die Beispiele erläutert, aber diese Erfindung
ist durch diese Beispiele nicht beschränkt.
Unter Verwendung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer
Dicke von 0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung
durchgeführt worden war, wurde eine Beschichtungslösung aus
der lichtempfindlichen Zusammensetzung (nachfolgend als
"lichtempfindliche Beschichtungslösung" bezeichnet) mit der
unten angegebenen Zusammensetzung darauf mit einer
Trockendicke von 2,0 µm geschichtet und in einem Trockner bei
75°C 6 min lang getrocknet.
Polymer | 12,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator | 1,0 Gew.-Teile |
Polymersierbare Verbindung (Pentaerythrittriacrylat) | 3,0 Gew.-Teile |
Sensibilisierungsfarbstoff (S-20) | 0,5 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Die Arten des Polymers und der Photoradikal-
Polymerisationsinitiator in der erwähnten lichtempfindlichen
Beschichtungszusammensetzung wurden wie in Tabelle 1 gezeigt
geändert, unter Bildung der jeweiligen lichtempfindlichen
Materialien.
Die lichtempfindlichen Materialien (lithographische
Druckplatte), die wie oben hergestellt waren, wurden unter
Verwendung einer Plattensetzmaschine einem Belichtungstest
unterworfen, auf der eine Violett-Laserdiode (hergestellt von
ESCHER GRAD Co., Plate Setter Cobalt 8CPT, Oszillations-
Wellenlänge: 405 nm, Ausstoß: 30 mW) befestigt war. Nach der
Belichtung wurde die Entwicklung unter Verwendung eines
alkalischen Entwicklers durchgeführt, der 0,7 Gew.-%
Natriummetasilicat enthielt und die Empfindlichkeit wurde mit
dem Standard ausgewertet, ob feine Linien mit einer Dicke von
10 µm klar auf der Aluminiumplatte gebildet werden können
oder nicht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 zusammengefaßt.
In Tabelle 1 bedeutet O, daß feine Linien mit 10 µm klar
gebildet werden können, während X bedeutet, daß feine Linien
nicht gebildet werden können.
In der obigen Tabelle bedeutet CP-1 ein Copolymer aus
Ayllylmethacrylat/Benzylmethycrylat/Methacrylsäure (molares
Verhältnis: 60/20/20), und CP-2, CP-3 und CP-4 sind wie
nachfolgend erwähnt:
Im Hinblick auf die erwähnten lichtempfindlichen Materialien
wurden die Eigenschaften als Druckplatten ausgewertet. Unter
Verwendung einer üblichen Offsetdruckmaschine, Tinte und
Dämpfwasser wurde die Druckdauerhaftigkeit ausgewertet. Die
Druckdauerhaftigkeit wurde mit der maximalen Anzahl von
gedruckten Papieren ausgewertet, bei der keine Änderung der
Druckbildqualität auftrat. Als Ergebnis ist es möglich, daß
die Druckplatten dieser Erfindung einen Druck von 150 000
Blättern durchführen können.
Wie aufgrund der erwähnten Ergebnisse deutlich sichtbar ist,
weisen die lichtempfindlichen Materialien dieser Erfindung,
die ein Polymer mit einer Phenyl-Gruppe, die durch eine
Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers substituiert
ist, einen Photoradikal-Polymerisationsinitiator und einen
Sensibilisator in Kombination aufweisen, eine äußerst hohe
Empfindlichkeit gegenüber Abtastbelichtung unter Verwendung
einer Violett-Laserdiode auf und können scharfe Relief-Bilder
mit hoher Druckdauerhaftigkeit ohne Bewirkung irgendeiner
Wärmebehandlung nach der Belichtung ergeben.
Auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1, mit der Ausnahme, daß
der Sensibilisierungsfarbstoff in der lichtempfindlichen
Beschichtungslösung, die bei Beispiel 1 verwendet ist, gegen
den Sensibilisierungsfarbstoff S-21 ausgetauscht wurde, wurde
die gleiche Vorgehensweise durchgeführt. Als Ergebnis konnten
ähnliche Ergebnisse wie bei Beispiel 1 erhalten werden.
Unter Verwendung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer
Dicke von 0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung
durchgeführt worden ist, wurde eine lichtempfindliche
Beschichtungszusammensetzung mit der unten gezeigten
Zusammensetzung mit einer Trockendicke von 2,0 µm geschichtet
und in einem Trockner bei 75°C 6 min lang getrocknet.
Bindemittelharz | 10,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator (T-4) | 1,0 Gew.-Teile |
Erfindungsgemäßes Monomer oder Vergleichsverbindung | 4,0 Gew.-Teile |
Sensibilisierungsfarbstoff (S-20) | 0,4 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Arten des Bindemittelharzes und des erfindungsgemäßen
Monomers oder die Vergleichsverbindung in der erwähnten
lichtempfindlichen Beschichtungszusammensetzung wurden wie in
Tabelle 2 gezeigt geändert, unter Bildung der jeweiligen
lichtempfindlichen Materialien.
Die lichtempfindlichen Materialien (lithographische
Druckplatte), hergestellt wie oben erwähnt, wurden einem
Belichtungstest unter Verwendung einer Plattensetzmaschine
unterworfen, auf der eine Violett-Laserdiode (hergestellt von
ESCHER GRAD Co., Plate Setter Cobalt 8CTP,
Oszillationswellenlänge: 405 nm, Ausstoß: 30 mW) befestigt
war. Nach der Belichtung wurde eine Entwicklung unter
Verwendung eines alkalischen Entwicklers mit 0,7 Gew.-%
Natriummetasilicat durchgeführt, und die Empfindlichkeit
wurde mit dem Standard ausgewertet, ob feine Linien mit einer
Dicke von 10 µm klar auf der Aluminiumplatte gebildet werden
können oder nicht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2
zusammengefaßt. In der Tabelle 2 bedeutet O, daß feine Linien
mit 10 µm klar gebildet werden können, während X bedeutet,
daß feine Linien nicht gebildet werden können.
In der obigen Tabelle bedeutet CP-1 ein Copolymer aus
Ayllylmethacrylat/Benzylmethycrylat/Methacrylsäure (molares
Verhältnis: 60/20/20), CC-1 ist Styrol, CC-2 ist
Divinylbenzol, CC-3 ist Diallylbenzol, CC-4 ist
Pentaerythrittetraacrylat und CC-5 ist
Tetraethylenglycoldiacrylat.
Im Hinblick auf die erwähnten lichtempfindlichen Materialien
wurden Eigenschaften als Druckplatten ausgewertet. Unter
Verwendung einer üblichen Offsetdruckpresse, Tinte und
Dämpfungswasser wurde die Druckdauerhaftigkeit ausgewertet.
Die Druckdauerhaftigkeit wurde mit der maximalen Zahl der
gedruckten Papiere ausgewertet, bei denen keine Änderung der
Druckbildqualität auftrat. Als Ergebnis ist es möglich, daß
die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Materialien
(Druckplatten) 20 bis 29 einen Druck von 200 000 Blättern
durchführen können, und die Materialien 30 bis 34 können
150 000 Drucke ausführen.
Von den erwähnten Ergebnisse ist klar ersichtlich, daß die
lichtempfindlichen Materialien dieser Erfindung, die ein
Bindemittelharz, ein Monomer mit zwei oder mehreren Phenyl-
Gruppen, die jeweils durch eine Vinyl-Gruppe im Molekül
substituiert sind, einen Photoradikal-
Polymerisationsinitiator und einen Sensibilisator in
Kombination enthalten, eine äußerste hohe Empfindlichkeit
gegenüber Abtastbelichtung unter Verwendung einer Violett-
Laserdiode aufweisen und scharfe Relief-Bild mit hoher
Druckdauerhaftigkeit ohne Bewirkung irgendeiner
Wärmebehandlung nach der Belichtung ergeben können.
Insbesondere kann unter Verwendung eines Polymers mit einer
Phenyl-Gruppe, die durch eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette
des Polymers substituiert ist, als Bindemittelharz die
Druckdauerhaftigkeit weiter verbessert werden.
Unter Verwendung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer
Dicke von 0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung
durchgeführt worden ist, wurde eine lichtempfindliche
Beschichtungslösung mit der unten gezeigten Zusammensetzung
mit einer Trockendicke von 2,0 µm darauf geschichtet und in
einem Trockner bei 75°C 6 min lang getrocknet.
Polymer | 12,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator | 1,0 Gew.-Teile |
Polymerisierbare Verbindung (Pentaerythrittriacrylat) | 3,0 Gew.-Teile |
Sensibilisierungsfarbstoff (S-20) | 0,5 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Arten des Polymers und des Photoradikal-
Polymerisationsinitiators in der erwähnten lichtempfindlichen
Beschichtungslösung wurden wie in Tabelle 3 gezeigt geändert,
unter Bildung der jeweiligen lichtempfindlichen Materialien.
Die oben hergestellten lichtempfindlichen Materialien wurden
einer Belichtung wie folgt unterworfen. Unter Verwendung
einer Belichtungsmaschine (Hishira Copy Printer, Warenname,
hergestellt von Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) mit einer
Wolfram-Lampe als Lichtquelle wurde eine Belichtung durch
Zwischenschaltung eines Interferenzfilters mit 580 nm,
Einstellen der Lichtdosis, die durch den Interferenzschalter
durchgeht, auf 5 mW/cm2, und durch einen Kontrollkeil
(erhältlich von Fuji Photo Film, Co.) mit Stufenkeilen mit
einem Dichteunterschied von jeweils 0,15 für 30 s
durchgeführt. Nach der Belichtung wurde die Entwicklung unter
Verwendung eines alkalischen Entwicklers mit 0,7 Gew.-%
Natriummetasilicat innerhalb einer Minute oder nach einer
Stunde durchgeführt. In dem Reliefmuster der Stufenkeile, die
auf der Aluminiumplatte nach der Entwicklung gebildet waren,
wurde die minimale Stufenzahl, die nicht als Relief-Bild
zurückblieben, als Empfindlichkeit erhalten. Je größer dieser
numerische Wert war, um so höher ist die Empfindlichkeit. Die
Ergebnisse sind in Tabelle 3 zusammengefaßt.
In der obigen Tabelle sind CP-1, CP-2, CP-3 und CP-4 gleich
wie in Tabelle 1 gezeigt.
Wie aufgrund der oben erwähnten Ergebnisse klar ersichtlich
ist, weisen die lichtempfindlichen erfindungsgemäßen
Materialien, die ein Polymer mit einer Phenyl-Gruppe, die
durch eine Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers
substituiert ist, einen Photoradikal-Polymerisationsinitiator
und einen Sensibilisator in Kombination aufweisen, eine
extrem hohe Empfindlichkeit beim Bereich der sichtbaren
Strahlen auf, und können scharfe Relief-Bilder ohne Bewirkung
irgendeiner Wärmebehandlung nach der Belichtung ergeben.
Erfindungsgemäß ist auch zu verstehen, daß es im wesentlichen
kein Verblassen eines latenten Bildes gibt.
Unter Verwendung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer
Dicke von 0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung
durchgeführt worden war, wurde eine lichtempfindliche
Beschichtungslösung mit der unten gezeigten Zusammensetzung
mit einer Trockendichte von 2,0 µm darauf geschichtet und in
einem Trockner bei 75°C 6 min lang getrocknet.
Bindemittelharz | 12,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator (T-8) | 1,0 Gew.-Teile |
Erfindungsgemäßes Monomer oder Vergleichsverbindung | 3,0 Gew.-Teile |
Sensibilisierungsfarbstoff (S-22) | 0,5 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Die Arten des Bindemittelharzes und des Monomers dieser
Erfindung oder der Vergleichsverbindung in der erwähnten
lichtempfindlichen Beschichtungszusammensetzung wurden wie in
Tabelle 4 gezeigt geändert, unter Bildung der jeweiligen
lichtempfindlichen Materialien.
Die resultierenden lichtempfindlichen Materialien wurden auf
gleiche Weise wie bei Beispiel 4 ausgewertet. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 4 zusammengefaßt.
In der Tabelle bedeuten CC-1, CC-2, CC-3, CC-4 und CC-5 das
gleiche wie bei Tabelle 2.
Aus den angegebenen Ergebnissen ist klar ersichtlich, daß die
lichtempfindlichen Materialien dieser Erfindung, die ein
Bindemittelharz, ein Monomer mit zwei oder mehreren Phenyl-
Gruppen, die jeweils durch eine Vinyl-Gruppe im Molekül
substituiert sind, einen Photoradikal-
Polymerisationsinitiator und weiterhin einen Sensibilisator
in Kombination enthalten, eine extrem hohe Empfindlichkeit im
Bereich der sichtbaren Strahlen auf und können scharfe
Relief-Bilder ohne Bewirkung irgendeiner Wärmebehandlung nach
der Belichtung ergeben. Es ist auch zu verstehen, daß bei
dieser Erfindung im wesentlichen kein Verblassen eines
latenten Bildes im Vergleich zu den Vergleichsmaterialien
auftritt. Insbesondere kann durch Verwendung eines Polymers
mit eine Phenyl-Gruppe, die durch eine Vinyl-Gruppe an der
Seitenkette des Polymers substituiert ist, als
Bindemittelharz die Sensibilität weiter erhöht werden, und
das Verblassen eines latenten Bildes kann weiter vermieden
werden.
Unter Verwendung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer
Dicke von 0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung
durchgeführt ist, wurde eine lichtempfindliche
Beschichtungszusammensetzung mit der unten gezeigten
Zusammensetzung darauf mit einer Trockendicke von 1,5 µm
geschichtet und in einem Trockner bei 70°C 5 min lang
getrocknet.
Polymer (P-1) | 10,0 Gew.-Teile |
Monomer dieser Erfindung (C-5) | 2,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator (S-45), unten gezeigt | 0,5 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator (T-4) | 1,5 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Das oben hergestellte lichtempfindliche Material wurde einer
Belichtung für 20 s unter Verwendung eines Sensitometers mit
einer Wolframlampe als Lichtquelle durch einen Filter, der
Licht von der Lichtquelle, das nicht länger als 780 nm ist,
abschneidet und in dem ein Negativmuster zwischengelegt
wurde, auf das ein gewünschtes Bild gedruckt war,
unterworfen. Die Lichtdosis zu dieser Zeit war etwa
10 mW/cm2. Nach der Belichtung wurde die Entwicklung unter
Verwendung eines alkalischen Entwicklers durchgeführt, der
6 Gew.-% Natriummetasilicat enthielt, so daß ein positives
Bild durch das Harz gebildet wurde, das auf dem Aluminium-
Substrat gehärtet war. Unter Verwendung der resultierenden
lithographischen Druckplatte wurde ein Druck unter Verwendung
einer üblichen Offsetdruckpresse durchgeführt, und dies
zeigte einen ausreichenden Tintenfluß und
Druckdauerhaftigkeit von 200 000 Blättern.
Auf gleiche Weise wie bei Beispiel 3, aber unter Verwendung
einer anodisierten Aluminium-Platte mit einer Dicke von
0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung durchgeführt worden
war, wurde eine lichtempfindliche Beschichtungslösung mit der
oben gezeigten Zusammensetzung darauf mit einer Trockendicke
von 1,5 µm geschichtet und in einem Trockner bei 70°C 5 min
lang getrocknet.
Polymer (P-1) | 0,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator (S-45), unten gezeigt | 0,5 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator (T-4) | 1,5 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Das somit erhaltene lichtempfindliche Material
(lithographische Druckplatte) wurde auf die Außenfläche einer
zylindrisch geformten Trommel gewickelt, und Belichtungstests
wurden durchgeführt, indem die Laserstrahl-
Bestrahlungsenergie und die Trommelrotationsgeschwindigkeit
zwischen der Trommelrotationsgeschwindigkeit von 300 bis
200 Upm verschieden geändert wurden, wobei ein Halbleiter-
Laser verwendet wurde, der bei 830 nm emittiert und einen
Ausstoß von 1,2 W (Variable von 0 bis 1,2 W) aufweist. Zu
dieser Zeit wurde ein Punktdurchmesser des Laserstrahls auf
10 µm eingestellt. Zum Zeitpunkt der Entwicklung mit einem
alkalischen Entwickler, der gleichermaßen wie der von
Beispiel 6 war, nach der Belichtung wurde eine minimale
Belichtungsenergie zur Bildung einer deutlichen 10 µm-Linie
auf der Aluminiumplatte als Sensibilität des
lichtempfindlichen Material gemessen und dies zeigte eine
hohe Empfindlichkeit von 300 mJ/cm2.
Unter Verwendung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer
Dicke von 0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung
durchgeführt worden war, wurde eine lichtempfindliche
Beschichtungslösung mit der unten gezeigten Zusammensetzung
darauf mit einer Trockendicke von 2 µm geschichtet und in
einem Trockner bei 70°C 6 min lang getrocknet.
Polymer | 10,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator | 2,0 Gew.-Teile |
Polymerisierbare Verbindung (Pentaerythrittriacrylat) | 3,0 Gew.-Teile |
Sensibilisierungsfarbstoff | 0,5 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Die Arten des Polymers, des Photoradikal-
Polymerisationsinitiators und des
Sensibilisierungsfarbstoffes in der erwähnten
lichtempfindlichen Beschichtungslösung wurden wie in
Tabelle 5 gezeigt geändert, unter Bildung von verschiedenen
Arten von lichtempfindlichen Materialien.
Die somit erhaltenen lichtempfindlichen Materialien wurden
auf die Außenfläche einer zylindrisch geformten Trommel
gewickelt, und Belichtungsteste wurden durchgeführt, indem
die Laserstrahl-Bestrahlungsenergie und die
Trommelrotationsgeschwindigkeit zwischen der
Trommelrotationsgeschwindigkeit von 300 bis 2000 Upm geändert
wurden, wobei ein Halbleiter-Laser verwendet wurde, der bei
830 nm emittiert und einen Ausstoß von 1,2 W hat (Variable
von 0 bis 1,2 W). Zu dieser Zeit wurde der Punktdurchmesser
des Laserstrahls auf 10 µm eingestellt. Nach der Belichtung
wurde die Entwicklung mit einem alkalischen Entwickler, der
gleichermaßen wie bei Beispiel 1 war, innerhalb einer Minute
oder nach einer Stunde durchgeführt, und die minimale
Belichtungsenergie zur Belichtung einer deutlichen 10 µm-
Linie auf der Aluminiumplatte ergab eine hohe Empfindlichkeit
des lichtempfindlichen Materials und die Werte sind in
Tabelle 5 mit der Einheit mJ/cm2 gezeigt (ein kleinerer Wert
bedeutet eine hohe Empfindlichkeit).
In der obigen Tabelle sind die Mengen der Kombination der
beiden Arten der Photoradikal-Polymerisationsinitiatoren
jeweils 1 Gew.-Teil und CP-1, CP-2, CP-3 und CP-4 sind gleich
wie in Tabelle 1.
Im Hinblick auf die erwähnten lichtempfindlichen Materialien
wurden die Eigenschaften als Druckplatten ausgewertet, unter
Verwendung einer üblichen Offsetdruckpresse, Tinte und
Dämpfungswasser wurde die Druckdauerhaftigkeit ausgewertet.
Die Druckdauerhaftigkeit wurde mit der maximalen Zahl an
gedruckten Papieren ausgewertet, bei denen keine Änderung der
Druckbildqualität auftrat. Als Ergebnis können alle
Druckplatten dieser Erfindung einen Druck von
200 000 Blättern ausführen. Bei den Druckplatten der
Vergleichsmaterialien war die Druckdauerhaftigkeit nur
10 000 Blätter oder weniger, weil keine Wärmebehandlung
durchgeführt war.
Wie aus den angegebenen Ergebnissen klar ersichtlich ist,
weisen die lichtempfindlichen Materialien dieser Erfindung,
die ein Polymer mit einer Phenyl-Gruppe, die durch eine
Vinyl-Gruppe an der Seitenkette des Polymers substituiert
ist, einen Photoradikal-Polymerisationsinitiator und einen
Sensibilisator in Kombination aufweisen, eine extrem hohe
Empfindlichkeit gegenüber Abtastbelichtung unter Verwendung
eines nahen Infrarot-Laserstrahls auf und können scharfe
Relief-Bilder und hohe Druckdauerhaftigkeit ohne Bewirkung
irgendeiner Wärmebehandlung nach der Belichtung ergeben.
Erfindungsgemäß kann die Empfindlichkeit weiter verbessert
werden, indem ein organisches Borsalz und eine Trihaloalkyl
substituierte Verbindung in Kombination als Photoradikal-
Polymerisationsinitiator verwendet werden.
Unter Verwendung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer
Dicke von 0,24 mm, mit der eine Sandmahlbehandlung
durchgeführt wurde, wurde eine lichtempfindliche
Beschichtungslösung mit der unten gezeigten Zusammensetzung
darauf mit einer Trockendicke von 2 µm geschichtet und in
einem Trockner bei 70°C 6 min lang getrocknet.
Bindemittelharz | 10,0 Gew.-Teile |
Photoradikal-Polymerisationsinitiator | 2,0 Gew.-Teile |
Monomer der Erfindung oder Vergleichsverbindung | 3,0 Gew.-Teile |
Sensibilisierungsfarbstoff | 0,5 Gew.-Teile |
Dioxan | 70,0 Gew.-Teile |
Cyclohexan | 20,0 Gew.-Teile |
Die Arten des Bindemittelharzes, des Monomers dieser
Erfindung oder der Vergleichsverbindung und der
Sensibilisierungsfarbstoff in der erwähnten
lichtempfindlichen Beschichtungslösung wurden wie in
Tabelle 6 gezeigt geändert, unter Bildung von verschiedenen
Arten von lichtempfindlichen Materialien.
Die somit hergestellten lichtempfindlichen Materialien wurden
auf gleiche Weise wie bei Beispiel 8 ausgewertet. Die
Ergebnisse sind in Tabelle 6 zusammengefaßt.
In der obigen Tabelle bedeuten CP-1, CC-1, CC-2, CC-3, CC-4
und CC-5 das gleiche wie in Tabelle 2.
Im Hinblick auf die erwähnten lichtempfindlichen Materialien
wurden die Eigenschaften als Druckplatten ausgewertet. Unter
Verwendung einer üblichen Offsetdruckpresse, Tinte und
Dämpfungswasser wurde die Druckdauerhaftigkeit ausgewertet.
Die Dauerhaftigkeit wurde mit der maximalen Zahl von
bedruckten Papieren ausgewertet, bei denen keine Änderung der
Druckbildqualität auftrat. Als Ergebnis ist es möglich, daß
die erfindungsgemäßen Druckplatten einen Druck von
200 000 Blättern durchführen. Bei den Druckplatten der
Verbleichsmaterialien war die Druckdauerhaftigkeit jedoch
10 000 Blätter oder weniger, weil keine Wärmebehandlung
durchgeführt war.
Wie aufgrund der obigen Ergebnisse klar ersichtlich ist,
haben die lichtempfindlichen erfindungsgemäßen Materialien,
die ein Bindemittelharz, ein Monomer mit zwei oder mehreren
Phenyl-Gruppen, die jeweils durch eine Vinyl-Gruppe im
Molekül substituiert sind, einen Photoradikal-
Polymerisationsinitiator und weiterhin einen Sensibilisator
in Kombination enthalten, eine extrem hohe Empfindlichkeit
gegenüber der Abtastbelichtung unter Verwendung von nahen
Infrarot-Laserstrahlen und können scharfe Relief-Bilder und
eine hohe Druckdauerhaftigkeit ohne Bewirkung irgendeiner
Wärmebehandlung nach der Belichtung ergeben. Unter Verwendung
des Polymers mit einer Phenyl-Gruppe, die durch eine Vinyl-
Gruppe an der Seitenkette des Polymers substituiert ist, als
Bindemittelharz kann die Sensibilität weiter verbessert
werden und das Verblassen eines latenten Bildes kann
vermieden werden. Erfindungsgemäß ist zu verstehen, daß die
Empfindlichkeit weiter durch Verwendung eines organischen
Borsalzes und einer Trihaloalkyl-substituierten Verbindung in
Kombination als Photoradikal-Polymerisationsinitiator
verbessert werden kann.
Gemäß dieser Erfindung kann eine lichtempfindliche
Zusammensetzung zur Verfügung gestellt werden, die ein
lichtempfindliches Material mit hoher Empfindlichkeit und ein
Bild mit einer dauerhaften Entwicklung und Druck ohne
Bewirkung einer Wärmebehandlung nach der Entwicklung ergeben
kann. Wenn die lichtempfindliche Zusammensetzung dieser
Erfindung verwendet wird, wird eine lithographische
Druckplatte erhalten, die eine ausgezeichnete
Druckdauerhaftigkeit aufweist, die verschiedene Lichtquellen
verwenden kann, einschließlich verschiedenen Arten von
Laserstrahlen, weil die lichtempfindlichen Wellenlängen in
großem Umfang ausgewählt werden können. Weiterhin kann ein
lichtempfindliches Material und eine lithographische
Druckplatte ohne Verblassen eines latenten Bildes erhalten
werden. Weiterhin kann ein lichtempfindliches Material und
eine lithographische Druckplatte erhalten werden, die keine
Überschicht erfordern.
Claims (32)
1. Lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend (A) ein
Polymer mit einer Phenyl-Gruppe, das durch eine Vinyl-
Gruppe an einer Seitenkette des Polymers substituiert
ist, (B) einen Photopolymerisationsinitiator und (C)
einen Sensibilisator, der den
Photopolymerisationsinitiator sensibilisiert.
2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin der Sensibilisator eine Absorption beim
Wellenlängenbereich von sichtbaren Strahlen bis zu
Infrarotstrahlen hat.
3. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin der Sensibilisator eine Absorption beim
Wellenlängenbereich von Ultraviolettstrahlen hat.
4. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin der Sensibilisator ein Sensibilisierungsfarbstoff
mit einer Absorption beim Wellenlängenbereich von nahen
Infrarotstrahlen von 700 bis 1300 nm ist.
5. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin der Sensibilisator ein Sensibilisierungsfarbstoff
mit einer Absorption beim Wellenlängenbereich von nahen
Infrarotstrahlen von 750 bis 1100 nm ist.
6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin der Sensibilisator ein Sensibilisierungsfarbstoff
mit einer Absorption beim Wellenlängenbereich von 400
bis 430 nm ist.
7. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 6, worin das Polymer ein Polymer mit
einer Gruppe mit der Formel (I) an der Seitenkette des
Polymers ist:
worin Z1 eine Bindegruppe, R1, R2 und R3 jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe, Nitro-Gruppe, Cyano-Gruppe, Amid-Gruppe, Amino-Gruppe, Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkoxy-Gruppe oder Aryloxy-Gruppe, die jeweils durch zumindest eine von einer Alkyl-Gruppe, Amino-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe, Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe und Hydroxy-Gruppe substituiert sein können; R4 eine substituierbare Gruppe oder Atom, n 0 oder 1, m1 eine ganze Zahl von 0 bis 4 und k1 eine ganze Zahl von 1 bis 4 sind.
worin Z1 eine Bindegruppe, R1, R2 und R3 jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe, Nitro-Gruppe, Cyano-Gruppe, Amid-Gruppe, Amino-Gruppe, Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkoxy-Gruppe oder Aryloxy-Gruppe, die jeweils durch zumindest eine von einer Alkyl-Gruppe, Amino-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe, Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe und Hydroxy-Gruppe substituiert sein können; R4 eine substituierbare Gruppe oder Atom, n 0 oder 1, m1 eine ganze Zahl von 0 bis 4 und k1 eine ganze Zahl von 1 bis 4 sind.
8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 7, worin das Polymer ein Polymer mit
einer Phenyl-Gruppe ist, die durch eine Vinyl-Gruppe an
der Seitenkette durch eine Bindegruppe, die einen
heterocyclischen Ring enthält, substituiert ist.
9. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 8, worin die Zusammensetzung weiterhin
ein Monomer oder ein Oligomer mit zwei oder mehreren
polymerisierbaren Doppelbindungen im Molekül umfaßt.
10. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 8, worin die Zusammensetzung weiterhin
ein Monomer mit zwei oder mehreren Phenyl-Gruppen
umfaßt, die jeweils durch eine Vinyl-Gruppe
substituiert sind.
11. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 10, worin der
Photopolymerisationsinitiator ein organisches Borat
oder eine Trihaloalkyl-substituierte Verbindung ist.
12. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 10, worin der
Photopolymerisationsinitiator ein organisches Borat und
eine Trihaloalkyl-substituierte Verbindung umfaßt.
13. Lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend (A') ein
Polymer, (D) ein Monomer mit zumindest zwei Phenyl-
Gruppen, von denen jede durch eine Vinyl-Gruppe im
Molekül des Monomers substituiert ist, (B) einen
Photopolymerisationsinitiator und (C) einen
Sensibilisator, der den Photopolymerisationsinitiator
sensibilisiert.
14. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 13,
worin der Sensibilisator eine Absorption beim
Wellenlängenbereich von sichtbaren Strahlen bis zu
Infrarotstrahlen hat.
15. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 13,
worin der Sensibilisator eine Absorption beim
Wellenlängenbereich von Ultraviolettstrahlen hat.
16. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 13,
worin der Sensibilisator ein Sensibilisierungsfarbstoff
mit einer Absorption beim Wellenlängenbereich von nahen
Infrarotstrahlen von 700 bis 1300 nm ist.
17. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 13,
worin der Sensibilisator ein Sensibilisierungsfarbstoff
mit einer Absorption beim Wellenlängenbereich von nahen
Infrarotstrahlen von 750 bis 1100 nm ist.
18. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 13,
worin der Sensibilisator ein Sensibilisierungsfarbstoff
mit einer Absorption beim Wellenlängenbereich von 400
bis 430 nm ist.
19. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 13 bis 18, worin das Monomer ein Monomer mit
der Formel (II) ist
worin Z2 eine Bindegruppe, R21, R22 und R23 jeweils ein Wasserstoffatom, Halogenatom, eine Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe, Nitro-Gruppe, Cyano-Gruppe, Amid-Gruppe, Amino-Gruppe, Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkoxy-Gruppe oder Aryloxy-Gruppe, die jeweils durch zumindest eine aus einer Alkyl-Gruppe, Amino-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe, Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe und Hydroxy-Gruppe substituiert sein kann; R24 eine substituierbare Gruppe oder Atom, m2 eine ganze Zahl von 0 bis 4 und k2 eine ganze Zahl von 2 oder mehr bedeuten.
worin Z2 eine Bindegruppe, R21, R22 und R23 jeweils ein Wasserstoffatom, Halogenatom, eine Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe, Nitro-Gruppe, Cyano-Gruppe, Amid-Gruppe, Amino-Gruppe, Alkyl-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkoxy-Gruppe oder Aryloxy-Gruppe, die jeweils durch zumindest eine aus einer Alkyl-Gruppe, Amino-Gruppe, Aryl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe, Carboxy-Gruppe, Sulfo-Gruppe und Hydroxy-Gruppe substituiert sein kann; R24 eine substituierbare Gruppe oder Atom, m2 eine ganze Zahl von 0 bis 4 und k2 eine ganze Zahl von 2 oder mehr bedeuten.
20. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 13 bis 19, worin (A') das Polymer ein Polymer
mit einer Phenyl-Gruppe ist, die durch eine Vinyl-
Gruppe an der Seitenkette des Polymers substituiert
ist.
21. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 13 bis 20, worin der
Photopolymerisationsinitiator ein organisches Borat
oder eine Trihaloalkyl-substituierte Verbindung ist.
22. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 13 bis 20, worin der
Photopolymerisationsinitiator ein organisches Borat und
eine Trihaloalkyl-substituierte Verbindung umfaßt.
23. Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes, umfassend
das Schichten der lichtempfindlichen Zusammensetzung
nach Anspruch 1 auf einen Träger, Belichten der
Zusammensetzung durch Belichtung und Entwickeln dieser,
unter Bildung eines Relief-Bildes auf dem Träger.
24. Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes, umfassend
das Schichten der lichtempfindlichen Zusammensetzung
nach Anspruch 1 auf einen Träger, Belichten der
Zusammensetzung durch Abtastbelichtung und Entwickeln
dieser unter Bildung eines Relief-Bildes auf dem
Träger.
25. Verfahren nach Anspruch 24, worin eine Lichtquelle der
Abtastbelichtung ein naher Infrarotlaser mit 700 bis
1300 nm ist.
26. Verfahren nach Anspruch 24, worin eine Lichtquelle der
Abtastbelichtung eine Violett-Laserdiode mit 400 bis
430 nm ist.
27. Verfahren nach Anspruch 24, worin eine Lichtquelle der
Abtastbelichtung ein Ultraviolett-Halbleiterlaser mit
350 bis 400 nm ist.
28. Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes, umfassend
die Beschichtung der lichtempfindlichen Zusammensetzung
nach Anspruch 13 auf einen Träger, Belichten der
Zusammensetzung durch Belichtung und Entwickeln dieser
unter Bildung eines Relief-Bildes auf dem Träger.
29. Verfahren zur Bildung eines Relief-Bildes, umfassend
das Schichten der lichtempfindlichen Zusammensetzung
nach Anspruch 13 auf einen Träger, Belichten der
Zusammensetzung durch Abtastbelichtung und Entwickeln
dieser, unter Bildung eines Relief-Bildes auf dem
Träger.
30. Verfahren nach Anspruch 29, worin eine Lichtquelle der
Abtastbelichtung ein naher Infrarotlaser mit 700 bis
1300 nm ist.
31. Verfahren nach Anspruch 29, worin eine Lichtquelle der
Abtastbelichtung eine Violett-Laserdiode mit 400 bis
430 nm ist.
32. Verfahren nach Anspruch 29, worin eine Lichtquelle der
Abtastbelichtung ein Ultraviolett-Halbleiterlaser mit
350 bis 400 nm ist.
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