DE60222600T2

DE60222600T2 - Vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte und Herstellungsverfahren einer lithographischen Druckplatte damit

Info

Publication number: DE60222600T2
Application number: DE60222600T
Authority: DE
Inventors: Shunichi Yoshida-cho Haibara-gun Kondo; Fumikazu Yoshida-cho Haibara-gun Kobayashi; Mitsumasa Yoshida-cho Haibara-gun Tsuchiya
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2001-02-07
Filing date: 2002-02-07
Publication date: 2008-06-19
Anticipated expiration: 2022-02-08
Also published as: EP1231074A3; US6811950B2; EP1231074A2; US20020155382A1; JP4317330B2; ATE374114T1; DE60222600D1; EP1231074B1; JP2002229187A

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Platte, die zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte (nachstehend als "PS-Platte" bezeichnet) nützlich ist, und ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte daraus. Im Einzelnen betrifft die vorliegende Erfindung eine PS-Platte, die eine verbesserte Entwicklungsfähigkeit (d. h. die PS-Platte kann ausreichend durch ein Entwicklungsmittel entwickelt werden) und eine Schadensbeständigkeit während der Entwicklung zum Erhalt einer lithographischen Druckplatte besitzt, die nicht leicht während dem Druckverfahren kontaminiert wird und ein starkes Bild besitzt, und betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer solchen lithographischen Druckplatte aus der PS-Platte.
Wenn eine lithographische Druckplatte zur Herstellung von Drucken verwendet wird, ist es wichtig, Drucke ohne Hintergrundkontaminierung zu erhalten. Im Allgemeinen kommt es vermehrt zum Auftreten von Hintergrundkontaminierung in Drucken mit zunehmender Lagerungszeit einer PS-Platte nach der Herstellung. Insbesondere wird dieses Phänomen intensiver, wenn die PS-Platte unter hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit gelagert worden ist. Es ist insbesondere schwierig, eine PS-Platte mit einer fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht für eine lange Zeit stabil zu lagern, da leicht Radikale erzeugt werden, und so eine Kettenpolymerisationsreaktion in der fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht bei Aussetzung der PS-Platte gegenüber Licht erzeugt werden. Demgemäß hat es den Bedarf nach einer PS-Platte gegeben, die für eine lange Zeit stabil gehalten werden kann, insbesondere unter hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit, und die eine lithographische Druckplatte bereitstellen kann, die keine Hintergrundkontaminierung hervorruft.
Viele Versuche sind zur Eliminierung der Hintergrundkontaminierung unternommen worden. Zum Beispiel sind die folgenden PS-Platten oder Verfahren, die in verschiedenen Veröffentlichungen offenbart werden, bekannt; eine PS-Platte, die eine Basisbeschichtungsschicht umfasst, die aus Polyvinylphosphonsäure besteht, die auf einer Oberfläche einer anodisierten Aluminiumplatte beschichtet ist, und eine lichtempfindliche Schicht, die darauf beschichtet ist, die eine Diazoverbindung umfasst ( DE-PS 16 21 478 , eine PS-Platte, die eine Basisbeschichtungsschicht aus Polyacrylsäure, die auf einem Aluminiumsubstrat beschichtet ist, und eine Schicht aus Diazoharz, die auf der Basisbeschichtungsschicht beschichtet ist, umfasst ( DE-PS 10 91 433 ), eine PS-Platte, die eine Basisbeschichtungsschicht aus Polyacrylamid und eine darauf beschichtete lichtempfindliche Schicht umfasst ( US-PS 3 511 661 ), ein Verfahren zum Zugeben einer organischen Säurepolymerverbindung zu einer lichtempfindlichen Schicht, die eine Diazoverbindung und einen organischen Polymerträger umfasst, um die Stabilität mit der Zeit einer PS-Platte zu verbessern, die die lichtempfindliche Schicht umfasst, wodurch die Erzeugung einer Hintergrundkontaminierung der PS-Platte inhibiert wird ( JP-A-56-107238 ). Jedoch sind diese PS-Platten noch unzureichend und eine weitere Verbesserung wird benötigt. JP-A-57-5042 offenbart eine Fotoadditionszusammensetzung, die eine Kombination eines Diazoharzes mit mehreren Diazoniumgruppen auf der Seitenkette und ein mehrere Sulfonatgruppen (z. B. sulfoniertes Polyurethan und sulfoniertes Polyester) umfassendes, sulfoniertes Polymer umfasst. Jedoch ist der Effekt der Zusammensetzung zum Inhibieren der Hintergrundkontaminierung nicht ausreichend und ferner ist die Nützlichkeit der PS-Platte beschränkt, da die Leistung der Platte durch das sulfonierte Polyurethan oder sulfonierte Polyester, das in der lichtempfindlichen Schicht verwendet wird, in erheblichem Ausmaß beeinflusst wird.
JP-A-59-101651 offenbart ein Verfahren zur Verbesserung der Hintergrundkontaminierung einer PS-Platte mit einer lichtempfindlichen Schicht, die eine Diazoverbindung und eine fotopolymerisierbare Verbindung umfasst, wenn die Platte für eine lange Zeit aufbewahrt wird, wobei das Verfahren Beschichten eines Polymers, das eine Monomereinheit mit einer Sulfonsäure umfasst, als eine Zwischenschicht umfasst. Die Lagerungsstabilität der PS-Platte wurde durch das Verfahren verbessert, wenn die PS-Platte eine solch schlechte lichtempfindliche fotopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht besitzt, die mit einer herkömmlichen PS-Plattenbelichtungsvorrichtung behandelt werden kann. Jedoch ist der Effekt nicht ausreichend, wenn die PS-Platte eine hochempfindliche fotopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht besitzt, die mit Laserlicht belichtet wird, wie für CTP-Technik verwendet.
Das Verfahren zum Abscheiden einer Basisbeschichtungsschicht, das eine Verbindung umfasst, die in einem Entwicklungsmittel hochlöslich ist, oder das Verfahren zum Zugeben einer solchen Verbindung zu der fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht ist zum Verbessern der Hintergrundkontaminierungseigenschaft einer PS-Platte effektiv. Aber ein bestrahlter Abschnitt der fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte wird durch Entwicklung schwer beschädigt und die Druckhaltbarkeit der PS-Platte wird auch verschlechtert.
Eine herkömmliche negativ arbeitende PS-Platte, die weithin verwendet worden ist, ist eine solche Platte, worin ein Diazoharz auf eine Aluminiumplatte beschichtet wird, die so behandelt worden ist, dass die Oberfläche hydrophil wird. Zur Entwicklung der Platte sollte ein Entwicklungsmittel, das ein organisches Lösungsmittel enthält, verwendet werden. Jedoch kann die Verwendung eines solchen Entwicklungsmittels Probleme hervorrufen, wie etwa die Entledigung eines Abfallentwicklungsmittels und den Einfluss des Abfallentwicklungsmittels auf die Umwelt. Eine positiv arbeitende PS-Platte umfasst gewöhnlich eine Orthochinondiazidverbindung zusammen mit einem Novolakharz. Eine Alkalilösung eines Silicatsalzes sollte als ein Entwicklungsmittel für eine solche Platte verwendet werden und das Entwicklungsmittel sollte einen pH-Wert um 13 herum besitzen, und das Novolakharz aufzulösen. Das Entwicklungsmittel mit einem solch hohen pH-Wert irritiert die Haut und die Schleimhautmembran von Arbeitern und daher sollte mit einem solchen Entwicklungsmittel sorgfältig umgegangen werden.
Es ist eine PS-Platte verwendet worden, die eine fotopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht auf einem Aluminiumsubstrat umfasst. Als ein Entwicklungsmittel für die PS-Platte ist eine wässrige Lösung aus Silicat, Phosphat, Carbonat oder Hydroxid aus einem Alkalimetall oder organischen Aminverbindung vorgeschlagen worden.
Zum Beispiel offenbart JP-A-8-24643 ein Entwicklungsmittel, das einen hohen pH-Wert von mindestens 12 besitzt und eine Alkalisilicat und ein amphotäres Tensid umfasst. JP-A-11-65129 offenbart ein Entwicklungsmittel mit einem pH-Wert von 12 oder weniger, worin das Verhältnis SiO₂/M₂O (M ist ein Alkalimetall) spezifiziert ist.
Das erstere Entwicklungsmittel mit einem solch hohen pH-Wert besitzt zusätzlich zu dem Handhabungsproblem, das Problem, dass ein Bildbereich der PS-Platte leicht beschädigt wird, wenn die PS-Platte entwickelt wird. Das letztere Entwicklungsmittel besitzt das Problem, dass das enthaltene Silicat leicht ein Gel bildet und aufgrund der Abnahme des pH-Werts des Entwicklungsmittels während dem Entwicklungsverfahren unlöslich wird.
Ein Entwicklungsmittel, das kein Alkalisilicat umfasst, wird z. B. in JP-A-61-109052 beschrieben, die ein Entwicklungsmittel offenbart, das ein Alkalimittel, ein Komplexiermittel, ein anionisches Tensid, ein Emulgiermittel und n-Alkanonsäure umfasst, und in DE-PS 19 84 605 , das einen Entwicklungsmittel offenbart, das ein Alkalimittel, ein Komplexiermittel, ein anionisches Tensid, Amylalkohol und N-Alkoxyamin umfasst. Jedoch ist es schwierig, eine gute Druckleistung, wie etwa Druckhaltbarkeit zu erhalten, da die Entwicklungsmittel beide einen hohen pH-Wert besitzen und ein organisches Lösung umfassen, das Schäden des Bildbereichs hervorruft.
Ein Entwicklungsmittel mit einem relativ niedrigen pH-Wert (12 oder weniger) ohne Alkalisilicat wird z. B. in JP-A-2000-81711 beschrieben, die ein Entwicklungsmittel offenbart, das eine wässrige Lösung aus Kaliumhydroxid umfasst, die ein anionisches Tensid umfasst, und in JP-A-11-65126 beschrieben, die ein Entwicklungsmittel offenbart, das eine wässrige Lösung aus Alkalimetallsilicat mit einem pH-Wert umfasst, der von 8,5 bis 11,5 reicht.
Jedoch löst ein solches Entwicklungsmittel mit einem relativ niedrigen pH-Wert die fotopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht schlecht auf und kann so Probleme hervorrufen, wie etwa das Zurückbleiben eines Films in einem Nicht-Bildbereich der lichtempfindlichen Schicht, insbesondere, wenn die verwendete PS-Platte eine gealterte ist (d. h., die Platte für eine lange Zeit nach der Herstellung gelagert worden ist). Zur Lösung des Problems ist es notwendig, die Entwicklungsfähigkeit zu verbessern, indem eine Säurezahl eines Binderpolymers in der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte erhöht wird, oder indem ein zusätzliches Monomer mit einer Säuregruppe in dem Binderpolymer verwendet wird.
Aber bei Verwendung eines Binderpolymers mit einer hohen Säurezahl wird häufig das Problem in einem Druckverfahren hervorgerufen, das es zu einem Blindwerden kommt, d. h., eine Tinte nicht an die PS-Platte während dem Druckverfahren anhaftet.
EP-A-0871070 offenbart eine positive arbeitende lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die eine lichtempfindliche Schicht, eine ein Polymer enthaltende Zwischenschicht und ein Aluminiumsubstrat, das auf seiner Oberfläche eine Aluminiumoxidschicht und wasserbenetzbare Schicht besitzt, umfasst. Das Polymer der Zwischenschicht enthält Einheiten, die mit der Aluminiumoxidschicht des Aluminiumsubstrats Wechselwirken und Einheiten, die mit wasserbenetzbaren Schicht Wechselwirken.
US-A-6014929 betrifft eine lithographische Druckplatte, die ein Substrat mit einer harten und/oder porösen Schicht, einer freisetzbaren Zwischenschicht, die auf dem Substrat abgeschieden ist, und eine strahlungsempfindliche Schicht auf der Zwischenschicht umfasst.
EP-A-1186407 ist auf ein negatives Bild erzeugendes Material gerichtet, das einen IR Absorber, ein Radikalerzeugungsmittel mit einer Oniumsalzstruktur, einer radikalisch polymerisierbare Verbindung und ein reduzierendes Additiv umfasst. Das Material kann in einer lithographischen Druckplatte verwendet werden.
EP-A-0110417 beschreibt eine vorsensibilisierte lithographische Platte, die eine Trägerbasis, wie etwa Aluminium, und eine Grundierungsschicht, die Sulfonsäuregruppen enthaltende Monomereinheiten, die darauf positioniert sind, enthält, die mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichtet ist, umfasst. Die fotopolymerisierbare Schicht umfasst eine Diazoverbindung und einen Binder oder eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung.
EP-A-0716347 offenbart ein Entwicklungsmittel für eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die mindestens eine Verbindung umfasst, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Zuckern, Oximen, Phenolen und fluorierten Alkoholen besteht.
EP-A-0279630 ist auf ein Entwicklungsmittel für lichtempfindliche lithographische Druckplatten gerichtet, wobei die Platten ein Alkalimittel, ein wasserlösliches Reduktionsmittel, ein Salz aus einer organischen Carbonsäure und ein anionisches oder kationisches Tensid umfassen.
So ist es der erfindungsgemäße Zweck, eine fotopolymerisierbare vorsensibilisierte Platte bereitzustellen, die zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte nützlich ist, die eine Stabilität mit der Zeit besitzt und keine Hintergrundkontamination hervorruft, wenn die Platte zur Herstellung von Drucken nach Aussetzung gegenüber Licht verwendet wird und entwickelt wird, sogar wenn die Platte für eine lange Zeit unter hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit aufbewahrt wird. Im Einzelnen ist es der erfindungsgemäße Zweck, eine vorsensibilisierte Platte bereitzustellen, die zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte (PS-Platte) nützlich ist und ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte aus der PS-Platte bereitzustellen, worin die lithographische Druckplatte eine stabile und gute Entwicklungsfähigkeit besitzt, eine erhöhte Bildfestigkeit besitzt und keine Hintergrundkontaminierung während dem Druckverfahren und keine Beschädigung der Bildfläche während der Entwicklung hervorruft, sogar wenn die PS-Platte mit einem Alkalientwicklungsmittel mit einem relativ niedrigen pH-Wert entwickelt wird, das vorzugsweise vom Standpunkt des Umweltschutzes und der Sicherheit verwendet wird.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben herausgefunden, dass eine lithographische Druckplatte, die keine Hintergrundkontaminierung zeigt, erhalten werden kann, wenn eine Oberflächenrauhigkeit eines Substrats relativ klein ist und eine Zwischenschicht, die eine Polymerverbindung umfasst, die eine Sulfonsäuregruppen enthaltende Monomereinheit umfasst, erzeugt wird. Zudem haben die Erfinder herausgefunden, dass eine Auflösungsrate eines nicht-bestrahlten Abschnitts der fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht in einem Entwicklungsmittel erhöht werden kann und das Eindringen eines Entwicklungsmittels in einen Bildbereich (Abschnitt, der durch Fotopolymerisation vernetzt ist) inhibiert werden kann, und so ein Feststofffilm hergestellt wird, indem eine wässrige Alkalilösung verwendet wird, die einen relativ niedrigen pH-Wert besitzt und eine spezifische Konzentration eines Salzes und einen spezifischen nicht-ionischen Tensids umfasst.
So stellt die vorliegende Erfindung eine vorsensibilisierte Platte bereit, die zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte nützlich ist, die eine Zwischenschicht und eine fotopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht auf einem Aluminiumsubstrat in dieser Reihenfolge umfasst, worin die Rauhigkeit der Oberfläche des Aluminiumsubstrats (Ra) in dem Bereich von 0,2 bis 0,55 μm liegt; die fotopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht einen Fotopolymerisationsinitiator umfasst, der durch Belichtung mit sichtbarem Licht mit einer Wellenlänge von mindestens 400 nm und/oder Bestrahlung mit einer Wellenlänge von 450 nm oder weniger aktiviert wird; und die Zwischenschicht eine Polymerverbindung umfasst, die mindestens eine Monomereinheit mit einer Sulfonsäuregruppe umfasst, die aus mindestens einem Monomer abgeleitet ist, das aus p-Styrolsulfonsäure, 2-Acrylamid-2-Methylpropansulfonsäure, Ethylensulfonsäure, deren Alkalimetallsalz, deren Ammoniumsalz und deren wässrigen Aminsalz ausgewählt ist.
Zudem wird erfindungsgemäß ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte durch bildweises Belichten de vorstehend beschriebenen vorsensibilisierten Platte und Entwickeln der bildweise belichteten vorsensibilisierten Platte mit einem Entwicklungsmittel, das ein organisches Alkalisalz und ein nicht-ionisches Tensid, das eine Polyoxyalkylenethergruppe umfasst, bereitgestellt.
Die so erhaltene lithographische Druckplatte zeigt keine Kontamination während dem Druckverfahren sogar nach Lagerung für eine lange Zeit und ein Bildbereich der lithographischen Druckplatte wird ein Feststofffilm, um so eine hohe Druckhaltbarkeit und hohe Beständigkeit gegenüber einem Lösungsmittel zu ergeben.
BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung genauer erläutert.
(Aluminiumsubstrat)
Ein erfindungsgemäß verwendbares Aluminiumsubstrat wird beschrieben. Das erfindungsgemäß verwendbare Aluminiumsubstart besteht vorzugsweise aus Aluminium mit einer hohen Größenabmessungsstabilität, deren Legierung mit Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Bismuth oder Nickel, oder einem Kunststofffilm oder einem Papier, das mit Aluminium oder Aluminiumlegierung laminiert ist oder darauf abgeschieden ist. Im Allgemeinen reicht die Dicke des Substrats von ungefähr 0,05 mm bis ungefähr 1 mm. Daneben wird ein Kompositblatt, wie in JP-B-48-18327 offenbart, auch vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet.
Das erfindungsgemäß verwendete Aluminiumsubstrat ist dadurch gekennzeichnet, dass dessen Oberflächenrauhigkeit von 0,2 bis 0,55 μm reicht. Zum Erhalt der Rauhigkeit der Oberfläche in einem solchen Bereich wird das Substrat, wie nachstehend beschrieben, oberflächenbehandelt.
In der Beschreibung bezeichnet der Ausdruck "Oberflächenrauhigkeit" oder "Rauhigkeit der Oberfläche" des Aluminiumsubstrats die durchschnittliche Mittellinienrauhigkeit (arithmetische Mittelrauhigkeit) (Ra) bei rechten Winkeln mit der Aluminiumabwalzrichtung. Ra ist durch die folgende Formel definiert und wird in μm ausgedrückt.
In der Formel ist L eine gemessene Länge in der Richtung der Mittellinie der Rauhigkeitskurve, die unter Verwendung einer Sonde (Abtastvorrichtung) erhalten wird, und die Rauhigkeitskurve wird als Y = f(X) ausgedrückt, worin X eine Achse der Mittellinie ist und Y eine Achse in der Richtung, im rechten Winkel zur X Achse ist. Die Bestimmung von L und der durchschnittlichen Rauhigkeit wird, wie in JIS B 0601 beschrieben, durchgeführt.
(Oberflächenkörnen)
Bevorzugte Oberflächenkörnungsverfahren von Aluminiumplatten schließen mechanisches Oberflächenkörnen, chemisches Ätzen, und elektrolytisches Körnen, wie in JP-A-56-28893 offenbart, ein. Die Oberflächenkörnungsverfahren schließen fernern z. B. ein elektrochemisches Körnen in einem Elektrolyten, wie etwa Salzsäure oder Salpetersäure, und ein mechanisches Körnen, wie etwa Drahtbürstenkörnen, worin eine Aluminiumoberfläche mit einem Metalldraht abgeschabt wird, ein Kugelkörnen, worin eine Aluminiumoberfläche mit einer Schleifkugel und einem Schleifmittel gekörnt wird, ein Bürstenkörnen, worin eine Aluminiumoberfläche mit einer Nylonbürste und einem Schleifmittel gekörnt wird, ein. Darüber hinaus können diese Verfahren allein oder in Kombination verwendet werden. Von diesen ist ein geeignetes erfindungsgemäß verwendetes Oberflächenkörnungsverfahren das elektrochemische Verfahren, worin die Oberfläche chemisch in einem Elektrolyten, wie etwa Salzsäure oder Salpetersäure mit einer elektrischen Stromdichte, die von 100 C/dm² bis 400 C/dm² reicht, gekörnt wird. Im Einzelnen wird die Elektrolyse vorzugsweise in 0,1 bis 50 %iger Salzsäure oder Salpetersäure bei 20 bis 100°C für 1 Sekunde bis 30 Minuten mit einer elektrischen Stromdichte, die von 100 C/dm² bis 400 C/dm² reicht, durchgeführt.
Das so gekörnte Aluminiumsubstrat wird ferner mit einer Säure oder einem Alkali chemisch geätzt. Die Verwendung einer Säure als ein Ätzmittel ist industriell nachteilhaft, da sie eine lange Zeit benötigt, um die Mikrostruktur der Platte zu zerstören, aber die Verwendung eines Alkalis als das Ätzmittel löst dieses Problem.
Geeignete Alkalimittel, die erfindungsgemäß verwendbar sind, schließen Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumaluminat, Natriummetasilicat, Natriumphosphat, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid ein. Eine bevorzugte Konzentration des Alkalimittels reicht von 1 bis 50 % und eine bevorzugte Temperatur für die Behandlung mit dem Alkalimittel reicht von 20 bis 100°C. Zudem kann eine bevorzugte Bedingung für die Behandlung so ausgewählt werden, dass eine Menge des aufgelösten Aluminiums in dem Bereich von 5 bis 20 g/m³ liegt.
Zur Entfernung von Schmutz, der auf der geätzten Oberfläche der Aluminiumplatte zurückbleibt, kann die Platte mit einer Säure gewaschen werden. Beispiele für die Säure, die zu verwenden ist, schließen Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Wasserstofffluorsäure und Fluorborsäure ein. Insbesondere schließen bevorzugte Schmutzentfernungsverfahren nach dem elektrochemischen Oberflächenkörnen ein Verfahren zum Kontaktieren der Platte mit 15 bis 65 gew.-%iger Schwefelsäurelösung bei 50 bis 90°C, wie in JP-A-53-12739 offenbart, und ein Verfahren zum Alkaliätzen, wie in JP-B-48-28123 offenbart, ein.
Das Aluminiumsubstrat kann, wie vorstehend beschrieben, behandelt werden, um die Oberflächenrauhigkeit (Ra) des Substrats innerhalb des Bereichs von 0,2 bis 0,55 μm einzustellen.
(Anodische Oxidation)
So behandeltes Aluminiumsubstrat wird vorzugsweise ferner einer anodischen Oxidation unterzogen. Die anodische Oxidation kann durch ein beliebiges herkömmliches Verfahren, das in der Technik bekannt ist, durchgeführt werden. Im Einzelnen kann ein anodisierte Schicht auf der Oberfläche eines Aluminiumsubstrats erzeugt werden, indem ein direkter oder alternierender Strom in einer wässrigen Lösung oder nicht-wässrigen Lösung (d. h. in einem Elektrolyten), der Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfamsäure, Benzolsulfonsäure oder deren Kombination umfasst, hindurchgeleitet wird.
Die Bedingungen zur anodischen Oxidation können auf verschiedene Weise, abhängig von der Art des verwendeten Elektrolyten, geändert werden. Aber im Allgemeinen wird die anodische Oxidation vorzugsweise in einem Elektrolyten mit einer Konzentration, die von 1 bis 80 Gew.-% reicht, bei einer Temperatur, die von 5 bis 70°C reicht, mit einer Stromdichte, die von 5 bis 60 A/dm² reicht, und einer Spannung, die von 1 bis 100 V reicht, für 10 Sekunden bis 5 Minuten durchgeführt.
Von den Anodisierungsbehandlungen sind insbesondere ein Verfahren zur anodischen Oxidation in Schwefelsäure unter Verwendung einer hohen Stromdichte, die in UK-PS 1 412 768 beschrieben wird, und ein Verfahren zur anodischen Oxidation unter Verwendung von Phosphorsäure als ein Elektrolyt, das in US-PS 3 511 661 beschrieben ist, bevorzugt.
Die Menge der anodisierten Schicht liegt vorzugsweise in dem Bereich von 1 bis 10 g/m². Wenn sie weniger als 1 g/m² beträgt, besitzt die resultierende lithographische Druckplatte eine unzureichende Druckhaltbarkeit und deren Nicht-Bildabschnitt wird leicht beschädigt. Wenn sie höher als 20 g/m² beträgt, wird eine große Menge an Elektrizität benötigt, um die Platte herzustellen, was ökonomisch von Nachteil ist.
Darüber hinaus kann die Aluminiumplatte eine Abdichtungsbehandlung nach den Oberflächenkörnungs- und anodischen Oxidationsbehandlungen unterzogen werden. Eine solche Abdichtungsbehandlung wird durchgeführt, indem die Aluminiumplatte in heißes Wasser oder eine heiße wässrige Lösung, die ein anorganisches oder organisches Salz enthält, eingetaucht wird oder indem die Platte in einem Dampfbad behandelt wird. Zudem kann die Aluminiumplatte ferner anderen Behandlungen, wie etwa einer Oberflächenbehandlung mit einem Silicat (z. B. Alkalimetallsilicat) und einer Eintauchbehandlung zum Eintauchen des Substrats in eine wässrige Lösung, die Kaliumfluorzirkonat oder eine Phosphonsäuresalz umfasst, unterzogen werden.
Die erfindungsgemäße PS-Platte kann hergestellt werden, indem eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht auf dem so oberflächenbehandelten Aluminiumsubstrat in dieser Reihenfolge erzeugt wird.
(Zwischenschicht)
Die vorliegende Erfindung ist durch Verwendung einer Polymerverbindung gekennzeichnet, die mindestens eine Monomereinheit umfasst, die eine Sulfonsäuregruppe in einer Zwischenschicht besitzt. Die Aluminiumplatte mit der Zwischenschicht, die die Polymerverbindung zwischen einem Substrat und einer lichtempfindlichen Schicht umfasst, wird nicht leicht während dem Druckverfahren sogar nach Lagerung für eine lange Zeit kontaminiert.
Mindestens eine Monomereinheit, die eine Sulfonsäuregruppe umfasst, ist aus mindestens einem Monomer abgeleitet, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus p-Styrolsulfonsäure, 2-Acrylamid-2-methylpropansulfonsäure, Ethylensulfonsäure, deren Alkalimetallsalz, deren Ammoniumsalz und deren wässrigen Aminsalz besteht.
Die Polymerverbindung kann hergestellt werden, indem ein oder mehrere Monomere polymerisiert werden, die vorstehend beschrieben wurden, oder indem eine oder mehrere Monomere, die vorstehend beschrieben wurden, mit anderen Monomeren copolymerisiert werden. Solche andere Monomere können ein beliebiges Monomer sein, das mit dem Monomer copolymerisiert werden kann, das eine Sulfonsäuregruppe umfasst, aber bevorzugte Beispiele hierfür schließen Acrylate (z. B.
(z. B. Methylacrylat, Ethylacrylat, n-Propylacrylat, Isopropylacrylat, n-Butylacrylat, Isobutylacrylat, n-Amylacrylat, Isomylacrylat, n-Hexylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, n-Octylacrylat, n-Decylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat und dergleichen), Alkylmethacrylate (Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, n-Propylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, n-Butylmethacrylat, Isobutylmethacrylat, n-Amylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, n-Octylmethacrylat, n-Decylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und dergleichen), Styrol (Styrol, o-Methylstyrol, m-Methylstyrol, p-Methylstyrol, 2,4-Dimethylstyrol, 2,5-Dimethylstyrol, 3,4-Dimethylstyrol, 3,5-Dimethylstyrol, 2,4,5-Trimethylstyrol, 2,4,6-Trimethylstyrol, o-Ethylstyrol, o-sec-Butylstyrol, o-tert-Butylstyrol, p-Fluorstyrol, 2,5-Difluorstyrol, o-Chlorstyrol, m-Chlorstyrol, p-Chlorstyrol, 2,4-Dichlorstyrol, 2,5-Dichlorstyrol, 2,6-Dichlorstyrol, 3,4-Dichlorstyrol, p-Bromstyrol, p-Cyanostyrol und dergleichen), Acrylonitril, Methacrylonitril, Acrylamid, N-sec-Butylarcylamid, N-tert-Butylarcylamid, N,N-Dibutylacrylamid, N-tert-Butymetharcylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Vinylacetat, ein.
Das Molekulargewicht der Polymerverbindung in der erfindungsgemäß verwendbaren Zwischenschicht kann nicht auf einen spezifischen Bereich beschränkt werden, vorausgesetzt, dass die Polymerverbindung in einem Lösungsmittel löslich ist. Aber im Allgemeinen reicht es von ungefähr 1000 bis 1000000, vorzugsweise von 2000 bis 100000, und insbesondere bevorzugt von 10000 bis 100000 bezogen auf das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht.
Zudem kann die Menge der Monomereinheit mit einer Sulfonsäuregruppe in der Polymerverbindung in einem breiten Bereich liegen, in geeigneter Weise in dem Bereich von ungefähr 1 bis 100 mol% und weiter bevorzugt von 5 bis 100 mol%.
Die Polymerverbindung in der erfindungsgemäßen Zwischenschicht kann durch herkömmlich bekannte Verfahren hergestellt werden. Zum Beispiel kann die Polymerverbindung durch ein Lösungspolymerisationsverfahren erhalten werden und gegebenenfalls durch Neutralisieren der Säuregruppe in dem polymerisierten Produkt. Das Lösungspolymerisationsverfahren wird im Allgemeinen durchgeführt, indem ein Ausgangsmonomer in einem Lösungsmittel, das das Monomer solvatisiert, wie etwa einem Isopropylalkohol, in Gegenwart eines Polymerisationsinitiators unter Stickstoffatomatmosphäre polymerisiert wird. Zudem ist es möglich, dass Polymer als eine wässrige Dispersion zu erhalten, indem das Ausgangsmonomer in Wasser mit einem Tensid emulgiert wird und das Monomer in Gegenwart eines Polymerisationsinitiators, wie etwa Kaliumpersulfat, polymerisiert wird. Es ist zudem möglich, die Polymerverbindung als ein Feststoff aus der Dispersion zu erhalten.
Die Polymerverbindung, die vorstehend beschrieben wurde, kann in einem geeigneten Lösungsmittel aufgelöst werden und kann auf ein Substrat durch herkömmlicherweise bekannte Verfahren beschichtet werden.
Die Menge der beschichteten Polymerverbindung variiert abhängig von der zu verwendenden Verbindung, aber reicht in geeigneter Weise von 0,0001 bis 1 g/m². Wenn die Menge weniger als 0,0001 g/m² beträgt, ist der erfindungsgemäße Effekt zur Inhibierung der Erzeugung einer Hintergrundkontamination nicht ausreichend, während beim Übersteigen von 1 g/m² die Druckhaltbarkeit der Platte unzureichend wird. Demgemäß liegt die Menge vorzugsweise in dem Bereich von 0,005 bis 0,2 g/m².
Die Beschichtungslösung für die Zwischenschicht kann geeignete Additive, wie etwa ein pH-Reguliermittel, z. B. B. Phosphorsäure, phosphorige Säure, Salzsäure, und niedermolekulare organische Sulfonsäure, und ein Benetzungsmittel, z. B. Saponin, umfassen.
(Lichtempfindliche Schicht)
Die fotopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht, die erfindungsgemäß verwendbar ist, wird aus einer fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Zusammensetzung (nachstehend als "fotopolymerisierbare Zusammensetzung" bezeichnet) hergestellt. Die fotopolymerisierbare Zusammensetzung umfasst eine additionspolymerisierbare oder ethylenisch ungesättigte Bindung enthaltende Verbindung, einen Fotopolymerisationsinitiator, und einen Polymerbinder, und umfasst gegebenenfalls eine Reihe von Verbindungen, wie etwa ein Färbemittel, einen Weichmacher, einen Wärmepolymerisationsinhibitor und dergleichen.
Die ethylenisch ungesättigte Bindung in der ethylenisch ungesättigten bindungsenthaltenden Verbindung wird additionspolymerisiert, um die Verbindung zu vernetzen oder zu härten, wenn die fotopolymerisierbare Zusammensetzung mit aktivem Licht belichtet wird. Die Verbindung, die die additionspolymerisierbare oder ethylenisch ungesättigte Bindung umfasst, kann aus der Gruppe ausgewählt werden, die aus Verbindungen besteht, die mindestens eine, vorzugsweise zwei oder mehrere endständige ethylenisch ungesättigte Bindungen umfassen, besteht, die in der Form von z. B. einem Monomer, Prepolymer (d. h. Oligomer, wie etwa Dimer oder Trimer), Polymer und deren Mischung sind.
Beispiele für das Monomer und Copolymer, das eine ethylenisch ungesättigte Bindung umfasst, schließen einen Ester einer ungesättigten Carbonsäure (z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, und Maleinsäure) und aliphatisches Polyol, und einen Amide aus ungesättigter Carbonsäure und aliphatischen Polyamin ein. Beispiele für das Estermonomer von ungesättigter Carbonsäure und aliphatischen Polyol schließen einen Acrylsäureester, wie etwa Ethylenglycoldiacrylat, Triethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglycoldiacrylat, Propylenglycoldiacrylat, Neopentylglycoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglycoldiacrylat, Pentaerythritoldiacrylat, Pentaerythritoltriacrylat; Pentaerythritoltetraacrylat, Dipentaerythritoldiacrylat, Dipentaerythritolpentaacrylat, Dipentaerythritolhexaacrylat, Sorbitoltriacrylat, Sorbitoltetraacrylat, Sorbitolpentaacrylat, Sorbitolhexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Polyesteracrylatoligomer ein.
Beispiele für den Methacrylsäureester schließen Tetramethylenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Neopentylglycoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglycoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritoldimethacrylat, Pentaerythritoltrimethacrylat, Pentaerythritoltetramethacrylat, Dipentaerythritoldimethacrylat, Dipentaerythritolhexamethacrylat, Dipentaerythritolpentamethacrylat, Sorbitoltrimethacrylat, Sorbitoltetramethacrylat, Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethan, Bis-[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan ein.
Beispiele für Itaconsäureester schließen Ethylenglycoldiitaconat, Propylenglycoldiitaconat, 1,5-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglycoldiitaconat, Pentaerythritoldiitaconat, Sorbitoltetraitaconat und dergleichen ein.
Beispiele für Crotonsäureester schließen Ethylenglycoldicrotonat Tetramethylenglycoldicrotonat, Pentaerythritoldicrotonat, Sorbitoltetradicrotonat und dergleichen ein.
Beispiele für Isocrotonsäureester schließen Ethylenglycoldiisocrotonat, Pentaerythritoldiisocrotonat, Sorbitoltetraisocrotonat und dergleichen ein.
Beispiele für Maleinsäureester schließen Ethylenglycoldimaleat, Triethylenglycoldimaleat, Pentaerythritoldimaleat, Sorbitoltetramaleat und dergleichen ein. Ferner sind auch Mischungen der vorstehend erwähnten Estermonomere eingeschlossen.
Beispiele für ein Amidmonomer aus aliphatischer Polyaminverbindung und ungesättigter Carbonsäure schließen Methylenbis-Arcylamid, Methylenbis-Methacrylamid, 1,6-Hexamethylenbis-Arcylamid, 1,6-Hexamethylenbis-Methacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid, Xylylenbismethacrylamid und dergleichen ein.
Andere Beispiele schließen eine Vinylurethanverbindung, die zwei oder mehrere polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül umfasst, die durch eine Additionspolymerisation eines Vinylmonomers mit einer Hydroxylgruppe der folgenden Formel (A) mit einer Polyisocyanatverbindung mit zwei oder mehreren Isocyanatgruppen, wie in JP-B-48-41708 offenbart, ein. CH₂=C(R¹)COOCH₂CH(R²)OH (A)(worin R¹ und R² jeweils H oder CH₃) darstellt.
Zudem können Urethanacrylate, wie in JP-A-51-37193 , JP-B-2-32293 beschrieben, polyfunktionale Acrylate oder Methacrylate, wie etwa Epoxyacrylat, das aus Epoxidharz und (Meth)acrylsäure hergestellt wurde, und Polyesteracrylate, wie in JP-A-48-64183 , JP-B-49-43191 , und JP-B-52-30490 beschrieben, als die Verbindung verwendet werden, die eine ethylenisch ungesättigte Bindung umfasst. Zudem kann ein lichthärtendes Monomer und Oligomer, wie in "Bulletin of Japan Adhäsive Association Band 20, Nr. 7, Seite 300–308 (1984)" verwendet werden. Die Menge der ethylenisch ungesättigten Bindung enthaltenden Verbindung reicht von 5 bis 80 Gew.-% und vorzugsweise von 30 bis 70 Gew.-% auf der Basis des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Schicht.
Der Fotopolymerisationsinitiator, der in der lichtempfindlichen Schicht in der erfindungsgemäßen PS-Platte verwendbar ist, kann aus verschiedenen Fotopolymerisationsinitiatoren ausgewählt werden, über die in vielen Patenten und Veröffentlichungen berichtet wurde, oder aus verschiedenen Kombinationen aus zwei oder mehreren Fotopolymerisationsinitiatoren (Fotoinitiationssystem), abhängig von der zu verwendenden Lichtquelle, ausgewählt werden. Spezifische Beispiele hierfür werden nachstehend beschrieben, aber sind nicht hierauf begrenzt.
Es sind verschiedene Fotoinitiationssysteme vorgeschlagen worden, die für sichtbare Lichtstrahlen mit einer Wellenlänge von 400 nm oder länger verwendet werden können, wobei Beispiele für Lichtquellen einen Ar Laser, eine zweite harmonische Oberschwingung eines Halbleiterlasers und einen SHG-YAG Laser einschließen. Zum Beispiel einen bestimmten Farbstoff, der fotolytisch reduziert werden kann, wie etwa Rose Bengale, Eosin, und Erythrosin ( US-PS 2 850 445 ); ein Kombinationssystem eines Farbstoffs und eines Initiators, wie etwa ein kombiniertes Initiatorsystem, das einen Farbstoff und ein Amin umfasst ( JP-B-44-20189 ); ein System, das Hexaarylbiimidazol, einen radikalischen Initiator und einen Farbstoff umfasst ( JP-B-45-37377 ); ein System, das ein Hexaarylbiimidazol und ein p-Dialkylaminobenzylidenketon umfasst ( JP-B-47-2528 und JP-B-54-155292 ); ein System, das eine cyclische cis-α-Dicarbonylverbindung und einen Farbstoff umfasst ( JP-B-48-84183 ); ein System, das ein substituierten Triazin- und einen Merocyaninfarbstoff umfasst ( JP-B-54-15102 ); ein System, das eine 3-Keto-substituierte Coumarinverbindung und eine aktive Halogenatom enthaltende Verbindung umfasst ( JP-B-52-112681 , JP-A-58-15503 ); ein System, das Biimidazol, Styrolderivat und Thiol umfasst ( JP-A-59-140203 ); ein System, das eine organische Peroxidverbindung und ein Pigment umfasst ( JP-A-59-1504 , JP-A-59-140203 , JP-A-59-189340 , JP-A-62-174203 , JP-B-62-1641 , US-PS 4 766 055 ), ein System, das ein Farbstoff und eine aktive halogenierte Verbindung umfasst ( JP-A-63-258903 , JP-A-2-63054 und dergleichen), ein System, das ein Farbstoff und eine Boratverbindung umfasst ( JP-A-62-143044 , JP-A-62-150242 , JP-A-64-13140 , JP-A-64-13141 , JP-A-64-13142 , JP-A-64-13143 , JP-A-64-13144 , JP-A-64-17048 , JP-A-1-229003 , JP-A-1-298348 , JP-A-1-138204 und dergleichen); ein System, das einen Farbstoff mit einem Rhodaninring und einem radikalischen Erzeugungsmittel umfasst, ( JP-A-2-179643 , JP-A-2-244050 ); ein System, das eine Titanocen- und 3-Ketosubstiuierte Coumarinverbindung umfasst ( JP-A-63-221110 ); ein System, das Titanocen, Xanthenfarbstoff, und eine additionspolymerisierbare Verbindung mit einer ethylenisch ungesättigten Bindung und einer Aminogruppe oder einer Urethangruppe umfasst ( JP-A-4-221958 , JP-A-4-219756 ); ein System, das ein Titanocen und einen spezifischen Merocyaninfarbstoff umfasst ( JP-A-6-295061 ); ein System, das ein Titanocen und einen Farbstoff mit einem Benzopyranring umfasst ( JP-A-8-334897 ).
Zudem wurde ein Laser mit einer Wellenlänge, die von 400 bis 410 nm reicht (Violettlaser) entwickelt. Beispiele für ein Fotoinitiationssystem, das gegenüber Wellenlängen von 450 nm oder weniger empfindlich ist, schließen ein System ein, das einen kationischen Farbstoff/Borat umfasst ( JP-A-11-84647 ), ein System, das einen Merocyaninfarbstoff/Titanocen umfasst ( JP-A-200-147763 ), Carbazolfarbstoff/Titanocen ( JP-A-11-221480 ) und dergleichen. Insbesondere wird ein System, das eine Titanocenverbindung umfasst, vorzugsweise angesichts ihrer hohen Empfindlichkeit verwendet.
Erfindungsgemäß kann eine beliebige Titanocenverbindung verwendet werden, aber eine geeignete Titanocenverbindung kann aus verschiedenen Titanocenverbindungen einschließlich z. B. demjenigen, die in JP-A-59-152396 und JP-B-61-151197 beschrieben sind, ausgewählt werden. Im Einzelnen schließen Beispiele für die Titanocenverbindung Di-cyclopentadienyl-Ti-di-chlorid, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5)6-tetrafluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, Di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-tetrafluorphen-1-yl, Di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorphen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6'-difluor-3-(pyr-1-yl)-phen-1-yl ein.
Bevorzugte Farbstoffe, die mit der Titanocenverbindung zu verwenden sind, schließen Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, Xanthenfarbstoffe, Ketocoumarinfarbstoffe, und Benzopyranfarbstoffe ein. Ein bevorzugter Cyaninfarbstoff wird durch die folgende Formel dargestellt, aber ist nicht hierauf begrenzt.
worin Z¹ und Z² gleich oder verschieden sind und ein Nicht-Metallatom darstellen, das zur Bildung eines Benzimidazol- oder Naphthoimidazolrings notwendig ist; R¹¹, R¹², R¹³ und R¹⁴ jeweils eine optional substituiert Alkylgruppe darstellt; X^– ein Gegenanion darstellt und n 0 oder 1 darstellt.
Spezifische Ausführungsformen für Cyaninfarbstoffe werden in Tabelle 1 beschrieben.
Tabelle 1

_R11 R¹² R¹³ R¹⁴ A¹ A² A³ A⁴ _X– n

C₂H₅ C₂H₅ C₂H₅ C₂H₅ Cl Cl Cl Cl I^– l

C₂H₅ C₂H₅ C₂H₅ C₂H₅ H CF₃ H CF₃ I^– l

^C2^H5 (CH₂)₂SO₃Na C₂H₅ (CH₂)₂SO^– Cl Cl Cl Cl - 0
Bevorzugte Beispiele für Merocyaninfarbstoffe werden nachstehend gezeigt, aber sind nicht hierauf begrenzt.
In den vorstehenden Formeln stellt Z³ und Z⁴ jeweils Nicht-Metallatomgruppe dar, die zur Bildung eines 5-gliedrigen und/oder 6-gliedrigen Stickstoff enthaltenden heterocyclischen Rings notwendig ist, der typischerweise in Cyaninfarbstoffen enthalten ist. R¹⁵ R¹⁵ und R¹⁶ stellt jeweils einen Alkylgruppe dar. Q¹ und Q² sind Atomgruppen, die zur Bildung eines 4-Thiazolinonrings, 5-Thiazolinonrings, 4-Imidazolidinonrings, 4-Oxazolidinonrings, 5-Oxazolidinonrings, 5-Imidazolidinonrings oder 4'-Dithiolanonrings notwendig sind. L¹, L², L³, L⁴ und L⁵ stellen jeweils eine Methingruppe dar. "m" stellt 1 oder 2 dar. "i" und "h" stellen jeweils 0 oder 1 dar. "T" stellt 1 oder 2 dar. "j" und "k" stellet jeweils 0, 1, 2 oder 3 dar. X^– stellen ein Gegenanion dar.
In der vorstehenden Formel stellt R¹⁷ und R¹⁸ jeweils unabhängig ein Wasserstoffatom, Alkylgruppe, substituierte Alkylgruppe, Alkenylgruppe, substituierte Alkenylgruppe, Alkynylgruppe, substituierte Alkynylgruppe, Alkoxycarbonylgruppe, Arylgruppe, substituierte Arylgruppe oder Aralkylgruppe oder Aralkylgruppe dar.
Z⁶ stellt ein Sauerstoffatom, Schwefelatom, Selenatom, Telluratom, Alkyl oder Aryl substituiertes Stickstoffatom, oder Dialkyl substituiertes Kohlenstoffatom dar. Z⁵ stellt Nicht-Metallatome dar, die zur Bildung eines heterocyclischen 5-gliedrigen Rings notwendig sind, der ein Stickstoffatom enthält. B¹ stellt eine substituierte Phenylgruppe, unsubstituierten oder substituierten polynuklearen aromatischen Ring, oder unsubstituierten oder substituierten heteroaromatischen Ring dar. B² stellt ein Wasserstoffatom, Alkylgruppe, substituierte Alkylgruppe, Arylgruppe, substituierte Arylgruppe, Aralkylgruppe, Alkoxylgruppe, Alkylthiogruppe, Arylthiogruppe, substituierte Aminogruppe, Arylgruppe, oder Alkoxycarbonylgruppe dar, oder B² und B¹ können miteinander unter Bildung eines Rings verbunden sein.
Beispiele für Merocyaninfarbstoffe werden nachstehend gezeigt.
Beispiele für Xanthenfarbstoffe schließen Xanthenfarbstoffe schließen Rhodamin B, Rhodamin 6G, Ethyleosin, alkohollösliches Eosin, Pyronin Y, Pyronin B und dergleichen ein.
Bevorzugte Beispiele für Ketocoumarinfarbstoffe werden nachstehend gezeigt, aber sind nicht hierauf begrenzt.
In der vorstehenden Formel stellt R¹⁹, R²⁰ und R²¹ jeweils unabhängig ein Wasserstoffatom, Halogenatom, Alkylgruppe oder Alkoxylgruppe dar, R²¹ und R²³ stellen jeweils eine Alkylgruppe dar, vorausgesetzt, dass mindestens eine Gruppe eine Alkylgruppe mit 4 bis 16 Kohlenstoffatomen darstellt, R²⁴ stellt ein Wasserstoffatom, Alkylgruppe, Alkoxylgruppe, Acylgruppe, Cyanogruppe, Carboxylgruppe oder Ester oder Amidderivat davon dar; R²⁵ stellt einen Rest des heteroaromatischen Rings dar, der insgesamt 3 bis 17 Kohlenstoffatome aufweist und durch CO-R²⁶, hergestellt wird, R²⁰ und R²¹ und/oder R²² und R²³ können miteinander unter Bildung eines Rings verbunden sein, und R²⁶ stellt die folgende Gruppe dar.
Beispiele für Ketocoumarinfarbstoffe werden nachstehend gezeigt.
Bevorzugte Beispiele für Benzopyranfarbstoffe schließen die Verbindungen der Folgenden ein, aber sind nicht hierauf begrenzt.
In der vorstehenden Formel sind R²⁷, R²⁸ und R²⁹ unabhängig aus Wasserstoffatom, Halogenatom, Alkylgruppe, Arylgruppe, Hydroxylgruppe, Alkoxylgruppe und Aminogruppe ausgewählt. Zudem können R²⁷, R²⁸ und R²⁹ einen Ring bilden, der aus Nicht-Metallatomen zusammen mit den hieran gebundenen Kohlenstoffatome besteht. R³¹ stellt ein Wasserstoffatom, Alkylgruppe, Arylgruppe, heteroaromatischer Gruppe, Cyanogruppe, Alkoxylgruppe, Carboxylgruppe oder Alkenylgruppe dar. R²⁹ stellt eine Gruppe aus R³¹, oder -Z⁹-R³¹ dar, worin Z⁹ eine Carbonylgruppe, Sulfonylgruppe, Sulfinylgruppe oder Arylendicarbonylgruppe darstellt. Alternativ können R³¹ und R³² einen Ring bilden, der aus Nicht-Metallatomen besteht. Z⁷ stellt =, S, NH oder Stickstoffatom dar, das einen Substituenten darauf umfasst.
Z⁸ stellt die folgende Gruppe dar:
worin G¹ und G² gleich oder verschieden sein können und ein Wasserstoffatom, Cyanogruppe, Alkoxycarbonylgruppe, Aryloxycarbonylgruppe, Acylgruppe, Arylcarbonylgruppe, Alkylthiogruppe, Arylthiogruppe, Alkylsulfonylgruppe, Arylsulfonylgruppe oder Fluorsulfonylgruppe darstellt, aber G¹ und G² stelle nicht gleichzeitig ein Wasserstoffatom dar. Zudem können, G¹ und G² einen Ring bilden, der aus Nicht-Metallatomen zusammen mit einem Kohlenstoffatom besteht.
Beispiele für Benzopyranfarbstoffe werden nachstehend gezeigt.
Darüber hinaus ist es bekannt, dass die Fotoinitiationsfähigkeit des vorstehend beschriebenen Fotopolymerisationsinitiators weiter zunimmt, indem gegebenenfalls zu dem Initiator eine Wasserstoff spendende Verbindung, wie etwa Thiolverbindungen, z. B. 2-Mercaptobenzthiazol, 2-Mercaptobenzimidazol, und 2-Mercaptobenzoxazol, und Aminverbindungen, z. B. N-Phenylglycin, N,N-Dialkylaminoarylcarboxylsäurealkylester gegeben werden.
Die Menge des Fotopolymerisationsinitiators (oder Systems), das zu verwenden ist, reicht von 0,05 bis 100 Gewichtsteilen, vorzugsweise von 0,1 bis 70 Gewichtsteilen und weiter bevorzugt von 0,2 bis 50 Gewichtsteilen, pro 100 Gewichtsteilen der ethylenisch ungesättigten Bindung enthaltenden Verbindung.
Das Binderpolymer, das in der lichtempfindlichen Schicht der erfindungsgemäßen PS-Platte verwendet wird, sollte ein Film erzeugendes Material genauso wie ein Alkalientwicklungsmittel lösliches Material sein. Daher kann eine organische Polymerverbindung, die in einem Alkaliwasser löslich oder anschwellbar ist, verwendet werden. So kann bei Verwendung eines wasserlöslichen organischen Polymers eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung mit Wasser entwickelt werden. Beispiele für eine solche organische Polymerverbindung, die in einem Alkaliwasser löslich oder anschwellbar ist, schließen Additionspolymere mit Carboxylgruppen auf den Seitenketten, wie etwa Methacrylcopolymere, Acrylcopolymere, Itaconsäurecopolymer, Crotonsäurecopolymer, Maleinsäurecopolymere, und partiell veresterte Maleinsäurecopolymer, wie in JP-A-59-44615 , 54-92723 , 59-53836 und 59-71048 , und JP-B-54-34327 , 58-12577 und 54-25957 offenbart, ein.
Zudem kann ein saueres Cellolosederivat mit einer Carboxylgruppe auf der Seitenkette in dem erfindungsgemäßen Binderpolymer verwendet werden. Zudem wird an ein Polymer, das erzeugt wird, indem ein cyclisches Säureanhydrid zu einem Additionspolymer mit einer Hydroxylgruppe gegeben wird, verwendet werden. Von diesen Verbindungen sind [Benzyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/andere optionale additionspolymerisierbare Vinylmonomer] Copolymere und [Allyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/andere optionale additionspolymerisierbare Vinylmonomer]copolymere bevorzugt. Zudem sind Polyvinylpyrrolidon und Polyethylenoxid als ein wasserlösliches organisches Polymer nützlich. Alkohollösliche Polyamide und Polyether, wie etwa ein Reaktionsprodukt von 2,2-Bis-(4-hydroxyphenyl)-propan mit Epichlorhydrin sind auch zur Verbesserung der Festigkeit des gehärteten Films nützlich. Zudem sind Polyurethanharze, die in JP-B-7-120040 , 7-120041 , 7-120042 , 8-12424 , JP-A-63-287944 , 63-287947 , 1-271741 , und 11-352691 beschrieben werden, auch erfindungsgemäß nützlich.
Die Festigkeit des gehärteten Films kann erhöht werden, indem eine radikalische reaktive Gruppe in die Seitenkette der vorstehend beschriebenen organischen Polymerverbindung eingeführt wird.
Beispiele für die additionspolymerisierbare Gruppe schließen eine ethylenisch ungesättigte Gruppe, Aminogruppe, Epoxidgruppe und dergleichen ein. Beispiele für eine funktionale Gruppe, die bei Belichtung ein freies Radikal wird, schließen eine Mercaptogruppe, Thiolgruppe, Halogenatom, Triazinstruktur, Oniumsalzstruktur und dergleichen ein. Zudem schließen Beispiele für eine polare Gruppe, die in der Binderpolymerverbindung vorhanden sein kann, eine Carboxylgruppe, Imidgruppe und dergleichen ein. Insbesondere sind ethylenisch ungesättigte Gruppen, wie etwa Acrylgruppe, Methacrylgruppe, Allylgruppe, und Styrylgruppe als eine additionspolymerisierbar funktionale Gruppe bevorzugt. Zudem können eine funktionale Gruppe, die aus Gruppe ausgewählt ist, die aus einer Aminogruppe, Hydroxylgruppe, Phosphonsäuregruppe, Phosphorsäuregruppe, Carbamoylgruppe, Isocyanatgruppe, Ureidgruppe, Ureylengruppe, Sulfonsäuregruppe und Ammoniumgruppe besteht, verwendet werden.
Zur Beibehaltung der Entwicklungsfähigkeit der Zusammensetzung umfasst die Binderpolymerverbindung, die erfindungsgemäß verwendet wird, vorzugsweise ein geeignetes Molekulargewicht und eine geeignete Säurezahl. Das heißt, eine Polymerverbindung mit einem Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht, das von 5000 bis 300 000 reicht und eine Säurezahl, die von 20 bis 200 reicht, besitzt, kann effektiv verwendet werden. Diese organischen Polymerverbindungen können in die fotopolymerisierbare Zusammensetzung in jeder beliebigen geeigneten Menge eingebaut werden. Jedoch würde beim Übersteigen der Menge von 90 Gew.-% unerwünschte Probleme entstehen. Zum Beispiel kann das erzeugte Bild eine unzureichende Festigkeit besitzen. Deren Menge beträgt vorzugsweise 10 bis 90 Gew.-% und weiter bevorzugt 30 bis 80 Gew.-%. Das Gewichtsverhältnis der fotopolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Bindung zu der organische Polymerverbindung beträgt vorzugsweise 1/9 bis 9/1, weiter bevorzugt 2/8 bis 8/2 und 7/3 und weiter bevorzugt 3/7 bis 7/3.
Darüber hinaus kann die erfindungsgemäß verwendbare lichtempfindliche Schicht vorzugsweise eine kleine Menge eines Wärmepolymerisationsinhibitors, zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen Hauptkomponenten, umfassen, um nicht notwendige Wärmepolymerisation der polymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Bindung enthaltenden Verbindung während der Herstellung der lichtempfindlichen Zusammensetzung oder deren Lagerung zu inhibieren. Spezifische Beispiele für den Wärmepolymerisationsinhibitor, der effektiv verwendet wird, sind Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-Nitrosophenylhydroxylamincersalz, und N-Nitrosophenylhydroxylaminaluminiumsalz.
Die Menge des Wärmepolymerisationsinhibitors, basierend auf dem Gesamtgewicht des lichtempfindlichen Zusammensetzung, beträgt vorzugsweise von ungefähr 0,01 bis ungefähr 5 Gew.-%. Zudem kann, soweit notwendig, ein höheres Fettsäurederivat, wie etwa Beheninsäure und Beheninsäureamid zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben werden, um das Blockieren der Polymerisation durch Sauerstoff zu inhibieren. Das höhere Fettsäurederivat kann auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht während dem Trocknungsverfahren nach Auftragung verteilt werden. Die Menge des höheren Fettsäurederivats liegt vorzugsweise in dem Bereich von ungefähr 0,5 bis ungefähr 10 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Zudem kann ein Färbemittel zu der lichtempfindlichen Schicht zur Färbung der Schicht zugegeben werden. Beispiele für das Färbemittel schließen Phthalocyaninpigmente (C. I. Pigment Blue 15:3, 15:4, 15:6 und dergleichen), Azopigmente, Ruß, Titanoxidpigmente, Ethylviolett, Kristallviolett, Azofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, und Cyaninfarbstoffe ein. Die Menge an Farbstoffen oder Pigmente reicht vorzugsweise von ungefähr 0,5 % bis ungefähr 20 Gew.-% auf der Basis des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung. Zudem kann zur Verbesserung der Eigenschaften des gebildeten Films ein Additiv, wie etwa ein anorganischer Füllstoff und Weichmacher, z. B. Dioctylphthalat, Dimethylphthalat und Tricresylphosphat, zugegeben werden. Die Menge des Additivs beträgt vorzugsweise 10 Gew.-% oder weniger, basierend auf dem Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung, die für die erfindungsgemäße PS-Platte verwendet wird, kann in einer Reihe von organischen Lösungsmitteln aufgelöst werden, wenn die Zusammensetzung auf die vorstehende Zwischenschicht aufgetragen wird. Beispiel für die organischen Lösungsmittel schließen Aceton, Methylethylketon, Cyclohexan, Ethylacetat, Ethylendichlorid, Tetrahydrofuran, Toluol, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, Ethylenglycoldimethylether, Propylenglycolmonomethylether, Propylenglycolmonoethylether, Acetylaceton, Cyclohexanon, Diacetonalkohol, Ethylenglycolmonomethyletheracetat, Ethylenglycolethyletheracetat, Ethylenglycolmonoisopropylether, Ethylenglycolmonobutyletheracetat, 3-Methoxypropanol, Methoxymethoxyethanol, Diethylenglycolmonomethylether, Diethylenglycolmonoethylether, Diethylenglycoldimethylether, Diethylenglycoldiethylether, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Propylenglycolmonoethyletheracetat-3-methoxypropylacetat, N,N-Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, γ-Butyrolacton, Methyllactat, Ethyllactat ein. Das Lösungsmittel kann alleine oder in Kombination verwendet werden. Eine geeignete Konzentration für den Feststoff in der Beschichtungslösung reicht von 1 % bis 50 Gew.-%
Die fotopolymerisierbare Zusammensetzung, die für die lichtempfindliche Schicht der erfindungsgemäßen PS-Platte verwendet wird, kann ferner ein Tensid zur Verbesserung der Eigenschaften der beschichteten Oberfläche umfassen. Die Menge des Tensids in der lichtempfindlichen Schicht reicht in geeigneter Weise von ungefähr 0,1 g/m² bis ungefähr 10 g/m², vorzugsweise von 0,3 bis 5 g/m², und weiter bevorzugt von 0,5 bis 3 g/m², basierend auf dem getrockneten Gewicht der lichtempfindlichen Schicht.
Eine Schutzschicht mit einer Sauerstoffbarrierefunktion kann optional auf die Schicht der fotopolymerisierbaren Zusammensetzung auf ein Substrat zum Eliminieren des Polymerisationsinhibitoreffekts von Sauerstoff in der Luft aufgetragen werden. Beispiele für ein wasserlösliches Vinylpolymer, das in einer solchen Schutzschicht mit einer Sauerstoffbarrierefunktion umfasst ist, schließen Polyvinylalkohol, partieller Ester, Ether, oder deren Acetal und deren Copolymer ein, die eine wesentliche Menge einer unsubstituierten Vinylalkoholeinheit umfassen, die die Verbindungen wasserlöslich macht. Beispiele für den Polyvinylalkohol schließen diejenigen mit einem Verseifungsgrad von 71 % bis 100 % und einem Polymerisationsgrad von 300 bis 2400 ein. Spezifische Beispiele hierfür schließen PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, L-8 (erhältlich von Kuraray Co., Ltd.) und dergleichen ein. Beispiele für das Copolymer schließen ein Copolymer aus Polyvinylacetat, Polyvinychloracetat, Polyvinylpropionat, Polyvinylformal oder Polyvinylacetal und deren Copolymere, die auf einen Grad von 88 % bis 100 % verseift sind, ein. Zudem schließen Beispiele für die anderen nützlichen Polymere für die Schutzschicht Polyvinylpyrrolidon, Gelatine, und arabischen Gummi ein. Die Polymere können allein oder in Kombination verwendet werden.
Ein für die Beschichtung der Schutzschicht mit einer Sauerstoffbarrierefunktion zu verwendendes Lösungsmittel ist vorzugsweise reines Wasser. Aber es kann auch eine Mischung aus reinem Wasser und Alkoholen, wie etwa Methanol und Ethanol und/oder Ketonen, wie etwa Aceton und Methylethylketon verwendet werden. Die Menge des Feststoffs in der Beschichtungslösung reicht in geeigneter Weise von 1 % bis 20 Gew.-%.
Zudem kann die Schutzschicht mit einer Sauerstoffbarrierefunktion bekannte Additive, wie etwa ein Tensid zur Verbesserung einer Auftragungseigenschaft der Schicht und einen Weichmacher zur Verbesserung einer Filmeigenschaft umfassen. Als einen wässrigen Weichmacher können z. B. Propionamid, Cyclohexandiol, Glycerin, Sorbitol und dergleichen zugegeben werden. Zudem können wässrige (Meth)acrylpolymere zugegeben werden. Die Menge der Additive nach dem Trocknen reicht in geeigneter Weise von 0,1 g/m² bis ungefähr 15 g/m², und vorzugsweise von ungefähr 1,0 g/m² bis ungefähr 5,0 g/m².
Nachstehend wird ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen lithographischen Druckplatte im Einzelnen beschrieben. Die vorstehend beschrieben PS-Platte wird bildweise belichtet und dann mit einem Entwicklungsmittel, das ein anorganisches Alkalisalz und ein eine Polyoxyalkylenethergruppe umfassendes nicht-ionisches Tensid umfasst, entwickelt.
Das erfindungsgemäß verwendete neue Entwicklungsmittel wird nachstehend beschrieben.
(Entwicklungsmittel)
Das in dem Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen lithographischen Druckplatte verwendete Entwicklungsmittel umfasst mindestens ein anorganisches Alkalisalz und mindestens ein nicht-ionisches Tensid. Zudem besitzt das Entwicklungsmittel vorzugsweise einen pH-Wert, der von 10,0 bis 12,7 reicht, und besitzt eine Leitfähigkeit, die von 3 bis 20 mS/cm reicht.
Beispiele für das anorganische Alkalisalz schließen ein beliebiges Alkalimittel, vorzugsweise diejenigen mit der vorstehend beschriebenen Eigenschaft ein Spezifische Beispiele hierfür schließen anorganische Alkalimittel, wie etwa Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Triammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Ammoniumbicarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Ammoniumhydroxid, und Lithiumhydroxid ein.
Zudem kann ein organisches Alkalimittel als ein sekundäres Mittel zur Unterstützung einer genauen Steuerung der Alkalikonzentration und einer Verbesserung der Löslichkeit einer lichtempfindlichen Schicht verwendet werden. Beispiele für das organische Alkalimittel schließen Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin, Pyridin, Tetramethylammoniumhydroxid und dergleichen ein. Diese Alkalimittel können allein oder in Kombination verwendet werden.
Das in dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Entwicklungsmittel umfasst ein nicht-ionisches Tensid, das eine Polyoxyalkylenethergruppe umfasst. Das nicht-ionische Tensid in dem Entwicklungsmittel verbessert die Löslichkeit eines unbestrahlten Abschnitts der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht und verringert die Permeabilität des Entwicklungsmittels in einen bestrahlten Abschnitt der lichtempfindlichen Schicht. Die folgende Verbindung der allgemeinen Formel (I) kann in geeigneter Weise als ein Tensid, das eine Polyoxyalkylenethergruppe umfasst, verwendet werden. R⁴⁰-O-(R⁴¹-O)pH (I)
In der Formel (I) stellt R⁴⁰ eine optional substituierte Alkylgruppe mit 3 bis 15 Kohlenstoffatomen, optional substituierte aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 15 Kohlenstoffatomen, oder optional substituierter heteroaromatischer Ring mit 4 bis 15 Kohlenstoffatomen dar, worin der Substituent auf diese Gruppen eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, Halogenatom, wie etwa Br, Cl, I, etc., aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 15 Kohlenstoffatomen, Aralkylgruppe mit 7 bis 17 Kohlenstoffatomen, Alkoxylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, Alkoxycarbonylgruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, und Acylgruppe mit 2 bis 15 Kohlenstoffatomen einschließen kann, R⁴¹ eine optional substituierte Alkylengruppe mit 1 bis 100 Kohlenstoffatomen darstellt, worin die Substituenten auf der Gruppe eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen und aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 15 Kohlenstoffatomen einschließen kann, und p eine ganze Zahl von 1 bis 100 darstellt.
In der Formel (I) schließen spezifische Beispiele für "aromatische Kohlenwasserstoffgruppe" Phenylgruppe, Tolylgruppe, Naphthylgruppe, Anthrylgruppe, Biphenylgruppe, und Phenanthrylgruppe; spezifische Beispiele für "heteroaromatischen Ring" schließen Furylgruppe, Thionylgruppe, Oxazolylgruppe, Imidazolylgruppe, Pyranylgruppe, Pyridinylgruppe, Acridinylgruppe, Benzofuranylgruppe, Benzothionylgruppe, Benzopyranylgruppe, Benzoxazolylgruppe, und Benzimidazolylgruppe ein.
Zudem kann, wenn p eine ganze Zahl von 2 bis 100 ist, R⁴¹ gleich oder verschieden sein. Spezifische Beispiele für eine solche Gruppe schließen eine Kombination aus Ethylenoxygruppe und Propylenoxygruppe, eine Kombination aus Ethylenoxygruppe und Isopropyloxygruppe, eine Kombination aus Ethylenoxygruppe und Butylenoxygruppe, und eine Kombination aus Ethylenoxygruppe und Isobutylengruppe ein, worin jede Gruppe auf eine statistische oder blockweise verbunden sein kann. Erfindungsgemäß kann das nicht-ionische Tensid, das eine Polyoxyalkylenethergruppe umfasst, allein oder in Kombination verwendet werden. Eine effektive Menge des Tensids, die in einem Entwicklungsmittel zu verwenden ist, ist in dem Bereich von 1 bis 30 Gew.-% und vorzugsweise 2 bis 20 Gew.-%. Wenn die Menge des Tensids zu klein ist, würde die Entwicklungsfähigkeit des Entwicklungsmittels verschlechtert werden. Wenn die Menge des Tensids überschüssig ist, würde die Druckhaltbarkeit verschlechtert werden.
Beispiele für das nicht-ionische Tensid, das eine Polyoxyalkylenethergruppe der vorstehenden allgemeinen Formel (I) umfasst, schließen Polyoxyethylenalkylether, wie etwa Polyoxyethylenlaurylether, Polyoxyethylencetylether, Polyoxyethylenstearylether und dergleichen, Polyoxyethylenarylether, wie etwa Polyoxyethylenphenylether, Polyoxyethylennaphthylether und dergleichen, und Polyoxyethylenalkylarylether, wie etwa Polyoxyethylenmethylphenylether, Polyoxyethylenoctylphenylether, Polyoxyethylennonylphenylether und der gleichen ein.
Ferner können die folgenden anderen Tenside zu dem erfindungsgemäß verwendeten Entwicklungsmittel zugegeben werden; nicht-ionische Tenside (z. B. Polyoxyethylenalkylester, wie etwa Polyoxyethylenstearat, Sorbitanalkylester, wie etwa Sorbitanmonolaurat, Sorbitanmonostearat, Sorbitandistearat, Sorbitanmonooleat, Sorbitansesquioleat, und Sorbitantrioleat, und Monoglyceridalkylester, wie etwa Glycerolmonostearat, und Glycerolmonooleat); anionische Tenside (z. B. Salze von Alkylbenzolsulfonsäure, wie etwa Natriumdodecylbenzolsulfonate, Salze von Alkylnaphthalensulfonsäure, wie etwa Natriumbutylnaphthalensulfonate, Natriumpentyhiaphthalensulfonat, Natriumhexylnaphthalensulfonat, und Natriumoctylnaphthalensulfonat, Alkylsulfate, wie etwa Natriumlaurylsulfat, Salze von Alkylsulfonsäure, wie etwa Natriumdodecylsulfonat, und Salze von Sulfosuccinsäureester, wie etwa Natriumdilaurylsulfosuccinat); und amphotere Tenside (z. B. Alkylbetain, wie etwa Laurylbetain und Stearylbetain, und Aminosäuren), wobei die anionischen Tenside, wie etwa Alkylnaphthalensulfonsäuresalz insbesondere bevorzugt sind.
Diese Tenside können allein oder in Kombination verwendet werden. Die Menge des Tensids in dem Entwicklungsmittel liegt in geeigneter Weise in dem Bereich von 0,1 bis 20 Gew.-% wobei die Menge basierend auf dem Gewicht der effektiven Komponente in dem Tensid berechnet wird.
Der bevorzugte pH-Wert des erfindungsgemäß verwendeten Entwicklungsmittels liegt in dem Bereich von 10,0 bis 12,7. Wenn der pH-Wert des Entwicklungsmittels niedriger als 10,0 ist, ist es nicht möglich, ein Bild zu erzeugen. Im Gegensatz hierzu werden bei einem pH-Wert des Entwicklungsmittels vom mehr als 12,7 solche Probleme, wie etwa eine Überentwicklung der Platte oder eine Beschädigung eines bestrahlten Abschnitts während der Entwicklung hervorgerufen. Der weiter bevorzugte Bereich des pH-Werts beträgt von 11,0 bis 12,5.
Das erfindungsgemäß verwendete Entwicklungsmittel besitzt vorzugsweise eine Leitfähigkeit in dem Bereich von 3 bis 30 mS/Cm. Wenn die Leitfähigkeit des Entwicklungsmittels niedriger als der Bereich ist, ist es im Allgemeinen schwierig, die lichtempfindliche Zusammensetzung auf einem Aluminiumsubstrat zu eluieren (aufzulösen), was so zu einer Kontamination der Platte während dem Druckverfahren führt. Wenn die Leitfähigkeit höher als der Bereich ist, wird eine Elutionsrate der lichtempfindlichen Zusammensetzung so langsam, dass ein Zurückbleiben eines nicht-bestrahlten Abschnittes eines Films aufgrund einer hohen Konzentration eines Salzes erzeugt wird. Insbesondere liegt die Leitfähigkeit vorzugsweise in dem Bereich von 5 bis 20 mS/cm.
(Belichtung und Entwicklung)
Die erfindungsgemäße PS-Platte wird mit herkömmlichen aktivem Licht, wie etwa Kohlenstoffbogenlampe, Hochdruckquecksilberlampen, Xenonlampen, Metallhalidlampen, Fluoreszenzlampen, Wolframlampen, Halogenlampen, Helium-Cadmiumlaser, Argonionenlaser, FD-YAG Laser, Heliumneonlaser und Halbleiterlaser (350 nm bis 600 nm) bildweise belichtet. Dann wurde die Platte mit einem Entwicklungsmittel zur Erzeugung eines Bildes auf der Oberfläche der Aluminiumplatte entwickelt. Nach der bildweisen Belichtung und vor der Entwicklung kann die Platte bei 50°C auf 150°C für 1 Sekunde bis 5 Minuten zur Verstärkung des Polymerisationsgrades der fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht erhitzt werden.
Typischerweise wird eine Überbeschichtungsschicht mit einer Sauerstoffbarrierefunktion auf eine lichtempfindliche Schicht der erfindungsgemäßen PS-Platte, wie vorstehend beschrieben, beschichtet. Es ist bekannt, dass eine solche Überbeschichtungsschicht gleichzeitig mit der Entfernung des nicht-bestrahlten Abschnittes der lichtempfindlichen Schicht mit einem Entwicklungsmittel entfernt werden kann, oder mit Wasser oder heißem Wasser vor dem Entfernen des nicht-bestrahlten Abschnittes der lichtempfindlichen Schicht mit einem Entwicklungsmittel entfernt werden kann. Ein solches Wasser oder heißes Wasser kann Konservierungsmittel, wie in JP-A-10-10754 beschrieben, und organische Lösungsmittel, wie in JP-A-8-278636 beschrieben, umfassen.
Die Entwicklung der erfindungsgemäßen PS-Platte mit dem vorstehend beschriebenen Entwicklungsmittel kann unter herkömmlichen Bedingungen durchgeführt werden, d. h. Eintauchen der bildweise belichteten Platte in das Entwicklungsmittel bei 0 bis 60°C, vorzugsweise bei 15 bis 40°C und durch Abreiben der Platte mit einer Bürste durchgeführt werden.
Zudem kann in dem Fall, dass das Entwicklungsverfahren unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine durchgeführt wird, eine Entwicklungsfähigkeit eines darin verwendeten Entwicklungsmittels (Fähigkeit des Entwicklungsmittels zum ausreichenden Auflösen der Platte) wiedergewonnen werden, indem ein Auffüllmittel oder ein frisches Entwicklungsmittel zugegeben wird, wenn das Entwicklungsmittel erschöpft wird, nachdem eine große Anzahl von Platten behandelt wurde.
Die so behandelte Platte wird dann im Allgemeinen mit Wasser, einer ein Tensid umfassenden Spüllösung, und/oder einer Lösung zum Desensibilisieren der Platte gegenüber Schmierfett, das arabischen Gummi, Stärkederivate und dergleichen umfasst, wie in JP-A-54-8802 , 5-115045 , und 59-58431 beschrieben. Die erfindungsgemäße PS-Platte kann verschieden Kombinationen der Behandlung unterzogen werden.
Die so behandelte Platte kann ferner einer Wärmebehandlung, wie etwa Brennen, oder einer Behandlung nach Belichtung, wie in JP-A-200-89478 beschrieben, unterzogen werden, um die Druckhaltbarkeit der Platte zu verbessern.
Die erhaltene lithographische Druckplatte wird auf eine Offsetpresse gestellt und dann zum Drucken verwendet.
BEISPIELE
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung genauer anhand von Beispielen erläutert, aber die vorliegende Erfindung ist nicht hierauf begrenzt.
[Beispiel 1]
Eine 1S Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde mit einer Nr. 8 Nylonbürste und einer Suspension aus Bimsstein mit Maschenzahl 800 in Wasser oberflächengekörnt und dann ausreichend mit Wasser gewaschen. Nach dem Ätzen der Platte durch Eintauchen dieser in eine wässrige Lösung aus 10 % Natriumhydroxid für 60 Sekunden bei 70°C wurde die Platte mit laufendem Wasser gewaschen. Dann wurde die Platte mit 20 %iger HNO₃ zu ihrer Neutralisierung gewaschen und mit Wasser gewaschen. Dann wurde ein elektrolytisches Körnen der Platte in 1 %iger wässriger Salpetersäurelösung unter Verwendung einer alternierenden kontinuierlichen Spannung mit rechteckiger Wellenform mit einer Anodenstrommenge von 300 Coulomb/dm² unter der Bedingung von V_A=12,7 V durchgeführt. Die Rauhigkeit der Oberfläche der Platte wurde durch eine experimentelle Vorrichtung bestimmt: Surfcour, erhältlich von Tokyo Seimitu Co. Ltd., mit einer Nadel mit einem Spitzendurchmesser von 2 μm, und dies betrug 0,45 μm (Ra). Die Platte wurde dann in 30 %ige H₂SO₄ für 2 Minuten bei 55°C eingetaucht, um die Oberfläche von Schmutz zu befreien. Dann wurde die Platte in einer 20 %igen wässrigen Lösung aus H₂SO₄ bei 33°C anodisch oxidiert, indem eine Kathode auf der gekörnten Oberfläche unter Verwendung einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm² für 50 Sekunden platziert wurde, um ein Substrat mit einer anodisierten Schicht zu erhalten, deren Dicke 2,7 g/m² betrug.
Auf der behandelten Aluminiumplatte wurde eine Lösung aus Methylmethacrylat/Ethylacrylat/2-Arcylamid-2-methylpropansulf onsäure, Natriumsalzcopolymer (60/25/15 molares Verhältnis, Molekulargewicht Mn = 30000) in Wasser/Methanol = 5 g/95 g beschichtet und die Platte wurde bei 80°C 30 Sekunden zur Erzeugung einer Zwischenschicht getrocknet. Die Dicke der Zwischenschicht betrug 3 mg/m². Eine hochempfindliche fotopolymerisierbare Zusammensetzung P-1, die nachstehend beschrieben wird, wurde auf die Zwischenschicht beschichtet, so dass deren Trockengewicht 1,5 g/m² wurde, und dann wurde die Platte bei 100°C 1 Minute zur Erzeugung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet.

(Fotopolymerisierbare Zusammensetzung P-1)
Ethylenisch ungesättigte Bindung	1,5 Gewichtsteile
enthaltende Verbindung (A1)
Lineare organische Polymerverbindung	2,0 Gewichtsteile
(Polymerbinder) (B1)
Sensibilisierungsmittel (C1)	0,15 Gewichtsteile
Fotopolymerisationsinitiator (D1)	0,2 Gewichtsteile
ε-Phthalocyanin (F1) Dispersion i	0,02 Gewichtsteile
Fluoratom enthaltendes nicht-ionisches	0,03 Gewichtsteile
Tensid, Megafac F 177 (Dainippon Ink and
Chemicals, Inc.)
Methylethylketon	9,0 Gewichtsteile
Propylenglycolmonomethyletheracetat	7,5 Gewichtsteile
Toluol	11,0 Gewichtsteile

3 gew.-%ige Lösung aus Polyvinylalkohol (der Grad der Verseifung betrug 98 mol% und der Polymerisationsgrad betrug 500) wurde auf die lichtempfindliche Schicht geschichtet, so dass das Trockengewicht des Polyvinylalkohols 2,5 g/m² wurde und die Beschichtung wurde bei 120°C 3 Minuten zum Erhalt einer PS-Platte getrocknet.

Um das Niveau der Kontamination einer lithographischen Druckplatte unter Alterungsbedingungen zu erfahren, wurde die PS-Platte 5 Tabe bei 50°C in 80 %iger relativer Feuchtigkeit gelagert, um so Alterungsbedingungen zu simulieren.
Die PS-Platte wurde vor und nach dem Lagern unter Bedingungen einer simulierten Alterung mit 100 μJ/cm³ aus einem FD·YAG Laser (Plate Jet 4, erhältlich von CSI Company) belichtet, indem 1 bis 99 % des Bildpunktbilds (1 % weise) abgetastet wurde, und ein einfarbiges Bild der Platte unter einer Bedingung von 4000 dpi und 175 Zeilen/Inch wurde erhalten. Dann wurde die Platte einer Standardbehandlung in einer automatischen Entwicklungsmaschine (LP-850P2, erhältlich von Fuji Photo Film Co. Ltd.), die Entwicklungsmittel 1 und eine Endbearbeitungsgummiflüssigkeit FP-2W (erhältlich von Fuji Photo Film Co. Ltd.) umfasste, unterzogen. Das Vorerhitzen der Platte wurde bei einer Temperatur auf der Oberfläche der Platte von 100°C, eine Entwicklungstemperatur von 30°C, und einer Eintauchzeit in einem Entwicklungsmittel von ungefähr 15 Sekunden durchgeführt.
Entwicklungsmittel 1 enthält die nachstehend beschriebenen Komponenten und besitzt einen pH-Wert von 11,5 bei 25°C und einer Leitfähigkeit von 5 mS/cm. (Entwicklungsmittel 1)

Kaliumhydroxid 0,15 g

Polyoxyethylenphenylether (n = 13) 5,0 g

Chelest 400 (Chelatisierungsmittel) 0,1 g

Wasser 94,75 g
[Beispiele 2 bis 5]

Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde wiederholt, bis darauf, dass die Copolymerkomponente einer Zwischenschicht in Tabelle 2 durch die Copolymerkomponente für die Zwischenschicht, die in Beispiel 1 beschrieben wurde, substituiert wurde, um eine lithographische Druckplatte vor und nach der Lagerung unter Altersbedingungen zu erhalten. Tabelle 2: Copolymerkomponente für eine Zwischenschicht (mol%)

Komponenten	Zusammensetzung
Komponenten	B	B	C	D
Methylmethacrylat	30			40
N-t-Butylarcylamid	-	40	50
Methylacrylat	40	40	30	40
Natrium-p-styrolsulfonat	30	10	-
Natrium-2-arcylamid-2-methylpropansulfonat	-	10	15	10
Natriumvinylsulfonat			5
Methacrylsäure	-	-	-	10
Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht	80 000	40 000	20 000	60 000

[Beispiele 6 bis 8]
Das gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde wiederholt, bis darauf, dass die Beschichtungsmenge für die Zwischenschicht in Beispiel 1 in 1 mg/m², 5 mg/m² und 8 mg/m² geändert wurde, um die lithographischen Druckplatten von Beispielen 6 bis 8 zu erhalten.
[Beispiele 9 bis 11]
Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 6 beschrieben, wurde wiederholt, bis darauf, dass eine lineare organische Polymerverbindung B2 oder B3 für B1 in der fotopolymerisierbaren Zusammensetzung P-1, die in Beispiel 1 beschrieben wurde, substituiert wurde (d. h., die fotopolymerisierbare Zusammensetzung P-2 oder P-3 wurde anstelle von P-1) verwendet), um lithographische Druckplatten von Beispielen 9 und 10 zu erhalten.

B2 (P-2) Allylmethacrylat/Methacrylsäure (70/30 mol%) Copolymer, Molekulargewicht: 50 000.
B3 (P-3): Methylmethacrylat/Isobutylmethacrylat/Methacrylsäure (60/20/20 mol%) Copolymer, Molekulargewicht 100 000.

Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 6 beschrieben, wurde wiederholt, bis darauf, dass die folgende Verbindung (A2) für Al substituiert wurde (d. h., es wurde die ethylenisch ungesättigte Bindung enthaltende Verbindung P-4 verwendet), um eine lithographische Druckplatte vom Beispiel 11 zu erhalten.
[Beispiele 12 bis 15]

Das gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 wurde wiederholt, bis darauf, das Entwicklungsmittel 2, 3, oder 4 in Tabelle 3 für Entwicklungsmittel 1 in Beispiel 1 ersetzt wurde, um lithographische Druckplatten von Beispielen 12 bis 15 zu erhalten. Tabelle 3

Entwicklungsmittel 2		pH-Wert	Leitfähigkeit
Kaliumhydroxid	0,15 g	11,8	5 m/Sm
Polyoxyethylenmethylphenylether (n=10) Chelest 400 Wasser	5,0 g 0,1 g 94,75 g
Entwicklungsmittel 3		pH-Wert
Kaliumhydroxid	0,15 g	11,7	6 m/Sm
Polyoxyethylennaphthylether (n=10) Chelest 400 Wasser 9	5,0 g 0,1 g 94,7 g
Entwicklungsmittel 4		pH-Wert
Kaliumhydroxid	0,15 g	11,9	6 m/Sm
Triethanolamin Polyoxyethylenphenylether (n=12) Chelest 400 Wasser 9	1,35 g 5,0 g 0,1 g 93,4 g
Entwicklungsmittel 5		pH-Wert
Kaliumhydroxid	0,15 g	12,3	8 m/Sm
Polyoxyethylennaphthylether (n=10) Anon LG Chelest 400 p-t-Butylbenzoesäure Wasser	5,0 g 1,0 g 0,1 g 1,0 g 92,3 g

[Vergleichsbeispiel 1]
Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde wiederholt, bis darauf, dass das Aluminiumsubstrat so behandelt wurde, dass die Rauhigkeit der Oberfläche 0,70 μm (RA) wurde, um eine lithographische Druckplatte zu erhalten.
[Vergleichsbeispiel 2]
Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde wiederholt, bis darauf, dass die Zwischenschicht, die in Beispiel 1 beschrieben wurde, nicht erzeugt wurde, um eine lithographische Druckplatte zu erhalten.
[Vergleichsbeispiel 3]
Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde wiederholt, bis darauf, dass das Entwicklungsmittel 3, das ein amphoteres Tensid und ein Alkalimetallsilicatsalz (SiO₂/K₂O) umfasst, d. h. eine Lösung, die durch Verdünnen von LP-D Entwicklungsmittel, erhältlich von Fuji Photo Film Co. Ltd. mit Wasser erhalten wurde, anstelle von Entwicklungsmittel 1, das in Beispiel 1 beschrieben wurde, verwendet wurde, und, dass die PS-Platte, die in Vergleichsbeispiel 1 hergestellt wurde, anstelle der PS-Platte in Beispiel 1 verwendet wurde. Entwicklungsmittel 6 umfasst kein nicht-ionisches Tensid, das eine Polyoxyalkylenethergruppe umfasst. Zudem betrug der pH-Wert von Entwicklungsmittel 6 12,8 und die Leitfähigkeit betrug 32 mS/cm.
Die Druckhaltbarkeit und die Hintergrundkontamination wurden für die lithographischen Druckplatten bewertet, die durch die Verfahren erhalten wurden, die in Beispielen 1 bis 15 und Vergleichsbeispielen 1 bis 3 beschrieben wurden.
Das Druckverfahren mit einer lithographischen Druckplatte wurde unter Verwendung eines Druckers vom R201 Typ, erhältlich von Man-Roland Compan und GEOS G Schwarz (N) Tinte (erhältlich von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) durchgeführt, und die Anzahl der erhaltenen Drucke vor Bildpunktverlust auf Maschen 3 wurde bestimmt, um die Druckhaltbarkeit der lithographischen Druckplatte zu bewerten.

Die Hintergrundkontamination wurde durch visuelles Überprüfen des Vorhandenseins einer Kontamination bewertet, wenn das Druckverfahren mit einer lithographischen Druckplatte unter Verwendung eines Daiya IF2-Druckers, erhältlich von Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., und GEOS G Red (S), erhältlich von Dainippon Ink and Chemicals, Inc. durchgeführt. Die Ergebnisse werden in Tabelle 4 gezeigt. Tabelle 4

	Vor dem Lagern		Nach dem Lagern für 5 Tage bei 50°C und 80 % relativer Feuchtigkeit
	Hintergrund-Kontamination	Druckhaltbarkeit (Anzahl von Kopien)	Hintergrund-Kontamination	Druckhaltbarkeit
Bsp.1	Keine	150000	Keine	140000
Bsp.2	Keine	180000	Keine	180000
Bsp.3	Keine	150000	Keine	150000
Bsp.4	Keine	150000	Keine	140000
Bsp.5	Keine	120000	Keine	130000
Bsp.6	Keine	150000	Keine	150000
Bsp.7	Keine	140000	Keine	140000
Bsp.8	Keine	150000	Keine	150000
Bsp.9	Keine	180000	Keine	160000
Bsp.10	Keine	130000	Keine	130000
Bsp.11	Keine	140000	Keine	140000
Bsp.12	Keine	150000	Keine	140000
Bsp.13	Keine	150000	Keine	150000
Bsp.14	Keine	130000	Keine	130000
Bsp.15	Keine	170000	Keine	150000
Vergl. Bsp. 1	Keine	150000	Geringfügig kontaminiert	140000
Vergl. Bsp. 2	Geringfügig kontaminiert	30000	Geringfügig kontaminiert	40000
Vergl. Bsp. 3	Geringfügig kontaminiert	40000	Geringfügig kontaminiert	40000

Wie aus Tabelle 3 zu entnehmen ist, ergab jede Druckplatte der erfindungsgemäßen gute Ergebnisse. Im Gegensatz hierzu zeigte die Druckplatte von Vergleichsbeispiel 1, die eine Aluminiumplatte umfasste, deren Oberflächenrauhigkeit nicht innerhalb des erfindungsgemäßen Bereichs lag (0,70 μm) eine Hintergrundkontamination, wenn die Platte bei hoher Temperatur unter hoher Feuchtigkeit gelagert wurde. Zudem zeigte die Druckplatte von Vergleichsbeispiel 2 ohne Zwischenschicht eine Hintergrundkontamination sogar vor Lagerung und zeigte eine schwerwiegende Kontamination nach Lagerung. Zudem zeigte die Druckplatte von Vergleichsbeispiel 2 eine niedrige Druckhaltbarkeit vor und nach Lagerung. Wenn die Druckplatte, die in Vergleichsbeispiel 1 hergestellt wurde, die eine Aluminiumplatte umfasste, deren Oberflächenrauhigkeit nicht innerhalb des erfindungsgemäßen Bereichs (0,70 μm) lag, mit einem Entwicklungsmittel entwickelt wurde, das kein anorganisches Alkalisalz und eine Polyoxyalkylenethergruppe umfasste (Vergleichsbeispiel 3), wurde eine Hintergrundkontamination sowohl in dem Fall vor und nach der Lagerung beobachtet und die Druckhaltbarkeit wurde verschlechtert. Wie aus dem Vorstehenden zu entnehmen ist, stellt das erfindungsgemäße Verfahren eine lithographische Druckplatte bereit, die keine Hintergrundkontamination sogar nach Lagerung unter Alterungssimulationsbedingungen und eine hohe Druckhaltbarkeit.
So wird die erfindungsgemäße PS-Platte bereitgestellt, die eine Zwischenschicht umfasst, die eine Polymerverbindung umfasst, die eine Sulfonsäuremonomereinheit auf einem Aluminiumsubstrat mit einer spezifischen Oberflächenrauhigkeit und einer fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht auf der Zwischenschicht umfasst, und das Verfahren zum Bereitstellen einer erfindungsgemäßen lithographischen Druckplatte einschließlich Entwickeln der Platte mit einem Entwicklungsmittel mit einem relativ niedrigen pH-Wert und umfassend ein spezifisches nicht-ionisches Tensid, bereitgestellt, wobei die hergestellte lithographische Druckplatte einen guten Kontrast zwischen einem Bildbereich und einem Nicht-Bildbereich, keine Hintergrundkontamination während dem Drucken, gute Stabilität mit der Zeit und gute Druckhaltbarkeit zeigt. Zudem besitzt das in dem erfindungsgemäßen Verfahren zu verwendende Entwicklungsmittel einem relativ niedrigen pH-Wert und so kann das erfindungsgemäße Verfahren sicher verwendet werden und stellt einen Effekt der Verringerung des Einflusses eines Abfalls des Entwicklungsmittels auf die Umwelt zur Verfügung.

Claims

Vorsensibilisierte Platte zum Herstellen einer Lithographie-Druckplatte, umfassend in dieser Reihenfolge, eine Zwischenschicht und eine fotopolymerisierbare fotoempfindliche Schicht auf einem Aluminiumsubstrat, wobei: die Rauheit einer Oberfläche des Aluminiumsubstrats (Ra) im Bereich von 0,2 bis 0,55 μm liegt; die fotopolymerisierbare fotoempfindliche Schicht einen Fotopolymerisationsstarter umfasst, der durch Belichtung mit sichtbaren Lichtstrahlen mit einer Wellenlänge von wenigstens 400 nm und/oder Strahlung mit einer Wellenlänge von 450 nm oder weniger aktiviert wird; und die Zwischenschicht eine Polymerverbindung umfasst, die wenigstens eine Monomereinheit mit einer Sulfonsäuregruppe umfasst, die von wenigstens einem Monomer, ausgewählt aus p-Styrolsulfonsäure, 2-Acrylamid-2-methylpropansulfonsäure, Ethylensulfonsäure, einem Alkalimetallsalz davon, einem Ammoniumsalz davon und einem wässrigen Aminsalz davon, abgeleitet ist.
Vorsensibilisierte Platte gemäß Anspruch 1, wobei die fotopolymerisierbare fotoempfindliche Schicht ferner eine Verbindung, die eine ethylenisch ungesättigte Verbindung enthält, und ein polymeres Bindemittel umfasst.
Vorsensibilisierte Platte gemäß Anspruch 2, wobei der Fotopolymerisationsstarter eine Kombination eines Titanocens und eines Farbstoffs, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Cyaninfarbstoffen, Merocyaninfarbstoffen, Xanthenfarbstoffen, Ketocumarinfarbstoffen und Benzopyranfarbstoffen, ist.
Verfahren zum Herstellen einer Lithographie-Druckplatte, umfassend bildweises Belichten der vorsensibilisierten Platte, gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, und Entwickeln der bildweise belichteten vorsensibilisierten Platte mit einem Entwickler, umfassend ein anorganisches Alkalisalz und ein eine Polyoxyalkylenethergruppe umfassendes nicht-ionisches Tensid.
Verfahren gemäß Anspruch 4, wobei der Entwickler einen pH-Wert von 10,0 bis 12,7 und eine Leitfähigkeit von 3 bis 30 mS/cm aufweist.
Verfahren gemäß Anspruch 4 oder Anspruch 5, wobei das eine Polyoxyalkylenethergruppe umfassende nicht-ionische Tensid durch die Formel (I) dargestellt ist: R⁴⁰-O-(R⁴¹-O)_pH (I)wobei R⁴⁰ eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe mit 3 bis 15 Kohlenstoffatomen, eine gegebenenfalls substituierte aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 15 Kohlenstoffatomen oder einen gegebenenfalls substituierten heteroaromatischen Ring mit 4 bis 15 Kohlenstoffatomen darstellt, wobei der Substituent dieser Gruppen ausgewählt ist aus einer Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, einem Halogenatom, einer aromatischen Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 15 Kohlenstoffatomen, einer Aralkylgruppe mit 7 bis 17 Kohlenstoffatomen, einer Alkoxygruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, einer Alkoxycarbonylgruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen und einer Acylgruppe mit 2 bis 15 Kohlenstoffatomen; R⁴¹ eine gegebenenfalls substituierte Alkylengruppe mit 1 bis 100 Kohlenstoffatomen darstellt, wobei der Substituent dieser Gruppe ausgewählt ist aus einer Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen und einer aromatischen Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 15 Kohlenstoffatomen; und p eine ganze Zahl von 1 bis 100 darstellt, wobei R⁴¹ gleich oder verschieden sein kann, wenn p eine ganze Zahl von 2 bis 100 ist.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 4 bis 6, wobei das nicht-ionische Tensid, umfassend eine Polyoxyalkylenethergruppe, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Polyoxyethylenlaurylether, Polyoxyethylencetylether, Polyoxyethylenstearylether, Polyoxyethylenphenylether, Polyoxyethylennaphthylether, Polyoxyethylenmethylphenylether, Polyoxyethylenoctylphenylether und Polyoxyethylennonylphenylether.