DE3884825D1 - Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatte, gemeinschaftlich verarbeitungsfähig für den Negativ-Typ und den Positiv-Typ und Entwicklerzusammensetzung für lichtempfindliches Material. - Google Patents

Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatte, gemeinschaftlich verarbeitungsfähig für den Negativ-Typ und den Positiv-Typ und Entwicklerzusammensetzung für lichtempfindliches Material.

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DE3884825D1 DE88301280T DE3884825T DE3884825D1 DE 3884825 D1 DE3884825 D1 DE 3884825D1 DE 88301280 T DE88301280 T DE 88301280T DE 3884825 T DE3884825 T DE 3884825T DE 3884825 D1 DE3884825 D1 DE 3884825D1
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Akira Nogami
Minoru Seino
Masafumi Uehara
Miegi Nakano
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2019632A1 (en) * 1989-06-29 1990-12-29 Kazuhiro Shimura Method of processing presensitized lithographic printing plate
US5122438A (en) * 1989-11-02 1992-06-16 Konica Corporation Method for developing a waterless light-sensitive lithographic plate
US5426017A (en) * 1990-05-31 1995-06-20 Hoechst Celanese Corporation Composition and method for removing photoresist composition from substrates surfaces
JPH0470756A (ja) * 1990-07-11 1992-03-05 Konica Corp 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液
DE4027299A1 (de) * 1990-08-29 1992-03-05 Hoechst Ag Entwicklerzusammensetzung fuer bestrahlte, strahlungsempfindliche, positiv und negativ arbeitende sowie umkehrbare reprographische schichten und verfahren zur entwicklung solcher schichten
JPH04163556A (ja) * 1990-10-29 1992-06-09 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置
US5250393A (en) * 1990-12-20 1993-10-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for developing presensitized plate for use in making lithographic printing plate
US5275915A (en) * 1991-06-05 1994-01-04 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Developer for light-sensitive material
DE69325043T2 (de) * 1992-02-07 2000-05-25 Tadahiro Ohmi Lithographischer Entwickler und lithographisches Verfahren
US6007970A (en) * 1992-02-07 1999-12-28 Canon Kabushiki Kaisha Lithographic developer containing surfactant
US5380623A (en) * 1992-12-17 1995-01-10 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
EP0602736B1 (de) * 1992-12-17 1997-11-05 Eastman Kodak Company Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten der zu einer verringerten Schlammbildung führt
US6207356B1 (en) 1996-12-31 2001-03-27 Sumitomo Bakelite Company Limited Method for the pattern-processing of photosensitive resin composition
JP3506172B2 (ja) * 1997-03-13 2004-03-15 信越半導体株式会社 半導体ウェーハのエッチング方法
KR100573560B1 (ko) * 1997-10-30 2006-08-30 가오가부시끼가이샤 레지스트용현상액
JPH11249322A (ja) * 1998-03-05 1999-09-17 Jsr Corp 感放射線性組成物用アルカリ性現像液
US5922522A (en) * 1998-04-29 1999-07-13 Morton International, Inc. Aqueous developing solutions for reduced developer residue
US6063550A (en) * 1998-04-29 2000-05-16 Morton International, Inc. Aqueous developing solutions for reduced developer residue
TWI221946B (en) 1999-01-07 2004-10-11 Kao Corp Resist developer
JP4050854B2 (ja) * 1999-12-21 2008-02-20 富士フイルム株式会社 画像形成方法
JP4317330B2 (ja) * 2001-02-07 2009-08-19 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製版方法
JP2002351094A (ja) * 2001-05-22 2002-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd 現像液組成物及び画像形成方法
US6503694B1 (en) * 2001-06-12 2003-01-07 Chi Mei Corporation Developer solution and edge bead remover composition
JP4230130B2 (ja) * 2001-07-04 2009-02-25 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法
JP4199942B2 (ja) * 2001-07-09 2008-12-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP4697962B2 (ja) 2003-02-13 2011-06-08 ウェルスタット セラピューティクス コーポレイション 代謝性障害の処置のための化合物
KR101020164B1 (ko) 2003-07-17 2011-03-08 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 진보된 마이크로전자적 응용을 위한 평탄화 막, 및 이를제조하기 위한 장치 및 방법
CN100476597C (zh) * 2003-12-30 2009-04-08 东友精密化学株式会社 感放射线性组合物用低泡沫显影液
DE602005024371D1 (de) * 2005-05-10 2010-12-09 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Verarbeitung von Flachdruckplatten
JP4657899B2 (ja) * 2005-11-30 2011-03-23 富士通株式会社 レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法
CA2637373A1 (en) 2006-01-25 2007-08-02 Wellstat Therapeutics Corporation Compounds for the treatment of metabolic disorders
EP1976377A4 (de) 2006-01-25 2010-06-23 Wellstat Therapeutics Corp Verbindungen zur behandlung von stoffwechselstörungen
JP2009525982A (ja) 2006-02-02 2009-07-16 ウェルスタット セラピューティクス コーポレイション 代謝障害の治療のための化合物
CN101389476B (zh) * 2006-02-28 2010-06-23 爱克发印艺公司 平版印版的制作方法
CN101969773B (zh) 2008-03-13 2015-08-19 维尔斯达医疗公司 用于降低尿酸的化合物和方法
JPWO2022045280A1 (de) * 2020-08-28 2022-03-03

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3891439A (en) * 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
DE3140186A1 (de) * 1981-10-09 1983-04-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten
DE3230171A1 (de) * 1982-08-13 1984-02-16 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Waessrig-alkalische loesung und verfahren zum entwickeln von positiv-arbeitenden reproduktionsschichten
JPH063549B2 (ja) * 1984-12-25 1994-01-12 株式会社東芝 ポジ型フォトレジスト現像液組成物
US4780396A (en) * 1987-02-17 1988-10-25 Hoechst Celanese Corporation Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant

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US5106724A (en) 1992-04-21
EP0279630A1 (de) 1988-08-24
EP0279630B1 (de) 1993-10-13

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