JPH11249322A - 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 - Google Patents
感放射線性組成物用アルカリ性現像液Info
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- JPH11249322A JPH11249322A JP10069282A JP6928298A JPH11249322A JP H11249322 A JPH11249322 A JP H11249322A JP 10069282 A JP10069282 A JP 10069282A JP 6928298 A JP6928298 A JP 6928298A JP H11249322 A JPH11249322 A JP H11249322A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感放射線性組成物に含まれる顔料濃度が高い
場合にも、未溶解物が残存することがなく、スカム、現
像残り、再付着等の問題を生じることがなく、シャープ
なパターンエッジを有する画素を形成しうる感放射線性
組成物用アルカリ性現像液を提供する。 【解決手段】 感放射線性組成物用アルカリ性現像液
は、（Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少なくとも１
種、並びに（Ａ−２）アルカノールアミン類およびアル
キルアミン類の群から選ばれる少なくとも１種の有機ア
ルカリ性化合物を含む水溶液、あるいは前記（Ａ−１）
成分、前記（Ａ−２）成分、並びに（Ｂ）エーテル化ポ
リオキシエチレン類およびエーテル化ポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック共重合体類の群から
選ばれる少なくとも１種のノニオン性界面活性剤を含む
水溶液からなる。
場合にも、未溶解物が残存することがなく、スカム、現
像残り、再付着等の問題を生じることがなく、シャープ
なパターンエッジを有する画素を形成しうる感放射線性
組成物用アルカリ性現像液を提供する。 【解決手段】 感放射線性組成物用アルカリ性現像液
は、（Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少なくとも１
種、並びに（Ａ−２）アルカノールアミン類およびアル
キルアミン類の群から選ばれる少なくとも１種の有機ア
ルカリ性化合物を含む水溶液、あるいは前記（Ａ−１）
成分、前記（Ａ−２）成分、並びに（Ｂ）エーテル化ポ
リオキシエチレン類およびエーテル化ポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック共重合体類の群から
選ばれる少なくとも１種のノニオン性界面活性剤を含む
水溶液からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性組成物
用アルカリ性現像液に関し、より詳しくは、カラー液晶
ディスプレイの構成部材であるカラーフィルタなどの製
造に使用される感放射線性組成物に適用されるアルカリ
性現像液に関する。
用アルカリ性現像液に関し、より詳しくは、カラー液晶
ディスプレイの構成部材であるカラーフィルタなどの製
造に使用される感放射線性組成物に適用されるアルカリ
性現像液に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製
造方法については数多くの提案がなされているが、最近
では、ガラス等の透明基板上に、赤色、緑色および青色
の画素とブラックマトリックスを形成したカラーフィル
タ上に、インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）のような透
明導電膜をスパッタリングして透明電極を形成し、さら
にこの上に配向膜を形成して、液晶を配置する方法が一
般的になりつつある。このようなカラーフィルタの製造
には種々の方法があり、例えば、顔料分散法のほか、染
色法、印刷法、ドライフィルムと同様にラミネートする
方法等が知られているが、現在では顔料分散法が主流と
なっている。この顔料分散法とは、有機顔料および／ま
たは無機顔料を分散させた感放射線性組成物をスピンコ
ーター等により塗布し、所定の着色パターンを形成する
ことによりカラーフィルタを製造する方法である。従
来、顔料分散法により製造されるカラーフィルタの着色
層としては、赤色、緑色および青色の画素のみであった
が、最近では、ブラックマトリックスとなる遮光層もカ
ーボンブラック等の顔料を分散させた感放射線性組成物
で形成することが行われ始めている。感放射線性組成物
には、着色または遮光のための有機顔料および／または
無機顔料と、紫外線等で硬化することができアルカリ性
現像液に可溶の樹脂成分とが必須成分として含まれてお
り、これらの顔料および樹脂成分は、不必要となった部
分を現像工程で除去する際に、アルカリ性現像液中に速
やかに分散あるいは溶解することが必要である。しかし
現実には、現像時に完全に除去されるべき感放射線性組
成物が残存する問題（現像残り）、ガラス基板から一旦
除去されてアルカリ性現像液中に分散・溶解していた顔
料および樹脂成分が、ガラス基板やブラックマトリック
スあるいは硬化着色層に再付着する問題などがしばしば
生じている。これらの問題は、カラーフィルタに色ムラ
を生じたり、後工程で密着性不良等の欠陥を引き起こす
原因となり、そのため、感放射線性組成物に含まれる顔
料および樹脂成分を現像の段階で十分に分散・溶解して
除去することができるアルカリ性現像液が望まれてい
る。
造方法については数多くの提案がなされているが、最近
では、ガラス等の透明基板上に、赤色、緑色および青色
の画素とブラックマトリックスを形成したカラーフィル
タ上に、インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）のような透
明導電膜をスパッタリングして透明電極を形成し、さら
にこの上に配向膜を形成して、液晶を配置する方法が一
般的になりつつある。このようなカラーフィルタの製造
には種々の方法があり、例えば、顔料分散法のほか、染
色法、印刷法、ドライフィルムと同様にラミネートする
方法等が知られているが、現在では顔料分散法が主流と
なっている。この顔料分散法とは、有機顔料および／ま
たは無機顔料を分散させた感放射線性組成物をスピンコ
ーター等により塗布し、所定の着色パターンを形成する
ことによりカラーフィルタを製造する方法である。従
来、顔料分散法により製造されるカラーフィルタの着色
層としては、赤色、緑色および青色の画素のみであった
が、最近では、ブラックマトリックスとなる遮光層もカ
ーボンブラック等の顔料を分散させた感放射線性組成物
で形成することが行われ始めている。感放射線性組成物
には、着色または遮光のための有機顔料および／または
無機顔料と、紫外線等で硬化することができアルカリ性
現像液に可溶の樹脂成分とが必須成分として含まれてお
り、これらの顔料および樹脂成分は、不必要となった部
分を現像工程で除去する際に、アルカリ性現像液中に速
やかに分散あるいは溶解することが必要である。しかし
現実には、現像時に完全に除去されるべき感放射線性組
成物が残存する問題（現像残り）、ガラス基板から一旦
除去されてアルカリ性現像液中に分散・溶解していた顔
料および樹脂成分が、ガラス基板やブラックマトリック
スあるいは硬化着色層に再付着する問題などがしばしば
生じている。これらの問題は、カラーフィルタに色ムラ
を生じたり、後工程で密着性不良等の欠陥を引き起こす
原因となり、そのため、感放射線性組成物に含まれる顔
料および樹脂成分を現像の段階で十分に分散・溶解して
除去することができるアルカリ性現像液が望まれてい
る。
【０００３】前記問題点を解決しうる現像液として、ア
ルカリ性化合物および非イオン性界面活性剤を含む水溶
液であって、前記非イオン性面活性剤の含有量が０．０
１〜１．０重量％であり、かつｐＨが９〜１３である感
放射性組成物用アルカリ性現像液（特開平７−１２０９
３５号公報）や、非イオン性界面活性剤を含有し、強塩
基性物質および弱塩基性物質を組み合わせた緩衝性水溶
液からなるネガ型着色感光性組成物用アルカリ現像液
（特開平９−１７１２６１号公報）が提案されている。
しかし、これらの現像液も、感放射線性組成物に含まれ
る顔料濃度が高い場合に、不必要となった部分を現像工
程で除去する際、未溶解物が残存しやすく、スカム、現
像残り、再付着などが生じて、シャープなパターンエッ
ジを有する画素を形成できないという問題があった。
ルカリ性化合物および非イオン性界面活性剤を含む水溶
液であって、前記非イオン性面活性剤の含有量が０．０
１〜１．０重量％であり、かつｐＨが９〜１３である感
放射性組成物用アルカリ性現像液（特開平７−１２０９
３５号公報）や、非イオン性界面活性剤を含有し、強塩
基性物質および弱塩基性物質を組み合わせた緩衝性水溶
液からなるネガ型着色感光性組成物用アルカリ現像液
（特開平９−１７１２６１号公報）が提案されている。
しかし、これらの現像液も、感放射線性組成物に含まれ
る顔料濃度が高い場合に、不必要となった部分を現像工
程で除去する際、未溶解物が残存しやすく、スカム、現
像残り、再付着などが生じて、シャープなパターンエッ
ジを有する画素を形成できないという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しょうとする課題】本発明の課題は、感放
射線性組成物に含まれる顔料濃度が高い場合にも、未溶
解物が残存することがなく、スカム、現像残り、再付着
等の問題を生じることがなく、シャープなパターンエッ
ジを有する画素を形成しうる感放射線性組成物用アルカ
リ性現像液を提供することにある。
射線性組成物に含まれる顔料濃度が高い場合にも、未溶
解物が残存することがなく、スカム、現像残り、再付着
等の問題を生じることがなく、シャープなパターンエッ
ジを有する画素を形成しうる感放射線性組成物用アルカ
リ性現像液を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、有機顔料
および／または無機顔料を分散させた感放射線性組成物
に適用されるアルカリ性現像液について鋭意検討を重ね
た結果、アルカリ性化合物として、無機アルカリ性化合
物と特定の有機アルカリ性化合物との混合物を使用した
アルカリ性現像液が、顔料濃度が高い場合における感放
射線性組成物の現像残りや再付着のような問題点を解決
できることを見出して本発明を完成するに至った。
および／または無機顔料を分散させた感放射線性組成物
に適用されるアルカリ性現像液について鋭意検討を重ね
た結果、アルカリ性化合物として、無機アルカリ性化合
物と特定の有機アルカリ性化合物との混合物を使用した
アルカリ性現像液が、顔料濃度が高い場合における感放
射線性組成物の現像残りや再付着のような問題点を解決
できることを見出して本発明を完成するに至った。
【０００６】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明は、第一に、（Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少
なくとも１種、並びに（Ａ−２）アルカノールアミン類
およびアルキルアミン類の群から選ばれる少なくとも１
種の有機アルカリ性化合物を含む水溶液からなることを
特徴とする感放射線性組成物用アルカリ性現像液（以
下、「第１発明」という。）、からなる。本発明は、第
二に、（Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少なくとも１
種、（Ａ−２）アルカノールアミン類およびアルキルア
ミン類の群から選ばれる少なくとも１種の有機アルカリ
性化合物、並びに（Ｂ）エーテル化ポリオキシエチレン
類およびエーテル化ポリオキシエチレン・ポリオキシプ
ロピレンブロック共重合体類の群から選ばれる少なくと
も１種のノニオン性界面活性剤を含む水溶液からなるこ
とを特徴とする感放射線性組成物用アルカリ性現像液
（以下、「第２発明」という。）、からなる。
発明は、第一に、（Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少
なくとも１種、並びに（Ａ−２）アルカノールアミン類
およびアルキルアミン類の群から選ばれる少なくとも１
種の有機アルカリ性化合物を含む水溶液からなることを
特徴とする感放射線性組成物用アルカリ性現像液（以
下、「第１発明」という。）、からなる。本発明は、第
二に、（Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少なくとも１
種、（Ａ−２）アルカノールアミン類およびアルキルア
ミン類の群から選ばれる少なくとも１種の有機アルカリ
性化合物、並びに（Ｂ）エーテル化ポリオキシエチレン
類およびエーテル化ポリオキシエチレン・ポリオキシプ
ロピレンブロック共重合体類の群から選ばれる少なくと
も１種のノニオン性界面活性剤を含む水溶液からなるこ
とを特徴とする感放射線性組成物用アルカリ性現像液
（以下、「第２発明」という。）、からなる。
【０００７】以下、本発明について詳細に説明する。（Ａ−１）成分 第１発明および第２発明における（Ａ−１）成分は、無
機アルカリ性化合物の少なくとも１種からなる。前記無
機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシ
ウム、水酸化バリウム等を挙げることができる。本発明
における無機アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウムが好ましい。
機アルカリ性化合物の少なくとも１種からなる。前記無
機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシ
ウム、水酸化バリウム等を挙げることができる。本発明
における無機アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウムが好ましい。
【０００８】（Ａ−２）成分 第１発明および第２発明における（Ａ−２）成分は、ア
ルカノールアミン類およびアルキルアミン類の群から選
ばれる少なくとも１種の有機アルカリ性化合物からな
る。前記アルカノールアミン類としては、例えば、エタ
ノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジ
エチルアミノエタノール、２−（ジ−ｎ−プロピルアミ
ノ）エタノール、２−（ジ−ｉ−プロピルアミノ）エタ
ノール、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エタノール、３
−ジメチルアミノ−１−プロパノール、３−ジエチルア
ミノ−１−プロパノール、２−ジメチルアミノ−１−プ
ロパノール、２−ジエチルアミノ−１−プロパノール、
４−ジメチルアミノ−２−ブタノール、４−ジエチルア
ミノ−２−ブタノール、３−ジメチルアミノ−２−ブタ
ノール、３−ジエチルアミノ−２−ブタノール、５−ジ
メチルアミノ−２−ペンタノール、５−ジエチルアミノ
−２−ペンタノール、４−ジメチルアミノ−２−ペンタ
ノール、４−ジエチルアミノ−２−ペンタノール等を挙
げることができる。
ルカノールアミン類およびアルキルアミン類の群から選
ばれる少なくとも１種の有機アルカリ性化合物からな
る。前記アルカノールアミン類としては、例えば、エタ
ノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジ
エチルアミノエタノール、２−（ジ−ｎ−プロピルアミ
ノ）エタノール、２−（ジ−ｉ−プロピルアミノ）エタ
ノール、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エタノール、３
−ジメチルアミノ−１−プロパノール、３−ジエチルア
ミノ−１−プロパノール、２−ジメチルアミノ−１−プ
ロパノール、２−ジエチルアミノ−１−プロパノール、
４−ジメチルアミノ−２−ブタノール、４−ジエチルア
ミノ−２−ブタノール、３−ジメチルアミノ−２−ブタ
ノール、３−ジエチルアミノ−２−ブタノール、５−ジ
メチルアミノ−２−ペンタノール、５−ジエチルアミノ
−２−ペンタノール、４−ジメチルアミノ−２−ペンタ
ノール、４−ジエチルアミノ−２−ペンタノール等を挙
げることができる。
【０００９】また、前記アルキルアミン類としては、例
えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、モノ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピ
ルアミン、モノ−ｉ−プロピルアミン、ジ−ｉ−プロピ
ルアミン、モノ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルア
ミン等を挙げることができる。
えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、モノ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピ
ルアミン、モノ−ｉ−プロピルアミン、ジ−ｉ−プロピ
ルアミン、モノ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルア
ミン等を挙げることができる。
【００１０】第１発明および第２発明における（Ａ−
２）成分としては、アルカノールアミン類が好ましく、
特に、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジエチルア
ミノエタノール、２−（ジ−ｉ−プロピルアミノ）エタ
ノール、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エタノールが好
ましい。
２）成分としては、アルカノールアミン類が好ましく、
特に、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジエチルア
ミノエタノール、２−（ジ−ｉ−プロピルアミノ）エタ
ノール、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エタノールが好
ましい。
【００１１】（Ｂ）成分 第２発明における（Ｂ）成分は、エーテル化ポリオキシ
エチレン類およびエーテル化ポリオキシエチレン・ポリ
オキシプロピレンブロック共重合体類の群から選ばれる
少なくとも１種のノニオン性界面活性剤からなる。前記
エーテル化ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン
ブロック共重合体類は、一般に下記式（１）または式
（２）で表される。
エチレン類およびエーテル化ポリオキシエチレン・ポリ
オキシプロピレンブロック共重合体類の群から選ばれる
少なくとも１種のノニオン性界面活性剤からなる。前記
エーテル化ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン
ブロック共重合体類は、一般に下記式（１）または式
（２）で表される。
【００１２】
【化１】
【００１３】〔式（１）および式（２）において、Ｒは
アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示し、ｎ
およびｍは繰返し単位数である。〕 式（１）および式（２）において、Ｒのアルキル基の炭
素数は、好ましくは１〜２０であり、Ｒのアリール基の
炭素数は好ましくは６〜２０であり、Ｒのアラルキル基
の炭素数は好ましくは７〜２０である。また、ｍは好ま
しくは１０〜２５０であり、ｎは好ましくは５〜２００
である。
アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示し、ｎ
およびｍは繰返し単位数である。〕 式（１）および式（２）において、Ｒのアルキル基の炭
素数は、好ましくは１〜２０であり、Ｒのアリール基の
炭素数は好ましくは６〜２０であり、Ｒのアラルキル基
の炭素数は好ましくは７〜２０である。また、ｍは好ま
しくは１０〜２５０であり、ｎは好ましくは５〜２００
である。
【００１４】第２発明において、好ましい（Ｂ）成分
は、ＨＬＢが１２〜１８の範囲にある化合物である。Ｈ
ＬＢが１２〜１８の範囲にあるエーテル化ポリオキシエ
チレン類の市販品には、エマルゲンＡ−６０、エマルゲ
ンＡ−９０、エマルゲンＡ−５００、エマルゲンＢ−６
６、エマルゲンＬ−４０（以上、花王（株）製）等があ
る。また、ＨＬＢが１２〜１８の範囲にあるエーテル化
ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック共
重合体類の市販品には、ペポールＡ１７５８、ペポール
Ａ１５５８、ソルポールＴ４２０、ソルポールＴ４１６
（以上、東邦化学工業（株）製）等がある。
は、ＨＬＢが１２〜１８の範囲にある化合物である。Ｈ
ＬＢが１２〜１８の範囲にあるエーテル化ポリオキシエ
チレン類の市販品には、エマルゲンＡ−６０、エマルゲ
ンＡ−９０、エマルゲンＡ−５００、エマルゲンＢ−６
６、エマルゲンＬ−４０（以上、花王（株）製）等があ
る。また、ＨＬＢが１２〜１８の範囲にあるエーテル化
ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック共
重合体類の市販品には、ペポールＡ１７５８、ペポール
Ａ１５５８、ソルポールＴ４２０、ソルポールＴ４１６
（以上、東邦化学工業（株）製）等がある。
【００１５】アルカリ性現像液 第１発明におけるアルカリ性現像液は、前記（Ａ−１）
成分並びに前記（Ａ−２）成分を含む水溶液からなり、
第２発明におけるアルカリ性現像液は、前記（Ａ−１）
成分、前記（Ａ−２）成分並びに前記（Ｂ）成分を含む
水溶液からなるが、就中、第２発明におけるアルカリ性
現像液が好ましい。第１発明および第２発明におけるア
ルカリ性現像液は、ｐＨが、通常、９〜１３、好ましく
は１０〜１２．５である。この場合、ｐＨが９未満であ
ると、現像残りが発生する場合があり、一方１３を超え
ると、画素に欠落や膜剥がれなどが発生する場合があ
る。また、第２発明における（Ｂ）成分の含有量は、通
常、０．０１〜１重量％、好ましくは０．０５〜０．５
重量％である。この場合、（Ｂ）成分の含有量が０．０
１重量％未満であると、スカム、現像残り、再付着が発
生する場合があり、一方１重量％を超えると、現像液が
泡立ちやすくなり、現像作業性が低下するおそれがあ
る。第２発明におけるアルカリ性現像液中の（Ａ−１）
成分および（Ａ−２）成分の合計と（Ｂ）成分との重量
比は、通常、１／９〜９／１、好ましくは２／８〜８／
２である。
成分並びに前記（Ａ−２）成分を含む水溶液からなり、
第２発明におけるアルカリ性現像液は、前記（Ａ−１）
成分、前記（Ａ−２）成分並びに前記（Ｂ）成分を含む
水溶液からなるが、就中、第２発明におけるアルカリ性
現像液が好ましい。第１発明および第２発明におけるア
ルカリ性現像液は、ｐＨが、通常、９〜１３、好ましく
は１０〜１２．５である。この場合、ｐＨが９未満であ
ると、現像残りが発生する場合があり、一方１３を超え
ると、画素に欠落や膜剥がれなどが発生する場合があ
る。また、第２発明における（Ｂ）成分の含有量は、通
常、０．０１〜１重量％、好ましくは０．０５〜０．５
重量％である。この場合、（Ｂ）成分の含有量が０．０
１重量％未満であると、スカム、現像残り、再付着が発
生する場合があり、一方１重量％を超えると、現像液が
泡立ちやすくなり、現像作業性が低下するおそれがあ
る。第２発明におけるアルカリ性現像液中の（Ａ−１）
成分および（Ａ−２）成分の合計と（Ｂ）成分との重量
比は、通常、１／９〜９／１、好ましくは２／８〜８／
２である。
【００１６】このようなアルカリ性現像液は、シリカ粒
子、顔料等の微粒子が分散された感放射線性組成物およ
びこれらの微粒子が分散されていない感放射線性組成物
から形成された塗膜を現像する際に好適に使用すること
ができ、微粒子濃度が高い感放射線性組成物を用いてカ
ラーフィルタを形成する場合にも、現像工程において、
不必要な微粒子および樹脂成分を充分に分散・溶解させ
ることができ、スカム、現像残りや、顔料および樹脂成
分の再付着等を生じることがなく、しかも形成されたパ
ターンがガラス基板から剥離（膜剥がれ）することがな
く、それによりシャープなパターンエッジを有する画素
を形成することができる。したがって、第１発明および
第２発明におけるアルカリ性現像液は、特に、下記する
ような組成を有するカラーフィルタ用感放射線性樹脂組
成物からカラーフィルタを形成する際に極めて好適に使
用することができるほか、レジストパターン形成用感放
射線性組成物からレジストパターンを形成する際にも好
ましく使用することができる。
子、顔料等の微粒子が分散された感放射線性組成物およ
びこれらの微粒子が分散されていない感放射線性組成物
から形成された塗膜を現像する際に好適に使用すること
ができ、微粒子濃度が高い感放射線性組成物を用いてカ
ラーフィルタを形成する場合にも、現像工程において、
不必要な微粒子および樹脂成分を充分に分散・溶解させ
ることができ、スカム、現像残りや、顔料および樹脂成
分の再付着等を生じることがなく、しかも形成されたパ
ターンがガラス基板から剥離（膜剥がれ）することがな
く、それによりシャープなパターンエッジを有する画素
を形成することができる。したがって、第１発明および
第２発明におけるアルカリ性現像液は、特に、下記する
ような組成を有するカラーフィルタ用感放射線性樹脂組
成物からカラーフィルタを形成する際に極めて好適に使
用することができるほか、レジストパターン形成用感放
射線性組成物からレジストパターンを形成する際にも好
ましく使用することができる。
【００１７】前記カラーフィルタ用感放射線性樹脂組成
物は、通常、有機顔料および／または無機顔料、アルカ
リ可溶性樹脂並びに感放射線性成分が、有機溶剤に分散
または溶解されたものである。前記アルカリ可溶性樹脂
としては、例えば、（メタ）アクリル酸／メチル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベン
ジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル
酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベン
ジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル
酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロ
モノマー（ポリスチレン鎖の片末端に（メタ）アクリレ
ート基を有するモノマー。以下同様。）共重合体、（メ
タ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー（ポリメチル（メ
タ）アクリレート鎖の片末端に（メタ）アクリレート基
を有するモノマー。以下同様。）共重合体、（メタ）ア
クリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベン
ジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メ
タ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アク
リル酸／こはく酸モノ｛２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル｝／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／
Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸
／こはく酸モノ｛２−（メタ）アクリロイロキシエチ
ル｝／スチレン／アリル（メタ）アクリレート／ベンジ
ル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重
合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／グリセロー
ルモノ（メタ）アクリレート共重合体等を挙げることが
できる。これらのアルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。
物は、通常、有機顔料および／または無機顔料、アルカ
リ可溶性樹脂並びに感放射線性成分が、有機溶剤に分散
または溶解されたものである。前記アルカリ可溶性樹脂
としては、例えば、（メタ）アクリル酸／メチル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベン
ジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル
酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベン
ジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル
酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロ
モノマー（ポリスチレン鎖の片末端に（メタ）アクリレ
ート基を有するモノマー。以下同様。）共重合体、（メ
タ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー（ポリメチル（メ
タ）アクリレート鎖の片末端に（メタ）アクリレート基
を有するモノマー。以下同様。）共重合体、（メタ）ア
クリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベン
ジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メ
タ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アク
リル酸／こはく酸モノ｛２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル｝／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／
Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸
／こはく酸モノ｛２−（メタ）アクリロイロキシエチ
ル｝／スチレン／アリル（メタ）アクリレート／ベンジ
ル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重
合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／グリセロー
ルモノ（メタ）アクリレート共重合体等を挙げることが
できる。これらのアルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。
【００１８】前記アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ；溶出溶媒テトラヒ
ドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量平均分子
量（以下、単に「重量平均分子量」という。）は、好ま
しくは３，０００〜３００，０００、特に好ましくは
５，０００〜１０，０００である。
ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ；溶出溶媒テトラヒ
ドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量平均分子
量（以下、単に「重量平均分子量」という。）は、好ま
しくは３，０００〜３００，０００、特に好ましくは
５，０００〜１０，０００である。
【００１９】また、前記感放射線性成分は、放射線の照
射（以下、「露光」という。）により、カルベン、ナイ
トレン等のラジカル（活性分子片）を生じ、アルカリ可
溶性樹脂に三次元架橋構造を形成させる成分であり、具
体的には、光重合開始剤、多官能性単量体またはそれと
単官能性単量体との混合物等を含有する成分からなる。
なお、ここで言う「放射線」とは、可視光線、紫外線、
遠紫外線、電子線、Ｘ線等を含むものである。
射（以下、「露光」という。）により、カルベン、ナイ
トレン等のラジカル（活性分子片）を生じ、アルカリ可
溶性樹脂に三次元架橋構造を形成させる成分であり、具
体的には、光重合開始剤、多官能性単量体またはそれと
単官能性単量体との混合物等を含有する成分からなる。
なお、ここで言う「放射線」とは、可視光線、紫外線、
遠紫外線、電子線、Ｘ線等を含むものである。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて、本発明の
実施の形態をより具体的に説明するが、本発明はこれら
の実施例により限定されるものではない。以下におい
て、部および％は、特記しない限り重量基準である。
実施の形態をより具体的に説明するが、本発明はこれら
の実施例により限定されるものではない。以下におい
て、部および％は、特記しない限り重量基準である。
【実施例】実施例１〜８ 表１に示す（Ｂ）成分を溶解した水に、表１に示す（Ａ
−１）成分と（Ａ−２）成分との混合物の２０％水溶液
を添加したのち、ｐＨを表１に示す値に調整して、各ア
ルカリ性現像液を調製した。別に、有機顔料としてＣ．
Ｉ．ピグメントレッド１７７を１３０部、アルカリ可溶
性樹脂としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合
重量比＝１５／１５／７０、重量平均分子量＝２，８０
００）６０部、多官能性単量体としてジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート４０部、光重合開始剤として
２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール１０部と４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン１０部と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ
−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン
５０部、および溶媒として３−エトキシプロピオン酸エ
チル１０００部を混合して、感放射線性組成物の液状組
成物を調製した。このときの顔料濃度は、全固形分の約
４３重量％である。その後、前記液状組成物を、表面に
ナトリウムイオンの溶出を防止する二酸化けい素（Ｓｉ
Ｏ2 ）膜が形成されたソーダガラス基板の上に、スピン
コーターを用いて塗布したのち、８０℃で１０分間プレ
ベークを行って、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。そ
の後、この基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプ
を用い、フォトマスクを介して、塗膜に３６５ｎｍ、４
０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む紫外線を１０
０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で露光した。その後、露光後の
基板を各アルカリ性現像液２００ｇに浸漬して緩やかに
揺動させながら現像したのち、純水で洗浄して、画素を
形成させた。得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
何れの画素にも欠落が認められず、シャープなパターン
エッジを有する画素が形成されていた。また何れの基板
にも、画素が形成されていない表面にスカム、膜残り、
有機顔料や樹脂成分の再付着などは認められなかった。
−１）成分と（Ａ−２）成分との混合物の２０％水溶液
を添加したのち、ｐＨを表１に示す値に調整して、各ア
ルカリ性現像液を調製した。別に、有機顔料としてＣ．
Ｉ．ピグメントレッド１７７を１３０部、アルカリ可溶
性樹脂としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合
重量比＝１５／１５／７０、重量平均分子量＝２，８０
００）６０部、多官能性単量体としてジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート４０部、光重合開始剤として
２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール１０部と４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン１０部と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ
−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン
５０部、および溶媒として３−エトキシプロピオン酸エ
チル１０００部を混合して、感放射線性組成物の液状組
成物を調製した。このときの顔料濃度は、全固形分の約
４３重量％である。その後、前記液状組成物を、表面に
ナトリウムイオンの溶出を防止する二酸化けい素（Ｓｉ
Ｏ2 ）膜が形成されたソーダガラス基板の上に、スピン
コーターを用いて塗布したのち、８０℃で１０分間プレ
ベークを行って、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。そ
の後、この基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプ
を用い、フォトマスクを介して、塗膜に３６５ｎｍ、４
０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む紫外線を１０
０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で露光した。その後、露光後の
基板を各アルカリ性現像液２００ｇに浸漬して緩やかに
揺動させながら現像したのち、純水で洗浄して、画素を
形成させた。得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
何れの画素にも欠落が認められず、シャープなパターン
エッジを有する画素が形成されていた。また何れの基板
にも、画素が形成されていない表面にスカム、膜残り、
有機顔料や樹脂成分の再付着などは認められなかった。
【００２１】実施例９〜１６ 表２に示す（Ｂ）成分を溶解した水に、表２に示す（Ａ
−１）成分と（Ａ−２）成分との混合物の２０％水溶液
を添加したのち、ｐＨを表２に示す値に調整して、各ア
ルカリ性現像液を調製した。その後、実施例１と同様に
して、画素を形成させた。得られた画素を顕微鏡で観察
したところ、何れの画素にも欠落が認められず、シャー
プなパターンエッジを有する画素が形成されていた。ま
た何れの基板にも、画素が形成されていない表面にスカ
ム、膜残り、有機顔料や樹脂成分の再付着などは認めら
れなかった。
−１）成分と（Ａ−２）成分との混合物の２０％水溶液
を添加したのち、ｐＨを表２に示す値に調整して、各ア
ルカリ性現像液を調製した。その後、実施例１と同様に
して、画素を形成させた。得られた画素を顕微鏡で観察
したところ、何れの画素にも欠落が認められず、シャー
プなパターンエッジを有する画素が形成されていた。ま
た何れの基板にも、画素が形成されていない表面にスカ
ム、膜残り、有機顔料や樹脂成分の再付着などは認めら
れなかった。
【００２２】比較例１〜３ 表３に示す（Ｂ）成分を溶解した水に、表３に示す（Ａ
−１）成分または他の有機アルカリ性化合物の２０％水
溶液を添加したのち、ｐＨを表３に示す値に調整して、
各アルカリ性現像液を調製した。その後、実施例１と同
様にして、画素を形成させた。得られた画素を顕微鏡で
観察したところ、比較例１で得た画素は、欠落は認めら
れなかったが、パターンエッジがシャープではなく、か
つ基板上の画素が形成されていない基板表面にスカムが
認められ、また比較例２で得た画素は、欠落は認められ
なかったが、基板上の画素が形成されていない基板表面
に膜残りが認められ、さらに比較例３で得た画素は、パ
ターンエッジがシャープではなく、かつ基板上の画素が
形成されていない基板表面に著しい膜残りが認められ
た。
−１）成分または他の有機アルカリ性化合物の２０％水
溶液を添加したのち、ｐＨを表３に示す値に調整して、
各アルカリ性現像液を調製した。その後、実施例１と同
様にして、画素を形成させた。得られた画素を顕微鏡で
観察したところ、比較例１で得た画素は、欠落は認めら
れなかったが、パターンエッジがシャープではなく、か
つ基板上の画素が形成されていない基板表面にスカムが
認められ、また比較例２で得た画素は、欠落は認められ
なかったが、基板上の画素が形成されていない基板表面
に膜残りが認められ、さらに比較例３で得た画素は、パ
ターンエッジがシャープではなく、かつ基板上の画素が
形成されていない基板表面に著しい膜残りが認められ
た。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【表２】
【００２５】
【表３】
【００２６】
【発明の効果】本発明に係る感放射線性組成物用アルカ
リ性現像液は、特に、カラーフィルタ用感放射線性組成
物から形成された塗膜を現像する際に、感放射線性組成
物に含まれる顔料濃度が高い場合にも、塗膜の剥がれを
生じることなく不必要な部分を充分に分散または溶解さ
せて除去することができ、スカム、膜残り、再付着等の
問題を生じることがなく、シャープなパターンエッジを
有する画素を形成することができる。
リ性現像液は、特に、カラーフィルタ用感放射線性組成
物から形成された塗膜を現像する際に、感放射線性組成
物に含まれる顔料濃度が高い場合にも、塗膜の剥がれを
生じることなく不必要な部分を充分に分散または溶解さ
せて除去することができ、スカム、膜残り、再付着等の
問題を生じることがなく、シャープなパターンエッジを
有する画素を形成することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 根本 宏明 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少な
くとも１種、並びに（Ａ−２）アルカノールアミン類お
よびアルキルアミン類の群から選ばれる少なくとも１種
の有機アルカリ性化合物を含む水溶液からなることを特
徴とする感放射線性組成物用アルカリ性現像液。 - 【請求項２】 （Ａ−１）無機アルカリ性化合物の少な
くとも１種、（Ａ−２）アルカノールアミン類およびア
ルキルアミン類の群から選ばれる少なくとも１種の有機
アルカリ性化合物、並びに（Ｂ）エーテル化ポリオキシ
エチレン類およびエーテル化ポリオキシエチレン・ポリ
オキシプロピレンブロック共重合体類の群から選ばれる
少なくとも１種のノニオン性界面活性剤を含む水溶液か
らなることを特徴とする感放射線性組成物用アルカリ性
現像液。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10069282A JPH11249322A (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
| US09/289,963 US6180322B1 (en) | 1998-03-05 | 1999-04-13 | Alkaline developing solution for radiation sensitive composition and development method |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10069282A JPH11249322A (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
| US09/289,963 US6180322B1 (en) | 1998-03-05 | 1999-04-13 | Alkaline developing solution for radiation sensitive composition and development method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11249322A true JPH11249322A (ja) | 1999-09-17 |
Family
ID=26410480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10069282A Pending JPH11249322A (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6180322B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11249322A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000073787A (ko) * | 1999-05-14 | 2000-12-05 | 마쯔모또 에이찌 | 감방사선성 조성물용 알칼리성 현상액 |
| EP1172699A1 (en) * | 2000-07-14 | 2002-01-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developing solution for photosensitive lithographic printing plate, plate-making method of lithographic printing plate, and photosensitive lithographic printing plate |
| WO2002033491A3 (en) * | 2000-10-17 | 2002-08-01 | Kodak Polychrome Graphics Co | Aqueous developer for lithographic printing plates |
| JP2005046145A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Ortho Clinical Diagnostics Inc | 高比重リポタンパク質コレステロール定量化のための乾式分析要素 |
| KR20140006660A (ko) | 2012-07-06 | 2014-01-16 | 동우 화인켐 주식회사 | 감방사선성 조성물용 현상액 조성물 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002351094A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-12-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像液組成物及び画像形成方法 |
| US20080176169A1 (en) * | 2007-01-22 | 2008-07-24 | Icf Technology Limited. | Binder composition and photosensitive composition including the same |
| US8338500B2 (en) * | 2007-01-22 | 2012-12-25 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Binder composition and photosensitive composition including the same |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4269929A (en) * | 1980-01-14 | 1981-05-26 | Eastman Kodak Company | High contrast development of photographic elements |
| DE3884825D1 (de) * | 1987-02-16 | 1993-11-18 | Konishiroku Photo Ind | Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatte, gemeinschaftlich verarbeitungsfähig für den Negativ-Typ und den Positiv-Typ und Entwicklerzusammensetzung für lichtempfindliches Material. |
| EP0361447B1 (en) * | 1988-09-28 | 1994-02-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing a condensed resin dispersion |
| JPH0470756A (ja) * | 1990-07-11 | 1992-03-05 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液 |
| JP2769063B2 (ja) * | 1992-01-16 | 1998-06-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 減力液及び銀画像の減力処理法 |
| US5635328A (en) * | 1993-08-21 | 1997-06-03 | Konica Corporation | Light-sensitive lithographic printing plate utilizing o-quinone diazide light-sensitive layer containing cyclic clathrate compound |
| JPH07120935A (ja) | 1993-10-25 | 1995-05-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
| JPH09171261A (ja) | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Toagosei Co Ltd | アルカリ現像液 |
| US5858617A (en) * | 1996-03-12 | 1999-01-12 | Konica Corporation | Photopolymerizable composition and presensitized planographic printing plate employing the same |
-
1998
- 1998-03-05 JP JP10069282A patent/JPH11249322A/ja active Pending
-
1999
- 1999-04-13 US US09/289,963 patent/US6180322B1/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000073787A (ko) * | 1999-05-14 | 2000-12-05 | 마쯔모또 에이찌 | 감방사선성 조성물용 알칼리성 현상액 |
| EP1172699A1 (en) * | 2000-07-14 | 2002-01-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developing solution for photosensitive lithographic printing plate, plate-making method of lithographic printing plate, and photosensitive lithographic printing plate |
| WO2002033491A3 (en) * | 2000-10-17 | 2002-08-01 | Kodak Polychrome Graphics Co | Aqueous developer for lithographic printing plates |
| JP2005046145A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Ortho Clinical Diagnostics Inc | 高比重リポタンパク質コレステロール定量化のための乾式分析要素 |
| KR20140006660A (ko) | 2012-07-06 | 2014-01-16 | 동우 화인켐 주식회사 | 감방사선성 조성물용 현상액 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6180322B1 (en) | 2001-01-30 |
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