JP2769063B2

JP2769063B2 - 減力液及び銀画像の減力処理法

Info

Publication number: JP2769063B2
Application number: JP4005404A
Authority: JP
Inventors: 久岡田; 盛夫八木原; 克己林
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1992-01-16
Filing date: 1992-01-16
Publication date: 1998-06-25
Anticipated expiration: 2013-06-25
Also published as: US5447821A; JPH05188535A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀感光材料、
特に製版感光材料を露光後現像処理して得られる網点ま
たは／および線画からなる銀画像を修正する減力処理法
に関するものである。更に詳しくは、減力適性が良く、
保存安定性が優れ、かつ被処理後感光材料の黄色汚染が
ない減力液に関する。

【０００２】

【従来の技術】銀画像、とりわけ製版用感光材料に形成
された網点状または線状銀画像の減力に関しては、多く
の文献や特許があり、従来から種々の減力液が使用され
ている。古くは赤血塩を主成分とするファーマー氏の減
力液が一般的であったが、公害上の問題等から、最近で
は、硫酸セリウム塩減力液やエチレンジアミン四酢酸第
二鉄キレート減力液が使用されるようになってきた。

【０００３】製版用感光材料としては、いわゆるリスフ
ィルムが主に用いられてきたが、最近ではヒドラジン化
合物やテトラゾリム化合物を含有する新しい硬調感光材
料が用いられるようになり、要求される減力液の特性も
変化してきた。

【０００４】ファーマー氏減力液は中性で減力特性が良
いが、公害問題や液保存性が劣る欠点がある。また、硫
酸セリウム塩減力液は液保存性が良く減力適性も比較的
良いが強酸性で取り扱い性が悪く、又非画像部に黄色汚
染が残り易い欠点がある。更に、エチレンジアミン四酢
酸第二鉄キレート減力液は中性でコストが安いが、減力
性が劣る。沃化銀含有量が多い新しい硬調感光材料では
銀画像の周辺部に黄褐色の残差が生じ有効減力幅が減少
する。また、減力後の画像部が黄色汚染となり残る等の
欠点がある。

【０００５】減力適性が良いとは、銀画像の濃度の低下
に対する、銀画像の面積の減少が大きいこと、すなわち
減力幅が大きいことをいう。

【０００６】上記の問題点を解決するものとして、特開
平１−２８２５５１号公報には、１，３−ジアミノプロ
パン四酢酸第二鉄キレートを含有する減力液が記載され
ているが、この減力液では経時後沈澱物が析出し、また
減力適性が低下するという欠点を有することがわかっ
た。

【０００７】また、一般に、従来のアミノポリカルボン
酸第二鉄キレートは酸化力が弱いため、硫酸セリウム
塩、赤血塩などと比較すると減力（酸化）速度が遅く、
実用性ある減力液とするには困難であり、又それらの化
合物て長時間減力しても、特に前記の新しい硬調感光材
料と組み合わせ使用した場合には網点濃度の低下が大き
く、減力後の画像部が黄色汚染となり、かつ網点の周辺
部に黄褐色の残渣が残り易い問題があった。

【０００８】更に、特開昭５２−６８４１９号には、減
力液にヘテロ環メルカプト化合物の使用、特にエチレン
ジアミン四酢酸第二鉄キレートとの組み合わせ使用が記
載されているが、この組み合わせも上記の問題点を解決
出来るものではなかった。

【０００９】一方、製版材料の仕上がりは顧客の注文に
よりしばしば修正が必要になり、局部的な部分の修正の
場合には、減力液により行うのが一般的である。減力作
業は、普通水の流れているライトテーブル（水洗ライト
テーブル）上で行うが、減力液が薄黄色のための所定部
分以外に流出しても気付かず必要な場所を消失してしま
うトラブルがしばしばあった。

【００１０】また、減力された部分は、銀が酸化される
ため画像濃度が低く成るため、刷版に焼き付ける場合に
注意が必要である。特に減力工程と刷版工程が同じでな
く別々の場所の場合にしばしばこれが原因でトラブルが
発生する。

【００１１】しかしながら、従来のアミノポリカルボン
酸第二鉄キレートを酸化剤とする減力液では網点の周辺
部に黄褐色の残渣が残り、顕微鏡で観察すると減力部分
がわかるが、目視では判別できないという問題もあっ
た。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は第１
に、これらの欠点のない減力液を提供することである。

【００１３】第２に、特に前記の新しい硬調感光材料に
適性の有る減力液及び減力方法を提供することである。

【００１４】第３に、特に減力液の流出や減力部分が分
かる作業性の良い減力液を提供することである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】我々は、数多くの酸化剤
を検討した結果、上記第１及び第２の目的は、下記一般
式（１）及び（２）から選ばれた少なくとも１種のアミ
ノ化合物の第二鉄キレート化合物を含む減力液により達
成できることを見出した。

【００１６】

【化２１】

【００１７】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂およびＡ₄₃は、カルボキ
シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
し、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃は脂肪族基、芳香族基、ヘテ
ロ環基および／またはそれらの組み合わせから成る基を
含む二価の連結基を表す。Ｙは酸素原子または硫黄原子
を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表
わす。Ｒ₄₁は置換基を表す。ａは０、１、２、３または
４を表す。

【００１８】

【化２２】

【００１９】式中、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、水
素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ₅₁−Ａ
₅₁（Ｌ₅₁は一般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃
と同義である。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホノ基、スル
ホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル
基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサ
ム酸基、アルコキシ基またはアルキルチオ基を表
す。）、または下記一般式（３）で示される基を表す。
Ｗ₅₁はアルキレン基および／またはアリーレン基を含む
二価の連結基を表わす。但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃および
Ｘ₅₄の少なくとも一つは下記一般式（３）で示される基
を表わす。

【００２０】

【化２３】

【００２１】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を
形成するのに必要な原子群を表す。Ａ₅₂は水素原子、カ
ルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カ
ルボンアミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、
アルキルチオ基またはアミノ基を表す。

【００２２】また、本発明の銀画像の減力処理法は、ハ
ロゲン化銀感光材料を露光、現像処理して形成された銀
画像を、上記一般式（１）及び（２）から選ばれた少な
くとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物の存
在下で減力処理することを特徴とする。

【００２３】更に、本発明の第１及び第２の目的は、上
記一般式（１）及び（２）から選ばれた少なくとも１種
のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物と減力促進剤で
ある下記一般式（４）で表される化合物を含む減力液に
よっても達成されることを見出した。

【００２４】

【化２４】

【００２５】また、本発明の銀画像の減力処理法は、ハ
ロゲン化銀感光材料を露光、現像処理して形成された銀
画像を、上記一般式（１）及び（２）から選ばれた少な
くとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物と減
力促進剤である上記一般式（４）で表される化合物を含
む減力液で減力処理することを特徴とする。

【００２６】更に、本発明の第３の目的は上記一般式
（１）及び（２）から選ばれた少なくとも１種のアミノ
化合物の第二鉄キレート化合物と錯形成剤ならび染料を
含む減力液により達成されることを見出した。

【００２７】また、本発明の銀画像の減力処理法は、ハ
ロゲン化銀感光材料を露光、現像処理して形成された銀
画像を、上記一般式（１）及び（２）から選ばれた少な
くとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物と錯
形成剤ならび染料を含む減力液で減力処理することを特
徴とする。

【００２８】次に、一般式（１）で表される化合物につ
いて以下に詳細に説明する。

【００２９】一般式（１）においてＡ₄₁、Ａ₄₂およびＡ
₄₃は、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒド
ロキシ基を表し、好ましくはカルボキシ基、ヒドロキシ
基であり、より好ましくはカルボキシ基である。

【００３０】Ｌ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃は、脂肪族基、芳香
族基、ヘテロ環基および／またはそれらの組み合わせか
ら成る基を含む二価の連結基を表す。二価の連結基とし
ては炭素数１ないし１０のアルキレン基、炭素数６ない
し１０のアリーレン基、炭素数７ないし１０のアラルキ
レン基または−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ₀−
（Ｒ₀は水素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基ま
たはヒドロキシ基）、−ＳＯ₂−とアルキレン基または
アリーレン基の組み合わせから成る基が好ましい。更に
可能な場合にはこれらの組み合わせでもよい。また、こ
れらの二価の連結基は置換基を有してもよく置換基とし
て例えば、Ｒａの置換基として挙げたものが適用でき
る。Ｌ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃の好ましい具体例として以下
のものが挙げられ、特にメチレン基、エチレン基が好ま
しい。

【００３１】

【化２５】

【００３２】Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。ｓ、
ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表す。ａは０、
１、２、３または４を表す。

【００３３】Ｒ₄₁は置換基を表し、例えばアルキル基
（例えばメチル基、エチル基）、アラルキル基（例えば
フェニルメチル基）、アルケニル基（例えばアリル
基）、アルキニル基、アルコキシ基（例えばメトキシ
基、エトキシ基）、アリール基（例えばフェニル基、ｐ
−メチルフェニル基）、アミノ基（例えばジメチルアミ
ノ基）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基）、
スルホニルアミノ基（メタンスルホニルアミノ基）、ウ
レイド基、ウレタン基、アリールオキシ基（例えばフェ
ニルオキシ基）、スルファモイル基（例えばメチルスル
ファモイル基）、カルバモイル基（例えばカルバモイル
基、メチルカルバモイル基）、アルキルチオ基（例えば
メチルチオ基）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ
基）、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原
子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、ホスホノ
基、アリールオキシカルボニル基（例えばフェニルオキ
シカルボニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ベン
ゾイル基）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシ
カルボニル基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ
基）、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ニトロ
基、ヒドロキサム酸基、ヘテロ環基などが挙げられる。
上記置換基で炭素原子を有する場合、好ましくは炭素数
１〜１０のものであり、より好ましくは１〜４のもので
ある。

【００３４】一般式（１）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（５）で表される化合物である。

【００３５】

【化２６】

【００３６】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂、Ａ₄₃、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂、Ｒ
₄₁およびａは、一般式（１）におけるそれぞれと同義で
ある。

【００３７】次に、一般式（２）で表される化合物につ
いて以下に詳細に説明する。

【００３８】一般式（２）においてＸ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃お
よびＸ₅₄は水素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基
である。

【００３９】脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキ
ル基、アルケニル基またはアルキニル基であり、炭素数
１ないし１０のものが好ましい。脂肪族基としてより好
ましくはアルキル基であり、特に炭素数１ないし４のア
ルキル基が好ましい。

【００４０】芳香族基は、単環または二環のアリール基
であり、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられ、フ
ェニル基がより好ましい。

【００４１】ヘテロ環基は、Ｎ、ＯまたはＳ原子のうち
少なくとも一つを含む３ないし１０員の飽和もしくは不
飽和のヘテロ環であり、これらは単環であってもよい
し、更に他の芳香環もしくはヘテロ環と縮合環を形成し
てもよい。ヘテロ環として好ましくは５ないし６員の芳
香族ヘテロ環基であり、例えば、チオフェン、フラン、
ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラ
ジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアゾール、トリア
ジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾ
ール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフ
チリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プ
テリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジ
ン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾールなどが挙
げられる。芳香族ヘテロ環基としてより好ましくは、ピ
ロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジ
ン、ピリミジン、トリアゾール、チアジアゾール、オキ
サジアゾール、キノキサリン、テトラゾール、チアゾー
ル、オキサゾールであり、特にピロール、イミダゾー
ル、ピリジン、トリアゾール、チアジアゾール、オキサ
ジアゾール、キノキサリン、タトラゾール、チアゾー
ル、オキサゾールである。

【００４２】脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基は、置換
基を有していてもよく、置換基としては例えばアルキル
基（例えばメチル基、エチル基）、アラルキル基（例え
ばフェニルメチル基）、アルケニル基（例えばアリル
基）、アルキニル基、アルコキシ基（例えばメトキシ
基、エトキシ基）、アリール基（例えばフェニル基、ｐ
−メチルフェニル基）、アミノ基（例えばジメチルアミ
ノ基）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基）、
スルホニルアミノ基（メタンスルホニルアミノ基）、ウ
レイド基、ウレタン基、アリールオキシ基（例えばフェ
ニルオキシ基）、スルファモイル基（例えばメチルスル
ファモイル基）、カルバモイル基（例えばカルバモイル
基、メチルカルバモイル基）、アルキルチオ基（例えば
メチルチオ基）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ
基）、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原
子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、ホスホノ
基、アリールオキシカルボニル基（例えばフェニルオキ
シカルボニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ベン
ゾイル基）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシ
カルボニル基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ
基）、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ニトロ
基、ヒドロキサム酸基、ヘテロ環基などが挙げられる。
上記置換基で炭素原子を有する場合、好ましくは炭素数
１〜１０のものであり、より好ましくは１〜４のもので
ある。

【００４３】また、一般式（２）においてＸ₅₁、Ｘ₅₂、
Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、−Ｌ₅₁−Ａ₅₁であってもよい。

【００４４】Ｌ₅₁は、一般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂
およびＬ₄₃と同義である。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホ
ノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、カ
ルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、
ヒドロキサム酸基、アルコキシ基またはアルキルチオ基
を表し、より好ましくはカルボキシ基、ヒドロキシ基を
表し、更に好ましくはカルボキシ基を表す。Ａ₅₁は置換
基を有してもよく、置換基としては一般式（１）におけ
るＲ₄₁の置換基として挙げたものが適用できる。また、
Ａ₅₁が炭素原子を有する場合、炭素数は１０以下のもの
が好ましく、より好ましくは炭素数６以下のものであ
る。）または下記一般式（６）を表す。

【００４５】

【化２７】

【００４６】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を
形成するのに必要な原子群を表す。Ｂで形成されるアリ
ール基としては単環または二環のものが好ましく、例え
ばフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アリール
基としてより好ましくはフェニル基である。Ｂで形成さ
れるヘテロ環はＮ、ＯまたはＳ原子のうち少なくとも一
つを含む３ないし１０員の飽和もしくは不飽和のヘテロ
環であり、これらは単環であってもよいし、更に他の芳
香環もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましくは５ないし６員の芳香族ヘテロ環基
であり、例えば、チオフェン、フラン、ピロール、イミ
ダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドー
ル、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジ
アゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノ
キサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アク
リジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾー
ル、チアゾール、オキサゾールなどが挙げられる。芳香
族ヘテロ環基としてより好ましくは、ピロール、イミダ
ゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジ
ン、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノキサリン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾールであり、特にピロール、イミダゾール、ピリジ
ン、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノキサリン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾールである。Ｂで形成されるアリール基またはヘテロ
環基は置換基を有してもよく、置換基としては例えば一
般式（１）におけるＲ₄₁の置換基として挙げたものが適
用できる。

【００４７】Ａ₅₂は水素原子、カルボキシ基、ホスホノ
基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、カル
バモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒ
ドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ基または
アミノ基を表す。Ａ₅₂が炭素原子を有する場合、炭素数
１０以下のものが好ましく、より好ましくは炭素数６以
下のものである。Ａ₅₂として好ましくは、カルボキシ
基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基であり、より
好ましくはカルボキシ基である。

【００４８】Ｗ₅₁はアルキレン基および／またはアリー
レン基を含む二価の連結基を表す。二価の連結基として
は、好ましくは炭素数２ないし８のアルキレン基、炭素
数６ないし１０のアリーレン基、炭素７ないし１０のア
ラルキレン基、炭素数５〜１０のシクロアルカン基、ヘ
テロ環基、 −（Ｗ¹−Ｏ−）ａ₁−Ｗ²−、 −（Ｗ¹−Ｓ−）ａ₁−Ｗ²−（Ｗ¹、Ｗ²はアルキレ
ン基、アリーレン基、アラルキレン基またはヘテロ環基
を表す。ａ₁は１、２または３を表す。）、−Ｗ¹−Ｎ
（Ｄ）−Ｗ²−（Ｄは水素、炭化水素、−Ｌａ−ＣＯＯ
Ｍ_a1、−Ｌａ−ＰＯ₃Ｍ_a2Ｍ_a3、−Ｌａ−ＯＨ、−Ｌａ
−ＳＯ₃Ｍ_a4（Ｌａは炭素数１ないし８のアルキレン
基、炭素数６ないし１０のアリーレン基、炭素数７ない
し１０のアラルキレン基またはヘテロ環基を表す。
Ｍ_a1、Ｍ_a2、Ｍ_a3、Ｍ_a4は水素原子またはカチオン（ア
ルカリ金属、アンモニウム、ピリジニウムなど）を表
す。）が挙げられ、更にこれらの組み合わせでもよい。
これらの二価の連結基は置換基を有していてもよく、置
換基としては例えば一般式（１）におけるＲ₄₁の置換基
として挙げたものが適用できる。Ｗ₅₁の具体例として例
えば以下のものが挙げられる。

【００４９】

【化２８】

【００５０】但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄の少な
くとも一つは上記一般式（６）を表す。

【００５１】一般式（２）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（７）または（８）で表される化合
物である。

【００５２】

【化２９】

【００５３】（式中、Ａ₅₂、Ｂ、Ｗ₅₁は一般式（２）に
おけるそれぞれと同義である。Ａ₅₂’は一般式（２）に
おけるＡ₅₂と同義であり、Ｂ’は一般式（２）における
Ｂと同義であり、Ｌ₂₅₁、Ｌ₂₅₂、Ｌ₂₅₃、Ｌ₂₆₁、Ｌ
₂₆₂は一般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃と同
義であり、Ａ₂₅₁、Ａ₂₅₂、Ａ₂₅₃、Ａ₂₆₁、Ａ₂₆₂は
一般式（２）におけるＡ₅₁と同義である。）一般式
（１）及び（２）で表される化合物の具体例および合成
法は、特開昭６３−９７，９５３号、同６３−９７，９
５４号、特開平１−９３，７４０号、特開平３−１４
８，２４３号、特願平２−１１９，２５０号、同２−１
２７，４７９号、同２−１５６，６８３号、同２−１７
５，０２６号、同２−１９６，９７２号、同２−２０
１，８４６号、同２−２５８，５３９号、同２−３３
０，７７５号、同２−３３０，７７６号、同２−３３
０，７７７号、同３−１５７，４４２号、同３−１７
５，７０８号、同３−１８０，５２４号、同３−１８
９，５５５号、同３−１７５，７０８号、同３−１９
３，６８０号、同３−２５３，７７５号の各公報などに
記載されている。

【００５４】一般式（１）及び（２）で表される化合物
の代表例（１−１）〜（１−２１）を以下に示すが、こ
れらに限定されるものではない。

【００５５】

【化３０】

【００５６】

【化３１】

【００５７】

【化３２】

【００５８】

【化３３】

【００５９】上記一般式（１）及び（２）から選ばれた
少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物
の使用量は、目的とする減力幅、使用感材の種類、銀画
像の濃度等により異なるが、０．３ｇ／リットルから溶
解限度までで、好ましくは５〜５０ｇ／リットルであ
る。

【００６０】本発明の減力液は、基本的には上記一般式
（１）及び（２）から選ばれた少なくとも１種のアミノ
化合物の第二鉄キレート化合物の水溶液であり、特開昭
５２−６８４１９号に記載されているようなメルカプト
化合物や、２−メルカプト−１，３，４−トリアゾー
ル、２−（２−ジメチルアミノエチル）チオ−５−メル
カプト−チオジアゾールを併用することもできるが、上
記一般式（１）及び（２）から選ばれた少なくとも１種
のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物とともに上記一
般式（４）で表される化合物を減力促進剤として併用す
ることが好ましい。

【００６１】以下、上記一般式（４）で表される化合物
の具体的化合物例（２−１）〜（２−１５）を掲げる
が、本発明はこれに限定されるものではない。

【００６２】

【化３４】

【００６３】

【化３５】

【００６４】

【化３６】

【００６５】上記減力促進剤中、特に好ましい化合物は
２−１、２−２、２−３、２−９、２−１０、２−１１
である。

【００６６】本発明の一般式（４）で表される化合物の
使用量は、目的とする減力幅、使用感材の種類等により
異なるが、０．００１〜３．０ｇ／リットルで０．０１
〜０．５ｇ／リットルが好ましい。単独または併用して
もよい。

【００６７】次に、本発明の減力液は、基本的には上記
一般式（１）及び（２）から選ばれた少なくとも１種の
アミノ化合物の第二鉄キレート化合物の水溶液である
が、錯形成剤ならびに染料を併用するとよい。

【００６８】本発明の減力液に用いられる染料として
は、スチリル系染料、オキソノール系染料、アントラキ
ノン系染料、メロシアニン系染料、シアニン系染料、ト
リアリールメタン系染料、アゾメチン系染料、アゾ系染
料、金属錯体系染料などの水溶性化合物が用いられる。
液中の安全性から、金属錯体系染料、アントラキノン系
染料、トリアリールメタン系染料が適している。色相と
しては青色系が好ましい。

【００６９】有効な水溶性染料の具体例としては、以下
の（３−１）〜（３−８）が挙げられる。

【００７０】

【化３７】

【００７１】

【化３８】

【００７２】本発明に用いる水溶性染料の使用量は、使
用する染料の種類や用途により異なるが、１０^-4〜５ｇ
／リットル、好ましくは１０^-2〜１．０ｇ／リットルで
ある。

【００７３】減力液に用いる錯形成剤としては、チオ硫
酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、チオシアン酸ア
ンモニウム、チオ尿素、ハロゲン化物、チオエーテル類
など、周知のハロゲン化銀溶剤を用いることができる。
その使用量は５〜２００ｇ／リットル、好ましくは１０
〜１００ｇ／リットルである。

【００７４】なお、本発明の減力液は、上記一般式
（１）および（２）から選ばれた少なくとも１種のアミ
ノ化合物の第二鉄キレート化合物と減力促進剤である一
般式（４）で表される化合物と共に錯形成剤ならびに染
料とを共に使用してもよいことは勿論である。

【００７５】また、本発明の減力液は、必要に応じ他の
添加剤、例えばｐＨ緩衝剤、亜硫酸塩などの保恒剤、ハ
ロゲン化物などを添加しても良く、また、必要により界
面活性剤、増粘剤を含有せしめることが出来る。

【００７６】本発明においては、銀画像を減力液中に浸
漬することにより、銀画像を減力処理するが、そのほか
に、本発明の減力液をゼラチン、ポリビニールアルコー
ル、ポリアクリル酸の如き親水性バインダー中に含浸せ
しめて支持体上に塗布して成るシートを銀画像と接触せ
しめることにより減力することもできる。

【００７７】本発明において、減力処理に先立ち、硫酸
ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウ
ム、又はチオ硫酸ナトリウムなどを含有する液で前処理
するとさらにその効果を高めることができる。

【００７８】本発明の減力液のｐＨは２〜８が好まし
い。

【００７９】本発明の画像減力方法を適用するハロゲン
化銀感光材料のハロゲン組成は特に制限はない。塩臭化
銀、塩化銀画像、沃臭化銀画像、沃臭塩化銀、あるいは
これらの２種以上の混合のいずれでもよいが、沃化銀を
含有するハロゲン組成（好ましくは０．０５モル％〜５
モル％、特に０．１モル％〜３モル％の沃化銀画像を含
むハロゲン化銀）の場合に特に効果が著しい。

【００８０】本発明に使用できるハロゲン化銀写真乳剤
は、公知の方法で製造でき、例えばリサーチ・ディスク
ロージャー（ＲＤ）、Ｎｏ．１７６４３（１９７８年１
２月）、２２〜２３頁、“Ｉ．乳剤製造（Ｅｍｕｌｓｉ
ｏｎｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄｔｙｐｅ
ｓ）”および同Ｎｏ．１８７１６（１９７９年１１
月）、６４８頁に記載の方法に従うことができる。米国
特許第４，４３４，２２６号、同第４，４３９，５２９
号の各明細書およびリサーチ・ディスクロージャーＮ
ｏ．ｌ２２５３４（１９８３年１月）に記載されたよう
な平板粒子も本発明で使用できる。

【００８１】本発明に使用できる種々の写真用添加剤
は、例えば前述のリサーチ・ディスクロージャーＮｏ．
１７６４３の２３〜２８頁および同ｏ．１８７１６の６
４８〜６５１頁に記載されている。これらの添加剤の種
類とその詳細な記載箇所を下記に示した： ──────────────────────────────────── 添加剤種類Ｒ１７６４３Ｒ１８７１６ ──────────────────────────────────── 化学増感剤２３頁６４８頁右欄感度上昇剤同上分光増感剤２３〜２４頁６４８頁右欄〜強色増感剤６４９頁右欄増白剤２４頁かぶり防止剤および安定剤２４〜２５頁６４９頁右欄光吸収剤、フイルター染料２５〜２６頁６４９頁右欄〜紫外線吸収剤６５０左欄ステイン防止剤２５頁右欄６５０頁左〜右欄硬膜剤２６頁６５１頁左欄バインダー２６頁同上可塑剤、潤滑剤２７頁６５０頁右欄塗布助剤、表面活性剤２６〜２７頁同上スタチック防止剤２７頁同上 ──────────────────────────────────── 本発明の減力方法を適用できるハロゲン化銀感光材料に
は特に制限はないが、製版用感光材料に適用するのが好
ましい。

【００８２】本発明の減力方法は、リス用現像液で処理
された感光材料に適用することもできる。リス用現像液
は基本的にはオルト又はパラジヒドロキシベンゼン、ア
ルカリ剤、少量の遊離の亜硫酸塩および亜硫酸イオンバ
ッファー等から構成される。現像主薬としてのオルト又
はパラジヒドロキシベンゼンとしてはハイドロキノンが
実用的である。

【００８３】本発明の減力方法は、特にヒドラジン誘導
体を含有した超硬調感材に対して有効に適用することが
できる。かかる感光材料に関しては、特開昭５３−１６
６２３号、同５３−２０９２２号、同５３−６６７３２
号の各公報、米国特許第４，２２４，４０１号、同第
４，１６８，９７７号、同第４，１６６，７４２号、同
第４，３１１，７８１号、同第４，２７２，６０６号、
同第４，２１１，８５７号、同第４，２４３，７３９号
等の各明細書に詳しく記載されている。

【００８４】また、特開昭５２−１８３１７号、同５３
−９５６２８号、同５３−９５６２９号の各公報に記載
されているテトラゾリウム塩を含有する硬調感材に対し
ても有効である。

【００８５】これらの新しい硬調感材は、リス現像液よ
りも安定な現像液で硬調な写真特性を得ることができる
という特長をもっている。ここで用いられる現像液はジ
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を主現像主薬とし、ｐ−
アミノフェノール系又は１−フェニル−３−ピラゾリゾ
ン系現像剤を補助現像剤として用いる。現像剤は感材中
に含有されていてもよい。保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム、ホルムア
ルデヒド重亜硫酸ナトリウム等がある。

【００８６】現像液のｐＨ値は１０．５〜１２．３の範
囲に設定される。アルカリ剤には通常の水溶性無機アル
カリ金属塩（例えば水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、
第三リン酸カリウム等）を用いることができる。米国特
許第４，２６９，９２９号明細書記載のアルカノ−ルア
ミンも使用することも出来る。

【００８７】一般に、現像液にはその他、ホウ酸などの
ｐＨ緩衝剤、臭化カリウム、沃化カリウムごときの現像
抑制剤、トリエチレングリコール、エタノール等の有機
溶剤、５−メチルベンツトリアゾールなどのベンツトリ
アゾール系化合物、５−ニトロインダゾール等のインダ
ゾール系化合物等のカブリ防止剤ないしは黒ボツ防止剤
を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性
剤、硬水軟化剤などを含んでもよい。

【００８８】定着液としては、一般に用いられている組
成のものを用いることができる。定着剤としてはチオ硫
酸塩、チオシアン酸塩のほか、定着剤としての効果が知
られている有機硫黄化合物を用いることができる。定着
液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩、例えば硫酸
アルミニウム、明バンなど含んでもよい。ここで水溶性
アルミニウム塩の量としては通常０〜３．０ｇＡｌ／リ
ットルである。また酸化剤としてエチレンジアミン四酢
酸Ｆｅ（３価）錯塩を用いてもよい。

【００８９】処理温度は通常１８℃から５０℃の間に選
ばれるが、１８℃より低い温度または５０℃をこえる温
度としてもよい。

【００９０】

【作用及び発明の効果】本発明の減力液は、減力速度、
減力適性、減力作業性に優れており、かつ経時後の液に
おいて沈澱物の析出が見られず、安定な液であり、硬調
感光材料への使用に適するものである。

【００９１】以下に実施例をあげ、本発明を更に詳細に
説明する。

【００９２】

【実施例１】５０℃に保ったゼラチン水溶液に銀１モル
当たり４×１０^-7モルの６塩化イリジウム（３価）カリ
およびアンモニアの存在下で、硝酸銀画像水溶液と沃化
カリウム、臭化カリウムの水溶液を同時に６０分間で加
えその間のｐＡｇを７．８に保つことにより、平均粒子
サイズ０．２８μで、平均沃化銀画像含有量０．３モル
％の立方体単分散乳剤を調製した。

【００９３】この乳剤をフロキユレーション法により脱
塩を行いその後に、銀１モル当たり４０ｇｒの不活性ゼ
ラチンを加えた後５０℃に保ち増感色素として５，５′
−ジクロロ−９−エチル−３，３′−ビス−（３−スル
フォプロピル）オキサカルボシアニンと、銀１モル当た
り１０^-3モルのＫＩ溶液を加え、１５分間経時させた後
降温した。

【００９４】この乳剤を再溶解し、４０℃にて銀１モル
当たり０．０２モルのメチルハイドロキノン及び下記の
増感色素（１）及びヒドラジン誘導体（２）を１．２×
１０^-3モル／Ａｇモル、さらに下記添加剤（３）、５−
メチルベンズトリアゾール、４−ヒドロキシ−１，３，
３ａ，７−テトラザインデン、下記の促進剤（４），
（５）及びポリエチルアクリレート分散物、硬膜剤を添
加しポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し
た。

【００９５】

【化３９】

【００９６】このようにして得られたフイルムに１５０
線コンタクトスクリーンを用いてセンシトメトリー用ウ
ェッジを通して露光したのち、下記組成の現像液で３４
℃、３０秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。

【００９７】エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩１ｇ水酸化ナトリウム１８ｇ５−スルホサルチル酸５５ｇ亜硫酸カリウム１１０ｇｎ−ブチルジエタノールアミン１５ｇＮ−メチル−ｐ−アミノフェノール１／２硫酸塩０．３ｇハイドロキノン５０ｇ２−メルカプトベンツイミダゾール５− ０．３ｇスルホン酸３−（５−メルカプトテトラゾール）ベンゼン０．２ｇスルホン酸ナトリウムトルエンスルホン酸ナトリウム８．０ｇ５−メチルベンツトリアゾール０．５ｇ臭化ナトリウム１０ｇ水を加えて１リットル（ｐＨ１１．６）定着液はＧＲＦ−１（富士フイルム（株）製）を用いた。

【００９８】得られた網点銀画像（面積率５０％）につ
いて、第二鉄キレート化合物７３ｍｍｏｌ／リットル及
びチオ硫酸ナトリウム３２ｍｍｏｌ／リットル組成の減
力液（ｐＨは６に調整）で減力処理した。減力処理する
前の銀画像濃度（４．６０またはそれ以上）が濃度２．
５０になるまでに網点面積が減少した割合つまり５０％
からの変化量を求め、また残渣を調べて〔表１〕に示す
結果を得た。

【００９９】

【表１】

【０１００】〔表１〕から明らかな如く、本発明による
減力液は、著しく減力幅が広くなり、また残渣がなくな
っていることがわかる。更に、１，３−ジアミノプロパ
ン四酢酸第２鉄キレートを用いた減力液２では経時での
沈澱物が析出し、減力適性が低下したが、本発明の減力
液ではそのような問題は生じなかった。

【０１０１】

【実施例２】８０モル％塩化銀、１９．５モル％の臭化
銀及び０．５モル％の沃化銀画像からなるハロゲン化銀
乳剤（平均粒子サイズ０．２５μ、立方体）を、金増感
及びイオウ増感し、さらに下記分光増感剤（１）、現像
促進剤（２）、硬膜剤（３）、ラテックスを順次加えた
後、ポリエチレンテレフタレート上に塗布した。

【０１０２】（１）３−カルボキシメチル−５−〔２−（３−エチル
チアゾリニデン）エチリデン〕ローダニン（２）ポリオキシエチレンノニルフェニル・エーテル
（エチレンオキサイド基５０）（３）ムコクロル酸この感材にマゼンタコンタクトスクリーンを通して露光
したのち、ＨＳ−５（富士写真フイルム（株）製）に
て、３２℃、１分で現像した後、下記〔表２〕の組成の
減力液にて減力し、その結果を下記〔表２〕に示した。

【０１０３】減力速度は６０秒処理後の網点面積率、減
力適性は１０％減力後の濃度（減力前の銀画像濃度４．
６０またはそれ以上）、また減力液を２日間経時した後
の液の状態を調べて〔表２〕に示す結果をえた。

【０１０４】

【表２】

【０１０５】〔表２〕により、本発明の減力液は減力速
度、減力適性に優れており、かつ経時後の液においての
沈澱物の析出も見られず、安定な液であることがわか
る。

【０１０６】

【実施例３】実施例１で得られたフィルムに１５０線コ
ンタクトスクリーンを用いてセンシトメトリー用ウェッ
ジを通して露光したのち、下記組成の現像液で３４℃、
３０秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。

【０１０７】現像液エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩１ｇ水酸化ナトリウム１８ｇ水酸化カリウム５５ｇ５−スルホサリチル酸３０ｇホウ酸２０ｇ亜硫酸カリウム１１０ｇｎ−ブチルジエタノールアミン１５ｇＮ−メチル−ｐ−アミノフェノール１／２硫酸塩０．３ｇハイドロキノン５０ｇ２−メチルベンツトリアゾール０．４ｇ臭化ナトリウム１０ｇ水を加えて１リットル（ｐＨ１１．６）定着液は、ＧＲＦ−１（富士写真フイルム（株）製）を用いた。得られた網点銀（面積率５０％）について下記〔表３〕に示す減力液で減力処理した。

【０１０８】減力速度は６０秒処理後の網点面積率、減
力適性は１０％減力後の濃度（減力前の銀画像濃度４．
６０またはそれ以上）、また減力作業性及び２日間経時
後の液の状態を調べて〔表３〕に示す結果をえた。

【０１０９】

【表３】

【０１１０】〔表３〕により、本発明の減力液は、減力
速度、減力適性、減力作業性に優れており、かつ経時後
の液において沈澱物の析出が見られず、安定な液である
ことがわかる。

フロントページの続き (56)参考文献特開平５−134364（ＪＰ，Ａ) 特公昭51−29015（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G03C 5/42

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）及び（２）から選ばれ
た少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合
物を含むことを特徴とする減力液。【化１】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂およびＡ₄₃は、カルボキシ基、ホスホ
ノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表し、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂
およびＬ₄₃は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
基を表す。Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。ｓ、
ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表わす。Ｒ₄₁は
置換基を表す。ａは０、１、２、３または４を表す。【化２】式中、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、水素原子、脂肪
族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ₅₁−Ａ₅₁（Ｌ₅₁は一
般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃と同義であ
る。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒド
ロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、ア
ルコキシ基またはアルキルチオ基を表す。）、または下
記一般式（３）で示される基を表す。Ｗ₅₁はアルキレン
基および／またはアリーレン基を含む二価の連結基を表
わす。但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄の少なくとも
一つは下記一般式（３）で示される基を表わす。【化３】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
必要な原子群を表す。Ａ₅₂は水素原子、カルボキシ基、
ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
基またはアミノ基を表す。
【請求項２】ハロゲン化銀感光材料を露光、現像処理
して形成された銀画像を、下記一般式（１）及び（２）
から選ばれた少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キ
レート化合物の存在下で減力処理することを特徴とする
銀画像の減力処理法。【化４】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂およびＡ₄₃は、カルボキシ基、ホスホ
ノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表し、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂
およびＬ₄₃は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
基を表す。Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。ｓ、
ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表わす。Ｒ₄₁は
置換基を表す。ａは０、１、２、３または４を表す。【化５】式中、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、水素原子、脂肪
族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ₅₁−Ａ₅₁（Ｌ₅₁は一
般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃と同義であ
る。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒド
ロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、ア
ルコキシ基またはアルキルチオ基を表す。）、または下
記一般式（３）で示される基を表す。Ｗ₅₁はアルキレン
基および／またはアリーレン基を含む二価の連結基を表
わす。但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄の少なくとも
一つは下記一般式（３）で示される基を表わす。【化６】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
必要な原子群を表す。Ａ₅₂は水素原子、カルボキシ基、
ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
基またはアミノ基を表す。
【請求項３】下記一般式（１）及び（２）から選ばれ
た少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合
物と下記一般式（４）で表される化合物を含むことを特
徴とする減力液。【化７】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂およびＡ₄₃は、カルボキシ基、ホスホ
ノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表し、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂
およびＬ₄₃は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
基を表す。Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。ｓ、
ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表わす。Ｒ₄₁は
置換基を表す。ａは０、１、２、３または４を表す。【化８】式中、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、水素原子、脂肪
族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ₅₁−Ａ₅₁（Ｌ₅₁は一
般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃と同義であ
る。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒド
ロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、ア
ルコキシ基またはアルキルチオ基を表す。）、または下
記一般式（３）で示される基を表す。Ｗ₅₁はアルキレン
基および／またはアリーレン基を含む二価の連結基を表
わす。但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄の少なくとも
一つは下記一般式（３）で示される基を表わす。【化９】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
必要な原子群を表す。Ａ₅₂は水素原子、カルボキシ基、
ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
基またはアミノ基を表す。【化１０】
【請求項４】ハロゲン化銀感光材料を露光、現像処理
して形成された銀画像を、下記一般式（１）及び（２）
から選ばれた少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キ
レート化合物及び下記一般式（４）で表される化合物の
存在下で減力処理することを特徴とする銀画像の減力処
理法。【化１１】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂およびＡ₄₃は、カルボキシ基、ホスホ
ノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表し、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂
およびＬ₄₃は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
基を表す。Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。ｓ、
ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表わす。Ｒ₄₁は
置換基を表す。ａは０、１、２、３または４を表す。【化１２】式中、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、水素原子、脂肪
族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ₅₁−Ａ₅₁（Ｌ₅₁は一
般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃と同義であ
る。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒド
ロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、ア
ルコキシ基またはアルキルチオ基を表す。）、または下
記一般式（３）で示される基を表す。Ｗ₅₁はアルキレン
基および／またはアリーレン基を含む二価の連結基を表
わす。但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄の少なくとも
一つは下記一般式（３）で示される基を表わす。【化１３】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
必要な原子群を表す。Ａ₅₂は水素原子、カルボキシ基、
ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
基またはアミノ基を表す。【化１４】
【請求項５】下記一般式（１）及び（２）から選ばれ
た少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合
物と錯形成剤ならびに染料を含むことを特徴とする減力
液。【化１５】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂およびＡ₄₃は、カルボキシ基、ホスホ
ノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表し、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂
およびＬ₄₃は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
基を表す。Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。ｓ、
ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表わす。Ｒ₄₁は
置換基を表す。ａは０、１、２、３または４を表す。【化１６】式中、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、水素原子、脂肪
族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ₅₁−Ａ₅₁（Ｌ₅₁は一
般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃と同義であ
る。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒド
ロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、ア
ルコキシ基またはアルキルチオ基を表す。）、または下
記一般式（３）で示される基を表す。Ｗ₅₁はアルキレン
基および／またはアリーレン基を含む二価の連結基を表
わす。但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄の少なくとも
一つは下記一般式（３）で示される基を表わす。【化１７】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
必要な原子群を表す。Ａ₅₂は水素原子、カルボキシ基、
ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
基またはアミノ基を表す。
【請求項６】ハロゲン化銀感光材料を露光、現像処理
して形成された銀画像を、下記一般式（１）及び（２）
から選ばれた少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キ
レート化合物と錯形成剤ならびに染料の存在下で減力処
理することを特徴とする銀画像の減力処理法。【化１８】式中、Ａ₄₁、Ａ₄₂およびＡ₄₃は、カルボキシ基、ホスホ
ノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表し、Ｌ₄₁、Ｌ₄₂
およびＬ₄₃は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
基を表す。Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。ｓ、
ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表わす。Ｒ₄₁は
置換基を表す。ａは０、１、２、３または４を表す。【化１９】式中、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄は、水素原子、脂肪
族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ₅₁−Ａ₅₁（Ｌ₅₁は一
般式（１）におけるＬ₄₁、Ｌ₄₂およびＬ₄₃と同義であ
る。Ａ₅₁はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒド
ロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、ア
ルコキシ基またはアルキルチオ基を表す。）、または下
記一般式（３）で示される基を表す。Ｗ₅₁はアルキレン
基および／またはアリーレン基を含む二価の連結基を表
わす。但し、Ｘ₅₁、Ｘ₅₂、Ｘ₅₃およびＸ₅₄の少なくとも
一つは下記一般式（３）で示される基を表わす。【化２０】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
必要な原子群を表す。Ａ₅₂は水素原子、カルボキシ基、
ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
基またはアミノ基を表す。