JP3512911B2 - 紫外線吸収剤前駆体化合物、それを含有する感光性樹脂組成物及び画像形成方法 - Google Patents
紫外線吸収剤前駆体化合物、それを含有する感光性樹脂組成物及び画像形成方法Info
- Publication number
- JP3512911B2 JP3512911B2 JP17486095A JP17486095A JP3512911B2 JP 3512911 B2 JP3512911 B2 JP 3512911B2 JP 17486095 A JP17486095 A JP 17486095A JP 17486095 A JP17486095 A JP 17486095A JP 3512911 B2 JP3512911 B2 JP 3512911B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- substituted
- group
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 17
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 title claims description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 57
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 26
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005099 aryl alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 50
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 19
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 11
- -1 benzotriazole compound Chemical class 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class N1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N isobutyl acetate Chemical compound CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropyl acetate Chemical compound CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAFBRPFISOTXSO-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-chloro-4-[3-chloro-4-[[1-(2,4-dimethylanilino)-1,3-dioxobutan-2-yl]diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-n-(2,4-dimethylphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound C=1C=C(C)C=C(C)C=1NC(=O)C(C(=O)C)N=NC(C(=C1)Cl)=CC=C1C(C=C1Cl)=CC=C1N=NC(C(C)=O)C(=O)NC1=CC=C(C)C=C1C IAFBRPFISOTXSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNCOVOVCHIHPHP-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[4-[(1-anilino-1,3-dioxobutan-2-yl)diazenyl]-3-chlorophenyl]-2-chlorophenyl]diazenyl]-3-oxo-n-phenylbutanamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(C(=O)C)N=NC(C(=C1)Cl)=CC=C1C(C=C1Cl)=CC=C1N=NC(C(C)=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 GNCOVOVCHIHPHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- YZTIGDFGFMIHFZ-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dihydroxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol hydrate Chemical compound O.Oc1ccc(c(O)c1)-c1nc(nc(n1)-c1ccc(O)cc1O)-c1ccc(O)cc1O YZTIGDFGFMIHFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDZMHVFCAQERK-MRCUOEKSSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@H](O)CO CZDZMHVFCAQERK-MRCUOEKSSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUVUDODLRLVIC-UHFFFAOYSA-N Sudan black B Chemical compound C1=CC(=C23)NC(C)(C)NC2=CC=CC3=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 YCUVUDODLRLVIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFFVPLLCYGOFPU-UHFFFAOYSA-N barium chromate Chemical compound [Ba+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O QFFVPLLCYGOFPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- NJDNXYGOVLYJHP-UHFFFAOYSA-L disodium;2-(3-oxido-6-oxoxanthen-9-yl)benzoate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=CC(=O)C=C2OC2=CC([O-])=CC=C21 NJDNXYGOVLYJHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N methanol;propan-2-one Chemical compound OC.CC(C)=O NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N methyl chloroformate Chemical compound COC(Cl)=O XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229940067265 pigment yellow 138 Drugs 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-N sodium;4-[[4-(dimethylamino)phenyl]diazenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
- C07D251/24—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/04—Additive processes using colour screens; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/06—Manufacture of colour screens
- G03C7/10—Manufacture of colour screens with regular areas of colour, e.g. bands, lines, dots
- G03C7/12—Manufacture of colour screens with regular areas of colour, e.g. bands, lines, dots by photo-exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
体、紫外線吸収剤前駆体を含有する感光性樹脂組成物、
及びそれを用いた画像形成方法に関する。本発明の方法
で作成された多色画像は、特に液晶ディスプレイ等に用
いられるカラーフィルターの作成に有用である。
れるカラーフィルターは、通常、光モレを防止し、コン
トラストを向上させる目的でR、G、B各画素の間に遮
光性を有するパターン画素を設けている。この遮光性を
有するパターン画素は、クロム等の金属膜や感光性樹脂
に黒色着色剤等を分散させた物等を用いて形成してい
る。しかし、クロム等の金属膜の場合、蒸着等の手段に
よりガラス基板全面に金属膜を形成し、その後レジスト
を塗布し、パターニングし、金属膜をエッチングするこ
とによりパターニングしている。この方法では工程が非
常に複雑で、歩留りも悪く、コスト的に問題があった。
ーボン等を組合わせた感光性黒色樹脂を用いて遮光性を
有するパターン画素を形成する方法が知られている。こ
の場合には、ある程度の遮光性を得るためには膜厚が数
μm必要となる。しかし、通常カラーフィルターの作成
においては、アライメント誤差等の問題から、遮光性を
有するパターン画素とR、G、B画素とはある程度の重
なりを持たせる必要があり、カラーフィルターの表面に
凹凸が生じることを避けられず、良好な平坦性を得るた
めにはさらにその上に平坦化層を設けたり、表面研磨を
行っているのが実情である。
203号公報や特開平4−69602号公報にはR、
G、B画素を形成後に黒色感光性樹脂層を全面に塗布
し、裏面から露光して、R、G、B画素自体を露光マス
クとして、これらの画素の間隙に遮光性を有するパター
ン画素を形成する、いわゆるセルフアライメント方法が
開示されている。この方法においては、遮光性を有する
パターン画素を最後に形成することが望ましい。しか
し、通常用いられるR、G、B用の着色剤は、黒色の感
光性樹脂組成物を硬化させる紫外線領域の透過率が大き
いため、これらの画素の上にある当該組成物も一部硬化
して画素上に残留するという問題点がある。
特開昭62−254103、特開昭62−9301、特
開平1−145626、特開平2−77014の各公
報、特願平5−313558には、あらかじめR、G、
B画素の中に紫外線吸収剤を添加あるいは含浸させ、裏
面露光時の紫外線遮蔽性を向上させる方法が開示されて
いる。紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール化合物、
特開平5−232630号公報記載の化合物等が用いる
ことができるが、その場合、R、G、B画素パターンの
作成時にも添加した紫外線吸収剤が露光エネルギーを吸
収するので、膜深部まで十分に感光せず、現像時にR、
G、B画素の画素ハガレや画素欠けが生ずる、あるいは
紫外線吸収剤の耐熱性が不十分であり、通常各画素の形
成後毎に行われる加熱処理時に飛散、分解等を起こして
紫外線吸収能が低下するという問題があった。
においては紫外線吸収能が低いが、熱処理によって紫外
線吸収剤としての機能を発揮できる化合物、及び自身の
露光時には紫外線吸収能が適当な領域にあるので、膜の
深奥部まで十分に紫外線が到達して硬化するが、その後
の処理により紫外線吸収能が増大し、セルフアライメン
トのマスクとして十分に機能しうる、あるいはその他の
用途にも有用な感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。
下記式(1)で表される化合物を含有する感光性樹脂組
成物により達成された。
す。
ボニル基、置換若しくは無置換のアラルキルカルボニル
基、置換若しくは無置換のアリールカルボニル基又は置
換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。R
2は水素原子又は置換若しくは無置換のアルキルカルボ
ニル基、置換若しくは無置換のアラルキルカルボニル
基、置換若しくは無置換のアリールカルボニル基又は置
換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。R
3は水素原子または炭素数1〜6の低級アルキル基を表
す。
ルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基は
炭素数1〜15が好ましく、特に1〜7が好ましい。置
換基としてはハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルキ
ルオキシ基アリールオキシ基が好ましい。
ては紫外線吸収能が比較的低いが、加熱処理により紫外
線吸収剤としての機能を発揮し得る化合物であり、以下
「紫外線吸収剤前駆体」と称する。
前駆体の具体例を挙げるが、本発明で使用できる化合物
はこれらに限定されるものではない。
は、全固形分に対して0.1〜30%であり、特に0.
1〜25%が好ましい。この際、種類の異なる化合物を
2種以上混合して使用してもよい。
感光性樹脂組成物に上記の紫外線吸収剤前駆体を添加し
て用いられる。公知の感光性樹脂組成物として、例えば
特開平3−282404号公報に記載されている感光性
樹脂組成物をすべて使用できる。具体的には、ネガ型ジ
アゾ樹脂とバインダーからなる感光性樹脂組成物、光重
合性樹脂組成物、アジド化合物とバインダーとからなる
感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げ
られる。さらに、フェノール樹脂とキノンジアジド化合
物からなるポジタイプ感光性樹脂組成物も挙げられる。
その中でも特に好ましいのは光重合性樹脂組成物であ
る。
重合性モノマー及びバインダーを基本構成要素として含
む。以下に具体的に説明する。
また、モノマー、光重合開始剤との相溶性が良く、アル
カリ現像液溶解性、塗布液調製時の有機溶剤溶解性、強
度、軟化温度等が適当であるものが好ましい。
タ)アクリル酸エステルとの共重合体、スチレン/無水
マレイン酸共重合体、及び該共重合体とアルコール類と
の反応物などである。好ましくは、(メタ)アクリル酸
と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体が用いられ
る。分子量は、5000〜200000が好ましい。バ
インダーの好ましい量は全固形分の20から80%の範
囲である。
開昭60−258539号公報に記載されているような
公知の(メタ)アクリル酸エステル、ウレタン(メタ)
アクリレート、(メタ)アクリル酸アミド、アリル化合
物、ビニルエステル等が挙げられる。好ましくは、(メ
タ)アクリル酸エステルが用いられる。モノマーの量
は、光重合性樹脂組成物の全固形分に対し、10〜60
重量%が好ましい。
は、約300〜500nmの範囲に少なくとも約50の
分子吸光係数を有する成分を少なくとも1種含有してい
ることが好ましい。例えば、特開平2−48664号、
特開平1−152449号、特開平2−153353号
の各公報に記載されているような芳香族ケトン類、ロフ
ィン2量体、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類、ポリ
ハロゲン類、及びこれらの2種以上の組み合わせ、など
がある。好ましくは、4,4’−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノンと2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジフェニルイミダゾール2量体の組み合わせ、
4−[p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)−
2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン]で
ある。光重合開始剤の含有量は、光重合性樹脂組成物の
全固形分に対し、0.2〜10重量%が好ましい。
添加してもよい。その場合、公知の染料および顔料が用
いられる。特に耐光性、耐熱性、耐薬品性等の観点か
ら、顔料が好ましい。すべての顔料は感光性樹脂層中に
均一に分散されており、好ましくは5μm以下の粒径、
特に好ましくは1μm以下の粒径を有していなければな
らない。カラーフィルターの作成に使用する場合には、
顔料を0.5μm以下の粒径に分散することが好まし
い。
ュアーブルーBO(C.I.42595)、オーラミン
(C.I.41000)、ファット・ブラックHB
(C.I.26150)、モノライト・エローGT
(C.I.ピグメントエロー12)、パーマネント・エ
ローGR(C.I.ピグメント・エロー17)、パーマ
ネント・エローHR(C.I.ピグメント・エロー8
3)、パーマネント・カーミンFBB(C.I.ピグメ
ント・レッド146)、ホスターバームレッドESB
(C.I.ピグメント・バイオレット19)、パーマネ
ント・ルビーFBH(C.I.ピグメント・レッド1
1)ファステル・ピンクBスプラ(C.I.ピグメント
・レッド81)モナストラル・ファースト・ブルー
(C.I.ピグメント・ブルー15)、モノライト・フ
ァースト・ブラックB(C.I.ピグメント・ブラック
1)及びカーボンを挙げることができる。
て、C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー20,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー24,C.I.ヒ゜ク゛メン
トイエロー83,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー86,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー93,C.I.ヒ゜
ク゛メントイエロー109,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー110,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー11
7,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー125,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー137,C.I.ヒ゜ク゛メン
トイエロー138,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー139,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー147,C.
I.ヒ゜ク゛メントイエロー148,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー153,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロ
ー,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー154,C.I.ヒ゜ク゛メントイエロー166,C.I.ヒ゜ク゛メン
トイエロー168、
6,C.I.ヒ゜ク゛メントオレンシ゛43,C.I.ヒ゜ク゛メントオレンシ゛51,C.I.ヒ゜ク゛メン
トオレンシ゛55,C.I.ヒ゜ク゛メントオレンシ゛59,C.I.ヒ゜ク゛メントオレンシ゛61、
゜ク゛メントレット゛97,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛122,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛12
3,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛149,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛168,C.I.ヒ゜ク゛メン
トレット゛177,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛180,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛192,C.
I.ヒ゜ク゛メントレット゛215,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛216,C.I.ヒ゜ク゛メントレット
゛217,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛220,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛223,C.I.ヒ゜ク
゛メントレット゛224,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛226,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛227,
C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛228,C.I.ヒ゜ク゛メントレット゛240,C.I.ヒ゜ク゛メントレ
ット゛48:1、
オレット19,C.I.ヒ゜ク゛メントハ゛イオレット23,C.I.ヒ゜ク゛メントハ゛イオレット29,
C.I.ヒ゜ク゛メントハ゛イオレット30,C.I.ヒ゜ク゛メントハ゛イオレット37,C.I.ヒ゜ク゛
メントハ゛イオレット40,C.I.ヒ゜ク゛メントハ゛イオレット50、
ヒ゜ク゛メントフ゛ルー15:6,C.I.ヒ゜ク゛メントフ゛ルー22,C.I.ヒ゜ク゛メントフ゛ルー6
0,C.I.ヒ゜ク゛メントフ゛ルー64、
ヒ゜ク゛メントク゛リーン36、
3,C.I.ヒ゜ク゛メントフ゛ラウン25,C.I.ヒ゜ク゛メントフ゛ラウン26、
を挙げることができる。
て使用してもよく、その量は全固形分の0〜70%が好
ましく、特に0〜50%が好ましい。
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のいわゆるセロソルブ類、お
よびこれらの酢酸エステル、酢酸エチル、酢酸n−プロ
ピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブ
チル等の酢酸エステル類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、アセ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど
のケトン類、エタノール、プロパノール、ブタノール、
ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール
類などの溶剤やその他に公知の分散助剤、熱重合禁止剤
等を添加してもよい。
も下記〜までの工程を含む。 上記の感光性樹脂組成物を基板上に設ける工程、 所望のフォトマスクを介して露光する工程、 不要部を現像除去し、基板上に所望の画素を作成する
工程、 該基板上の画素を加熱処理する工程、
い。色相の異なる着色剤を含有した感光性樹脂組成物を
用いてこの工程を複数回繰り返せば、多色画像を形成す
ることができる。
としては、スピン塗布法、ロールコート法等により塗布
し、乾燥する方式や、あらかじめ仮支持体に該感光性樹
脂組成物層を設けた層転写材料による方式等が用いられ
る。工程の安定性、膜厚の均一性等の観点から、層転写
法が特に好ましい。具体的には特開平4−208940
号公報に開示された、仮支持体への接着力が小さい分離
層及び感光性樹脂層を有する転写材料、特開平5−17
3320号公報に開示された、仮支持体上に熱可塑性樹
脂層、中間層及び感光性樹脂層を有し、該仮支持体と熱
可塑性樹脂層の間の接着力が最も小さい感光性転写材
料、特開平5−72724号公報に開示された熱可塑性
樹脂層、分離層及び感光性樹脂層を有し、該熱可塑性樹
脂層と分離層の間の接着力が最も小さい転写材料、特開
平5−80503号公報に開示された仮支持体の上に熱
可塑性樹脂層、中間層及び感光性樹脂層を有し、該仮支
持体と熱可塑性樹脂層の間の接着力が最も小さい感光性
転写材料等を用いることができる。
に、所定のフォトマスクを介してパターン露光を行う。
この場合に用いる露光光源は、超高圧水銀灯、キセノン
灯等の公知の光源が用いられる。
り除去する。この場合に使用する現像液としては、ネガ
型感光性樹脂の場合は、未露光部を溶解し、露光部を溶
解しない溶剤やアルカリ水溶液を用い、ポジ型の場合は
その逆の溶剤等を使用する。近年の環境への影響の観点
から、ネガ型およびポジ型共にアルカリ水溶液現像タイ
プが好まれており、アルカリ性物質の希薄水溶液、ある
いは当該水溶液に水と混和性の有機溶剤を少量添加した
ものもがある。
金属水酸化物類(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム)、アルカリ金属炭酸塩類(例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム)、アルカリ金属重炭酸塩類(炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム)、アルカリ金属ケイ
酸塩類(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)アルカリ
金属メタケイ酸塩類(メタケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸カリウム)、トリエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアル
キルアンモンニウムヒドロキシド類(例えばテトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド)または燐酸三ナトリウム
等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、0.01〜
30重量%であり、pHは8〜14が好ましい。
ル、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノー
ル、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエー
テル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブ
チロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳
酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン
である。水と混和性の有機溶剤の濃度は0.1〜30重
量%である。
できる。界面活性剤の濃度は0.01〜10重量%が好
ましい。
としても用いることができる。該感光性樹脂層の不要部
を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポ
ンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現
像液の液温度は通常室温付近から40℃が好ましい。現
像処理の後に水洗工程を入れることも可能でる。
は、画素をより硬化させると共に、画素中に含まれる紫
外線吸収剤前駆体を分解させて、紫外線吸収剤へと変化
させる工程である。熱処理の方法としては、コンベクシ
ョンオーブン、ホットプレート、赤外線ヒーター等の公
知の方法が用いられる。熱処理条件は紫外線吸収剤前駆
体が紫外線吸収剤として存在してほしい段階で十分に紫
外線吸収機能を発揮するように選択される。好ましい温
度は120℃〜300℃であり、特に130℃〜250
℃が好ましい。加熱時間は1分〜200分が好ましい。
365nmの透過率と、上記加熱処理後の365nmの
透過率の比は1:0.99〜1:0.00001である
ことが好ましく、より好ましくは1:0.5〜1:0.
00001、更に好ましくは1:0.1〜1:0.00
001である。また、最終的に熱処理後の画素の365
nmにおける透過率は2%以下であることが好ましい。
2%を超えるとセルフアライメント方式でのフォトマス
クとしての機能が低下する場合がある。
形成方法について説明する。先ず、必要に応じて、感光
性層転写材料の被覆シートを取除き、感光性樹脂層を加
圧、加温下で基体上に貼り合わせる。貼り合わせには、
従来公知のラミネーター、真空ラミネーターが使用で
き、より生産性を高めるためには、オートカツトラミネ
ーターの使用も可能である。その後仮支持体を剥がした
後で、所定のマスクを介して露光し、次いで現像する。
引き続き、所定の条件で熱処理を行う。露光および現像
は上記の方法と同様に行う。
有する感光性層転写材料を用い、この工程を複数回繰り
返せば多色画像を形成することができる。
カラー液晶デイスプレー用等のカラーフィルターの作成
に好適に使用される。カラーフィルターの作成のために
は、基体としては、公知のガラス板、表面に酸化珪素皮
膜を形成したソーダガラス板などが用いられる。
例えばカラーフィルターの保護層として使用することが
できる。保護層を作成する工程ではパターニングが必要
な場合があるが、この際には膜の厚さ方向に十分に硬化
し、加熱処理の後では、紫外線吸収性の高い保護層とし
て、バックライトや自然光によるカラーフィルターの退
色を改善することが可能となる。
可能である。一般的にポジ型感光性樹脂組成物はネガ型
のものより解像力が高いので、より微細な加工を必要と
する場合に有利である。例えば、バインダーとしてノボ
ラック樹脂を、感光物としてキノンジアジド化合物を使
用したポジ型感光性樹脂組成物はIC作成用のマイクロ
フォトレジストの分野、あるいは印刷版の分野で広く知
られている。この型の組成物は、加熱により露光部が非
溶解性になることも印刷分野ではよく知られており、こ
の現象を利用すれば、B,G,R画素作成用の感光性樹
脂組成物として有用である。
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。
キシフェニル)−1,3,5−トリアジン−1水和物4
2.3g(0.1モル)、トリエチルアミン101g
(1モル)をアセトン300mlに加えた。反応系内を
約30℃に温めた後、攪拌下で塩化アセチル79g(1
モル)をゆっくり滴下し、反応させた。反応終了後、塩
酸で微酸性にした氷水に反応混合物を注入し、析出した
化合物1の結晶を濾過により得た。収量=56g(収率
85%)。さらにアセトン−メタノールから再結晶し
た。得られた化合物のデータは、融点:186〜187
℃、1H−NMRのアセチル基のピーク:δ2.06p
pm、2.33ppm(CDCl3中)、λmax(メ
タノール中)=275nm(ε48000)。
チルを用いた以外は合成例1と同様にして、化合物10
を得た(収率90%)。得られた化合物のデータは、融
点:153〜154℃、1H−NMRのメチル基のピー
ク:δ3.66ppm、3.95ppm(CDCl3
中)、λmax(メタノール中)=274nm(ε49
000)。
支持体の上に下記の処方H1からなる塗布液を塗布、乾
燥させ、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設け
た。
1から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6
μm厚の分離性を有する中間層を設けた。 中間層処方B1: ・ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA205、鹸化率=80%) 130重量部 ・ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製PVP、K−90) 60重量部 ・弗素系界面活性剤(旭硝子(株)社製サーフロンS−131) 10重量部 ・蒸留水 3350重量部
(R)、青(B)、緑(G)、黒(Bl)の着色感光層
用塗布液を作成した。
となるようにそれぞれ、化合物1〜17を添加し、実施
例1〜17用の塗布液とした。
支持体の上に、上記塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚
が2μmの感光性樹脂層を形成した。得られたR色感光
性樹脂層の365nmの透過率は8%となった。
(厚さ12μm)の被覆シートを圧着し、感光性転写材
料を作成した。
用い、その被覆シートを剥離し、1.1m厚さのガラス
基板と該感光性樹脂層面をラミネーター(大成ラミネー
タ(株)製VP−II)を用いて加圧(0.8kg/c
m2)、加熱(13 0℃)して貼り合わせ、続いて仮支
持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除
去した。その後、所定のフォトマスクを介して超高圧水
銀灯を用い、20mj/cm2で露光した。その後、ア
ルカリ現像液(CD:フジハントエレクトロニクス テ
クノロジー(株)社製)の重量比1:10の水希釈液で
現像し、非硬化部を除去し、Rパターンを作成した。こ
の場合、現像時間をジャスト現像時間+5、+10、+
15、+20秒まで変化させたが、いずれも画素欠け等
は発生しなかった。その後、220℃で20分熱処理を
行ったところ、得られたR画素の365nmの透過率は
0.5%となり、露光前の感光性樹脂層の365nmの
透過率との比は1:0.063(露光前:熱処理後)で
あった。続いて同様にしてG、Bの各色感光性転写材料
を用いてG、B画素を形成し、最後にセルフアライメン
ト方式によりBl色感光性転写材料を用いてブラックマ
トリックスを形成し、カラーフィルターを作成した。こ
の場合、R画素の365nmの透過率が十分低いので、
裏面露光量は100mj/cm2可能であり、十分な裏
露光量が得られ、出来上がりのブラックマトリックスの
光学濃度は2.3以上であった。
性転写材料を用い、同様にカラーフィルターを作成した
が、いずれの場合も画素欠け等は発生せず、表3に示し
た通り、熱処理後の365nmの透過率も十分に低く、
得られたブラックマトリックスの光学濃度も2.3以上
であった。
てクマリン系化合物(シゲノックス102:ハッコール
ケミカル社製)を365nmの透過率が2μmの乾燥膜
厚時に0.5%となるように添加した以外は同様にRパ
ターンを作成した。この場合、熱処理後のR画素の36
5nmの透過率は0.5%であり、露光前の感光性樹脂
層の365nmの透過率との比は1:1(露光前:熱処
理後)であった。得られた画素は十分な紫外線遮蔽性を
有していたが、パターン露光時にそのエネルギーが十分
に膜深部まで到達しないので、現像時間を延長した場
合、画素欠けが発生する問題が発生した。
とにより、画像形成時には感光性樹脂組成物の紫外線吸
収能が低いので、その膜の十分に深奥部まで感光し、現
像時に画素の欠落が発生することがなく、その後の加熱
処理により紫外線吸収能の高い画素となるので、セルフ
アライメント方式で画像を形成する場合のマスクとして
機能させる場合等に、特に有用な感光性樹脂組成物が得
られる。
Claims (10)
- 【請求項1】 式(1)で表されることを特徴とする紫
外線吸収剤前駆体化合物。 【化1】 ここで、Aは式(2)で表される基を表す。 【化2】 R1は置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、置
換若しくは無置換のアラルキルカルボニル基、置換若し
くは無置換のアリールカルボニル基又は置換若しくは無
置換のアルコキシカルボニル基を表す。R2は水素原子
又は置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、置換
若しくは無置換のアラルキルカルボニル基、置換若しく
は無置換のアリールカルボニル基又は置換若しくは無置
換のアルコキシカルボニル基を表す。R3は水素原子ま
たは炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。 - 【請求項2】 請求項1に記載の化合物を含有すること
を特徴とする感光性樹脂組成物。 - 【請求項3】 請求項2において、該感光性樹脂組成物
が、少なくともバインダー、光重合性モノマー及び光重
合開始剤を含有する光重合性感光性樹脂組成物であるこ
とを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 【請求項4】 請求項2若しくは請求項3において、更
に着色剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成
物。 - 【請求項5】 請求項4において、該着色剤が顔料であ
ることを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 【請求項6】請求項2、請求項3、請求項4若しくは
請求項5に記載の感光性樹脂組成物を基板上に設ける工
程、 所望のフォトマスクを介して感光性樹脂組成物に露光
する工程、 不要部を現像処理により除去し、基板上に所望の画素
を作成する工程、 該基板上の画素を加熱処理する工程、を含むことを特
徴とする画像形成方法。 - 【請求項7】 請求項6において、の所望のフォトマ
スクを介して感光性樹脂組成物に露光する工程の前にお
ける該感光性樹脂組成物層の365nmの透過率と、
の該基板上の画素を加熱処理する工程後の画素の365
nmの透過率の比が、1対0.99〜1対0.0000
1であることを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項8】 請求項7において、熱処理後の画素の3
65nmの透過率が2%以下であることを特徴とする画
像形成方法。 - 【請求項9】 請求項6、請求項7若しくは請求項8に
記載の一連の工程を少なくとも2回繰り返すことを特徴
とする画像形成方法。 - 【請求項10】 請求項4若しくは請求項5に記載の
感光性樹脂組成物を基板上に設ける工程、 所望のフォトマスクを介して感光性樹脂組成物に露光
する工程、 不要部を現像処理により除去し、基板上に所望の画素
を作成する工程、 該基板上の画素を加熱処理する工程、を、色相の異な
る着色剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて繰り返し
て作成された多色画像。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17486095A JP3512911B2 (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | 紫外線吸収剤前駆体化合物、それを含有する感光性樹脂組成物及び画像形成方法 |
| US08/676,837 US5750292A (en) | 1995-07-11 | 1996-07-08 | Ultraviolet absorber precursor compound, photosensitive resin composition comprising the same and image forming process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17486095A JP3512911B2 (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | 紫外線吸収剤前駆体化合物、それを含有する感光性樹脂組成物及び画像形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0925360A JPH0925360A (ja) | 1997-01-28 |
| JP3512911B2 true JP3512911B2 (ja) | 2004-03-31 |
Family
ID=15985927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17486095A Expired - Fee Related JP3512911B2 (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | 紫外線吸収剤前駆体化合物、それを含有する感光性樹脂組成物及び画像形成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5750292A (ja) |
| JP (1) | JP3512911B2 (ja) |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4774567B2 (ja) * | 1999-06-07 | 2011-09-14 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成方法とカラーフィルタの製造方法および液晶表示装置 |
| WO2000077575A1 (en) | 1999-06-10 | 2000-12-21 | Alliedsignal Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| US6824879B2 (en) | 1999-06-10 | 2004-11-30 | Honeywell International Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
| KR100428484B1 (ko) * | 2001-03-30 | 2004-04-27 | 주식회사 동진쎄미켐 | 액정표시소자 칼라 필터 제조공정에 사용되는 크롬블랙매트릭스 형성용 포토레지스트 조성물 |
| JP4146105B2 (ja) | 2001-05-30 | 2008-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線吸収剤及びその製造方法、紫外線吸収剤を含有する組成物、ならびに画像形成方法 |
| AU2002227106A1 (en) | 2001-11-15 | 2003-06-10 | Honeywell International Inc. | Spin-on anti-reflective coatings for photolithography |
| US8053159B2 (en) | 2003-11-18 | 2011-11-08 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
| US7402373B2 (en) * | 2004-02-05 | 2008-07-22 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | UV radiation blocking protective layers compatible with thick film pastes |
| JP5177936B2 (ja) * | 2004-09-08 | 2013-04-10 | 富士フイルム株式会社 | 透明膜形成用組成物、カラーフィルタ用下地膜及び固体撮像素子、並びに固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法 |
| WO2006106911A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Fujifilm Corporation | 染料含有硬化性組成物、並びに、カラーフィルタおよびその製造方法 |
| US20070262695A1 (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-15 | Reisman Juliana P | UV and near visible lamp filter |
| KR101306153B1 (ko) * | 2006-08-25 | 2013-09-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
| US8642246B2 (en) | 2007-02-26 | 2014-02-04 | Honeywell International Inc. | Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof |
| US20110053907A1 (en) * | 2008-03-27 | 2011-03-03 | Auckland Uniservices Limited | Substituted pyrimidines and triazines and their use in cancer therapy |
| US8461158B2 (en) * | 2009-03-27 | 2013-06-11 | Pathway Therapeutics Inc. | Pyrimidinyl and 1,3,5-triazinyl benzimidazole sulfonamides and their use in cancer therapy |
| US8557877B2 (en) | 2009-06-10 | 2013-10-15 | Honeywell International Inc. | Anti-reflective coatings for optically transparent substrates |
| US8486939B2 (en) * | 2009-07-07 | 2013-07-16 | Pathway Therapeutics Inc. | Pyrimidinyl and 1,3,5-triazinyl benzimidazoles and their use in cancer therapy |
| CA2831582C (en) | 2011-03-28 | 2019-01-08 | Mei Pharma, Inc. | (alpha-substituted aralkylamino and heteroarylalkylamino) pyrimidinyl and 1,3,5-triazinyl benzimidazoles, pharmaceutical compositions thereof, and their use in treating proliferative diseases |
| US8864898B2 (en) | 2011-05-31 | 2014-10-21 | Honeywell International Inc. | Coating formulations for optical elements |
| KR102398814B1 (ko) * | 2012-07-31 | 2022-05-17 | 가부시키가이샤 아데카 | 잠재성 첨가제 및 상기 첨가제를 함유하는 조성물 |
| JP6803842B2 (ja) | 2015-04-13 | 2020-12-23 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. | オプトエレクトロニクス用途のためのポリシロキサン製剤及びコーティング |
| CA3063976A1 (en) | 2017-05-23 | 2018-11-29 | Mei Pharma, Inc. | Combination therapy |
| MX2020001727A (es) | 2017-08-14 | 2020-03-20 | Mei Pharma Inc | Terapia de combinacion. |
| JP7393205B2 (ja) * | 2017-10-05 | 2023-12-06 | 株式会社Adeka | 化合物、潜在性紫外線吸収剤、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 |
| WO2025172192A1 (en) * | 2024-02-15 | 2025-08-21 | Basf Se | Uv light stabilizers |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3203550A (en) * | 1965-08-31 | Method for the preparation of substi- tuted s-triazine compounds | ||
| US2714057A (en) * | 1951-07-21 | 1955-07-26 | Universal Oil Prod Co | Stabilization of organic compounds |
| US3344137A (en) * | 1963-11-27 | 1967-09-26 | American Cyanamid Co | Method of preparing trisubstituted triazines |
| US3294798A (en) * | 1964-12-14 | 1966-12-27 | American Cyanamid Co | Process for the preparation of s-triazines |
| US5084372A (en) * | 1982-12-09 | 1992-01-28 | Hoechst Celanese Corporation | Process for preparing photographic elements utilizing light-sensitive layer containing cyclical acid amide thermo-crosslinking compound |
| US4963160A (en) * | 1989-03-14 | 1990-10-16 | Ciba-Geigy Corporation | Reactive uv absorbing compositions and method of preparing lenses therefrom |
| DE4433631B4 (de) * | 1994-09-21 | 2004-06-17 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Bildung eines Signals bezüglich einer Temperatur im Abgassystem einer Brennkraftmaschine |
| EP0706083A1 (de) * | 1994-10-04 | 1996-04-10 | Ciba-Geigy Ag | Fotografisches Aufzeichnungsmaterial enthaltend einen UV-Absorber |
-
1995
- 1995-07-11 JP JP17486095A patent/JP3512911B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-07-08 US US08/676,837 patent/US5750292A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5750292A (en) | 1998-05-12 |
| JPH0925360A (ja) | 1997-01-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3512911B2 (ja) | 紫外線吸収剤前駆体化合物、それを含有する感光性樹脂組成物及び画像形成方法 | |
| JP4245740B2 (ja) | 光重合性樹脂組成物並びにカラーフィルター | |
| JP4068892B2 (ja) | 画像形成材料 | |
| JP4146105B2 (ja) | 紫外線吸収剤及びその製造方法、紫外線吸収剤を含有する組成物、ならびに画像形成方法 | |
| JP2005003861A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| US5916714A (en) | Preparation of a pixel sheet provided with black matrix | |
| JP2002338825A (ja) | 着色樹脂組成物、着色感光性組成物及びカラーフィルタ | |
| JP4185245B2 (ja) | ネガ型感光性熱硬化性着色樹脂組成物、それを用いた転写材料、及び画像形成方法 | |
| JP3331035B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び画像形成方法 | |
| JP2003177523A (ja) | 画像形成材料 | |
| JP2003139938A (ja) | 多色画像シートの製造方法、多色画像シート、及びカラーフィルター | |
| JP2004219696A (ja) | 感光性転写材料、及びカラーフィルタ | |
| JP2002322380A (ja) | ビス型アントラキノン化合物、これを含む着色樹脂組成物及び着色感光性組成物、並びにカラーフィルタ | |
| JP2005189720A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、および、画像形成方法 | |
| JP4043681B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び画像形成方法 | |
| JPH11189733A (ja) | 色素組成物及びそれを用いる感光性着色樹脂組成物 | |
| JP3806028B2 (ja) | 画像形成材料 | |
| JP2002356669A (ja) | 紫外線吸収剤前駆体、それを含有する組成物、及び画像形成方法 | |
| JP3767806B2 (ja) | 画像形成材料 | |
| JPH10333325A (ja) | 感光性組成物、感光性エレメント及びカラ−フィルタの製造法 | |
| JP2003177521A (ja) | 画像形成材料 | |
| JP2003336097A (ja) | 洗浄処理液、着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法 | |
| JPH0659119A (ja) | カラーフィルターの作成方法 | |
| WO1999029784A1 (fr) | Nouveaux sels et compositions de resine coloree photosensible | |
| JPH10333330A (ja) | 感光性組成物、感光性エレメント及びカラ−フィルタの製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040106 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040108 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080116 Year of fee payment: 4 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |