KR102398814B1 - 잠재성 첨가제 및 상기 첨가제를 함유하는 조성물 - Google Patents

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    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated

Abstract

하기 일반식(1)로 표시되는 잠재성 첨가제.
Figure 112020111925252-pat00135

(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고, R4는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타낸다.)

Description

잠재성 첨가제 및 상기 첨가제를 함유하는 조성물{LATENT ADDITIVE AND COMPOSITION CONTAINING LATENT ADDITIVE}
본 발명은, 상온에서는 불활성이며 소정의 온도로 가열함으로써 활성화되어 기능을 발현하는 잠재성 첨가제, 및 상기 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물에 관한 것이다. 또한, 상기 조성물을 사용한 에너지선에 의해 중합 가능한 착색 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물을 사용한 컬러 필터에 관한 것이다.
수지조성물의 내후성이나 내열성을 향상시키기 위해서 자외선 흡수제나 산화 방지제를 첨가하여 안정화시키는 방법이 알려져 있다(특허문헌 1~4).
그러나, 특히 페놀계 산화 방지제는 폴리머의 열화에 크게 영향을 주는 라디칼을 트랩(trap)하는 작용이 있기 때문에, 산화 방지제를 중합계 내에 첨가하면 일반적으로 이른바 중합 금지제로서 작용하고, 경화 저해를 일으키는 것이 문제가 되고 있다(특허문헌 5).
일본국 공개특허공보 평6-179798호 일본국 공개특허공보 평7-109380호 일본국 공개특허공보 평11-071355호 일본국 공개특허공보 2002-097224호 US5279896A
따라서 본 발명의 목적은, 상온에서는 불활성이며 소정의 온도로 가열함으로써 활성화되어 기능을 발현하는 잠재성 첨가제를 제공하는 것에 있다. 또, 본 발명의 다른 목적은 상기 잠재성 첨가제를 사용한 조성물을 제공하는 것에 있다. 또, 본 발명의 다른 목적은 상기 조성물에 착색제를 첨가한 착색 감광성 조성물, 특히 컬러 필터에 적합한 착색 감광성 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자 등은 예의 검토를 거듭한 결과, 특정 보호기(保護基)를 가지는 화합물이 잠재성 첨가제로서 효율적으로 기능하는 것 및 이를 사용한 조성물이 경화 저해를 일으키지 않고 내열성이 뛰어난 것을 지견하고, 또 상기 조성물에 착색제를 첨가한 착색 감광성 조성물이 광학 필터(특히 컬러 필터)의 휘도를 저하시키지 않고, 액정 표시 패널 등의 화상 표시 장치용 컬러 필터에 적합한 것을 지견하여 본 발명에 도달했다.
본 발명은 상기 지견에 기초하여 이루어진 것으로, 하기 일반식(1)로 표시되는 잠재성 첨가제를 제공하는 것이다.
[화학식 1]
Figure 112020111925252-pat00001
(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
R4는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
R1, R2 및 R4로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는, -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
복수의 R2끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
복수의 R2 및 R4는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
n은 1~10의 정수를 나타내고,
d는 1~3의 정수를 나타내고,
k는 1~3의 정수를 나타내고,
X는 직접 결합, 질소원자, 산소원자, 황원자, 인원자(phosphorus atom), 하기 [화학식 2]로 표시되는 기, >P=O, >C=O, >NR10, >PR10, -OR10, -SR10, -NR10R11 또는 -PR10R11, 또는 n과 동수(同數)의 가수(價數)를 가지는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~120의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R10 및 R11은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, -SO2-, 또는 질소원자로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다. 단, X가 질소원자, 인원자 또는 하기 [화학식 2]로 표시되는 기인 경우 n은 3이며, X가 산소원자 또는 황원자인 경우 n은 2이며, X가 >C=O, -NH-CO-, -CO-NH-, >NR10 또는 >PR10인 경우 n은 2이며, X가 -OR10, -SR10, -NR10R11 또는 -PR10R11인 경우 n이 1이며, X는 A와 함께 환을 형성하고 있어도 된다.)
[화학식 2]
Figure 112020111925252-pat00002
또, 본 발명은 상기 일반식(1)로 표시되는 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물을 제공하는 것이다.
또, 본 발명은 상기 조성물에 착색제를 첨가한 착색 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물을 사용한 컬러 필터를 제공하는 것이다.
또, 본 발명은 하기 일반식(2), (6) 및 (8)로 표시되는 신규 화합물을 제공하는 것이다.
[화학식 3]
Figure 112020111925252-pat00003
(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
R201 및 R202는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
d는 1~3의 정수를 나타내고,
k는 1~3의 정수를 나타내고,
R204는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
상기 R201, R202 및 R204로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는, -SO2로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
복수의 R202끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
복수의 R202 및 R204는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
X2는 산소원자, 황원자, 하기 [화학식 4]로 표시되는 기, >C=O, -NH-CO-, -CO-NH-, >NR12, >PR12, 또는 하기 일반식(3), (4) 혹은 하기 [화학식 10]의 군으로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, R12는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는, -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다.
X2는 A와 함께 환을 형성하고 있어도 된다.)
[화학식 4]
Figure 112020111925252-pat00004
[화학식 5]
Figure 112020111925252-pat00005
(상기 일반식(3) 중, Y1 및 Y5는 각각 독립적으로, 직접 결합, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y2 및 Y4는 각각 독립적으로, 산소원자 또는 -NR13-을 나타내고, R13은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, Y3은 직접 결합, -NR16-, 2가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 하기 일반식(5)로 표시되는 치환기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 또는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되고, R14 및 R15는 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고, R16은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 된다.)
[화학식 6]
Figure 112020111925252-pat00006
(상기 일반식(4) 중, Y6 및 Y8은 각각 독립적으로, -NR17- 또는 산소원자로 중단되어 있어도 되는 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y7은 직접 결합, -O-, -S-, -SO2-, -CR18R19- 또는 하기 [화학식 7]~[화학식 9]로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, R17은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, R18 및 R19는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, R100 및 R101은 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수소기, 니트로기, 카르복실기, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 또는 탄소원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고, e는 1~4의 수를 나타내고, f는 1~4의 수를 나타낸다.)
[화학식 7]
Figure 112020111925252-pat00007
(상기 식 중, R21은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 또는 탄소원자수 3~10의 시클로알킬기를 나타내고, R22는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 탄소원자수 1~10의 알콕시기, 탄소원자수 2~10의 알케닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 치환기를 가지고 있어도 되고, a는 0~5의 정수이다.)
[화학식 8]
Figure 112020111925252-pat00008
(식 중, R102 및 R103은 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 또는 탄소원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고, i는 1~4의 수를 나타내고, j는 1~4의 수를 나타낸다.)
[화학식 9]
Figure 112020111925252-pat00009
(상기 식 중, R23 및 R24는 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴옥시기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴티오기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 아릴알킬기 중의 메틸렌기는 불포화 결합, -O-, 또는 -S-로 치환되어 있어도 되고, R23은 인접하는 R23끼리 환을 형성하고 있어도 되고, b는 0~4의 수를 나타내고, c는 0~8의 수를 나타내고, g와 h의 수의 합계는 2~4이다.)
[화학식 10]
Figure 112020111925252-pat00010
(식 중, R31은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 된다.)
[화학식 11]
Figure 112020111925252-pat00011
(상기 일반식(5) 중, Y9 및 Y10은 각각 독립적으로, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타낸다.)
[화학식 12]
Figure 112020111925252-pat00012
(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
R301 및 R302는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
d는 1~3의 정수를 나타내고,
k는 1~3의 정수를 나타내고,
R304는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
R301, R302 및 R304로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, -SO2-, 또는 질소원자로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
복수의 R302끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
복수의 R302 및 R304는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
X3은 하기 일반식(7)로 표시되는 치환기를 나타낸다.
X3은 A와 함께 환을 형성하고 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다.)
[화학식 13]
Figure 112020111925252-pat00013
(상기 일반식(7) 중, Y11은 3가의 탄소원자수 3~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 3~35의 지환족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은 각각 독립적으로, 직접 결합, -O-, -S-, >CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -SS-, -SO-, >NR32, >PR32 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R32는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 된다.)
[화학식 14]
Figure 112020111925252-pat00014
(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
R401 및 R402는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
d는 1~3의 정수를 나타내고,
k는 1~3의 정수를 나타내고,
R404는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
R401, R402 및 R404로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는, -SO2로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
복수의 R402끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
복수의 R402 및 R404는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
n은 4~6의 수를 나타내고,
X4는 n=4일 때 하기 일반식(9)로 표시되는 치환기를 나타내고, n=5일 때 하기 일반식(10)으로 표시되는 치환기를 나타내고, n=6일 때 하기 일반식(11)로 표시되는 치환기를 나타낸다.
X4는 A와 함께 환을 형성하고 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다.)
[화학식 15]
Figure 112020111925252-pat00015
(상기 일반식(9) 중, Y12는 탄소원자, 또는 4가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z4는 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
[화학식 16]
Figure 112020111925252-pat00016
(상기 일반식(10) 중, Y13은 5가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~30의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z5는 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
[화학식 17]
Figure 112020111925252-pat00017
(상기 일반식(11) 중, Y14는 6가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z6은 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다. )
본 발명에 따르면, 실온에서는 불활성이고, 소정의 온도로 가열함으로써 활성으로 되는 잠재성 첨가제를 제공할 수 있다. 또, 상기 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물은 경화 저해를 일으키지 않고 내열성이 뛰어난 것이다.
이하, 본 발명에 대해서 바람직한 실시형태에 기초하여 상세하게 설명한다.
우선, 상기 일반식(1)로 표시되는 잠재성 첨가제에 대해서 설명한다.
잠재성 첨가제란, 상온 혹은 150℃ 이하의 프리 베이크 공정에서는 불활성이며, 100~250℃에서 가열하거나, 혹은 산/염기 촉매 존재하에서 80~200℃에서 가열함으로써 보호기가 탈리(脫離)하여 활성으로 되는 것으로서, 구체적으로는 잠재성 산화 방지제, 잠재성 자외선 흡수제 등의 잠재성 수지 첨가제; 감열지용(感熱紙用) 잠재성 현색제(顯色劑); 감열지용 잠재성 보존 안정제; 잠재성 경화제 등을 들 수 있다.
상기 일반식(1)로 표시되는 잠재성 첨가제는 X로 나타내는 n가의 특정 원자 또는 기에, n개의 특정 기가 결합된 구조를 가진다. 이 n개의 기는 서로 동일해도 되고, 달라도 된다. n의 값은 1~10이며, 합성이 용의한 면에서 바람직하게는 2~6이다.
상기 일반식(1)에서 A로 나타내는 5원환의 방향환으로는 시클로펜타디엔, 페로센 등을 들 수 있고, 5원환의 복소환으로는 푸란, 티오펜, 피롤, 피롤리딘, 피라졸리딘, 피라졸, 이미다졸, 이미다졸리딘, 옥사졸, 이소옥사졸, 이소옥사졸리딘, 티아졸, 이소티아졸, 이소티아졸리딘 등을 들 수 있고, 6원환의 방향환으로는 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 플루오렌, 페릴렌, 피렌 등을 들 수 있고, 6원환의 복소환으로는 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 티오모르폴린, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아진 등을 들 수 있고, 이들의 환은 다른 환과 축합되어 있거나 치환되어 있어도 되고, 예를 들면, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 인돌, 줄로리딘(julolidine), 벤조옥사졸, 벤조트리아졸, 아줄렌 등을 들 수 있다.
R1 및 R2로 나타내는 할로겐원자로는 플루오르, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있고,
R1, R2 및 R4로 나타내는 탄소원자수 1~40의 알킬기로는 메틸, 에틸, 프로필, iso-프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, iso-부틸, 아밀, iso-아밀, tert-아밀, 시클로펜틸, 헥실, 2-헥실, 3-헥실, 시클로헥실, 4-메틸시클로헥실, 헵틸, 2-헵틸, 3-헵틸, iso-헵틸, tert-헵틸, 1-옥틸, iso-옥틸, tert-옥틸, 아다만틸 등을 들 수 있고,
R1 및 R2로 나타내는 탄소원자수 1~8의 알콕시기로는 메틸옥시, 에틸옥시, iso-프로필옥시, 부틸옥시, sec-부틸옥시, tert-부틸옥시, iso-부틸옥시, 아밀옥시, iso-아밀옥시, tert-아밀옥시, 헥실옥시, 2-헥실옥시, 3-헥실옥시, 시클로헥실옥시, 4-메틸시클로헥실옥시, 헵틸옥시, 2-헵틸옥시, 3-헵틸옥시, iso-헵틸옥시, tert-헵틸옥시, 1-옥틸옥시, iso-옥틸옥시, tert-옥틸옥시 등을 들 수 있고,
R1 및 R2로 나타내는 탄소원자수 1~8의 알킬기 및 알콕시기를 치환하는 치환기로는 비닐, 알릴, 아크릴, 메타크릴 등의 에틸렌성 불포화기; 플루오르, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐원자; 아세틸, 2-클로로아세틸, 프로피오닐, 옥타노일, 아크릴로일, 메타크릴로일, 페닐카르보닐(벤조일), 프탈로일(phthaloyl), 4-트리플루오르메틸벤조일, 피발로일, 살리실로일(salicyloyl), 옥살로일(oxaloyl), 스테아로일, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, n-옥타데실옥시카르보닐, 카르바모일 등의 아실기; 아세틸옥시, 벤조일옥시 등의 아실옥시기; 아미노, 에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 2-에틸헥실아미노, 도데실아미노, 아닐리노, 클로로페닐아미노, 톨루이디노(toluidino), 아니시디노(anisidino), N-메틸-아닐리노, 디페닐아미노, 나프틸아미노, 2-피리딜아미노, 메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 포르밀아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 카르바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸-메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 술파모일(sulfamoyl)아미노, N,N-디메틸아미노술포닐아미노, 메틸술포닐아미노, 부틸술포닐아미노, 페닐술포닐아미노 등의 치환 아미노기; 술폰아미드기, 술포닐기, 카르복실기, 시아노기, 술포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 술폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 술포기, 포스폰산기, 인산기의 염 등을 들 수 있다.
R4로 나타내는 탄소원자수 6~20의 아릴기로는 페닐, 나프틸, 안트라세닐 등을 들 수 있고,
R4로 나타내는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기로는 벤질, 플루오레닐, 인데닐, 9-플루오레닐메틸기 등을 들 수 있고,
R4로 나타내는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기로는 피리딜, 피리미딜, 피리다질, 피페리딜, 피라닐, 피라졸릴, 트리아질, 피롤릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 이미다졸릴, 벤조이미다졸릴, 트리아졸릴, 푸릴, 푸라닐, 벤조푸라닐, 티에닐, 티오페닐, 벤조티오페닐, 티아디아졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 옥사졸릴, 벤조옥사졸릴, 이소티아졸릴, 이소옥사졸릴, 인돌릴, 2-피롤리디논-1-일, 2-피페리돈-1-일, 2,4-디옥시이미다졸리딘-3-일, 2,4-디옥시옥사졸리딘-3-일 등을 들 수 있고,
R4로 나타내는 트리알킬실릴기로는 트리메틸실란, 트리에틸실란, 에틸디메틸실란 등을 들 수 있다.
R4 중에서도, 탄소원자수 1~8의 알킬기의 산소원자측의 말단에 -CO-O-가 결합되어 있는 것이, 잠재성 첨가제로서 효율적으로 기능을 발현하므로 바람직하다.
상기 일반식(1)에서 X 및 R10 그리고 R11로 나타내는, 치환기를 가져도 되는 탄소원자수 1~35의 1가의 지방족 탄화수소기로는 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 시클로프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, 제3아밀, 시클로펜틸, 헥실, 2-헥실, 3-헥실, 시클로헥실, 비시클로헥실, 1-메틸시클로헥실, 헵틸, 2-헵틸, 3-헵틸, 이소헵틸, 제3헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, 제3옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실 등의 알킬기; 메틸옥시, 에틸옥시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, 제2부틸옥시, 제3부틸옥시, 이소부틸옥시, 아밀옥시, 이소아밀옥시, 제3아밀옥시, 헥실옥시, 시클로헥실옥시, 헵틸옥시, 이소헵틸옥시, 제3헵틸옥시, n-옥틸옥시, 이소옥틸옥시, 제3옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 노닐옥시, 데실옥시 등의 알콕시기; 메틸티오, 에틸티오, 프로필티오, 이소프로필티오, 부틸티오, 제2부틸티오, 제3부틸티오, 이소부틸티오, 아밀티오, 이소아밀티오, 제3아밀티오, 헥실티오, 시클로헥실티오, 헵틸티오, 이소헵틸티오, 제3헵틸티오, n-옥틸티오, 이소옥틸티오, 제3옥틸티오, 2-에틸헥실티오 등의 알킬티오기; 비닐, 1-메틸에테닐, 2-메틸에테닐, 2-프로페닐, 1-메틸-3-프로페닐, 3-부테닐, 1-메틸-3-부테닐, 이소부테닐, 3-펜테닐, 4-헥세닐, 시클로헥세닐, 비시클로헥세닐, 헵테닐, 옥테닐, 데세닐, 펜타데세닐, 에이코세닐(eicosenyl), 트리코세닐 등의 알케닐기 등을 들 수 있고,
치환기를 가져도 되는 탄소원자수 6~35의 1가의 방향환 함유 탄화수소기로는 벤질, 페네틸, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 스티릴, 신나밀 등의 아릴알킬기; 페닐, 나프틸 등의 아릴기; 페녹시, 나프틸옥시 등의 아릴옥시기; 페닐티오, 나프틸티오 등의 아릴티오기 등을 들 수 있고,
치환기를 가져도 되는 탄소원자수 2~35의 1가의 복소환 함유기로는 피리딜, 피리미딜, 피리다질, 피페리딜, 피라닐, 피라졸릴, 트리아질, 피롤릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 이미다졸릴, 벤조이미다졸릴, 트리아졸릴, 푸릴, 푸라닐, 벤조푸라닐, 티에닐, 티오페닐, 벤조티오페닐, 티아지아졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 옥사졸릴, 벤조옥사졸릴, 이소티아졸릴, 이소옥사졸릴, 인돌릴, 2-피롤리디논-1-일, 2-피페리돈-1-일, 2,4-디옥시이미다졸리딘-3-일, 2,4-디옥시옥사졸리딘-3-일, 벤조트리아조일 등을 들 수 있다.
치환기로는 비닐, 알릴, 아크릴, 메타크릴 등의 에틸렌성 불포화기; 플루오르, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐원자; 아세틸, 2-클로로아세틸, 프로피오닐, 옥타노일, 아크릴로일, 메타크릴로일, 페닐카르보닐(벤조일), 프탈로일, 4-트리플루오르메틸벤조일, 피발로일, 살리실로일, 옥살로일, 스테아로일, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, n-옥타데실옥시카르보닐, 카르바모일 등의 아실기; 아세틸옥시, 벤조일옥시 등의 아실옥시기; 아미노, 에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 2-에틸헥실아미노, 도데실아미노, 아닐리노, 클로로페닐아미노, 톨루이디노, 아니시디노, N-메틸-아닐리노, 디페닐아미노, 나프틸아미노, 2-피리딜아미노, 메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 포르밀아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 카르바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸-메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 술파모일아미노, N,N-디메틸아미노술포닐아미노, 메틸술포닐아미노, 부틸술포닐아미노, 페닐술포닐아미노 등의 치환 아미노기; 술폰아미드기, 술포닐기, 카르복실기, 시아노기, 술포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 술폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 술포기, 포스폰산기, 인산기의 염 등을 들 수 있고, 이들의 기는 더 치환되어 있어도 된다. 또, 카르복실기 및 술포기는 염을 형성하고 있어도 된다.
상기 일반식(1)에서 X가 나타내는 기로서, n이 2일 때는 하기 일반식(12)로 표시되는 기를 들 수 있고, n이 3일 때는 하기 일반식(7)로 표시되는 기를 들 수 있고, n이 4일 때는 하기 일반식(9)로 표시되는 기를 들 수 있고, n이 5일 때는 하기 일반식(10)으로 표시되는 기를 들 수 있고, n이 6일 때는 하기 일반식(11)로 표시되는 기를 들 수 있다.
[화학식 18]
Figure 112020111925252-pat00018
(상기 일반식(12) 중, X1은 -CR32R33-, -NR34-, 2가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기, 또는 하기 [화학식 19]~[화학식 21]로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, 또는 -NH-, 혹은 이들 조합의 결합기로 치환되어 있어도 되고, R32 및 R33은 수소원자, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로, 직접 결합, -O-, -S-, >CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -SS-, -SO-, >NR35 또는 >PR35를 나타내고, R34 및 R35는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타낸다.)
[화학식 19]
Figure 112020111925252-pat00019
(상기 식 중, R21은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 또는 탄소원자수 3~10의 시클로알킬기를 나타내고, R22는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 탄소원자수 1~10의 알콕시기, 탄소원자수 2~10의 알케닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 치환기를 가지고 있어도 되고, a는 0~5의 정수이다.)
[화학식 20]
Figure 112020111925252-pat00020
[화학식 21]
Figure 112020111925252-pat00021
(상기 식 중, R23 및 R24는 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴옥시기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴티오기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 아릴알킬기 중의 메틸렌기는 불포화 결합, -O-, 또는 -S-로 치환되어 있어도 되고, R23은 인접하는 R23끼리 환을 형성하고 있어도 되고, b는 0~4의 수를 나타내고, c는 0~8의 수를 나타내고, g는 0~4의 수를 나타내고, h는 0~4의 수를 나타내고, g와 h의 수의 합계는 2~4이다.)
[화학식 22]
Figure 112020111925252-pat00022
(상기 일반식(7) 중, Y11은 3가의 탄소원자수 3~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 3~35의 지환족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은 각각 독립적으로, 직접 결합, -O-, -S-, >CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -SS-, -SO-, >NR32, >PR32 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R32는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 된다.)
[화학식 23]
Figure 112020111925252-pat00023
(상기 일반식(9) 중, Y12는 탄소원자, 또는 4가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z4는 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
[화학식 24]
Figure 112020111925252-pat00024
(상기 일반식(10) 중, Y13은 5가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~30의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z5는 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
[화학식 25]
Figure 112020111925252-pat00025
(상기 일반식(11) 중, Y14는 6가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z6은 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
상기 일반식(12)에서 X1로 나타내는 2가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기로는 메탄, 에탄, 프로판, iso-프로판, 부탄, sec-부탄, tert-부탄, iso-부탄, 헥산, 2-메틸헥산, 3-메틸헥산, 헵탄, 2-메틸헵탄, 3-메틸헵탄, iso-헵탄, tert-헵탄, 1-메틸옥탄, iso-옥탄, tert-옥탄, 시클로프로판, 시클로부탄, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 2,4-디메틸시클로부탄, 4-메틸시클로헥산 등이 Z1 및 Z2로 치환된 2가의 기를 들 수 있고, 이들의 기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합시킨 기로 중단되어 있어도 되고,
2가의 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 페닐렌, 나프틸렌, 비페닐등의 기가 Z1 및 Z2로 치환된 2가의 기 등을 들 수 있고,
2가의 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기로는 피리딘, 피라진, 피페리딘, 피페라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아진, 헥사하이드로트리아진, 푸란, 테트라하이드로푸란, 크로만, 크산텐, 티오펜, 티올란(thiolane) 등이 Z1 및 Z2로 치환된 2가의 기를 들 수 있다.
이들의 기는 할로겐원자, 시아노기, 니트로기 또는 탄소원자수 1~8의 알콕시기로 더 치환되어 있어도 된다.
상기 일반식(12)에서 X1 중의 기인 R32 및 R33으로 나타내는 탄소원자수 1~8의 알킬기로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, s-부틸, t-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, t-아밀, 헥실, 2-헥실, 3-헥실, 시클로헥실, 4-메틸시클로헥실, 헵틸, 2-헵틸, 3-헵틸, 이소헵틸, t-헵틸, 1-옥틸, 이소옥틸, t-옥틸 등을 들 수 있고,
탄소원자수 6~20의 아릴기로는 페닐, 나프틸, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-iso-프로필페닐, 4-iso-프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-iso-부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀페닐, 2,4,5-트리메틸페닐 등을 들 수 있고,
탄소원자수 7~20의 아릴알킬기로는 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 스티릴, 신나밀 등을 들 수 있다.
상기 [화학식 19]로 표시되는 기에서 R21로 나타내는 탄소원자수 3~10의 시클로알킬기로는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등 및 이들의 기가 탄소원자수 1~10의 알킬기 혹은 탄소원자수 1~10의 알콕시기로 치환된 기 등을 들 수 있고,
R22로 나타내는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 탄소원자수 1~10의 알콕시기 및 할로겐원자로는 상기 일반식(1)의 설명에서 예시한 알킬기, 알콕시기 및 할로겐원자 등을 들 수 있고,
탄소원자수 2~10의 알케닐기로는 비닐, 알릴, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 2-부테닐, 1,3-부타디에닐, 2-펜테닐, 2-옥테닐 등을 들 수 있고,
상기 R22에서의 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되고, 그 치환 위치는 제한되지 않는다.
상기 [화학식 21]로 표시되는 기에서의 탄소원자수 1~10의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기로는 상기 일반식(1)의 설명에서 예시한 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기 및 이들의 기가 할로겐원자로 치환된 기를 들 수 있고,
탄소원자수 6~20의 아릴옥시기로는 페닐옥시, 나프틸옥시, 2-메틸페닐옥시, 3-메틸페닐옥시, 4-메틸페닐옥시, 4-비닐페닐옥시, 3-iso-프로필페닐옥시, 4-iso-프로필페닐옥시, 4-부틸페닐옥시, 4-tert-부틸페닐옥시, 4-헥실페닐옥시, 4-시클로헥실페닐옥시, 4-옥틸페닐옥시, 4-(2-에틸헥실)페닐옥시, 2,3-디메틸페닐옥시, 2,4-디메틸페닐옥시, 2,5-디메틸페닐옥시, 2.6-디메틸페닐옥시, 3.4-디메틸페닐옥시, 3.5-디메틸페닐옥시, 2,4-디-tert-부틸페닐옥시, 2,5-디-tert-부틸페닐옥시, 2,6-디-tert-부틸페닐옥시, 2.4-디-tert-펜틸페닐옥시, 2,5-tert-아밀페닐옥시, 4-시클로헥실페닐옥시, 2,4,5-트리메틸페닐옥시, 페로세닐옥시(ferrocenyloxy) 등의 기 및 이들의 기가 할로겐원자로 치환된 기를 들 수 있고,
탄소원자수 6~20의 아릴티오기로는 상기 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴옥시기의 산소원자를 황원자로 치환한 기 등을 들 수 있고,
탄소원자수 8~20의 아릴알케닐기로는 상기 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴옥시기의 산소원자를 비닐, 알릴, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 2-부테닐, 1,3-부타디에닐, 2-펜테닐, 2-옥테닐 등의 알케닐기으로 치환한 기 등을 들 수 있고,
탄소원자수 2~20의 복소환 함유기로는 피리딘, 피라진, 피페리딘, 피페라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아진, 헥사하이드로트리아진, 푸란, 테트라하이드로푸란, 크로만, 크산텐, 티오펜, 티오푸란 등의 기 및 이들의 기가 할로겐원자로 치환된 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(7)에서 Y11로 나타내는 3가의 탄소원자수 3~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가, Z1, Z2 및 Z3으로 치환된 3가의 기를 들 수 있고, 이들의 기는 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -NH- 또는 이들을 조합시킨 기로 중단되어 있어도 되고,
3가의 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가, Z1, Z2 및 Z3으로 치환된 3가의 기를 들 수 있고,
3가의 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 복소환 함유기가, Z1, Z2 및 Z3으로 치환된 3가의 기를 들 수 있다.
상기 일반식(9)에서 Y12로 나타내는 4가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가, Z1, Z2, Z3 및 Z4로 치환된 4가의 기를 들 수 있고, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합시킨 기로 중단되어 있어도 되고,
4가의 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(2)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가, Z1, Z2, Z3 및 Z4로 치환된 4가의 기를 들 수 있고,
4가의 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(2)에서의 X1의 설명에서 예시한 복소환 함유기가, Z1, Z2, Z3 및 Z4로 치환된 4가의 기를 들 수 있다.
상기 일반식(10)에서 Y13으로 나타내는 5가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(2)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가, Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 치환된 5가의 기를 들 수 있고, -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -NH- 또는 이들을 조합시킨 기로 중단되어 있어도 되고,
5가의 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가, Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 치환된 5가의 기를 들 수 있고,
5가의 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 복소환 함유기가, Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 치환된 5가의 기를 들 수 있다.
상기 일반식(11)에서 Y14로 나타내는 6가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6으로 치환된 6가의 기를 들 수 있고, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH- 또는 이들을 조합시킨 기로 중단되어 있어도 되고,
6가의 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6으로 치환된 6가의 기를 들 수 있고,
6가의 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(12)에서의 X1의 설명에서 예시한 복소환 함유기가, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6으로 치환된 6가의 기를 들 수 있다.
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물 중에서도, A가 벤젠환인 것; R1이 탄소원자수 1~8의 알킬기, 특히 탄소원자수 4~6의 알킬기인 것; R4가 탄소원자수 2~9의 알콕시카르보닐기, 특히 탄소원자수 5~7의 알콕시카르보닐기인 것; n이 2일 때, X2가 하기 일반식(3), (4) 혹은 [화학식 26]의 군으로 표시되는 어느 하나의 치환기인 것; n이 3일 때, X3이 하기 군 1로부터 선택되는 기인 것; n이 4일 때, X4가 군 2로부터 선택되는 기인 것; n이 5일 때, X4가 하기 군 3으로부터 선택되는 기인 것; n이 6일 때, X4가 하기 군 4로부터 선택되는 기인 것은 원료의 입수나 제조가 용이하기 때문에 바람직하다.
[화학식 26]
Figure 112020111925252-pat00026
(상기 일반식(3) 중, Y1 및 Y5는 각각 독립적으로, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y2 및 Y4는 각각 독립적으로, 산소원자 또는 -NR13-을 나타내고, R13은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, Y3은 -CR14R15-, -NR16-, 2가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 하기 일반식(5)로 표시되는 치환기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되고, R14 및 R15는 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고, R16은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타낸다.)
[화학식 27]
Figure 112020111925252-pat00027
(상기 일반식(4) 중, Y6 및 Y8은 각각 독립적으로, -NR17- 또는 산소원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y7은 직접 결합, -O-, -S-, -SO2-, -CR18R19- 또는 상기 [화학식 19]~[화학식 21]로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, R17은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, R18 및 R19는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타낸다.)
[화학식 28]
Figure 112020111925252-pat00028
(식 중, R31은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타낸다.)
[화학식 29]
Figure 112020111925252-pat00029
(상기 일반식(5) 중, Y9 및 Y10은 각각 독립적으로, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타낸다.)
<군 1>
[화학식 30]
Figure 112020111925252-pat00030
(식 중, R32는 상기 일반식(7)에서의 R32와 동일한 기이며, 기 중에 2개 이상 있을 경우 동일해도 되고, 달라도 되며, Z11은 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기를 나타낸다.)
<군 2>
[화학식 31]
Figure 112020111925252-pat00031
(상기 식 중, R32는 상기 일반식(7)에서의 R32와 동일한 기이며, 기 중에 2개 이상 있을 경우 동일해도 되고, 달라도 되며, Z11은 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기를 나타낸다.)
<군 3>
[화학식 32]
Figure 112020111925252-pat00032
(상기 식 중, R32는 상기 일반식(7)에서의 R32와 동일한 기이며, 기 중에 2개 이상 있을 경우 동일해도 되고, 달라도 되며, Z10, Z11, Z12, Z13 및 Z14는 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기를 나타낸다.)
<군 4>
[화학식 33]
Figure 112020111925252-pat00033
(상기 식 중, R32는 상기 일반식(7)에서의 R32와 동일한 기이며, 기 중에 2개 이상 있을 경우 동일해도 되고, 달라도 되며, Z10, Z11, Z12, Z13, Z14 및 Z15는 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기를 나타낸다.)
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 구체예로는 하기 [화학식 35]~[화학식 56]으로 표시되는 화합물을 들 수 있지만, 본 발명은 이들의 화합물에 제한되지 않는다.
[화학식 34]
Figure 112020111925252-pat00034
[화학식 35]
Figure 112020111925252-pat00035
[화학식 36]
Figure 112020111925252-pat00036
[화학식 37]
Figure 112020111925252-pat00037
[화학식 38]
Figure 112020111925252-pat00038
[화학식 39]
Figure 112020111925252-pat00039
[화학식 40]
Figure 112020111925252-pat00040
[화학식 41]
Figure 112020111925252-pat00041
[화학식 42]
Figure 112020111925252-pat00042
[화학식 43]
Figure 112020111925252-pat00043
[화학식 44]
Figure 112020111925252-pat00044
[화학식 45]
Figure 112020111925252-pat00045
[화학식 46]
Figure 112020111925252-pat00046
[화학식 47]
Figure 112020111925252-pat00047
[화학식 48]
Figure 112020111925252-pat00048
[화학식 49]
Figure 112020111925252-pat00049
[화학식 50]
Figure 112020111925252-pat00050
[화학식 51]
Figure 112020111925252-pat00051
[화학식 52]
Figure 112020111925252-pat00052
[화학식 53]
Figure 112020111925252-pat00053
[화학식 54]
Figure 112020111925252-pat00054
[화학식 55]
Figure 112020111925252-pat00055
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 일본국 공개특허 소57-111375, 일본국 공개특허 평3-173843, 일본국 공개특허 평6-128195, 일본국 공개특허 평7-206771, 일본국 공개특허 평7-252191, 일본국 공표특허 2004-501128의 각 공보에 기재된 방법에 의해 제조된 페놀계 화합물과, 산 무수물, 산염화물, Boc화시약, 알킬할라이드 화합물, 실릴클로라이드 화합물, 알릴에테르 화합물 등을 반응시켜서 얻을 수 있다.
계속해서, 본 발명의 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물에 대해서 설명한다.
본 발명의 잠재성 첨가제는 잠재성 산화 방지제 혹은 잠재성 자외선 흡수제로서 광경화성 조성물, 열경화성 조성물, 감광성 조성물 혹은 중합성 조성물에 사용되는 것 외에, 잠재성 현색제로서 감열재료에도 사용된다.
상기 광경화성 조성물에 있어서, 본 발명의 잠재성 첨가제의 함유량은 0.001~20질량%가 바람직하고, 0.005~5질량%가 보다 바람직하다.
상기 열경화성 조성물에 있어서, 본 발명의 잠재성 첨가제의 함유량은 0.001~20질량%가 바람직하고, 0.005~5질량%가 보다 바람직하다.
상기 감광성 조성물에 있어서, 본 발명의 잠재성 첨가제의 함유량은 0.001~20질량%가 바람직하고, 0.005~5질량%가 보다 바람직하다.
상기 중합성 조성물에 있어서, 본 발명의 잠재성 첨가제의 함유량은 0.001~20질량%가 바람직하고, 0.005~5질량%가 보다 바람직하다.
상기 광경화성 조성물은 광 조사에 의해 경화하는 것이며, 광 양이온 경화성 조성물, 광 음이온 경화성 조성물 혹은 광 라디칼 경화성 조성물 중 어느 것이어도 되지만, 광 라디칼 경화성 조성물이 광 조사시에 광 라디칼 중합 개시제로부터 발생한 라디칼을 잠재성 첨가제가 트랩하지 않고 중합 반응을 진행시키고, 가열하여 잠재성 산화 방지제를 활성화시킨 후에는 산화 등에 의해 발생하는 라디칼을 트랩하므로 바람직하다.
상기 광 라디칼 경화성 조성물은 본 발명의 잠재성 첨가제를 잠재성 산화 방지제로서 포함하는 것 외에, 라디칼 중합성 유기물질 및 광 라디칼 중합 개시제를 필수 성분으로 한다.
상기 라디칼 중합성 유기물질이란, 광 라디칼 중합 개시제의 존재하, 광 조사에 의해 고분자화 또는 가교 반응하는 화합물로서, 바람직하게는 1분자 중에 적어도 1개 이상의 불포화 이중 결합을 가지는 화합물이 사용되고, 예를 들면 아크릴레이트 화합물, 메타크릴레이트 화합물, 알릴우레탄 화합물, 불포화 폴리에스테르 화합물, 스티렌계 화합물, 라디칼 중합성기 변성 실리콘 오일, 비닐 화합물 등을 들 수 있다.
상기 라디칼 중합성 유기물질 중에서도 (메타)아크릴기를 가지는 화합물은 합성, 입수가 용이하고, 취급이 용이하여 바람직하다. 예를 들면 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트, 알코올류의 (메타)아크릴산에스테르를 들 수 있다.
여기서, 에폭시(메타)아크릴레이트란, 예를 들면, 종래 공지의 방향족 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 등과 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 아크릴레이트이다. 이들의 에폭시(메타)아크릴레이트 중, 특히 바람직한 것은 방향족 에폭시 수지의 (메타)아크릴레이트이며, 적어도 1개의 방향핵을 가지는 다가(多價) 페놀 또는 그 알킬렌옥사이드 부가체(付加體)의 폴리글리시딜에테르를 (메타)아크릴산과 반응시켜서 얻어지는 (메타)아크릴레이트이다. 예를 들면, 비스페놀A, 또는 그 알킬렌옥사이드 부가체를 에피클로로하이드린과 반응시켜서 얻어지는 글리시딜에테르를, (메타)아크릴산과 반응시켜서 얻어지는 (메타)아크릴레이트, 에폭시노볼락 수지와 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
우레탄(메타)아크릴레이트로서 바람직한 것은 1종 또는 2종 이상의 수산기 함유 폴리에스테르나 수산기 함유 폴리에테르에 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르와 이소시아네이트류를 반응시켜서 얻어지는 (메타)아크릴레이트나, 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르와 이소시아네이트류를 반응시켜서 얻어지는 (메타)아크릴레이트 등이다.
여기서 사용하는 수산기 함유 폴리에스테르로서 바람직한 것은 1종 또는 2종 이상의 지방족 다가 알코올과, 1종 또는 2종 이상의 다염기산의 반응에 의해 얻어지는 수산기 함유 폴리에스테르로서, 지방족 다가 알코올로는 예를 들면 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 트리메틸올프로판, 글리세린, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨 등을 들 수 있다. 다염기산으로는 예를 들면, 아디핀산, 테레프탈산, 무수 프탈산, 트리멜리트산 등을 들 수 있다.
수산기 함유 폴리에테르로서 바람직한 것은 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 수산기 함유 폴리에테르이며, 지방족 다가 알코올로는 전술한 화합물과 동일한 것을 예시할 수 있다. 알킬렌옥사이드로는 예를 들면, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드를 들 수 있다.
수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르로서 바람직한 것은 지방족 다가 알코올과 (메타)아크릴산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르이며, 지방족 다가 알코올로는 전술한 화합물과 동일한 것을 예시할 수 있다. 이러한 수산기 함유 (메타)아크릴산 중, 지방족 2가 알코올과 (메타)아크릴산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르는 특히 바람직하고, 예를 들면 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트를 들 수 있다.
이소시아네이트류로는 분자 중에 1개 이상의 이소시아네이트기를 가지는 화합물이 바람직하고, 톨릴렌디이소시아네이트나, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 2가의 이소시아네이트 화합물이 특히 바람직하다.
폴리에스테르(메타)아크릴레이트로서 바람직한 것은 수산기 함유 폴리에스테르와 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트이다. 여기서 사용하는 수산기 함유 폴리에스테르로서 바람직한 것은 1종 또는 2종 이상의 지방족 다가 알코올과, 1종 또는 2종 이상의 1염기산, 다염기산, 및 페놀류의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 수산기 함유 폴리에스테르이며, 지방족 다가 알코올로는 전술한 화합물과 동일한 것을 예시할 수 있다. 1염기산으로는 예를 들면, 포름산, 아세트산, 부틸카르복실산, 안식향산 등을 들 수 있다. 다염기산으로는 예를 들면, 아디핀산, 테레프탈산, 무수 프탈산, 트리멜리트산 등을 들 수 있다. 페놀류로는 예를 들면, 페놀, p-노닐페놀, 비스페놀A 등을 들 수 있다.
폴리에테르(메타)아크릴레이트로서 바람직한 것은 수산기 함유 폴리에테르와, 메타(아크릴)산을 반응시켜서 얻어지는 폴리에테르(메타)아크릴레이트이다. 여기서 사용하는 수산기 함유 폴리에테르로서 바람직한 것은 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 수산기 함유 폴리에테르이며, 지방족 다가 알코올로는 전술한 화합물과 동일한 것을 예시할 수 있다. 알킬렌옥사이드로는 예를 들면, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등을 들 수 있다.
알코올류의 (메타)아크릴산에스테르로서 바람직한 것은 분자 중에 적어도 1개의 수산기를 가지는 방향족 또는 지방족 알코올, 및 그 알킬렌옥사이드 부가체와 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 (메타)아크릴레이트이며, 예를 들면, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 이소아밀(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, ε-카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 한편, 이들의 (메타)아크릴레이트 중, 다가 알코올의 폴리(메타)아크릴레이트류가 특히 바람직하다.
상기 라디칼 중합성 유기물질의 시판품으로는 단관능의 예로서, 아로닉스 M-101, M-102, M-111, M-113, M-117, M-152, TO-1210(이상, 토아고세이(주) 제품), KAYARAD TC-110S, R-564, R-128H(이상, 닛폰카야쿠(주) 제품), 비스코트 192, 비스코트 220, 비스코트 2311HP, 비스코트 2000, 비스코트 2100, 비스코트 2150, 비스코트 8F, 비스코트 17F(이상, 오사카 유우키 카가쿠 코우교(주) 제품) 등을 들 수 있다.
또, 다관능의 예로서, SA1002(이상, 미츠비시 카가쿠(주) 제품), 비스코트 195, 비스코트 230, 비스코트 260, 비스코트 215, 비스코트 310, 비스코트 214HP, 비스코트 295, 비스코트 300, 비스코트 360, 비스코트 GPT, 비스코트 400, 비스코트 700, 비스코트 540, 비스코트 3000, 비스코트 3700(이상, 오사카 유우키 카가쿠 코우교(주) 제품), KAYARAD R-526, HDDA, NPGDA, TPGDA, MANDA, R-551, R-712, R-604, R-684, PET-30, GPO-303, TMPTA, THE-330, DPHA, DPHA-2H, DPHA-2C, DPHA-2I, D-310, D-330, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, EB-645, EB-648, EB-3700(다이셀·유씨비(주)) T-1420, T-2020, T-2040, TPA-320, TPA-330, RP-1040, RP-2040, R-011, R-300, R-205(이상, 닛폰카야쿠(주) 제품), 아로닉스 M-210, M-220, M-233, M-240, M-215, M-305, M-309, M-310, M-315, M-325, M-400, M-408, M-450, M-6200, M-6400(이상, 토아고세이(주) 제품), 라이트 아크릴레이트 BP-4EA, BP-4PA, BP-2EA, BP-2PA, DCP-A(이상, 쿄에이샤 카가쿠(주) 제품), 뉴프론티어 ASF-400(이상, 신닛테츠 카가쿠(주) 제품), 리폭시 SP-1506, SP-1507, SP-1509, VR-77, SP-4010, SP-4060(이상, 쇼와코분시(주) 제품), NK 에스테르 A-BPE-4(이상, 신나카무라 카가쿠 코우교(주) 제품) 등을 들 수 있다.
이들의 라디칼 중합성 유기물질은 1종 혹은 2종 이상의 것을 원하는 성능에 따라서 배합하여 사용할 수 있다. 한편, 라디칼 중합성 유기물질 중 50질량% 이상이 분자 중에 (메타)아크릴기를 가지는 화합물인 것이 바람직하다.
상기 광 라디칼 중합 개시제는 광 조사를 받음으로써 라디칼 중합을 개시시키는 것이 가능해지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 벤질계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등의 케톤계 화합물, 옥심계 화합물 등을 바람직한 것으로서 예시할 수 있다.
아세토페논계 화합물로는 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4'-이소프로필-2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시메틸-2-메틸프로피오페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 , p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-아지도벤잘아세토페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다.
벤질계 화합물로는 벤질, 아니실 등을 들 수 있다.
벤조페논계 화합물로는 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일 안식향산 메틸, 미힐러케톤(Michler's ketone), 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드 등을 들 수 있다.
옥심계 화합물로는 1.2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)-,2-(O-벤조일옥심)], 에탄온,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심), 메탄온,(2-메틸페닐)[6-니트로-9-[3-(트리메틸실릴)프로필]-9H-카르바졸-3-일]-,1-O-아세틸옥심), 메탄온,(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)(2-메틸페닐),O-아세틸옥심, 메탄온,(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)[2-메틸-4-(4-모르폴리닐)페닐),O-아세틸옥심, 메탄온,(3,5-디니트로페닐)(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)(2-메틸페닐),O-아세틸옥심, 메탄온,(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)(3-니트로페닐),O-아세틸옥심, 1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,3,5-트리스[2-(아세틸옥시)-3-[3-[(1E)-1-[(아세틸옥시)이미노에틸]-6-니트로-9H-카르바졸-9-일]프로필]-, 1,2-부탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(O-아세틸옥심), 1,2-부탄디온, 1-[4-[[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]티오]페닐]-, 2-(O-아세틸옥심), 1,2-부탄디온, 1,1'-(티오디-4,1-페닐렌)비스-, 2,2-비스(O-아세틸옥심), 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-[O-(4-메틸벤조일)옥심] 등을 들 수 있다.
티옥산톤계 화합물로는 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤 등을 들 수 있다.
기타 광 라디칼 중합 개시제로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(시클로펜타디에닐)-비스[2,6-디플루오르-3-(필-1-일)]티타늄 등을 들 수 있다.
이들의 광 라디칼 중합 개시제는 1종 혹은 2종 이상의 것을 원하는 성능에 따라서 배합하여 사용할 수 있다.
이상과 같은 광 라디칼 중합 개시제는 라디칼 중합성 유기물질에 대하여 화학량론적 필요량을 사용하면 되는데, 바람직하게는 라디칼 중합성 유기물질에 대하여 0.05~10질량부, 더 바람직하게는 0.1~10질량부 배합하는 것이 좋다. 이 범위를 상회(上回)하면 충분한 강도를 가지는 경화물이 얻어지지 않는 경우가 있고, 하회(下回)하면 수지가 충분히 경화되지 않는 경우가 있다.
상기 열경화성 조성물은 가열에 의해 경화하는 것이며, 열 양이온 경화성 조성물, 열 음이온 경화성 조성물 혹은 열 라디칼 경화성 조성물 중 어느 것이어도 되지만, 열 라디칼 경화성 조성물이 잠재성 산화 방지제를 가열하여 활성화시켰을 때에 라디칼을 트랩하므로 바람직하다.
상기 열 라디칼 경화성 조성물은 본 발명의 잠재성 첨가제를 잠재성 산화 방지제로서 포함하는 것 외에, 상기 라디칼 중합성 유기물질 및 열 라디칼 중합 개시제를 필수성분으로 한다.
상기 열 라디칼 중합 개시제로는 2,2-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(메틸이소부티레이트), 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄) 등의 아조계 개시제; 벤조일퍼옥사이드, 디-t-부틸벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 등의 과산화물계 개시제, 과황산 암모늄, 과황산 나트륨, 과황산 칼륨 등의 과황산염 등을 들 수 있다. 이들은 일종 또는 이종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 열경화성 조성물은 필요에 따라서 유기용매에 용해 또는 분산시켜서, 얻어진 도액(塗液)을 스핀코터, 롤코터, 바코터, 다이코터, 커튼코터, 각종 인쇄, 침지 등의 공지 수단으로, 소다 유리, 석영 유리, 반도체기판, 금속, 종이, 플라스틱 등의 지지 기체 위에 도포하고, 가열하여 경화시킬 수 있다.
상기 유기용매로는 특별히 한정되지 않고 공지 관용의 것을 사용할 수 있는데, 예를 들면, 케톤, 에테르, 아미드, 알코올류 등을 바람직하게 사용할 수 있고, 구체예로는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에틸이소부틸케톤, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 디메틸포름아미드, 디에틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디에틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 2-메톡시-2-프로판올, 테트라글라임(tetraglyme) 등의 공지 용매를 사용할 수 있다.
상기 가열 경화는 통상 약 60℃ 이상, 바람직하게는 100~300℃ 정도의 온도에서 10초~3시간 정도 실시하는 것이 바람직하다.
상기 중합성 조성물은 필요에 따라서 유기용매 중에서, 상기 라디칼 중합성 유기물질을 현탁 중합, 연속 중합, 용액 중합, 유화(乳化) 중합, 괴상(塊狀) 중합 등에 의해 단독 중합 혹은 공중합시키는 것이다.
상기 감광성 조성물은 광 조사에 의해 성질이 변하는 조성물이며, 화학반응에 대하여 가용(可溶)이 되는 것에 포지티브형 레지스트, 화학반응에 대하여 불용(不溶)이 되는 것에 네거티브형 레지스트가 있다. 상기 감광성 조성물은 본 발명의 잠재성 첨가제를 잠재성 산화 방지제로서 포함하는 것 외에, 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 및 광 라디칼 중합 개시제를 필수성분으로 한다. 상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는, (메타)아크릴산, (메타)아크릴산, α-클로로아크릴산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산, 푸마르산, 하이믹산, 크로톤산, 이소크로톤산, 비닐아세트산, 알릴아세트산, 계피산, 소르빈산, 메사콘산(mesaconic acid), 숙신산모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 가지는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트, 하이드록시에틸(메타)아크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트·말레이트, 디시클로펜타디엔·말레이트 혹은 1개의 카르복실기와 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지는 다관능 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 다염기산; 알릴알코올, 크로틸알코올 등의 비닐알코올; 페놀 및/또는 크레졸노볼락에폭시 수지, 비페닐 골격, 나프탈렌 골격을 가지는 노볼락에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔노볼락형 에폭시 화합물 등의 노볼락형 에폭시 화합물, 다관능 에폭시기를 가지는 폴리페닐메탄형 에폭시 수지, 하기 일반식(I)로 표시되 에폭시 화합물 등의 에폭시 수지의 에폭시기에 불포화 1염기산을 작용시키고, 또한 다염기산 무수물을 작용시켜서 얻어진 수지, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 등의 수산기 함유 다관능 아크릴레이트와 무수 숙신산, 무수 프탈산, 테트라하이드로 무수 프탈산 등의 2염기산 무수물의 반응물인 산가를 가지는 다관능 아크릴레이트 등의 중합체를 들 수 있다.
[화학식 56]
Figure 112020111925252-pat00056
(식 중, X41은 직접 결합, 메틸렌기, 탄소원자수 1~4의 알킬리덴기, 탄소원자수 3~20의 지환식 탄화수소기, -O-, -S-, -SO2-, -SS-, -SO-, -CO-, -OCO- 또는 상기 [화학식 7]~[화학식 9]로 표시되는 치환기를 나타내고, 상기 알킬리덴기는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되고, R41, R42, R43 및 R44는 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소원자수 1~5의 알킬기, 탄소원자수 1~8의 알콕시기, 탄소원자수 2~5의 알케닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 할로겐원자로 치환되어 있어도 되고, r은 0~10의 정수이다.)
이들의 중합성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있고, 또 산가를 가지지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 조합시켜서 사용할 수 있다. 2종 이상을 혼합하여 사용할 경우에는 그들을 미리 공중합하여 공중합체로서 사용해도 된다.
상기 산가를 가지지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는 예를 들면, (메타)아크릴산-2-하이드록시에틸, (메타)아크릴산-2-하이드록시프로필, (메타)아크릴산글리시딜, 하기 화합물 No.A1~No.A4, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산-t-부틸, (메타)아크릴산시클로헥실, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산스테아릴, (메타)아크릴산라우릴, (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산디메틸아미노메틸, (메타)아크릴산디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산아미노프로필, (메타)아크릴산디메틸아미노프로필, (메타)아크릴산에톡시에틸, (메타)아크릴산폴리(에톡시)에틸, (메타)아크릴산부톡시에톡시에틸, (메타)아크릴산에틸헥실, (메타)아크릴산페녹시에틸, (메타)아크릴산테트라하이드로푸릴, (메타)아크릴산비닐, (메타)아크릴산알릴, (메타)아크릴산벤질, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸올디(메타)아크릴레이트, 트리[(메타)아크릴로일에틸]이소시아누레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트올리고머 등의 불포화 1염기산 및 다가 알코올 또는 다가 페놀의 에스테르; (메타)아크릴산아연, (메타)아크릴산마그네슘 등의 불포화 다염기산의 금속염; 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 테트라하이드로무수프탈산, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산 무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 도데세닐무수숙신산, 무수메틸하이믹산 등의 불포화 다염기산의 산 무수물; (메타)아크릴아미드, 메틸렌비스-(메타)아크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스(메타)아크릴아미드, 크실릴렌비스(메타)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 불포화 1염기산 및 다가 아민의 아미드; 아크롤레인 등의 불포화 알데히드; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴, 시안화 알릴 등의 불포화 니트릴; 스티렌, 4-메틸스티렌, 4-에틸스티렌, 4-메톡시스티렌, 4-하이드록시스티렌, 4-클로로스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, 비닐안식향산, 비닐페놀, 비닐술폰산, 4-비닐벤젠술폰산, 비닐벤질메틸에테르, 비닐벤질글리시딜에테르 등의 불포화 방향족 화합물; 메틸비닐케톤 등의 불포화 케톤; 비닐아민, 알릴아민, N-비닐피롤리돈, 비닐피페리딘 등의 불포화 아민 화합물; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 비닐에테르; 말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공역(共役) 디엔류; 폴리스티렌, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메타)아크릴로일기를 가지는 매크로모노머류; (메타)아크릴로니트릴, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 염화비닐, 아세트산비닐 등의 기타 비닐 화합물, 및 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머, 폴리스티렌 매크로모노머 등의 매크로모노머류, 트리시클로데칸 골격의 모노메타크릴레이트 , N-페닐말레이미드, 메타크릴로일옥시메틸-3-에틸옥세탄 등과, (메타)아크릴산의 공중합체 및 이들에 쇼와덴코우(주)사 제품 카렌즈 MOI, AOI와 같은 불포화 결합을 가지는 이소시아네이트 화합물을 반응시킨 (메타)아크릴산의 공중합체나, 비닐클로이드, 비닐리덴클로이드, 디비닐숙신산, 디알릴프탈레이트, 트리알릴포스페이트, 트리알릴이소시아누레이트, 비닐티오에테르, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸린, 비닐카르바졸, 비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 수산기 함유 비닐모노머 및 폴리이소시아네이트 화합물의 비닐우레탄 화합물, 수산기 함유 비닐모노머 및 폴리에폭시 화합물의 비닐에폭시 화합물, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 등의 수산기 함유 다관능 아크릴레이트와 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트의 반응물 등을 들 수 있다.
화합물 No.A1
[화학식 57]
Figure 112020111925252-pat00057
화합물 No.A2
[화학식 58]
Figure 112020111925252-pat00058
화합물 No.A3
[화학식 59]
Figure 112020111925252-pat00059
화합물 No.A4
[화학식 60]
Figure 112020111925252-pat00060
산가 조정하여 상기 감광성 조성물의 현상성을 개량하기 위해서, 상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 함께, 또한 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물은 고형분의 산가가 5~120㎎KOH/g의 범위인 것이 바람직하고, 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물의 사용량은 상기 산가를 만족하도록 선택하는 것이 바람직하다.
상기 단관능 에폭시 화합물로는 글리시딜메타크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 프로필글리시딜에테르, 이소프로필글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 이소부틸글리시딜에테르, t-부틸글리시딜에테르, 펜틸글리시딜에테르, 헥실글리시딜에테르, 헵틸글리시딜에테르, 옥틸글리시딜에테르, 노닐글리시딜에테르, 데실글리시딜에테르, 운데실글리시딜에테르, 도데실글리시딜에테르, 트리데실글리시딜에테르, 테트라데실글리시딜에테르, 펜타데실글리시딜에테르, 헥사데실글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르, 프로파르길(propargyl)글리시딜에테르, p-메톡시에틸글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, p-메톡시글리시딜에테르, p-부틸페놀글리시딜에테르, 크레실글리시딜에테르, 2-메틸크레실글리시딜에테르, 4-노닐페닐글리시딜에테르, 벤질글리시딜에테르, p-쿠밀페닐글리시딜에테르, 트리틸글리시딜에테르, 2,3-에폭시프로필메타크릴레이트, 에폭시화 대두유, 에폭시화 아마인유, 글리시딜부틸레이트, 비닐시클로헥산모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산, 스티렌옥사이드, 피넨옥사이드, 메틸스티렌옥사이드, 시클로헥센옥사이드, 프로필렌옥사이드 등을 들 수 있다.
상기 다관능 에폭시 화합물로는, 비스페놀형 에폭시 화합물 및 글리시딜에테르류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하면 특성이 한층 양호한 착색 알칼리 현상성 감광성 조성물을 얻을 수 있으므로 바람직하다. 상기 비스페놀형 에폭시 화합물로는 상기 일반식(I)로 표시되는 에폭시 화합물을 사용할 수 있는 것 외에, 예를 들면, 수소첨가 비스페놀형 에폭시 화합물 등의 비스페놀형 에폭시 화합물도 사용할 수 있다. 상기 글리시딜에테르류로는 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,8-옥탄디올디글리시딜에테르, 1,10-데칸디올디글리시딜에테르, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 트리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 테트라에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 헥사에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)프로판, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)에탄, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)메탄, 1,1,1,1-테트라(글리시딜옥시메틸)메탄을 들 수 있다.
그 외에, 페놀노볼락형 에폭시 화합물, 비페닐노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀A노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔노볼락형 에폭시 화합물 등의 노볼락형 에폭시 화합물; 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산 등의 지환식 에폭시 화합물; 프탈산디글리시딜에스테르, 테트라하이드로프탈산디글리시딜에스테르, 다이머산글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르류; 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄, 트리글리시딜P-아미노페놀, N,N-디글리시딜아닐린 등의 글리시딜아민류; 1,3-디글리시딜-5,5-디메틸히단토인(dimethylhydantoin), 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 복소환식 에폭시 화합물; 디시클로펜타디엔디옥시드 등의 디옥시드 화합물; 나프탈렌형 에폭시 화합물, 트리페닐메탄형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 화합물 등을 사용할 수도 있다.
상기 감광성 조성물에 또한 착색제를 첨가하여 착색 감광성 조성물로 할 수도 있다. 상기 착색 감광성 조성물의 경화물은 컬러 필터로서 적합하게 사용된다.
상기 착색 감광성 조성물에 있어서, 착색제의 첨가량은 0.01~50질량%가 바람직하고, 0.1~30질량%가 보다 바람직하다.
상기 착색제로는 염료 혹은 안료를 들 수 있다.
염료로는 380~1200㎚에 흡수를 가지는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 아조 화합물, 안트라퀴논 화합물, 인디고이드 화합물, 트리아릴메탄 화합물, 크산텐 화합물, 알리자린 화합물, 아크리딘 화합물, 스틸벤 화합물, 티아졸 화합물, 나프톨 화합물, 퀴놀린 화합물, 니트로 화합물, 인다민 화합물, 옥사진 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 시아닌 화합물, 디이모늄 화합물, 시아노에테닐 화합물, 디시아노스티렌 화합물, 로다민 화합물, 페릴렌 화합물, 폴리엔나프토락탐 화합물, 쿠마린 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 크로코늄 화합물, 스피로피란 화합물, 스피로옥사진 화합물, 메로시아닌 화합물, 옥소놀 화합물, 스티릴 화합물, 피릴륨 화합물, 로다닌 화합물, 옥사졸론 화합물, 프탈이미드 화합물, 신놀린 화합물, 나프토퀴논 화합물, 아자안트라퀴논 화합물, 포르피린 화합물, 아자포르피린 화합물, 피로메텐 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 인디고 화합물, 아크리딘 화합물, 아진 화합물, 아조메틴 화합물, 아닐린 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 퀴논이민 화합물, 이리듐 착체 화합물, 유로퓸 착체 화합물 등의 염료 등을 들 수 있고, 이들은 복수를 혼합하여 사용해도 된다.
안료로는 무기 안료 혹은 유기 안료를 사용할 수 있고, 예를 들면, 니트로소 화합물, 니트로 화합물, 아조 화합물, 디아조 화합물, 크산텐 화합물, 퀴놀린 화합물, 안트라퀴논 화합물, 쿠마린 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 이소인돌리논 화합물, 이소인돌린 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 안탄트론 화합물, 페리논 화합물, 페릴렌 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 티오인디고 화합물, 디옥사진 화합물, 트리페닐메탄 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 나프탈렌테트라카르복실산; 아조 염료, 시아닌 염료의 금속 착체 화합물; 레이크(lake) 안료; 퍼니스(furnace)법, 채널법, 서멀(thermal)법에 의해 얻어지는 카본블랙, 혹은 아세틸렌블랙, 케첸블랙(ketjen black) 또는 램프블랙 등의 카본블랙; 상기 카본블랙을 에폭시 수지로 조정, 피복한 것, 상기 카본블랙을 미리 용매 중에서 수지로 분산 처리하여, 20~200㎎/g의 수지를 흡착시킨 것, 상기 카본블랙을 산성 또는 알카리성 표면 처리한 것, 평균 입경이 8㎚ 이상이며 DBP 흡유량이 90㎖/100g 이하인 것, 950℃에서의 휘발분 중의 CO, CO2로부터 산출한 전 산소량이 카본블랙의 표면적 100m2당 9㎎ 이상인 것; 흑연, 흑연화 카본블랙, 활성탄, 탄소섬유, 카본나노튜브, 카본마이크로코일, 카본나노혼(carbon nanohorn), 카본에어로겔, 풀러린(fullerene); 아닐린블랙, 피크먼트 블랙 7, 티탄블랙; 소수성(疏水性) 수지, 산화크롬 그린, 밀로리 블루, 코발트 그린, 코발트 블루, 망간계, 페로시안 화물, 인산염 군청, 감청, 울트라마린, 세룰리안 블루, 피리디안, 에메랄드 그린, 황산납, 황색납, 아연황, 철단(鐵丹)(적색산화철(III)), 카드뮴 레드, 합성 철흑, 앰버 등의 무기 함량 또는 유기 안료를 사용할 수 있다. 이들의 안료는 단독으로, 혹은 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 무기 안료 또는 유기 안료로는 시판의 안료를 사용할 수도 있고, 예를 들면, 피크먼트 레드 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; 피크먼트 오렌지 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; 피크먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; 피크먼트 그린 7, 10, 36; 피크먼트 블루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:5, 15:6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; 피크먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 등을 들 수 있다.
상기 착색 감광성 조성물에는 또한 용매를 첨가할 수 있다. 상기 용매로는 통상, 필요에 따라서 상기의 각 성분을 용해 또는 분산하여 얻는 용매, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산시클로헥실, 락트산에틸, 숙신산디메틸, 텍사놀 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올 등의 알코올계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트(PGMEA), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트 등의 에테르에스테르계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 BTX계 용매; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매; 테레핀유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄 스피릿, 스와졸 #310(코스모 마츠야마 세키유(주)), 솔벳소 #100(에쿠손 가가쿠(주)) 등의 파라핀계 용매; 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용매; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소계 용매; 카르비톨계 용매, 아닐린, 트리에틸아민, 피리딘, 아세트산, 아세토니트릴, 이황화탄소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드, 물 등을 들 수 있고, 이들의 용매는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용매로서 사용할 수 있다. 이들 중에서도 케톤류, 에테르에스테르계 용매 등, 특히 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 시클로헥사논 등이 감광성 조성물에 있어서 레지스트와 광중합 개시제의 상용성이 좋으므로 바람직하다.
상기 착색 감광성 조성물에는 또한 무기 화합물을 함유시킬 수 있다. 상기 무기 화합물로는 예를 들면, 산화니켈, 산화철, 산화이리듐, 산화티탄, 산화아연, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화칼륨, 실리카, 알루미나 등의 금속 산화물; 층상 점토광물, 밀로리 블루, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 코발트계, 망간계, 유리 분말, 마이카, 탈크, 카올린, 페로시안화물, 각종 금속 황산염, 황화물, 셀렌화물, 알루미늄실리케이트, 칼슘실리케이트, 수산화알루미늄, 백금, 금, 은, 구리 등을 들 수 있다.
상기 착색 감광성 조성물에 있어서 안료 및/또는 무기 화합물을 사용할 경우, 분산제를 첨가할 수 있다. 상기 분산제로는 색재, 무기 화합물을 분산, 안정화할 수 있는 것이면 무엇이든지 되고, 시판의 분산제, 예를 들면 빅케미사 제품, BYK시리즈 등을 사용할 수 있고, 염기성 관능기를 가지는 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리우레탄으로 이루어지는 고분자 분산제, 염기성 관능기로서 질소원자를 가지고, 질소원자를 가지는 관능기가 아민, 및/또는 그 4급 염이며, 아민가가 1~100㎎KOH/g인 것이 적합하게 사용된다.
또, 상기 착색 감광성 조성물에는 필요에 따라서, p-아니솔, 하이드로퀴논, 피로카테콜, t-부틸카테콜, 페노티아진 등의 열중합 억제제; 가소제; 접착 촉진제; 충전제; 소포제; 레벨링제; 표면 조정제; 페놀계 산화 방지제, 포스파이트계 산화 방지제, 티오에테르계 산화 방지제 등의 산화 방지제; 자외선 흡수제; 분산조제; 응집 방지제; 촉매; 효과 촉진제; 가교제; 증점제 등의 관용의 첨가물을 첨가할 수 있다.
또, 상기 산가를 가지는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 함께, 다른 유기중합체를 사용함으로써 본 발명의 착색 감광성 조성물의 경화물의 특성을 개선할 수도 있다. 상기 유기중합체로는 예를 들면, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-에틸아크릴레이트 공중합체, 폴리(메타)아크릴산, 스티렌-(메타)아크릴산 공중합체, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-염화비닐 공중합체, 에틸렌-비닐 공중합체, 폴리염화비닐 수지, ABS 수지, 나일론6, 나일론66, 나일론12, 우레탄 수지, 폴리카보네이트폴리비닐부티랄, 셀룰로오스에스테르, 폴리아크릴아미드, 포화 폴리에스테르, 페놀 수지, 페녹시 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리아믹산 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 폴리스티렌, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에폭시 수지가 바람직하다.
상기 착색 감광성 조성물에는 또한 연쇄이동제, 증감제(增感劑), 계면활성제, 실란커플링제, 멜라민 등을 병용할 수 있다.
상기 연쇄이동제, 증감제로는 일반적으로 황원자 함유 화합물이 사용된다. 예를 들면 티오글리콜산, 티오말산, 티오살리실산, 2-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토부티르산, N-(2-메르캅토프로피오닐)글리신, 2-메르캅토니코틴산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)카르바모일]프로피온산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)아미노]프로피온산, N-(3-메르캅토프로피오닐)알라닌, 2-메르캅토에탄술폰산, 3-메르캅토프로판술폰산, 4-메르캅토부탄술폰산, 도데실(4-메틸티오)페닐에테르, 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올, 1-메르캅토-2-프로판올, 3-메르캅토-2-부탄올, 메르캅토페놀, 2-메르캅토에틸아민, 2-메르캅토이미다졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토-3-피리디놀, 2-메르캅토벤조티아졸, 메르캅토아세트산, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) 등의 메르캅토 화합물, 상기 메르캅토 화합물을 산화하여 얻어지는 디설파이드 화합물, 요오드아세트산, 요오드프로피온산, 2-요오드에탄올, 2-요오드에탄술폰산, 3-요오드프로판술폰산 등의 요오드화 알킬 화합물, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 하기 화합물 No.C1, 트리메르캅토프로피온산트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 등의 지방족 다관능 티올 화합물, 쇼와덴코우사 제품 카렌즈 MT BD1, PE1, NR1 등을 들 수 있다.
[화학식 61]
Figure 112020111925252-pat00061
상기 계면활성제로는 퍼플루오르알킬인산에스테르, 퍼플루오르알킬카르복실산염 등의 플루오르 계면활성제, 고급 지방산 알칼리염, 알킬술폰산염, 알킬황산염 등의 음이온계 계면활성제, 고급 아민할로겐산염, 제4급암모늄염 등의 양이온계 계면활성제, 폴리에틸렌글리콜알킬에테르, 폴리에틸렌글리콜 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 지방산 모노글리세리드 등의 비이온 계면활성제, 양성 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 계면활성제를 사용할 수 있고, 이들은 조합하여 사용해도 된다.
상기 실란 커플링제로는 예를 들면 신에츠 카가쿠사 제품 실란 커플링제를 사용할 수 있고, 그 중에서도 KBE-9007, KBM-502, KBE-403 등, 이소시아네이트기, 메타크릴로일기, 에폭시기를 가지는 실란 커플링제가 적합하게 사용된다.
상기 멜라민 화합물로는, (폴리)메틸올멜라민, (폴리)메틸올글리콜우릴, (폴리)메틸올벤조구아나민, (폴리)메틸올우레아 등의 질소 화합물 중의 활성 메틸올기(CH2OH기)의 전부 또는 일부(적어도 2개)가 알킬에테르화된 화합물을 들 수 있다. 여기서, 알킬에테르를 구성하는 알킬기로는 메틸기, 에틸기 또는 부틸기를 들 수 있고, 서로 동일해도 되고, 달라도 된다. 또, 알킬에테르화되어 있지 않은 메틸올기는 1분자 내에서 자기축합하고 있어도 되고, 2분자간에서 축합하여, 그 결과 올리고머 성분이 형성되어 있어도 된다. 구체적으로는 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸글리콜우릴, 테트라부톡시메틸글리콜우릴 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민 등의 알킬에테르화된 멜라민이 바람직하다.
상기 착색 감광성 조성물은 스핀코터, 롤코터, 바코터, 다이코터, 커튼코터, 각종 인쇄, 침지 등의 공지 수단으로, 소다 유리, 석영 유리, 반도체 기판, 금속, 종이, 플라스틱 등의 지지 기체 위에 적용할 수 있다. 또, 일단 필름 등의 지지 기체 위에 설비한 후, 다른 지지 기체 위에 전사(傳寫)할 수도 있고, 그 적용방법에 제한은 없다.
또, 상기 착색 감광성 조성물을 경화시킬 때에 사용되는 활성광의 광원으로는 파장 300~450㎚의 광을 발광하는 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 초고압 수은, 수은 증기 아크, 카본 아크, 크세논 아크 등을 사용할 수 있다.
또한, 노광 광원에 레이저광을 사용함으로써, 마스크를 사용하지 않고 컴퓨터 등의 디지털 정보로부터 직접 화상을 형성하는 레이저 직접 묘화법이, 생산성뿐만 아니라 해상성이나 위치 정밀도 등의 향상도 꾀할 수 있으므로 유용하며, 그 레이저광으로는 340~430㎚의 파장의 광이 적합하게 사용되는데, 아르곤이온 레이저, 헬륨네온 레이저, YAG 레이저, 및 반도체 레이저 등의 가시로부터 적외 영역의 광을 발하는 것도 사용된다. 이들의 레이저를 사용할 경우에는 가시로부터 적외인 해당 영역을 흡수하는 증감색소가 첨가된다.
상기 착색 감광성 조성물(또는 그 경화물)은 광경화성 도료 혹은 바니시(varnish), 광경화성 접착제, 프린트 기판, 혹은 컬러 텔레비전, PC 모니터, 휴대 정보 단말, 디지털 카메라 등의 컬러 표시의 액정 표시 패널에서의 컬러 필터, CCD 이미지 센서의 컬러 필터, 플라즈마 표시 패널용의 전극재료, 분말 코팅, 인쇄 잉크, 인쇄판, 접착제, 치과용 조성물, 광조형(光造形)용 수지, 겔 코트, 전자 공학용의 포토 레지스트, 전기 도금 레지스트, 에칭 레지스트, 액상 및 건조막의 쌍방, 솔더 레지스트, 다양한 표시 용도용의 컬러 필터를 제조하기 위한 레지스트, 혹은 플라즈마 표시 패널, 전기 발광 표시장치, 및 LCD의 제조공정에 있어서 구조를 형성하기 위한 레지스트, 전기 및 전자부품을 봉입하기 위한 조성물, 솔더 레지스트, 자기(磁氣)기록재료, 미세기계부품, 도파로(導波路), 광 스위치, 도금용 마스크, 에칭 마스크, 컬러 시험계, 유리 섬유 케이블 코팅, 스크린 인쇄용 스텐실, 스테레오 리소그래피에 의해 삼차원 물체를 제조하기 위한 재료, 홀로그래피 기록용 재료, 화상기록재료, 미세전자회로, 탈색재료, 화상기록재료를 위한 탈색재료, 마이크로 캡슐을 사용하는 화상기록재료용의 탈색재료, 인쇄 배선판용 포토 레지스트 재료, UV 및 가시 레이저 직접 화상계용의 포토 레지스트 재료, 프린트 회로기판의 순차 적층에서 유전체층 형성에 사용되는 포토 레지스트 재료 혹은 보호막 등의 각종 용도로 사용할 수 있고, 그 용도에 특별히 제한은 없다.
상기 착색 감광성 조성물은 컬러 필터의 화소를 형성하는 목적으로 사용되고, 특히 액정 표시 패널 등의 화상 표시 장치용의 표시 디바이스용 컬러 필터를 형성하기 위한 감광성 조성물로서 유용하다.
상기 표시 디바이스용 컬러 필터는, (1) 상기 착색 감광성 조성물의 도막을 기판 위에 형성하는 공정, (2) 상기 도막에 소정의 패턴 형상을 가지는 마스크를 통해서 활성광을 조사하는 공정, (3) 노광 후의 피막을 현상액으로 현상하는 공정, (4) 현상 후의 상기 피막을 가열하는 공정에 의해 바람직하게 형성된다. 또, 본 발명의 착색 감광성 조성물은 현상 공정이 없는 잉크젯 방식의 착색 감광성 조성물로도 유용하다.
다음으로, 본 발명의 신규 화합물에 대해서 설명한다. 한편, 특별히 설명하지 않는 점에 대해서는 본 발명의 잠재성 첨가제에 있어서 설명한 것이 적절히 적용된다.
본 발명의 신규 화합물은 상술한 본 발명의 잠재성 첨가제에 사용되는 화합물 중, 하기 일반식(2), 하기 일반식(6) 및 하기 일반식(8)로 표시되는 화합물이 해당된다.
[화학식 62]
[화학식 3]
Figure 112020111925252-pat00062
(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
R201 및 R202는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
d는 1~3의 정수를 나타내고,
k는 1~3의 정수를 나타내고,
R204는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
상기 R201, R202 및 R204로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는, -SO2로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
복수의 R202끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
복수의 R202 및 R204는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
X2는 산소원자, 황원자, 하기 [화학식 4]로 표시되는 기, >C=O, -NH-CO-, -CO-NH-, >NR12, >PR12, 또는 하기 일반식(3), (4) 혹은 하기 [화학식 10]의 군으로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, R12는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는, -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다.
X2는 A와 함께 환을 형성하고 있어도 된다.)
[화학식 63]
Figure 112020111925252-pat00063
[화학식 64]
Figure 112020111925252-pat00064
(상기 일반식(3) 중, Y1 및 Y5는 각각 독립적으로, 직접 결합, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y2 및 Y4는 각각 독립적으로, 산소원자 또는 -NR13-을 나타내고, R13은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, Y3은 직접 결합, -NR16-, 2가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 하기 일반식(5)로 표시되는 치환기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 또는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되고, R14 및 R15는 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고, R16은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 된다.)
[화학식 65]
Figure 112020111925252-pat00065
(상기 일반식(4) 중, Y6 및 Y8은 각각 독립적으로, -NR17- 또는 산소원자로 중단되어 있어도 되는 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y7은 직접 결합, -O-, -S-, -SO2-, -CR18R19- 또는 하기 [화학식 66]~[화학식 68]로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, R17은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, R18 및 R19는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, R100 및 R101은 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수소기, 니트로기, 카르복실기, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 또는 탄소원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고, e는 1~4의 수를 나타내고, f는 1~4의 수를 나타낸다.)
[화학식 66]
Figure 112020111925252-pat00066
(상기 식 중, R21은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 또는 탄소원자수 3~10의 시클로알킬기를 나타내고, R22는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 탄소원자수 1~10의 알콕시기, 탄소원자수 2~10의 알케닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 치환기를 가지고 있어도 되고, a는 0~5의 정수이다.)
[화학식 67]
Figure 112020111925252-pat00067
(식 중, R102 및 R103은 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 또는 탄소원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고, i는 1~4의 수를 나타내고, j는 1~4의 수를 나타낸다.)
[화학식 68]
Figure 112020111925252-pat00068
(상기 식 중, R23 및 R24는 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴옥시기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴티오기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 아릴알킬기 중의 메틸렌기는 불포화 결합, -O-, 또는 -S-로 치환되어 있어도 되고, R23은 인접하는 R23끼리 환을 형성하고 있어도 되고, b는 0~4의 수를 나타내고, c는 0~8의 수를 나타내고, g와 h의 수의 합계는 2~4이다.)
[화학식 69]
Figure 112020111925252-pat00069
(식 중, R31은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 된다.)
[화학식 70]
Figure 112020111925252-pat00070
(상기 일반식(5) 중, Y9 및 Y10은 각각 독립적으로, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타낸다.)
[화학식 71]
Figure 112020111925252-pat00071
(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
R301 및 R302는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
d는 1~3의 정수를 나타내고,
k는 1~3의 정수를 나타내고,
R304는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
R301, R302 및 R304로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, -SO2-, 또는 질소원자로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
복수의 R302끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
복수의 R302 및 R304는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
X3은 하기 일반식(7)로 표시되는 치환기를 나타낸다.
X3은 A와 함께 환을 형성하고 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다.)
[화학식 72]
Figure 112020111925252-pat00072
(상기 일반식(7) 중, Y11은 3가의 탄소원자수 3~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 3~35의 지환족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은 각각 독립적으로, 직접 결합, -O-, -S-, >CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -SS-, -SO-, >NR32, >PR32 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R32는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 된다.)
[화학식 73]
Figure 112020111925252-pat00073
(식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
R401 및 R402는 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
d는 1~3의 정수를 나타내고,
k는 1~3의 정수를 나타내고,
R404는 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 2~20의 알케닐기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기, 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
R401, R402 및 R404로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는, -SO2로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
복수의 R402끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
복수의 R402 및 R404는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
n은 4~6의 수를 나타내고,
X4는 n=4일 때 하기 일반식(9)로 표시되는 치환기를 나타내고, n=5일 때 하기 일반식(10)으로 표시되는 치환기를 나타내고, n=6일 때 하기 일반식(11)로 표시되는 치환기를 나타낸다.
X4는 A와 함께 환을 형성하고 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다.)
[화학식 74]
Figure 112020111925252-pat00074
(상기 일반식(9) 중, Y12는 탄소원자, 또는 4가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z4는 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
[화학식 75]
Figure 112020111925252-pat00075
(상기 일반식(10) 중, Y13은 5가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~30의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z5는 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
[화학식 76]
Figure 112020111925252-pat00076
(상기 일반식(11) 중, Y14는 6가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z6은 각각 독립적으로, 상기 일반식(7)에서 Z1~Z3으로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
실시예
이하, 실시예 등을 들어서 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예 등에 한정되는 것이 아니다.
[제조예 1-1] 화합물 No.1의 합성
페놀 화합물 0.01mol, 이탄산디-tert-부틸 0.05mol 및 피리딘 30g을 혼합하고, 질소 분위기하, 실온에서 4-디메틸아미노피리딘 0.025mol을 첨가하여, 60℃에서 3시간 교반했다. 실온까지 냉각 후, 반응액을 이온 교환수 150g에 붓고, 클로로포름 200g을 첨가하여 유수분리를 실시했다. 유기층을 무수황산나트륨으로 건조 후, 용매를 증류제거하고, 잔사에 메탄올 100g을 첨가하여 정석(晶析)을 실시했다. 얻어진 백색 가루형상 결정을 60℃에서 3시간 감압건조시켜서, 목적물을 얻었다. 얻어진 백색 가루형상 결정이 목적물인 것은 1H-NMR, IR로 확인했다. 또, 융점을 측정했다. 결과를 [표 1]~[표 3]에 나타낸다.
화합물 No.1
[화학식 77]
Figure 112020111925252-pat00077
[실시예 1-1~1-9] 화합물 No.2~화합물 No.10의 합성
제조예 1-1과 동일하게 하여, 화합물 No.2~No.10을 합성했다.
화합물 No.2
[화학식 78]
Figure 112020111925252-pat00078
화합물 No.3
[화학식 79]
Figure 112020111925252-pat00079
화합물 No.4
[화학식 80]
Figure 112020111925252-pat00080
화합물 No.5
[화학식 80A]
Figure 112020111925252-pat00081
화합물 No.6
[화학식 80B]
Figure 112020111925252-pat00082
화합물 No.7
[화학식 80C]
Figure 112020111925252-pat00083
화합물 No.8
[화학식 80D]
Figure 112020111925252-pat00084
화합물 No.9
[화학식 80E]
Figure 112020111925252-pat00085
화합물 No.10
[화학식 80F]
Figure 112020111925252-pat00086
화합물 No.11
[화학식 80G]
Figure 112020111925252-pat00087
Figure 112020111925252-pat00088
Figure 112020111925252-pat00089
Figure 112020111925252-pat00090
[실시예 2-1 및 비교예 2-1] 중합성 조성물 No.1 및 비교 중합성 조성물 No.1의 조제
50㎖ 4구(口) 플라스크에, 메타크릴산메틸 2.97g 및 아조이소부티로니트릴 0.03g을 투입하고, 화합물 No.1(실시예 2) 또는 비교 화합물 No.1 0.01g과 톨루엔 7.00g을 첨가하여, 80℃에서 2시간 교반했다. GPC를 측정하여 중합물의 분자량을 측정했다. 결과를 [표 4]에 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00091
비교 화합물 No.1
[화학식 81]
Figure 112020111925252-pat00092
상기 결과로부터, 페놀기를 가지는 화합물을 첨가한 비교 중합성 조성물이 중합 저해를 일으키고 있는 것에 비하여, 본 발명의 잠재성 첨가제를 첨가한 중합성 조성물은 중합 저해를 일으키지 않는 것이 명백하다.
[실시예 3-1~3-8 및 비교예 3-1~3-8] 착색 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3의 조제
<스텝 1> 감광성 조성물 No.1~No.8 및 비교 감광성 조성물 No.1~No.8의 조제
SPC-1000(쇼와덴코우사 제품, 고형분 29%의 PGMEA용액) 50.9g, 아로닉스 M-450(토아고세이사 제품) 11.9g, OXE-01(BASF사 제품) 1.04g, PGMEA 34.0g, FZ2122(토레이 다우코닝사 제품, 고형분 1%의 PGMEA용액) 2.9g 및 [표 5]에 기재된 잠재성 첨가제 0.81g을 혼합하고, 불용물이 없어질 때까지 교반하여, 감광성 조성물 No.1~No.8 및 비교 감광성 조성물 No.1~No.8을 얻었다.
Figure 112020111925252-pat00093
<스텝 2> 착색제 용액 No.1~No.3의 조제
착색제 0.10g에 PGMEA 1.90g을 첨가하고, 교반하여 용해시켰다.
<스텝 3> 착색 감광성 조성물 No.1~No.8 및 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.8의 조제
스텝 1에서 얻어진 감광성 조성물 No.1~No.8 및 비교 감광성 조성물 No.1~No.8 2.50g과 스텝 2에서 얻어진 착색제 용액 No.1~No.8의 1.00g을 [표 5]의 기재와 같이 혼합해서 균일해질 때까지 교반하여, 착색 감광성 조성물 No.1~No.8 및 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.8을 얻었다.
화합물 No.D-1
[화학식 82]
Figure 112020111925252-pat00094
화합물 No.D-2
[화학식 83]
Figure 112020111925252-pat00095
화합물 No.D-3
[화학식 84]
Figure 112020111925252-pat00096
화합물 No.D-4
[화학식 85]
Figure 112020111925252-pat00097
화합물 No.D-5
[화학식 86]
Figure 112020111925252-pat00098
화합물 No.D-6
[화학식 87]
Figure 112020111925252-pat00099
화합물 No.D-7
[화학식 88]
Figure 112020111925252-pat00100
화합물 No.D-8
[화학식 89]
Figure 112020111925252-pat00101
[실시예 4-1 및 비교예 4-1~4-2] 감광성 조성물 No.9 및 비교 광경화성 조성물 No.9~No.10의 조제
SPC-1000(쇼와덴코우사 제품, 고형분 29%의 PGMEA용액) 50.9g, 아로닉스 M-450(토아고세이사 제품) 11.9g, NCI-930(ADEKA사 제품) 0.3g, PGMEA 34.0g, FZ2122(토레이 다우코닝사 제품, 고형분 1%의 PGMEA용액) 2.9g 및 [표 6]에 기재된 첨가제 0.81g을 혼합하고, 불용물이 없어질 때까지 교반하여, 감광성 조성물 No.9 및 비교 감광성 조성물 No.9~No.10을 얻었다.
Figure 112020111925252-pat00102
비교 화합물 No.2
[화학식 90]
Figure 112020111925252-pat00103
[실시예 5-1 및 비교예 5-1~5-2] 열경화성 조성물 No.1 및 비교 열경화성 조성물 No.1~No.2의 조제
[표 7]의 배합에 따라서 수지 및 첨가제를 혼합하고, 50℃에서 300~400rpm의 교반 속도로 1시간 교반하여 균일하게 용해시켰다. 열개시제로서 CP-66(ADEKA사 제품) 0.75g을 첨가하고 교반 속도 400~500rpm으로 1시간 교반했다. 한편, 수치는 질량부를 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00104
*1: 2,2-비스(3,4-에폭시시클로헥실프로판)
*2: 수소첨가 비스페놀A형 에폭시 수지; 미츠비시 카가쿠사 제품
*3: 에폭시화 폴리부타디엔(ADEKA사 제품)
[실시예 6-1 및 비교예 6-1~6-2] 광경화성 조성물 No.1 및 비교 광경화성 조성물 No.1~No.2의 조제
<스텝 1> 광경화성 조성물 No.1 및 비교 광경화성 조성물 No.1~No.2의 조제
SPC-1000(쇼와덴코우사 제품, 고형분 29%의 PGMEA용액) 49.6g, 아로닉스 M-450(토아고세이사 제품) 11.5g, OXE-01(BASF사 제품) 1.0g, PGMEA 35.0g, FZ2122(토레이 다우코닝사 제품, 고형분 1%의 PGMEA용액) 2.9g 및 [표 8]에 기재된 첨가제 2.0g을 혼합하여, 광경화성 조성물 No.1 및 비교 광경화성 조성물 No.1~No.2를 얻었다.
Figure 112020111925252-pat00105
비교 화합물 No.3
[화학식 91]
Figure 112020111925252-pat00106
[평가예 1-1~1-8 및 비교 평가예 1-1~1-8] 소성에 의한 내열성 평가
상기에서 얻어진 착색 감광성 조성물 No.1~No.8 그리고 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.8을 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건으로 도공하고, 핫플레이트로 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 초고압 수은 램프로 노광(150mJ/cm2)했다. 노광 후의 도막을 230℃×30min의 조건으로 소성했다. 사용한 착색제의 최대 흡수파장(λmax)에서의 소성 전(노광 후)의 도막 흡광도와 소성 후의 도막 흡광도를 측정하고, 소성 전(노광 후)의 도막 흡광도를 100으로 했을 때의 상대 강도로서 평가했다. 한편, 소성 후의 도막 흡광도가 100에 가까울수록 내열성이 높은 것을 나타낸다. 결과를 [표 9]에 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00107
상기 결과로부터, 동일한 착색제를 가지는 착색 감광성 조성물로 비교하면, 본 발명의 착색 감광성 조성물은 잠재성 첨가제를 함유하기 때문에 비교 착색 감광성 조성물보다 내열성이 높은 것이 명백하다.
[평가예 2-1~2-3 및 비교 평가예 2-1~2-6] 선폭감도의 측정(경화 저해의 검증)
실시예 3-1~3-3에서 조제한 착색 감광성 조성물 No.1~No.3 그리고 비교예 3-1~3-3에서 조제한 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3, 및, 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3에 각각 비교 화합물 No.2의 0.81g을 첨가한 비교 착색 감광성 조성물 No.4~No.6을, 각각 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건으로 도공하고, 핫플레이트로 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 20㎛의 갭을 둔 마스크를 통해서 초고압 수은 램프로 노광(50mJ/cm2~270mJ/cm2까지 30mJ/cm2당 8분할)했다. 노광 후의 도막을, 알칼리 현상액으로 현상한 후, 230℃×30min의 조건으로 소성했다. 마스크 개구(開口) 20㎛에 있어서 각 노광량에서의 선폭을 플롯(plotted)하고, 선폭이 20㎛이 되는 노광량을 선폭감도로 했다. 결과를 [표 10]에 나타낸다. 한편, 값이 작을수록 감도가 높다고 말할 수 있다.
Figure 112020111925252-pat00108
상기 결과로부터, 종래 사용되고 있는 페놀계 산화 방지제인 비교 화합물 No.2를 사용한 비교 착색 감광성 조성물 No.4~No.6의 경화물은 선폭감도가 낮아서 경화 저해가 일어나고 있지만, 본 발명의 잠재성 산화 방지제를 사용한 착색 감광성 조성물 No.1~No.3의 경화물은 선폭감도가 높아서 경화 저해가 일어나고 있지 않다.
[평가예 3-1 및 비교 평가예 3-1~3-2] 소성에 의한 내열성 평가
상기에서 얻어진 감광성 조성물 No.9 그리고 비교 감광성 조성물 No.9~No.10에 대해서, 상기 평가예 1과 동일하게 내열성 평가를 실시했다. 결과를 [표 11]에 나타낸다.
상기에서 얻어진 감광성 조성물 No.9 그리고 비교 감광성 조성물 No.9~No.10을 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건으로 도공하고, 핫플레이트로 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 초고압 수은 램프로 노광(150mJ/cm2)했다. 노광 후의 도막을, 230℃×90min의 조건으로 소성했다. 소성 후의 도막의 투과율을 측정하여 평가했다. 한편, 소성 후의 도막의 투과율이 100에 가까울수록 내열성이 높은 것을 나타낸다. 결과를 [표 11]에 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00109
상기 결과로부터, 본 발명의 감광성 조성물은 잠재성 첨가제를 함유하기 때문에 비교 감광성 조성물보다 내열성이 높은 것이 명백하다.
[평가예 4-1 및 비교 평가예 4-1~4-2] 선폭감도의 측정
상기에서 얻어진 감광성 조성물 No.9 그리고 비교 감광성 조성물 No.9~No.10에 대해서, 상기 평가예 1과 동일하게 선폭감도의 측정을 실시했다. 결과를 [표 12]에 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00110
상기 결과로부터, 종래 사용되고 있는 페놀계 산화 방지제인 비교 화합물 No.2를 사용한 비교 감광성 조성물 No.9의 경화물은 선폭감도가 낮아서 경화 저해가 일어나고 있지만, 본 발명의 잠재성 산화 방지제를 사용한 감광성 조성물 No.9의 경화물은 선폭감도가 높아서 경화 저해가 일어나고 있지 않다.
[평가예 5-1 및 비교 평가예 5-1~5-2] 열경화의 평가
미처리의 PET필름을 붙인 유리 기판에, 0.5~1.0㎜ 두께의 플루오르 수지 스페이서(틈 부재)를 마련하고, 이 스페이서를 통해서 이형(離型) 처리를 실시한 유리 기판을 겹치고, 상기에서 얻어진 열경화성 조성물 No.1 및 비교 열경화성 조성물 No.1~No.2를 주입했다. 오븐 중 150℃에서 1시간 가열하고, 포스트큐어를 실시했다. 냉각 후에 유리 기판으로부터 꺼내어, 유리 기판으로부터 수지 경화막을 박리했다. 경화물을 200℃/1h로 가열하여 내열성 시험을 실시하고, 내열성 시험 전후의 경화물의 투과율을 흡광 광도계로 측정했다. 결과를 [표 13]에 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00111
[평가예 6-1 및 비교 평가예 6-1~6-2] 열경화성 조성물의 포트 라이프 평가
상기에서 얻어진 열경화성 조성물 No.1 및 비교 열경화성 조성물 No.1에 대해서, 냉암소(冷暗所)에 방치하여, 점도가 30% 증가할 때까지의 일수(日數)를 세어서 포트 라이프 평가로 했다. 결과를 [표 14]에 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00112
[표 13]으로부터, 본 발명의 첨가제를 첨가한 열경화성 조성물 No.1 및 비교 화합물을 첨가한 비교 열경화성 조성물 No.1은, 첨가제를 첨가하고 있지 않은 비교 열경화성 조성물 No.2와 비교하여 내열 시험 후의 400㎚에서의 투과율이 높고, 내열성이 높다. 또, [표 14]로부터, 본 발명의 첨가제는 페놀기를 보호하고 있으므로 비교 화합물보다 포트 라이프가 길고, 저장 안정성이 뛰어나다. 따라서, 본 발명의 첨가제는 열경화성 조성물에 적합한 것이 명백하다.
[평가예 7-1 및 비교 평가예 7-1] 소성에 의한 자외선 흡수제 재생 평가
상기에서 얻어진 광경화성 조성물 No.1 그리고 비교 광경화성 조성물 No.2를 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건으로 도공하고, 핫플레이트로 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 초고압 수은 램프로 노광(150mJ/cm2)했다. 노광 후의 도막을 230℃×30min의 조건으로 소성했다. 소성 전(노광 후)의 도막의 투과율과 소성 후의 도막의 365㎚에서의 투과율을 측정했다. 한편, 비교 광경화성 조성물 No.1은 용해하지 않고 백탁했기 때문에 평가를 실시하지 않았다. 결과를 [표 15]에 나타낸다.
Figure 112020111925252-pat00113
비교 평가예 7-1에 있어서, 소성 후에 투과율이 높아져 있는 것은 365㎚의 광을 흡수하는 광 라디칼 중합 개시제가 소성시에 열분해하여, 365㎚에 흡수를 가지지 않게 되었기 때문이다. 평가예 7-1에서도 마찬가지로 광 라디칼 중합 개시제가 열분해하고 있지만, 본 발명의 잠재성 첨가제가 소성 후에 탈보호가 이루어져서 365㎚의 광을 흡수하는 자외선 흡수제로서 작용한 것이 명백하다.
상기 결과로부터, 본 발명의 잠재성 첨가제를 첨가한 광경화성 조성물은 소성 후에 탈보호가 이루어져서 페놀기를 가지는 자외선 흡수제로서 작용한 것이 명백하다.
[참고예] 잠재성 산화 방지제의 가열 탈보호의 검증
화합물 No.1을 5㎎ 측정하여, 열질량 측정 장치로 실온에서 230℃까지 승온(10℃/min)한 후, 30분간 230℃에서 가열하에 둔 결과, 26질량%의 감소가 보였다. 즉, 이 감소분은 t-부톡시카르보닐기에 상당하고, 가열에 의해 탈보호가 이루어진 것을 시사하고 있다. 또, 1H-NMR, IR측정을 실시하여, 페놀이 생성되고 있는 것을 확인했다.
Figure 112020111925252-pat00114
밑줄의 케미컬시프트가 나타내는 바와 같이, t-부톡시카르보닐기의 프로톤이 소실되고, 새롭게 페놀성의 프로톤이 나타나고 있는 것을 알 수 있다.
Figure 112020111925252-pat00115
밑줄의 파수(波數)가 나타내는 바와 같이, C=O의 신축 진동이 소실되고, 새롭게 OH의 신축 진동이 나타나고 있는 것을 알 수 있다.
상기 결과로부터 본 발명의 잠재성 첨가제는 가열에 의해 페놀성 첨가제가 되는 것이 명백하다.
이상의 결과로부터, 본 발명의 잠재성 첨가제는, 실온에서는 불활성이고, 소정의 온도로 가열함으로써 활성으로 되는 것이 명백하며, 그 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물의 경화물은 경화 저해를 일으키지 않고 내열성이 뛰어난 것이 명백하다.

Claims (12)

  1. 하기 일반식(1)로 표시되는 잠재성 첨가제.
    [화학식 1]
    Figure 112022031653152-pat00157

    (식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
    R1은 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    R2는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    R4는 탄소원자수 2~9의 알콕시카르보닐기를 나타내고,
    R1과 -OR4는 인접하고 있으며,
    R2로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S- 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
    복수의 R2끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
    복수의 R2는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
    n은 1~10의 정수를 나타내고,
    d는 1~3의 정수를 나타내고,
    k는 1~3의 정수를 나타내고,
    X는 직접 결합, 질소원자, 산소원자, 황원자, 인원자(phosphorus atom), 하기 [화학식 2]로 표시되는 기, >P=O, >C=O, >NR10, >PR10, -OR10, -SR10, -NR10R11 또는 -PR10R11, 또는 n과 동수(同數)의 가수(價數)를 가지는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~120의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R10 및 R11은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, -SO2- 또는 질소원자로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다. 단, X가 질소원자, 인원자 또는 하기 [화학식 2]로 표시되는 기인 경우 n은 3이며, X가 산소원자 또는 황원자인 경우 n은 2이며, X가 >C=O, -NH-CO-, -CO-NH-, >NR10 또는 >PR10인 경우 n은 2이며, X가 -OR10, -SR10, -NR10R11 또는 -PR10R11인 경우 n이 1이며, X는 A와 하나가 되어 환을 형성하고 있어도 된다.)
    [화학식 2]
    Figure 112022031653152-pat00158
  2. 제1항에 있어서, 트리아질기를 함유하는 것을 특징으로 하는 잠재성 첨가제.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(1) 중, A가 벤젠환인 것을 특징으로 하는 잠재성 첨가제.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(1) 중, R1으로 나타내는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기가 벤조트리아졸-2-일기 또는 하기 식(a)로 나타내는 기인 것을 특징으로 하는 잠재성 첨가제.
    Figure 112021107368394-pat00159
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 잠재성 첨가제를 함유하는 조성물.
  6. 제5항에 기재된 조성물로부터 얻어지는 경화물.
  7. 제6항에 기재된 경화물을 함유하는 컬러 필터.
  8. 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물.
    [화학식 1]
    Figure 112022031653152-pat00160

    (식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
    R1은 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    R2는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    R4는 탄소원자수 2~9의 알콕시카르보닐기를 나타내고,
    R1과 -OR4는 인접하고 있으며,
    R2로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S- 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
    복수의 R2끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
    복수의 R2는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
    n은 1~10의 정수를 나타내고,
    d는 1~3의 정수를 나타내고,
    k는 1~3의 정수를 나타내고,
    X는 직접 결합, 질소원자, 산소원자, 황원자, 인원자(phosphorus atom), 하기 [화학식 2]로 표시되는 기, >P=O, >C=O, >NR10, >PR10, -OR10, -SR10, -NR10R11 또는 -PR10R11, 또는 n과 동수(同數)의 가수(價數)를 가지는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~120의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R10 및 R11은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, -SO2- 또는 질소원자로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다. 단, X가 질소원자, 인원자 또는 하기 [화학식 2]로 표시되는 기인 경우 n은 3이며, X가 산소원자 또는 황원자인 경우 n은 2이며, X가 >C=O, -NH-CO-, -CO-NH-, >NR10 또는 >PR10인 경우 n은 2이며, X가 -OR10, -SR10, -NR10R11 또는 -PR10R11인 경우 n이 1이며, X는 A와 하나가 되어 환을 형성하고 있어도 된다.)
    [화학식 2]
    Figure 112022031653152-pat00161
  9. 하기 일반식(2)로 표시되는 화합물.
    [화학식 3]
    Figure 112022031653152-pat00162

    (식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
    R201은 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    R202는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    d는 1~3의 정수를 나타내고,
    k는 1~3의 정수를 나타내고,
    R204는 탄소원자수 2~9의 알콕시카르보닐기를 나타내고,
    R201과 -OR204는 인접하고 있으며,
    상기 R202로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는 -SO2로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
    복수의 R202끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
    복수의 R202는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
    X2는 산소원자, 황원자, 하기 [화학식 4]로 표시되는 기, >C=O, -NH-CO-, -CO-NH-, >NR12, >PR12, 또는 하기 일반식(3), (4) 혹은 하기 [화학식 10]의 군으로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, R12는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 된다.
    X2는 A와 하나가 되어 환을 형성하고 있어도 된다.)
    [화학식 4]
    Figure 112022031653152-pat00163

    [화학식 5]
    Figure 112022031653152-pat00164

    (상기 일반식(3) 중, Y1 및 Y5는 각각 독립적으로, 직접 결합, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y2 및 Y4는 각각 독립적으로, 산소원자 또는 -NR13-을 나타내고, R13은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, Y3은 직접 결합, -NR16-, 2가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 하기 일반식(5)로 표시되는 치환기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 또는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되고, R14 및 R15는 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 또는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고, R16은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기, 방향환 함유 탄화수소기 및 복소환 함유기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O- 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 된다.)
    [화학식 6]
    Figure 112022031653152-pat00165

    (상기 일반식(4) 중, Y6 및 Y8은 각각 독립적으로, -NR17- 또는 산소원자로 중단되어 있어도 되는 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타내고, Y7은 직접 결합, -O-, -S-, -SO2-, -CR18R19- 또는 하기 [화학식 7]~[화학식 9]로 표시되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, R17은 수소원자 또는 탄소원자수 1~20의 지방족 탄화수소기를 나타내고, R18 및 R19는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, R100 및 R101은 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수소기, 니트로기, 카르복실기, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 또는 탄소원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고, e는 1~4의 수를 나타내고, f는 1~4의 수를 나타낸다.)
    [화학식 7]
    Figure 112022031653152-pat00166

    (상기 식 중, R21은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 또는 탄소원자수 3~10의 시클로알킬기를 나타내고, R22는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 탄소원자수 1~10의 알콕시기, 탄소원자수 2~10의 알케닐기 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 치환기를 가지고 있어도 되고, a는 0~5의 정수이다.)
    [화학식 8]
    Figure 112022031653152-pat00167

    (식 중, R102 및 R103은 각각 독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 또는 탄소원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고, i는 1~4의 수를 나타내고, j는 1~4의 수를 나타낸다.)
    [화학식 9]
    Figure 112022031653152-pat00168

    (상기 식 중, R23 및 R24는 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~10의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴옥시기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴티오기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~20의 아릴알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 아릴알킬기 중의 메틸렌기는 불포화 결합, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 되고, R23은 인접하는 R23끼리 환을 형성하고 있어도 되고, b는 0~4의 수를 나타내고, c는 0~8의 수를 나타내고, g와 h의 수의 합계는 2~4이다.)
    [화학식 10]
    Figure 112022031653152-pat00169

    (식 중, R31은 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 된다.)
    [화학식 11]
    Figure 112022031653152-pat00170

    (상기 일반식(5) 중, Y9 및 Y10은 각각 독립적으로, 탄소원자수 1~4의 알킬렌기를 나타낸다.)
  10. 하기 일반식(6)으로 표시되는 화합물.
    [화학식 12]
    Figure 112022031653152-pat00171

    (식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
    R301은 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    R302는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    d는 1~3의 정수를 나타내고,
    R304는 탄소원자수 2~9의 알콕시카르보닐기를 나타내고,
    R301과 -OR304는 인접하고 있으며,
    R302로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, -SO2- 또는 질소원자로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
    복수의 R302끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
    복수의 R302는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
    X3은 하기 일반식(7)로 표시되는 치환기를 나타내고,
    X3은 A와 하나가 되어 환을 형성하고 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 되고,
    [화학식 13]
    Figure 112022031653152-pat00172

    상기 일반식(7) 중, Y11은 3가의 탄소원자수 3~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 3~35의 지환족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은 각각 독립적으로, 직접 결합, -O-, -S-, >CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -SS-, -SO-, >NR32, >PR32 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R32는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O- 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 된다.)
  11. 하기 일반식(8)로 표시되는 화합물.
    [화학식 14]
    Figure 112022031653152-pat00173

    (식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
    R401은 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    R402는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 니트로기, 카르복실기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기, 탄소원자수 6~20의 아릴기, 탄소원자수 7~20의 아릴알킬기, 또는 탄소원자수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
    d는 1~3의 정수를 나타내고,
    R404는 탄소원자수 2~9의 알콕시카르보닐기를 나타내고,
    R401과 -OR404는 인접하고 있으며,
    R402로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, 또는 -SO2로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
    복수의 R402끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
    복수의 R402는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
    n은 4~6의 수를 나타내고,
    X4는 n=4일 때 하기 일반식(9)로 표시되는 치환기를 나타내고, n=5일 때 하기 일반식(10)으로 표시되는 치환기를 나타내고, n=6일 때 하기 일반식(11)로 표시되는 치환기를 나타내고,
    X4는 A와 하나가 되어 환을 형성하고 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 되고,
    [화학식 15]
    Figure 112022031653152-pat00174

    상기 일반식(9) 중, Y12는 탄소원자, 또는 4가의 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z4는 각각 독립적으로, 직접 결합, -O-, -S-, >CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -SS-, -SO-, >NR32, >PR32 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R32는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O- 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고,
    [화학식 16]
    Figure 112022031653152-pat00175

    상기 일반식(10) 중, Y13은 5가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~30의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~30의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z5는 각각 독립적으로, 상기 일반식(9)에서의 Z1~Z4로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이고,
    [화학식 17]
    Figure 112022031653152-pat00176

    상기 일반식(11) 중, Y14는 6가의 탄소원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기, 또는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- 또는 -CONH-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, Z1~Z6은 각각 독립적으로, 상기 일반식(9)에서의 Z1~Z4로 나타내는 기와 동일한 범위의 기이다.)
  12. 하기 일반식(6)으로 표시되는 화합물.
    [화학식 18]
    Figure 112021107368394-pat00177

    (식 중, A는 5원환 또는 6원환의 방향환 또는 복소환을 나타내고,
    R301은 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~2의 알킬기를 나타내고,
    R302는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~40의 알킬기를 나타내고,
    d는 1~3의 정수를 나타내고,
    R304는 탄소원자수 2~9의 알콕시카르보닐기를 나타내고,
    R301과 -O-R304는 인접하고 있으며,
    R301 및 R302로 나타내는 알킬기 중의 메틸렌기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -O-CO-S-, -S-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-, >P=O, -S-S-, -SO2- 또는 질소원자로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 되고, R'는 수소원자 또는 탄소원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
    복수의 R302끼리는 결합하여 벤젠환 또는 나프탈렌환을 형성하고 있어도 되고,
    복수의 R302는 각각 동일해도 되고, 달라도 되며,
    X3은 하기 일반식(7)로 표시되는 치환기를 나타내고,
    X3은 A와 하나가 되어 환을 형성하고 있어도 되고, 상기 방향환 또는 복소환은 다른 환과 축합되어 있어도 되고,
    [화학식 19]
    Figure 112021107368394-pat00178

    상기 일반식(7) 중, Y11은 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은 각각 독립적으로, 직접 결합, -O-, -S-, >CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -SS-, -SO-, >NR32, >PR32 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, R32는 수소원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 이중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O- 또는 -SO2-로부터 선택된 기의 조합으로 치환되어 있어도 된다.)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2881450B1 (en) * 2012-07-31 2020-09-09 Adeka Corporation Latent additive and composition containing latent additive
JP6309834B2 (ja) * 2013-12-11 2018-04-11 株式会社Adeka 着色性組成物
US20170198117A1 (en) * 2014-08-05 2017-07-13 Adeka Corporation Antioxidant for thermoplastic resin and thermoplastic resin composition containing same
JP6401982B2 (ja) * 2014-09-10 2018-10-10 株式会社Adeka 潜在性添加剤及び感光性組成物
JP6730287B2 (ja) * 2015-08-17 2020-07-29 株式会社Adeka 組成物
CN110938190B (zh) * 2015-09-01 2022-06-17 松下知识产权经营株式会社 光波导用组合物、光波导用干膜和光波导
WO2017043353A1 (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社Adeka 新規化合物、潜在性添加剤及び該添加剤を含有する組成物
JP2017066370A (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 株式会社Adeka 組成物
JP6849659B2 (ja) * 2016-03-29 2021-03-24 株式会社Adeka 感光性組成物
WO2017170183A1 (ja) 2016-03-31 2017-10-05 株式会社Adeka 組成物及び新規化合物
CN108473609B (zh) 2016-03-31 2022-08-30 株式会社艾迪科 感光性组合物及化合物
WO2017170263A1 (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 株式会社Ｄｎｐファインケミカル 感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
JP7008508B2 (ja) * 2016-09-30 2022-01-25 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
TWI671363B (zh) * 2016-11-30 2019-09-11 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物及其應用
EP3683605B1 (en) 2017-09-15 2022-07-06 FUJIFILM Corporation Composition, film, laminate, infrared transmission filter, solid-state imaging device and infrared sensor
KR102629376B1 (ko) * 2017-10-04 2024-01-25 가부시키가이샤 아데카 조성물, 경화물 및 경화물의 제조 방법
WO2019069961A1 (ja) * 2017-10-05 2019-04-11 株式会社Adeka 化合物、潜在性酸化防止剤、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
DE102017127624A1 (de) 2017-11-22 2019-05-23 Schott Ag Beschichtetes Glas- oder Glaskeramik-Substrat, Beschichtung umfassend geschlossene Poren sowie Verfahren zur Beschichtung eines Substrats
JP2019099781A (ja) * 2017-12-07 2019-06-24 株式会社Adeka 組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
US10703921B2 (en) * 2018-01-23 2020-07-07 Xerox Corporation Surface layer for electronic device
TWI794411B (zh) 2018-02-16 2023-03-01 日商Ａｄｅｋａ股份有限公司 自由基聚合起始劑、含有其之組成物、其硬化物、其製造方法，及化合物
TWI778035B (zh) * 2018-03-27 2022-09-21 奇美實業股份有限公司 負型白色感光性樹脂組成物及其應用
CN111936532B (zh) * 2018-05-08 2024-03-12 株式会社艾迪科 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法
JP7114724B2 (ja) 2018-09-20 2022-08-08 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法
KR102244467B1 (ko) * 2018-09-27 2021-04-23 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 디스플레이 소자
JP7436176B2 (ja) * 2018-10-25 2024-02-21 株式会社Adeka 組成物、ソルダーレジスト組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
US20220121113A1 (en) 2019-01-23 2022-04-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
KR20220008806A (ko) * 2019-05-15 2022-01-21 가부시키가이샤 아데카 조성물, 경화물, 경화물의 제조 방법 및 첨가제
TW202128839A (zh) 2019-11-21 2021-08-01 日商富士軟片股份有限公司 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法
CN115210219A (zh) 2020-03-04 2022-10-18 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
JPWO2022085475A1 (ko) * 2020-10-21 2022-04-28
JPWO2022131191A1 (ko) 2020-12-16 2022-06-23
WO2022130773A1 (ja) 2020-12-17 2022-06-23 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
CN113088189A (zh) * 2021-04-19 2021-07-09 浙江鑫钰新材料有限公司 一种苯基有机硅皮革涂层及制备方法
JP7259141B1 (ja) 2021-08-31 2023-04-17 富士フイルム株式会社 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液
CN117916327A (zh) * 2021-09-08 2024-04-19 住友化学株式会社 着色固化性组合物
TW202311442A (zh) * 2021-09-08 2023-03-16 日商住友化學股份有限公司 著色硬化性組成物、彩色濾光片、顯示裝置及固體攝像元件

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005002166A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Konica Minolta Medical & Graphic Inc オキセタン化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及び画像形成方法
KR100910103B1 (ko) 2006-12-27 2009-07-30 가부시키가이샤 아데카 옥심에스테르화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
KR101418735B1 (ko) 2007-12-25 2014-07-11 가부시키가이샤 아데카 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3118887A (en) * 1961-03-06 1964-01-21 American Cyanamid Co O-hydroxy substituted tris aryl-s-triazines
US3814729A (en) * 1972-10-13 1974-06-04 Cincinnati Milacron Inc Methoxy carboxylic acid ester ultraviolet stabilizers for polymers
US3888823A (en) * 1972-10-13 1975-06-10 Cincinnati Milacron Inc Methoxy carboxylic acid ester ultraviolet stabilizers for polymers
JPS5448537A (en) * 1977-09-12 1979-04-17 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Color photographic material
JPS54155836A (en) * 1978-05-29 1979-12-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Color photographic material
JPS5550245A (en) * 1978-10-06 1980-04-11 Kotaro Nakamura Color photographic material
US4316996A (en) 1980-11-17 1982-02-23 The Goodyear Tire & Rubber Company Discoloration prevention of phenolic antioxidants
EP0180548B1 (de) * 1984-11-01 1989-06-28 Ciba-Geigy Ag Gegen Lichteinwirkung stabilisierte Ueberzugsmittel
EP0420025B1 (en) 1989-09-25 1995-12-27 Albemarle Corporation Process for the preparation of phenolic antioxidants
US5194653A (en) * 1990-05-17 1993-03-16 Nippon Paint Company, Limited Carbonates of acetylenic alcohols
JPH0643630A (ja) * 1991-05-28 1994-02-18 Nippon Kayaku Co Ltd 酸分解性化合物及びそれを含有するポジ型感放射線性レジスト組成物
JP2655384B2 (ja) * 1991-11-08 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP3186143B2 (ja) 1991-11-11 2001-07-11 日東電工株式会社 耐熱性の良好な制振性感圧接着剤組成物とその製法
JP3215728B2 (ja) 1992-10-15 2001-10-09 旭電化工業株式会社 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタンの製造方法
JP3022008B2 (ja) * 1992-11-19 2000-03-15 本州化学工業株式会社 トリスフェノール類のｔ−ブトキシカーボネートの混合物からなる組成物
JP3238502B2 (ja) 1992-12-11 2001-12-17 旭化成株式会社 ポリアセタール樹脂組成物
JPH06266107A (ja) * 1993-03-10 1994-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JPH06266109A (ja) * 1993-03-15 1994-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP3296051B2 (ja) 1993-10-12 2002-06-24 住友化学工業株式会社 フェノール系酸化防止剤組成物
JP3436403B2 (ja) 1994-01-14 2003-08-11 旭電化工業株式会社 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタンの製造方法
JP3336107B2 (ja) 1994-02-10 2002-10-21 旭電化工業株式会社 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタンの製造方法
JPH07271037A (ja) * 1994-03-31 1995-10-20 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感電離放射線性樹脂組成物
US5556973A (en) * 1994-07-27 1996-09-17 Ciba-Geigy Corporation Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
US5683856A (en) 1994-10-18 1997-11-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-working photosensitive composition
JP3317597B2 (ja) * 1994-10-18 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
EP0711804A3 (de) * 1994-11-14 1999-09-22 Ciba SC Holding AG Kryptolichtschutzmittel
JP3512911B2 (ja) 1995-07-11 2004-03-31 富士写真フイルム株式会社 紫外線吸収剤前駆体化合物、それを含有する感光性樹脂組成物及び画像形成方法
JPH09227495A (ja) * 1996-02-16 1997-09-02 Tanabe Seiyaku Co Ltd フェノール誘導体及びその製法
JPH1191247A (ja) * 1997-07-22 1999-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体及び画像記録方法
JP4070156B2 (ja) 1997-08-29 2008-04-02 株式会社Ａｄｅｋａ トリアジン系化合物及び紫外線吸収剤
JP3807852B2 (ja) * 1997-10-15 2006-08-09 富士写真フイルム株式会社 熱発色性ポリマーおよびそれを用いた画像記録媒体並びに画像記録方法
JP2000343836A (ja) * 1999-03-31 2000-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2001088446A (ja) * 1999-09-27 2001-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
GB9928883D0 (en) * 1999-12-08 2000-02-02 Univ Leeds Molecular engineering of conducting discotic liquid crystals through the exploitation of complimentary polytopic interactions
JP4213844B2 (ja) * 2000-03-29 2009-01-21 富士フイルム株式会社 画像形成材料
DE50109215D1 (de) 2000-06-23 2006-05-11 Ciba Sc Holding Ag Verfahren zur herstellung von hydroxyphenylcarbonsäureestern
JP3956597B2 (ja) 2000-09-26 2007-08-08 三菱化学株式会社 光硬化性組成物及びその硬化物
JP2002188077A (ja) * 2000-10-10 2002-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd 紫外線吸収剤前駆体を含有する組成物、及び画像形成方法
JP2002311541A (ja) * 2001-04-16 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法
JP2002356669A (ja) * 2001-05-30 2002-12-13 Fuji Photo Film Co Ltd 紫外線吸収剤前駆体、それを含有する組成物、及び画像形成方法
JP2004157231A (ja) 2002-11-05 2004-06-03 Konica Minolta Holdings Inc ドライイメージング材料
CN100541327C (zh) * 2004-05-21 2009-09-16 明德国际仓储贸易(上海)有限公司 液晶显示元件散乱层光阻组成物
KR20060017934A (ko) * 2004-08-23 2006-02-28 미원상사주식회사 평판 인쇄판용 포지티브형 감광성 조성물 및 그를 위한현상액 조성물
TWI400568B (zh) 2004-12-24 2013-07-01 Mitsubishi Gas Chemical Co 感放射線性組成物、非晶質膜及形成光阻圖案的方法
EP2560649A1 (en) 2010-04-22 2013-02-27 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Pharmaceutical compositions and administrations thereof
EP2881450B1 (en) * 2012-07-31 2020-09-09 Adeka Corporation Latent additive and composition containing latent additive

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005002166A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Konica Minolta Medical & Graphic Inc オキセタン化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及び画像形成方法
KR100910103B1 (ko) 2006-12-27 2009-07-30 가부시키가이샤 아데카 옥심에스테르화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
KR101418735B1 (ko) 2007-12-25 2014-07-11 가부시키가이샤 아데카 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제

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